JPH03123118A - Programmable switch circuit - Google Patents

Programmable switch circuit

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JPH03123118A
JPH03123118A JP1260608A JP26060889A JPH03123118A JP H03123118 A JPH03123118 A JP H03123118A JP 1260608 A JP1260608 A JP 1260608A JP 26060889 A JP26060889 A JP 26060889A JP H03123118 A JPH03123118 A JP H03123118A
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nmos transistor
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Abstract

PURPOSE:To quickly define the intermittent state of a switch even immediately after a power source is turned on, without increasing the power sonsumption by connecting a PMOS transistor in series to an NMOS transistor. CONSTITUTION:The circuit is provided with a PMOS transistor P1 of a floating gate type having a floating gate FG held in common with an NMOS transistor N1 and N2, and also, its control gate is connected to a power source Vcc as a high potential side. Accordingly, a period when the transistor P1 and N1 are both turned on is limited to an extremely short time such as the charge is injected to the floating gate FG, etc., a through-current can be nearly disregarded. In such a way, an output terminal Q can be charged quickly even immediately after the power source is turned on, without increasing the power consumption. As a result, an unstable state of a switch means immediately after the power source is turned on can be eliminated.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、種々の論理回路に利用されるプログラム可
能なスイッチ回路に関し、特に、消費電力を大きくする
ことなく、電源投入直後であっても、スイッチの断続状
態が素早く確定するようにしたプログラマブルスイッチ
回路に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a programmable switch circuit used in various logic circuits, and in particular, the present invention relates to a programmable switch circuit used in various logic circuits, and in particular, the present invention relates to a programmable switch circuit used in various logic circuits. , relates to a programmable switch circuit that quickly determines the on/off state of a switch.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来のプログラマブルスイッチ回路としては、例えば、
第3図に示すようなものがある。
For example, conventional programmable switch circuits include:
There is something like the one shown in Figure 3.

これは、記憶回路Mの出力端Qがゲートに接続されたN
チャネルMOSトランジスタ(以下、NMOSトランジ
スタと称する。)からなるトランスフアゲ−1−NTに
よって配線1及び2間を接続又は断絶するスイッチ回路
であって、出力端Qに高電位(論理値「l」)が出力さ
れている場合にはトランスファゲートNTがオンとなっ
て配線1及び2間が接続状態となり、出力端Qに低電位
(論理値「0」)が出力されている場合にはトランスフ
ァゲートN、がオフとなって配線1及び2間が断絶状態
となる。
This means that the output terminal Q of the memory circuit M is connected to the gate of N
This is a switch circuit that connects or disconnects wirings 1 and 2 by a transfer gate 1-NT consisting of a channel MOS transistor (hereinafter referred to as an NMOS transistor), and has a high potential (logical value "L") at the output terminal Q. is output, the transfer gate NT is turned on and the wirings 1 and 2 are connected, and when the output terminal Q is outputted with a low potential (logical value "0"), the transfer gate NT is turned on. , is turned off, and the wirings 1 and 2 are disconnected.

そして、記憶回路Mは、不揮発性記憶部3と電荷注入部
4とから構成されていて、不揮発性記憶部3は、電源V
CC及び接地間に、電気抵抗R及びフローティングゲー
ト形のNMOSトランジスタN1をこの順に直列に接続
すると共に、そのNMOSトランジスタN1のコントロ
ールゲートを電源■。、に接続して構成されている。
The memory circuit M is composed of a non-volatile memory section 3 and a charge injection section 4, and the non-volatile memory section 3 is connected to a power supply V
An electric resistance R and a floating gate type NMOS transistor N1 are connected in series in this order between CC and ground, and the control gate of the NMOS transistor N1 is connected to a power source (2). , is configured by connecting to.

また、NMO3I−ランジスクN、のフローティングゲ
ートFGは、電荷注入部4を構成するフローティングゲ
ート形のNMOSトランジスタN2のフローティングゲ
ートと共有されていて、NMO3)ランジスクN2はビ
ット線Bと接地との間に接続され、且つ、そのコントロ
ールゲートはワード線Wに接続されている。
Furthermore, the floating gate FG of NMO3I-Randisuk N is shared with the floating gate of floating gate type NMOS transistor N2 constituting the charge injection section 4, and NMO3) Ranjisku N2 is connected between bit line B and ground. and its control gate is connected to the word line W.

