JPH0236165A - Sulfonation of low molecular weight organic compound - Google Patents
Sulfonation of low molecular weight organic compoundInfo
- Publication number
- JPH0236165A JPH0236165A JP15034989A JP15034989A JPH0236165A JP H0236165 A JPH0236165 A JP H0236165A JP 15034989 A JP15034989 A JP 15034989A JP 15034989 A JP15034989 A JP 15034989A JP H0236165 A JPH0236165 A JP H0236165A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sulfonation
- halogen
- sulfur trioxide
- molecular weight
- low molecular
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000006277 sulfonation reaction Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 title claims description 21
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 77
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 11
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 6
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 4
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- -1 silium Chemical compound 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 9
- 239000003599 detergent Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 6
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 5
- ZMPRRFPMMJQXPP-UHFFFAOYSA-N 2-sulfobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O ZMPRRFPMMJQXPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 3
- 239000003570 air Substances 0.000 description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- SOHAVULMGIITDH-ZXPSTKSJSA-N (1S,9R,14E)-14-(1H-imidazol-5-ylmethylidene)-2,11-dimethoxy-9-(2-methylbut-3-en-2-yl)-2,13,16-triazatetracyclo[7.7.0.01,13.03,8]hexadeca-3,5,7,10-tetraene-12,15-dione Chemical compound C([C@]1(C2=CC=CC=C2N([C@@]21NC1=O)OC)C(C)(C)C=C)=C(OC)C(=O)N2\C1=C\C1=CNC=N1 SOHAVULMGIITDH-ZXPSTKSJSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOHAVULMGIITDH-UHFFFAOYSA-N Oxaline Natural products O=C1NC23N(OC)C4=CC=CC=C4C3(C(C)(C)C=C)C=C(OC)C(=O)N2C1=CC1=CN=CN1 SOHAVULMGIITDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- UZILCZKGXMQEQR-UHFFFAOYSA-N decyl-Benzene Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 UZILCZKGXMQEQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010420 art technique Methods 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N dodecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052811 halogen oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 210000003097 mucus Anatomy 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- JZALLXAUNPOCEU-UHFFFAOYSA-N tetradecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 JZALLXAUNPOCEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は低分子量の有機化合物のスルホン化方法に関す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for sulfonating low molecular weight organic compounds.
例えば、界面活性剤および洗剤として使用されるアルキ
ルベンゼンスルホン塩酸のようなスルホン化有機化合物
の使用は公知であるが、このような有機化合物は通常そ
の有機化合物を硫酸または３酸化イオウのようなスルホ
ン化剤と接触させることによってスルホン化される。For example, the use of sulfonated organic compounds such as alkylbenzene sulfone hydrochlorides used as surfactants and detergents is known; sulfonation by contacting with an agent.
一般的原則として、有機物質のスルホン化に対する大部
分の先行技術は比較的長い反応時間を必要とする。した
がって、このような反応時間がそのスルホン化された物
質の望ましい性質に悪影響を与えること無しに有意に減
少される有機物質のスルホン化方法を提供することが非
常に望まれる。As a general principle, most prior art techniques for the sulfonation of organic materials require relatively long reaction times. It would therefore be highly desirable to provide a process for the sulfonation of organic materials in which such reaction times are significantly reduced without adversely affecting the desirable properties of the sulfonated materials.
本発明は低分子量有機化合物のスルホン化に対するこの
ようなより効率的な方法を提供するものである。本発明
は低分子量有機化合物をスルホン化するに当り、スルホ
ン酸基によって置換されうる、炭素原子へ結合した水素
原子を有するスルホン化可能な低分子量有機化合物をフ
ッ素、シュウ素、塩素、またはハロゲン間化合物（ｉｎ
ｔｅｒｈａｌｏｇｅｎｃｏｍｐｏｕｎｄ ）を先天的に
形成するそれらの混合物を含む群から選択される適度に
活性なハロゲンおよび３酸化イオウから構成される本質
的に乾燥したガス状混合物と接触させ、その際３酸化イ
オウの量が所望のスルホン化度を与えるに十分でありか
つハロゲンの量がハロゲンの存在無しで３酸化イオウを
使用することによって達成されるスルホン化速度に対し
て少なくとも１０％そのスルホン化速度を加速するに十
分な量であるようにすることを特徴とする低分子量有機
化合物のスルホン化方法である。The present invention provides such a more efficient method for the sulfonation of low molecular weight organic compounds. In sulfonating a low molecular weight organic compound, the present invention provides a method for converting a sulfonatable low molecular weight organic compound having a hydrogen atom bonded to a carbon atom, which can be substituted by a sulfonic acid group, into fluorine, oxaline, chlorine, or halogen. Compound (in
terhalogen compound) is contacted with an essentially dry gaseous mixture consisting of a moderately active halogen and sulfur trioxide selected from the group comprising innately formed mixtures thereof, wherein the amount of sulfur trioxide is is sufficient to give the desired degree of sulfonation and the amount of halogen accelerates the sulfonation rate by at least 10% over that achieved by using sulfur trioxide in the absence of the halogen. This is a method for sulfonating a low molecular weight organic compound, characterized in that the amount is sufficient.
