JPH03165710A - 美容脱毛装置 - Google Patents
美容脱毛装置Info
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- JPH03165710A JPH03165710A JP30587889A JP30587889A JPH03165710A JP H03165710 A JPH03165710 A JP H03165710A JP 30587889 A JP30587889 A JP 30587889A JP 30587889 A JP30587889 A JP 30587889A JP H03165710 A JPH03165710 A JP H03165710A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は美容脱毛装置に関し、特にむだ毛を永久脱毛す
る場合に適用して好適なものである6〔発明の概要〕 本発明は、美容脱毛装置において、脱毛出力にエンベロ
ープ波形、減衰波形を付与するようにしたことにより、
多様な施術条件によって被施術者の体調、体質等の条件
に適合するような美容脱毛施術をすることができる。
る場合に適用して好適なものである6〔発明の概要〕 本発明は、美容脱毛装置において、脱毛出力にエンベロ
ープ波形、減衰波形を付与するようにしたことにより、
多様な施術条件によって被施術者の体調、体質等の条件
に適合するような美容脱毛施術をすることができる。
従来むだ毛を脱毛する方法として、シェービング、カッ
ティング、ツイージング、除毛剤、ワックス等の一時的
脱毛法と、高周波II流又は直流電流を用いて毛根組織
を破壊する永久脱毛法とがあり、永久脱毛法は美容効果
を長期に亘って維持できる利点がある。
ティング、ツイージング、除毛剤、ワックス等の一時的
脱毛法と、高周波II流又は直流電流を用いて毛根組織
を破壊する永久脱毛法とがあり、永久脱毛法は美容効果
を長期に亘って維持できる利点がある。
ここで直流電流及び高周波電流を用いて永久脱毛する方
法は、電気的エネルギーを用いて毛包内の毛根組織を破
壊しようとするもので、直流電流を用いる方法(電気分
解脱毛法と呼ばれている)においては毛包内に挿入した
陰極を介して直流電流を流すことにより、毛包内のNa
C1を電気分解してNaOHを生成し、当該NaOHの
強アルカリ作用により毛根組織を化学的に破壊すること
を原理とする。
法は、電気的エネルギーを用いて毛包内の毛根組織を破
壊しようとするもので、直流電流を用いる方法(電気分
解脱毛法と呼ばれている)においては毛包内に挿入した
陰極を介して直流電流を流すことにより、毛包内のNa
C1を電気分解してNaOHを生成し、当該NaOHの
強アルカリ作用により毛根組織を化学的に破壊すること
を原理とする。
これに対して高周波電流を流す方法(高周波脱毛法と呼
ばれている)は、毛包内に高周波電流を流して毛根組織
の内部において熱エネルギーに変換することにより、毛
根組織に蛋白質の凝固を生じさせることを原理とする。
ばれている)は、毛包内に高周波電流を流して毛根組織
の内部において熱エネルギーに変換することにより、毛
根組織に蛋白質の凝固を生じさせることを原理とする。
ところが当該電気分解脱毛法又は高周波脱毛法によって
比較的短い時間の間に脱毛施術をしようとすれば、毛包
内に流す電流をがなり大きくする必要があるため、美容
脱毛に適用した場合不適切になるおそれがある。
比較的短い時間の間に脱毛施術をしようとすれば、毛包
内に流す電流をがなり大きくする必要があるため、美容
脱毛に適用した場合不適切になるおそれがある。
因に毛包内に流す電流を大きくすると、脱毛施術を受け
ている被施術者に痛みなどの不快感を与えるおそれがあ
り、人の生活に不可欠な医療のための脱毛施術とは異な
り、美容脱毛においては被施術者に生理的ないし心理的
に悪影響を与えるような脱毛方法は回避することが望ま
しい。
ている被施術者に痛みなどの不快感を与えるおそれがあ
り、人の生活に不可欠な医療のための脱毛施術とは異な
り、美容脱毛においては被施術者に生理的ないし心理的
に悪影響を与えるような脱毛方法は回避することが望ま
しい。
そこで、毛包内に流す高周波電流値又は直流電流値を低
減させて美容脱毛に適用することも考えられるが、この
ようにすると美容脱毛施術時間が長大になる問題がある
。
減させて美容脱毛に適用することも考えられるが、この
ようにすると美容脱毛施術時間が長大になる問題がある
。
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、実用上被
施術者に生理的ないし心理的な悪影響を生じさせるおそ
れを有効に回避しながら効率良く永久脱毛の施術をし得
るようにした美容脱毛装置を提案しようとするものであ
る。
施術者に生理的ないし心理的な悪影響を生じさせるおそ
れを有効に回避しながら効率良く永久脱毛の施術をし得
るようにした美容脱毛装置を提案しようとするものであ
る。
かかる問題点を解決するため第1の発明においては、毛
包に差し込んだ針状導子4Aに脱毛出力S5を供給して
電流を流すことにより当該毛包について永久脱毛をする
美容脱毛装置において、脱毛出力S5にエンベロープ波
形を付与するエンベロープ付与手段51〜54.61〜
64を設けるようにする。
包に差し込んだ針状導子4Aに脱毛出力S5を供給して
電流を流すことにより当該毛包について永久脱毛をする
美容脱毛装置において、脱毛出力S5にエンベロープ波
形を付与するエンベロープ付与手段51〜54.61〜
64を設けるようにする。
また第2の発明においては、毛包に差し込んだ針状導子
4Aに脱毛出力S5を供給して電流を流すことにより当
該毛包について永久脱毛をする美容脱毛装置において、
脱毛出力S5に減衰エンベロープ波形に1を付与する減
衰波形付与手段65を設けるようにする。
4Aに脱毛出力S5を供給して電流を流すことにより当
該毛包について永久脱毛をする美容脱毛装置において、
脱毛出力S5に減衰エンベロープ波形に1を付与する減
衰波形付与手段65を設けるようにする。
針状導子4Aに供給する脱毛出力S5にエンベロープ波
形、減衰波形を付与すると、実質上十分な脱毛出力レベ
ルを供給するにつき、被施術者に不快感を与えることな
く効率良く美容脱毛施術をすることができる。
形、減衰波形を付与すると、実質上十分な脱毛出力レベ
ルを供給するにつき、被施術者に不快感を与えることな
