JPH0287347A - Magneto-optical recording medium for registration of exposing device - Google Patents

Magneto-optical recording medium for registration of exposing device

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JPH0287347A
JPH0287347A JP63236583A JP23658388A JPH0287347A JP H0287347 A JPH0287347 A JP H0287347A JP 63236583 A JP63236583 A JP 63236583A JP 23658388 A JP23658388 A JP 23658388A JP H0287347 A JPH0287347 A JP H0287347A
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JP
Japan
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magnetic layer
recording medium
magneto
optical recording
optical system
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JP63236583A
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Japanese (ja)
Inventor
Eizo Sasamori
笹森 栄造
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Canon Inc
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Canon Inc
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To increase the reading contrast of mark images by laminating a 1st magnetic layer having a high Curie temp. and low coercive force and a 2nd magnetic layer having the relatively low Curie temp. and high coercive force with respect to the 1st magnetic layer and forming the 1st magnetic layer of a rare earth transition metal alloy. CONSTITUTION:This recording medium is formed by laminating the 1st magnetic layer 23 having the high Curie point and the low coercive force and the 2nd magnetic layer 22 having the relatively low Curie temp. and the high coercive force with respect to the 1st magnetic layer 23. The 1st magnetic layer 23 consists of the rare earth transition metal alloy contg. light rare earth elements. The light rare earths are preferably selected from Ce, Pr, Nd, and Sm. The 2nd magnetic layer 22 is preferably formed of the alloy of rare earths selected from Tb and Dy and transition metals selected form Fe and Co. Exposing with low energy is executed in this way and the sufficient reading contrast of the mark images is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、第1の物体と第2の物体を位置的に整合した
状態で第1の物体の像を第2の物体上に投影し転写する
露光装置、特に、第1の物体と第2の物体の位置関係を
露光位置とは異なる位置で検出する位置合わせ用光学系
を備えた露光装置において、露光位置に設けられた投影
光学系と上記位置合わせ用光学系の光軸間距離のモニタ
に用いる光磁気記録媒体に関する。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention projects an image of a first object onto a second object with the first object and the second object aligned in position. A projection optical system provided at an exposure position in an exposure apparatus for transferring, particularly an exposure apparatus equipped with an alignment optical system that detects the positional relationship between a first object and a second object at a position different from the exposure position. and a magneto-optical recording medium used for monitoring the distance between optical axes of the alignment optical system.

〈従来の技術〉 この種の露光装置は、主に半導体集積回路の微細・母タ
ーンを焼付けるために用いられる。
<Prior Art> This type of exposure apparatus is mainly used for printing fine patterns and main turns of semiconductor integrated circuits.

このような半導体集積回路焼付用の装置では、複雑な半
導体集積回路の構造を形成するために1つの半導体集積
回路を製造するのに通常何種類もの・リーンを兼ね合せ
て焼付けていかねばならず、その必要な重ね合せ精度は
、パターンの微細化に伴い、ますます厳しくなってきて
いる。この重ね合せのために投影光学系の光軸から一定
の位置に設けた顕微鏡等の光学系で位置を検知するオフ
アクシス(0ff−Axis )法がある。
In such a device for printing semiconductor integrated circuits, in order to form a complex semiconductor integrated circuit structure, it is usually necessary to perform multiple types of printing processes in order to manufacture one semiconductor integrated circuit. The required overlay accuracy is becoming increasingly strict as patterns become finer. For this superposition, there is an off-axis method in which the position is detected using an optical system such as a microscope installed at a fixed position from the optical axis of the projection optical system.

しかし、投影光学系と位置合わせ用顕微鏡との光軸間距
離が経時変化するという問題があり、投影光学系と位置
合わせ用顕微鏡との光軸間距離の経時変化をモニターし
、フィード・ぐツクすることによって、精度を維持する
必要がある。
However, there is a problem that the distance between the optical axes of the projection optical system and the alignment microscope changes over time. Accuracy must be maintained by doing this.

このため、第1の物体に描かれたノJ?ターンを投影光
学系を介して可動ステージ上に配置された第2の物体に
露光する際の前記第1および第2の物体の相対位置合わ
せを、前記可動ステージ上の前記第2の物体の外側に書
込・消去可能な光磁気記録媒体を配置して行なう。
For this reason, the ?J? drawn on the first object? The relative positioning of the first and second objects when exposing the second object placed on the movable stage through the projection optical system is performed on the outside of the second object on the movable stage. This is done by placing a writable and erasable magneto-optical recording medium in the area.

すなわち前記可動ステージ上には該光磁気記録媒体に前
記投影光学系の光軸と同方向のすなわち記録媒体に垂直
方向の磁場をかけるための機構が配置されている。そし
て、前記投影光学系と位置合わせ用顕微鏡との光軸間距
離をモニターする際は、前記磁場をかける機構によシ前
記光磁気記鎌媒体に磁場をかけながら所定部分を露光し
キュリー温度以上に上げてマーク像を形成し、ステージ
を一定量送って該像形成部分を前記位置合わせ用光学系
の下にもってくるとともに、該像の位置を検出して該位
置合わせ用光学系内の基準位置とのずれを計測するよう
にシーケンス制御する。さらに、該シーケンス制御の最
後に前記光磁気記録媒体に逆磁場をかけてマーク像を消
去しておく。
That is, a mechanism is disposed on the movable stage to apply a magnetic field to the magneto-optical recording medium in the same direction as the optical axis of the projection optical system, that is, in a direction perpendicular to the recording medium. When monitoring the distance between the optical axes of the projection optical system and the alignment microscope, the magnetic field applying mechanism applies a magnetic field to the magneto-optical recording medium and exposes a predetermined portion to a temperature higher than the Curie temperature. to form a mark image, move the stage a certain amount to bring the image forming part under the alignment optical system, detect the position of the image, and set a reference in the alignment optical system. Sequence control is performed to measure the deviation from the position. Further, at the end of the sequence control, a reverse magnetic field is applied to the magneto-optical recording medium to erase the mark image.

この方法に使用する光磁気記録媒体として、特に、露光
感度、くり返し使用、耐久性9分解能などの点から高密
度大容量メモリ等として用いられている、希土類遷移金
属合金からなる光磁気記録媒体が好適である。メモリと
して用いる場合は希土類としてGd、Tb、Dy、Ho
などの重希土類が用いられ遷移金属としてFe、Coな
どが用いられ、これらの組合せで希土類遷移金属合金か
らなる光磁気記録媒体が形成される。
The magneto-optical recording medium used in this method is a magneto-optical recording medium made of a rare earth transition metal alloy, which is used as a high-density, large-capacity memory due to its high exposure sensitivity, repeated use, durability, and resolution. suitable. When used as a memory, Gd, Tb, Dy, Ho are used as rare earths.
Heavy rare earths such as Fe, Co, etc. are used as transition metals, and a magneto-optical recording medium made of a rare earth-transition metal alloy is formed by a combination of these metals.

〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら露光装置の投影光学系の露光量は必ずしも
十分なエネルギーを光磁気記録媒体面に照射できない。
<Problems to be Solved by the Invention> However, the exposure amount of the projection optical system of the exposure apparatus cannot necessarily irradiate the surface of the magneto-optical recording medium with sufficient energy.

特にエキシマレーザを用いる露光装置ではノやルス巾に
対しくシ返し周期が長いので、すなわちノ々ルス露光時
間が短く非露光時間が長いので熱の蓄積効果がな(、l
)母ルスのエネルギーでマーク像を形成しなくてはなら
ない。
In particular, in exposure equipment that uses an excimer laser, the reversal period is long relative to the laser beam width, that is, the laser beam exposure time is short and the non-exposure time is long, so there is no heat accumulation effect (, l
) The mark image must be formed using the energy of Mother Luz.

従って、光磁気記録媒体は露光感度を高め投影光学系の
露光量で所定のマーク像が形成されるようにすることが
好ましく、このため光磁気記録媒体はキュリー温度の低
い組成を用いるのが有効である。
Therefore, it is preferable to increase the exposure sensitivity of the magneto-optical recording medium so that a predetermined mark image is formed with the exposure amount of the projection optical system.For this reason, it is effective to use a composition with a low Curie temperature for the magneto-optical recording medium. It is.

しかし、キュリー温度の低い組成とすると、コントラス
トに関係する磁気光学効果すなわちカー回転角が小さく
なり、位置合せ光学系において露光されたマーク像を検
出する偏光光学系において十分なマーク像の読取シコン
トラストが得られ々い。
However, if the composition has a low Curie temperature, the magneto-optic effect related to contrast, that is, the Kerr rotation angle, becomes small, and the polarization optical system that detects the exposed mark image in the alignment optical system has sufficient contrast to read the mark image. is difficult to obtain.

さらに、上記光磁気記録媒体をメモリーとして用いる場
合は通常再生光の波長は半導体レーデの赤外域(780
〜830 nm )であるが、露光装置の位置合せ用光
学系での再生光の波長は通常ハロrンランプ、キセノン
ランプ等の可視域の波長が用いられ、上記希土類遷移金
属合金からなる光磁気記録媒体は短波長になるに従って
磁気光学効果すなわちカー回転角が減少する傾向をもつ
ため、再生にあたり、マーク像の読取りコントラストが
更に低下するという問題点があった。
Furthermore, when the above-mentioned magneto-optical recording medium is used as a memory, the wavelength of the reproduction light is usually in the infrared region of semiconductor radar (780
~830 nm), but the wavelength of the reproducing light in the alignment optical system of the exposure device is usually a wavelength in the visible range of a halo lamp, xenon lamp, etc. Since the magneto-optic effect, that is, the Kerr rotation angle, of the medium tends to decrease as the wavelength becomes shorter, there is a problem in that the reading contrast of the mark image further deteriorates during reproduction.

本発明はこのような問題点に鑑みたものであり、露光感
度が高く従って低エネルギーで露光できかつマーク像の
読取りコントラストが十分に得られるような露光装置位
置合せ用光磁気記録媒体を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of these problems, and provides a magneto-optical recording medium for aligning an exposure device, which has high exposure sensitivity, can be exposed with low energy, and can provide sufficient reading contrast for mark images. The purpose is to

く課題を解決するための手段〉 上記目的は、第1の物体に露光光を照射する照明光学系
と、可動ステージと、該可動ステージ上に配置された第
2の物体上に、第1の物体に描かれたパターンを投影す
る投影光学系七、上記第1および第2の物体の相対位置
関係を、上記投影光学系の光軸よシ離れた位置で検出す
る位置合わせ用光学系と、上記可動ステー・ゾ上に配置
された書込・消去可能な記録媒体とを具備する露光装置
において前記書込・消去可能な記録媒体として用いられ
る光磁気記録媒体であって、高いキーリー温度と低い保
磁力を有する第1磁性層と、第1磁性層に対して相対的
に低いキュリー温度と高い保磁力を有する第2磁性層と
を積層しており、前記第1磁性層が軽希土類元素を含む
、希土類遷移金属合金からなることを特徴とする露光装
置位置合せ用光磁気記録媒体を提供することにより達成
される。
Means for Solving the Problems> The above object is to provide an illumination optical system that irradiates a first object with exposure light, a movable stage, and a first object on a second object placed on the movable stage. a projection optical system (7) that projects a pattern drawn on an object; an alignment optical system (7) that detects the relative positional relationship between the first and second objects at a position distant from the optical axis of the projection optical system; A magneto-optical recording medium used as a writable/erasable recording medium in an exposure apparatus equipped with a writable/erasable recording medium disposed on the movable stage, which has a high Keeley temperature and a low temperature. A first magnetic layer having a coercive force and a second magnetic layer having a relatively low Curie temperature and a high coercive force with respect to the first magnetic layer are laminated, and the first magnetic layer contains a light rare earth element. This is achieved by providing a magneto-optical recording medium for aligning an exposure apparatus, which is characterized by being made of a rare earth transition metal alloy containing:

〈作用〉 第1磁性層はキーリー温度が高く保磁力が低いため、露
光時に第1磁性層の磁化が反転する向きに第1磁性層の
保磁力より大きな磁場をかけておき、投影光学系からマ
ーク光を照射すると、第2磁性層がキュリー温度以上に
上昇して第1磁性層の磁化が反転する。マーク光の照射
が切れると温度が下がり、第1磁性層の磁化にならって
交換結合により第2磁性層の磁化が第1磁性層に対して
安定な方向に反転して発生し、マーク像が磁区・!ター
ンとして記録される。
<Operation> Since the first magnetic layer has a high Keely temperature and a low coercive force, a magnetic field larger than the coercive force of the first magnetic layer is applied in the direction in which the magnetization of the first magnetic layer is reversed during exposure, and the magnetic field is removed from the projection optical system. When the mark light is irradiated, the temperature of the second magnetic layer rises above the Curie temperature, and the magnetization of the first magnetic layer is reversed. When the mark light irradiation is cut off, the temperature decreases, and the magnetization of the second magnetic layer is reversed to a stable direction with respect to the first magnetic layer due to exchange coupling, following the magnetization of the first magnetic layer, and a mark image is formed. Magnetic domain! recorded as a turn.

このマーク像は室温では第2磁性層のより太きな保磁力
によって微細なマーク・ぐターンも安定に保持される。
This mark image is stably held at room temperature by the larger coercive force of the second magnetic layer, even if it is a fine mark or pattern.

すなわち保磁力と安定に存在しうる最小磁区サイズとは
以下の関係があシ、微細なマークパターンを保持するに
は大きな保磁力が必要だからである。
That is, the coercive force and the minimum magnetic domain size that can stably exist have the following relationship, and a large coercive force is required to hold a fine mark pattern.

