JPH0311976A - ガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブ - Google Patents
ガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブInfo
- Publication number
- JPH0311976A JPH0311976A JP14342889A JP14342889A JPH0311976A JP H0311976 A JPH0311976 A JP H0311976A JP 14342889 A JP14342889 A JP 14342889A JP 14342889 A JP14342889 A JP 14342889A JP H0311976 A JPH0311976 A JP H0311976A
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- Japan
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- moisture
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- thyristor
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- Pending
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- Rectifiers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は直流送電線(HVDC)及び静止形無効電力補
償装!(SVC)等に用いられるSF6ガスを充填した
ガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブに関する。
償装!(SVC)等に用いられるSF6ガスを充填した
ガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブに関する。
(従来の技術)
直流送電線(HVDC)及び静止形無動電力補償装置(
SVC)等に用いられるサイリスタ・バルブて′は、そ
の高電圧・大容量化及び小形軽量化を図るため、SF6
ガス密封容器に中にサイリスタ・バルブを収納して絶縁
する方式が絶縁の縮小化、長期安定化の点から検討され
ている。
SVC)等に用いられるサイリスタ・バルブて′は、そ
の高電圧・大容量化及び小形軽量化を図るため、SF6
ガス密封容器に中にサイリスタ・バルブを収納して絶縁
する方式が絶縁の縮小化、長期安定化の点から検討され
ている。
また冷却に関しては、既に空気中で実績のある、冷却効
率の優れた水冷却の採用が検討されている。
率の優れた水冷却の採用が検討されている。
SF6ガス自身の絶縁強度は、ガス中の水分にそれ程影
響されないが、SF6ガス中に固体絶縁物が存在すると
、絶縁物表面への水分付着によりd1面絶縁特性が影響
を受ける。そしてSF6ガス中の水分と絶縁物表面沿面
閃絡電圧特性は、露点を0°C以下になるように水分量
を管理できれば、絶縁低下は殆ど無視できる。なんとな
ればSF6ガス中の水分の露点が0℃以下の場合には水
分が氷結するため、絶縁低下の原因とならないからであ
る。
響されないが、SF6ガス中に固体絶縁物が存在すると
、絶縁物表面への水分付着によりd1面絶縁特性が影響
を受ける。そしてSF6ガス中の水分と絶縁物表面沿面
閃絡電圧特性は、露点を0°C以下になるように水分量
を管理できれば、絶縁低下は殆ど無視できる。なんとな
ればSF6ガス中の水分の露点が0℃以下の場合には水
分が氷結するため、絶縁低下の原因とならないからであ
る。
これらのことから、SF6入りガス絶縁機器のSF6ガ
ス中の水分量の管理値は、許容値をSF6ガス中におけ
る水分露点0℃時の含有水分量とし、そのための管理値
をSF6ガス中における水分露点5℃以下の時の含有水
分量としている。
ス中の水分量の管理値は、許容値をSF6ガス中におけ
る水分露点0℃時の含有水分量とし、そのための管理値
をSF6ガス中における水分露点5℃以下の時の含有水
分量としている。
一方、上記したガス中水分の発生要因としては、下記が
考えられる。
考えられる。
■SF6ガスに含まれる水分・・・全体に占める割合は
非常に小さい ■組立て時に紛込む水分・・・・・・機器内部の残留水
分、組立て時の環境によ って器壁に付着する 水分 ■有機絶縁材料から析出・・・・・・長期間に有機絶縁
材する水分する 科内部からガス中に析出す
る水分 ■シール部から透過する・・・・・・経年的にシール部
分水分量 を透過する水分(発明が解
決し7ようとする課題) 以上のように、カス中の水分発生要因が挙げられるが、
上記0.0項に基ずく水分量は極めて少なく、しかも機
器据付は当初に取除くことによってあまり問題とはなら
ない、また0項はサイリスタ・バルブ容器内に収納され
ている有機絶縁材料よりガス中に析出するものであり、
水分量らそれ程多くない。
非常に小さい ■組立て時に紛込む水分・・・・・・機器内部の残留水
分、組立て時の環境によ って器壁に付着する 水分 ■有機絶縁材料から析出・・・・・・長期間に有機絶縁
