JPH02502079A - 固定および可変流量制御機構を有するシステム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 固定および可変流量制御機構を有するシステム主生肌ｑ立夏 本発明は、一般的には流体の流量を制御するためのシステムおよび方法に関する 。さらに詳しくは、本発明は医療用流体放出システムにおいて精密かつ安定した 流体流量の維持に関する。

主光旦至宜景 多数の流体放出システムにおいては、流体流量を注意深く制御できることが重要 である。流体の静脈内投与に使用することを意図したシステムに関し、流体流量 の精密な制御は通常患者へ提供する療法の重大部分である。医療分野においては 、そのため正確性は流れ制御システムの重要な特徴である。さらに制御されない 高い流体流量における流体の静脈内投与は患者にとって有害であり得る。

流れ制御システムの他の望ましい特徴は経時的一貫性である。医療分野において は、全体の治療時間の間流体流量をモニターするため医療従事者の立会を期待す るのは実際的でない、流体流量制御システムは、それによって比較的長時間に亘 って立会なしで安定した流量を維持できなければならない。

他の環境と同様に、医療分野においては流れ制御システムに対して他の望ましい 特徴は、装置の複雑性が増加するにつれ発生し易いオペレーターエラーを避ける ための簡単さである。流量制御システムの簡単さは、性能の質を減することな（ 勿論できるだけ最小化しなければならないシステムの全コストに関係を有する。

多くの慣用の静脈内流体投与セットは、オペレーターに流体流量の手動制御を提 供するローラークランプのようなりランピング器具を備えている。ローラークラ ンプは長年この目的のために良く役立っている。しかしながら医療処置が一層高 度化し、そして精密化するにつれ、これら処置は投与する装置も高度化し、精密 化するのは必然である０例えば、ローラクランプは全開から全閉位置の間で実質 上無限に変化し得るから、オペレーターは所望の流量を得るためにクランプを注 意深く調節することに時間をかけなければならない。

しばしば所望の流量は精密に得ることができない、さらに該流量は、一旦達成さ れても、クランプの圧縮下における静脈内投与システムに使用した可撓性チュー ブのクリープ傾向のため変化し得る。治療期間の開始時に当初確立した流量は治 療の途中予期不能にそして予見不能に変化し得る。

携帯用薬剤投与システム（本出願と同じ譲受人へ譲渡された「先端流れレギュレ ーターを有する注入」と題するＰＣＴ国際公報ＷＯ３６１０３９７Ｂに示されて いるような）においては、押出しガラス毛細管が流れへ固定した抵抗を提供する ために時折使用される。

しかしながら、この制御技術にそのアプローチにおいて比較的直裁的であるが、 所望の精密な流れ抵抗を有する毛細管を押出すのに費用がかかる。

それ故、流体投与システムにおいて安定した精密な流体流量制御を達成するコス ト有効性システムに対してなお需要が存在する。

主１里曵監！ これらおよびその他の目的を達成するため、本発明は、高価なまたは複雑な制御 機構に頬ることなく、システム内の流体流量を精密に制御するためのシステムお よび装置を提供する０本発明は、流体流をあらかじめ定めた単一の固定流量に、 または別々のあらかじめ選択した流量範囲内に制御する手段を提供する。

本発明は、その上に一つまたはそれ以上の一体に形成された流れ制［１ｉＩＢが 形成された小さい、コスト効率的な流れ制限ウェーハまたはチップの使用により 、極めて精８なそして安定した流体流量制御を提供する。流れ制限通路は、流体 流に対してあらかじめ選定した抵抗を得るように寸法法めされ、それによって流 体流量を制御する。

好ましい具体例においては、ウェーハは好ましくは結晶シリコンのような半導体 材料でつくられる。そのような材料を使用し、一つまたはそれ以上の流れ制限通 路がプラズマまたは化学的エツチング技術によって大きな精密性をもって形成し 得る。

本発明の一局面は、各自異なる流れ抵抗を提供する少なくとも二つの流れ制限通 路を有する流れ制限ウェーハを提供することである。

この構成において、本発明は流れ制限通路を通って流体を選択的に向けるための 手段を提供する。流量はそれによって流れ制限通路に関連する別々の流量の範囲 内に精田に制御することができる。

