JPH03119841A - 周波数変調光信号の受光装置 - Google Patents

周波数変調光信号の受光装置

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JPH03119841A
JPH03119841A JP2255481A JP25548190A JPH03119841A JP H03119841 A JPH03119841 A JP H03119841A JP 2255481 A JP2255481 A JP 2255481A JP 25548190 A JP25548190 A JP 25548190A JP H03119841 A JPH03119841 A JP H03119841A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の分野) この発明の目的は周波数変調光信号の受光装置を提供す
ることである。
この発明は光通信への適用、とりわけ高密度の波長多重
ネットワークを構成することに使用できる。これは更に
、研究所での周波数変調の測定と半導体レーザの特性の
記述にも使用できる。
(従来の技術) 光信号に使用されている種々の変調方式の中で、FSK
じ周波数シフトキーインク)変調が広く使用されている
。その変調方式は送信される情報に従って放出される光
信号の周波数を移動させることである。この変調は分極
電流を変調することにより単一周波数の半導体レーザか
ら容易に得られる。強度変調の場合と反対に、レーザか
ら放出される光は全て変調の深さに拘らず周波数変調さ
れている。言い換えれば100%変調に等しい。
FSX変調された光信号の検波は、一般にコヒーレント
検波またはファプリーベロ規格による強度変調の直接変
換のいずれかにより行われている。1番目の方法には、
局部発振器(一般には波長同調形単一周波数レーザによ
り構成されている)、高速光検波器、信号の混合と合成
の電子回路(中間周波数弁別器、判定回路、中間周波数
安定回路)を使用することが必要となり、これにより良
い性能が得られても、その構成は難しい。第2の方法は
殆ど等しいが、変調される信号の周波数を標準の共振周
波数の1つに同調させる制御回路の使用が必要となる。
更に、広範囲に周波数を同調させることができず、これ
によりチャネルを高密度に波長多重することができなく
なる。
光通信の変復調に対するこれらの問題に関して、IEE
E  ジャーナル オブ クオンタム エレクトロニク
ス(Jurnal of Quantum Elect
ronics)、1981年6月、Na6.QE−17
巻、919頁から935頁に掲載されたヤマモト ヨシ
ヒサ (Yamamot。
Yoshihisa )他の論文による文献がある。
更に、処理される発光ビームが注入される半導体レーザ
を使用して、比較的簡単に構成される受光装置がいくつ
かある。これらの装置には、厳密には復調器としての機
能がないが、むしろ自動周波数制御装置としての機能が
ある。これらの装置が記載されているのは、ジャーナル
 オブ ライトウェーブ チクノロシイ(Jurnal
 of LightwaveTechnology) 
 1983年6月、No、2.LT−1巻、294〜4
01頁に掲載されたコバヤシ ソウイチ(Kobaya
shi 5oichi)他の題名が[オートマチック 
フリークエンシイ コントロール イン アセミコンダ
クタ レーザ アンド アン オプティカル アンブリ
ファイヤ(Sem1conductorLaser a
nd an 0ptical Amplifier) 
Jの論文と、I EEE  ジャーナル オブ クオン
タム エレクトロニクス、 1980年9月、 N(L
9. QE−16巻、 915頁から917頁に掲載さ
れたコバヤシソウィチ他の題名が[インジェクション 
ロッキング キャラクチリスチック オブ アンAβG
aAs  セミコンダクタ レーザ(Injectio
n Locking Character −1sti
cs of an AJ2GaAs  Sem1con
ductor La5er)Jの論文である。
発明は簡潔に述べられており、この発明により周知の技
術による一定の素子を使用できるので、後者の論文の主
な特性は記載されていない。