く効率良く美容脱毛施術をすることができる。
以下図面について、本発明の一実施例を詳述する。
〔1〕全体の構成
第1図において、1は全体として美容脱毛装置を示し、
脱毛器本体2からの脱毛出力をケーブル3を介してプロ
ーブ4に供給する。
脱毛器本体2からの脱毛出力をケーブル3を介してプロ
ーブ4に供給する。
脱毛器本体2は高周波脱毛出力S1を発生する高周波脱
毛出力形成部11と、直流脱毛出力S2を送出する直流
脱毛出力形成部12と、光脱毛出力S3を送出する光脱
毛出力形成部13と、冷却風出力S4を送出する冷却風
形成部工4とを有する。
毛出力形成部11と、直流脱毛出力S2を送出する直流
脱毛出力形成部12と、光脱毛出力S3を送出する光脱
毛出力形成部13と、冷却風出力S4を送出する冷却風
形成部工4とを有する。
直流脱毛出力形成部12は、直流発生回路21において
例えば商用電源から発生させた直流電流301を直流出
力回路22において例えば0〜−15[V)程度の直流
電流でなる直流脱毛出力S2に変換する。
例えば商用電源から発生させた直流電流301を直流出
力回路22において例えば0〜−15[V)程度の直流
電流でなる直流脱毛出力S2に変換する。
この実施例の場合直流出力回路22は脱毛施術者が直流
用フットスイッチ23をオンオフ操作したとき生ずるオ
ンオフ出力Sllを時間制御回路24に与え、この時間
制御回路24に予め設定された所定の遅延時間だけ遅延
して得られる遅延オンオフ信号312を直流出力回路2
2に与えることによりそのタイミングで直流脱毛出力S
2を出力できるようになされている。
用フットスイッチ23をオンオフ操作したとき生ずるオ
ンオフ出力Sllを時間制御回路24に与え、この時間
制御回路24に予め設定された所定の遅延時間だけ遅延
して得られる遅延オンオフ信号312を直流出力回路2
2に与えることによりそのタイミングで直流脱毛出力S
2を出力できるようになされている。
また高周波脱毛出力形成部11は例えば27〔M七〕の
高周波信号SO2を高周波発生回路25において商用i
t源から発生して高周波出力回路26に供給し、当該高
周波出力回路26において施術者が高周波用フットスイ
ッチ27を操作したときそのタイミングで高周波脱毛出
力S1に変換するようになされている。
高周波信号SO2を高周波発生回路25において商用i
t源から発生して高周波出力回路26に供給し、当該高
周波出力回路26において施術者が高周波用フットスイ
ッチ27を操作したときそのタイミングで高周波脱毛出
力S1に変換するようになされている。
ここで直流脱毛出力S2は、電気分解脱毛法に基づいて
毛包内に電気分解を生じさせるにつき、被施術者に不快
感を与えない程度に比較的小さい値に選定され、また高
周波脱毛出力Slは、直流脱毛出力S2によって毛包内
に生じたアルカリ液(すなわち電気分解によって生じた
NaOH液)を加熱することより反応速度を高めること
ができる程度の熱を、高周波加熱法によって発生させる
に適した周波数(例えば27 (MHz) )及び強さ
に調整できるようになされている。
毛包内に電気分解を生じさせるにつき、被施術者に不快
感を与えない程度に比較的小さい値に選定され、また高
周波脱毛出力Slは、直流脱毛出力S2によって毛包内
に生じたアルカリ液(すなわち電気分解によって生じた
NaOH液)を加熱することより反応速度を高めること
ができる程度の熱を、高周波加熱法によって発生させる
に適した周波数(例えば27 (MHz) )及び強さ
に調整できるようになされている。
直流脱毛出力S2はブレンド出力回路15において高周
波脱毛出力S1と合成されてブレンド脱毛出力S5とし
てケーブル3のブレンド脱毛出力ライン3Aに送出され
、かくしてプローブ4の針状導子4Aに供給される。
波脱毛出力S1と合成されてブレンド脱毛出力S5とし
てケーブル3のブレンド脱毛出力ライン3Aに送出され
、かくしてプローブ4の針状導子4Aに供給される。
ブレンド出力回路15のアース側出力端はアースケーブ
ル31を通じて握り導子32に接続され、被施術者が握
り導子32を手で握った状態で施術者が針状導子4Aを
脱毛しようとする毛の毛包内に挿入したとき、当該針状
導子4Aを陰極とし、かつ握り導子32を陽極として毛
包内に電気分解の反応を発生させるようになされている
。
ル31を通じて握り導子32に接続され、被施術者が握
り導子32を手で握った状態で施術者が針状導子4Aを
脱毛しようとする毛の毛包内に挿入したとき、当該針状
導子4Aを陰極とし、かつ握り導子32を陽極として毛
包内に電気分解の反応を発生させるようになされている
。
また光脱毛出力形成部13はレーザ、キセノンランプ等
の高輝度発光源を有する光源部35によって発生した施
術光束SO3を集光光学系36において光脱毛出力S3
として集光してケーブル3の光ファイバ3Bに射出する
。
の高輝度発光源を有する光源部35によって発生した施
術光束SO3を集光光学系36において光脱毛出力S3
として集光してケーブル3の光ファイバ3Bに射出する
。
かくして光ファイバ3Bを通ってプローブ4に到達した
光脱毛出力S3は、プローブ本体4Cの先端部に突出す
るように取り付けられた光プローブ子4Bに供給される
。
光脱毛出力S3は、プローブ本体4Cの先端部に突出す
るように取り付けられた光プローブ子4Bに供給される
。
この実施例の場合、光プローブ子4Bは針状導子4Aに
沿うように延長し、当該針状導子4Aが被施術者の毛包
内に挿入されたとき、当該毛包を光脱毛出力S3によっ
て照射することによりその内部を加熱できるようになさ
れている。
沿うように延長し、当該針状導子4Aが被施術者の毛包
内に挿入されたとき、当該毛包を光脱毛出力S3によっ
て照射することによりその内部を加熱できるようになさ
れている。
冷却風形成部14は、コンプレッサ41を有し、殺菌器
42を介して外部から吸入した空気流SO4をコンプレ
ッサ41において圧縮して冷却風出力S4に変換し、当
該冷却風出力S4をケーブル3のパイプ3Cを通じてプ
ローブ4に供給するようになされている。
42を介して外部から吸入した空気流SO4をコンプレ
ッサ41において圧縮して冷却風出力S4に変換し、当
該冷却風出力S4をケーブル3のパイプ3Cを通じてプ
ローブ4に供給するようになされている。
この実施例の場合プローブ4は先端面に設けられた吹き
出し口から冷却風出力S4でなる冷却風WNDを吹き出
