JPH03150216A - Production of graphite - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、°例えば、X線光学素子、XvAモノクロ
メータ、中性線回折ミラー、中性子線フィルタ一等に利
用されるグラファイトの製造方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application This invention relates to a method for producing graphite used in, for example, X-ray optical elements, XvA monochromators, neutral ray diffraction mirrors, neutron ray filters, etc. be.
従来の技術
グラファイトは、抜群の耐熱性や耐薬品性、高導電性等
を備えているために、工業材料として重要な位置を占め
、電極や発熱体、構造材などを始め広く用いられている
。なかでも、単結晶グラファイトはX線や中性子線のモ
ノクロメータ、フィルターあるいは分光結晶として広く
用いられている。Conventional technology Graphite has outstanding heat resistance, chemical resistance, and high conductivity, so it occupies an important position as an industrial material and is widely used in electrodes, heating elements, structural materials, etc. . Among these, single crystal graphite is widely used as a monochromator, filter, or spectroscopic crystal for X-rays and neutron beams.
この様な単結晶グラファイトを得るには天然に産するも
のを利用するのが簡単であるが、良質の天然グラファイ
トは生産量が非常に限られており、しかも取り扱いが困
難な粉末状や微小ブロック状であるため用途が限定され
てしまう。To obtain such single crystal graphite, it is easy to use naturally occurring graphite, but high-quality natural graphite is produced in very limited quantities, and it is difficult to handle in the form of powder or minute blocks. Because of its shape, its uses are limited.
そこで、上記のような天然の単結晶グラファイトと同等
の特性を有する大ニゲラファイトを製造することが考え
られた。一般的な製造方法としては、主として以下の第
1.2の二つの製造方法が知られている。Therefore, it was considered to produce large nigeraphite having properties equivalent to those of the above-mentioned natural single crystal graphite. As general manufacturing methods, the following two manufacturing methods 1.2 are mainly known.
第1の製造方法は、Pe、 Ni/C系溶融体からの析
出、Si、^1等の炭化物の分解、或いは高温、高圧下
での炭素融液の冷却によってグラファイトを製造すると
いう方法である。この様な方法によって得られたグラフ
ァイトはキノシェグラファイトと呼ばれ、天然のグラフ
ァイトとほぼ同等の物性を示す、しかし、第1の製造方
法ではやはり微小な薄片状のグラファイトしか得られず
、製造工程が煩雑でコストが高くつ(ことから工業的に
は殆ど利用されていない。The first production method is to produce graphite by precipitation from a Pe, Ni/C-based melt, decomposition of carbides such as Si, ^1, or cooling of a carbon melt under high temperature and high pressure. . Graphite obtained by this method is called Kinoche graphite, and exhibits physical properties almost equivalent to natural graphite. However, the first production method only yields graphite in the form of minute flakes, and the production process is difficult. It is complicated and expensive (because of this, it is hardly used industrially).
第2の製造方法は、気相中での炭化水素ガスの高温分解
沈澱積と、その熱間加工による方法であり、圧力を印加
しつつ3400℃で長時間再焼鈍することによりグラフ
ァイトが得られる。この様にして得られたグラファイト
は、高配向性パイログラファイト(HOPG )と呼ば
れ、その特性は天然グラファイトとほぼ同等の優れたも
のである。この第2の製造方法では、前記のキノシェグ
ラファイトとは異なり、かなり大きなサイズのものも製
造できる。第2の製造方法により作製されたグラファイ
トは配向性を表す値のひとつであるロッキング性が良く
、X線や中性子線の光学素子として広く使われている。The second production method involves high-temperature decomposition precipitation of hydrocarbon gas in the gas phase and its hot processing. Graphite is obtained by reannealing at 3400°C for a long time while applying pressure. . The graphite obtained in this manner is called highly oriented pyrographite (HOPG), and its properties are almost the same as those of natural graphite. With this second production method, unlike the above-mentioned Kinoche graphite, it is possible to produce graphite of considerably large size. Graphite produced by the second manufacturing method has good rocking property, which is one of the values representing orientation, and is widely used as an optical element for X-rays and neutron beams.