今、フローティングゲートFGに電荷が注入されていな
いものとすると、NMOSトランジスタNIのしきい値
電圧は通常の値(2V程度)を維持するから、電源Vc
c(5■程度)によってNMO3)ランジスクN、はオ
ンとなって出力端Qと接地との間は導通状態となり、出
力端Qの電位は低電位となる。
Now, assuming that no charge is injected into the floating gate FG, the threshold voltage of the NMOS transistor NI maintains its normal value (about 2V), so the power supply Vc
By c (approximately 5 .mu.), NMO3) is turned on, and conduction is established between the output terminal Q and the ground, and the potential of the output terminal Q becomes a low potential.

従って、トランスファゲートN、はオフとなるから、配
線1及び2間は断絶状態となる。
Therefore, transfer gate N is turned off, so that wirings 1 and 2 are disconnected.

また、ビット線B及びワード線Wに適当な高電圧を印加
してNMOSトランジスタN2で発生した負電荷をフロ
ーティングゲートFCに注入すると、そのフローティン
グゲートFGを共有するNMOSトランジスタN、のし
きい値電圧が上昇する。そして、しきい値電圧が電源■
。Cの電圧基」二となるまでフローティングゲートFG
に電荷を注入すれば、NMOSトランジスタN1は常時
オフとなる。
Furthermore, when a suitable high voltage is applied to the bit line B and the word line W and the negative charge generated in the NMOS transistor N2 is injected into the floating gate FC, the threshold voltage of the NMOS transistor N sharing the floating gate FG will be increased. rises. Then, the threshold voltage is the power supply ■
. Floating gate FG until voltage group C becomes 2
If charge is injected into the NMOS transistor N1, the NMOS transistor N1 is always turned off.

すると、出力端Qは、接地から断絶されると共に、電気
抵抗Rを介して接続された電源VCCによって充電され
て高電位となるから、トランスファゲートNTはオンと
なり、配線l及び2間は接続状態となる。
Then, the output terminal Q is disconnected from the ground and is charged by the power supply VCC connected through the electric resistance R to have a high potential, so the transfer gate NT is turned on and the wirings 1 and 2 are connected. becomes.

なお、フローティングゲー)FCに注入された電荷は、
紫外線を照射すれば消去することができ、NMO3I−
ランジスタN1のしきい値電圧を初期の値に再設定する
ことができる。
Note that the charge injected into the floating game (FC) is
It can be erased by irradiating it with ultraviolet light, and NMO3I-
The threshold voltage of transistor N1 can be reset to the initial value.

このように、フローティングゲートFCを、電荷が注入
されていない状態(非書き込み状態)又は注入されてい
る状態(書き込み状態)とすることにより、出力端Qが
低電位又は高電位となるため、記憶回路Mに1ビツトの
データを記憶させることができる。
In this way, by setting the floating gate FC in a state in which charges are not injected (non-writing state) or in a state in which charges are injected (writing state), the output terminal Q becomes a low potential or a high potential, so that the memory The circuit M can store 1 bit of data.

さらに、フローティングゲートFCに注入された電荷は
、電源■。0の給電、非供給状態に関係なく保存される
ため、電源の再投入時であっても、不揮発性記憶部3は
データを記憶している。
Furthermore, the charge injected into the floating gate FC is transferred to the power supply ■. Since the data is stored regardless of whether power is supplied or not, the nonvolatile storage unit 3 stores the data even when the power is turned on again.

従って、このようなプログラマブルスイッチ回路を用い
て配線1及び2間の導通状態を定義すれば、所望する論
理機能を有する論理回路を容易に実現することができる
から、例えばPLA(プログラマブル・ロジック・アレ
ー)等に好適に利用することができる。
Therefore, by defining the conduction state between wires 1 and 2 using such a programmable switch circuit, it is possible to easily realize a logic circuit having a desired logic function. ), etc.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、このような従来のプログラマブルスイッ
チ回路には、下記のような未解決の課題がある。
However, such conventional programmable switch circuits have the following unresolved problems.

即ち、電源VCCとNMOSトランジスタN、との間を
電気抵抗Rで接続した構成であるため、NMOSトラン
ジスタN、をオンとした場合に、電気抵抗R及びNMO
SトランジスタN1を経て電源VCC及び接地間に貫通
電流が流れてしまう。
That is, since the power supply VCC and the NMOS transistor N are connected by an electric resistance R, when the NMOS transistor N is turned on, the electric resistance R and the NMOS transistor N are connected.
A through current flows between the power supply VCC and ground via the S transistor N1.