材する水分する 科内部からガス中に析出す
る水分 ■シール部から透過する・・・・・・経年的にシール部
分水分量 を透過する水分(発明が解
決し7ようとする課題) 以上のように、カス中の水分発生要因が挙げられるが、
上記0.0項に基ずく水分量は極めて少なく、しかも機
器据付は当初に取除くことによってあまり問題とはなら
ない、また0項はサイリスタ・バルブ容器内に収納され
ている有機絶縁材料よりガス中に析出するものであり、
水分量らそれ程多くない。
しかしながら、■項に関する水分量は、外気と接するサ
イリスタ・バルブ容器のパツキン部よりの極少量の透過
水分及びガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブ特有の冷却
系(冷却に水を使用する関係で水配管がSF6ガス容器
内に組込まれるため)による極少量の透過水分の容器内
蓄積によるためである。したがって蓄積の進みにより最
悪時にはガス中の水分量が許容値を越え、その結果絶縁
物表面に結露が生じ絶縁物表面沿面閃絡が起こることが
考えられる。
イリスタ・バルブ容器のパツキン部よりの極少量の透過
水分及びガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブ特有の冷却
系(冷却に水を使用する関係で水配管がSF6ガス容器
内に組込まれるため)による極少量の透過水分の容器内
蓄積によるためである。したがって蓄積の進みにより最
悪時にはガス中の水分量が許容値を越え、その結果絶縁
物表面に結露が生じ絶縁物表面沿面閃絡が起こることが
考えられる。
本発明は上記事情に鷺みてなされたものであり、サイリ
スタ・バルブ容器内の水分量が増加し、絶縁物表面に結
露が生じて絶縁物表面沿面閃絡が起こる以前に、ガス中
の水分を除く手段を備えたガス絶縁サイリスタ・バルブ
を提供することを目的としている。
スタ・バルブ容器内の水分量が増加し、絶縁物表面に結
露が生じて絶縁物表面沿面閃絡が起こる以前に、ガス中
の水分を除く手段を備えたガス絶縁サイリスタ・バルブ
を提供することを目的としている。
(以下余白)
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
上記目的を達成するため、本発明ではSF6ガスの充填
されたサイリスタ・バルブ容器内の水分を除去する手段
を備えたガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブにおいて、
サイリスタ・バルブ容器外壁に対して、締切弁を介して
強制対流装置と吸着剤の入った吸着剤収納容器とからな
る吸着用配管を取付けた構成とした。
されたサイリスタ・バルブ容器内の水分を除去する手段
を備えたガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブにおいて、
サイリスタ・バルブ容器外壁に対して、締切弁を介して
強制対流装置と吸着剤の入った吸着剤収納容器とからな
る吸着用配管を取付けた構成とした。
(作 用)
したがって、通常の稼動時にサイリスタ・バルブ容器内
の水分は、自然対流又は強制対流装置によって吸着用配
管内の吸着剤にて吸収されるため、10数年の定期点検
周期を待つことなく、良好な動作が確保できる。
の水分は、自然対流又は強制対流装置によって吸着用配
管内の吸着剤にて吸収されるため、10数年の定期点検
周期を待つことなく、良好な動作が確保できる。
(実施例)
以下図面を参照して実施例を説明する。
第1図は本発明によるガス絶縁水冷却サイリスタ・バル
ブの一実施例の構成図である。第1図において、1はガ
ス絶縁サイリスタ・バルブ容器で、このサイリスタ・バ
ルブ容器1の外壁にパイプ3を介して水分除去手段を備
えた吸着用配管2を備える。吸着用配管2は強制対流装
置4(例えばファン付電動fi)、吸着収納容器5、吸
着剤交換用締切弁7及び接続フランジ6から構成され、
前記吸着収納容器内には吸着剤が交換可能に収納される
。なお、8はSF6ガス補充用操作弁である。
ブの一実施例の構成図である。第1図において、1はガ
ス絶縁サイリスタ・バルブ容器で、このサイリスタ・バ
ルブ容器1の外壁にパイプ3を介して水分除去手段を備
えた吸着用配管2を備える。吸着用配管2は強制対流装
置4(例えばファン付電動fi)、吸着収納容器5、吸
着剤交換用締切弁7及び接続フランジ6から構成され、
前記吸着収納容器内には吸着剤が交換可能に収納される
。なお、8はSF6ガス補充用操作弁である。
したがって通常の運転時においては、強制対流装置(又
は自然対流の場合もある)によってサイリスタ・バルブ
内の水分は、吸着剤に吸収される。
は自然対流の場合もある)によってサイリスタ・バルブ
内の水分は、吸着剤に吸収される。
この種のサイリスタ・バルブは重要な電力系統に組込ま
れるため、10数年周期で行なわれる細密点検以前に分
解する機会はないが、上記実施例によれば前記細密点検
以前に随時保守が可能となる。
れるため、10数年周期で行なわれる細密点検以前に分
解する機会はないが、上記実施例によれば前記細密点検
以前に随時保守が可能となる。
なお、吸着剤交換用締切弁7を閉路することにより、サ
イリスタ・バルブの活線状態時において吸着剤交換がで
きる。