驚異的なことであるが、スルホン化反応中に３酸化イオ
ウと共にハロゲンが存在することがスルホン化された物
質に悪影響を与えること無しにそのスルホン化速度を大
きく加速する。また、３酸化イオウとハロゲンの組合せ
がその有機化合物のハロゲン化速度をしばしば増大させ
ることも発見されたが、このようなハロゲン化は単に任
意的な利点であり本発明の実施に対して本質的なことで
はない。改善されたスルホン化速度の結果として、その
容器を炭化水素に対して非透過性にさせるためにスルホ
ン化される物質の容器が、ハロゲンの存在無しで同じ容
器をスルホン化するに要する時間の１／２から２／３ま
でよりも短い時間で製造されうる。Surprisingly, the presence of halogen along with sulfur trioxide during the sulfonation reaction greatly accelerates the sulfonation rate without adversely affecting the sulfonated material. It has also been discovered that the combination of sulfur trioxide and halogen often increases the rate of halogenation of the organic compound, but such halogenation is merely an optional benefit and is not essential to the practice of the invention. It's not a thing. As a result of the improved sulfonation rate, a container of material to be sulfonated to render the container impermeable to hydrocarbons will take less time to sulfonate than it would take to sulfonate the same container in the absence of a halogen. /2 to 2/3 can be produced in less time.
本発明の方法によってスルホン化される単純な有機化合
物は洗剤、界面活性剤等として有用である。Simple organic compounds sulfonated by the method of the invention are useful as detergents, surfactants, and the like.
スルホン酸基によって置換されうる、炭素原子に結合し
た水素原子を有する単純有機化合物といったような低分
子量有機化合物が本発明の実施に好適に使用される。こ
のような化合物の例としてはそのアルキルが８から１８
までの炭素原子を有する線状および枝分かれアルキルベ
ンゼンといったようなアルキルアレン類、例えばドデシ
ルベンゼン、デシルベンゼン、テトラデシルベンゼン等
；８から２０までの炭素原子を有するアルカン類；およ
びその他の炭化水素類がある。Low molecular weight organic compounds, such as simple organic compounds having a hydrogen atom attached to a carbon atom, which may be substituted by a sulfonic acid group, are preferably used in the practice of this invention. Examples of such compounds include those whose alkyl ranges from 8 to 18
alkylarenes such as linear and branched alkylbenzenes with up to carbon atoms, such as dodecylbenzene, decylbenzene, tetradecylbenzene, etc.; alkanes with up to 8 to 20 carbon atoms; and other hydrocarbons. .
一般にはこの有機化合物の粉粒形態が本発明のスルホン
化方法に好ましく使用される。Generally, the powder form of this organic compound is preferably used in the sulfonation method of the present invention.
