JPH03146530A - Coated synthetic resin molded product and its preparation - Google Patents

Coated synthetic resin molded product and its preparation

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JPH03146530A
JPH03146530A JP1287139A JP28713989A JPH03146530A JP H03146530 A JPH03146530 A JP H03146530A JP 1287139 A JP1287139 A JP 1287139A JP 28713989 A JP28713989 A JP 28713989A JP H03146530 A JPH03146530 A JP H03146530A
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synthetic resin
resin molded
molded article
coupling agent
silicon oxide
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畠澤 剛信
Hirota Fujinawa
藤縄 比呂他
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Abstract

PURPOSE:To prepare the subject molded product having excellent adhesivity to a silicon oxide coating film, excellent surface hardness and weather resistance and useful as a substrate for photomagnetic disks by forming a silicon oxide coating film on a primer layer and subsequently irradiating the coated surface with electron rays. CONSTITUTION:A primer layer comprising the thin film of at least one coupling agent selected from a silane coupling agent and a titanium coupling agent is formed on the surface of a synthetic resin molded product and a silicon oxide coating film is formed on the primer layer, followed by irradiating the coating layer with electron rays to provide the objective molded product. The synthetic resin molded product is preferably a polycarbonate resin molded product.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野1 本発明は、酸化ケイ素被膜を形成した被覆合成樹脂成形
体に関し、さらに詳しくは、酸化ケイ素被膜の密着性に
優れ、耐摩耗性、耐候性、耐薬品性などの表面状態が改
善された被覆合成樹脂成形体およびその製造法に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field 1] The present invention relates to a coated synthetic resin molded article having a silicon oxide coating formed thereon, and more specifically, the silicon oxide coating has excellent adhesion, wear resistance, and weather resistance. , relates to a coated synthetic resin molded article with improved surface conditions such as chemical resistance, and a method for producing the same.

[従来の技術] 合成樹脂成形体の表面を改質するために、二酸化ケイ素
などの酸化物や金属窒化物等で被覆する技術は公知であ
る。
[Prior Art] In order to modify the surface of a synthetic resin molded body, a technique of coating it with an oxide such as silicon dioxide, a metal nitride, or the like is known.

従来、酸化物膜等を被覆する方法としては、真空蒸着、
スパッタ、イオンブレーティング、プラズマCVDなと
各種の方法が知られているが、これらの被膜形成法では
、特別の設備を要したり、大型成形体や複雑な形状の成
形体表面に被膜を形成することが困難であるなどの難点
を有している。また、合成樹脂成形体と被膜との密着性
が不充分であるという問題がある。
Conventionally, methods for coating oxide films, etc., include vacuum evaporation,
Various methods are known, such as sputtering, ion blasting, and plasma CVD, but these film forming methods require special equipment or are difficult to form on the surface of large molded bodies or molded bodies with complex shapes. It has some disadvantages, such as the fact that it is difficult to do so. Another problem is that the adhesion between the synthetic resin molded body and the coating is insufficient.

最近、二酸化ケイ素被膜を直接合成樹脂成形体表面に被
覆するのではなく、予め合成樹脂成形体表面に付着性良
好なケイ素含有被膜を第1次被膜(プライマー)として
被覆し、さらにその上に該第1次被膜と付着性良好な二
酸化ケイ素被膜を作成する方法が提案されている(特開
昭61−12734号公報)。すなわち、この方法は、
合成樹脂成形体に、下記−数式で示されるケイ素化合物
、それらの加水分解物、およびコロイダルシリカからな
る群より選ばれた少なくとも1種のケイ素化合物を被覆
・硬化させて第1次被膜とした後、該第1次被膜つき合
成樹脂成形体と二酸化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化
水素酸溶液とを接触させて第1次被膜上に二酸化ケイ素
被膜を形成させることを特徴とする被覆合成樹脂成形体
の製造方法である。
Recently, instead of directly coating the surface of a synthetic resin molded body with a silicon dioxide film, a silicon-containing film with good adhesion is coated on the surface of the synthetic resin molded body in advance as a primary film (primer), and then the silicon dioxide film is coated on top of that. A method for creating a silicon dioxide film that has good adhesion to the primary film has been proposed (Japanese Unexamined Patent Publication No. 12734/1983). That is, this method:
After coating and curing the synthetic resin molded article with at least one silicon compound selected from the group consisting of silicon compounds represented by the following formula, their hydrolysates, and colloidal silica to form a primary coating. A coated synthetic resin molded article, characterized in that the synthetic resin molded article with the primary coating is brought into contact with a supersaturated hydrofluorosilicic acid solution of silicon dioxide to form a silicon dioxide coating on the primary coating. This is a manufacturing method.

R’nS 1 (R2)4−n (式中R1は炭素数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メ
タクリロキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基
、フッ素または塩素を有する有機基であり、R2はアル
コキシ基、アルコキシアルコキシ基、アセトキシ基およ
び塩素元素から選ばれる1種もしくは、複数の結合基で
あり、nはO〜4である。) この方法によれば、前記従来法と比較して耐久性のよい
被膜を得ることができ、しかも塗布浸漬法を使用するこ
とができるため、大型形状あるいは複雑な形状の合成樹
脂成形体にも適用可能である。しかしながら、この方法
では、二酸化ケイ素被膜とプライマーとの密着性は良い
けれども、合成樹脂成形体とプライマーとの密着性はな
お不充分である。その理由は、プライマーとして使用す
る前記ケイ素化合物と合成樹脂成形体との間に強固な化
学的結合がほとんど形成されないためであると推定され
る。そのために、前記方法では、二酸化ケイ素被膜の合
成樹脂成形体に対する密着性は未だ充分ではない。
R'nS 1 (R2)4-n (wherein R1 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a vinyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or chlorine, R2 is one or more bonding groups selected from an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, an acetoxy group, and a chlorine element, and n is O-4.) According to this method, compared to the conventional method, Since a coating with good durability can be obtained and a coating/dipping method can be used, it can also be applied to synthetic resin molded articles of large or complex shapes. However, in this method, although the adhesion between the silicon dioxide film and the primer is good, the adhesion between the synthetic resin molded article and the primer is still insufficient. The reason for this is presumed to be that almost no strong chemical bond is formed between the silicon compound used as a primer and the synthetic resin molded article. Therefore, in the method described above, the adhesion of the silicon dioxide coating to the synthetic resin molded article is still not sufficient.

