JPH03142467A - Pellicle body - Google Patents

Pellicle body

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Publication number
JPH03142467A
JPH03142467A JP1279705A JP27970589A JPH03142467A JP H03142467 A JPH03142467 A JP H03142467A JP 1279705 A JP1279705 A JP 1279705A JP 27970589 A JP27970589 A JP 27970589A JP H03142467 A JPH03142467 A JP H03142467A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frame
pellicle
laser
reflecting surface
max
Prior art date
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Pending
Application number
JP1279705A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayoshi Ogino
荻野 正吉
Morihisa Hoko
法亢 盛久
Hiroshi Naohara
猶原 洋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP1279705A priority Critical patent/JPH03142467A/en
Publication of JPH03142467A publication Critical patent/JPH03142467A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

PURPOSE:To allow the assurance of an actual inspection region to the max. exposing region or above by constituting the pellicle body of a black surface over the entire surface and forming the marginal part on the outer side as a light reflecting surface. CONSTITUTION:The laser from a laser projecting system 13 is projected to the prescribed point of the reflecting surface part 5 of a frame 3 of the pellicle body by which the laser is regular by reflected and is detected by detecting optical systems 18, 18' at the time when the frame 3 is detected. Since a prescribed angle of inclination with respect to an angle theta of irradiation is applied to the surface part 5, the projected laser is regularly reflected and is adequately received in the optical systems 18, 18'. The exact position of the frame 3 relative to a reticule 1 is obtd. in accordance with the photodetection data. The positional relation between the reticule 1 and the frame 3 is previously measured and, therefore, if the exact position of the frame 3 is obtd., the max. actual inspection region 7' is assured and the inspection region wider than the max. exposing region of a stepper is assured.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ペリクル体、特に、ペリクルフレームの改良
に関し、例えば、半導体装置の製造工程において、水ト
マスクの異物を検査および管理するのに利用して有効な
ものに関する。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to the improvement of a pellicle body, particularly a pellicle frame, and can be used, for example, to inspect and control foreign substances in a water mask in the manufacturing process of semiconductor devices. Regarding what is valid.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体装置の製造工程において、ホトマスクの異物を検
査する異物検出方法として、特開昭59−82726号
公報に記載されているように、基板に装着されたペリク
ル保護膜体(ペリクル体)の枠(フレーム)の取付位置
を検出手段で検出し、この検出された枠の取付位置に基
づいて、この枠で囲まれた検査領域に存在する異物を検
出するように構成されているものがある。つまり、半導
体装置の181遣工程においては、ペリクル体のフレー
ム内におけるステツバ(ステンブアンドリピート式檀小
投影露光装置)最大露光領域全体についての異物検査が
実施され、異物起因による全ベレット共通欠陥の発生が
防止されている。
In the manufacturing process of semiconductor devices, as described in Japanese Patent Laid-Open No. 59-82726, a frame ( Some devices are configured to detect the mounting position of the frame by a detection means, and to detect foreign objects present in the inspection area surrounded by the frame based on the detected frame mounting position. In other words, in the 181st process of semiconductor devices, a foreign matter inspection is performed on the entire maximum exposure area of the stepper (step-and-repeat type small projection exposure device) within the frame of the pellicle body, and defects common to all pellets due to foreign matter are detected. Occurrence has been prevented.

この場合、ペリクルフレーム上端面についての鏡面研摩
作業により発生したアルミ微小切粕が、ペリクルフレー
ムに異物として付着する場合があるため、予め、ペリク
ルフレームの付着n物検査が投光器を用いられた目視検
査により実施されている。
In this case, fine aluminum chips generated by the mirror polishing work on the upper end surface of the pellicle frame may adhere to the pellicle frame as foreign matter, so the pellicle frame should be inspected in advance by visual inspection using a floodlight. This is being carried out by

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところが、投光器が用いられた目視によるペリクルフレ
ームについての付着異物検査において塩ペリクルフレー
ム上端面の反射光が百視検査の障害になるため、当該検
査につき充分な信頼性を確保することができない。
However, when visually inspecting a pellicle frame for foreign matter using a projector, the reflected light from the upper end surface of the salt pellicle frame becomes an obstacle to the 100-view inspection, making it impossible to ensure sufficient reliability for the inspection.