スルホン化方法の実施において、有機物質のスルホン化
は蒸気相法によって、フッ素、シュウ素、塩素のような
適度に活性なハロゲンまたはＣ６ＦおよびＢｒ Ｃｅの
ようなハロゲン間化合物を先天的に形成するそれらの混
合物とガス状の３酸化イオウを使用して行なわれる。好
ましくは、塩素のようなガス状のハロゲンが使用される
。ガス法相のその反応物は完全に３酸化イオウとハロゲ
ンのみで構成されてもよいが、一般的にはそれらを空気
、窒素、ヘリウムまたは２酸化炭素のような不活性ガス
で稀釈することが好ましい。ガス状反応混合物中の３酸
化イオウの濃度は表面１平方センチメートル当リスルホ
ン酸基の形態で３酸化イオウの０．００１から５０ｍｇ
当量まで、好ましくは０．０６から１０ｍｇ当量までの
範囲の低分子量有機化合物のスルホン化度を与えるよう
な量が適当である。１平方センチメートル当り約０．０
０１ ｍｇ当量の３酸化イオウがその低分子量有機化合
物に耐静電性および満足すべき接着性を与えることが見
出だされたのではあるが、親油性物質に対する所望の非
透過性を与えるためには１平方センチメートル当り３酸
化イオウの少なくとも０．０１５ ｍｇ当量、好ましく
は少なくとも約０．０６ ｍｇ当量が必要とされること
が見出だされた。一般に、このようなスルホン化度を生
じる不活性ガス中の３酸化イオウの濃度はガス状反応物
の全容量を基準にして３酸化イオウの０．１から５０容
量％まで、好ましくは２から２５容量％まで、かつ最も
好ましくは乾燥混合物中の５から２０容量％までの３酸
化イオウという範囲で変化する。容量濃度はまた０、１
から５０容量％までの範囲に対してはリットル当り（大
気圧で） ０．００３から３ｇまでの３酸化イオウに、
かつ１５から２５容量％までの範囲に対してはリットル
当り０．４５から０．７５ ｇまでの３酸化イオウに相
当しうる。不活性ガス無しでは、Ｓ０３に対して１００
容量％の容量濃度が使用されうる。In carrying out the sulfonation process, the sulfonation of organic substances is carried out by a vapor phase method using moderately active halogens such as fluorine, oxaline, chlorine or those which innately form interhalogen compounds such as C6F and BrCe. and gaseous sulfur trioxide. Preferably, gaseous halogens such as chlorine are used. Although the reactants in the gas phase may consist entirely of sulfur trioxide and halogens, it is generally preferred to dilute them with an inert gas such as air, nitrogen, helium or carbon dioxide. . The concentration of sulfur trioxide in the gaseous reaction mixture ranges from 0.001 to 50 mg of sulfur trioxide in the form of lysulfonic acid groups per square centimeter of surface.
Amounts that give a degree of sulfonation of the low molecular weight organic compound up to an equivalent amount, preferably in the range from 0.06 to 10 mg equivalents, are suitable. Approximately 0.0 per square centimeter
Although it has been found that the equivalent of 0.01 mg of sulfur trioxide imparts static resistance and satisfactory adhesion to the low molecular weight organic compound, in order to impart the desired impermeability to lipophilic substances, It has been found that at least 0.015 mg equivalents, preferably at least about 0.06 mg equivalents, of sulfur trioxide are required per square centimeter. Generally, the concentration of sulfur trioxide in the inert gas resulting in such a degree of sulfonation is from 0.1 to 50% by volume of sulfur trioxide, based on the total volume of gaseous reactants, preferably from 2 to 25% by volume of sulfur trioxide. % by volume, and most preferably from 5 to 20% by volume of sulfur trioxide in the dry mixture. The volume concentration is also 0, 1
0.003 to 3 g of sulfur trioxide per liter (at atmospheric pressure) for the range from to 50% by volume;
and for a range of 15 to 25% by volume, this can correspond to 0.45 to 0.75 g of sulfur trioxide per liter. 100 for S03 without inert gas
Volume concentrations of % by volume may be used.
使用されるハロゲンの量は好適にはそのスルホン化反応
を、そのスルホン化時間がハロゲンの存在なしで同じ濃
度の３酸化イオウの存在のもとて同じスルホン化度を与
えるに必要とされる時間の僅かに９０％、好ましくは５
０から７５％までになるように加速するような量である
。スルホン化反応の好ましい加速は０．１から１０まで
、最も好ましくは４から８までの、３酸化イオウ当りハ
ロゲンの比を使用することによって達成される。このよ
うなハロゲンの比は乾燥混合物中のハロゲンの０．１か
ら９９まで、好ましくは８から９８まで、最も好ましく
は２０から８０容量％までの濃度に相当する。The amount of halogen used suitably determines the sulfonation reaction and the sulfonation time required to give the same degree of sulfonation in the presence of the same concentration of sulfur trioxide without the presence of halogen. only 90% of, preferably 5
The amount is such that it accelerates from 0 to 75%. Preferred acceleration of the sulfonation reaction is achieved by using a ratio of halogen to sulfur trioxide of from 0.1 to 10, most preferably from 4 to 8. Such a halogen ratio corresponds to a concentration of halogen in the dry mixture of 0.1 to 99%, preferably 8 to 98%, most preferably 20 to 80% by volume.
