JPH0313285A - Laser marking device - Google Patents
Laser marking deviceInfo
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Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザを用いたマーキング装置に係り、特に、
マーキング用パターンマスクを用いるマスク式レーザマ
ーキング装置において、大面積マーキングを実現する光
学系に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a marking device using a laser, and in particular,
The present invention relates to an optical system that realizes large-area marking in a mask-type laser marking device that uses a marking pattern mask.
パターン形成用のマスクを用いるレーザマーキング装置
において、高出力のパルスレーザ発振器を用いないで大
面積のマーキングを実現するには、大きなマスクを複数
の領域に分割し、それぞれの領域に対してレーザ光を照
射するという分割マーキング法という手段が広く知られ
ている。In a laser marking device that uses a mask for pattern formation, in order to mark a large area without using a high-output pulsed laser oscillator, the large mask is divided into multiple areas and the laser beam is applied to each area. A widely known method is the divisional marking method, which involves irradiating the area with irradiation.
マスクに対してレーザ光を移動照射する手段としては、
まずレーザ光を反射鏡により反射させてマスクに照射し
1次に反射鏡を平行移動してレーザ光を照射することに
より、最初のレーザ光軸を平行移動したレーザ光をマス
クに照射する方式、または光ファイバーを用いて、その
出射口をマスクに対して移動する方式などがある。いず
れも複数のレーザ照射により疑似的に大口径レーザ光を
実現するものである。この種の装置として関連するもの
には例えば特開昭63−84786号、同町62−27
0293号、同昭62−203]17号等が挙げられる
。As a means of moving and irradiating the mask with laser light,
A method in which the laser beam is first reflected by a reflecting mirror and irradiated onto the mask, and then the reflecting mirror is moved in parallel to irradiate the laser beam, thereby irradiating the mask with the laser beam whose initial laser optical axis has been moved in parallel; Alternatively, there is a method in which an optical fiber is used and the exit port is moved relative to the mask. In either case, large-diameter laser beams are simulated by irradiating multiple laser beams. Related devices of this type include, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-84786, No. 62-27 of the same town.
No. 0293, No. 62-203] No. 17, and the like.
上記従来技術は、m数回のレーザパルス光をマーキング
パターンマスクに照射する際に、同マスク上の照射領域
を完全に区分し、同一の被加工物に対してはマーキング
パターンマスク各部を複数回レーザ照射することを防ぐ
という配慮がされていなかった。したがって、被加工面
上においては。In the above conventional technology, when a marking pattern mask is irradiated with several m times of laser pulse light, the irradiation area on the same mask is completely divided, and each part of the marking pattern mask is irradiated multiple times for the same workpiece. No consideration was given to preventing laser irradiation. Therefore, on the surface to be processed.
複数回のレーザパルス光が照射される領域を生じ。This creates an area that is irradiated with multiple laser pulses.
被加工物のマーキング部全面に亘って均一なコントラス
トのマーキングを得にくいという問題があった。There is a problem in that it is difficult to obtain markings with uniform contrast over the entire marking area of the workpiece.
また、マーキングパターンマスクとして液晶マスクを用
いた場合には、上記問題のほかに、1つの被/Ill工
物へのマーキングに際しても、マスク上の同一領域を複
数回パルスレーザ光が通過するため液晶マスマ寿命を早
めるという問題も生じた。Furthermore, when a liquid crystal mask is used as a marking pattern mask, in addition to the above problems, even when marking a single workpiece, the pulsed laser beam passes through the same area on the mask multiple times, so the liquid crystal The problem of accelerating the lifespan of mass consumers also arose.
本発明の目的は、マーキングパターンマスクを分割して
複数ショットのレーザパルス光を照射する方式において
も、均一なコントラストのマーキングを実現するレーザ
マーキング装置を提供することにある。An object of the present invention is to provide a laser marking device that realizes marking with uniform contrast even when a marking pattern mask is divided and a plurality of shots of laser pulse light are irradiated.
本発明の他の目的は、液晶マスクを採用した際の液晶マ
スク長寿命化を計るレーザマーキング装置を提供するこ
とにある。Another object of the present invention is to provide a laser marking device that extends the life of a liquid crystal mask when a liquid crystal mask is used.