ここに d:磁区直径 Hc:保磁力 M8=飽和磁化 σ:プロッホ磁壁エネルギー 位置合せ光学系によってこのマーク像の位置を検出する
際には、照明光が第1磁性層側から照明され主に第1磁
性層により反射されて観察光学系によりその反射光を像
として検出するが、第1磁性層はキュリー温度が高いた
めカー回転角が大きくなりマーク像の読取りコントラス
トが増加する。
Here, d: Magnetic domain diameter Hc: Coercive force M8 = Saturation magnetization σ: Ploch domain wall energy When detecting the position of this mark image by the alignment optical system, the illumination light is illuminated from the first magnetic layer side and mainly focuses on the first magnetic layer. The reflected light is reflected by the first magnetic layer and detected as an image by the observation optical system, but since the first magnetic layer has a high Curie temperature, the Kerr rotation angle becomes large and the reading contrast of the mark image increases.

また軽希土類を含む希土類遷移金属合金は再生光の波長
が短波長になるに従いカー回転角が太きくなるため、軽
希土類を第1磁性層に含ませておくことにより、再生の
際のマーク像の読取りコントラストが更に増加する。
In addition, in rare earth transition metal alloys containing light rare earth elements, the Kerr rotation angle increases as the wavelength of the reproduction light becomes shorter, so by including light rare earth elements in the first magnetic layer, it is possible to The reading contrast is further increased.

なお、第1磁性層に軽希土類を含ませると第1磁性層の
飽和磁化M8が大きくなり第1磁性層は垂直磁化膜とし
て不安定となるが、第1磁性層と第2磁性層とが積層し
て磁気的に交換結合しているため、第2磁性層の存在に
より、第1磁性層の磁化は安定に保持される。
Note that when the first magnetic layer contains a light rare earth, the saturation magnetization M8 of the first magnetic layer becomes large and the first magnetic layer becomes unstable as a perpendicularly magnetized film. Since they are stacked and magnetically exchange coupled, the magnetization of the first magnetic layer is stably maintained due to the presence of the second magnetic layer.

〈実施例〉 まず、本発明に係る光磁気記録媒体が適用される露光装
置の1例について第4図を用いて説明する。同図におい
て、照明光学系1を発した光はレチクル2を照射し、そ
のパターンを投影光学系3によってウェハー4上に転写
する。ウェハー4は定盤10上に配置された可動ステー
ジ5の上に固定されている。
<Example> First, an example of an exposure apparatus to which a magneto-optical recording medium according to the present invention is applied will be described with reference to FIG. In the figure, light emitted from an illumination optical system 1 illuminates a reticle 2, and the pattern is transferred onto a wafer 4 by a projection optical system 3. The wafer 4 is fixed on a movable stage 5 placed on a surface plate 10.

可動ステージ5は不図示の駆動系によってXおよびYに
移動できるようになっており、その移動量はそれぞれX
およびY各方向用のl/−デー測長器でモニターされて
いる。第4図においてはX方向用のレーザー測長器8が
現われており、Y方向用のレーザー測長器は現われてい
ない。このレーザー測長器8の光軸の高さはアツベの誤
差の排除のため、ウェハー4の面と同じ高さになってい
る。
The movable stage 5 can be moved in X and Y by a drive system (not shown), and the amount of movement is X.
and Y directions are monitored with l/-day length measuring instruments. In FIG. 4, the laser length measuring device 8 for the X direction appears, but the laser length measuring device for the Y direction does not appear. The height of the optical axis of this laser length measuring device 8 is set at the same height as the surface of the wafer 4 in order to eliminate Atsube's error.

さらに可動ステージ5上のウェハー4の外側に光磁気記
録媒体6が配置され、その表面の高さはウェハー4の高
さと一致させである。また、必要に応じ、光磁気記録媒
体6の表面の高さとウェハー4の高さとを一致させるよ
うな調整機構を具備している。この光磁気記録媒体6の
下方には電磁石7が埋め込まれ、投影光学系3の光軸方
向の上下任意方向に磁場をかけられるよう罠なっている
Furthermore, a magneto-optical recording medium 6 is arranged outside the wafer 4 on the movable stage 5, and the height of its surface is made to match the height of the wafer 4. Further, if necessary, an adjustment mechanism is provided to match the height of the surface of the magneto-optical recording medium 6 and the height of the wafer 4. An electromagnet 7 is embedded below this magneto-optical recording medium 6, and serves as a trap so that a magnetic field can be applied in any direction above or below the optical axis direction of the projection optical system 3.

9は位置合わせ用の光学系で、レジストに実質的に感光
しない波長の光を発するランデ14、光路振分は用のビ
ームスプリッタ15、対物レンズ16、観察用のテレビ
カメラ17等を含む。テレビカメラ17による画像は下
図水のコンビエータ−に送られ画像処理されて位置検出
が行なわれる。
Reference numeral 9 denotes an optical system for positioning, which includes a land 14 that emits light of a wavelength that is not substantially sensitive to the resist, a beam splitter 15 for dividing the optical path, an objective lens 16, a television camera 17 for observation, and the like. The image taken by the television camera 17 is sent to the water combiator shown below, where it is processed and the position is detected.

また、11はレチクル上の位置合わせ用マーク18照射
用の光学系で、照明光学系1の露光光を一部取り出し、
スリット12を照射し、さらにスリット12の像をレチ
クル2面上に結像させる機能をもつ。このマーク照射用
光学系11への照明光学系1からの導光はシャッター1
3によってオン/オフされる。
Further, 11 is an optical system for irradiating the alignment mark 18 on the reticle, which takes out a part of the exposure light from the illumination optical system 1.
It has the function of irradiating the slit 12 and forming an image of the slit 12 on two surfaces of the reticle. The light from the illumination optical system 1 to the mark irradiation optical system 11 is guided to the shutter 1.
It is turned on/off by 3.

第5図に従来の場合における、光磁気記録媒体6付近の
状態説明図を示して、第4図の装置における投影光学系
3と位置合わせ用光学系9との光軸間距離のモニタ一方
法を説明する。
FIG. 5 shows an explanatory diagram of the state near the magneto-optical recording medium 6 in the conventional case, and shows a method for monitoring the distance between the optical axes of the projection optical system 3 and the alignment optical system 9 in the apparatus shown in FIG. Explain.