この貫通電流は、NMO3I−ランジスタN、がオンと
なっている状態、即ち、電源■Ccが供給され且つフロ
ーティングゲー)FCに電荷が注入されていない状態で
は流れ続けてしまい、消費電力に大きな影響を与えてし
まう。
This through current continues to flow when the NMO3I-transistor N is on, that is, when the power supply Cc is supplied and no charge is injected into the floating gate FC, which has a large effect on power consumption. I end up giving.

そごで、従来は、できるだiJ消費電力が小さくなるよ
うに、電気抵抗Rの抵抗値を大きな値(数10〜数10
0GΩ程度)とすることにより、大きな貫通電流が流れ
ないようにしていた。
Conventionally, the resistance value of the electrical resistance R was set to a large value (several 10 to several 10
(approximately 0 GΩ) to prevent a large through current from flowing.

しかし、電気抵抗Rの抵抗値を大きくすると、消費電力
を小さくすることはできるが、フローティングゲー)F
Cに電荷が注入されている状態で電源VCCを再投入し
、出力端Qに高電位の出力を期待する場合に、出力端Q
の充電に長時間を要するという欠点が生じる。
However, by increasing the resistance value of the electrical resistance R, power consumption can be reduced;
When the power supply VCC is turned on again with charge being injected into the output terminal Q and a high potential is expected to be output from the output terminal Q,
The drawback is that it takes a long time to charge the battery.

このため、電源投入直後は、トランスファゲートNTの
状態、即ち、配線1及び2の導通状態が定まらないから
、これら配線1及び2の接続状態によって定義される論
理回路の状態が不安定になってしまう。
Therefore, immediately after the power is turned on, the state of the transfer gate NT, that is, the conduction state of wires 1 and 2, is not determined, so the state of the logic circuit defined by the connection state of these wires 1 and 2 becomes unstable. Put it away.

この発明は、このような従来の技術が有する未解決の課
題に着目してなされたものであり、消費電力を大きくす
ることなく、電源投入直後であってもスイッチの断続状
態が素早く確定するプログラマブルスイッチ回路を提供
することを目的としている。
This invention was made by focusing on the unresolved problems of the conventional technology, and is a programmable technology that quickly determines the on/off state of the switch even immediately after power is turned on, without increasing power consumption. The purpose is to provide switch circuits.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成するために、本発明のプログラマブルス
イッチ回路は、高電位側と低電位側との間を、直列に接
続されたフローティングゲート形PチャネルMO3I−
ランジスタ及びフローティングゲート形NチャネルMO
Sトランジスタを介して接続すると共に、前記両トラン
ジスタのコントロールゲートを高電位側若しくは低電位
側に接続し、さらに、前記両トランジスタ間の接続点の
電位に応じて断続するスイッチ手段と、前記両トランジ
スタのフローティングゲートに電荷を注入する電荷注入
手段と、を設けてなる。
In order to achieve the above object, the programmable switch circuit of the present invention has floating gate type P channel MO3I-
Transistor and floating gate type N-channel MO
a switch means which is connected via an S transistor, and which connects the control gates of the two transistors to a high potential side or a low potential side, and which is turned on and off according to the potential of a connection point between the two transistors; charge injection means for injecting charge into the floating gate of the device.

〔作用〕[Effect]

フローティングゲート形のPチャネルMOSトランジス
タ(以下、PMOSトランジスタと称する。)とフロー
ティングゲート形のNMOSトランジスタとを直列に接
続しているため、両トランジスタのフローティングゲー
トに電荷が注入されていない状態にあっては、それらの
コントロールゲートが高電位側に接続されていれば、P
MOSトランジスタはオフとなり且つNMO3I−ラン
ジスタはオンとなる。この結果、スイッチ手段には接続
点を介してNMOSトランジスタが接続された側の電位
が供給される。一方、コントロールゲートが低電位側に
接続されていれば、PMOSトランジスタはオンとなり
且つNMOSトランジスタはオフとなるため、スイッチ
手段には接続点を介してPMOSトランジスタが接続さ
れた側の電位が供給される。
Since a floating gate type P-channel MOS transistor (hereinafter referred to as a PMOS transistor) and a floating gate type NMOS transistor are connected in series, no charge is injected into the floating gates of both transistors. If their control gates are connected to the high potential side, P
The MOS transistor is turned off and the NMO3I-transistor is turned on. As a result, the potential on the side to which the NMOS transistor is connected is supplied to the switch means via the connection point. On the other hand, if the control gate is connected to the low potential side, the PMOS transistor is turned on and the NMOS transistor is turned off, so the switching means is supplied with the potential of the side to which the PMOS transistor is connected via the connection point. Ru.