前述の論文に記載されている技術では、処理される発光
ビームが注入される半導体レーザを使用している(”オ
プティカル インジェクション ロッキング” (Op
tical−Injection−Locking)技
術)。
レーザはスレショルドに近づ(電流により与えられてい
る(すなわち、実質的にスレショルド電流を0.7倍か
ら163倍の間にする)。レーザが増幅系としての機能
を果たし、“インジェクションロックド アンブリファ
イヤ(injection−1ockedamplif
ier )” (ILA)または゛レゾナントタイプ 
アンブリファイヤ(resonant−typeamp
lifier)” (RTA)と呼ばれている。放出さ
れるレーザは“マスク(master)”レーザとして
知られており、放出が注入されるレーザは゛°スレーブ
(slave)”レーザとして知られている。
スレーブレーザはある周波数帯において動作する。増幅
器の活性層が交差したところで注入されたビームは、ビ
ームの周波数により増幅帯域内で占有した場所に応じて
増幅される。この′増幅は帯域の中央において最大であ
り、両側では減少している。
活性層に光を注入することには光の密度とそれに関連し
た光電力を増幅させる重要な効果がある。その結果、レ
ーザの端子電圧は若干減少する。添付の第1図の曲線に
示すように(前述のコバヤシの1番目の論文の第6図の
曲線の1つをほぼ再現したもの)、電圧Vの減少が示す
共振の形(すなわち、逆ベルの形)の最小(または、必
要ならば電位差が最大)はマスターレーザから誘導され
た注入光信号の周波数Fがスレーブレーザの増幅帯域の
中心周波数F0に等しい時である。この電位差が減少す
るのは、周波数Fがロック領域を離れた時消失するよう
にするため、周波数FがFoから移動する時である。
この現象はスレーブレーザの分極電流の値に自然に関連
している。第2図(前記文献の第4図の曲線の1つを概
略再現したもの)には、比I/I。
に対する電圧ΔVの変化を示している。この変化は分極
電流がスレショルド電流に近づいたとき(I /1.=
 1 )大きくなる。電圧変化がほぼ零になるのはスレ
ーブレーザがスレショルド電流より1.3倍または1.
4倍大きい電流により分極されている時である(縦座標
は対数メモリであることに注意)。スレショルドを2倍
にすると、電圧変化は約1/100ミリボルトであり利
用できない。この理由は、この技術ではスレショルドに
常に近くなるからである(前述の論文で述べた測定の殆
どはスレショルド電流の1.1倍に等しい分極電流に対
応している)。
第1図のような電圧変化により、周波数制御ができると
考えることができ、マスタレーザの周波数Fを基準にす
るならばスレーブレーザの端子電圧の変化を誤った信号
とみなすことにより、スレーブレーザの中心周波数F。
を例えばスレーブレーザの温度を変えることにより周波
fiFまで戻すことができる。
一方、周波数F。で注入された信号の周波数変化を知り
たいならば、第1図に示されている電圧変化を取り出す
必要がある。第3図のように得られた曲線は前記の文献
の第12図の曲線に概略対応している。
電圧変化を取り出すその他のやり方は複雑である。実際
、この方法にはマスタレーザに対してスレーブレーザの
周波数を安定にする装置があるが、周波数復調装置はな
いので電圧変化を必要としない。
この周知の技術では、前述のように半導体スレーブレー
ザがスレショルドに近い増幅器として機能しており、端
子に表われる電圧はいつものベルの形をした負の変化を
下回り、測定された電圧変化のみにより符号を別にすれ
ば周波数に差が生ずる。
(発明の要約) この発明はある部分においては、新奇な方法で実施する
ことを除くと前述の技術によっているが、それはスレー
ブレーザの端子における電圧が範囲のみでなく、符号の
面でも周波数の違いを示しているからである。このよう
に、適当な信号をもはや取り出す必要がなくなる。驚く
ほど極めて好都合なことに、入射信号の周波数変調は電
圧変調により直接表わされる。
この結果は受光装置のレーザ(またはスレーブ)をスレ
ショルドにおいてうまく機能させることにより得られ、
実際にはスレショルドの2倍を越えたところで得られる
。これらの条件において、レーザは従来の技術における