しかしながら、この製造方法は、工程が複雑である上奏
留まりが非常に低く、その結果、得られたグラファイト
が高価であり、やはり実用性が薄いという問題がある。However, this manufacturing method has the problem that the process is complicated and the overgrowth retention is very low, and as a result, the obtained graphite is expensive and is of little practical use.
一方、上記二つの製造方法の欠点を解消する低コストで
簡単にグラファイトが得られる第3の製造方法として、
様々な有機物あるいは炭素質物を3000℃以上で加熱
してグラファイト化するようにする方法がある。しかし
ながら、この第3の製造方法では、天然グラファイトや
キッシュグラファイトとほぼ同等の優れた特性のグラフ
ァイトを得ることが難しい、例えば、グラファイトの最
も典型的な物性であるah面方向の電気伝導度は、天然
グラファイトやキノシェグラファイトではI〜2.5X
IOS/cmであるのに対し、第3の製造方法によるグ
ラファイトでは1〜2XlOS/cm程度でしかない、
これは、第3の製造方法ではグラファイト化が不完全に
しか行えないことを示している。On the other hand, as a third manufacturing method that eliminates the drawbacks of the above two manufacturing methods and allows graphite to be easily obtained at low cost,
There is a method of heating various organic substances or carbonaceous substances at 3000° C. or higher to graphitize them. However, with this third manufacturing method, it is difficult to obtain graphite with excellent properties almost equivalent to natural graphite or Quiche graphite. For example, the electrical conductivity in the ah-plane direction, which is the most typical physical property of graphite, is I~2.5X for natural graphite and Kinoche graphite
IOS/cm, whereas the graphite produced by the third manufacturing method only has about 1 to 2XlOS/cm.
This indicates that graphitization can only be performed incompletely in the third manufacturing method.
第3の製造方法の場合は、通常は出発原料としてコーク
スやナヤーコールを3000℃程度に加熱することによ
って生成される炭素の構造は、比較的グラファイト構造
に近いものから、それとは程遠いものまで、様々な種類
のものが存在する。このような炭素の構造のうち、単な
る熱処理によって比較的容易にグラファイト的な構造に
変わる炭素を易グラファイト化炭素と呼び、そうでない
ものを難グラファイト化炭素と呼んでいる。このような
構造上の相違が生じる原因は、グラファイト化の機構と
密接に関連しており、炭素前駆体中に存在する構造欠陥
が、より高温での加熱処理によって除去され易いか否か
による。したがって、炭素前駆体の微細構造がグラファ
イト化に対して重要な役割を果たすことなる。この第3
の製造方法では、炭素前駆体の構造欠陥が多いために、
十分にグラファイト化が進行しないのである。In the case of the third production method, the carbon structure produced by heating coke or Nayacol as a starting material to about 3000°C varies from one relatively close to a graphite structure to one far from it. There are many kinds of things. Among these carbon structures, carbon that can be relatively easily converted into a graphite-like structure by simple heat treatment is called easily graphitizable carbon, and carbon that does not change into a graphite-like structure is called difficult-to-graphitize carbon. The cause of such structural differences is closely related to the graphitization mechanism, and depends on whether structural defects present in the carbon precursor can be easily removed by heat treatment at a higher temperature. Therefore, the microstructure of the carbon precursor plays an important role in graphitization. This third
In the manufacturing method of , because the carbon precursor has many structural defects,
Graphitization does not progress sufficiently.
さらに、第4の製造方法として、構造欠陥の少ないこと
が期待される高分子材料を用いて、これを熱処理するこ
とによりグラファイトを製造する方法がある。この方法
に関しては、既にいくつかの研究が行われている。この
第4の製造方法は、高分子を真空中あるいは不活性気体
中で熱処理し、分解および重縮合反応を経て炭素質物に
変え、この炭素質物を更にグラファイト化するという方
法である。Furthermore, as a fourth manufacturing method, there is a method of manufacturing graphite by using a polymer material expected to have few structural defects and heat-treating the polymer material. Some research has already been conducted regarding this method. This fourth production method is a method in which a polymer is heat-treated in a vacuum or an inert gas, converted into a carbonaceous material through decomposition and polycondensation reaction, and this carbonaceous material is further graphitized.