イリスタ・バルブの活線状態時において吸着剤交換がで
きる。
第2図は本発明による他の実施例の構成図である。
本実施例ではサイリスタ・バルブ容器内の水分量を監視
し、その検出値に応じて強制対流装置の対流速度制御と
外部への異常信号を出力しようとするものである。
し、その検出値に応じて強制対流装置の対流速度制御と
外部への異常信号を出力しようとするものである。
第2図において、9は監視制御盤であって対流量可変制
御回路91と監視回路92とからなり、サイリスタ・バ
ルブ容器1に組込まれた水分検出器10からの検出信号
によってガス中の水分の管理、監視を行なう。
御回路91と監視回路92とからなり、サイリスタ・バ
ルブ容器1に組込まれた水分検出器10からの検出信号
によってガス中の水分の管理、監視を行なう。
本実施例ではサイリスタ・バルブ容器内の水分量を常に
計測すると同時に、所定の値以上になった際には強制対
流装置の対流速度を上昇させると共に、ガス中水分の定
量的把握を可能とする。
計測すると同時に、所定の値以上になった際には強制対
流装置の対流速度を上昇させると共に、ガス中水分の定
量的把握を可能とする。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によればサイリスタ・バル
ブ容器の外壁に吸着用配管を設けて、バルブ容器中の水
分を常時吸着除去するよう構成したので、分解して細密
点検する周期にかかわらず、良好な稼動条件を確保する
ことの可能なガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブを提供
できる。
ブ容器の外壁に吸着用配管を設けて、バルブ容器中の水
分を常時吸着除去するよう構成したので、分解して細密
点検する周期にかかわらず、良好な稼動条件を確保する
ことの可能なガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブを提供
できる。
第1図は本発明によるガス絶縁水冷却サイリスタ・バル
ブの一実施例の構成図、第2図は他の実施例の構成図で
ある。 1・・・ガス絶縁サイリスタ・バルブ容器2・・・吸着
用配管 3・・・パイプ4・・・強制対流装置
5・・・吸着収納容器6・・・接続フランジ 7・
・・吸着剤交換用締切弁8・・・SF6ガス補充用操作
弁
ブの一実施例の構成図、第2図は他の実施例の構成図で
ある。 1・・・ガス絶縁サイリスタ・バルブ容器2・・・吸着
用配管 3・・・パイプ4・・・強制対流装置
5・・・吸着収納容器6・・・接続フランジ 7・
・・吸着剤交換用締切弁8・・・SF6ガス補充用操作
弁
Claims (1)
- SF6ガスの充填されたサイリスタ・バルブ容器内の水
分を除去する手段を備えたガス絶縁水冷却サイリスタ・
バルブにおいて、サイリスタ・バルブ容器外壁に対して
、締切弁を介して強制対流装置と吸着剤の入った吸着剤
収納容器とからなる吸着用配管を取付けたことを特徴と
するガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14342889A JPH0311976A (ja) | 1989-06-06 | 1989-06-06 | ガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14342889A JPH0311976A (ja) | 1989-06-06 | 1989-06-06 | ガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0311976A true JPH0311976A (ja) | 1991-01-21 |
Family
ID=15338496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14342889A Pending JPH0311976A (ja) | 1989-06-06 | 1989-06-06 | ガス絶縁水冷却サイリスタ・バルブ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0311976A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100701630B1 (ko) * | 2003-08-09 | 2007-03-30 | 윤석렬 | 투 아치 터널의 중간벽체 |
KR100757202B1 (ko) * | 2006-12-12 | 2007-09-07 | 윤석렬 | 투 아치 터널의 중간벽체 |
-
1989
- 1989-06-06 JP JP14342889A patent/JPH0311976A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100701630B1 (ko) * | 2003-08-09 | 2007-03-30 | 윤석렬 | 투 아치 터널의 중간벽체 |
KR100757202B1 (ko) * | 2006-12-12 | 2007-09-07 | 윤석렬 | 투 아치 터널의 중간벽체 |
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