JPH0251390B2 - - Google Patents
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- JPH0251390B2 JPH0251390B2 JP59215723A JP21572384A JPH0251390B2 JP H0251390 B2 JPH0251390 B2 JP H0251390B2 JP 59215723 A JP59215723 A JP 59215723A JP 21572384 A JP21572384 A JP 21572384A JP H0251390 B2 JPH0251390 B2 JP H0251390B2
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- laser beam
- marking
- mask
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- hole
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/24—Ablative recording, e.g. by burning marks; Spark recording
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、マスクに文字や記号等を透孔によ
つて形成し、この透孔を透過するレーザビームに
よつてマーキングするレーザマーキング装置に関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a laser marking device that forms characters, symbols, etc. on a mask through a hole, and marks the mask with a laser beam that passes through the hole.
TEA CO2レーザ等を用いたレーザマーキング
装置は、一般に第２図に示すように構成されてい
る。すなわち、１はレーザ発振器で、２は出力側
ミラーである。この出力側ミラー２から出力され
たレーザビーム３はマスク４に照射されるように
なつている。このマスク４には第３図に示すよう
に、マーキングすべき文字、記号等が透孔５によ
つて形成され、この透孔５を透過したのち集光レ
ンズからなる結像光学系６によつて被マーキング
面７に結像されるように構成されている。そし
て、マスク４の透孔５がたとえば“Ａ”であれ
ば、第３図の白抜き部分ａはレーザビーム３が透
過するが、その他の部分ｂはレーザビーム３が反
射する。このマスク４はレーザビーム３を吸収し
ない材料、たとえばCO2レーザビームの場合には
銅板で形成されている。したがつて、マスク４の
透孔５を透過するレーザビーム３以外はほぼ同じ
強度で反射されてしまう。（反射光を３ａで示す）
これはマスク４が光路８に対して垂直であるため
で、反射光３ａは前記レーザ発振器１の出力側ミ
ラー２に戻る。このため、出力側ミラー２がレー
ザビーム３の反射光３ａによつて損傷を与える原
因となつている。
A laser marking device using a TEA CO 2 laser or the like is generally configured as shown in FIG. That is, 1 is a laser oscillator, and 2 is an output side mirror. A laser beam 3 output from the output side mirror 2 is irradiated onto a mask 4. As shown in FIG. 3, characters, symbols, etc. to be marked are formed on this mask 4 through a through hole 5, and after passing through the through hole 5, an image forming optical system 6 consisting of a condenser lens is formed. The image is formed on the surface 7 to be marked. If the through hole 5 of the mask 4 is, for example, "A", the laser beam 3 will pass through the white portion a in FIG. 3, but will be reflected from the other portion b. This mask 4 is made of a material that does not absorb the laser beam 3, for example a copper plate in the case of a CO 2 laser beam. Therefore, all beams other than the laser beam 3 that passes through the through hole 5 of the mask 4 are reflected with substantially the same intensity. (Reflected light is shown by 3a)
This is because the mask 4 is perpendicular to the optical path 8, and the reflected light 3a returns to the output side mirror 2 of the laser oscillator 1. Therefore, the output side mirror 2 is damaged by the reflected light 3a of the laser beam 3.
この発明は、前記事情に着目してなされたもの
で、その目的とするところは、レーザビームの光
路に設置されたマスクからの反射レーザビームに
よるレーザ発振器の損傷を防止するとともに、そ
の反射レーザビームを有効に利用してマーキング
できるレーザマーキング装置を提供することにあ
る。
This invention was made in view of the above-mentioned circumstances, and its purpose is to prevent damage to a laser oscillator caused by the reflected laser beam from a mask installed in the optical path of the laser beam, and to prevent the reflected laser beam from damaging the laser oscillator. It is an object of the present invention to provide a laser marking device that can mark by effectively utilizing the laser marking device.
この発明は、前記目的を達成するために、レー
ザビームの光路にこのレーザビームに対して傾斜
する第１のマーキング用マスクを設けるととも
に、この第１のマーキング用マスクから反射する
反射レーザビームの反射光路にこの反射レーザビ
ームに対して傾斜する第２のマーキング用マスク
を設け、反射レーザビームを有効に利用すること
にある。
In order to achieve the above object, the present invention provides a first marking mask that is inclined with respect to the laser beam in the optical path of the laser beam, and also provides reflection of the reflected laser beam reflected from the first marking mask. A second marking mask that is inclined with respect to the reflected laser beam is provided in the optical path to effectively utilize the reflected laser beam.
以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説
明するが、レーザマーキング装置の基本的構成
は、従来と同一であるため同一番号を付して説明
を省略する。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described based on the drawings, but since the basic configuration of the laser marking device is the same as that of the conventional one, the same reference numerals will be given and the explanation will be omitted.