a)第5図(、)を参照して、まず、予め下向きに磁化
させておいた媒体6が投影光学系3の真下でレチクル上
の位置合わせ用マーク18が結像される位置に可動ステ
ージ5をもってくる。次にシャッター13を開き、マー
ク照射用光学系11にょシ位置合わせ用マーク18を露
光すると、媒体6上にマーク18の像が結像する。この
際、電磁石7によって例えば上向きに磁場をかけておく
と、媒体6中で光の当たった部分だけが光を吸収し、そ
れによる熱でキュリー点に達して磁化の方向が反転する
。これにより、位置合わせ用マーク18の形に磁化の反
転した部分ができる。マーク18の露光が終ったらシャ
ッター13を閉じる。
a) Referring to FIG. 5(, ), first, the movable stage is positioned so that the medium 6, which has been magnetized downward in advance, is directly below the projection optical system 3 and the positioning mark 18 on the reticle is imaged. Bring 5. Next, the shutter 13 is opened and the positioning mark 18 is exposed to the mark irradiation optical system 11, so that an image of the mark 18 is formed on the medium 6. At this time, if an upward magnetic field is applied, for example, by the electromagnet 7, only the portion of the medium 6 that is hit by the light absorbs the light, and the resulting heat reaches the Curie point, reversing the direction of magnetization. As a result, a portion with reversed magnetization is created in the shape of the alignment mark 18. When the exposure of the mark 18 is completed, the shutter 13 is closed.

b)第5図(b)を参照して、次に投影光学系3による
マーク18の露光位置から位置合わせ用光学系9の光軸
までのベクトルとほぼ同じベクトルbだけ可動ステージ
5を移動させて媒体6が位置合わせ用光学系の対物レン
ズ16のほぼ真下にくるよ−うKする。この間のX、Y
の移動−1i1bはレーザー副長器8で正確に計測され
ている。そこで上記のステラ7″m)で作られた位置合
わせ用マークを観察し、磁化の方向の違いによって生じ
る偏光状態の差によってマークの位置を検出する。この
ようにしてレーザー測長器で計測したステージの移動量
と検出したマーク位置によって投影光学系3と位置合わ
せ用光学系9との光軸間距離またはその所定値からのず
れ景aを正確に知ることができる。
b) Referring to FIG. 5(b), move the movable stage 5 by a vector b that is approximately the same as the vector from the exposure position of the mark 18 by the projection optical system 3 to the optical axis of the alignment optical system 9. so that the medium 6 is almost directly below the objective lens 16 of the alignment optical system. During this time, X, Y
The movement -1i1b is accurately measured by the laser sub-length device 8. Therefore, we observe the alignment marks made with the above-mentioned Stella 7"m) and detect the mark positions based on the difference in polarization state caused by the difference in the direction of magnetization. In this way, the position of the mark is measured with a laser length measuring device. The distance between the optical axes of the projection optical system 3 and the positioning optical system 9 or the deviation a from the predetermined value can be accurately determined based on the amount of movement of the stage and the detected mark position.

その計測値をもとにして光学系9を用い、光学系9の下
にウェハの所定のショットのアライメントマークを持っ
てきて9に対するウェハーのアライメントマークの位置
とその時のステージ座標を計測する。この場合、各ショ
ット計測しウェハー4上の全シックトの位置合わせを行
なうグイ・ノ9イ・ダイ方式や、いくつかのシ百ットに
おけるウェハーのアライメントマークと光学系9の計測
値とその時のステージの座標から計算される基準格子の
位置にステージを送って位置合わせを行なうグローバル
方式の位置合わせを選択し露光を行なうことができる。
Based on the measured values, using the optical system 9, the alignment mark of a predetermined shot of the wafer is brought under the optical system 9, and the position of the alignment mark of the wafer with respect to the optical system 9 and the stage coordinates at that time are measured. In this case, the wafer alignment mark and the measured value of the optical system 9 in several shots may be measured using the Gui-no-9i-die method, in which each shot is measured and all the chicts on the wafer 4 are aligned. Exposure can be performed by selecting global positioning in which the stage is moved to the position of the reference grid calculated from the coordinates of the stage.

C)第5図(、)を参照して、可動ステージ5は任意の
位置で電磁石7によって下向きの強力磁場をかけると、
媒体6は全面下向きに磁化されてマークは消去され再使
用可能となる。
C) Referring to FIG. 5(,), when the movable stage 5 is applied with a strong downward magnetic field by the electromagnet 7 at an arbitrary position,
The entire surface of the medium 6 is magnetized downward, the marks are erased, and the medium 6 can be reused.

以上のシーケンスの一例を第6図のフローチャートに詳
しく示す。
An example of the above sequence is shown in detail in the flowchart of FIG.

本発明に係る光磁気記録媒体は高いキエリー温度(TH
)と低い保磁力(Ht、)とを有し軽希土類を含む希土
類遷移金属合金からなる第1磁性層と、低いキーリー温
度(TL )と高い保磁力(HH)とを有する希土類遷
移金属合金からなる第2磁性層とを積層した構造である
The magneto-optical recording medium according to the present invention has a high Chierly temperature (TH
) and a low coercive force (Ht, ) and a first magnetic layer made of a rare earth transition metal alloy containing a light rare earth; and a rare earth transition metal alloy having a low Keeley temperature (TL ) and a high coercive force (HH). It has a structure in which a second magnetic layer is laminated.

第1磁性層の1実施例に係る代表的な組成は次式で表わ
せる。
A typical composition of the first magnetic layer according to one embodiment can be expressed by the following formula.

HRxLR,(F・t−z”z)1−x−y但、0≦X
≦0.45 、0りy<0.50 、 O<zく1.L
Rは軽希土類で、磁気特性よシCe 、 Pr 。
HRxLR, (F・tz”z)1−x−yHowever, 0≦X
≦0.45, 0y<0.50, O<zku1. L
R is a light rare earth element with magnetic properties such as Ce and Pr.

Nd 、 Smのうちよシ選ぶのが好ましい。I(Rは
重希土類でGd 、 Tb 、 Dy 、 Ha等のう
ちより1種あるいは組合せで選ぶのが好ましい。
It is preferable to choose between Nd and Sm. I(R is a heavy rare earth metal, preferably selected from one or a combination of Gd, Tb, Dy, Ha, etc.).

軽希土類の他に重希土類を含ませることにより、軽希土
類を含ませることによる飽和磁化M、の増加を抑えるこ
とができ第1磁性層の垂直磁化膜としての安定性を増大
させることができる。
By including a heavy rare earth in addition to the light rare earth, the increase in saturation magnetization M due to the inclusion of the light rare earth can be suppressed, and the stability of the first magnetic layer as a perpendicularly magnetized film can be increased.

再生コントラストの向上のうえでよシ望ましいのは a dxLRy (F e 11Co z ) 1− 
x−y但、O(x<0.45 、 o(y<o、s 0
 、0.10<z<0.85である。この組成式におい
て、重希土類元素Gdを添加することにより飽和磁化M
、を適当な値に下げ垂直磁化膜として安定になるが、よ
り安定性を増すには、GdとTb 、 Dy 、 Ho
等の置換え。
In order to improve the reproduction contrast, it is preferable to use a dxLRy (F e 11Coz) 1-
x-yHowever, O(x<0.45, o(y<o, s 0
, 0.10<z<0.85. In this composition formula, by adding the heavy rare earth element Gd, the saturation magnetization M
, it becomes stable as a perpendicular magnetization film by lowering it to an appropriate value, but to increase the stability further, Gd, Tb, Dy, Ho
etc. replacement.

