JPH0261891A - Dynamic memory circuit - Google Patents

Dynamic memory circuit

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Publication number
JPH0261891A
JPH0261891A JP63213024A JP21302488A JPH0261891A JP H0261891 A JPH0261891 A JP H0261891A JP 63213024 A JP63213024 A JP 63213024A JP 21302488 A JP21302488 A JP 21302488A JP H0261891 A JPH0261891 A JP H0261891A
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JP
Japan
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capacitor
counter electrode
memory circuit
circuit
memory
Prior art date
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Pending
Application number
JP63213024A
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Japanese (ja)
Inventor
Hidemori Inukai
犬飼 英守
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To absorb fluctuation in the capacitance value of a storage cell capacitor and dispersion in the dielectric strength of a capacitor insulation film by enabling a voltage to be applied on the counter electrode of the capacitor to be selected after manufacturing a memory circuit. CONSTITUTION:Output from plural counter electrode potential generation circuits 9 are connected to the counter electrode of the capacitor 9 in a memory cell 4 via fuses 10. After the memory circuit is manufactured, the optimum potential out of the plural counter electrode output is decided after confirming an element characteristic, and the remaining fuses except for the fuse 10 connected to a circuit to generate the optimum potential are fused. In such a way, it is possible to absorb the fluctuation in the capacitance value of the storage cell capacitor due to the dispersion in manufacturing and the dispersion in the dielectric strength of the capacitor insulation film.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ダイナミック型メモリ回路に関し、特に、情
報を記憶するコンデンサの半導体基板に対向する電極に
印加する電圧を選択しうるようにしたメモリ回路に関す
る。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a dynamic memory circuit, and in particular to a memory in which a voltage applied to an electrode facing a semiconductor substrate of a capacitor for storing information can be selected. Regarding circuits.

[従来の技術] 従来の代表的なダイナミック型メモリセルは、読み出し
書き込みに使用される1個のトランジスタと情報を記憶
しておく1個のコンデンサから構成されている。この種
メモリ回路の従来例を第3図に示す。同図に示されるよ
うに、メモリセル4はMOSトランジスタフとコンデン
サ8とによって構成されており、トランジスタは、ワー
ド線5とビット線6に接続されている6そして、コンデ
ンサ8のMOS)−ランジスタフに接続された側の1極
と対向する電極(以下、対向電極という〉は全セル共通
に予め定められた電位、例えば電源電圧、GND又は1
/2電源電圧等の一定の電位に固定される。
[Prior Art] A typical conventional dynamic memory cell is composed of one transistor used for reading and writing and one capacitor for storing information. A conventional example of this type of memory circuit is shown in FIG. As shown in the figure, the memory cell 4 is composed of a MOS transistor and a capacitor 8, the transistor is connected to a word line 5 and a bit line 6, and a MOS transistor of a capacitor 8 The electrode (hereinafter referred to as the counter electrode) opposite to the one pole on the side connected to
It is fixed at a constant potential such as /2 power supply voltage.

[発明が解決しようとする問題点] 上述した従来のダイナミック型メモリ回路の記憶素子で
あるコンデンサの対向電極には、メモリ回路に供給され
る又はメモリ回路を通して供給される一定の電位が供給
されるようになっているので、メモリ回路の製造上のば
らつきによって生じるコンデンサの容量値の変動及びそ
の信頼度の低下に対して、対応可能なようには構成され
ていない。ダイナミック型メモリ回路では、メモリの大
容量化に伴い、その記憶素子であるコンデンサの構成が
多様に変化し、ブレーナ型、スタック型、トレンチ型等
が用いられているが、いずれの場合でも、メモリの読み
出し信号量の対ノイズ性の向上及びα線によるソフトエ
ラーの対策として、コンデンサの容量値を一定以上に保
つ必要がある。
[Problems to be Solved by the Invention] A constant potential supplied to or through the memory circuit is supplied to the opposing electrode of the capacitor which is the storage element of the conventional dynamic memory circuit described above. Therefore, it is not configured to be able to cope with fluctuations in the capacitance value of the capacitor and a decrease in its reliability caused by manufacturing variations in the memory circuit. In dynamic memory circuits, as the capacity of memory increases, the configuration of the capacitor that is the storage element has changed in various ways, such as the Brenna type, stack type, and trench type. In order to improve the noise resistance of the readout signal amount and to prevent soft errors caused by alpha rays, it is necessary to maintain the capacitance value of the capacitor above a certain level.