第１図および第２図中、１１は第１のマーキン
グ用マスクであり、このマーキング用マスク１１
にはマーキングしようとする文字、記号などが透
孔１２によつて形成されている。そして、この第
１のマーキング用マスク１１はレーザビーム３に
対して傾斜（角度Θ1）しており、第１のマーキ
ング用マスク１１の透孔１２を透過せずに反射さ
れた反射レーザビーム１３は前記レーザビーム３
の光路８から外れるようになつている。そして、
この反射レーザビーム１３の反射光路１４にはこ
の反射レーザビーム１３に対して傾斜（角度Θ2）
して第２のマーキング用マスク１５が配置されて
いる。この第２のマーキング用マスク１５にはマ
ーキングしようとする文字、記号などが透孔１６
によつて形成されている。さらに、この第２のマ
ーキング用マスク１５の透孔１６を透過した反射
レーザビーム１３は集光レンズからなる結像光学
系１７を介して第２の被マーキング面１８に結像
されるように構成されている。 In FIGS. 1 and 2, 11 is a first marking mask, and this marking mask 11
Characters, symbols, etc. to be marked are formed in the through holes 12. The first marking mask 11 is inclined (angle Θ 1 ) with respect to the laser beam 3, and the reflected laser beam 13 is reflected without passing through the through hole 12 of the first marking mask 11. is the laser beam 3
It is arranged so that it deviates from the optical path 8 of. and,
The reflected optical path 14 of this reflected laser beam 13 has an angle (angle Θ 2 ) with respect to this reflected laser beam 13.
A second marking mask 15 is arranged. This second marking mask 15 has through holes 16 where characters, symbols, etc. to be marked are placed.
It is formed by. Further, the reflected laser beam 13 transmitted through the through hole 16 of the second marking mask 15 is configured to be imaged onto the second marking surface 18 via an imaging optical system 17 consisting of a condenser lens. has been done.
しかして、レーザ発振器１から発振されたレー
ザビーム３は出力側ミラー２から第１のマーキン
グ用マスク１１に照射される。この第１のマーキ
ング用マスク１１には文字、記号などの透孔１２
が穿設されているため、レーザビーム３の一部は
透孔１２を透過し、さらに結像光学系６を介して
第１の被マーキング面７に結像される。したがつ
て、第１の被マーキング面７には前記第１のマー
キング用マスク１１の透孔１２によつて得られた
マークが形成される。このとき、前記第１のマー
キング用マスク１１に照射されたレーザビーム３
の一部、つまり透孔１２から外れたレーザビーム
３は第１のマーキング用マスク１１によつて反射
され、この反射レーザビーム１３は第２のマーキ
ング用マスク１５に照射される。反射レーザビー
ム１３はレーザビーム３の広がりの不均一性およ
びマーキング用マスク１１の表面粗さや平面度お
よび透孔５の幅がレーザビーム３の大きさと比較
して極めて小さいこと（１／40以下）などの原因
からマーキング用マスク１５に到達するまでにそ
の強度分布が均一なレーザビームとなつている。
この第２のマーキング用マスク１５にも透孔１６
が穿設されているため、反射レーザビーム１３の
一部は透孔１６を透過し、さらに結像光学系１７
を介して第２の被マーキング面１８に結像され
る。 Thus, the laser beam 3 oscillated from the laser oscillator 1 is irradiated onto the first marking mask 11 from the output side mirror 2. This first marking mask 11 has through holes 12 for characters, symbols, etc.
, a portion of the laser beam 3 passes through the through hole 12 and is further imaged on the first marking surface 7 via the imaging optical system 6 . Therefore, a mark obtained by the through hole 12 of the first marking mask 11 is formed on the first marking surface 7 . At this time, the laser beam 3 irradiated onto the first marking mask 11
A part of the laser beam 3 that has come off the through hole 12 is reflected by the first marking mask 11, and this reflected laser beam 13 is irradiated onto the second marking mask 15. The reflected laser beam 13 has non-uniform spread of the laser beam 3, and the surface roughness and flatness of the marking mask 11 and the width of the through hole 5 are extremely small (1/40 or less) compared to the size of the laser beam 3. Due to these reasons, the laser beam has a uniform intensity distribution by the time it reaches the marking mask 15.
This second marking mask 15 also has through holes 16.
Since a hole is provided, a part of the reflected laser beam 13 passes through the through hole 16 and further passes through the imaging optical system 17.
The image is formed on the second marking surface 18 via.
したがつて、第１のマーキング用マスク１１に
よつて反射された反射レーザビーム１３がレーザ
発振器１の出力側ミラー２に戻ることはなく、出
力側ミラー２の損傷を未然に防止することができ
るとともに、その反射レーザビーム１３によつて
別の被マーキング面１８にマーキングすることが
でき、２ケ所で同時にマーキングが可能となり、
レーザビームを有効に利用できる。 Therefore, the reflected laser beam 13 reflected by the first marking mask 11 does not return to the output side mirror 2 of the laser oscillator 1, and damage to the output side mirror 2 can be prevented. At the same time, another marking target surface 18 can be marked with the reflected laser beam 13, and marking can be performed at two places simultaneously.