本発明者らは、第4の製造方法において、高分子として
、例えば、芳香族ポリアミド(PA)、ポリオキサジア
ゾール(POD) 、芳香族ポリイミド(PI)、ポリ
ベンゾビスチアゾール(PBBT)+ポリベンゾオキサ
ゾール(PBO)、ポリベンゾビスオキサゾール(PB
BO) 、ポリチアゾール(PT)等を用いることを捉
案している(特開昭61−275114号公報、特開昭
61−275115号公報、特開昭61−275117
号公報)、さらに、本発明者らは、これら高分子のフィ
ルムを多数枚積層し加圧熱処理することでグラファイト
ブロックを得る方法についてもBgしている(特願昭6
3−235219号)。In the fourth production method, the present inventors used, for example, aromatic polyamide (PA), polyoxadiazole (POD), aromatic polyimide (PI), polybenzobisthiazole (PBBT) + poly Benzoxazole (PBO), Polybenzobisoxazole (PB
BO), polythiazole (PT), etc. are proposed (JP-A-61-275114, JP-A-61-275115, JP-A-61-275117).
Furthermore, the present inventors have also disclosed a method for obtaining a graphite block by laminating a large number of these polymer films and subjecting them to heat treatment under pressure (Japanese Patent Application No. 1983).
3-235219).
発明が解決しようとする課題
上に述べた高分子フィルムからグラファイトを得る方法
は低コストで簡単な実用性の高い方法である。また、高
分子のフィルムを多数枚積層し加圧熱処理する場合は大
型のグラファイトブロックを得易いというメリットもあ
る。ところが、得られたグラファイトは、ロッキング特
性が不十分である。このロッキング特性は、単色で平行
なX線束が入射したときに結晶を回転して得られる回折
強度白線であって、(00ffi)回折線の出現する角
度で20を固定し、θを回転させることにより測定され
る。この値は回転角(°)で表され、この値が小さい程
ab面がきれいに揃い優れたロッキング特性を有するこ
とを示す、ロッキング特性が十分でないグラファイトは
、例えば、X線用などの光学素子として使用することが
難しい、用途によっても異なるが、通常、X線や中性子
線のモノクロメータで1@以下、中性子線のフィルター
で3°以下が必要とされる。Problems to be Solved by the Invention The method for obtaining graphite from a polymer film described above is a low-cost, simple, and highly practical method. Furthermore, when a large number of polymer films are laminated and subjected to pressure heat treatment, there is an advantage that it is easy to obtain large graphite blocks. However, the obtained graphite has insufficient locking properties. This rocking characteristic is a diffraction intensity white line obtained by rotating the crystal when a monochromatic and parallel X-ray flux is incident, and is obtained by fixing 20 at the angle at which the (00ffi) diffraction line appears and rotating θ. It is measured by This value is expressed in rotation angle (°), and the smaller this value is, the more precisely the ab-b planes are aligned, indicating that it has excellent rocking properties. Graphite with insufficient rocking properties is used as an optical element for X-rays, etc. Difficult to use.Although it varies depending on the application, normally a monochromator for X-rays or neutron beams requires an angle of 1@ or less, and a filter for neutron beams requires an angle of 3 degrees or less.
この発明は、上記事情に鑑み、高分子フィルムを用いて
ロッキング特性のよいグラファイトを容易に得るこ七の
できる方法を提供することを課題とする。In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a method for easily obtaining graphite with good rocking properties using a polymer film.
課題を解決するための手段
前記課題を解決するため、請求項1.2記載の発明では
、表面粗さがフィルム厚みの10%以下である高分子フ
ィルムを複数枚積層し、加圧熱処理するようにしている
。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, in the invention according to claim 1.2, a plurality of polymer films having a surface roughness of 10% or less of the film thickness are laminated and subjected to pressure heat treatment. I have to.