そこで、ペリクルフレームを全体的に黒色化することが
考えられる。しかし、ペリクルフレームを全体的に黒色
化すると、前記した異物検出方法における自動検査領域
指定が不可能になるため、ステッパ最大露光領域を充分
に検査することができないという問題点があることが、
本発明者によって明らかにされた。
Therefore, it is conceivable to make the entire pellicle frame black. However, if the pellicle frame is entirely blackened, it becomes impossible to automatically specify the inspection area in the foreign object detection method described above, so there is a problem that the maximum exposure area of the stepper cannot be sufficiently inspected.
revealed by the inventor.

本発明の目的は、ペリクルフレーム付着異物検査につい
て充分な信頼性を確保することができるとともに、ペリ
クルフレーム内の最大NkAについて異物検査を実行す
ることができるペリクル体を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a pellicle body that can ensure sufficient reliability in inspecting foreign matter attached to a pellicle frame, and can also perform foreign matter inspection for the maximum NkA in the pellicle frame.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、次の通りである。
An overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、枠形状に形成されたフレームの一端面にペリ
クルがその開口を被覆するように張設されているペリク
ル体において、前記フレームの表面が全体的に黒色面に
構成されているとともに、このフレームの一端面におけ
る外側縁辺部に光反射面部が形成されていることを特徴
とする。
That is, in a pellicle body in which a pellicle is stretched over one end surface of a frame formed in a frame shape so as to cover an opening of the frame, the surface of the frame is configured as a black surface as a whole, and the frame is A light reflecting surface portion is formed on the outer edge portion of one end surface.

〔作用〕[Effect]

前記した手段によれば、ペリクルフレームの上端面にお
ける外側縁辺部に光反射面部が形成されているため、フ
レームに対する基板の位置を正確に検出することができ
、その結果、実検査領域を最大露光領域以上に確保する
ことができる。
According to the above-mentioned means, since the light reflecting surface portion is formed on the outer edge of the upper end surface of the pellicle frame, the position of the substrate relative to the frame can be accurately detected, and as a result, the actual inspection area can be exposed to maximum light. It is possible to secure more than the area.

また、ペリクルフレームの表面が全体的に黒色面に構成
されているため、フレームに対する付着異物の目視検査
についての信頼性を高めることができ、ペリクル体の品
質管理(異物対策)を向上させることができる。
In addition, since the surface of the pellicle frame is entirely black, it is possible to increase the reliability of visual inspection of foreign matter adhering to the frame, and improve the quality control of the pellicle body (measures against foreign matter). can.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の一実施例であるペリクル体を示す斜視
図、第2図はその拡大部分斜視図、第3図はその拡大部
分断面図、第4図はその作用を説明するための模式図、
第5図はフレームの検出方法を示す斜視図である。
Fig. 1 is a perspective view showing a pellicle body which is an embodiment of the present invention, Fig. 2 is an enlarged partial perspective view thereof, Fig. 3 is an enlarged partial sectional view thereof, and Fig. 4 is a diagram for explaining its operation. Pattern diagram,
FIG. 5 is a perspective view showing a frame detection method.

本実施例において、本発明に係るペリクル体はレチクル
lを汚染から保護するものとして!1威されており、レ
チクル1の一端面を被覆するペリクル2が張設されてい
るフレーム3を備えている。
In this example, the pellicle body according to the present invention protects the reticle l from contamination! The reticle 1 has a frame 3 on which a pellicle 2 covering one end surface of the reticle 1 is stretched.

レチクル1は石英ガラス等を用いられて略正方形の平板
形状に形成された基板上に、クローム等を用いられて所
望の形状に形成されたパターン(図示せず)が蒸着等の
ような適当な手段によって固着されることによりi戒さ
れている。フレーム3はアルミニウム等のような材料を
用いられてレチクル1に対して小さく相似する正方形枠
形状に形成されており、レチクル1上に同心的に配され
て固着されている。ペリクル2は樹脂等を用いられて透
明の薄いフィルムに形成されており、フレーム3のレチ
クル1と反対側の端面(以下、上面とする。)上にフレ
ーム3の上側開口面を被覆するように均一に張設されて
いる。
The reticle 1 is a substrate made of quartz glass or the like and formed into a substantially square flat plate shape, on which a pattern (not shown) made of chrome or the like is formed in a desired shape by a suitable method such as vapor deposition. It is admonished by being fixed by means. The frame 3 is made of a material such as aluminum and has a square frame shape that is small and similar to the reticle 1, and is concentrically arranged and fixed on the reticle 1. The pellicle 2 is formed as a transparent thin film using resin or the like, and is placed on the end surface (hereinafter referred to as the top surface) of the frame 3 opposite to the reticle 1 so as to cover the upper opening surface of the frame 3. It is stretched evenly.