受入れられるスルホン化度を生じるに必要とされる時間
はスルホン化される有機物質、３酸化イオウ及びハロゲ
ンの濃度および温度によって変化する。例えば、室温（
２５℃）では８．２容量％の３酸化イオウ、６３．１容
量％の塩素および２８．７容量％の窒素または乾燥空気
（６２ｍｍ Ｓｏ３＋ ４８０ ｍｍ Ｃｅ２＋２１８
ｍｍＮ２または空気）を含有するガス相反応混合物は高
密度ポリエチレンを２ｍｇ５０３１ｃｍ２のスルホン化
度へスルホン化するために約２分を、３．３ｍｇＳｏ３
１ｃｍ２のスルホン化度を与えるために約４分を、かつ
４．２ｍｇ Ｓｏ３／ａｍ２のスルホン化度を与えるた
めに約６分を必要とする。より高い温度においては、処
理時間およびｌまたは３酸化イオウｌハロゲン濃度が同
じスルホン化度を得るために減少されうる。本発明の方
法の実施において温度は特別に絶対的のものではないが
、１０から５０℃まで、好ましくは１５から３０℃まで
の範囲の反応温度を使用することが一般に有利である。The time required to produce an acceptable degree of sulfonation will vary depending on the concentration of the organic material being sulfonated, sulfur trioxide and halogen, and temperature. For example, room temperature (
8.2% by volume of sulfur trioxide, 63.1% by volume of chlorine and 28.7% by volume of nitrogen or dry air (62 mm So3 + 480 mm Ce2 + 218
The gas phase reaction mixture containing 3.3 mg So3 (mmN2 or air) takes approximately 2 minutes to sulfonate the high density polyethylene to a degree of sulfonation of 2 mg5031 cm2.
Approximately 4 minutes are required to provide a degree of sulfonation of 1 cm2 and approximately 6 minutes to provide a degree of sulfonation of 4.2 mg So3/am2. At higher temperatures, the treatment time and l or sulfur trioxide l halogen concentration can be reduced to obtain the same degree of sulfonation. Although temperatures are not particularly critical in carrying out the process of the invention, it is generally advantageous to use reaction temperatures ranging from 10 to 50°C, preferably from 15 to 30°C.
本発明の方法が行なわれうる圧力は大気圧以下から大気
圧以上までの範囲が好適である。便利のためには反応を
大気圧で行なうことが好ましい。The pressure at which the method of the present invention can be carried out is preferably in the range from below atmospheric pressure to above atmospheric pressure. For convenience it is preferred to carry out the reaction at atmospheric pressure.
上記の要求に加えて、普通の方法によってガス状反応混
合物から水蒸気を除外することが一般に好ましく、例え
ば普通の乾燥チューブによってそれが行なわれるが、こ
れは３酸化イオウが液体および蒸気の形態の水と種々の
濃度の硫酸の小滴を形成するように反応し、それによっ
て有機物質の均一なスルホン化が防止されるからである
。通常、反応媒体中の水の濃度を反応物のガス状混合物
の容量を基準にして０．０１容量％よりも下の、好まし
くは約ｏ、ｏｏｉ容量％よりも下の水準に維持すること
が望ましい。In addition to the above requirements, it is generally preferred to exclude water vapor from the gaseous reaction mixture by conventional methods, e.g. by means of a common drying tube, since the sulfur trioxide is present in both liquid and vapor form. and react to form droplets of sulfuric acid of varying concentrations, thereby preventing uniform sulfonation of the organic material. Typically, the concentration of water in the reaction medium will be maintained at a level below 0.01% by volume, preferably below about o,ooi% by volume, based on the volume of the gaseous mixture of reactants. desirable.