他の面において、本発明は、−次流れ制御手段を持っている流体放出システムの ための二次またはバックアップ流体流量制御を提供する。この構成においては、 本発明はシステムを通る最大流量を一次制御手段の作動と独立に制限するための 流れ保護手段を提供する。

本発明の他の特徴および利益は、添付図面、明細書および請求の範囲を考慮する 時期らかになるであろう。

皿皿二呈黒星聚班 第１図は、本発明の特徴を具体化する流量保護装置を有する流体投与システムで ある。

第２図は、第１図に示した流量ウェーハの拡大頂面図である。

第３図は、第２図の線３−３に一般に沿ったウェーハの側断面図である。

第４図は、本発明の特徴を具体化する固定流量制御装置を有する薬剤注入システ ムである。

第５図は、第４図に示した制御装置の拡大断面図である。

第６図は、本発明の特徴を具体化する可変流量制御装置を有する流体放出システ ムである。

第７図は、第６図に示した可変流量制御装置の分解斜視図である。

第８図は、第７図に示した流量制御ウェーへの拡大頂面図である。

第９図は、第６図に示した流量制御装置の頂面図である。

第１０ａないし１０ｄ図は、第６図に示した装置の可変制御特徴を示す一連の図 である。

第１１図は、本発明の特徴を具体化する可変流量制御ウェーハの代替具体例であ る。

ゝしい　の量゛Ｈ 流体放出システム１０が第１図に示されている。該システムは入口端１４と出口 端１６を有するチューブ１２のある長さを含んでいる。入口端１４はシステムを 流体源２０へ接続するためのコネクター１８を有する。出口端１６はシステム１ ０を意図した流体放出部位へ接続するための他のコネクター２２を含んでいる。

記載したシステム１０は多数の環境における使用に通用し得る。

図示した具体例においては、システム１０は流体を患者へ静脈内投与のため放出 するために医療分野において使用することを意図している。

この環境において、チューブ１２は、ポリ塩化ビニルのような医療規格の可撓性 チューブよりなる。コネクター１８は静脈内溶液容器２１のボートへ接続するた めの慣用のスパイクコネクターよりなる。他方のコネクター２２は、患者の循環 系と連通ずる慣用構造の静脈内カテーテル（図示せず）へ接続のための慣用のル ーア嵌金具よりなる。

この構成において、システム１０はまた、好ましくはインライン滴下室２４およ びフィルター２６を含んでいる。

システム１０は、チューブ１２を通る流体の流れを定量化する目的のため入口お よび出口端工４および１６の間に配置した一次流れ制御装置２８をさらに含んで いる。図示した具体例においては、−次流れ制御装置ｉ２８は慣用のローラーク ランプ２８の形を取ることができる。ローラークランプ２８を操作することによ り、オペレーターはチューブ１２を通る流体通路を開閉することができる。オペ レーターはまた、流体の望んだ流量範囲を得るようにローラークランプ１２をそ の全開および全閉位置の間に調節することができる。

本発明の一面によれば、システム１０はチューブ１２を通る最大流量を一次流れ 制御部ｒ１１２Ｂと独立に制限するための無制御保護手段３０を含んでいる０手 段３０は、−次流れ制御装置２８が不正確に操作され、誤作動し、または他に適 正に作動しない時、システム１０の出口端１６を通って流体があらかじめ定めた 最大流量以上で流れることを自動的に防止するために作動する。患者はこのため 医学的見地から安全でないと考えられる突然の無制限流量から保護される。

図示した具体例においては（第２および３図も見よ）、無制限流保護手段３０は インライン固定流量制御部材３２の形を取る０本発明によれば、この部材３２は その中にあらかじめ形成された流れ制限チップもしくはウェーハ３６がカプセル 化されるハウジング３４を含んでいる。

第２および３図に示すように、ウェーハはその中に一つまたはそれ以上の流れ制 限通８４０が形成されるベース基板３８を含んでいる。これらの通路は基板の性 状および使用するエツチング技術に応じ、■字形、円弧形、または長四角形のよ うな種々の形状とすることができる。図示した具体例においては、あらかじめ選 定した別々の流体流抵抗を有する単一の主流れ制限通路４０が形成されている。