そして、フローティングゲートに電荷が注入されれば、
PMOSトランジスタ及びNMOSトランジスタのしき
い値電圧は変化するため、上記とは逆の動作を得ること
ができる。
Then, if charge is injected into the floating gate,
Since the threshold voltages of the PMOS and NMOS transistors change, an operation opposite to that described above can be obtained.

従って、PMOSトランジスタ及びNMOSトランジス
タが共にオンとなる場合はフローティングゲートに電荷
を注入する際等の極短い時間に限られるため、貫通電流
は殆ど無視することができ、消費電力を小さく抑えるこ
とができる。
Therefore, when both the PMOS transistor and the NMOS transistor are turned on, it is limited to a very short time such as when injecting charge into the floating gate, so the through current can be almost ignored, and power consumption can be kept low. .

このため、従来のような高負荷抵抗を用いる必要がない
から、電源投入時に、出力端の充電に多くの時間はかか
らない。
Therefore, there is no need to use a high load resistor as in the conventional case, so it does not take much time to charge the output terminal when the power is turned on.

〔実施例〕 以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。〔Example〕 Embodiments of the present invention will be described below based on the drawings.

第1図及び第2図は本発明の一実施例を示した図であり
、第1図は実施例の構成を示す回路図である。
1 and 2 are diagrams showing an embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of the embodiment.

なお、上記従来の技術で説明した第3図と同様の部位等
には、同じ符号を付し、その重複する説明は省略する。
Note that the same parts and the like as in FIG. 3 explained in the above-mentioned conventional technique are given the same reference numerals, and the redundant explanation thereof will be omitted.

即ち、本実施例の構成は、第3図における電気抵抗Rに
代えて、NMOSトランジスタN、及びN2と共有のフ
ローティングゲートFCを有するフローティングゲート
形のPMOSトランジスタP、を設けると共に、そのコ
ントロールゲートを高電位側としての電源VCCに接続
したことを除いては、上述した従来のプログラマブルス
イッチ回路と同じである。
That is, in the configuration of this embodiment, an NMOS transistor N and a floating gate type PMOS transistor P having a floating gate FC shared with N2 are provided in place of the electrical resistor R in FIG. 3, and the control gate thereof is It is the same as the conventional programmable switch circuit described above except that it is connected to the power supply VCC as the high potential side.

今、フローティングゲートFCに電荷が注入されていな
いもの(書き込み前である)とし、その状態でのNMO
SトランジスタN1のしきい値電圧を■ア、(低電位側
としての接地の電圧からの変位量)、PMOSトランジ
スタP、のしきい値電圧を−VTP(電源■。、の電圧
からの変位量)とする(第2図参照)。
Now, assume that no charge is injected into the floating gate FC (before writing), and in that state, the NMO
The threshold voltage of the S transistor N1 is expressed as A, (the amount of deviation from the ground voltage as the low potential side), and the threshold voltage of the PMOS transistor P is expressed as -VTP (the amount of deviation from the voltage of the power source). ) (see Figure 2).

この場合、PMOSトランジスタP1及びNMOSトラ
ンジスタN、のコントロールゲートは、電源VCCに接
続されているため、PMOSトランジスタP、はオフと
なり、且つ、NMO3I−ランジスタN1はオンとなる
In this case, since the control gates of the PMOS transistor P1 and the NMOS transistor N are connected to the power supply VCC, the PMOS transistor P is turned off and the NMOS transistor N1 is turned on.

従って、出力端Qは電源VCCから切り離されると共に
、接地に接続されるから、その電位は低電位となってス
イッチ手段としてのトランスファゲートNtはオフとな
り、配線1及び2間は断絶状態となる。
Therefore, since the output terminal Q is disconnected from the power supply VCC and connected to the ground, its potential becomes a low potential, and the transfer gate Nt as a switching means is turned off, and the wirings 1 and 2 are disconnected.

次に、電荷注入手段としての電荷注入部4によってフロ
ーティングゲ−1−FCに負電荷を注入すると、PMO
3)ランジスクP、のしきい値電圧は減少して−VTP
+ΔVTPとなり、且つ、NMOSトランジスタN、の
しきい値電圧は増加して■ア、+ΔVTNとなる。
Next, when a negative charge is injected into the floating gate 1-FC by the charge injection unit 4 as a charge injection means, the PMO
3) The threshold voltage of Ranjisk P decreases to -VTP
+ΔVTP, and the threshold voltage of the NMOS transistor N increases to +ΔVTN.