この発明の製造方法で用いられる高分子フィルムとして
は、ポリアミド、ポリオキサジアゾール、ポリイミド、
芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミド、ポリベンゾチア
ゾール、ポリベンゾビスチアゾール、ポリベンゾオキサ
ゾール、ポリベンゾビスオキサゾール、ポリ(ピロメリ
ットイミド)、ポリフェニレンイソフタロアミド、ポリ
フェニレンベンゾイミダゾール、ポリフェニレンベンゾ
ビスイミダゾール、ポリチアゾールのうちの少なくとも
ひとつの高分子からなるものが用いられる。Polymer films used in the production method of this invention include polyamide, polyoxadiazole, polyimide,
Aromatic polyamide, aromatic polyimide, polybenzothiazole, polybenzobisthiazole, polybenzoxazole, polybenzobisoxazole, poly(pyromellitimide), polyphenylene isophthaloamide, polyphenylenebenzimidazole, polyphenylenebenzobisimidazole, polythiazole Among them, one consisting of at least one polymer is used.
ひとつのグラファイトを得るのに、普通、一種類の高分
子フィルムだけを積層するが、複数種類の高分子フィル
ムを同時に併用し積層するようにしてもよい、また、1
枚の高分子フィルムが複数種類の高分子を併用して形成
されていてもよい。To obtain one graphite, usually only one type of polymer film is laminated, but it is also possible to use and laminate multiple types of polymer films at the same time.
A sheet of polymer film may be formed using a combination of multiple types of polymers.
なお、この発明において、表面粗さがフィルム厚みのl
O%以下であるいとうときのフィルム厚みとは、粗い表
面部分をも含めた全厚みを指す。In addition, in this invention, the surface roughness is determined by l of the film thickness.
The film thickness when the thickness is 0% or less refers to the total thickness including the rough surface portion.
通常、積層し、1000℃程度の熱処理を行い予め炭素
質化しておいてから加圧熱処理を行うようにする。Usually, they are laminated and heat treated at about 1000° C. to make them carbonaceous in advance, and then pressurized heat treatment is performed.
加圧熱処理の際の圧力は、表面が粗いほど高い圧力を要
するが、通常、4kg/d以上の圧力とする。The rougher the surface, the higher the pressure required during the pressure heat treatment, but the pressure is usually 4 kg/d or more.
加圧熱処理の際の熱処理温度は、原料フィルムの厚み等
により異なるが、通常、2000℃以上、望ましくは2
500℃以上である。The heat treatment temperature during pressure heat treatment varies depending on the thickness of the raw material film, etc., but is usually 2000°C or higher, preferably 2000°C or higher.
The temperature is 500°C or higher.
原料用高分子フィルムの厚み、表面粗さに応じて、積層
、加熱処理条件を適当に選び、要求に応じたロッキング
特性のグラファイトを得ることができる。By appropriately selecting lamination and heat treatment conditions depending on the thickness and surface roughness of the raw material polymer film, graphite with rocking properties that meet requirements can be obtained.
この発明のグラファイトの製造方法は、上記例示の化合
物や材料に限らず、同等の化合物や材料を用いるように
してもよいことシよ言うまでもない。It goes without saying that the method for producing graphite of the present invention is not limited to the compounds and materials exemplified above, but may also use equivalent compounds and materials.
作用
この発明にかかるグラファイトの製造方法では、用いら
れる高分子フィルムの表面粗さがフィルム厚みの10%
以下であるため、得られるグラファイトのロッキング特
性に優れる。例えば、ブロック状のグラファイトは、X
線や中性子線用のモノクロメータ−、フィルターなどに
用いることができる。Function: In the method for producing graphite according to the present invention, the surface roughness of the polymer film used is 10% of the film thickness.
Since it is as follows, the obtained graphite has excellent locking properties. For example, block-shaped graphite is
It can be used in monochromators, filters, etc. for radiation and neutron beams.
実施例
続いて、本願発明のより具体的な実施例を以下に述べる
。Examples Next, more specific examples of the present invention will be described below.
なお、得られたグラファイトの特性評価のために、格子
定数、グラファイト(黒鉛)化率、ロッキング特性を測
定したが、その測定方法は以下の通りである。In order to evaluate the characteristics of the obtained graphite, the lattice constant, graphitization rate, and rocking properties were measured, and the measurement method was as follows.
(1) 格子定数(C,)
理学電機社製ロータフレックスRU−2008型xwA
ディフラクトメーターを用い、CuKa線を使用してグ
ラファイト試料のXvA回折線を測定した。(1) Lattice constant (C,) Rotaflex RU-2008 xwA manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.