また、上記のような析出法で得られた二酸化ケイ素被膜
には、数%程度の水が含まれており、未結合の5i−O
Hも数%程度残存しているため、アセトン等の有機溶剤
に対する耐性が不充分な場合がある。
In addition, the silicon dioxide film obtained by the above precipitation method contains about several percent of water, and unbonded 5i-O
Since several percent of H also remains, resistance to organic solvents such as acetone may be insufficient.

ところで、合成樹脂成形体の中でも、ポリカーボネート
樹脂成形体は、透明で耐衝撃性に優れ。
By the way, among synthetic resin moldings, polycarbonate resin moldings are transparent and have excellent impact resistance.

かつ胴部性がよいけれども、表面が傷つき摩耗し易く、
また、アルカリに侵されやすいという欠、−’5゜を有
している。従来、各種の表面硬化コーティング、去が提
案されているが、表□に強力な極性基をもつ官姥基がな
いため接着性が不充分であり、酸化ケイ素系摸との密着
性が強固な被覆ポリカーボネート樹脂成形体は得られて
いない。
Although the body has good properties, the surface is easily scratched and worn.
It also has the disadvantage of being easily attacked by alkali, -'5°. Conventionally, various surface hardening coatings and coatings have been proposed, but because the surface does not have a strong polar group, the adhesion is insufficient, and the adhesion with silicon oxide is not strong. A coated polycarbonate resin molded article was not obtained.

さらに、エンジニアリングプラスチックとして、例えば
、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリエー
テルエーテルケトン、ポリイミドなど多くのポリマーが
開発され、実用化されているが、それらのポリマーから
なる合成樹脂成形体を酸化ケイ素被膜で被覆して、表面
を改質するための改善された方法は提案されていない。
Furthermore, many polymers such as polyethylene terephthalate, polyamide, polyetheretherketone, and polyimide have been developed and put into practical use as engineering plastics, but synthetic resin molded bodies made of these polymers are coated with a silicon oxide film. Therefore, no improved method for surface modification has been proposed.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明の目的は、密着性に優れた酸化ケイ素被膜を有す
る被覆合成樹脂成形体を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a coated synthetic resin molded article having a silicon oxide coating with excellent adhesion.

また、本発明の目的は、耐摩耗性、耐候性、耐薬品性な
どの表面状態が改善された酸化ケイ素被覆合成樹脂成形
体を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a silicon oxide-coated synthetic resin molded article with improved surface conditions such as abrasion resistance, weather resistance, and chemical resistance.

本発明者らは、前記従来技術の有する問題点を克眼する
ために鋭意研究した結果、シラン系カップリング剤によ
る通常のプライマー処理では、合成樹脂成形体と有機シ
ラン化合物との間に、せいぜい極性基間の静電気的引力
が働いているだけであって、強力な結合が生じていない
ため、両者間の密着性が悪いことを見出した。
As a result of intensive research to overcome the problems of the above-mentioned conventional techniques, the present inventors have found that in normal primer treatment using a silane coupling agent, at best there is It was discovered that the adhesion between the polar groups was poor because only the electrostatic attraction between the polar groups was acting and no strong bond was formed.

そこで、さらに研究を進めた結果、合成樹脂成形体表面
にシラン系カップリング剤またはチタン系カップリング
剤による薄膜を形成した後、酸化ケイ素被覆を形成し、
これらの被覆層の上から電子線を照射すると、合成樹脂
成形体との間に化学結合が効率よく形成されたプライマ
ー層とすることができ、かつ、カップリング剤が加水分
解等の特別の処理をしなくても、酸化ケイ素被膜との密
着性が充分なプライマー層を形成することを見出した。
Therefore, as a result of further research, we formed a thin film of a silane coupling agent or a titanium coupling agent on the surface of the synthetic resin molding, and then formed a silicon oxide coating.
By irradiating the top of these coating layers with electron beams, it is possible to form a primer layer in which chemical bonds are efficiently formed between the coating layer and the synthetic resin molded article, and the coupling agent can be treated with special treatment such as hydrolysis. It has been found that a primer layer with sufficient adhesion to the silicon oxide film can be formed even without this.

しかも、電子線照射により残存水分や5L−OH結合の
ない酸化ケイ素被膜が得られ、耐溶剤性も向上すること
を見出した。
Moreover, it has been found that by electron beam irradiation, a silicon oxide film free of residual moisture and 5L-OH bonds can be obtained, and the solvent resistance is also improved.

本発明は、これらの知見に基づいて完成するに至ったも
のである。
The present invention has been completed based on these findings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

すなわち、本発明の要旨は、次のとおりである。 That is, the gist of the present invention is as follows.

(1)  (A)合成樹脂成形体の表面に、(B)シラ
ン系カップリング剤およびチタン系カップリング剤から
選ばれる少なくとも1種のカップリング剤の薄膜からな
るプライマー層、および(C)酸化ケイ素被膜をこの順
に形成し、かつ、酸化ケイ素被膜の上から電子線を照射
してなることを特徴とする被覆合成樹脂成形体。
(1) (A) A primer layer consisting of a thin film of at least one coupling agent selected from silane coupling agents and titanium coupling agents, and (C) oxidation, on the surface of the (A) synthetic resin molded body. A coated synthetic resin molded article characterized in that a silicon coating is formed in this order and an electron beam is irradiated onto the silicon oxide coating.

(2) 合成樹脂成形体の表面にシラン系カップリング
剤およびチタン系カップリング剤から選ばれる少なくと
も1種のカップリング剤の薄膜からなるプライマー層を
形成した後、該プライマー層上に酸化ケイ素被膜を形成
させ、次いで、電子線を照射することを特徴とする被覆
合成樹脂成形体の製造法。
(2) After forming a primer layer consisting of a thin film of at least one coupling agent selected from silane coupling agents and titanium coupling agents on the surface of the synthetic resin molding, a silicon oxide coating is formed on the primer layer. 1. A method for producing a coated synthetic resin molded article, which comprises forming a coated synthetic resin molded article, and then irradiating it with an electron beam.

以下、本発明の各構成要素について説明する。Each component of the present invention will be explained below.