させることにより、針状導子4Aが挿入された毛包の周
囲の皮膚を冷却風WNDによって冷却し、これにより施
術により生ずる腫れを鎮静させるようになされている。
出し口から冷却風出力S4でなる冷却風WNDを吹き出
させることにより、針状導子4Aが挿入された毛包の周
囲の皮膚を冷却風WNDによって冷却し、これにより施
術により生ずる腫れを鎮静させるようになされている。
またこの実施例の場合、陽極すなわちアースラインに円
柱状カーボンローラでなるアフタケア用ローラ45がケ
ーブル44を介して接続され、施術後節術部に対してア
フタケア用ローラ45を転接させることにより、興奮状
態にある施術部の皮膚を鎮静化させるようになされてい
る。
柱状カーボンローラでなるアフタケア用ローラ45がケ
ーブル44を介して接続され、施術後節術部に対してア
フタケア用ローラ45を転接させることにより、興奮状
態にある施術部の皮膚を鎮静化させるようになされてい
る。
第1図の構成において、脱毛施術をする際には、被施術
者に握り導子32を握らせた状態において施術者はプロ
ーブ4を把持して針状導子4Aを毛包内に挿入させた後
、高周波用フットスイッチ27及び直流用フットスイッ
チ23を操作することによりブレンド出力回路15から
ブレンド脱毛出力S5を送出させて針状導子4Aに供給
する。
者に握り導子32を握らせた状態において施術者はプロ
ーブ4を把持して針状導子4Aを毛包内に挿入させた後
、高周波用フットスイッチ27及び直流用フットスイッ
チ23を操作することによりブレンド出力回路15から
ブレンド脱毛出力S5を送出させて針状導子4Aに供給
する。
これにより針状導子4Aが挿入された毛包において、ブ
レンド脱毛出力S5のうち直流脱毛出力S2によって電
気分解を生じさせると共に、高周波脱毛出力S1によっ
て毛包内を加熱することにより当該電気分解の反応を活
発化させることができ、かくして直流脱毛出力S2とし
て、医療脱毛の場合と比較して格段的に弱い直流脱毛出
力S2によってかなり速い反応速度で電気分解による永
久脱毛効果を得ることができる。
レンド脱毛出力S5のうち直流脱毛出力S2によって電
気分解を生じさせると共に、高周波脱毛出力S1によっ
て毛包内を加熱することにより当該電気分解の反応を活
発化させることができ、かくして直流脱毛出力S2とし
て、医療脱毛の場合と比較して格段的に弱い直流脱毛出
力S2によってかなり速い反応速度で電気分解による永
久脱毛効果を得ることができる。
このとき直流用フットスイッチ23から得られるオンオ
フ出力Sllは時間制御回路24の設定時間だけ遅延さ
れ、これにより高周波脱毛出力S1によって毛包を加熱
した後直流脱毛出力S2によって電気分解を開始させる
ことができ、かくして予め加熱した分反応速度を速める
ことができる。
フ出力Sllは時間制御回路24の設定時間だけ遅延さ
れ、これにより高周波脱毛出力S1によって毛包を加熱
した後直流脱毛出力S2によって電気分解を開始させる
ことができ、かくして予め加熱した分反応速度を速める
ことができる。
これに加えて施術されている毛包に対して光脱毛出力形
成部13において発生される光脱毛出力S3が光プロー
ブ子4Bから照射されることより、当該毛包の内部を光
脱毛出力S3の光エネルギーによって加熱でき、これに
より毛包内部に生じている電気分解の反応速度を光脱毛
出力S3の光エネルギーを使ってさらに一段と速めるこ
とができる。かくするにつき加熱手段として光を用いる
ようにしたことにより、毛包内部の加熱を施術者に苦痛
を与えないように和らげることができる。
成部13において発生される光脱毛出力S3が光プロー
ブ子4Bから照射されることより、当該毛包の内部を光
脱毛出力S3の光エネルギーによって加熱でき、これに
より毛包内部に生じている電気分解の反応速度を光脱毛
出力S3の光エネルギーを使ってさらに一段と速めるこ
とができる。かくするにつき加熱手段として光を用いる
ようにしたことにより、毛包内部の加熱を施術者に苦痛
を与えないように和らげることができる。
この実施例の場合、ブレンド脱毛出力S5及びアース出
力はそれぞれ出力端子TI及びT2に供給されて当該出
力端子T1及びT2にブレンド脱毛出力ライン3A及び
ケーブル31のコネクタC1及びC2を着脱自在に接続
できるようになされ、これにより、第2のアース端子T
3にアフタケア用ローラ45の接続ケーブル44のコネ
クタC3を接続した状態において握り導子32のケーブ
ル31のコネクタC2を出力端子T2から離して出力端
子T1に接続し直すことにより、アフタケア用ローラ4
5を動作させることができるようになされている。
力はそれぞれ出力端子TI及びT2に供給されて当該出
力端子T1及びT2にブレンド脱毛出力ライン3A及び
ケーブル31のコネクタC1及びC2を着脱自在に接続
できるようになされ、これにより、第2のアース端子T
3にアフタケア用ローラ45の接続ケーブル44のコネ
クタC3を接続した状態において握り導子32のケーブ
ル31のコネクタC2を出力端子T2から離して出力端
子T1に接続し直すことにより、アフタケア用ローラ4
5を動作させることができるようになされている。
〔2〕高周波脱毛出力形成部
高周波出力回路26は第2図に示すように、高周波用フ
ットスイッチ27のオン操作出力S21によってクロッ
ク信号322を発生するクロック発生回路51を有し、
その出力端に得られるクロック信号S22を16段シフ
トレジスタ構成のスイッチ信号形成回路52に与える。
ットスイッチ27のオン操作出力S21によってクロッ
ク信号322を発生するクロック発生回路51を有し、
その出力端に得られるクロック信号S22を16段シフ
トレジスタ構成のスイッチ信号形成回路52に与える。
スイッチ信号形成回路52は、第3図(A1)〜(A1
6)に示すように、 オン操作信号S21が与えられた
時点toN(=t+)から順次クロック信号S22の1
周期分の時間が経過した時点El、LSS ta・・・
・・・tl、ごとに順次スイッチ信号523(スイッチ
信号SWI、SW2・・・・・・5W16でなる)を発
生し、これをエンベロープ波形メモリ53(第4図)の
アナログスイッチ回路PT1、PT2・・・・・・PT
16に与える。
6)に示すように、 オン操作信号S21が与えられた
時点toN(=t+)から順次クロック信号S22の1
周期分の時間が経過した時点El、LSS ta・・・
・・・tl、ごとに順次スイッチ信号523(スイッチ