Using a diffractometer, the XvA diffraction line of the graphite sample was measured using CuKa radiation.
C,は、2θ=26〜27′″付近に現れる(002)
回折線からブラッグの式nλ−2dsinθ(但し2d
=C,)を用いて計算した。ここで、n=1、λはxm
の波長である。C, appears around 2θ=26~27′″ (002)
From the diffraction line, Bragg's equation nλ-2dsinθ (where 2d
=C,). Here, n=1, λ is xm
wavelength.
(2)黒鉛化率
黒鉛化率は(002)回折線から求められる面間隔dの
値より次式を用いて計算した。(2) Graphitization rate The graphitization rate was calculated using the following formula from the value of the interplanar spacing d determined from the (002) diffraction line.
do。== =3.345g+3−44(1g)ここで
gは黒鉛化の程度を示し、g=1は完全な黒鉛、g=0
は無定型炭素を示す。do. == =3.345g+3-44(1g) where g indicates the degree of graphitization, g=1 is complete graphite, g=0
indicates amorphous carbon.
(3) ロッキング特性
理学電機社製ロータフレックスRU−2008型X線デ
ィフラクトメーターを用い、グラファイトの(002)
線のピーク位置におけるロッキング特性を測定した。こ
のロッキング特性は単色で平行なxvA束が入射したと
きに結晶を回転して得られる回折強度曲線であって、(
0041)回折線の出現する角度で20を固定して、θ
を回転させることによって測定される。このようにして
得られた強度曲線の半値幅をもってロッキング特性とし
た。(3) Rocking properties of graphite (002) using a Rotaflex RU-2008 X-ray diffractometer manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.
The rocking characteristics at the peak position of the line were measured. This rocking characteristic is a diffraction intensity curve obtained by rotating the crystal when a monochromatic parallel xvA flux is incident, and is
0041) Fixing 20 at the angle at which the diffraction line appears, θ
It is measured by rotating. The half-width of the intensity curve thus obtained was defined as the rocking characteristic.
実施例1
厚み10μm、表面粗さ0−0111mの芳香族ポリア
ミドフィルム20枚を積層し、窒素雰囲気中で毎分20
″Cの速度で昇温し、1000℃で1時間熱処理を行い
、炭素賞を得た。得られた炭素質素材をアルゴン気流中
で10kg/a1の圧力を加えながら、室温から毎分1
0℃の速度で昇温し、3000℃で1時間熱処理をした
後、毎分20℃の速度で降温してグラファイトを得た。Example 1 20 aromatic polyamide films with a thickness of 10 μm and a surface roughness of 0-0111 m were laminated and
The carbonaceous material obtained was heated at a rate of 1000℃ and heat treated at 1000℃ for 1 hour to obtain a carbon award.
The temperature was raised at a rate of 0°C, heat treatment was performed at 3000°C for 1 hour, and then the temperature was lowered at a rate of 20°C per minute to obtain graphite.
実施例2
芳香族ポリアミドフィルムの表面粗さが(11umであ
る他は、実施例1と同様にしてグラファイトを得た。Example 2 Graphite was obtained in the same manner as in Example 1, except that the surface roughness of the aromatic polyamide film was 11 um.
実施例3
芳香族ポリアミドフィルムの表面粗さが1.0μmであ
る他は、実施例1と同様にしてグラファイトを得た。Example 3 Graphite was obtained in the same manner as in Example 1, except that the surface roughness of the aromatic polyamide film was 1.0 μm.
実施例4
厚み255m、表面粗さ0.01μmの芳香族ポリイミ
ドフィルム50枚を積層し、窒素雰囲気中で毎分20″
Cの速度で昇温し、1000℃で1時間熱処理を行い、
炭素質を得た。得られた炭素質素材をアルゴン気流中で
室温からは毎分lOCの速度で昇温し、3000℃にな
った時点で50kg/a1の圧力を加え、1時間熱処理
をした後、毎分20°Cの速度で降温させグラファイト
を得た。Example 4 50 sheets of aromatic polyimide films with a thickness of 255 m and a surface roughness of 0.01 μm were laminated, and the film was heated at 20 inches per minute in a nitrogen atmosphere.