(合成樹脂成形体) 本発明で使用する合成樹脂成形体としては、例えば、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ
メチルメタクリレート、ポリアミド、ポリアセタール、
ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、全芳香族ポリ
エステル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリフェニレンスルフィドケトンなどの熱可塑
性樹脂、エポキシ樹脂、ポリジエチレングリコールビス
アリルカーボネート、フェノール樹脂、ポリウレタンな
どを挙げることができる。
(Synthetic resin molded product) Examples of the synthetic resin molded product used in the present invention include polyvinyl chloride, polystyrene, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyamide, polyacetal,
Thermoplastic resins such as polyetherketone, polyimide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, fully aromatic polyester, polyetherketone, polyetheretherketone, polyphenylene sulfide ketone, epoxy resin, polydiethylene glycol bisallyl carbonate, phenolic resin, polyurethane, etc. can be mentioned.

これらの中でも特に、繰り返し単位中にカルボニル結合
を有するポリマーを主体とする成形体が好適に使用でき
る。カルボニル結合を有するポリマーとは、ケトン基の
みならず、酸アミド結合、エステル結合など分子構造中
に(> C= O)結合を有するポリマーを意味する。
Among these, molded articles mainly composed of polymers having carbonyl bonds in repeating units can be particularly preferably used. A polymer having a carbonyl bond means a polymer having not only a ketone group but also a (>C=O) bond in the molecular structure such as an acid amide bond or an ester bond.

その中でも、ジヒドロキシジアリール化合物とホス′ゲ
ンとを反応させるホスゲン法、あるいはジヒドロキシジ
アリール化合物とジフェニルカーボネートなどの炭酸エ
ステルとを反応させるエステル交換法によって得られる
ポリカーボネート樹脂が好ましく用いることができる。
Among these, polycarbonate resins obtained by the phosgene method, in which a dihydroxydiaryl compound and phosgene are reacted, or the transesterification method, in which a dihydroxydiaryl compound and a carbonate ester such as diphenyl carbonate are reacted, are preferably used.

これらのポリマーは、それぞれ単独または2種以上をブ
レンドして用いる。
These polymers are used alone or in combination of two or more.

また、合成樹脂成形体の形状は特に限定されず、大型品
から複雑な形状を有するものまで任意の形状の成形体が
使用できる。
Further, the shape of the synthetic resin molded product is not particularly limited, and molded products of any shape can be used, from large products to those with complicated shapes.

(カップリング剤) シラン系カップリング剤としては、ビニル基、メタクリ
ロキシ基、エポキシ基、アミノ基またはイソシアネート
基を含有する汎用のシラン系カップリング剤がある。
(Coupling Agent) Examples of the silane coupling agent include general-purpose silane coupling agents containing a vinyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, an amino group, or an isocyanate group.

その中でも、下記−数式[I]および[rllで示され
る有機シラン化合物が好適に使用できる。
Among these, organic silane compounds represented by the following formulas [I] and [rll] can be preferably used.

Xn5iY4−n           []〔ただし
、Xはビニル基、メタクリロキシ基、エポキシ基、アミ
ノ基またはイソシアネート基を有する炭素数1〜10の
炭化水素基、Yはアルコキシ基、アルコキシアルコキシ
基、アセトキシ基または水酸基を有する炭素数1〜10
の炭化水素基、nは1〜3の整数である。〕 具体的には、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−インシア
ネートブロビルトリメトキシシラン、γ−イソシアネー
トプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプ
ロピルメチルジメトキシシラン、グリシドキシプロビル
トリメトキシシラン、グリシドキシプロビルトリエトキ
シシラン、グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン
、グリシドキシプロビルメチルジメトキシシラン、グリ
シドキシプロビルメチルジェトキシシラン、グリシドキ
シプロビルエチルジメトキシシラン、グリシドキシプロ
ビルエチルジェトキシシラン、グリシドキシプロビルブ
チルジメトキシシラン、グリシドキシプロビルブチルジ
ェトキシシラン、2− (2,3−エポキシシクロヘキ
シル)エチルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエ
チル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−
アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン
、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、N−フェ
ニルアミノメチルトリメトキシシラン、N−(トリエト
キシシリルプロビル)尿素、アミノメチルトリエトキシ
シラン、N−(β−アミノエチル)アミノメチルトリメ
トキシシラン、アミノメチルジェトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエト
キシ)シラン、ビニルアセトキシシラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン、等が挙げられる。
Xn5iY4-n [] [wherein, carbon number 1-10
is a hydrocarbon group, n is an integer of 1 to 3. ] Specifically, γ-aminopropyltriethoxysilane,
γ-Aminopropyltrimethoxysilane, γ-Incyanatobrobyltrimethoxysilane, γ-Isocyanatepropyltriethoxysilane, γ-Isocyanatepropylmethyldimethoxysilane, Glycidoxypropyltrimethoxysilane, Glycidoxypropyltriethoxy Silane, Glycidoxypropyltripropoxysilane, Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, Glycidoxypropylmethyljethoxysilane, Glycidoxypropylethyldimethoxysilane, Glycidoxypropylethyljethoxysilane, Glycid Xypropylbutyldimethoxysilane, glycidoxypropylbutyljethoxysilane, 2-(2,3-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, γ-(2 −
aminoethyl)aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, N-phenylaminomethyltrimethoxysilane, N-(triethoxysilylprobyl)urea, aminomethyltriethoxysilane, N-(β-amino ethyl)aminomethyltrimethoxysilane, aminomethyljethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(β-methoxyethoxy)silane, vinylacetoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. can be mentioned.

R,、、Si (OOR′)、     [II]〔式
中、Rは炭素数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メタク
リロキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フ
ッ素または塩素を有する有機基であり、R′はアルキル
基、アシル基、アリールアルキル基から選ばれる1種も
しくは複数の結合基であり、nは1〜4の整数である。
R, , Si (OOR'), [II] [wherein R is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a vinyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or chlorine R' is one or more bonding groups selected from an alkyl group, an acyl group, and an arylalkyl group, and n is an integer of 1 to 4.

