JPH0257143U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0257143U JPH0257143U JP6541389U JP6541389U JPH0257143U JP H0257143 U JPH0257143 U JP H0257143U JP 6541389 U JP6541389 U JP 6541389U JP 6541389 U JP6541389 U JP 6541389U JP H0257143 U JPH0257143 U JP H0257143U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- plasma
- reaction gas
- powder processing
- reaction apparatus
- Prior art date
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- Granted
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- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims description 4
- 238000009700 powder processing Methods 0.000 claims 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 claims 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
第１図は本考案の主要部を縦断面で表した図で
あり、第２図は本考案で好ましく採用される羽根
の概略図である。 １０……プラズマ発生装置、１２……高周波コ
イル、２００……反応装置、２０７……羽根、３
０……反応ガス供給装置、４０……反応ガス排気
装置。
あり、第２図は本考案で好ましく採用される羽根
の概略図である。 １０……プラズマ発生装置、１２……高周波コ
イル、２００……反応装置、２０７……羽根、３
０……反応ガス供給装置、４０……反応ガス排気
装置。
Claims (1)
- プラズマ発生装置、有底円筒状の反応装置、反
応ガス供給装置及び反応ガス排気装置を備えたプ
ラズマ粉体処理装置において、反応装置の下部に
粉体かき上げ用羽根が、反応装置の側壁を貫通す
る撹拌軸に取り付けられていることを特徴とする
プラズマ粉体処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6541389U JPH061233Y2 (ja) | 1988-06-24 | 1989-06-06 | プラズマ粉体処理装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8290888 | 1988-06-24 | ||
| JP63-82908 | 1988-06-24 | ||
| JP6541389U JPH061233Y2 (ja) | 1988-06-24 | 1989-06-06 | プラズマ粉体処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0257143U true JPH0257143U (ja) | 1990-04-25 |
| JPH061233Y2 JPH061233Y2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=31718320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6541389U Expired - Lifetime JPH061233Y2 (ja) | 1988-06-24 | 1989-06-06 | プラズマ粉体処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH061233Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2004112964A1 (ja) * | 2003-06-20 | 2006-07-27 | 株式会社ホソカワ粉体技術研究所 | 粉体処理方法、粉体処理装置、及び、多孔質造粒物の製造方法 |
| CN113122821A (zh) * | 2020-01-15 | 2021-07-16 | 株洲弗拉德科技有限公司 | 一种搅拌式粉体真空气相沉积炉 |
-
1989
- 1989-06-06 JP JP6541389U patent/JPH061233Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2004112964A1 (ja) * | 2003-06-20 | 2006-07-27 | 株式会社ホソカワ粉体技術研究所 | 粉体処理方法、粉体処理装置、及び、多孔質造粒物の製造方法 |
| JP4580339B2 (ja) * | 2003-06-20 | 2010-11-10 | ホソカワミクロン株式会社 | 粉体処理方法、及び、粉体処理装置 |
| US7905434B2 (en) | 2003-06-20 | 2011-03-15 | Hosokawa Micron Co., Ltd. | Powder processing apparatus |
| CN113122821A (zh) * | 2020-01-15 | 2021-07-16 | 株洲弗拉德科技有限公司 | 一种搅拌式粉体真空气相沉积炉 |
| CN113122821B (zh) * | 2020-01-15 | 2023-05-30 | 株洲弗拉德科技有限公司 | 一种搅拌式粉体真空气相沉积炉 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH061233Y2 (ja) | 1994-01-12 |