フレーム3は斜線で示されているように全体的に黒色に
着色されており、このフレーム3の上面における外側縁
辺には反射面部5が一定幅をもって正方形リング形状に
面取り加工により形成されている0反射面部5はフレー
143のアルミニウム等の母材が黒色面4から露出する
ように、切削または研摩加工されて鏡面仕上げされるこ
とにより形成されており、第3図に示されているように
、反部i面部5の面取り傾斜角(L a n b / 
a )は第5図に示されているレーザ照射角θよりも少
し大きくなるように形成されている。
The frame 3 is entirely colored black as shown by diagonal lines, and a reflective surface 5 is formed by chamfering into a square ring shape with a constant width on the outer edge of the upper surface of the frame 3. The reflective surface portion 5 is formed by cutting or polishing the base material of the fly 143 such as aluminum so that it is exposed from the black surface 4 and giving it a mirror finish, as shown in FIG. Chamfering inclination angle of opposite part i side part 5 (L a n b /
a) is formed to be slightly larger than the laser irradiation angle θ shown in FIG.

次に、前記構成に係るペリクル体のフレーム3の検出方
法を、第5図に示されている異物検出装置が使用される
場合につき説明する。
Next, a method for detecting the frame 3 of the pellicle body according to the above configuration will be described in the case where the foreign object detection device shown in FIG. 5 is used.

第5図に示されている異物検出装置はレーザ照射系13
と、一対の検出光学系1B、1B’とを備えている。レ
ーザ照射系13はレーザ発生装置9を備えており、この
レーザ発生装置9の光軸上にはS偏光子1G、ガルバノ
ミラ−11,f−θレンズ]2が設備され、レーザが走
査されて所定の位置へ照1・lされるようになっている
0両検出光学系18.18′はレーザ照射系13に対し
それぞれ直角の位置で互いに反対側の位置に配設されて
おり、集光レンズ14.14′、スリット15.15′
、偏光板16.16’および検出器17.17′を備え
ている。
The foreign object detection device shown in FIG.
and a pair of detection optical systems 1B and 1B'. The laser irradiation system 13 is equipped with a laser generator 9, and an S polarizer 1G, a galvanometer mirror 11, and an f-θ lens] 2 are installed on the optical axis of the laser generator 9, and the laser is scanned to generate a predetermined image. The zero detection optical systems 18 and 18' are arranged at right angles to the laser irradiation system 13 and opposite to each other. 14.14', slit 15.15'
, a polarizing plate 16.16' and a detector 17.17'.

ペリクル体のフレーム3が検出される場合、第5図に示
されているように、レーザ照射系13からのレーザはフ
レーム3の反射面部5における所定の箇所に適宜照射さ
れ、反射面部5において正反射されて検出光学系18お
よび18′により受光される。このとき、反射面部5に
は照射角θに対して所定の傾斜角が与えられているため
、反射面部5に照射されたレーザは正反射されることに
より、検出光学系18および1B’に適正に受光される
ことになる。この検出光学系18および18′の受光デ
ータに基づいてレチクルlに対するフレーム3の位置が
正確に求められる。
When the frame 3 of the pellicle body is detected, as shown in FIG. The reflected light is received by detection optical systems 18 and 18'. At this time, since the reflective surface portion 5 is given a predetermined inclination angle with respect to the irradiation angle θ, the laser irradiated onto the reflective surface portion 5 is specularly reflected, so that it is properly aligned with the detection optical system 18 and 1B'. The light will be received by the Based on the light reception data of the detection optical systems 18 and 18', the position of the frame 3 with respect to the reticle I can be accurately determined.