流れ制限通路４０は包囲される０通路４０は種々の手段によって包囲し得るが、 しかしながら図示した具体例においてはオーバーレイ４２がベース基板３８を覆 い、それによって制限通路４０を包囲する。ウェーハ３６はベース基板３８中に 流れ制限通路４００両端において連通し、それによって流体を流れ制限通路内外 へ誘導する入口４４および出口４６を含んでいる。

好ましくは、ウェーハ３６上の非制限流を確実にするため流れ制限通路４０両端 ４４および４６においてベース基板３日にマニホールド区域４８があらかじめ形 成される。

また図示した具体例においては、各自主流れ制限通路４０より小さい複数の流れ 制限通路５０がウェーハを横断して通過中小さい粒状物質を口去するために設け られる。

ベース基板３８の材料は、その上に分離した流体流路パターンを形成することが できる材料の中から選定し得る。そのような材料は金属、セラミック、またはポ リマー性質のものであることができる。

結晶構造はその性質によって流れパターンの形成に大きな精密度を提供する。こ の理由のため、図示した好ましい具体例においては、ベース基板３８は結晶性シ リコンのような半導体材料でつくられる。

この構成においては、主流れ制限通路４ｏ、小さい流れ制限通路５０、およびマ ニホールド４８はＢａｒｔｈの米国特許第４，５３７．６８０号に開示されてい るような慣用のエツチング技術によって形成される。

この構成においては、流れ制限通路は精密なＶ字形形状に形成される。オーバー レイ４２はガラスとすることができ、またはそれは基板自体と同様に半導体材料 よりなることができる。オーバーレイ４ス基板３８へ適当に接合することができ る。

第２図に示すように、ウェーハ３６がその中にカプセル化されるハウジング３４ は、ウェーハ人口４４と連通ずる入口通路５２と、ウェーハ出口４６と連通する 出口通路５４を有する。これら通路５２および５４は、流体放出システム１ｏの チューブ１２へ接続される。

流れ制限通路の内側断面積および長さは、ウェーハ３６を通る所望の固定流量を 得るように精密な態様においてあらかじめ選定することができる。与えられた流 れ制限通路を通る流体の流量は、種々の既知の公式、例えばＨａｇｅｎ−Ｐｏｕ ｉｓｖｅｌｌｅ公式によって支配される。

この公式は、 と表すことができる。

ここで　Ｑ＝容積流量 Ａ＝流れ制限通路の断面積 μ＝液体粘度 ΔＰ＝流れ制御３１通路を通る圧力低下Ｌ＝制限通路の長さ Ｐ＝流体密度 ｇ＝重力加速度 θ−重力に対する流れ制限通路の配向角図示した応用においては、重力効果は無 視し得る。このため上式から、与えられた制限通路を通る流れは、主に（１）ヘ ッド高さ、またはシステムの出口へ加えられる圧力と比較しての流体源に加えら れる圧力（すなわちΔＰ）　；（２）Ａ”　／ｌ、比；および（３）流体の粘度 （μ）によって支配される。これらのうち、重要な制御変数はＡ”　／Ｌ比であ る。結晶基板の使用により、この比は精密なそして変動しない流れ制限通路を得 るように精密に制御することができる。

これまでに記載した固定流量流れ制御器は、医療分野において他の流体投与シス テムの使用のために通用し得る０例えば第４図において、制限器は携帯用薬剤注 入システム５８の一部である。

第４図に示したシステムは、Ｐｅｅｒｙらの米国特許第４．３８６．９２９号に 記載されているタイプの慣用ののうタイプ注入器６０を含んでいる。この注入器 ６０は、投薬が固定した制御速度で静脈内に放出される間、患者によって携行ま たは着用されることを意図している。

注入器６０は出口端６４を有するチューブ状ハウジング６２を含んでいる。浮動 ピストン６６はハウジング６２内に運動自在に取り付けられる。エラストマーの う６８がピストン６６へ固着される。

使用において、投与を意図する液体薬剤または他の薬剤は注射筒または類僚物に よってのう６８中に運ばれる。液体は出口端６４を這って膨張したのう６８から 押出される。ピストン６６はハウジング６２の出口端へ向かって対応して動く。

チューブ７０はのう６８の内部と連通し、そして液体をのう６８から患者へ運ぶ 、第１図と同様に、使用においてチューブ７０の端部に支持された慣用のルーア 嵌合具７２が慣用の静脈カテーテル７４へ接続する。