なお、しきい値電圧の変化分ΔV7p及びΔVTNは、
トランジスタP、及びN、の大きさ等によって決まる値
であり、絶縁層の厚さ等を適宜調整することにより、Δ
VT、−Δ■ア、とすることも可能である。
Note that the changes in threshold voltage ΔV7p and ΔVTN are as follows:
This value is determined by the size of the transistors P and N, and by adjusting the thickness of the insulating layer as appropriate, Δ
It is also possible to set VT, -Δ■A.

そして、電荷を注入した後(書き込み後)のしきい値が
、第2図に示すように、−■ア、+Δ■7F〉0で、且
つ、VTN+ΔVyH#V((となるまで、負電荷を注
入する。
Then, the negative charge is injected until the threshold value after injecting the charge (after writing) is -■A, +Δ■7F〉0 and VTN+ΔVyH#V(((), as shown in FIG. inject.

すると、PMO3I−ランジスタP1はデプレッション
モードになってオンとなり、且つ、NMOSトランジス
タN1はオフとなるため、出力端Qは、接地から切り離
されると共に電源■。Cに接続されるから、充電されて
高電位となってトランスファゲートNTはオンとなり、
配線1及び2間は接続状態となる。
Then, the PMO3I-transistor P1 goes into depletion mode and turns on, and the NMOS transistor N1 turns off, so the output terminal Q is disconnected from the ground and the power supply ■. Since it is connected to C, it is charged and becomes a high potential, and the transfer gate NT is turned on.
Wirings 1 and 2 are in a connected state.

このように、本実施例では、通常の動作状態であれば、
PMOSトランジスタP1及びNMOSトランジスタN
1が同時にオンとなる場合がないため、電源VCC及び
接地間を大きな貫通電流が流れることはない。
In this way, in this embodiment, under normal operating conditions,
PMOS transistor P1 and NMOS transistor N
1 are not turned on at the same time, no large through current flows between the power supply VCC and ground.

従って、消費電力を小さく抑えることができると共に、
電源■。、及び接地間に高負荷抵抗を設ける必要がない
から、電源投入時等であっても出力端Qの充電に長時間
を要することがない。
Therefore, power consumption can be kept low, and
Power ■. Since there is no need to provide a high load resistor between , and ground, it does not take a long time to charge the output terminal Q even when the power is turned on.

このため、電源投入直後のl・ランスファゲートベアの
不安定状態を無くすことができ、論理回路の安定した動
作を得ることができる。
Therefore, the unstable state of the l transfer gate bare immediately after power is turned on can be eliminated, and stable operation of the logic circuit can be obtained.

なお、上記実施例では、PMOSトランジスタPI及び
NMOSトランジスタN、のコントロールゲートを、高
電位側としての電源■。Cに接続し1 1ま た場合について説明したが、これに限定されるものでは
なく、低電位側としての接地に接続してもよい。但し、
この場合には、フローティングゲートFCに注入する電
荷を正電荷として、プログラミングによりNMOSトラ
ンジスタN、をオンさせ、PMOSトランジスタP+を
オフさせるようにしてもよく、又は、書き込み前のPM
OSトランジスタP、のしきい値電圧−VTFを接地電
圧近傍の値とし、且つ、NMOSトランジスタN1のし
きい値電圧■ア、を接地電圧以下の値とし、さらに、書
き込み後のPMOSトランジスタP1のしきい値電圧を
接地電圧よりも充分高い値とし、且つ、NMO3I−ラ
ンジスタN、のしきい値電圧を接地電圧よりも高い値と
して、プログラミングによりフローティングゲートFG
に負電荷を注入して、トランジスタN+、P+をそれぞ
れオフ、オンするようにしてもよい。
In the above embodiment, the control gates of the PMOS transistor PI and the NMOS transistor N are connected to the power supply (2) as the high potential side. Although the case has been described in which it is connected to C, the case is not limited to this, and it may be connected to ground as the low potential side. however,
In this case, the charges injected into the floating gate FC may be positive charges, and the NMOS transistor N may be turned on and the PMOS transistor P+ may be turned off by programming.
The threshold voltage -VTF of the OS transistor P is set to a value near the ground voltage, and the threshold voltage (A) of the NMOS transistor N1 is set to a value below the ground voltage. By setting the threshold voltage to a value sufficiently higher than the ground voltage, and setting the threshold voltage of the NMO3I transistor N to a value higher than the ground voltage, the floating gate FG is set by programming.
By injecting negative charge into the transistors N+ and P+, transistors N+ and P+ may be turned off and on, respectively.