〕具体的には、例えば、ビニルトリス(t−ブチルパー
オキシ)シラン、ビニルトリス(キュメンバーオキシ)
シラン、ビニルトリス(アセチルパーオキシ)シラン、
ビニルトリス(ベンゾイルパーオキシ)シラン、ビニル
トリス(ラウロイルパーオキシ)シラン、γ−グリシド
キシプロピルトリス(t−ブチルパーオキシ)シラン、
γ−グリシドキシプロビルトリス(キュメンバーオキシ
)シラン、γ−グリシドキシプロピルトリス(アセチル
パーオキシ)シラン、γ−グリシドキシプロビルトリス
(ベンゾイルパーオキシ)シラン、γ−グリシドキシプ
ロビルトリス(ラウロイルパーオキシ)シラン、γ−メ
タクリロキシプロピルトリス(t−ブチルパーオキシ)
シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリス(キュメン
バーオキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリ
ス(アセチルパーオキシ)シラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリス(ベンゾイルパーオキシ)シラン、γ−
メタクリロキシプロピルトリス(ラウロイルパーオキシ
)シランなどを挙げることができる。
] Specifically, for example, vinyltris(t-butylperoxy)silane, vinyltris(cumene oxy)
Silane, vinyltris(acetylperoxy)silane,
Vinyltris(benzoylperoxy)silane, vinyltris(lauroylperoxy)silane, γ-glycidoxypropyltris(t-butylperoxy)silane,
γ-glycidoxypropyltris(cumemberoxy)silane, γ-glycidoxypropyltris(acetylperoxy)silane, γ-glycidoxypropyltris(benzoylperoxy)silane, γ-glycidoxypropyltris(benzoylperoxy)silane Viltris(lauroylperoxy)silane, γ-methacryloxypropyltris(t-butylperoxy)
Silane, γ-methacryloxypropyltris(cumemberoxy)silane, γ-methacryloxypropyltris(acetylperoxy)silane, γ-methacryloxypropyltris(benzoylperoxy)silane, γ-
Examples include methacryloxypropyltris(lauroylperoxy)silane.

チタン系カップリング剤としては、例えば、イソプロピ
ルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ
オクタノイルチタネート、イソプロピルイソステアロイ
ルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(N−アミ
ノエチル−アミノエチル)チタネート、テトラオクチル
ビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、イソプ
ロピルトリクミルフェニルチタネート、トリエタノール
アミンチタネート、チタニウムアセチルアセトネート、
チタニウムエチルアセテート、チタニウムラクテートな
どが挙げられる。
Examples of titanium-based coupling agents include isopropyltriisostearoyltitanate, isopropyltrioctanoyltitanate, isopropylisostearoyldiacryltitanate, isopropyltri(N-aminoethyl-aminoethyl)titanate, and tetraoctylbis(ditridecylphosphite). ) titanate, isopropyl tricumylphenyl titanate, triethanolamine titanate, titanium acetylacetonate,
Examples include titanium ethyl acetate and titanium lactate.

これらのカップリング剤は、それぞれ単独で、あるいは
複数種組み合わせて用いることができる。
These coupling agents can be used alone or in combination.

(プライマー層の形成方法) カップリング からなる 合成樹脂成形体の表面にカップリング剤からなる薄膜を
形成するには、カップリング剤をメタノール、エタノー
ル、イソプロパツール、イソブタノールなどのアルコー
ル類に溶解させ、その溶液を合成樹脂成形体にスピンコ
ード法、浸漬性、吹付は法等により塗布した後、乾燥さ
せて溶剤を除去すればよい。大室または複雑な形状の合
成樹脂成形体の場合には、浸漬法が好ましい。
(Method of forming a primer layer) To form a thin film of a coupling agent on the surface of a synthetic resin molded article, the coupling agent is dissolved in an alcohol such as methanol, ethanol, isopropanol, or isobutanol. The solution may be applied to a synthetic resin molded article by a spin cord method, dipping method, spraying method, etc., and then dried to remove the solvent. In the case of synthetic resin molded articles with large chambers or complex shapes, the dipping method is preferred.

溶、・夜中のカップリング剤の濃度は、適宜定め得るが
塗!5タカ率から旦で、通常、0.1〜5重量%の溶液
とすることが好ましい。また、塗布後の乾燥は、室温ま
たは乾燥機中で行なう。室温の場合は、約1〜2時間、
風乾させ、また、加熱する場合には、熱風乾燥機中など
で昇温条件下、例えば、90℃程度では約1〜2時間程
度乾燥させる。これらの乾燥条件は、当業者であれば適
宜選択することができる。
The concentration of the coupling agent during the night can be determined as appropriate, but apply! The solution is usually 0.1 to 5% by weight, preferably from 5 taka to 500 taka. Further, drying after application is performed at room temperature or in a dryer. At room temperature, about 1 to 2 hours,
It is air-dried, and if it is heated, it is dried in a hot-air dryer or the like under elevated temperature conditions, for example, at about 90° C., for about 1 to 2 hours. These drying conditions can be appropriately selected by those skilled in the art.

光 ケイ素  の〉′ プライマー処理の後、カップリング剤の薄膜上に酸化ケ
イ素被膜を形成させる。
After photo-silicon priming, a silicon oxide film is formed on the thin film of the coupling agent.

酸化ケイ素被膜としては、5iftやSt○などのSi
n、(2≧X≧1)、SiA[ONなどのSi系酸化物
被膜であれば従来公知のものが適用可能である。被膜の
形成方法としては、蒸着、スパッタ、プラズマCVD法
、液相成長など通常の手段が採用できる。
As the silicon oxide film, Si such as 5ift and St○ are used.
Conventionally known Si-based oxide films such as n, (2≧X≧1), SiA[ON, etc. can be applied. As a method for forming the film, usual methods such as vapor deposition, sputtering, plasma CVD, and liquid phase growth can be employed.

酸化ケイ素被膜の中でも、二酸化ケイ素の被膜が好まし
い。前記プライマー処理を行なったプライマー層上に二
酸化ケイ素の被膜を形成する方法としては、シランガス
を用いたCVD法、石英板をターゲットとしたスパッタ
法、有機ケイ素化合物の有機溶媒を用いたディッピング
法、または二酸化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化水素
酸溶液中に浸漬し、二酸化ケイ素被膜を析出させる析出
法などがある。この中では析出法が作業が簡単で、しか
も均一な被膜を形成することができるため好ましい。
Among silicon oxide coatings, silicon dioxide coatings are preferred. Methods for forming a silicon dioxide film on the primer layer subjected to the primer treatment include a CVD method using silane gas, a sputtering method using a quartz plate as a target, a dipping method using an organic solvent of an organosilicon compound, or There is a precipitation method in which silicon dioxide is immersed in a supersaturated hydrofluorosilicic acid solution to deposit a silicon dioxide film. Among these, the precipitation method is preferred because it is easy to work with and can form a uniform film.