本発明のこの面によれば、システム５８は第２図に示した同じ一般的形状および 構造を有する（それによって同じ参照番号で指定しである）ウェーハ３６または チップを含むインライン固定流量制御部材７６を含んでいる。以前に記載したよ うに、ウェーハ３６を通る流れ制限通路４０の内径および長さは愚者への投薬の 所望の流量を維持するであろう。

ウェーハ３６は第２図に示すようにハウジング３４に配置することができ、そし てのう６８の内部と連通している流路に沿ってどこでも配置することができる。

しかしながら、図示した具体例（第５図を見よ）においては、ウェーハ３６はル ーア嵌合具７２自体中に収容されている。

この特定の構成においては、ルーア嵌合具７２は、のう６８と連通する入口通路 ７８と、カテーテル７４と連通ずる出口通路８０を含んでいる。シール部材８２ が入口および出口通路７８および８０の間に配置れさる。ウェーハ３６はこのシ ール部材８２内に支持され、ウェーハ人口４４は入口通路７８と連通し、そして ウェーハ出口４６は出口通路８０と連通する。嵌合具７２を横切るすべての流体 はこのためウェーハ３６の流れ制限通路４０を通過しなければならない。ウェー ハ３６はこのように流体の流量を規制するために役立つ。

なお他の流体投与システム８４が第６図に示されている。このシステム８４は第 １図に示されているシステムと多数のエレメントを共通にし、そしてこれらの共 通のエレメントは同じ参照番号で示しである。

しかしながら、第６図に見られるように、システム８４はローラークランプ２８ を含んでいない、むしろこのエレメントに代わって、システム８６は本発明の特 徴を具体化する単一のインライン可変流量制御部材を含んでいる。

第７図に最良に見られるように、インライン可変流量制御部材８６は、ベース部 材８８と、そしてベース部材８８上に可動に支持されたセレクタ一部材９０を含 んでいる。後で詳しく記載するように、セレクタ一部材の運動（第６図に矢印で 示したような）は、システム８４を横断する流体流量を選択的に変えるように役 立つ、セレクタ一部材９０の運動はまた、システム８４を通る流体流を完全に阻 止するように作用する。

第７図に示すように、ベース部材８８はウェル９２を含んでいる。

入口通路９４は入口ポート９６を介してウェル９２と連通している。

同様に、出口通路９８は出口ボート１００を介してウェル９２と連通している。

入口および出口通路の反対端それぞれ１０２および１０４はシステム８４の流体 チューブ１２とインラインに接続される（第６図を見よ）。

第７図に見られるように、入口ポート９６は、図示した具体例においては円筒形 であるウェル９２の中心線１０６に一般に沿って配置される。この構成において 出口ポート１００は入口ボート９６から選定した距離だけ放射方向に引き離され ている。

入口および出口ボート９６および１００の位置はこれと逆に配置することができ 、そしてウェル９２は図面に示したような円筒形以外の形状を取ることができる ことを認識すべきである。

エラストマーシール部材１０８がウェルを占領する。シール部材１０８は、部材 １０Ｂの本体を通って延びる第１および第２の開口１１０および１１２を含んで いる。第１の開口１１０は、シール部材１０Ｂがウェル９２中に正しく配置され た時入ロボート９６と一致する。そのように配置された時、第２の開口１１２は 出口ボート１００と一致する。

一対の位置決めピン１１４がウェル９２中に配置される。これらピン１１４はシ ール部材１０８中の一対の位置決め穴１１６と嵌合し、シール部材１０８をウェ ル９２中の所望位置に整列し、保持する。

図示した具体例においては、セレクタ一部材９０はベース部材８８上でウェル９ ２の中心Ｂ１０６に一般に整列した、すなわち入口ボート９６と軸方向に整列し た軸のまわりで回転することができる。

セレクタ一部材９０は種々の手段によってベース部材８８へ回転自在に取付ける ことができるが、図示した具体例（第７図を見よ）においては、セレクタ一部材 ９０はセレクタ一部材９０上の円周フランジ１１日とベース部材８８上の嵌合す る円周突起１２０との間のスナップ係合によってベース部材８８へ回転自在に取 付けられる。