上記目的を達成するために、パルスレーザ発振器より射
出されたパルスレーザ光軸を各パルス毎に、ある振り角
で偏向させ、プリズムの頂点をまたがって照射し、1つ
の被加工物に対してはパルスレーザ光の重なりのない複
数の平行光を得る。In order to achieve the above objective, the pulsed laser optical axis emitted from the pulsed laser oscillator is deflected at a certain swing angle for each pulse, and is irradiated across the apex of the prism. To obtain a plurality of parallel beams of pulsed laser beams without overlapping.
上記他の目的を達成するために、プリズム透過後、液晶
マスクへほぼ垂直に入射するように進む主レーザ光軸よ
り外れたレーザ光が、液晶マスクに当たらないようプリ
ズムと液晶マスクの間を離したものである。In order to achieve the other objectives mentioned above, the prism and the liquid crystal mask are separated so that the laser beam off the main laser optical axis, which travels almost perpendicularly to the liquid crystal mask after passing through the prism, does not hit the liquid crystal mask. This is what I did.
1台のパルスレーザ発振器よりパルス的に出力されるレ
ーザ光軸を、偏向器によって各パルスレーザ光毎にその
向きを変えて、プリズムの両斜面に対して交互に、しか
もレーザ光の一部は頂点をまたがって照射する。プリズ
ムはその透過光がマーキングパターンマスクに対しほぼ
垂直に入射し。The direction of the laser optical axis output in pulses from one pulse laser oscillator is changed for each pulse laser beam by a deflector, and a part of the laser beam is alternately directed to both slopes of the prism. Irradiate across the vertices. The transmitted light of the prism enters the marking pattern mask almost perpendicularly.
結像光学系へ向かう光軸を形成するようになっている。It forms an optical axis toward the imaging optical system.
このときプリズムの他斜面にはみでて照射されたレーザ
光はプリズムの作用により、上記光軸からずれたはずれ
レーザ光となり、マーキングに使用されるレーザ光とは
分離される。これによって、複数ショットのレーザ光を
用いて、それぞれのレーザ光の重なりのない大口径ビー
ムを実現できる。したがって、被加工面上では、複数シ
ョットに分割してマーキングを行っても、同一部分を2
度打ちすることがなく、均一なコントラストのマーキン
グを実現できる。At this time, the laser light projected onto the other slope of the prism becomes a stray laser light deviated from the optical axis due to the action of the prism, and is separated from the laser light used for marking. As a result, a large diameter beam without overlapping of the respective laser beams can be realized using multiple shots of laser beams. Therefore, even if marking is done in multiple shots on the surface to be machined, the same part can be marked twice.
Marking with uniform contrast can be achieved without the need for repeated strikes.
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図から第6図を用いて説
明する。パルスレーザ発振器1よりパルス的に出力され
たレーザ光2をビーム整形部3゜4で拡大するとともに
長楕円形に整形し1反射鏡5で偏向器6に照射する。偏
向器6よりプリズム7に対し、振り角2θSで第2レー
ザパルスP2と第2レーザパルスP2とを偏向してプリ
ズム7に照射する。プリズム7のあとにマーキングパタ
ーン形成用のマスク8を設け、マスク8を透過した第2
レーザパルスP2aと第2レーザパルスPZaは、それ
ぞれ結像光学系9により、被加工物10の表面に結像さ
れマーキングを行う、プリズム7と結像光学系9たとえ
ば焦点レンズとの間には、しや先板11を設けた。被加
工物10のマーキングは第2図に示すように、第2レー
ザパルスP2sで数字12を、第2レーザパルスPzm
で数字34をマーキングする。[Embodiment] An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 6. A laser beam 2 outputted in a pulsed manner from a pulsed laser oscillator 1 is expanded by a beam shaping section 3.4, shaped into an oblong shape, and irradiated onto a deflector 6 by a reflecting mirror 5. The second laser pulse P2 and the second laser pulse P2 are deflected by the deflector 6 to the prism 7 at a swing angle of 2θS, and the prism 7 is irradiated with the second laser pulse P2. A mask 8 for forming a marking pattern is provided after the prism 7, and the second
The laser pulse P2a and the second laser pulse PZa are imaged and marked on the surface of the workpiece 10 by the imaging optical system 9. Between the prism 7 and the imaging optical system 9, for example, a focusing lens, A front plate 11 was provided. As shown in FIG. 2, the marking of the workpiece 10 is performed by marking the number 12 with the second laser pulse P2s and by marking the number 12 with the second laser pulse Pzm.