そこで、この要求の満たすために、コンデンサを構成す
る誘電体膜の薄膜化が必要となるが、一方において、メ
モリの大容量化の要請があり、これに対応するためには
、微細加工とコンデンサの小型化が要求される。この薄
膜化及び微細化加工技術によってコンデンサ耐圧のばら
つきと容量のばらつきが顕著となり、その結果、コンデ
ンサ対向電極に予め定められたー電位を供給のみでは、
信頼性が高く、かつ、ソフトエラーに対して抵抗力のあ
るメモリ回路の実現は困難となってきた。即ち、コンデ
ンサの電極間に高い電圧がかかると、誘電体膜の製作上
のばらつきが大きいことからその耐圧の低い部分が破壊
する恐れがあり、また、容量値が小さくなる電圧が用い
られた場合には、ソフトエラーあるいは信号電荷の不足
によって、誤動作を起こす可能性が生じる。
Therefore, in order to meet this demand, it is necessary to make the dielectric film that constitutes the capacitor thinner.On the other hand, there is a demand for larger memory capacity, and in order to meet this demand, microfabrication and capacitor Miniaturization is required. Due to this thinning and microfabrication processing technology, variations in capacitor breakdown voltage and capacitance become noticeable, and as a result, it is difficult to simply supply a predetermined -potential to the capacitor counter electrode.
It has become difficult to realize memory circuits that are highly reliable and resistant to soft errors. In other words, if a high voltage is applied between the electrodes of a capacitor, there is a risk that the parts with low withstand voltage will be destroyed due to large manufacturing variations in the dielectric film, and if a voltage is used that reduces the capacitance value. In this case, there is a possibility of malfunction occurring due to soft errors or lack of signal charge.

本発明は、この点に対処してなされたものであって、そ
の目的とするところは、メモリ回路の製造後に、コンデ
ンサの対向電極に印加する電圧を選択しうるようにして
、製造上のばらつきを吸収して、そのコンデンサの耐圧
の範囲内でその容量値を大きくすることにある。
The present invention has been made to address this problem, and its purpose is to make it possible to select the voltage to be applied to the opposing electrode of the capacitor after manufacturing the memory circuit, thereby eliminating manufacturing variations. The aim is to increase the capacitance value within the range of the capacitor's withstand voltage.

[問題点を解決するための手段] 本発明のダイナミック型メモリ回路は、それぞれ異なる
電圧を発生しうる対向電極電位発生回路を複数設けてお
き、メモリセルの製造上のばらつきに応じて、そのうち
の最適の電位発生回路を選択して、その電位をコンデン
サの対向電極へ供給しうるようしたものである。
[Means for Solving the Problems] The dynamic memory circuit of the present invention has a plurality of counter electrode potential generation circuits capable of generating different voltages, and selects one of them according to manufacturing variations of memory cells. The optimum potential generation circuit is selected and the potential can be supplied to the opposite electrode of the capacitor.

[実施例] 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
[Example] Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は、本発明の一実施例であるコンデンサ型メモリ
回路のブロック図である。同図において1は、複数のメ
モリセル4からなるメモリセルマトリクス、2は、メモ
リセル周辺回路、3は、メモリセル入出力回路であって
、メモリセル4内において、第3図と同一の番号が付さ
れたものは同一のものを意味している。この回路は、更
に、複数個の対向電極電位発生回路9を備えており、こ
の複数個の対向電極電位発生回路9の出力は、ヒユーズ
10を介してメモリセルの対向電極に接続されている。
FIG. 1 is a block diagram of a capacitor type memory circuit which is an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a memory cell matrix consisting of a plurality of memory cells 4, 2 is a memory cell peripheral circuit, and 3 is a memory cell input/output circuit. Within the memory cell 4, the same number as in FIG. Items with ``mark'' mean the same thing. This circuit further includes a plurality of counter electrode potential generation circuits 9, and the outputs of the plurality of counter electrode potential generation circuits 9 are connected to the counter electrodes of the memory cells via fuses 10.