組合せを用いるとよい。It is better to use a combination.

第2磁性層としては、 Tb 、 DYから選ばれた希
土類とFs 、 Coから選ばれた遷移金属との合金が
好ましい。例えばTbFs 、 TbFeCo 、 D
yF@Co 。
The second magnetic layer is preferably an alloy of a rare earth selected from Tb and DY and a transition metal selected from Fs and Co. For example, TbFs, TbFeCo, D
yF@Co.

TbDyFe等が好ましい。Tb 、 D7は垂直磁気
異方性。
TbDyFe and the like are preferred. Tb and D7 are perpendicular magnetic anisotropy.

保磁力が大きいため垂直磁化膜として安定になり、微細
なマークパターンを保持することが可能となる。
Since the coercive force is large, it becomes stable as a perpendicularly magnetized film and can hold fine mark patterns.

通常、第1磁性層のTiは300℃以上、Hしは1 k
oe以下、第2磁性層のTLは室温〜250℃。
Usually, the Ti of the first magnetic layer is 300°C or higher, and the H is 1k.
oe or less, the TL of the second magnetic layer is room temperature to 250°C.

HHは1 koe以上程度の範囲内にするとよい。HH is preferably within a range of about 1 koe or more.

第1.第2磁性層の膜厚は熱容量を小さくして露光エネ
ルギーを下げるためには薄い程よいが、位置合せ光学系
によって照明された照明光に対する反射光の強度を上げ
てコントラストを高めるためには第1磁性層にある程度
の厚さが必要である。
1st. The thinner the second magnetic layer is, the better in order to reduce the heat capacity and lower the exposure energy. A certain degree of thickness is required for the magnetic layer.

第1磁性層が上記例のような希土類遷移金属合金からな
る磁性層の場合、その厚さは100X〜5001程度が
好ましい。第2磁性層はその高い保磁力によシ記録され
たマーク像を安定に保持する作用を有するものであり、
マーク像を安定に保持する作用が不足しないようにする
ためには、やはり第2磁性層も1001〜500X程度
の厚さとするのが好ましい。
When the first magnetic layer is a magnetic layer made of a rare earth transition metal alloy as in the above example, the thickness is preferably about 100× to 500×. The second magnetic layer has the function of stably holding the recorded mark image due to its high coercive force,
In order to ensure that the effect of stably holding the mark image is not insufficient, it is preferable that the second magnetic layer also has a thickness of about 1001 to 500×.

第1図及び第2図は本発明に係る光磁気記録媒体の構成
例を示す側面図である。
1 and 2 are side views showing an example of the configuration of a magneto-optical recording medium according to the present invention.

第1図に示す光磁気記録媒体30は、基板21の上に第
2磁性層23を形成し、その上に第1磁性層22を積層
して形成し、その上に保護層24を形成したものである
。露光ビーム又は再生光26は保護層26側より照射さ
れる。
The magneto-optical recording medium 30 shown in FIG. 1 includes a second magnetic layer 23 formed on a substrate 21, a first magnetic layer 22 laminated thereon, and a protective layer 24 formed thereon. It is something. The exposure beam or reproduction light 26 is irradiated from the protective layer 26 side.

第2図に示す光磁気記録媒体40は、基板21′を透光
性材質で形成し、その下側に反射防止膜25を形成し、
その下側に第1磁性層22と第2磁性層23を積層して
形成し、その下側に保護層24を形成したものである。
The magneto-optical recording medium 40 shown in FIG. 2 has a substrate 21' made of a transparent material, an anti-reflection film 25 formed on the lower side thereof, and
A first magnetic layer 22 and a second magnetic layer 23 are laminated on the lower side thereof, and a protective layer 24 is formed on the lower side thereof.

露光ビーム又は再生光26は基板21′側より基板21
′を透過させて照射される。
The exposure beam or reproduction light 26 is applied to the substrate 21 from the substrate 21' side.
′ is transmitted through the irradiation.

次に、露光装置の1例である第4図に示す露光装置に、
例えば第1図又は第2図に示す構成例の光磁気記録媒体
30又は40を適用した場合の動作を説明する。
Next, in the exposure apparatus shown in FIG. 4, which is an example of an exposure apparatus,
For example, the operation when the magneto-optical recording medium 30 or 40 having the configuration example shown in FIG. 1 or 2 is applied will be described.

第3図は第5図の光磁気記録媒体6に代わって光磁気記
録媒体30又は40を用いた場合の説明図である。なお
同図は簡単のため基板21 、21’、保護層241反
射防止膜25等を省略して記載している。なお、同図(
、)は第1磁性層23及び第2磁性層22の磁化の向き
が反平行なとき安定な場合、同図(b)は第1層23及
び第2層22の磁化の向きが平行なとき安定な場合を示
す。
FIG. 3 is an explanatory diagram when a magneto-optical recording medium 30 or 40 is used in place of the magneto-optical recording medium 6 of FIG. 5. Note that in this figure, the substrates 21, 21', the protective layer 241, the antireflection film 25, etc. are omitted for simplicity. In addition, the same figure (
, ) is stable when the magnetization directions of the first magnetic layer 23 and the second magnetic layer 22 are antiparallel, and FIG. Indicates a stable case.

まず、光磁気記録媒体にマーク像を露光する前に電磁石
7により下向きの強力磁場を発生させて、光磁気記録媒
体全体を同一方向に磁化させておく(同図(a)(ロ)
、(b)(ロ))。なお、第1層23及び第2層22の
磁化の向きが反平行なとき安定な場合(同図(龜)(ロ
))は、所定手段により光磁気記録媒体全体を加熱し第
1磁性層23のキュリー温度TH付近まで上げておき、
その状態で下向きの強力磁場をかける。すると、第1磁
性層23が下向きに磁化される。次に加熱をやめ記録媒
体の温度が下がり、第2磁性層23の温度がキエリー温
度TLより下がるときに第2磁性層22が第1磁性層2
3に対して安定な向き、すなわち上向きに磁化される。
First, before exposing a mark image to a magneto-optical recording medium, a strong downward magnetic field is generated by the electromagnet 7 to magnetize the entire magneto-optical recording medium in the same direction (see (a) and (b) in the same figure).
, (b) (b)). Note that if the magnetization directions of the first layer 23 and the second layer 22 are antiparallel and stable (see (b) in the same figure), the entire magneto-optical recording medium is heated by a predetermined means to cool the first magnetic layer. Raise it to around the Curie temperature TH of 23,
In this state, a strong downward magnetic field is applied. Then, the first magnetic layer 23 is magnetized downward. Next, when the heating is stopped and the temperature of the recording medium falls, and the temperature of the second magnetic layer 23 falls below the Chierly temperature TL, the second magnetic layer 22 changes to the first magnetic layer 2.
3, it is magnetized in a stable direction, ie upward.