Mark the number 34 with .
本実施例で示したプリズム7は第3図に示すような2斜
面を有する7面体であり、第4図に示すプリズム角をθ
F、レーザ光2の波長におけるプリズム屈折率をnとす
ると
n=5in(θ5 + 7? p)/ sin Opを
満足するように設定するのが望ましい。このとき第4図
点線で示すような、プリズム7の頂点0を超えて照射さ
れるレーザ光Paは、距raQでプリズム7の透過光P
1mの光軸より外にずれでしや先板11に吸収される。The prism 7 shown in this embodiment is a heptahedron having two slopes as shown in FIG. 3, and the prism angle shown in FIG.
F, where n is the prism refractive index at the wavelength of the laser beam 2, it is desirable to set it to satisfy n=5 in (θ5 + 7? p)/sin Op. At this time, the laser beam Pa irradiated beyond the vertex 0 of the prism 7 as shown by the dotted line in FIG.
If the beam deviates from the optical axis of 1 m, it will be absorbed by the tip plate 11.
このように、本発明の構成によれば、楕円形状の第1パ
ルスレーザPiがプリズム7を通過する時、第4図に示
すように頂点Oを外れ上側を通過する斜線のパルスレー
ザPoは被加工面10を照射することなく、シや先板1
1を照射する。したがって、パルスレーザP1とパルス
レーザPOが重複することなく、均一なパルスレーザP
1のみが被加工面10を照射するので、均一な刻印が被
加工面10に出来る。この点を更に第5図、第6図によ
りレーザ光合成時のレーザ光のビーム強度について説明
する。偏向器6により偏向する第ル−ザパルスP1.第
2レーザパルスP2の光路それぞれについて第5図(1
)(2)にあらためて示す。As described above, according to the configuration of the present invention, when the elliptical first pulsed laser Pi passes through the prism 7, the diagonally shaded pulsed laser Po that deviates from the apex O and passes above, as shown in FIG. without irradiating the processed surface 10.
Irradiate 1. Therefore, the pulse laser P1 and the pulse laser PO do not overlap, and the pulse laser P1 is uniform.
1 irradiates the surface to be processed 10, a uniform marking can be made on the surface to be processed 10. This point will be further explained with reference to FIGS. 5 and 6 regarding the beam intensity of laser light during laser beam synthesis. The first loser pulse P1. deflected by the deflector 6. FIG. 5 (1) for each optical path of the second laser pulse P2
) (2) shows this again.
偏向器6よりプリズム7へ向かうレーザ光Pl。Laser light Pl is directed from the deflector 6 to the prism 7.
P2のレーザ強度分布(断面A−A)は第6図(1)に
示すように、端部では減少する台形に近い分布となって
いる。プリズム7を通過したあとの第ル−ザパルス強度
分布(第5図、断面B−B)はプリズム7の頂点を越え
たレーザ光が光軸よりはずれるため、第6図(2)のよ
うな分布となる。第5図において第2レーザパルスのプ
リズム7透過光Pillの断面C−Cにおける強度分布
は、第6図(2)の分布の対称形になる。したがって、
第2レーザパルスP1と第2レーザパルスP2とはマス
ク上で疑似的に大口径ビームを形成し、そのビーム強度
は第6図(3)のように、レーザビームの重なりの生じ
ないほぼ均一な分布となる。As shown in FIG. 6(1), the laser intensity distribution of P2 (cross section A-A) has a nearly trapezoidal distribution that decreases at the ends. The intensity distribution of the loser pulse after passing through the prism 7 (FIG. 5, cross section B-B) is as shown in FIG. becomes. In FIG. 5, the intensity distribution of the second laser pulse transmitted through the prism 7 on the cross section C-C is symmetrical to the distribution in FIG. 6(2). therefore,
The second laser pulse P1 and the second laser pulse P2 form a pseudo large-diameter beam on the mask, and the beam intensity is almost uniform with no overlapping of the laser beams, as shown in Figure 6 (3). distribution.
また、偏光器12はプリズム7の頂点Oを外れてパルス
レーザPi、P2を通過させてよいから。Further, the polarizer 12 may pass the pulse lasers Pi and P2 beyond the vertex O of the prism 7.
偏光器12の偏向角を大きく取れ、正確な制御を必要と
しないので、製作しやすい。Since the polarizer 12 can have a large deflection angle and does not require accurate control, it is easy to manufacture.