ような増幅器としての機能を行わず、発振器として機能
を行なう。レーザには中心発振周波数F。(または中心
波長え。)がある。発光ビームをこの発振器の活性層に
挿入することは光の密度の変化がほとんどなく、スレシ
ョルドにおいては発振機能の状態を良くするため光の密
度は極端に大きい。従来の技術に対する前述の現象は、
存在するとしても重要とは言えない。更に、前に示した
ように第2図の曲線によりスレショルドにおいて2倍さ
れることにより、この減少が殆ど生じないことが示され
る。
更に他のメカニズムが生じ、それにより他の現象が表わ
れるが、それはF。と異なる周波数Fでビームを注入す
ることにより発振器の周波数がスライドすることであり
、この周波数のスライドは活性層の屈折率が変化するこ
とにより示される。この変化ΔF=F−F、はFoに対
するFの位置により正または負となる。FがF0未満で
あるならば(言い換えれば、波長んがλ。を越えるなら
ば)、屈折率は増加し、発振器の周波数はロック、すな
わち固定されている。この屈折率の増加には活性層の障
壁の密度を減少させることにより得られる。
この屈折率が減少するならば、障壁の密度の単位あたり
の変化に対する屈折率の変化の比(dn/dN)は負な
ので障壁の密度は増加し、その逆も成り立つ。しかし、
障壁の密度により活性層におけるフェルミ準位の分離が
決まり、フェルミ準位の分離はレーザの接合点pnの端
子電圧に対応している。この電圧はFがF。より小さい
時は減少し、FがF。より大きい時は増加する。F=F
oならば不変のままである。
このように電圧変化が得られ、その範囲と符号は入射ビ
ームの周波数Fと基準レーザ発振器の中心周波数F0と
の間の差に対応している。 従来の技術に含まれる現象
との主な違いとして注目すべて点は、後者では電圧変化
がF=Foに対しては常に負で最大であり、この発明で
はその変化はある瞬間では正であり、他の瞬間では負で
あり、F=F、の時は零となる。この発明では、受光装
置は周波数の差を直接検出するが、補助の誘導回路の使
用に頼る必要はない。この新しい受光装置の特性には極
めて多くの利点がある。
出願者は図から次の結果を得ている。
(1)波長選択性:光電力が一30dBmの時0. O
4nm、(2) 2 GHzを越える電気的通過範囲、
(3)感度: −30dBm 。
(4)電圧/周波数変換係数(dV/dF)  : 7
50MHzで約50μV/GHz 。
(5)温度変化による波長の同調: 0.065nm 
/ ’C及び分極電流の変化による波長の同調: 0.
013mm/mA。
(6)寸法:  0.4X O,lX O,3mm”よ
り詳細には、この発明の目的は周波数変調光信号に対す
る受光装置を提供することであり、その受光装置には、
活性層、スレショルド電流と中心周波数を有する単一周
波数の半導体と、スレショルドを越えてレーザに供給す
る分極電流源と、周波数変調発光ビームなレーザの活性
層の中に注入する光学装置と、レーザの端子で電圧を取
り出す装置があり、この受光装置は電源からの供給電流
がレーザのスレショルドよりかなり大きな値に調整され
ていることを特徴としており、レーザは発振器として機
能しており、電圧を取り出す装置は注入されたビームが
無いときに加えられた中心電圧に対し表示された電圧を
供給しており、振幅の変化が注入されたビームの周波数
とレーザの中心周波数の間の差と符号、すなわち前記周
波数の差の符号に比例しており、発光ビームの周波数変
調がレーザの端子に加えられた電圧の振幅変調に直接変
換されている。
(実施例) 以下、図面に基づきこの発明を更に詳しく説明する。第
4図には分布帰還形レーザ10を示している。この種の
レーザは従来、積み重ねた半導体層から作られており、
この半導体層には挟み込む2つの層により構成されてい
る1つの活性層と、1つの分布ネットワークがある。半
導体はInPの上にあるInGaAsPのようなm−v
族の2元、3元または4元の化合物に属している。レー
ザは電流源12により供給され、端子電圧の測定装置1
4が取り付けられている。
注入された電流Iはレーザのスレショルド電流I8より
2倍大きい。レーザはこのように発振器として動作状態
に置かれている。レーザは波長え。
(または周波数がF。)の放射16.18を放出する。