上記のスルホン化反応に加えて、反応物のガス状混合物
中の３酸化イオウとハロゲンとの組合わされた存在が有
機物質のハロゲン化反応を紫外線の存在無しでさえも促
進する。事実、反応物のガス状混合物中の３酸化イオウ
の存在がハロゲンと有機物質との反応をスルホン化反応
に対して観察されると同様の程度にまで加速することが
見出だされた。その結果、上記の条件にしたがって低分
子量有機化合物の表面スルホン化が行なわれる場合、そ
の化合物の表面は３酸化イオウのミリ当量当りハロゲン
の０．０４から０．１ミリ当量までを含有する。In addition to the sulfonation reaction described above, the combined presence of sulfur trioxide and halogen in the gaseous mixture of reactants promotes the halogenation reaction of organic materials even in the absence of ultraviolet light. In fact, it has been found that the presence of sulfur trioxide in the gaseous mixture of reactants accelerates the reaction of halogens with organic substances to an extent similar to that observed for sulfonation reactions. As a result, when surface sulfonation of low molecular weight organic compounds is carried out according to the conditions described above, the surface of the compound contains from 0.04 to 0.1 milliequivalents of halogen per milliequivalent of sulfur trioxide.
本発明のスルホン化ｌハロゲン化反応に続いて、その反
応された低分子量有機化合物はそのままで、或は塩基に
よっていっそう中和され、または普通に行なわれている
ようにエポキサイドまたはその他の反応物によって処理
されて使用に供される。Following the sulfonation/halogenation reaction of the present invention, the reacted low molecular weight organic compound may be left intact, further neutralized with a base, or, as is commonly practiced, with an epoxide or other reactant. Processed and ready for use.
以下の実施例は本発明のいくつかの態様をさらに説明す
るためのものであるが、本発明の範囲を同等限定しよう
とするものではない。これらの実施例においては、特に
記載の無い限りすべての部およびパーセンテイジは重量
表示である。The following examples are provided to further illustrate certain aspects of the invention, but are not intended to equally limit the scope of the invention. In these examples, all parts and percentages are by weight unless otherwise indicated.
実施例１
本発明の有機化合物のスルホン化方法において、スルホ
安息香酸を例にとった実施例を以下に示す。Example 1 An example using sulfobenzoic acid in the method for sulfonating an organic compound of the present invention is shown below.
１５ｇの安息香酸を、Ｓ０３を４．６５％含むテトラフ
ルオロジクロロエタン（以下Ｆ −１１３という）、３
４７ｇ即ち１６．１４ ｇの８０３と反応させる。（１
００％の反応に対しては９．８４ ｇのＳ０３が必要で
ある。）この溶液をマグネテイツクスターラで１９時間
撹拌した。１９時間の後滴定したところ、１３．１１
ｇのＳ０３が反応していた。したがって、そのうちの３
．２７ｇが過剰の８０３と反応していたものと考えられ
る。15 g of benzoic acid was added to tetrafluorodichloroethane containing 4.65% S03 (hereinafter referred to as F-113), 3
React with 47 g or 16.14 g of 803. (1
9.84 g of S03 is required for 0.00% reaction. ) This solution was stirred with a magnetic stirrer for 19 hours. When titrated after 19 hours, 13.11
S03 of g was reacting. Therefore, 3 of them
．． It is thought that 27g of the product had reacted with excess 803.
得られた物質はうす茶色の、濃い粘液でＦ −１１３に
不溶性である。The resulting material is a light brown, thick mucus and is insoluble in F-113.
物質が最初に混合されたときやや発熱し、不溶性の液体
が少量形成されてガラスの縁に積層された。１９時間の
後、その液体は殆どＦ−１１３の表面に上がってきて、
その上に約２０ ｃｃになった。When the materials were first mixed there was a slight exotherm and a small amount of insoluble liquid formed and was deposited on the edge of the glass. After 19 hours, most of the liquid had risen to the surface of F-113,
On top of that, it became about 20 cc.
Ｆ −１１３を濾過して除去したら、濾紙に残る物質は
なかつ゛た。After the F-113 was filtered off, no material remained on the filter paper.
２７．９ ｇの物質、即ち、スルホ安息香酸が反応管が
ら回収された。27.9 g of material, sulfobenzoic acid, was recovered from the reaction tube.
生成物試料のＣ，Ｈ，及びＳについての分析結果は以下
のとおりである。The analysis results for C, H, and S of the product sample are as follows.