メモリ回路の製造後、製造された素子特性を確認し、複
数個の対向@極電位出力の内、最適と考えられる電位を
決定し、その最適電位を発生する回路に接続しているヒ
ユーズ10のみを残し、他の残りの複数個のヒユーズを
溶断する。そして、この選択された電位は全メモリセル
に対して共通に用いられる。本工程は、大容量メモリI
Cに於いては、標準工程として実施されているリダンダ
ンシー技術を用いる事によって容易に実施される。
After manufacturing the memory circuit, check the characteristics of the manufactured element, determine the potential that is considered to be optimal among the multiple opposing @pole potential outputs, and select only the fuse 10 that is connected to the circuit that generates the optimal potential. , and blow out the remaining fuses. This selected potential is commonly used for all memory cells. This process is performed using large capacity memory I.
C is easily implemented using redundancy techniques that are implemented as standard processes.

第2図は、本発明の他の実施例のブロック図である。こ
の実施例では、先の実施例でヒユーズを用いていたとこ
ろに直列接続されたダイオード11が用いられている。
FIG. 2 is a block diagram of another embodiment of the invention. In this embodiment, a series-connected diode 11 is used in place of the fuse used in the previous embodiment.

そして、使用すべき電位発生回路が決まると、当該回路
に接続されているダイオードが破壊され、その回路のみ
がコンデンサの対向電極に接続される。
Once the potential generating circuit to be used is determined, the diode connected to that circuit is destroyed, and only that circuit is connected to the opposing electrode of the capacitor.

以上の実施例では、1素子型のメモリセルについて説明
したが、本発明は、これ以外の型のメモリセル、例えば
3素子型のものについても適用することができる。
In the above embodiments, a one-element type memory cell has been described, but the present invention can also be applied to other types of memory cells, such as a three-element type.

[発明の効果] 以上説明したように本発明は、複数のメモリセルととも
に、予め、複数個の対向電極電位発生回路を設け、この
複数個の対向電極電位発生回路の出力をヒユーズ等の選
択的接続手段を介して、コンデンサ型メモリ回路のコン
デンサ対向電極に接続しておき、メモリ回路製造後に最
適対向電極電位を、任意に選択して供給することができ
るようにすることにより、微細加工技術による製造上の
ばらつきによって生じる記憶素子コンデンサの容量値の
変動及びコンデンサ絶縁膜の耐圧のばらつきを吸収する
ことができる。従って、本発明によれば、大容量化が進
んだコンデンサ型メモリ回路において、絶縁膜耐圧が高
く、耐ソフトエラー特性に優れ、かつ広いノイズマージ
ンを有するメモリセルを実現することができる。
[Effects of the Invention] As explained above, the present invention provides a plurality of counter electrode potential generation circuits in advance together with a plurality of memory cells, and selectively connects the outputs of the plurality of counter electrode potential generation circuits with a fuse or the like. By connecting to the capacitor counter electrode of a capacitor type memory circuit through a connecting means, and making it possible to arbitrarily select and supply the optimal counter electrode potential after the memory circuit is manufactured, microfabrication technology can be used. It is possible to absorb variations in the capacitance value of the storage element capacitor and variations in the withstand voltage of the capacitor insulating film caused by manufacturing variations. Therefore, according to the present invention, it is possible to realize a memory cell having a high insulating film breakdown voltage, excellent soft error resistance, and a wide noise margin in a capacitor type memory circuit whose capacity has been increased.

ト線、 9・・・対向電極電位発生回路。G line, 9... Counter electrode potential generation circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 複数のワード線と、 該複数のワード線と交わる複数のビット線と、前記複数
のワード線と前記複数のビット線との各交点に接続され
たMOSトランジスタと、前記MOSトランジスタに接
続された電極とこの電極と対向する対向電極とを有する
コンデンサと、 を具備するダイナミック型メモリ回路において、それぞ
れが異なる電位を発生する対向電極電位発生回路を複数
個備え、かつ、そのうちの1回路を選択して前記コンデ
ンサの対向電極に接続しうるようにしたことを特徴とす
るダイナミック型メモリ回路。
[Scope of Claims] A plurality of word lines, a plurality of bit lines intersecting with the plurality of word lines, a MOS transistor connected to each intersection of the plurality of word lines and the plurality of bit lines, and a MOS transistor connected to each intersection of the plurality of word lines and the plurality of bit lines; A dynamic memory circuit comprising: a capacitor having an electrode connected to a transistor and a counter electrode facing the electrode; A dynamic memory circuit, characterized in that one circuit can be selected and connected to a counter electrode of the capacitor.
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