この析出法については、特開昭61−12734号公報
に詳細に開示されている公知の方法が適用できる。二酸
化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶ン夜とは、
ケイフッ化水素酸溶液に二酸化ケイ素(シリカゲル、エ
アロジル、シリカガラス、その他二酸化ケイ素含有物な
ど)を溶解させた後、水または試薬(ホウ酸、塩化アル
ミニウムなど)を添加し、二酸化ケイ素の過飽和状態と
したものである。この処理液にプライマー処理した合成
樹脂成形体を接触させればよい。接触は、合成樹脂成形
体を処理液中に浸漬するか成形体表面に処理液を流下さ
せるなどの方法があるが、均一な被膜を形成するために
は浸漬法が好ましい。
As for this precipitation method, a known method disclosed in detail in JP-A-61-12734 can be applied. What is supersaturated hydrofluorosilicic acid solution of silicon dioxide?
After dissolving silicon dioxide (silica gel, aerosil, silica glass, other silicon dioxide-containing materials, etc.) in a hydrofluorosilicic acid solution, water or a reagent (boric acid, aluminum chloride, etc.) is added to the supersaturated state of silicon dioxide. This is what I did. The primer-treated synthetic resin molded body may be brought into contact with this treatment liquid. The contact may be carried out by immersing the synthetic resin molded body in the treatment liquid or by allowing the treatment liquid to flow down onto the surface of the molded body, but the immersion method is preferable in order to form a uniform coating.

処理液中のケイフッ化水素酸の濃度は、1〜2モル/氾
が好ましく、特に2モル/I2より濃いケイフッ化水素
酸水溶液に二酸化ケイ素を飽和させた後、水で希釈して
1〜2モル/忍の濃度としたものが、被膜形成速度が早
く、効率よく被覆が行なえるので望ましい。過飽和状態
とするためにホウ酸を添加する場合の添加量は、処理液
中のケイフッ化水素酸1モルに対してlXl0−”〜4
0X10−”モル、好ましくは1.2X10−”〜1o
x11”モルの範囲であることが、速く均質な被膜を形
成する上で望ましい。
The concentration of hydrofluorosilicic acid in the treatment solution is preferably 1 to 2 mol/I, particularly after saturating silicon dioxide in an aqueous solution of hydrofluorosilicic acid that is more concentrated than 2 mol/I2, diluted with water to give a concentration of 1 to 2 mol/I. A concentration of mol/min is desirable because the film formation rate is fast and coating can be carried out efficiently. When adding boric acid to create a supersaturated state, the amount added is 1X10-" to 4% per mole of hydrofluorosilicic acid in the treatment solution.
0 x 10-" moles, preferably 1.2 x 10-" to 1 o
A range of x11" moles is desirable for forming a fast and homogeneous coating.

合成樹脂成形体を処理液に浸漬中、連続的にホウ酸水溶
液を添加混合し、また、処理液を循環させ、フィルター
で濾過することが、均質な被膜を効率よく得るために好
ましい。二酸化ケイ素の供締源としてシリカゲルを使用
する場合には、孔径1.5μm以下のフィルターが、そ
の他シリカガラスなどを用いた場合には、孔径10um
以下のフィルターが好ましい。
In order to efficiently obtain a homogeneous film, it is preferable to continuously add and mix the boric acid aqueous solution while the synthetic resin molded body is immersed in the treatment liquid, and to circulate the treatment liquid and filter it with a filter. When using silica gel as a source of silicon dioxide, a filter with a pore size of 1.5 μm or less is used, and when using other materials such as silica glass, a filter with a pore size of 10 μm is used.
The following filters are preferred.

また、処理液を浸漬槽に入れて、合成樹脂成形体と接触
させる場合には、浸漬中の成形体表面において、処理液
が層流となって流れるようにすることが、むらのない均
質な被膜を形成するために好ましい。
In addition, when placing the treatment liquid in an immersion tank and bringing it into contact with a synthetic resin molded article, it is important to allow the treatment liquid to flow in a laminar flow on the surface of the molded article during immersion to ensure an even and homogeneous flow. Preferred for forming a film.

二酸化ケイ素などの酸化ケイ素被膜の膜厚は、使用目的
に応じて適宜窓めることができるが、通常、数100人
〜数1,000人程度で表面改質の目的を達成すること
ができる。
The thickness of a silicon oxide film such as silicon dioxide can be adjusted as appropriate depending on the purpose of use, but the purpose of surface modification can usually be achieved with a coating of several hundred to several thousand. .

監玉毘立盟1 本発明では、合成樹脂成形体の表面にカップリング剤か
らなる薄膜および酸化ケイ素被膜を順次形成し、次いで
電子線を照射する。電子線照射により、合成樹脂成形体
とカップリング剤薄膜との間に化学結合が形成されるち
のと推定される。
In the present invention, a thin film made of a coupling agent and a silicon oxide film are sequentially formed on the surface of a synthetic resin molded body, and then an electron beam is irradiated. It is presumed that chemical bonds are formed between the synthetic resin molded body and the coupling agent thin film due to the electron beam irradiation.

電子線照射は、通常、0.05〜10Mrad/S程度
の線量率で、アルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気中で
、照射する。線量は、合戒嘲指の種類によって変化する
が、0.5〜数十M r a dの範囲で、合成樹脂表
面層を分解ないしは劣化させない範lとし、ポリカーボ
ネートでは、A ”f、10Mrad以下が好ましい。
The electron beam irradiation is usually performed at a dose rate of about 0.05 to 10 Mrad/S in an atmosphere of an inert gas such as argon gas. The dose varies depending on the type of material, but it should be in the range of 0.5 to several tens of Mrad, which does not decompose or deteriorate the synthetic resin surface layer, and for polycarbonate, A''f, 10 Mrad or less. is preferred.

なお、予め電子線照射および被覆試験を行なうことによ
り、当業者であれば、樹脂の種類に応じて線量の好まし
い範囲を適宜選択することができる。
In addition, by performing electron beam irradiation and a coating test in advance, those skilled in the art can appropriately select a preferable range of the dose depending on the type of resin.

電子線を照射することにより、カップリング剤と合成樹
脂成形体との間に化学結合が生じて、カップリング剤の
薄膜と合成樹脂成形体表面との間に強固な結合が生じる
。また、カップリング剤薄膜と酸化ケイ素被膜との間の
密着性は良好である。
By irradiating the electron beam, a chemical bond is generated between the coupling agent and the synthetic resin molded body, and a strong bond is generated between the thin film of the coupling agent and the surface of the synthetic resin molded body. Further, the adhesion between the coupling agent thin film and the silicon oxide film is good.