信号SWI、SW2・・・・・・5W16でなる)を発
生し、これをエンベロープ波形メモリ53(第4図)の
アナログスイッチ回路PT1、PT2・・・・・・PT
16に与える。
アナログスイッチ回路PTI、PT2・・・・・・PT
16はオン動作したとき電源vccをサンプリング波形
値記憶用抵抗R1,R2・・・・・・R16に与えるこ
とにより、゛その中間タップまでの分圧抵抗値に相当す
る電圧を波形出力信号324として波形整形回路54に
送出する。
16はオン動作したとき電源vccをサンプリング波形
値記憶用抵抗R1,R2・・・・・・R16に与えるこ
とにより、゛その中間タップまでの分圧抵抗値に相当す
る電圧を波形出力信号324として波形整形回路54に
送出する。
かくして波形出力信号S24は、第3図(B)に示すよ
うに、スイッチ信号323のスイッチパルスSWI、S
W2・・・・・・5W16が発生するごとに分圧電圧V
、、V、・・・・・・Vl&によって表されるサンプリ
ング波形値をもつような階段状波形を出力する。
うに、スイッチ信号323のスイッチパルスSWI、S
W2・・・・・・5W16が発生するごとに分圧電圧V
、、V、・・・・・・Vl&によって表されるサンプリ
ング波形値をもつような階段状波形を出力する。
この実施例の場合スイッチ信号形成回路52は高周波用
フットスイッチ27が時点し。Nにおいてオン操作され
た後、シフトレジスタが最終段のサンプリング波形値v
I−を出力する状態になった後時点t。1.までの間引
き続きオン操作を続けたときには最終段のスイッチ信号
5W16を論理「H」レベルのまま維持するようになさ
れ、かくしてこの時間の開披形出力信号S24の信号レ
ベルとして最終段のサンプリング波形値VIkを保持す
るようになされている。
フットスイッチ27が時点し。Nにおいてオン操作され
た後、シフトレジスタが最終段のサンプリング波形値v
I−を出力する状態になった後時点t。1.までの間引
き続きオン操作を続けたときには最終段のスイッチ信号
5W16を論理「H」レベルのまま維持するようになさ
れ、かくしてこの時間の開披形出力信号S24の信号レ
ベルとして最終段のサンプリング波形値VIkを保持す
るようになされている。
ここで時点t OFFにおいて高周波用フットスイッチ
27がオフ操作されると、スイッチ信号形成回路52は
リセット動作をして第3図の時点t。H以前の初期状態
、すなわち第1段スイッチ信号SW1を論理r)(Jレ
ベルに立ち上げた状態に戻るようになされ、これにより
高周波用フットスイッチ27が1回オン操作されたとき
1波形分の波形出力信号324を送出するようになされ
ている。
27がオフ操作されると、スイッチ信号形成回路52は
リセット動作をして第3図の時点t。H以前の初期状態
、すなわち第1段スイッチ信号SW1を論理r)(Jレ
ベルに立ち上げた状態に戻るようになされ、これにより
高周波用フットスイッチ27が1回オン操作されたとき
1波形分の波形出力信号324を送出するようになされ
ている。
この階段波形形状の波形出力信号324はフィルタ回路
構成の波形整形回路54において波形整形され、階段状
波形形状を滑らかな波形に整形してなるエンベロープ制
御信号525(第3図(C))が高周波脱毛出力形成回
路55に供給される。
構成の波形整形回路54において波形整形され、階段状
波形形状を滑らかな波形に整形してなるエンベロープ制
御信号525(第3図(C))が高周波脱毛出力形成回
路55に供給される。
高周波脱毛出力形成回路55は、高周波発生回路25か
ら供給される高周波出力SO2の振幅をエンベロープ制
御信号S25によって振幅変調することにより、高周波
出力302に対してエンベロープ制御信号S25の波形
でなるエンベロープを付与して高周波脱毛出力S1とし
て高周波出力回路26から送出する。
ら供給される高周波出力SO2の振幅をエンベロープ制
御信号S25によって振幅変調することにより、高周波
出力302に対してエンベロープ制御信号S25の波形
でなるエンベロープを付与して高周波脱毛出力S1とし
て高周波出力回路26から送出する。
第2図の構成の高周波出力回路26において、施術者が
高周波用フットスイッチ27を操作したとき高周波脱毛
出力Slはエンベロープ波形メモリ53に予め記憶され
ているエンベロープ波形に応じて振幅をエンベロープ制
御されることにより、被施術者に対して不快感を与えな
いように高周波脱毛施術を行うことができる。
高周波用フットスイッチ27を操作したとき高周波脱毛
出力Slはエンベロープ波形メモリ53に予め記憶され
ているエンベロープ波形に応じて振幅をエンベロープ制
御されることにより、被施術者に対して不快感を与えな
いように高周波脱毛施術を行うことができる。
因に高周波用フットスイッチ27を操作したとき高周波
脱毛出力S1の電流値を瞬時に立ち上げた場合には被施
術者に対して不快感を与えるおそれがあるが、高周波脱
毛出力S1の振幅をエンベロープ制御することにより高
周波脱毛出力S1の立ち上がり傾斜を必要に応じて選定
することができることにより、被施術者に不快感を与え
るような刺激を生じさせないようにできる。
脱毛出力S1の電流値を瞬時に立ち上げた場合には被施
術者に対して不快感を与えるおそれがあるが、高周波脱
毛出力S1の振幅をエンベロープ制御することにより高
周波脱毛出力S1の立ち上がり傾斜を必要に応じて選定
することができることにより、被施術者に不快感を与え
るような刺激を生じさせないようにできる。
特にエンベロープ波形として第3図(C)に示すように
複数のピーク波形の間に谷波形部を挿入するようにすれ
ば、高周波脱毛出力S1の振幅を高い信号レベルに維持
した状態を保持しないことにより、被施術者に不快感を
与えることなくしかも実効的に施術時間を短縮させるこ
とができる。
複数のピーク波形の間に谷波形部を挿入するようにすれ
ば、高周波脱毛出力S1の振幅を高い信号レベルに維持
した状態を保持しないことにより、被施術者に不快感を
与えることなくしかも実効的に施術時間を短縮させるこ
とができる。
因に高周波脱毛出力S1の振幅を高い信号レベルに保持
し続ければその加熱効果を速めることができることによ
り施術時間を全体として短縮することができると考えら
れるが、実際上高周波脱毛出力S1の信号レベルを高い
信号レベルに維持し続けると、被施術者に不快感を与え
るおそれがある。この点について高周波脱毛出力S1の
振幅値を第3図(C)に示すようにピーク波形部の間に