本実施例によれば、複数ショットのパルスレーザ光を合
成しても各レーザ光の重なりの生じないレーザ光を被加
工物に照射できる、という効果がある。また、プリズム
と結像光学系との間を離すことで、主光軸よりはずれ、
マーキングに使用しないレーザ光を被加工物に照射する
のを防ぐ効果がある。さらには、主光軸よりはずれたレ
ーザ光を遮光板で受は止めるため、レーザマーキング装
置内での迷光を防ぐ効果がある。According to this embodiment, the workpiece can be irradiated with laser light that does not overlap even if multiple shots of pulsed laser light are combined. In addition, by separating the prism and the imaging optical system, it is possible to deviate from the main optical axis.
This has the effect of preventing the workpiece from being irradiated with laser light that is not used for marking. Furthermore, since the light shielding plate stops receiving the laser light that deviates from the main optical axis, it is effective to prevent stray light within the laser marking device.
本発明の他の実施例を第7図、第8図を用いて説明する
。前記実施例に偏向器12とプリズム13を付記し、マ
スク8上を4分割し、それぞれの領域にレーザ光2を偏
向させ照射する。これにより、第8図のように2X2マ
トリツクス状のマーキングを行う6本実施例によれば同
一出力のレーザ発振器におけるマーキング面積を拡大で
きる。Another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 and 8. A deflector 12 and a prism 13 are added to the above embodiment, and the mask 8 is divided into four regions, and the laser beam 2 is deflected and irradiated onto each region. As a result, according to the six embodiments in which marking is performed in a 2×2 matrix as shown in FIG. 8, the marking area in a laser oscillator with the same output can be expanded.
本発明の他の実施例を第9図、第10図を用いて説明す
る。ここではレーザ発振器14として直線偏光パルスレ
ーザを用いるとともに、マーキングパターン形成用マス
クとして液晶マスク15を用いる。液晶マスク15は駆
動系16により動作し、レーザ光2の偏向方向を制御し
、偏光ビームスプリッタ17により、非マーキング光1
8を光路より分離し、吸収体19へ向かわせる。Another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 and 10. Here, a linearly polarized pulsed laser is used as the laser oscillator 14, and a liquid crystal mask 15 is used as a marking pattern forming mask. The liquid crystal mask 15 is operated by a drive system 16 to control the polarization direction of the laser beam 2, and a polarization beam splitter 17 to control the polarization direction of the laser beam 2.
8 is separated from the optical path and directed toward the absorber 19.
プリズム7と液晶マスク15の間は、第4図に示した距
離0以上離すことにより、プリズム7を通過後、結像光
学系9へ向かうレーザパルスP1m、およびP2mの光
軸より外れたレーザ光が液晶マスク15に照射されない
ようにした。By separating the prism 7 and the liquid crystal mask 15 by a distance of 0 or more as shown in FIG. 4, the laser beams deviating from the optical axis of the laser pulses P1m and P2m that pass through the prism 7 and head toward the imaging optical system 9 can be prevented. The liquid crystal mask 15 was prevented from being irradiated with the liquid crystal mask 15.
液晶マスク15の制御を第10図を用いて説明する。液
晶マスク15をレーザ照射領域に対応させ2分割し、マ
スク情報を表した同図の文字″12”にレーザが照射さ
れているときには、反対面に文字1134 T+が準備
されており、次に文字” 34 ’″側にレーザが照射
される際には文字141211側のマスク情報が書き換
えるよう制御する。Control of the liquid crystal mask 15 will be explained using FIG. 10. The liquid crystal mask 15 is divided into two parts corresponding to the laser irradiation area, and when the laser is irradiated on the character "12" in the figure representing the mask information, the character 1134 T+ is prepared on the opposite side, and then the character When the laser is irradiated on the "34" side, the mask information on the character 141211 side is controlled to be rewritten.
本実施例によれば、マーキングと、液晶マスク内容書き
換えが同時にできるため、マーキング内容可変型レーザ
マーキング装置での大面積・高速マーキングを可能にす
る。According to this embodiment, since marking and rewriting of the contents of the liquid crystal mask can be performed at the same time, it is possible to perform large-area, high-speed marking with a variable-marking-content type laser marking device.
また、はずれレーザ光が液晶マスクに照射されないので
液晶マスクの長寿命化に効果がある。Furthermore, since the liquid crystal mask is not irradiated with the stray laser beam, it is effective in extending the life of the liquid crystal mask.