Ｃ＝ ３４．８５％
Ｈ＝３．０８％
Ｓ ： １７．０％
ちなみに、参照としての原料物質である安息香酸及びス
ルホ安息香酸の計算上の元素組組成は以下のとおりであ
る。C = 34.85% H = 3.08% S: 17.0% Incidentally, the calculated elemental compositions of benzoic acid and sulfobenzoic acid, which are the raw materials for reference, are as follows.
安息香酸
０ ：２６．２３％
Ｃ＝ ４８．８５％
Ｈ＝４．９１％
スルホ安息香酸
０ ＝ ３９．６０％
５＝１５．８４％
Ｃ：４１．５８％
Ｈ＝２．９７％
また、上記の生成物の生成量に関して、予期される反応
は以下のとおりである。Benzoic acid 0: 26.23% C = 48.85% H = 4.91% Sulfobenzoic acid 0 = 39.60% 5 = 15.84% C: 41.58% H = 2.97% In addition, the above In terms of the amount of product produced, the expected reaction is as follows.
主反応は：
ｏ３Ｈ
過剰のＳ０３による過スルホン化反応による生成物は可
能性として以下の式のものであろう。The main reaction is: o3H The product of the persulfonation reaction with excess S03 could potentially be of the following formula.
Claims (6)
ルホン酸基によつて置換されうる、炭素原子へ結合した
水素原子を有するスルホン化可能な低分子量有機化合物
をフッ素、シユウ素、塩素、またはハロゲン間化合物を
先天的に形成するそれらの混合物を含む群から選択され
る適度に活性なハロゲンおよび３酸化イオウから構成さ
れる本質的に乾燥したガス状混合物と接触させ、その際
３酸化イオウの量が所望のスルホン化度を与えるに十分
でありかつハロゲンの量がハロゲンの存在無しで３酸化
イオウを使用することによつて達成されるスルホン化速
度に対して少なくとも１０％そのスルホン化速度を加速
するに十分な量であるようにすることを特徴とする、低
分子量有機化合物のスルホン化方法。(1) In sulfonating a low molecular weight organic compound, a sulfonatable low molecular weight organic compound having a hydrogen atom bonded to a carbon atom that can be substituted by a sulfonic acid group is treated with fluorine, silium, chlorine, or The interhalogen compound is contacted with an essentially dry gaseous mixture consisting of a moderately active halogen selected from the group including mixtures thereof forming innately formed sulfur trioxide and sulfur trioxide. the amount of halogen is sufficient to give the desired degree of sulfonation and the amount of halogen increases the sulfonation rate by at least 10% relative to that achieved by using sulfur trioxide in the absence of the halogen. A method for the sulfonation of low molecular weight organic compounds, characterized in that the sulfonation is in sufficient quantity to accelerate the sulfonation of low molecular weight organic compounds.
化に対して不活性な乾燥ガスのガス状混合物であること
を特徴とする、特許請求の範囲第（１）項に記載のスル
ホン化方法。(2) A sulfonation process according to claim 1, characterized in that the mixture is a gaseous mixture of sulfur trioxide, chlorine and a drying gas inert to sulfonation.
を特徴とする、特許請求の範囲第（２）項に記載のスル
ホン化方法。(3) The sulfonation method according to claim (2), wherein the drying gas is dry air or nitrogen.
から５０容量％まででありかつそのハロゲンの量が乾燥
混合物の０．１から９９容量％までであることを特徴と
する、特許請求の範囲第（１）項から第（３）項までの
いずれか１項に記載のスルホン化方法。(4) The amount of sulfur trioxide is 0.1 in the dry mixture.
to 50% by volume and the amount of halogen is from 0.1 to 99% by volume of the dry mixture. The sulfonation method according to item 1.
容量％まででありかつそのハロゲンの量が乾燥混合物の
２０から８０容量％までであることを特徴とする、特許
請求の範囲第（４）項に記載のスルホン化方法。(5) The amount of sulfur trioxide is 5 to 20 in the dry mixture.
% by volume and the amount of halogen is from 20 to 80% by volume of the dry mixture.