次に、光磁気記録媒体30.40を投影光学系3の下に
移動させマーク像を露光させる場合には、電磁石7によ
り第1磁性層23の保磁力より大きいが第2磁性層22
の保磁力より小さい磁場をかけておく(第3図(、)(
イ)、(b)(イ))。そして、投影光学系からマーク
光を照射すると、マーク光の照射された部分が第2磁性
層22のキエリー温度(TL)以上に上昇し、第2磁性
層22が強磁性体から常磁性体へと変化し、マーク光の
照射された部分の第1磁性層23が第2磁性層22の影
響を受けなくなり、電磁石7の磁化方向に表らって磁化
方向が反転する。マーク光の照射が切れると温度が下が
シ、マーク光の照射された部分の第2磁性層22の温度
がキエリー温度TL以下に下がる際に、第2磁性層22
が、第1磁性層23の磁化方向にならって交換結合によ
シ第1磁性層23に対して安定な方向へ磁化が反転して
発生する。第1磁性層23及び第2磁性層22の磁化の
向きが反平行なとき安定な場合(第3図(、)H))は
下向きであり、第1層23及び第2層22の磁化の向き
が平行なとき安定な場合(同図(b)(イ))は上向き
である。第1磁性層23の磁化が反転し、第2磁性層2
2の磁化が第1磁性層23に対して安定な方向に反転し
て発生することによシ、マーク像が磁区パターンとして
記録される。なお、第2磁性層22の保磁力は大きいた
め、微細なマークパターンも安定に保持される。
Next, when moving the magneto-optical recording medium 30, 40 under the projection optical system 3 to expose a mark image, the electromagnet 7 causes a coercive force larger than that of the first magnetic layer 23 to be applied to the second magnetic layer 23.
Apply a magnetic field smaller than the coercive force of (Figure 3(, )(
a), (b) (a)). Then, when mark light is irradiated from the projection optical system, the portion irradiated with the mark light rises above the Chierly temperature (TL) of the second magnetic layer 22, and the second magnetic layer 22 changes from a ferromagnetic material to a paramagnetic material. As a result, the first magnetic layer 23 in the portion irradiated with the mark light is no longer influenced by the second magnetic layer 22, and the magnetization direction is reversed, appearing in the magnetization direction of the electromagnet 7. When the irradiation of the mark light is cut off, the temperature of the second magnetic layer 22 decreases.
However, following the magnetization direction of the first magnetic layer 23, the magnetization is reversed to a stable direction with respect to the first magnetic layer 23 due to exchange coupling. When the magnetization direction of the first magnetic layer 23 and the second magnetic layer 22 is antiparallel, it is stable (FIG. 3(,)H)), the magnetization direction is downward, and the magnetization direction of the first magnetic layer 23 and the second magnetic layer 22 is downward. If it is stable when the direction is parallel (see (b) and (a) in the same figure), the direction is upward. The magnetization of the first magnetic layer 23 is reversed, and the second magnetic layer 2
The mark image is recorded as a magnetic domain pattern by generating the magnetization of No. 2 inverted in a stable direction with respect to the first magnetic layer 23. Note that since the second magnetic layer 22 has a large coercive force, even fine mark patterns can be stably held.

本実施例に係る光磁気記録媒体30.40のマーク像の
位置を検出する際には、従来と同様位置合せ用光学系9
の下に移動させて行ない、照明光14を第1磁性層23
側よシ照明する。すると、その照明光は主に第1磁性層
23側よシ反射され、この反射光を偏光板等の検光子を
通過させて明暗のコントラストを観察することによりマ
ーク像を検出する。マーク像の記録された部分とそれ以
外の部分とは磁化方向が逆になりているため、反射光の
偏光面の方向が入射光の偏光面の方向に対して、磁気光
学効果(カー効果)により逆方向に主に第1磁性層23
のカー回転角だけ回転し、従って反射光を偏光板等の検
光子を通過させることによりマーク像を検出することが
できる。第1磁性層23はキエリー温度が高いため、磁
気光学効果すなわちカー回転角が大きくなりマークの読
取りコントラストが増加し、更に、第1磁性層23は軽
希土類を含むため、再生光として用いられるハロゲンラ
ンプ、キセノンランプ等の可視域の波長、すなわち半導
体レーデの赤外域の波長よりより短波長の波長を用いる
程カー回転角が大きくなりマークの読取りコントラスト
が更に増加する。
When detecting the position of the mark image on the magneto-optical recording medium 30, 40 according to this embodiment, the alignment optical system 9 is used as in the conventional case.
The illumination light 14 is moved under the first magnetic layer 23.
Light up from the side. Then, the illumination light is mainly reflected off the first magnetic layer 23 side, and the mark image is detected by passing this reflected light through an analyzer such as a polarizing plate and observing the contrast between brightness and darkness. Since the magnetization direction of the part where the mark image is recorded and the other parts are opposite, the direction of the polarization plane of the reflected light is different from the direction of the polarization plane of the incident light, causing magneto-optical effect (Kerr effect). mainly the first magnetic layer 23 in the opposite direction.
The mark image can be detected by rotating the mark by a Kerr rotation angle of , and passing the reflected light through an analyzer such as a polarizing plate. Since the first magnetic layer 23 has a high Chierly temperature, the magneto-optic effect, that is, the Kerr rotation angle, increases and the mark reading contrast increases.Furthermore, since the first magnetic layer 23 contains light rare earth elements, the halogen used as the reproduction light The longer a wavelength in the visible range of a lamp, xenon lamp, etc., ie, the wavelength shorter than the wavelength in the infrared range of a semiconductor radar, is used, the larger the Kerr rotation angle becomes, and the reading contrast of the mark further increases.

次に、本発明に係る光磁気記録媒体を実際に製作して露
光装置に適し実、験を行った結果を示す。
Next, we will show the results of experiments conducted on a magneto-optical recording medium according to the present invention which was actually manufactured and suitable for use in an exposure apparatus.

なお露光装置として第4図に示すものを用いた。The exposure device shown in FIG. 4 was used.

◎具体的実施例1 光磁気記録媒体として、第1図に示す構造のものを用い
た。Stウェハを基板21として用い、その上に第2の
層23としてTbFaを300X、その上に第1の層2
2としてNdGdFeCoを300X、その上に保護膜
24としてSINを250X形成したものを作成した。
◎Specific Example 1 A magneto-optical recording medium having the structure shown in FIG. 1 was used. A St wafer is used as the substrate 21, on which TbFa is deposited at 300X as the second layer 23, and on top of which the first layer 2 is deposited.
2, NdGdFeCo was formed at 300X, and SIN was formed at 250X as the protective film 24 thereon.

第2の層23はTbターrットとFeター1’yトの同
時スパッタによりTb0.25”0.77(原子俤、以
下同じ)の組成となる様形成した。
The second layer 23 was formed by simultaneous sputtering of a Tb target and a Fe target to have a composition of Tb0.25''0.77 (atomic weight, the same hereinafter).