The temperature was raised at a rate of C, and heat treatment was performed at 1000°C for 1 hour.
Carbonaceous material was obtained. The temperature of the obtained carbonaceous material was raised from room temperature at a rate of lOC/min in an argon stream, and when the temperature reached 3000°C, a pressure of 50 kg/a1 was applied. After heat treatment for 1 hour, The temperature was lowered at a rate of C to obtain graphite.
実施例5
芳香族ポリイミドフィルムの表面粗さが0.1 pmで
ある他は、実施例4と同様にしてグラファイトを得た。Example 5 Graphite was obtained in the same manner as in Example 4, except that the surface roughness of the aromatic polyimide film was 0.1 pm.
実施例6
芳香族ポリイミドフィルムの表面粗さが2.0μmであ
る他は、実施N4と同様にしてグラファイトを得た。Example 6 Graphite was obtained in the same manner as in Example N4, except that the surface roughness of the aromatic polyimide film was 2.0 μm.
実施例7
厚み50μm、表面粗さく15μmのPODフィルム1
00枚を積層し窒素雰囲気中で毎分20℃の速度で昇温
し、1000℃で1時間熱処理を行い、炭素質を得た。Example 7 POD film 1 with a thickness of 50 μm and a surface roughness of 15 μm
00 sheets were laminated, the temperature was raised at a rate of 20° C. per minute in a nitrogen atmosphere, and heat treatment was performed at 1000° C. for 1 hour to obtain carbonaceous material.
得られた炭素質素材をアルゴン気流中で室温から毎分1
0℃の速度で昇温し、3000℃になった時点で100
kg/c111の圧力を加え、1時間熱処理をした後、
毎分20℃の速度で降温させグラファイトを得た。The obtained carbonaceous material was heated at 1 minute per minute from room temperature in an argon stream.
The temperature is raised at a rate of 0°C, and when it reaches 3000°C, the temperature is 100°C.
After applying a pressure of 111 kg/c and heat treatment for 1 hour,
The temperature was lowered at a rate of 20°C per minute to obtain graphite.
実施例8
PODフィルムがPA(芳香族ポリアミド)フィルムで
ある他は、実施例7と同様ピして、グラファイトを得た
。Example 8 Graphite was obtained in the same manner as in Example 7, except that the POD film was a PA (aromatic polyamide) film.
実施例9
PODフィルムがPIフィルム(芳香族ポリアミド)で
ある他は、実施例7と同様にして、グラファイトを得た
。Example 9 Graphite was obtained in the same manner as in Example 7, except that the POD film was a PI film (aromatic polyamide).
実施例10
PODフィルムがPBBTフィルムである他は、実施例
7と同様にして、グラファイトを得た。Example 10 Graphite was obtained in the same manner as in Example 7, except that the POD film was a PBBT film.
実施例11
PODフィルムがPBOフィルムである他は、実施例7
と同様にして、グラファイトを得た。Example 11 Example 7 except that the POD film is a PBO film
Graphite was obtained in the same manner.
実施例12
PODフィルムがPBBOフィルムである他は、実施例
7と同様にして、グラファイトを得た。Example 12 Graphite was obtained in the same manner as in Example 7 except that the POD film was a PBBO film.
実施例13
PODフィルムがPTフィルムである他は、実施例7と
同様にして、グラフ1イトを得た。Example 13 A graphite was obtained in the same manner as in Example 7 except that the POD film was a PT film.
実施例14
厚み50#m、表面粗さ0.1 # mのPODフ4A
tム20枚を積層し実施例1と同様にして炭素賞を得た
。得られた炭素質素材をアルゴン気流中で、50kg/
dの圧力をかはながら3000℃で熱処理を行い、グラ
ファイトを得た。Example 14 POD film 4A with a thickness of 50 #m and a surface roughness of 0.1 #m
A carbon prize was obtained in the same manner as in Example 1 by laminating 20 sheets of TM. The obtained carbonaceous material was heated to 50 kg/kg in an argon stream.
A heat treatment was performed at 3000° C. while maintaining a pressure of d to obtain graphite.