谷波形部を形成するようにすれば、被施術者に対する不
快感を確実に和らげることができる。
し続ければその加熱効果を速めることができることによ
り施術時間を全体として短縮することができると考えら
れるが、実際上高周波脱毛出力S1の信号レベルを高い
信号レベルに維持し続けると、被施術者に不快感を与え
るおそれがある。この点について高周波脱毛出力S1の
振幅値を第3図(C)に示すようにピーク波形部の間に
谷波形部を形成するようにすれば、被施術者に対する不
快感を確実に和らげることができる。
かくするにつき階段状波形形状を有する波形出力信号S
24を波形整形回路54において滑らかなエンベロープ
波形に整形するようにしたことにより、不快感の軽減効
果をさらに一段と高めることができる。
24を波形整形回路54において滑らかなエンベロープ
波形に整形するようにしたことにより、不快感の軽減効
果をさらに一段と高めることができる。
〔3〕直流脱毛出力形成部
直流出力回路22は第5図に示すように、直流用フット
スイッチ23のオンオフ出力311を時間制御回路24
において所定の時間τ、(調整子24Aによって調整し
得る)だけ遅延させてなる遅延オンオフ信号S12をエ
ンベロープ形成回路60のクロック発生回路61に受け
る。
スイッチ23のオンオフ出力311を時間制御回路24
において所定の時間τ、(調整子24Aによって調整し
得る)だけ遅延させてなる遅延オンオフ信号S12をエ
ンベロープ形成回路60のクロック発生回路61に受け
る。
エンベロープ形成回路60は、高周波出力回路26(第
2図)ついて上述したと同様にして、時間制御回路24
から得られる遅延オンオフ信号S12に基づいてクロッ
ク発生回路61においてクロック信号S43を発生して
これをスイッチ信号形成回路62に供給し、これにより
第3図(AI)〜(A16)について上述したと同様の
スイッチ信号344をエンベロープ波形メモリ63にエ
ンベロープ波形続出信号として与える。
2図)ついて上述したと同様にして、時間制御回路24
から得られる遅延オンオフ信号S12に基づいてクロッ
ク発生回路61においてクロック信号S43を発生して
これをスイッチ信号形成回路62に供給し、これにより
第3図(AI)〜(A16)について上述したと同様の
スイッチ信号344をエンベロープ波形メモリ63にエ
ンベロープ波形続出信号として与える。
エンベロープ波形メモリ63は第4図について上述した
と同様にしてスイッチ信号S44を構成する16個のス
イッチパルスが与えられるごとに第3図(B)について
上述したと同様にして階段波形形状の波形出力信号34
5を送出し、これを波形整形回路64において第3図(
C)について上述したと同様にして滑らかな波形に整形
した後エンベロープ制御信号346として減衰波形付与
回路65にエンベロープ形成回路60の出力として供給
する。
と同様にしてスイッチ信号S44を構成する16個のス
イッチパルスが与えられるごとに第3図(B)について
上述したと同様にして階段波形形状の波形出力信号34
5を送出し、これを波形整形回路64において第3図(
C)について上述したと同様にして滑らかな波形に整形
した後エンベロープ制御信号346として減衰波形付与
回路65にエンベロープ形成回路60の出力として供給
する。
減衰波形付与回路65は第6図に示すように、エンベロ
ープ制御信号S46をホールド選択スイッチ回路71の
切換入力端aを介して利得制御増幅回路72に受け、当
該エンベロープ制御信号S46の振幅を減衰波形形成回
路73において発生される利得制御信号351によって
制御してなる波形制御信号S52を、減衰波形付与回路
65の出力として直流脱毛出力形成回路66(第5図)
に送出する。
ープ制御信号S46をホールド選択スイッチ回路71の
切換入力端aを介して利得制御増幅回路72に受け、当
該エンベロープ制御信号S46の振幅を減衰波形形成回
路73において発生される利得制御信号351によって
制御してなる波形制御信号S52を、減衰波形付与回路
65の出力として直流脱毛出力形成回路66(第5図)
に送出する。
減衰波形形成回路73は充放電用コンデンサ73Aを有
し、スイ′ンチングトランジスタ73Bカリセットパル
ス発住回路74から与えられるり十ットバルス353に
よってオン制御されたとき、電源■。によって所定のリ
セット電圧値にまで充電され、その後当該充電電荷が並
列に接続された放電用抵抗73C(可変抵抗で構成され
ている)を通じて放電されることにより第7図(B1)
及び(B2)において減衰曲線に1で示すように、リセ
ット電圧vI!から、主として充放電用コンデンサ73
A及び放電用抵抗73Cの時定数によって決まる減衰率
を有する減衰エンベロー1波形を措くように充電電圧が
低下して行き、当該減衰波形を有する充電電圧が利得制
御信号551として利得制御増幅回路72に供給される
。
し、スイ′ンチングトランジスタ73Bカリセットパル
ス発住回路74から与えられるり十ットバルス353に
よってオン制御されたとき、電源■。によって所定のリ
セット電圧値にまで充電され、その後当該充電電荷が並
列に接続された放電用抵抗73C(可変抵抗で構成され
ている)を通じて放電されることにより第7図(B1)
及び(B2)において減衰曲線に1で示すように、リセ
ット電圧vI!から、主として充放電用コンデンサ73
A及び放電用抵抗73Cの時定数によって決まる減衰率
を有する減衰エンベロー1波形を措くように充電電圧が
低下して行き、当該減衰波形を有する充電電圧が利得制
御信号551として利得制御増幅回路72に供給される
。
ここで充放電用コンデンサ73Aの放電電圧は電源VC
C及びアース間に接続された可変抵抗でなる放電電圧設
定用抵抗73Dの摺動子から逆流阻止用ダイオード73
Bを通じて充放電用コンデンサ73A及び放電用抵抗7
3Cに供給され、かくして充放電用コンデンサ73Aの
放電電圧がダイオード73Eから供給される設定電圧以
下にはならないように設定されている。
C及びアース間に接続された可変抵抗でなる放電電圧設
定用抵抗73Dの摺動子から逆流阻止用ダイオード73
Bを通じて充放電用コンデンサ73A及び放電用抵抗7
3Cに供給され、かくして充放電用コンデンサ73Aの
放電電圧がダイオード73Eから供給される設定電圧以
下にはならないように設定されている。
この実施例の場合、放電用抵抗73Cは摺動抵抗によっ
て構成されていることにより、その摺動位置を必要に応