以上説明した実施例においては、1台のレーザ発振器よ
り出力されたレーザ光をある振り角20sで偏向させる
ための偏向器として、ガルバノスキャンミラーを用いた
例を図示したが、鏡の一点を支点に鏡面の角度を変えら
れるものであればよく、また音響光学素子による偏向作
用を用いてもよい。In the embodiment described above, an example is shown in which a galvano scan mirror is used as a deflector for deflecting laser light output from one laser oscillator at a certain swing angle of 20 seconds, but one point of the mirror is used as a fulcrum. Any device may be used as long as it can change the angle of the mirror surface, and a deflection effect by an acousto-optic element may be used.
〔発明の効果〕
本発明によれば、高出力のパルスレーザ発振器を用いず
に、また1台の発振器で大面積のマーキングができるの
で経済的である。[Effects of the Invention] According to the present invention, a large area can be marked with one oscillator without using a high-output pulse laser oscillator, which is economical.
また、マスク面上のレーザ照射領域を完全に区分できる
ので、複数のパルスレーザ照射によっても被加工面上で
レーザ照射領域が重ならず、均一なコントラストのマー
キングを得られる。In addition, since the laser irradiation area on the mask surface can be completely divided, the laser irradiation areas do not overlap on the surface to be processed even when irradiated with a plurality of pulsed lasers, and marking with uniform contrast can be obtained.
さらに、光軸よりはずれたレーザ光を受けられるため装
置内部で迷光が発生することなく安全上の効果もある。Furthermore, since the laser beam deviated from the optical axis can be received, stray light does not occur inside the device, which has a safety effect.
液晶マスクを用いた装置では不要なレーザ光の照射を防
ぐために液晶マスク寿命向上の効果がある。Devices using a liquid crystal mask have the effect of extending the life of the liquid crystal mask by preventing unnecessary laser light irradiation.
さらに、マスクに対してほぼ垂直に照射されるレーザ光
の平行移動が、偏向器とプリズムという簡単な構成で実
現できるので、既存レーザマーキング装置の機能向上が
容易に行えるという効果もある。Furthermore, since the parallel movement of the laser beam irradiated almost perpendicularly to the mask can be achieved with a simple configuration of a deflector and a prism, there is also the effect that the functionality of existing laser marking devices can be easily improved.
第1図は本発明の一実施例であるレーザマーキング装置
の構成図、第2図は第1図の被加工面の平面図、第3図
は第1図のプリズム外観を示す斜視図、第4図は第1図
のプリズムによる光路分離説明図、第5図(1)、 (
2)は第4図のプリズムによる光路説明図、第6図(1
)ないしく3)はレーザビーム強度の特性図、第7図お
よび第9図は本発明の別の実施例であるレーザマーキン
グ装置の構成図、第8図および第10図は第7図および
第9図の被加工面の平面図である。
1・・・レーザ発振器、6,12・・・偏向器、7,1
3・・・プリズム、8・・・マスク、15・・・液晶マ
スマ、17・・・偏光ビームスプリッタ、θS・・・偏
向器にょ第1図
第7図
第2図
第3図
第4図Fig. 1 is a configuration diagram of a laser marking device which is an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a plan view of the processed surface of Fig. 1, Fig. 3 is a perspective view showing the external appearance of the prism shown in Fig. Figure 4 is an explanatory diagram of optical path separation by the prism in Figure 1, Figure 5 (1), (
2) is an explanatory diagram of the optical path by the prism in Figure 4, and Figure 6 (1)
) or 3) are characteristic diagrams of laser beam intensity, FIGS. 7 and 9 are configuration diagrams of a laser marking device that is another embodiment of the present invention, and FIGS. 8 and 10 are diagrams of FIGS. 7 and 9. FIG. 9 is a plan view of the processed surface of FIG. 9; 1... Laser oscillator, 6, 12... Deflector, 7, 1