炬月 従来のシラン系カップリング剤などのケイ素化合物によ
るプライマー処理では、プライマー(第1次被覆層)と
合成樹脂成形体表面との間に強固な化学結合は生じてい
ない。
In the conventional primer treatment using a silicon compound such as a silane coupling agent, no strong chemical bond is formed between the primer (first coating layer) and the surface of the synthetic resin molded article.

シラン系カップリング剤で処理した後、熱処理を行なっ
ても、合成樹脂成形体との間に化学結合が形成されるの
はごく一部であって、密着性が不充分であり、しかも熱
処理法では熱伝導効率が悪く、かつ、合成樹脂成形体に
熱による応力が発生するという問題がある。
Even if heat treatment is performed after treatment with a silane coupling agent, only a small portion of chemical bonds are formed with the synthetic resin molding, and adhesion is insufficient. However, there are problems in that the heat conduction efficiency is poor and stress is generated in the synthetic resin molded body due to heat.

また、通常のシラン系カップリング剤によるプライマー
処理では、酸化ケイ素被膜との密着性を向上させるため
に、基材に塗布する前に、アルコキシ基などを加水分解
して水酸基に変える必要があった。そして、プライマー
分子同士の結合性も弱いものであった。
Additionally, in primer treatment using a normal silane coupling agent, in order to improve adhesion to the silicon oxide film, it is necessary to hydrolyze alkoxy groups and convert them into hydroxyl groups before applying to the base material. . Furthermore, the binding properties between the primer molecules were also weak.

これに対し、合成樹脂成形体の表面にカップリング剤の
薄膜(プライマー層)および酸化ケイ素被膜を形成した
後、電子線を照射すると、合成樹脂成形体とプライマー
のカップリング剤との間に化学結合が生じて、両者が強
固に結合する。合成樹脂成形体としては、カルボニル結
合(〉C=O)を有するポリマーを主体とする成形体が
特に効果的である。
On the other hand, when a thin film of coupling agent (primer layer) and a silicon oxide film are formed on the surface of a synthetic resin molded body and then irradiated with an electron beam, a chemical reaction occurs between the synthetic resin molded body and the coupling agent of the primer. Bonding occurs and the two are firmly bonded. As the synthetic resin molded product, a molded product mainly composed of a polymer having a carbonyl bond (>C═O) is particularly effective.

また、プライマー層および酸化ケイ素被膜を順次形成し
た後、電子線を照射するため、酸化ケイ素被膜とプライ
マー層との間の結合も同時に強固なものとして形成する
ことが可能である。さらに、前記析出法などによる酸化
ケイ素被膜の形成において残存する水分を電子線照射エ
ネルギーで除去することができるため、酸化ケイ素被膜
の表面を強固なSin、膜とし、耐溶剤性を向上させる
ことができる。
Further, since the primer layer and the silicon oxide film are sequentially formed and then irradiated with electron beams, it is possible to simultaneously form a strong bond between the silicon oxide film and the primer layer. Furthermore, since moisture remaining in the formation of a silicon oxide film by the above-mentioned precipitation method can be removed by electron beam irradiation energy, the surface of the silicon oxide film can be made into a strong Si film and its solvent resistance can be improved. can.

電子線照射法によると、■エネルギーは、個々の電子が
もっているので、加速電圧を操作することにより、容易
にエネルギー量を制御することができ、また、■高エネ
ルギ一体であるため、合成樹脂成形体とプライマー間の
反応部所への到達が容易であるため、短時間で、確実に
両者間に化学結合が形成される。
According to the electron beam irradiation method, ■Energy is contained in each individual electron, so the amount of energy can be easily controlled by manipulating the accelerating voltage, and ■Since high energy is integrated, synthetic resin Since the reaction site between the molded body and the primer can be easily reached, a chemical bond is reliably formed between the two in a short time.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明について実施例および比較例を挙げて具体
的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定され
るものではない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

[実施例1] ポリカーボネート樹脂からなる平板(縦100mm、横
100mm、厚さ2mm)の全面に、γ−グリドキシプ
ロピルトリメトキシシランのインブタノール溶?夜(1
重量%)をスピンコーターで塗布し、90℃の熱風にて
5分間の加熱乾燥を行なった。膜厚は、約40人であっ
た。
[Example 1] γ-Glydoxypropyltrimethoxysilane dissolved in inbutanol was applied to the entire surface of a flat plate (100 mm long, 100 mm wide, 2 mm thick) made of polycarbonate resin. Night (1
% by weight) was applied using a spin coater, and then heated and dried with hot air at 90° C. for 5 minutes. The film thickness was approximately 40 people.

上記処理を行なったポリカーボネート平板上に、特開昭
61−12734号公報に示されているのと同様の二酸
化ケイ素被膜製造装置を用いて、二酸化ケイ素被膜を析
出させた。
A silicon dioxide film was deposited on the polycarbonate plate subjected to the above treatment using a silicon dioxide film manufacturing apparatus similar to that shown in JP-A-61-12734.

すなわち、二酸化ケイ素被膜製造装置は、外槽と内槽か
ら成る浸漬槽を有し、内槽と外槽の間には水が満しであ
る。この水は温度が35℃となるようヒーターで加熱さ
れ、かつ、温度分布均一化のため撹拌機で撹拌されてい
る。内槽は前部、中部、後部から成り各部には工業用シ
リカゲル粉末を二酸化ケイ素の供給源として、二酸化ケ
イ素を溶解、飽和させた2、0モル/4の濃度のケイフ
ッ化水素酸水溶液を水を用いて倍に希釈した3I2の反
応液が満たしである。ここで、循環ポンプを作動させ内
槽後部の反応l夜を一定量ずつ放出してフィルターで濾
過し、内槽前部へ戻す処理液循環を開始した。
That is, the silicon dioxide coating manufacturing apparatus has a dipping tank consisting of an outer tank and an inner tank, and the space between the inner tank and the outer tank is filled with water. This water is heated with a heater to a temperature of 35° C., and is stirred with a stirrer to make the temperature distribution uniform. The inner tank consists of a front part, a middle part, and a rear part, and each part is filled with an aqueous solution of hydrofluorosilicic acid at a concentration of 2.0 mol/4, in which silicon dioxide is dissolved and saturated, using industrial silica gel powder as a source of silicon dioxide. It is filled with a reaction solution of 3I2 diluted to 20% using 3I2. At this point, the circulation pump was activated to discharge the reaction liquid from the rear part of the inner tank in constant amounts, filter it with a filter, and start circulating the treated liquid back to the front part of the inner tank.