流れ制限ウェーハ１２２もしくはチップはセレクタ一部材９０によって支持され る。さらに詳しくは、セレクタ一部材９０の内壁内に形成した突出するみね１２ ４は、ウェーハ１２２の形状に一般に相当する空間１２６を区画する。ウェーハ １２２はこの空間内に支持され、みね１２４がウェーハ１２２の外周縁に接触し 、その横方向運動を阻止する。ウェーハ１２２はこのようにセレクタ一部材９０ と共通する運動のために支持される。

ウェーハ１２２は第２および３図に記載し、そして図示したように、ベース基板 ３８およびオーバーレイ４２で構成される。以前に図示しそして記載したウェー ハと異なって（今や第８図を参照せよ）ウェーハ１２２はベース基板中に形成さ れた少なくとも二つの独立した流れ制限通路を含んでいる。図示した具体例にお いては、四つの流れ制限通路１２８，１３０，１３２および１３４が形成されて いる。

セレクタ一部材９０がベース部材８８へ回転自在に取付けられる時、ウェーハ１ ２２はセレクタ一部材９０の内壁とシール部材１０８の間の空間にサンドインチ される。この配向において、ウェーハ１２２の中心点１３６はセレクタ一部材９ ０の回転輪１０６と一般に整列し、それ放入ロボート９６自体と整列する。

このためセレクタ一部材９０の回転はウェーハ１２２をこの軸１０６のまわりで 回転するように役立ち、シール部材１０８はウェーハ１２２に隣接するスライド するシール表面を形成する。

この構成において、ウェーハ１２２はその中心点に入口１３８（第８図を見よ） を含んでいる。入口１３８から放射方向に離れて少なくとも二つの出口がある。

図示した具体例においては、四つの出口１４０，１４２，１４４および１４６が 示されている。各出口１４０．１４２，１４４および１４６は、出口ボート１０ ０が入口ポート９６から離れている同じ距離を入口１３８から放射方向に離れて いる。

ウェーハ１２２がセレクタ一部材９０とシール部材１０８の間にサンドインチさ れる時、ウェーハの入口１３８はベース部材８８０入ロボートと（シール部材１ ０８の開口１１０を介して）一致する。

このためセレクタ一部材９０と共通のウェーハ１２２の回転はウェーハ１２２の 入口ポート１３８をベース部材８８の入口ボート９６との一致（シール部材１０ ８中の一致する開口１１１を介して）に保つ役目をする。この回転はまた、ウェ ーハ１２２の出口１４０゜１４２．１４４および１４６を、セレクタ一部材９０ ０円形通路（第６図に矢印で示した）内の位置に応じ、ベース部材８８の出ロボ −）１００との一致または不一致（シール部材１０８中の一致する開口１１２を 介して）に置くように作用する。

第８図に見られるように、第１．第２．第３および第４の通路が入口とそれぞれ 第１．第２．第３および第４０ウエーハ出口１４０゜１４２．１４４および１４ ６０間にウェーハ１２２の基板３８に形成される。各通路１２８，１３０，１３ ２および１３４は異なる流れ抵抗を提供するようにあらかじめ選定された断面積 および長さに形成される。各流れ制限通路を横断する流体はそれ故異なる流量に おいて流れるであろう。

セレクタ一部材９０の内壁上の罫引きマーク１４８（第７図を見よ）は、ウェー ハ１２２を空間１２６内の所望方位に配置するためウェーハ１２２上の対応する 罫引きマーク１５０と整列する。二の方向において、セレクター９０の外面上の 説明マーク１６０（第９図を見よ）は、いつ各種のウェーハ出口が出口ボート１ ００と一致しているかいないかを指示する。

第１０ａないし１０ｄ図に示すように、このため使用者は望む流量を得るため流 体流を流れ制限通路１４０，１４２，１４４および１４６を通って向けるように 位置の範囲内において（位置Ａ、　Ｂ。

ＣおよびＤと記載された）セレクタ一部材９０を回転することによってウェーハ １２２を選択的に配向させることができる。これら作動位置のどれかの中間にセ レクタ一部材９０を位置決めすることにより、ウェーハ１２２はシステムを通る 流体流をすべて阻止するように働く。