第1の層22はNdo、6Gdo、4のターゲットと、
F @ o 、 7 COo 、 sのターゲットを用
いGd0.08”0.12”0.56”0.24の組成
となった。この媒体K、露光エネルギー0.5 mJ/
cm2(1/4 /l/ ス当す)で波長248nmの
KrFエキシマレーザヲ用い位置合せマークを20パル
ス露光した。磁場として上向き(光軸上、光源方向)に
2000a印加した。その後、位置合せ光学系として偏
光顕微儒を用いキセノンランプ照明下で位置合せマーク
のコントラストとして、0.45が得られた。
The first layer 22 has targets of Ndo, 6Gdo, 4,
Using a target of F @ o , 7 COo , s, the composition was Gd 0.08"0.12"0.56" 0.24. This medium K, exposure energy 0.5 mJ/
The alignment mark was exposed to 20 pulses of light using a KrF excimer laser with a wavelength of 248 nm and a wavelength of 248 nm. A magnetic field of 2000 a was applied upward (on the optical axis, in the direction of the light source). Thereafter, using a polarized light microscope as an alignment optical system, a contrast of 0.45 was obtained for the alignment mark under xenon lamp illumination.

比較例1としてGdO,18”0.57”0.25を第
2の層。
As Comparative Example 1, GdO, 18"0.57"0.25 was used as the second layer.

Tb   Fe   を第1の層とした同様の構成の光
磁0.25  0.77 気記録媒体、また比較例2として2層構成でなくGdO
,08NdO,12”0.56”0.24単層とした媒
体を作成した。
A magneto-optical recording medium having a similar structure with TbFe as the first layer, and a GdO recording medium instead of a two-layer structure as Comparative Example 2.
, 08NdO, 12"0.56" 0.24 single layer media were prepared.

結果は第1表のようになり、実施例1と比較例1との比
較により第1の層22に軽希土類Ndを含ませることに
より再生の際のコントラストが上昇し、また実施例1の
第1の層GdNdFeCoのみを単層として記鎌層とし
たもの(比較例2)は位置合せマークの記録ができなか
った。
The results are as shown in Table 1, and a comparison between Example 1 and Comparative Example 1 shows that by including the light rare earth Nd in the first layer 22, the contrast during reproduction increases. In the case where only layer 1 of GdNdFeCo was used as a single layer as a recording sickle layer (Comparative Example 2), alignment marks could not be recorded.

第 組成 実施例I  GdNdFeCo、’rbFe比較例I 
 GdFeCo、、’rbFe比較例2  GdNdF
eC。
Composition Example I GdNdFeCo,'rbFe Comparative Example I
GdFeCo,,'rbFe Comparative Example 2 GdNdF
eC.

1表 コントラスト 必要露光工ρ−一 〇、 45    0.5 mJ/cm20.4   
  0.5mυ缶2 記録できず ◎具体的実施例2〜7 光磁気記録媒体として、第2図に示す構造のものを作成
した。基板21′として研磨した石英ガラスを用い、そ
の上に反射防止膜25としてAt203を300X設け
、その上に以下に示す第1表の組成の第1の層22/第
2の層23をそれぞれ300叉形成した。更にその上に
保護層24としてSINを300X形成した。第1の層
22及び第2の層23は同時スパッタ法により作成した
。これらの記録媒体を用いて具体的実施例1と同様の条
件のもとに(ただし、各具体的実施例における露光エネ
ルギーは第1表の通りとした)位置合せマークの露光及
びキセノンランプでの再生を行なったところ、第2表に
示すコノトラストが得られた。なお、露光、再生とも石
英ガラス側より石英ガラスを通して行なった。
Table 1 Contrast Required exposure ρ-10, 45 0.5 mJ/cm20.4
0.5 mυ can 2 Unable to record ◎Specific Examples 2 to 7 A magneto-optical recording medium having the structure shown in FIG. 2 was prepared. Polished quartz glass was used as the substrate 21', At203 was provided at 300X as the anti-reflection film 25 on it, and the first layer 22/second layer 23 having the compositions shown in Table 1 below were each coated at 300X. Formed. Furthermore, a 300X SIN layer was formed as a protective layer 24 thereon. The first layer 22 and the second layer 23 were created by simultaneous sputtering. Using these recording media, alignment mark exposure and xenon lamp exposure were performed under the same conditions as in Specific Example 1 (however, the exposure energy in each specific example was as shown in Table 1). When regenerated, the conotrast shown in Table 2 was obtained. Note that both exposure and reproduction were performed through the quartz glass from the quartz glass side.

◎具体的実施例8〜14 光磁気記録媒体として具体的実施例1と同様に第1図に
示す構造のものを作成し、各層の材質。
◎Specific Examples 8 to 14 Magneto-optical recording media having the structure shown in FIG. 1 were prepared in the same manner as in Specific Example 1, and the materials of each layer were determined.

厚さ、形成方法等も具体的実施例1と同様とした。The thickness, forming method, etc. were also the same as in the first specific example.

第1の層22及び第2の層23の組成は第3表の通シと
した。これらの記鍔媒体を用いて具体的実施例1と同様
の条件のもとに(ただし、各具体的実施例における露光
エネルギーは第3表の通りとした)位置合せマークの露
光及びキセノンランプでの再生を行なったところ、第3
表に示すコントラストが得られた。
The compositions of the first layer 22 and the second layer 23 were as shown in Table 3. Using these recording media, alignment marks were exposed and xenon lamps were used under the same conditions as in Specific Example 1 (however, the exposure energy in each specific example was as shown in Table 3). When I played the 3rd
The contrast shown in the table was obtained.

本 具体的実施例2〜7,8〜14から明らかなように本発
明に係る光磁気記録媒体は再生の際のコントラストを向
上させることができる。
As is clear from the specific examples 2 to 7 and 8 to 14, the magneto-optical recording medium according to the present invention can improve the contrast during reproduction.

なお、第1図の構成例では保護層、第2図の構成例では
保護層8反射防止膜を設けたが、その他反射膜、断熱膜
等を設けることによシ耐久性、保存性、再生コントラス
ト、露光感度等の性能を向上させることができる。
Note that in the configuration example shown in Figure 1, a protective layer is provided, and in the configuration example shown in Figure 2, a protective layer 8 is provided with an anti-reflection film, but by providing other reflective films, heat insulating films, etc., durability, storage stability, and recyclability can be improved. Performance such as contrast and exposure sensitivity can be improved.