3... Prism, 8... Mask, 15... Liquid crystal massmer, 17... Polarizing beam splitter, θS... Deflector Fig. 1 Fig. 7 Fig. 2 Fig. 3 Fig. 4
Claims (1)
をマーキング情報を持つマーキングパターンマスクに照
射し、前記マーキング情報を結像光学系により、被加工
面に転写する装置において、マーキングパターンマスク
のパルスレーザ光入射側にレーザ光軸を偏向させる偏向
器とプリズムとを備えたレーザマーキング装置。 2、パルスレーザ発振器からのパルスレーザ光を用いて
、マーキングパターンマスクの情報を被加工面上に転写
する装置において、パルスレーザ光を各パルス毎に偏向
させる手段と、該手段により光軸を変えられたレーザ光
を平行でしかも同一被加工物に対し、各パルスレーザ光
が重なることのないレーザ光に変換するプリズムとを、
前記パルスレーザ発振器と前記マーキングパターンマス
クとの間に設けたレーザマーキング装置。 3、請求項第1又は第2に記載のレーザマーキング装置
において、前記偏向器によつてレーザパルス1ショット
毎にレーザ光軸を変えられたレーザパルス光を、前記プ
リズムの頂点をまたがるように照射させるレーザマーキ
ング装置。 4、請求項第1ないし第3のいずれか1項に記載の、レ
ーザマーキング装置において、前記マーキングパターン
マスクとして液晶マスクを用い、該液晶マスマと前記結
像光学系との間に偏向ビームスプリッタを設けたレーザ
マーキング装置。 5、パルスレーザ発振器より出射させるパルスレーザ光
をマーキング情報を持つマーキングパターンマスクに照
射し、前記マーキング情報を結像光学系により、被加工
面に転写する装置において、マーキングパターンマスク
のパルスレーザ光入射側にレーザ光軸を偏向させる偏光
器とプリズムとを配置し、前記プリズムの頂点と一方側
とを通過し、前記結像光学系へ向かうパルスレーザ光軸
に対し、プリズムの頂点より他方側を通過し、かつレー
ザ光軸より外れる外れパルスレーザ光が結像光学系に入
射した距離にプリズムと結像光学系との間を離すことを
特徴とするレーザマーキング装置。 6、上記マーキングパターンマスクに液晶マスクを使用
する請求項5記載のレーザマーキング装置。 7、パルスレーザ発振器より出射させるパルスレーザ光
をマーキング情報を持つマーキングパターンマスクに照
射し、前記マーキング情報を結像光学系により、被加工
面に転写する装置において、パータンマスクの入射側に
偏向器とプリズムとを配置すると共に、パターンマスク
に液晶マスクを用い、液晶マスクには少なくとも2個の
マーキング情報表示部を有し、一方の表示部に表示した
マーキング情報にパルスレーザ光を照射している時に他
方の表示部にマーキング情報を表示することを特徴とす
るレーザマーキング装置。 8、パルスレーザ発振器より出射させるパルスレーザ光
をマーキング情報を持つマーキングパターンマスクに照
射し、前記マーキング情報を結像光学系により、被加工
面に転写する装置において、マーキングパターンマスク
のパルスレーザ光入射側にレーザ光軸を偏向させる偏光
器とプリズムとを配置し、前記プリズムの頂点と一方側
とを通過し、前記結像光学系へ向かうパルスレーザ光軸
に対し、プリズムの頂点より他方側を通過し、かつレー
ザ光軸より外れる外れパルスレーザ光を、パルスレーザ
光の光路より外れた位置に配置された遮光体に照射する
ことを特徴とするレーザマーキング装置。 9、上記マーキングパターンマスクに液晶マスクを使用
する請求項8記載のレーザマーキング装置。 10、パルスレーザ発振器より出射させるパルスレーザ
光をマーキング情報を持つマーキングパターンマスクに
照射し、前記マーキング情報を結像光学系により、被加
工面に転写する装置において、マーキングパターンマス
クのパルスレーザ光入射側にレーザ光軸を偏向させる偏
向器とプリズムとを配置し、前記偏向器におけるレーザ
パルス光の偏向半角θ_Sとプリズム傾斜角θ_Fと前
記レーザパルス光の波長におけるプリズム材質の屈折率
nとが、 n:sin(θ_S+θ_F)/sinθ_Fとなるプ
リズムを用いたことを特徴とするレーザマーキング装置
。 11、請求項1ないし10のいずれか1項に記載の偏向
器として走査鏡、もしくは音響光学素子を用いたことを
特徴とするレーザマーキング装置。[Scope of Claims] 1. In an apparatus that irradiates a marking pattern mask having marking information with a pulsed laser beam emitted from a pulsed laser oscillator and transfers the marking information to a workpiece surface by an imaging optical system, the marking pattern is A laser marking device includes a prism and a deflector that deflects a laser optical axis toward the pulsed laser light incident side of a mask. 2. In an apparatus that transfers information on a marking pattern mask onto a workpiece surface using pulsed laser light from a pulsed laser oscillator, a means for deflecting the pulsed laser light for each pulse and a means for changing the optical axis by the means are provided. A prism that converts the pulsed laser beams into parallel laser beams that can be applied to the same workpiece without overlapping each pulsed laser beam.