じて調整したとき充放電用コンデンサ73Aの放電時定
数を変更できるようになされ、その結果利得制御信号S
51の減衰エンベロープ波形Klの減衰率を変更するこ
とにより減衰エンベロープ波形に1の同一の減衰目標値
に到達するまでの減衰波形形状を、例えば第8図におい
て減衰エンベロープ波形K11−に14によって示すよ
うに変形できるようになされている。
て構成されていることにより、その摺動位置を必要に応
じて調整したとき充放電用コンデンサ73Aの放電時定
数を変更できるようになされ、その結果利得制御信号S
51の減衰エンベロープ波形Klの減衰率を変更するこ
とにより減衰エンベロープ波形に1の同一の減衰目標値
に到達するまでの減衰波形形状を、例えば第8図におい
て減衰エンベロープ波形K11−に14によって示すよ
うに変形できるようになされている。
またこの実施例の場合、放電電圧設定用抵抗75Dは摺
動抵抗によって構成されていることにより、その摺動位
置を必要に応じて調整したとき充放電用コンデンサ73
Aの放電目標電圧を変更できるようになされ、その結果
利得制御信号S51の減衰波形に1の減衰目標値を変更
することにより減衰エンベロープ波形Klの各減衰目標
値に到達するまでの減衰波形形状を、例えば第9図にお
いて減衰エンベロープ波形K11l〜に114によって
示すように変形できるようになされている。
動抵抗によって構成されていることにより、その摺動位
置を必要に応じて調整したとき充放電用コンデンサ73
Aの放電目標電圧を変更できるようになされ、その結果
利得制御信号S51の減衰波形に1の減衰目標値を変更
することにより減衰エンベロープ波形Klの各減衰目標
値に到達するまでの減衰波形形状を、例えば第9図にお
いて減衰エンベロープ波形K11l〜に114によって
示すように変形できるようになされている。
リセットパルス発生面−路74は、オンオフ出力Sll
に基づいて、第7図(A)に示すように、直流用フット
スイッチ23(第5図)が時点tos+ s LOFF
ls LoNg % Lovy*z toNsoooo
ooにおいて順次交互にオン操作又はオフ操作されたと
き、オフ操作された後オン操作されるまでの時間τa
(”torr+〜L ONl % j OF?1〜
toNs)がインターバルタイム設定回路75から供給
されるインターバルタイム信号354が表す基準インタ
ーバルタイムτ1 (この基準インターバルタイムτ1
はインターバルタイム設定子75Aによって任意に設定
できる)と比較して短いが否かを判断し、当該判断結果
に基づいてリセットパルスs53を減衰波形形成回路7
3に与えるが否かを決めるようになされている。
に基づいて、第7図(A)に示すように、直流用フット
スイッチ23(第5図)が時点tos+ s LOFF
ls LoNg % Lovy*z toNsoooo
ooにおいて順次交互にオン操作又はオフ操作されたと
き、オフ操作された後オン操作されるまでの時間τa
(”torr+〜L ONl % j OF?1〜
toNs)がインターバルタイム設定回路75から供給
されるインターバルタイム信号354が表す基準インタ
ーバルタイムτ1 (この基準インターバルタイムτ1
はインターバルタイム設定子75Aによって任意に設定
できる)と比較して短いが否かを判断し、当該判断結果
に基づいてリセットパルスs53を減衰波形形成回路7
3に与えるが否かを決めるようになされている。
すなわち操作インターバル時間τ1が基準インターバル
時間τ層より短いとき(このことは施術者が同じ毛包に
ついて脱毛施術をしていることを表す)、リセットパル
ス発生回路74は第7図(Bl)及び(B2)において
時点t 0FFI〜t 082間の期間で示すように、
リセットパルスS53を減衰波形形状回!73に供給し
ないようになされ、かくして利得制御信号S51は操作
インターバル時間τ1が経過し終わった後も引続き減衰
波形Klに沿って減衰して行くようになされている。
時間τ層より短いとき(このことは施術者が同じ毛包に
ついて脱毛施術をしていることを表す)、リセットパル
ス発生回路74は第7図(Bl)及び(B2)において
時点t 0FFI〜t 082間の期間で示すように、
リセットパルスS53を減衰波形形状回!73に供給し
ないようになされ、かくして利得制御信号S51は操作
インターバル時間τ1が経過し終わった後も引続き減衰
波形Klに沿って減衰して行くようになされている。
これに対して時点り。F0〜t 0M3の期間で示すよ
うに、操作インターバル時間τ、が基準インターバル時
間τ、より長くなったとき(このことは施術者による脱
毛施術が他の毛包に移ったことを意味する)、このとき
リセットパルス発生回路74は時点t。N3においてオ
ン操作された後遅延タイミング時間τ。だけ経過した時
点で得られる遅延オンオフ信号312に基づいてリセッ
トパルスS53を送出してスイッチングトランジスタ7
3Bをオン動作させることより、充放電用コンデンサ7
3Aをリセット電圧V 11?に充電することにより新
たな直流脱毛施術をなし得るようにする。
うに、操作インターバル時間τ、が基準インターバル時
間τ、より長くなったとき(このことは施術者による脱
毛施術が他の毛包に移ったことを意味する)、このとき
リセットパルス発生回路74は時点t。N3においてオ
ン操作された後遅延タイミング時間τ。だけ経過した時
点で得られる遅延オンオフ信号312に基づいてリセッ
トパルスS53を送出してスイッチングトランジスタ7
3Bをオン動作させることより、充放電用コンデンサ7
3Aをリセット電圧V 11?に充電することにより新
たな直流脱毛施術をなし得るようにする。
このようにしてホールド選択スイッチ回路71がエンベ
ロープ制御信号346の入力端a側に切り換わっている
とき利得制御増幅回路72は第7図(B2)の期間L
0FFI−t oszに示すように、操作インターバル
時間τ、が基準インターバル時間τ、より短いときには
エンベロープ制御信号346を利得制御増幅回路72に
おいて減衰エンベロープ波形Klを有する利得種信号3
51によって利得制御することにより、波形整形回路6
4から得られるエンベロープ制御信号S46に基づいて
その波高値を減衰曲線Klに沿わせるように減衰制御す
る。
ロープ制御信号346の入力端a側に切り換わっている
とき利得制御増幅回路72は第7図(B2)の期間L
0FFI−t oszに示すように、操作インターバル