このようにしてレチクルlに対するフレーム3の位置が
正確に求められると、レチクル1とフレーム3との位置
関係が予め測定されているため、第4図に示されている
最大実検査領域7′が確保され、その結果、ステッパの
最大露光領域8より広い検査領域が確保される。なお、
第4図中、XおよびYば異物検出装置におけるX座標軸
およびY座標軸、6は異物検出装置における中心点、7
は実検査領域である。
When the position of the frame 3 with respect to the reticle I is determined accurately in this way, the maximum actual inspection area 7' shown in FIG. As a result, an inspection area wider than the maximum exposure area 8 of the stepper is secured. In addition,
In FIG. 4, X and Y are the X coordinate axes and Y coordinate axes of the foreign object detection device, 6 is the center point of the foreign object detection device, and 7 is the center point of the foreign object detection device.
is the actual inspection area.

他方、フレーム3について付着異物検査が実施される際
、フレーム3に照明光が照射されると、フレーム3に付
着した異物により照明光は散乱される。このとき、フレ
ーム3の表面は全体的Gこ黒色面4に形成されているた
め、異物からの散乱光ばきわめて明瞭に目視することが
できる。その結果、フレーム3に対する付着異物の目視
検査についての信頼性を高めることができる。
On the other hand, when the frame 3 is inspected for attached foreign matter, when the frame 3 is irradiated with illumination light, the illumination light is scattered by the foreign matter attached to the frame 3. At this time, since the entire surface of the frame 3 is formed into a black surface 4, the scattered light from the foreign object can be seen very clearly. As a result, the reliability of visual inspection of the frame 3 for foreign matter adhering to it can be increased.

前記実施例によれば次の効果が得られる。According to the embodiment described above, the following effects can be obtained.

(1)  ペリクルフレームの上端面における外!!縁
辺部に光反射面部を形成することにより、フレームに対
する基板の位置を正確に検出することができるため、実
検査領域を最大露光領域以上に確保することができる。
(1) Outside at the top end of the pellicle frame! ! By forming the light-reflecting surface portion on the edge portion, the position of the substrate relative to the frame can be accurately detected, so that the actual inspection area can be secured to be larger than the maximum exposure area.

(2) ペリクルフレームの表面を全体的に黒色面に構
成することにより、フレームに対する付着異物の目視検
査についての信頼性を高めることができるため、ペリク
ル体の品質管理(異物対策)を向上させることができる
(2) By configuring the entire surface of the pellicle frame to be black, it is possible to increase the reliability of visual inspection of foreign matter adhering to the frame, thereby improving quality control of the pellicle body (measures against foreign matter). Can be done.

(3)  前記0)、(2)により、全ベレット共通欠
陥の発生を防止することができ、半導体装置の製造の歩
留りを高めることができ、半導体装置の品質および信頼
性を高めることができる。
(3) According to 0) and (2) above, it is possible to prevent the occurrence of defects common to all pellets, increase the manufacturing yield of semiconductor devices, and improve the quality and reliability of semiconductor devices.

(4) フレームの外側縁辺部を面取り加工して反射面
部を形成することにより、反射面部の加工をフレームの
製作時に実行することができるとともに、異物検出装置
におけるレーザ照射角に対応させて、検出光の反射角を
適正に設定することができる。
(4) By chamfering the outer edge of the frame to form a reflective surface, the reflective surface can be processed at the time of frame manufacture, and it can be detected by matching the laser irradiation angle of the foreign object detection device. The reflection angle of light can be set appropriately.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor.

例えば、フレームに形成される反射面部は、フレームの
全周に環状に形成するに限らず、第6図に示されている
ように、部分的反射面部5Aをフレーム3の上面におけ
る開口中心線の振り分け位置にそれぞれ形成してもよい
For example, the reflective surface portion formed on the frame is not limited to being formed in an annular shape around the entire circumference of the frame, but as shown in FIG. They may be formed at respective distribution positions.

また、反射面部はフレームを面取り加工して形成するに
限らず、第7図に示されているように、反射面を有する
反射テープ5Bをフレーム3の所定位置に接着して形成
してもよい。
Further, the reflective surface portion is not limited to being formed by chamfering the frame, but may be formed by adhering a reflective tape 5B having a reflective surface to a predetermined position of the frame 3, as shown in FIG. .