放射16と18の相対的な強度は、レーザの表面の反射
係数により左右される。この発明に対し直接与えられな
いこれらの条件の説明については特徴はない。
周波数がF(または波長がえ)の発光ビーム20はレー
ザlOの中に注入される。その周波数は変調できると仮
定している。説明として、図の左は周波数が2つの値F
1とF2を取ると仮定して示している(Flは2値情報
系の論理0に対応しF2は論理1に対応している)。
装置14によりレーザの端子で取る電圧■は右側に示さ
れた2つの値■1と■2を取り、2つの周波数F1とF
2に対応していると仮定している。
この例では、周波数FlとF2はレーザの中心周波数F
。で囲み、F2はF。より大きいと仮定している。
この仮定と前述の説明により、受信したレーザの動作周
波数はビーム20が注入されたことによりFlまたはF
2の方にスライドしており、これにより動作電圧が上方
または下方に移動する。これにより、電圧変化が常に負
である技術と相違が明らかになる。レーザの中心周波数
から離れた2つの周波数により、レーザの端子で従来の
技術とほぼ同じ電圧が得られ、それぞれを識別すること
はかなり困難となる。
第5図に示す実験的な組み立てによりこの発明の受光装
置を調べることができる。ここでレーザ10は電源12
により供給されている。第5図にはエミッタとして動作
するレーザ30も示してあり、このレーザは誘導性抵抗
とコンデンサを含む“T”34を通して電流源32によ
り供給されており、コンデンサは高周波発振器36に接
続されている。レーザ30に注入された電流は強度変調
されている。その結果、放出された発光ビームは平均の
周波数の近くで周波数変更されている。光学装置は、更
に変調ビームを受光装置として動作するレーザlOの中
に注入することも行なっている。これらの装置には、1
番目のレンズL1、減衰器A、偏光プリズムP、半波長
プレートLD、顕微鏡のレンズとなることができる2番
目のレンズL2がある。装置A。
P、LDは光学的に絶縁機能を果たしている。
レーザの端子にある電圧測定装置としては、誘導性抵抗
とコンデンサから成るT”40の後に増幅器42とスペ
クトラムアナライザ44がある。このアナライザにより
発生器36の変調周波数における電圧成分の強度が得ら
れる。
組立てには更に破線の矩形50.52により図示された
レーザの恒温装置がある。
そのような組立てにより出願者は第6図と第7図に示す
ように、一定の量を測定した。これらの測定では、放出
及び受信されたレーザの分極電流はそれぞれ35mA及
び49mAであり、それはスレショルド電流の2.2倍
である。レーザの温度は20℃に安定にされている。放
出レーザ(または受信レーザ)の光周波数は、温度を変
えることにより移動することができる。放出レーザの変
調は分極電流を変更することにより得られる。
第6図にはマイクロボルトで表わされ縦座標にある電圧
ΔVの変化を示しており、それはギガヘルツで表わされ
る周波数の左ΔFに対応しており、この差は放出レーザ
30の周波数Fと受信レーザ10の中心周波数F。の間
隔である。
示されている曲線は一30dBmの注入電力に対応して
いる。
ZAの印を付けられた領域はロックの範囲に対応してお
り、この範囲は受光装置が注入ビームの周波数にロック
されている範囲である。この範囲内では、電圧対周波数
の比は直線的である。この範囲外では差F−F、は発振
器に対して大きすぎるので注入された波の周波数にロッ
クできない。周波数F。では発振状態が自然であり電圧
は公称の値をもつ。
第7図には同様な曲線を示しており、変調周波数は75
0MHzに等しい。曲線CIは注入光電力が一30dB
n+ 、すなわち1μWに、曲線C2は一40dBm 
、すなわち0.1μWに対応している。
変換比は約52V/GHzである。
受光装置の温度またはその分極電流を変えることにより
中心周波数F。とロック領域を移すことができる。この
ように、波長が異なっていることを別にすれば、同じ種
類の受光装置を使用することができ、これは多重システ
ムに有益である。これは第8図に示されており、この図
にはそれぞれが波長え1.・・・、え6.・・・、え、
により光信号を運ぶN個の光ファイバF。0.・・・、
FQI、・・・、 FONと、受信の側には波長λ1.