Laser beams can be used effectively.
なお、前記一実施例においては、第１のマーキ
ング用マスク１１の反射レーザビーム１３を第２
のマーキング用マスク１５に照射し、第２の被マ
ーキング面１８に結像するようにしたが、第２の
マーキング用マスク１５の反射レーザビームを利
用して第３のマーキングを行なうこともできる。 In the above embodiment, the reflected laser beam 13 of the first marking mask 11 is
Although the laser beam is irradiated onto the marking mask 15 and is imaged onto the second marking surface 18, the third marking can also be performed using the reflected laser beam from the second marking mask 15.
以上説明したように、この発明によれば、レー
ザビームの光路にこのレーザビームに対して傾斜
する第１のマーキング用マスクを設けるととも
に、この第１のマーキング用マスクから反射する
反射レーザビームの反射光路にこの反射レーザビ
ームに対して傾斜する第２のマーキング用マスク
を設けたから、反射レーザビームによるレーザ発
振器の損傷を未然に防止することができるととも
に、反射レーザビームによつて第２のマーキング
が同時に行なえ、レーザビームを有効に利用する
ことができるという効果を奏する。
As explained above, according to the present invention, the first marking mask that is inclined with respect to the laser beam is provided in the optical path of the laser beam, and the reflected laser beam that is reflected from the first marking mask is reflected. Since the second marking mask that is inclined with respect to the reflected laser beam is provided in the optical path, it is possible to prevent the laser oscillator from being damaged by the reflected laser beam, and also to prevent the second marking from being caused by the reflected laser beam. This can be done simultaneously and the laser beam can be used effectively.
第１図はこの発明の一実施例を示すレーザマー
キング装置全体の構成図、第２図は従来のレーザ
マーキング装置の構成図、第３図はマスクの正面
図である。
１……レーザ発振器、３……レーザビーム、
６，１７……結像光学系、７，１８……被マーキ
ング面、８，１４……光路、１１……第１のマー
キング用マスク、１２……透孔、１３……反射レ
ーザビーム、１５……第２のマーキング用マス
ク。
FIG. 1 is a block diagram of an entire laser marking device showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram of a conventional laser marking device, and FIG. 3 is a front view of a mask. 1... Laser oscillator, 3... Laser beam,
6, 17... Imaging optical system, 7, 18... Surface to be marked, 8, 14... Optical path, 11... First marking mask, 12... Through hole, 13... Reflected laser beam, 15 ...Second marking mask.
Claims (1)
光路に設置したマスクの透孔から透過したのち結
像光学系によつて被マーキング面に結像するレー
ザマーキング装置において、前記レーザビームの
光路にこのレーザビームに対して傾斜して設けら
れ第１の被マーキング面に結像される透孔を有す
る第１のマーキング用マスクと、この第１のマー
キング用マスクの透孔から外れたレーザビームが
反射する反射レーザビームの反射光路にこの反射
レーザビームに対して傾斜して設けられ第２の被
マーキング面に結像される透孔を有する第２のマ
ーキング用マスクとを具備したことを特徴とする
レーザマーキング装置。1 In a laser marking device in which a laser beam oscillated from a laser oscillator is transmitted through a hole in a mask installed in the optical path and then imaged on the surface to be marked by an imaging optical system, this laser beam is placed in the optical path of the laser beam. a first marking mask having a through hole which is provided at an angle with respect to the first marking target surface and which is imaged on the first marking surface; and a laser beam reflected from the through hole of the first marking mask. Laser marking characterized by comprising a second marking mask having a through hole provided in the reflected optical path of the laser beam at an angle with respect to the reflected laser beam and whose image is focused on the second marking surface. Device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59215723A JPS6194793A (en) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | Laser marking device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59215723A JPS6194793A (en) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | Laser marking device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6194793A JPS6194793A (en) | 1986-05-13 |
| JPH0251390B2 true JPH0251390B2 (en) | 1990-11-07 |
Family
ID=16677111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59215723A Granted JPS6194793A (en) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | Laser marking device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6194793A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0562590U (en) * | 1992-02-01 | 1993-08-20 | 保男 米盛 | Circular knitting machine |
| RU2696804C1 (en) * | 2018-12-20 | 2019-08-06 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) | Method of surface marking with controlled periodic structures |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58162348A (en) * | 1982-03-23 | 1983-09-27 | Toshiba Corp | Laser printing device |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5251642U (en) * | 1975-10-13 | 1977-04-13 | ||
| JPS5295425U (en) * | 1976-01-14 | 1977-07-16 |
-
1984
- 1984-10-15 JP JP59215723A patent/JPS6194793A/en active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58162348A (en) * | 1982-03-23 | 1983-09-27 | Toshiba Corp | Laser printing device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6194793A (en) | 1986-05-13 |
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