時間τ、が基準インターバル時間τ、より短いときには
エンベロープ制御信号346を利得制御増幅回路72に
おいて減衰エンベロープ波形Klを有する利得種信号3
51によって利得制御することにより、波形整形回路6
4から得られるエンベロープ制御信号S46に基づいて
その波高値を減衰曲線Klに沿わせるように減衰制御す
る。
これに対してホールド選択スイッチ回路71が入力端す
側に切り換えられると、利得制御増幅回路72に対する
エンベロープ制御信号として基準電圧源76の一定基準
電圧■ヮが供給され、か(して利得制御増幅回路72は
波形制御信号352として第7図(B1)において減衰
エンベロープ波形(これをホールドオン減衰波形と呼ぶ
)KIXで示すように、当該一定電圧■、に基づいてそ
の値を減衰曲線Klに沿って減衰させたような波形制御
信号S52を送出する。
側に切り換えられると、利得制御増幅回路72に対する
エンベロープ制御信号として基準電圧源76の一定基準
電圧■ヮが供給され、か(して利得制御増幅回路72は
波形制御信号352として第7図(B1)において減衰
エンベロープ波形(これをホールドオン減衰波形と呼ぶ
)KIXで示すように、当該一定電圧■、に基づいてそ
の値を減衰曲線Klに沿って減衰させたような波形制御
信号S52を送出する。
第6図の構成によれば、1つの毛包について直流脱毛施
術をしているときには、施術者は直流用フットスイッチ
23を基準インターバル時間τ。
術をしているときには、施術者は直流用フットスイッチ
23を基準インターバル時間τ。
より短い操作インターバル時間τ、のタイミングで直流
用フットスイッチ23をオンオフ操作することにより、
1つの毛包に流れる直流電流を時間の経過に従って減衰
させて行くことができ、かくして被施術者の体調、体質
などの条件に適応するような施術条件を選択しながら直
流脱毛施術をなし得る。
用フットスイッチ23をオンオフ操作することにより、
1つの毛包に流れる直流電流を時間の経過に従って減衰
させて行くことができ、かくして被施術者の体調、体質
などの条件に適応するような施術条件を選択しながら直
流脱毛施術をなし得る。
因に一般に直流脱毛施術をする場合、大きな直流電流を
、長時間の間流し続けると不快感が増す傾向にあるが、
上述のように構成すれば直流電流を流す時間、及びその
電流値のエンベロープを各施術者の体調、体質等に適合
するように必要に応じて制御して施術条件を設定できる
ことにより、この分波施術者に不快感を与えるおそれを
有効に軽減し得る。
、長時間の間流し続けると不快感が増す傾向にあるが、
上述のように構成すれば直流電流を流す時間、及びその
電流値のエンベロープを各施術者の体調、体質等に適合
するように必要に応じて制御して施術条件を設定できる
ことにより、この分波施術者に不快感を与えるおそれを
有効に軽減し得る。
〔4〕美美容上施術
以上の構成において美容脱毛施術をする際、施術者はプ
ローブ4の針状導子4Aを脱毛しようとする毛包に1つ
づつ順次挿入した後高周波用フットスイッチ27及び直
流用フットスイッチ23を操作する。
ローブ4の針状導子4Aを脱毛しようとする毛包に1つ
づつ順次挿入した後高周波用フットスイッチ27及び直
流用フットスイッチ23を操作する。
このとき直流脱毛出力形成部12には時間制御回路24
において遅延タイミング時間τ、たけ遅延した時点で遅
延オンオフ信号312が与えられることにより、高周波
脱毛出力形成部11から送出される高周波脱毛出力S1
により毛包が加熱した状態を得た後直流脱毛出力形成部
12から送出される直流脱毛出力S2によって電気分解
法に基づく脱毛施術がなされる。
において遅延タイミング時間τ、たけ遅延した時点で遅
延オンオフ信号312が与えられることにより、高周波
脱毛出力形成部11から送出される高周波脱毛出力S1
により毛包が加熱した状態を得た後直流脱毛出力形成部
12から送出される直流脱毛出力S2によって電気分解
法に基づく脱毛施術がなされる。
かくするにつき、高周波脱毛出力S1に対してエンベロ
ープを付与するようにしたことにより、被施術者に無用
な不快感を与えるおそれを有効に回避し得る。
ープを付与するようにしたことにより、被施術者に無用
な不快感を与えるおそれを有効に回避し得る。
さらに直流脱毛出力S2に対してエンベロープを付与で
きるようにし、またエンベロープを付与し又は付与しな
い直流脱毛出力の信号レベルを減衰させることができる
ようにしたことにより、被施術者の体調、体質等の施術
条件に適合した直流脱毛出力を用いて効率的な脱毛施術
をなし得る。
きるようにし、またエンベロープを付与し又は付与しな
い直流脱毛出力の信号レベルを減衰させることができる
ようにしたことにより、被施術者の体調、体質等の施術
条件に適合した直流脱毛出力を用いて効率的な脱毛施術
をなし得る。
さらに直流用フットスイッチ23をオンオフ操作するに
つき、操作インターバル時間τ1が基準インターバル時
間τ鯵と比較して時間τ、がτ。
つき、操作インターバル時間τ1が基準インターバル時
間τ鯵と比較して時間τ、がτ。
より長くなったとき減衰波形を自動的にリセットさせる
ことができるようにしたことにより、無用に被施術者に
対して不快感を与えることなく効率良く脱毛施術を続け
ることができる。
ことができるようにしたことにより、無用に被施術者に
対して不快感を与えることなく効率良く脱毛施術を続け
ることができる。
因に施術者は必要に応じてホールド選択スイッチ回路7
1を切り換えることにより、波形制御信号S52にエン
ベロープ波形を付与させるようにしたり、又は付与させ
ないようにするような条件を必要に応じて選択できる。
1を切り換えることにより、波形制御信号S52にエン
ベロープ波形を付与させるようにしたり、又は付与させ
ないようにするような条件を必要に応じて選択できる。
ここで、放電用抵抗73Cの抵抗値を調整すれば、第8
図において減衰曲線Kll、K12・・・・・・で示す
ように、減衰率を施術条件に応じて変更することができ
る。
図において減衰曲線Kll、K12・・・・・・で示す
ように、減衰率を施術条件に応じて変更することができ
る。
また施術者が放電電圧設定用抵抗73Dの低力値を必要
に応じて調整すれば、第9図においてね衰曲線K11l
、K112・・・・・・で示すように、栖衰制御信号5
2の減衰目標値を必要に応じて11七できることにより
、時間の経過に従って生ずる捌衰量を施術条件に応じて
選択することができる。