・・・、え6.・・・、λ2の関数であり温度TI、・
・・I T l l・・・、 TNで安定化されている
N個の受光装置Pi(1,・・・、 PH,、・・・P
 11 Nが示されている。
もちろん、前の記述は説明としてDFBレーザのみにつ
いて述べている。他のいかなるレーザも使うことができ
、それには量子ピット/活性層レーザ、多電極レーザ(
レーザチップが分離したいくつかの電極から成る)、マ
ルチセクションレーザ(反射、ガイド、増幅のセクショ
ンから成る)がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は過去に記載されており、周波数に基づ〈従来の
技術により得られた電圧変化を示しており、 第2図は過去に記載されており、分極電流に基づ〈従来
の技術により得られた電圧変化を示しており、 第3図は過去に記載されており、従来の技術により得ら
れた電圧の導関数を示しており、第4図はこの発明によ
る受光装置の動作原理を図示しており、 第5図はこの発明による受光装置を用いた実験の組立を
示し、 第6図は周波数差によるレーザの端子に与えられた電圧
の変化を図示しており、 第7図は2つの異なる光電力を有した電圧変化に対する
2つの特別な場合を示しており、第8図はこの発明によ
る多数の受光装置を用いた多重/分波装置を示している
。 10−m−分布帰還レーザ、12.32−−一電流源、
14−m一端子電圧の測定装置、 16、18−−一放射、   20−−一発光ビーム、
30−一一レーザ、     34.40−−一 “T
”36一−−高周波発振器、 42−m−増幅器、44
−m−スペクトラムアナライザ、 50、52−−一恒温装置、 A−m−減衰器、    F、−m−中心周波数、FO
I、・・・、 FO,、・・・、 FON−−一光ファ
イバ、Ll−−−1番目のレンズ、L2−−−2番目の
レンズ、LD−m−半波長プレート、P−m−偏光プレ
ート、PH1,・・・、 PH、、・・・、 PHN−
m−受光装置、vo−m−中心電圧。 ムv(mv) dV/cLF

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)周波数変調光信号に対する装置であり、活性層、
    スレショルド電流及び中心周波数を有する単一周波数半
    導体レーザと、スレショルドを越えてレーザに供給する
    分極電流源と、レーザの活性層の中に周波数変調発光ビ
    ームを注入する光学装置と、レーザの端子で電圧を加え
    る装置を含み、電流源から作られる供給電流がレーザの
    スレシヨルドよりかなり高い値に調整されていることを
    特徴としており、レーザは発振器として機能し、その装
    置がとる電圧は注入されたビームがないときに加えられ
    た中心電圧に対し表示され電圧を供給しており、振幅の
    変化が注入されたビームの周波数とレーザの中心周波数
    の間の差と符号、すなわち周波数差の符号に比例してお
    り、注入された発光ビームの周波数変調がレーザの端子
    に加えられた電圧の振幅変調に直接変換される受光装置
    。 (2)レーザの供給電流がスレシヨルド電流の2倍より
    大きい請求項1記載の受光装置。(3)レーザの中心周
    波数を特別な値に調整する装置を含む請求項1記載の受
    光装置。 (4)レーザの中心周波数を調整する装置が温度調整装
    置である請求項3記載の受光装置。 (5)請求項3記載の受光装置を多数含み、各受光装置
    が特定の周波数に調整されたレーザに関係している受光
    装置。 (6)レーザが分布帰還形レーザである請求項1記載の
    受光装置。 (7)レーザが量子ピット形レーザである請求項1記載
    の受光装置。 (8)レーザが多電極形レーザである請求項1記載の受
    光装置。 (9)レーザがマルチセクション形レーザである請求項
    1記載の受光装置。
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