フレームの形状は正方形枠形状に形成するに限らず、円
形枠形状等に形成してもよい。
The shape of the frame is not limited to a square frame shape, but may be formed into a circular frame shape or the like.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるレチクルに装着され
るペリクル体に適用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではなく、l:1ホトマスク等に装着
されるペリクル体全般に適用することができる。
In the above explanation, the invention made by the present inventor was mainly applied to a pellicle body attached to a reticle, which is the background field of application, but the present invention is not limited to this. It can be applied to all pellicle bodies attached to etc.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

ペリクルフレームの上端面における外側縁辺部に光反射
面部を形成することにより、フレームに対する基板の位
置を正確に検出することができるため、実検査領域を最
大露光領域以上に確保することができる。また、ペリク
ルフレームの表面を全体的に黒色面に構成することによ
り、フレームに対する付着異物の目視検査についての信
頼性を高めることができるため、ペリクル体の品質管理
(異物対策)を向上させることができる。
By forming the light reflecting surface portion on the outer edge portion of the upper end surface of the pellicle frame, the position of the substrate relative to the frame can be accurately detected, so that the actual inspection area can be secured to be larger than the maximum exposure area. In addition, by configuring the entire surface of the pellicle frame to be black, it is possible to increase the reliability of visual inspection of foreign matter adhering to the frame, thereby improving quality control (measures against foreign matter) of the pellicle body. can.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例であるペリクル体を示す斜視
図、 第2図はその拡大部分斜視図、 第3図はその拡大部分断面図、 第4図はその作用を説明するための模式図、第5図はフ
レームの検出方法を示す斜視図である。 第6図は本発明の他の実施例を示す斜視図である。 第7図は本発明の別の他の実施例を示す拡大部分断面図
である。 1・・・レチクル(基半反)、2・・・ペリクル、3・
・・フレーム、4・・・黒色面、5・・・反射面部、7
・・・実検査領域、7′・・・最大実検査領域、8・・
・ステッパ最大露光領域、9・・・レーザ発生装置、1
0・−・S@光子、tt・・・ガルバノミラ−12・・
・r・θレンズ、13・・・レーザ照射系、14.14
′・・・集光レンズ、15.15’ ・・・スリフト、
I6.16’ ・・・偏光板、17.17′・・・検出
器、18、】8′・・・検出光学系。 第1図 第2図 第4図 第5図 第6図
Fig. 1 is a perspective view showing a pellicle body which is an embodiment of the present invention, Fig. 2 is an enlarged partial perspective view thereof, Fig. 3 is an enlarged partial sectional view thereof, and Fig. 4 is a diagram for explaining its operation. The schematic diagram and FIG. 5 are perspective views showing a frame detection method. FIG. 6 is a perspective view showing another embodiment of the invention. FIG. 7 is an enlarged partial sectional view showing another embodiment of the present invention. 1... Reticle (base and half), 2... Pellicle, 3...
...Frame, 4...Black surface, 5...Reflective surface part, 7
...Actual inspection area, 7'...Maximum actual inspection area, 8...
・Stepper maximum exposure area, 9...Laser generator, 1
0...S@photon, tt...galvano mirror-12...
・r・θ lens, 13...Laser irradiation system, 14.14
'... Condensing lens, 15.15'... Thrift,
I6.16'...Polarizing plate, 17.17'...Detector, 18, ]8'...Detection optical system. Figure 1 Figure 2 Figure 4 Figure 5 Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、枠形状に形成されたフレームの一端面にペリクルが
その開口を被覆するように張設されているペリクル体で
あって、前記フレームの表面が全体的に黒色面に構成さ
れているとともに、このフレームの一端面における外側
縁辺部に光反射面部が形成されていることを特徴とする
ペリクル体。 2、光反射面部が前記フレームの一端面における開口中
心線の振り分け位置にそれぞれ形成されていることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載のペリクル体。 3、光反射面部が反射面を有するテープにより形成され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のペ
リクル体。
[Scope of Claims] 1. A pellicle body in which a pellicle is stretched over one end surface of a frame formed in a frame shape so as to cover an opening of the frame, wherein the surface of the frame is entirely black. What is claimed is: 1. A pellicle body comprising: a light reflecting surface portion formed on an outer edge portion of one end surface of the frame; 2. The pellicle body according to claim 1, wherein the light reflecting surface portions are formed at positions distributed along the aperture center line on one end surface of the frame. 3. The pellicle body according to claim 1, wherein the light reflecting surface portion is formed of a tape having a reflecting surface.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006046682A1 (en) * 2004-10-29 2006-05-04 Nikon Corporation Reticle protective member, reticle carrying apparatus, exposure device, and reticle carrying method

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