好ましくは、第８図に示すように流体マニホールド１６２が各流れ制限通路に付 属して形成される。

図示した具体例においては、第１の流れ制限通路１２８（位置Ａ）は０．５　ｔ ｒｆｌ／ｈｒ　；第２の流れ制限通Ｈ１３０（位ＩＢ）は２．ＯＩｄ／ｈｒ：第 ３の流れ制限通路（位置Ｃ）は５．　Ｏｄ／ｈｒ　；および第４の流れ制限通路 （位１ｆＤ）は１００ｔｔｌ／ｈｒに、システム８４がその正常な作動条件で作 動している時に流体流を定量化する。

図示した具体例においては、流れ制御Ｉ逼Ｂ１２８，１３０．１３２および１３ ４のすべては、７０．５°の７字内角を持ったＶ字形である。第１の通路１２８ はＶの頂部で計測して２２ミクロンの幅と、３３０ミクロンの長さを有する。第 ２の通路１３０は４８ミクロンの匹敵する幅と、１９８０ミクロンの長さを有す る。第３の通路１３２は６６ミクロンの幅と、２７６０ミクロンの長さを有する 。第４の通路１３４は、各自７６ミクロンの幅および２３９０ミクロンの長さを 有する１０本の平行な通路よりなる０本出願において使用するように、「通路」 なる術語は第４の通路１３４のように単一流体通路より多い通路を含むことがで き、そして流体通路のパターンを含むことができる。

提供される流量は別々であり、そして精密である。使用者は所望の流量を得るた めに無限に調節し得るローラークランプを始めに調節する必要はない。さらに一 旦選定されれば、ウェーハによってセットされた流量は作動条件（有効ヘッド高 さΔＰのような）がコンスタントに保たれる限り固定され、不変である。それは 慣用のローラークランプのようにチューブのクリープによる変動を受けない。

別々の流量の範囲を得るためのベース基板上の流れ制限通路の配置は第８図に示 したものから変化することができる０代表的な代わりの構造が第１１図に示され ている。そこではウェーハ１６６（第２および３図に示すように構成された）は 、らせん形に中心開口１７０から外側へ延びている連続した同心流れ制限通路１ ６８を含んでいる。いくつかの開口１７２，１７４，１７６および１７８が通路 １６Ｂに沿って配置される。それによって開口１７０と開口１７２；開口１７０ と開口１７４；開口１７０と開口１７６；および開口１７０と開口１７８の間を 延びる４個の流れ制限通路が形成される。各流れ制御通路はその長さおよび断面 積によって異なる流れ抵抗を有し、それによって別々の流量範囲をつくる。

この構成（第１１図に示した）において、中心開口１７０は関連するハウジング 中に配置された入口ポートと整列することができる。

出口ボート１８０はハウジング上の入口ボート１７８に隣接して配置することが できる。入口ボート１７８のまわりのウェーハ１６６の回転は、第８図に関して 記載したように可変流量制御を得るため出口Ｉ７２，１７４，１７６および１７ ８を出口ボート１８０との一致または不一致にもたらすであろう。