その後、0.5モル/忍のホウ酸水溶演を連続的に内槽
後部に摘下し10時間保持した。この状態で反応液は適
度な二酸化ケイ素過飽和度を有する処理液となった。
Thereafter, aqueous solution of 0.5 mol/min of boric acid was continuously added to the rear of the inner tank and maintained for 10 hours. In this state, the reaction solution became a treatment solution having an appropriate degree of silicon dioxide supersaturation.

ここでフィルターの絶対除去率を1.5μmおよび処理
液循環量を240mj2/分(処理液全量が約3℃であ
るので、循環量は8%/分である)に調整した。
Here, the absolute removal rate of the filter was adjusted to 1.5 μm, and the circulating rate of the processing liquid was adjusted to 240 mj2/min (since the total amount of the processing liquid was about 3°C, the circulating rate was 8%/min).

そして、上記処理を行なったポリカーボネート平板な内
槽中部に垂直に浸漬し、前記条件(0,5モル/I2の
ホウ酸水溶液を0.2mj2/分で添加し、8%/分の
循環を行ない、1.5μmのフィルターで濾過する)で
16時間保持した。
Then, the polycarbonate treated above was immersed vertically in the middle of the flat inner tank, and under the conditions described above (0.5 mol/I2 boric acid aqueous solution was added at 0.2 mj2/min, and circulation was performed at 8%/min). , filtered through a 1.5 μm filter) for 16 hours.

得られた被覆ポリカーボネート平板の二酸化ケイ素被覆
層の膜厚は約5000人であった。
The thickness of the silicon dioxide coating layer on the resulting coated polycarbonate plate was about 5,000.

次に、被覆ポリカーボネート平板の全面に電子線を照射
した。電子線は、1.6Mrad/Sの線量率、線量8
.OMradで、アルゴンガス雰囲気中で照射した。
Next, the entire surface of the coated polycarbonate plate was irradiated with an electron beam. The electron beam has a dose rate of 1.6 Mrad/S and a dose of 8
.. Irradiation was performed using an OMrad in an argon gas atmosphere.

[実施例2] ポリカーボネート樹脂平板(縦100mm、横100m
m、厚さ2mm)の全面に、イソプロピルイソステアロ
イルジアクリルチタネートのイソプロピルアルコール溶
液(1重量%)をスピンコーターで塗布し、70℃の熱
風にて5分間の加熱乾燥を行なった。膜厚は、約30人
であった。
[Example 2] Polycarbonate resin flat plate (length 100 mm, width 100 m
An isopropyl alcohol solution (1% by weight) of isopropyl isostearoyldiacryl titanate was applied to the entire surface of the substrate (2 mm thick) using a spin coater, and then heated and dried with hot air at 70° C. for 5 minutes. The film thickness was approximately 30 people.

プライマー処理したポリカーボネート樹脂平板の全面に
、実施例1と同様にして二酸化ケイ素被膜を形成した。
A silicon dioxide film was formed on the entire surface of the primer-treated polycarbonate resin flat plate in the same manner as in Example 1.

膜厚は、約5500人であった。The film thickness was approximately 5,500 people.

そして、この被覆処理をした平板の全面に実施例1と同
様にして電子線を照射した。
Then, the entire surface of the coated flat plate was irradiated with an electron beam in the same manner as in Example 1.

[実施例3] シラン系カップリング剤として、γ−アミノプロピルト
リエトキシシランを用いた以外は実施例1と同様にして
二酸化ケイ素被覆ポリカーボネート樹脂平板を作成した
[Example 3] A silicon dioxide-coated polycarbonate resin flat plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that γ-aminopropyltriethoxysilane was used as the silane coupling agent.

[実施例4] チタン系カップリング剤として、チタニウムエチルアセ
トアセテートを用いた以外は実施例2と同様にして二酸
化ケイ素被覆ポリカーボネート樹脂平板を作成した。
[Example 4] A silicon dioxide-coated polycarbonate resin flat plate was prepared in the same manner as in Example 2 except that titanium ethyl acetoacetate was used as the titanium-based coupling agent.

[比較例1] 電子線照射を行なわなかったこと以外は、実施例1と同
様に処理して、二酸化ケイ素被覆ポリカーボネート樹脂
平板を得た。
[Comparative Example 1] A polycarbonate resin plate coated with silicon dioxide was obtained in the same manner as in Example 1 except that electron beam irradiation was not performed.

扛怪立遣1 〈冷熱サイクルテスト〉 実施例1〜4および比較例1で得られた二酸化ケイ素被
覆ポリカーボネート樹脂平板を、冷熱サイクルテストに
かけて、ポリカーボネート樹脂平板と二酸化ケイ素被膜
との間の剥離の発生状況を目視により観察した。
Bakukai Tachizuki 1 <Cold/Hot Cycle Test> The silicon dioxide-coated polycarbonate resin flat plates obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were subjected to a cold/hot cycle test to determine the occurrence of peeling between the polycarbonate resin flat plate and the silicon dioxide coating. The situation was visually observed.

冷熱サイクルテストは、80℃、90%RHに2時間放
置し、次いで、1時間かけて濃度を下げて、−25℃、
40%RHに2時間放置する操作を繰り返して行なった
In the cold cycle test, the temperature was left at 80°C and 90% RH for 2 hours, then the concentration was lowered over 1 hour, and the temperature was lowered to -25°C.
The operation of leaving the sample at 40% RH for 2 hours was repeated.

結果を第1表に一括して示す。The results are summarized in Table 1.

(以下余白) 第1表 く耐溶剤性テスト〉 二酸化ケイ素被覆ポリカーボネート樹脂平板をアセトン
中に10分間浸漬し、室温で風乾した後の状態を観察し
、次の3段階で評価した。
(Margin below) Table 1: Solvent Resistance Test> A silicon dioxide-coated polycarbonate resin flat plate was immersed in acetone for 10 minutes, air-dried at room temperature, and then observed and evaluated on the following three scales.

○:全く変化なし、 Δ:局部的に白化、 ×:全面的に白化または変形 なお、試料としては、実施例1〜4において、電子線の
唄別看を0.0.5.4.0.80M r a dに変
化させて作成した二酸化ケイ素被覆ポリカーボネート樹
脂平板を用いた。
○: No change at all, Δ: Local whitening, ×: Whole whitening or deformation. In Examples 1 to 4, the sample was 0.0.5.4.0 A silicon dioxide-coated polycarbonate resin flat plate prepared by changing the temperature to .80 M r a d was used.