A laser marking device provided between the pulsed laser oscillator and the marking pattern mask. 3. The laser marking device according to claim 1 or 2, wherein the laser pulse light whose laser optical axis is changed for each laser pulse shot by the deflector is irradiated so as to straddle the apex of the prism. laser marking equipment. 4. In the laser marking device according to any one of claims 1 to 3, a liquid crystal mask is used as the marking pattern mask, and a deflection beam splitter is provided between the liquid crystal mask and the imaging optical system. Laser marking device installed. 5. In an apparatus that irradiates a marking pattern mask having marking information with a pulsed laser beam emitted from a pulsed laser oscillator and transfers the marking information to a workpiece surface using an imaging optical system, the pulsed laser beam is incident on the marking pattern mask. A polarizer and a prism for deflecting a laser optical axis are arranged on one side, and the other side is arranged from the apex of the prism to the pulsed laser optical axis that passes through the apex of the prism and one side and heads toward the imaging optical system. A laser marking device characterized in that the prism and the imaging optical system are separated by a distance at which the deviated pulsed laser light that passes through and deviates from the laser optical axis is incident on the imaging optical system. 6. The laser marking device according to claim 5, wherein a liquid crystal mask is used as the marking pattern mask. 7. In an apparatus that irradiates a marking pattern mask having marking information with a pulsed laser beam emitted from a pulsed laser oscillator and transfers the marking information to a workpiece surface using an imaging optical system, a deflector is provided on the incident side of the pattern mask. and a prism, a liquid crystal mask is used as the pattern mask, the liquid crystal mask has at least two marking information display sections, and the marking information displayed on one display section is irradiated with pulsed laser light. A laser marking device characterized in that marking information is displayed on the other display section at the same time. 8. In an apparatus that irradiates a marking pattern mask having marking information with a pulsed laser beam emitted from a pulsed laser oscillator and transfers the marking information to a workpiece surface by an imaging optical system, the pulsed laser beam is incident on the marking pattern mask. A polarizer and a prism for deflecting a laser optical axis are arranged on one side, and the other side is arranged from the apex of the prism to the pulsed laser optical axis that passes through the apex of the prism and one side and heads toward the imaging optical system. A laser marking device characterized by irradiating a light-shielding body disposed at a position away from the optical path of the pulsed laser beam with an deviated pulsed laser beam that passes through and deviates from the laser optical axis. 9. The laser marking device according to claim 8, wherein a liquid crystal mask is used as the marking pattern mask. 10. In an apparatus that irradiates a marking pattern mask having marking information with a pulsed laser beam emitted from a pulsed laser oscillator and transfers the marking information to a workpiece surface using an imaging optical system, the pulsed laser beam is incident on the marking pattern mask. A deflector for deflecting the laser optical axis and a prism are arranged on the side, and the deflection half angle θ_S of the laser pulse light in the deflector, the prism inclination angle θ_F, and the refractive index n of the prism material at the wavelength of the laser pulse light are A laser marking device characterized by using a prism where n: sin(θ_S+θ_F)/sin θ_F. 11. A laser marking device characterized in that a scanning mirror or an acousto-optic element is used as the deflector according to any one of claims 1 to 10.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1146826A JPH0313285A (en) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | Laser marking device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1146826A JPH0313285A (en) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | Laser marking device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0313285A true JPH0313285A (en) | 1991-01-22 |
Family
ID=15416401
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1146826A Pending JPH0313285A (en) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | Laser marking device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0313285A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103442839A (en) * | 2011-03-30 | 2013-12-11 | 日本碍子株式会社 | Method for marking metal member |
-
1989
- 1989-06-12 JP JP1146826A patent/JPH0313285A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103442839A (en) * | 2011-03-30 | 2013-12-11 | 日本碍子株式会社 | Method for marking metal member |
US9346124B2 (en) | 2011-03-30 | 2016-05-24 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for marking on metallic member |
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