本発明の種々の特許請求の範囲に記載されている。

国際調査報告

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. １．流体源へ接続し得る入口と出口とを有し、流体を流体源から前記出口へ運ぶ ように作動するチューブ手段と、前記入口と出口の間に配置され、そして前記チ ューブ手段を通る流体の流量を制御するために作動する一次流れ制御手段と、前 記一次流れ制御手段の作動から独立して前記チューブ手段を通る最大流量を制限 するために作動する前記チューブ手段中の流れ保護手段であって、その上に形成 された包囲された流れ制限通路を有する基板を含んでいる流れ制限ウェーハを含 んでいる流れ保護手段 を備えている流体放出システム。
2. ２．前記流れ保護手段は最大流量を別々の流量の範囲内において選択的に変える ための手段を含んでいる第１項の流体放出システム。
3. ３．前記基板は結晶性材料でつくられ、そして前記流れ制限通路は前記基板中に エッチングされている第１項の液体放出システム。
4. ４．流体源へ接続し得る入口と出口とを有し、流体を流体源から前記出口へ運ぶ ように作動するチューブ手段と、前記入口と出口の間に配置され、そして前記チ ューブを通る流体の流量を少なくとも二つの異なる別々のあらかじめ選定した流 量の範囲内に制御するために作動する流れ制御手段を備え、前記流れ制御手段は 各自前記別々のあらかじめ選定された流量に対応する異なる流体流抵抗を提供す る少なくとも二つの包囲された制限通路を有する基板を含んでいる流れ制限スエ ーハを含み、前記流れ制御手段は前記チューブ手段中の流体を前記流れ制限通路 の所望の一つを通って選択的に向けるための手段をさらに含んでいる流体放出シ ステム。
5. ５．前記選択手段は前記チューブ手段中の流体を前記流れ制限通路の所望の一つ を通って向けるため、前記流れ制限ウェーハと前記チューブ手段の間の相対的運 動を実現するための手段を含んでいる第４項の流体放出システム。
6. ６．前記基板は結晶性材料でつくられ、そして前記流れ制限通路は前記基板中に エッチングされている第１項の流体放出システム。
7. ７．当該装置を通る少なくとも二つのあらかじめ選定した流体流量を発生するよ うに各自異なる流体流抵抗を有する少なくとも二つの包囲された流れ制限通路を 有する基板を含んでいる流れ制限ウェーハと、 流体の輸送のため前記流れ制限通路の所望の一つを選択的に選ぶための手段 を含んでいる流体通路中の流体流を制御するための装置。
8. ８．前記選択手段は流体を前記流れ制限通路の所望の一つを通って向けるため、 前記流れ制限ウェーハと前記流体通路の間の相対的運動を選択的に実現するため の手段を含んでいる第７項の装置。
9. ９．前記流れ制限ウェーハは第１，第２および第３の開口を含み、前記流れ制限 通路の一つは前記第１の開口と前記第２の開口の間を延びており、前記流れ制限 通路の他方は前記第１の開口と前記第３の開口の間を延びている第７項の装置。
10. １０．入口および出口と、流体を前記入口を通って前記第１のウェーハ開口中へ 運ぶための手段を含んでいるハウジングをさらに含み、前記流れ制限ウェーハは 前記ハウジングによって支持されており、 前記選択手段は前記第２および第３の開口を前記ハウジング入口との連通および 非連通に選択的に動かすため、前記ハウジングと前記ウェーハの間の相対的運動 を実現するための手段を含んでいる第７項の装置。
11. １１．前記基板は結晶性材料でつくられ、前記流れ制限通路は前記基板中にエッ チングされている第７項の装置。
12. １２．液体を圧力下に収容するためのエラストマーのうと、前記のうを収容する ハウジングと、 前記のう内の液体と流れ連通にある前記ハウジング中の出口と、その上に形成さ れて包囲された流れ制限通路を有する基板を含んでいる流れ制限ウェーハを含ん でいる、前記のうからの流体の流量を制御するための流れ制御手段 を含んでいる圧力下の液体をあらかじめ定めた液量で分記するための注入器。
13. １３．前記基板は結晶性材料でつくられ、前記流れ制限通路は前記基板中にエッ チングされている第１２項の注入器。
14. １４．ベース部材と、 前記ベース部材上に可動に支持されているセレクター部材と、当該装置を通る少 なくとも二つのあらかじめ選定した流体流量を発生するように各自異なる流体流 抵抗を有する少なくとも二つの包囲された流れ制限通路を有する基板を含んでい る流れ制限ウェーハと、 前記セレクター部材の運動に応答して流体の輸送のため前記流れ制限通路の所望 の一つを選択的に選ぶため前記流れ制限ウェーハと前記セレクター部材を作動的 に接続するための手段を含んでいる流れ制御装置。
15. １５．前記ベース部材によって支持されているシール部材をさらに含み、 前記流れ制限ウェーハは前記シール部材と前記セレクター部材の内面の間で前記 ハウジング内に支持されている第１４項の流れ制御装置。
16. １６．前記流れ制限ウェーハは第１，第２および第３の開口を含み、前記流れ制 限通路の一つは前記第１の開口と前記第２の開口の間を延びており、 前記流れ制限通路の他方は前記第１の開口と前記第３の開口の間を延びている第 １４項の流れ制御装置。
17. １７．前記基板は結晶性材料でつくられており、前記流れ制限通路は前記基板中 にエッチングされている第１４項の流れ制御装置。