実施例15
PODフィルムの表面粗さが0.5 tt mである他
は、実施例14と同様にして、グラファイトを得た。Example 15 Graphite was obtained in the same manner as in Example 14, except that the surface roughness of the POD film was 0.5 tt m.
実施例16
PODフィルムの表面粗さが5μmである他は、実施例
14と同様にして、グラファイトを得た。Example 16 Graphite was obtained in the same manner as in Example 14, except that the surface roughness of the POD film was 5 μm.
比較例1
芳香族ポリアミドフィルムの表面粗さが25mである他
は、実施例1と同様にして、グラファイトを得た。Comparative Example 1 Graphite was obtained in the same manner as in Example 1, except that the surface roughness of the aromatic polyamide film was 25 m.
比較例2
芳香族ポリイミドフィルムの表面粗さが5μmである他
は、実施N4と同様にして、グラファイトを得た。Comparative Example 2 Graphite was obtained in the same manner as in Example N4, except that the surface roughness of the aromatic polyimide film was 5 μm.
比較例3
PODフィルムの表面粗さが10.umである他は、実
施例14と同様にして、グラファイトを得た。Comparative Example 3 The surface roughness of POD film was 10. Graphite was obtained in the same manner as in Example 14, except that um was used.
実施例および比較例の格子定数、黒鉛化率、ロッキング
特性をそれぞれ第1表に示す。The lattice constants, graphitization rates, and rocking properties of Examples and Comparative Examples are shown in Table 1, respectively.
以下余白
各実施例のグラファイトはいずれも良好なロッキング特
性である。実施例1と比較例11実施例4と比較例2、
および、実施例14と比較例3を比べてみれば、フィル
ム表面粗さがフィルム厚みのlO%以下であれば、ロッ
キング特性が十分であることがよく分かる。The graphite of each example below has good locking properties. Example 1 and Comparative Example 11 Example 4 and Comparative Example 2,
Comparing Example 14 and Comparative Example 3, it is clear that the rocking properties are sufficient when the film surface roughness is 10% or less of the film thickness.
発明の効果
以上の述べたように、この発明にかかるグラファイトの
製造方法では、フィルム表面粗さがフィルム厚みの10
%以下の高分子フィルムを用いるようにしているため、
優れたロッキング特性のグラファイトが得られる。Effects of the Invention As stated above, in the method for producing graphite according to the present invention, the film surface roughness is 10% of the film thickness.
% or less of polymer film,
Graphite with excellent rocking properties is obtained.
Claims (2)
子フィルムを複数枚積層し、加圧熱処理するようにする
グラファイトの製造方法。(1) A method for producing graphite in which a plurality of polymer films having a surface roughness of 10% or less of the film thickness are laminated and subjected to pressure heat treatment.
ゾール、ポリイミド、ポリベンゾチアゾール、ポリベン
ゾビスチアゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリベン
ゾビスオキサゾール、ポリ(ピロメリットイミド)、ポ
リフェニレンインフタロアミド、ポリフェニレンベンゾ
イミダゾール、ポリフェニレンベンゾビスイミダゾール
、ポリチアゾールのうちの少なくともひとつからなる請
求項1記載のグラファイトの製造方法。(2) The polymer film is polyamide, polyoxadiazole, polyimide, polybenzothiazole, polybenzobisthiazole, polybenzoxazole, polybenzobisoxazole, poly(pyromellitimide), polyphenylene inphthalamide, polyphenylene benzimidazole 2. The method for producing graphite according to claim 1, comprising at least one of polyphenylenebenzobisimidazole, polythiazole, and polythiazole.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1290204A JPH03150216A (en) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | Production of graphite |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1290204A JPH03150216A (en) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | Production of graphite |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03150216A true JPH03150216A (en) | 1991-06-26 |
Family
ID=17753102
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1290204A Pending JPH03150216A (en) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | Production of graphite |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03150216A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017024972A (en) * | 2015-07-16 | 2017-02-02 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Graphite plate and manufacturing method therefor |
-
1989
- 1989-11-08 JP JP1290204A patent/JPH03150216A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2017024972A (en) * | 2015-07-16 | 2017-02-02 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Graphite plate and manufacturing method therefor |
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