に応じて調整すれば、第9図においてね衰曲線K11l
、K112・・・・・・で示すように、栖衰制御信号5
2の減衰目標値を必要に応じて11七できることにより
、時間の経過に従って生ずる捌衰量を施術条件に応じて
選択することができる。
〔5〕他の実施例
(1)上述の実施例においては、エンベロープ波光メモ
リ53としてアナログ電圧値でなるサンプリング波形値
を記憶するようにした場合について述べたが、これに代
え、ディジタル電圧値でなるサンプリング波形値を記憶
するようにしても、上述の場合と同様の効果を得ること
ができる。
リ53としてアナログ電圧値でなるサンプリング波形値
を記憶するようにした場合について述べたが、これに代
え、ディジタル電圧値でなるサンプリング波形値を記憶
するようにしても、上述の場合と同様の効果を得ること
ができる。
(2)上述の実施例においては、高周波脱毛出力S1及
び直流脱毛出力S2の両方についてそのエンベロープ波
形を制御するようにしたが、そのいずれか一方について
は制御しないようにしても良い〔発明の効果〕 上述のように本発明によれば、脱毛出力にエンベロープ
波形、減衰波形を付与することにより施術すべき毛包に
流す電流値を必要に応じて選択できるようにしたことに
より、被施術者に不快感を与えずにしかも効率良く脱毛
施術をなし得る美容脱毛装置を容易に実現し得る。
び直流脱毛出力S2の両方についてそのエンベロープ波
形を制御するようにしたが、そのいずれか一方について
は制御しないようにしても良い〔発明の効果〕 上述のように本発明によれば、脱毛出力にエンベロープ
波形、減衰波形を付与することにより施術すべき毛包に
流す電流値を必要に応じて選択できるようにしたことに
より、被施術者に不快感を与えずにしかも効率良く脱毛
施術をなし得る美容脱毛装置を容易に実現し得る。
第1図は本発明による美容脱毛装置の全体構成を示すブ
ロック図、第2図は第1図の高周波出力回路の詳細構成
を示すブロック図、第3図は第2図の各部の信号を示す
信号波形図、第4図は第2図のエンベロープ波形メモリ
53の詳細構成を示す接続図、第5図は第1図の直流出
力回路22の詳細構成を示すブロック図、第6図は第5
図の減衰波形付与回路65の構成を示す系統的接続図、
第7図は第6図の減衰機能の説明に供する信号波形図、
第8図及び第9図は減衰特性の説明に供する特性曲線図
である。 1・・・・・・美容脱毛装置、2・・・・・・脱毛器本
体、4・・・・・・プローブ、11・・・・・・高周波
脱毛出力形成部、12・・・・・・直流脱毛出力形成部
、13−・・・・・光脱毛出力形成部、14・・・・・
・冷却風形成部、32・・・・・・握り導子、45・・
・・・・アフタケア用ローラ、51,61・・・・・・
クロック発生回路、52.62・・・・・・スイッチ信
号形成回路、53.63・・・・・・エンベロープ波形
メモリ、54.64・・・・・・波形整形回路、65・
・・・・・減衰波形付与回路。
ロック図、第2図は第1図の高周波出力回路の詳細構成
を示すブロック図、第3図は第2図の各部の信号を示す
信号波形図、第4図は第2図のエンベロープ波形メモリ
53の詳細構成を示す接続図、第5図は第1図の直流出
力回路22の詳細構成を示すブロック図、第6図は第5
図の減衰波形付与回路65の構成を示す系統的接続図、
第7図は第6図の減衰機能の説明に供する信号波形図、
第8図及び第9図は減衰特性の説明に供する特性曲線図
である。 1・・・・・・美容脱毛装置、2・・・・・・脱毛器本
体、4・・・・・・プローブ、11・・・・・・高周波
脱毛出力形成部、12・・・・・・直流脱毛出力形成部
、13−・・・・・光脱毛出力形成部、14・・・・・
・冷却風形成部、32・・・・・・握り導子、45・・
・・・・アフタケア用ローラ、51,61・・・・・・
クロック発生回路、52.62・・・・・・スイッチ信
号形成回路、53.63・・・・・・エンベロープ波形
メモリ、54.64・・・・・・波形整形回路、65・
・・・・・減衰波形付与回路。
Claims (2)
- (1)毛包に差し込んだ針状導子に脱毛出力を供給して
電流を流すことにより当該毛包について永久脱毛をする
美容脱毛装置において、 上記脱毛出力にエンベロープ波形を付与するエンベロー
プ付与手段 を具えることを特徴とする美容脱毛装置。 - (2)毛包に差し込んだ針状導子に脱毛出力を供給して
電流を流すことにより当該毛包について永久脱毛をする
美容脱毛装置において、 上記脱毛出力に減衰エンベロープ波形を付与する減衰波
形付与手段 を具えることを特徴とする美容脱毛装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30587889A JPH03165710A (ja) | 1989-11-25 | 1989-11-25 | 美容脱毛装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30587889A JPH03165710A (ja) | 1989-11-25 | 1989-11-25 | 美容脱毛装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03165710A true JPH03165710A (ja) | 1991-07-17 |
Family
ID=17950419
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30587889A Pending JPH03165710A (ja) | 1989-11-25 | 1989-11-25 | 美容脱毛装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03165710A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6314822U (ja) * | 1986-07-15 | 1988-01-30 |
-
1989
- 1989-11-25 JP JP30587889A patent/JPH03165710A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6314822U (ja) * | 1986-07-15 | 1988-01-30 |
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