化温度で行なわれることを特徴とする、特許請求の範囲
第（５）項に記載のスルホン化方法。(6) Sulfonation process according to claim (5), characterized in that the step is carried out at a sulfonation temperature in the range from 10 to 50°C.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15034989A JPH0236165A (en) | 1989-06-13 | 1989-06-13 | Sulfonation of low molecular weight organic compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15034989A JPH0236165A (en) | 1989-06-13 | 1989-06-13 | Sulfonation of low molecular weight organic compound |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11097680A Division JPS5735524A (en) | 1980-08-12 | 1980-08-12 | Sulfonation of organic compound |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0236165A true JPH0236165A (en) | 1990-02-06 |
Family
ID=15495050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15034989A Pending JPH0236165A (en) | 1989-06-13 | 1989-06-13 | Sulfonation of low molecular weight organic compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0236165A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5064181A (en) * | 1989-01-19 | 1991-11-12 | Ricoh Company, Ltd. | Paper handling apparatus |
| US5137266A (en) * | 1989-09-13 | 1992-08-11 | Ricoh Company, Ltd. | Finisher for finishing paper sheets |
| US7989113B2 (en) | 2003-03-13 | 2011-08-02 | Tokyo Gas Co., Ltd. | Solid-oxide shaped fuel cell module |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5735524A (en) * | 1980-08-12 | 1982-02-26 | Dow Chemical Co | Sulfonation of organic compound |
| JPS60163854A (en) * | 1984-01-26 | 1985-08-26 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | Manufacture of diphenyl-4,4-disulfonic acid |
-
1989
- 1989-06-13 JP JP15034989A patent/JPH0236165A/en active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5735524A (en) * | 1980-08-12 | 1982-02-26 | Dow Chemical Co | Sulfonation of organic compound |
| JPS60163854A (en) * | 1984-01-26 | 1985-08-26 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | Manufacture of diphenyl-4,4-disulfonic acid |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5064181A (en) * | 1989-01-19 | 1991-11-12 | Ricoh Company, Ltd. | Paper handling apparatus |
| US5137266A (en) * | 1989-09-13 | 1992-08-11 | Ricoh Company, Ltd. | Finisher for finishing paper sheets |
| US7989113B2 (en) | 2003-03-13 | 2011-08-02 | Tokyo Gas Co., Ltd. | Solid-oxide shaped fuel cell module |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0479893A1 (en) | Poly(perfluoroether)acyl peroxides. | |
| JPH0216126A (en) | Sulfonation of aromatic polyether sulfone, sulfonated polyether sulfone and production of film | |
| KR100458612B1 (en) | Method for producing perfluoropolyethers | |
| JP2008523089A (en) | Direct one-step synthesis of trifluoromethyl iodide. | |
| JP3167356B2 (en) | Method for producing perfluoroalkoxysulfonic acid compound | |
| JP2015506340A (en) | Process for preparing internal olefin sulfonates | |
| EP0766659B1 (en) | Fluoroalkylethoxylate compositions having enhanced water solubility | |
| JPH0236165A (en) | Sulfonation of low molecular weight organic compound | |
| KR100458611B1 (en) | Method for producing perfluoropolyethers | |
| JPS61268642A (en) | Production of chlorine-modified fluorocarbon polyether | |
| JP2002003469A (en) | Synthesis of diacyl peroxide in aprotic solvent | |
| US4188308A (en) | Conversion of pendant sulfonate groups to sulfonic acid groups on perfluorvinylether-tetrafluoroethylene copolymer catalysts | |
| CN113164864B (en) | Process for recycling or disposal of halogenated hydrocarbons | |
| JP4750790B2 (en) | Removal of alkanesulfonic acid alkyl esters from alkanesulfonic acids and other organic media | |
| US6166272A (en) | Molybdenum trioxide catalyzed fluorination reactions | |
| JP4544805B2 (en) | Method for producing fluorosulfonylimide monomer | |
| US3522311A (en) | Alkylsulfinylpropanediols | |
| JPH0286622A (en) | Manufacture of polymeric sulfonyl derivative | |
| JPH06305993A (en) | Preparation of perfluoroalkane | |
| US6218555B1 (en) | Process for the preparation of alkanoyloxy-benzenesulfonic acids and salts thereof | |
| JPH035453A (en) | Production of alkylbiphenyldisulfonic acid salt | |
| JPS63158124A (en) | Fluorine surfactant and fire extinguishing agent composition containing same | |
| JP2514065B2 (en) | Method for producing alkane sulfonate | |
| JPS598275B2 (en) | Polyoxa Polyfluoroalkane Luino | |
| JP3202130B2 (en) | Method for producing sulfonated water-soluble styrene polymer |