また、上記実施例では、PMO3I−ランジスタP1を
高電位側としての電源VCC側に接続し、且つ、NMO
SトランジスタN1を低電位側としての接地側に接続し
た場合について説明したが、これらの関係は逆にするこ
とも可能である。
Further, in the above embodiment, the PMO3I-transistor P1 is connected to the power supply VCC side as the high potential side, and the NMO
Although the case has been described in which the S transistor N1 is connected to the ground side, which is the low potential side, these relationships can also be reversed.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明のプログラマブルスイッチ
回路によれば、高電位側及び低電位側間を大きな貫通電
流が流れることがなく、高電位側及び低電位側間に高負
荷抵抗を介挿する必要がなくなるから、消費電力を大き
くすることなく、電源投入直後であっても出力端を素早
く充電することができ、その結果、電源投入直後のスイ
ッチ手段の不安定状態を無(すことができるという効果
がある。
As explained above, according to the programmable switch circuit of the present invention, a large through current does not flow between the high potential side and the low potential side, and a high load resistor is inserted between the high potential side and the low potential side. Since this is no longer necessary, the output terminal can be quickly charged even immediately after the power is turned on without increasing power consumption, and as a result, the unstable state of the switching means immediately after the power is turned on can be eliminated. There is an effect.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例の構成を示す回路図、第2図
はPMOSトランジスタ及びNMO3I−ランジスタの
書き込み前後におけるしきい値電圧の変化の一例を示す
説明図、第3図は従来の技術を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram showing an example of changes in threshold voltage before and after writing in a PMOS transistor and an NMO3I-transistor, and FIG. 3 is a circuit diagram showing a conventional FIG. 2 is a circuit diagram illustrating the technology.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)高電位側と低電位側との間を、直列に接続された
フローティングゲート形PチャネルMOSトランジスタ
及びフローティングゲート形NチャネルMOSトランジ
スタを介して接続すると共に、前記両トランジスタのコ
ントロールゲートを高電位側若しくは低電位側に接続し
、さらに、前記両トランジスタ間の接続点の電位に応じ
て断続するスイッチ手段と、前記両トランジスタのフロ
ーティングゲートに電荷を注入する電荷注入手段と、を
設けたことを特徴とするプログラマブルスイッチ回路。
(1) The high potential side and the low potential side are connected via a floating gate type P-channel MOS transistor and a floating gate type N-channel MOS transistor connected in series, and the control gates of both transistors are set to a high level. A switch means connected to a potential side or a low potential side and further includes a switch means that is turned on and off according to a potential of a connection point between both the transistors, and a charge injection means that injects charge into the floating gates of both the transistors. A programmable switch circuit featuring:
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1992016946A1 (en) * 1991-03-19 1992-10-01 Fujitsu Limited Semiconductor memory having nonvolatile semiconductor memory cell
US5982661A (en) * 1998-07-31 1999-11-09 Fujitsu Limited Memory device
US6976788B2 (en) 2001-03-27 2005-12-20 Nok Corporation Thrust bearing
JP2012074410A (en) * 2010-09-27 2012-04-12 Toshiba Corp Switch array
JP2012079889A (en) * 2010-09-30 2012-04-19 Toshiba Corp Semiconductor device
JP2013239597A (en) * 2012-05-15 2013-11-28 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1992016946A1 (en) * 1991-03-19 1992-10-01 Fujitsu Limited Semiconductor memory having nonvolatile semiconductor memory cell
US5469381A (en) * 1991-03-19 1995-11-21 Fujitsu Limited Semiconductor memory having non-volatile semiconductor memory cell
US5982661A (en) * 1998-07-31 1999-11-09 Fujitsu Limited Memory device
US6976788B2 (en) 2001-03-27 2005-12-20 Nok Corporation Thrust bearing
JP2012074410A (en) * 2010-09-27 2012-04-12 Toshiba Corp Switch array
US8552763B2 (en) 2010-09-27 2013-10-08 Kabushiki Kaisha Toshiba Switch array including active regions being adjacent to each other in channel width direction of memory cell transistor
JP2012079889A (en) * 2010-09-30 2012-04-19 Toshiba Corp Semiconductor device
JP2013239597A (en) * 2012-05-15 2013-11-28 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit

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