結果を第2表に示す。The results are shown in Table 2.

第2表 [実施例5〜8] シラン系カップリング剤として、次の各種シリルパーオ
キサイド化合物のヘキサン溶液(1重量%)を塗布した
こと以外は、実施例1と同様にして電子線照射処理を行
なった二酸化ケイ素被覆ポリカーボネート樹脂平板を得
た。
Table 2 [Examples 5 to 8] Electron beam irradiation treatment was performed in the same manner as in Example 1, except that a hexane solution (1% by weight) of the following various silyl peroxide compounds was applied as a silane coupling agent. A polycarbonate resin plate coated with silicon dioxide was obtained.

実施例5:ビニルトリス(t−ブチルパーオキシ)シラ
ン 実施例6:ビニルトリス(キュメンバーオキシ)シラン 実施例7:ビニルトリス(ベンゾイルパーオキシ)シラ
ン 実施例8:γ−メタクリロキシプロピルトリス(t−ブ
チルパーオキシ)シラン 得られた試料について、冷熱サイクルテストを行なった
結果を第3表に示す。
Example 5: Vinyltris(t-butylperoxy)silaneExample 6: Vinyltris(cumemberoxy)silaneExample 7: Vinyltris(benzoylperoxy)silaneExample 8: γ-methacryloxypropyltris(t-butylperoxy)silane Table 3 shows the results of a thermal cycle test performed on the obtained sample of oxy)silane.

第3表 また、実施例5〜8において、電子線照射量を変化させ
て、耐溶剤性テストを行なった結果を第4表に示す。
Table 3 Table 4 also shows the results of solvent resistance tests conducted in Examples 5 to 8 by varying the amount of electron beam irradiation.

第4表 (以下余白) [発明の効果J 本発明によれば、電子線を照射するだけで、基材の合成
樹脂および酸化ケイ素被膜の両者と強固に結合したプラ
イマー層を形成することができる。そして、本発明によ
れば、酸化ケイ素被膜との密着性、表面硬度、耐候性、
耐薬品性、透湿性、吸湿性などが大幅に改善された成形
体を得ることができる。特に、ポリカーボネート樹脂の
透明性、軽量性、易加工性、耐衝撃性を生かし、上記諸
物性の改善された酸化ケイ素被覆ポリカーボネート樹脂
成形体を得ることができるので、従来、上記物性が不充
分であるために使用できなかった分野を含め広範な分野
で使用できるようになった。
Table 4 (blank below) [Effects of the invention J According to the present invention, a primer layer that is firmly bonded to both the synthetic resin of the base material and the silicon oxide coating can be formed simply by irradiating with an electron beam. . According to the present invention, adhesion with the silicon oxide film, surface hardness, weather resistance,
A molded article with significantly improved chemical resistance, moisture permeability, hygroscopicity, etc. can be obtained. In particular, by taking advantage of the transparency, lightness, ease of processing, and impact resistance of polycarbonate resin, it is possible to obtain a silicon oxide-coated polycarbonate resin molded product with improved physical properties, which were previously found to be insufficient. It can now be used in a wide range of fields, including fields that could not be used due to the

本発明の被覆合成樹脂成形体は、例えば、光磁気ディス
ク用基板や磁気ディスク用基板、車や電車の窓ガラスの
代用としての合成樹脂基板をはじめ広範な分野において
用いることができる。
The coated synthetic resin molded article of the present invention can be used in a wide range of fields, including, for example, substrates for magneto-optical disks, substrates for magnetic disks, and synthetic resin substrates as substitutes for window glass in cars and trains.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)(A)合成樹脂成形体の表面に、(B)シラン系
カップリング剤およびチタン系カップリング剤から選ば
れる少なくとも1種のカップリング剤の薄膜からなるプ
ライマー層、および(C)酸化ケイ素被膜をこの順に形
成し、かつ、酸化ケイ素被膜の上から電子線を照射して
なることを特徴とする被覆合成樹脂成形体。
(1) A primer layer consisting of a thin film of at least one coupling agent selected from (B) a silane coupling agent and a titanium coupling agent, and (C) an oxidation A coated synthetic resin molded article characterized in that a silicon coating is formed in this order and an electron beam is irradiated onto the silicon oxide coating.
(2)合成樹脂成形体がポリカーボネート樹脂成形体で
ある請求項1記載の被覆合成樹脂成形体。
(2) The coated synthetic resin molded article according to claim 1, wherein the synthetic resin molded article is a polycarbonate resin molded article.
(3)合成樹脂成形体の表面にシラン系カップリング剤
およびチタン系カップリング剤から選ばれる少なくとも
1種のカップリング剤の薄膜からなるプライマー層を形
成した後、該プライマー層上に酸化ケイ素被膜を形成さ
せ、次いで、電子線を照射することを特徴とする被覆合
成樹脂成形体の製造法。
(3) After forming a primer layer consisting of a thin film of at least one coupling agent selected from silane coupling agents and titanium coupling agents on the surface of the synthetic resin molding, a silicon oxide coating is formed on the primer layer. 1. A method for producing a coated synthetic resin molded article, which comprises forming a coated synthetic resin molded article, and then irradiating it with an electron beam.
(4)合成樹脂成形体がポリカーボネート樹脂成形体で
ある請求項3記載の被覆合成樹脂成形体の製造法。
(4) The method for producing a coated synthetic resin molded article according to claim 3, wherein the synthetic resin molded article is a polycarbonate resin molded article.
(5)前記酸化ケイ素被膜が二酸化ケイ素被膜であって
、かつ、前記プライマー層を形成した合成樹脂成形体を
二酸化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶液と接
触させることにより、該プライマー層上に二酸化ケイ素
被膜を析出させる請求項3または4記載の被覆合成樹脂
成形体の製造法。
(5) The silicon oxide coating is a silicon dioxide coating, and the synthetic resin molded article on which the primer layer is formed is brought into contact with a supersaturated hydrofluorosilicic acid solution of silicon dioxide, so that the silicon oxide coating is coated on the primer layer. The method for producing a coated synthetic resin molded article according to claim 3 or 4, wherein a silicon dioxide film is deposited.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2007040256A1 (en) * 2005-10-05 2007-04-12 Nippon Sheet Glass Company, Limited Resin article and method for producing same

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