なお、第4図に示した本発明に係る光磁気記録媒体が適
用される露光装置の1例は消去の際、電磁石7によシ強
力磁場をかけるとしたが、媒体全面に光照射しながら行
えば、マーク露光時にかける磁場と同程度の強さの磁場
をかけることにより消去可能である。また、電磁石7を
用いずに上下反転可能な永久磁石を用いた露光装置であ
ってもよい。更に、レチクル上の位置合わせ用マーク1
8の照射は第4図のマーク照射用光学系11によらず、
照明光学系1を直接用いてもよい。更にまた。マーク1
8の照射用の光源は照明光学系1から露光光をとり出さ
ずに実質的に同じ波長の別光源を用いてもよい。以上の
ように本発明に適用される露光装置は種々のものが考え
られる。
An example of an exposure apparatus to which the magneto-optical recording medium according to the present invention shown in FIG. If this is done, the mark can be erased by applying a magnetic field of approximately the same strength as the magnetic field applied during mark exposure. Alternatively, the exposure apparatus may use a permanent magnet that can be turned upside down without using the electromagnet 7. Furthermore, positioning mark 1 on the reticle
The irradiation of 8 is not based on the mark irradiation optical system 11 shown in FIG.
The illumination optical system 1 may be used directly. Yet again. mark 1
As the light source 8 for irradiation, the exposure light may not be taken out from the illumination optical system 1, and another light source having substantially the same wavelength may be used. As described above, various types of exposure apparatuses can be considered to be applied to the present invention.

〈発明の効果〉 本発明に係る露光装置位置合せ用光磁気記碌媒体は、高
いキュリー温度と低い保磁力を有する第1磁性層と、第
1磁性層に対して相対的に低いキュリー温度と高い保磁
力を有する第2磁性層とを積層しており、前記第1磁性
層が軽希土類元素を含む、希土類遷移金属合金からなる
こととしたため、低エネルギーでマーク像を露光できか
つマーク像の読取りコントラストを増大させることがで
きる。
<Effects of the Invention> The magneto-optical storage medium for aligning an exposure apparatus according to the present invention has a first magnetic layer having a high Curie temperature and a low coercive force, and a Curie temperature relatively low with respect to the first magnetic layer. Since the first magnetic layer is made of a rare earth transition metal alloy containing a light rare earth element, the mark image can be exposed with low energy and the mark image can be Reading contrast can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図及び第2図は本発明に係る光磁気記録媒体の構成
例を示す側面図、第3図は例えば第1図又は第2図に示
す光磁気記録媒体を第4図に示す露光装置に適用した場
合の動作状態の説明図、第4図は本発明に係る光磁気記
録媒体が適用される露光装置の1例についての説明図、
第5図は従来に係る光磁気記録媒体を用いた場合の動作
状態の説明図、第6図は第4図の露光装置のシーケンス
の一例を示すフローチャートである。 l:照明光学系、2ニレチクル(第1の物体)、3:投
影光学系、4:ウェハ(第2の物体)、5:可動ステー
ジ、6:光磁気記録媒体、7:電磁石、8:レーザー測
長器、9:位置合わせ用光学系、11:マーク照射用光
学系、21,21:基板、22:第2磁性層、23:第
1磁性層、24:保護層。 代理人 弁理士 山 下 穣 平 第 図 第 図 第 図 第3図 2、眉r5の4ム化のm;ガ′反千イテなと二宇之l場
會(b) 2屑藺の不ムイ乙のm亡ガ平イ↑fヒご9足食場合(イ
) 第 図
1 and 2 are side views showing a configuration example of a magneto-optical recording medium according to the present invention, and FIG. 3 is an exposure apparatus shown in FIG. FIG. 4 is an explanatory diagram of an example of an exposure apparatus to which the magneto-optical recording medium according to the present invention is applied;
FIG. 5 is an explanatory diagram of the operating state when a conventional magneto-optical recording medium is used, and FIG. 6 is a flowchart showing an example of the sequence of the exposure apparatus of FIG. 4. l: illumination optical system, 2 reticle (first object), 3: projection optical system, 4: wafer (second object), 5: movable stage, 6: magneto-optical recording medium, 7: electromagnet, 8: laser Length measuring device, 9: Optical system for alignment, 11: Optical system for mark irradiation, 21, 21: Substrate, 22: Second magnetic layer, 23: First magnetic layer, 24: Protective layer. Agent: Patent Attorney Minoru Yamashita In the case of eating 9 feet of chicks (A) Fig.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)第1の物体に露光光を照射する照明光学系と、可
動ステージと、該可動ステージ上に配置された第2の物
体上に、第1の物体に描かれたパターンを投影する投影
光学系と、上記第1および第2の物体の相対位置関係を
上記投影光学系の光軸より離れた位置で検出する位置合
わせ用光学系と、上記可動ステージ上に配置された書込
・消去可能な記録媒体とを具備する露光装置において前
記書込・消去可能な記録媒体として用いられる光磁気記
録媒体てあって、高いキュリー温度と低い保磁力を有す
る第1磁性層と、第1磁性層に対して相対的に低いキュ
リー温度と高い保磁力を有する第2磁性層とを積層して
おり、前記第1磁性層が軽希土類元素を含む、希土類遷
移金属合金からなることを特徴とする露光装置位置合せ
用光磁気記録媒体。
(1) An illumination optical system that irradiates a first object with exposure light, a movable stage, and a projection that projects a pattern drawn on the first object onto a second object placed on the movable stage. an optical system, an alignment optical system that detects the relative positional relationship between the first and second objects at a position distant from the optical axis of the projection optical system, and a writing/erasing system arranged on the movable stage. A magneto-optical recording medium is used as the writable/erasable recording medium in an exposure apparatus equipped with a recording medium, the magneto-optical recording medium having a first magnetic layer having a high Curie temperature and a low coercive force; A second magnetic layer having a relatively low Curie temperature and high coercive force is laminated thereon, and the first magnetic layer is made of a rare earth transition metal alloy containing a light rare earth element. Magneto-optical recording medium for device alignment.
(2)前記軽希土類元素かCe、Pr、Nd、Smのう
ちから選ばれたものてあることを特徴とする請求項1記
載の露光装置位置合せ用光磁気記録媒体。
(2) The magneto-optical recording medium for exposure apparatus alignment according to claim 1, wherein the light rare earth element is selected from Ce, Pr, Nd, and Sm.
(3)前記第1磁性層に重希土類元素をも含むことを特
徴とする請求項1又は請求項2記載の露光装置位置合せ
用光磁気記録媒体。
(3) The magneto-optical recording medium for aligning an exposure apparatus according to claim 1 or 2, wherein the first magnetic layer also contains a heavy rare earth element.
(4)前記第2磁性層がTb、Dyのうちから選ばれた
希土類元素とFe、Coのうちから選ばれた遷移金属元
素からなることを特徴とする請求項1、請求項2又は請
求項3記載の露光装置位置合せ用光磁気記録媒体。
(4) The second magnetic layer is made of a rare earth element selected from Tb and Dy and a transition metal element selected from Fe and Co. 3. The magneto-optical recording medium for exposure apparatus alignment according to 3.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5143798A (en) * 1991-01-16 1992-09-01 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Magneto-optical recording medium having double magnetic layers including a light rare earth element and satisfying a specified condition involving the product of the thickness and magnetization saturation of said layers

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