JPH02310587A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH02310587A
JPH02310587A JP1131392A JP13139289A JPH02310587A JP H02310587 A JPH02310587 A JP H02310587A JP 1131392 A JP1131392 A JP 1131392A JP 13139289 A JP13139289 A JP 13139289A JP H02310587 A JPH02310587 A JP H02310587A
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JP
Japan
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circuit
speed
speed side
semiconductor integrated
low
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Application number
JP1131392A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ken Uragami
浦上 憲
Takashi Nara
奈良 孝
Yasuhiro Kanzawa
神澤 弥寿宏
Seikou Takahashi
正皇 高橋
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Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Microcomputer Engineering Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To effectively constitute a system with plural types of velocity environment by constituting plural circuit blocks composing identical functions by means of circuit structure which differs for each block. CONSTITUTION:An n high speed side circuit blocks 1-1 to 1-n (first circuit blocks) possessing ECL (emitter logic) type circuit structures respectively and an n' low speed side circuit blocks 1-1' to 1-n' (second circuit blocks) possessing Bi-CMOS (bipolar/CMOS compound logic) type circuit structures are integrated and formed in an identical semiconductor substrate (SUB). Thus the first circuit blocks are constituted of the circuit structures suitable for speed heightening and the second circuit blocks are constituted of the circuit structures suitable for low power consumption and high integration. Thus the system with plural types of velocity environment is effectively constituted.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、複数の動作速度を有する半導体集積回路装置
及びそれを用いたシステムに関し、特に、画像処理技術
に用いられるマルチボートメモリ及びそれを用いた画像
処理システムに利用して有効な技術に関する、 〔従来の技術〕 一般的に、デジタル信号処理用の集積回路装置は、その
動作速度によって、系列化されている。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device having multiple operating speeds and a system using the same, and in particular to a multi-board memory used in image processing technology and a system using the same. Related to techniques effective for use in the image processing system used [Prior art] Generally, integrated circuit devices for digital signal processing are classified into series according to their operating speeds.

そして、1つのシステムを作成する場合、同一の動作速
度を持つ系列内の各種実積回路が有機的に組合されて、
全体システムが構成される。
When creating one system, various actual product circuits within a series with the same operating speed are organically combined,
The entire system is configured.

たとえば、マルチボート・ランダム、アクセス・メモリ
(multi  port  random  acc
essmemory、以下マルチボートRAMとも略す
)は1つのメモリセルに複数の入出力端子(入出力ボー
ト)を持たせるために、各メモリセルに対して複数のワ
ード線と複数のデータ線が接続される。
For example, multi port random, access memory (multi port random acc
essmemory (hereinafter also abbreviated as multi-board RAM) has multiple word lines and multiple data lines connected to each memory cell in order to have multiple input/output terminals (input/output ports) in one memory cell. .

たとえば、スタテック型メモリセルに2つの入出力ボー
トを持たせるためには、2つのワード線と2対の相補デ
ータ線対が1つのメモリセルに接続される。そして、各
入出力ボートに対して、書き込み動作と読み出し動作を
独立に行なわせるため、2系統のデコーダ回路及び2系
統リ一ド/ライト回路がメモリ装置内に設けられる。そ
して、これら2系統のデコーダ回路及びリード/ライト
回路は互いに同程度の動作速度を有する回路形式で構成
される。すなわち、それら2系統の回路は共にCMOS
(相補型MO8:O8:コンプリメンタリル オキサイ
ド セミコンダクタComple−mentary M
etal  0xide Sem1conductor
)回路によって構成されている。
For example, in order to provide a static memory cell with two input/output ports, two word lines and two pairs of complementary data lines are connected to one memory cell. Two systems of decoder circuits and two systems of read/write circuits are provided within the memory device in order to independently perform a write operation and a read operation for each input/output boat. These two systems of decoder circuits and read/write circuits are constructed in circuit formats having similar operating speeds. In other words, both of these two circuits are CMOS
(Complementary MO8: O8: Complementary Oxide Semiconductor Complementary M
etal Oxide Sem1conductor
) consists of circuits.

マタ、デュアルポートメモリを内蔵するカラーパレット
LSI(ラージ・スケール・セミコンダクタ インテエ
グレイティッド サーキット デバイス:large−
scale  semiconductorinteg
rated  circuit  device)にお
いては、それら2系統の回路が0M08回路のみで構成
された製品及びECL(エミッタ カップルド ロジッ
ク: emitter  Coupled  logi
c )回路のみで構成された製品の2通りの製品が提供
されている。そして形成されるべき画像処理システムの
動作速度に応じて、上記2品種のカラーパレッ)LSI
が使い分けられている。
color palette LSI with built-in dual-port memory (large scale semiconductor integrated circuit device: large-
scale semiconductor
rated circuit devices), these two circuits are products consisting only of 0M08 circuits and ECL (emitter coupled logic).
c) Two types of products are available: one consisting only of circuits. Then, depending on the operating speed of the image processing system to be formed, the above two types of color palettes) LSI
are used differently.

尚、デュアルポートメモリに関しては、特開昭62−4
3888などがある。
Regarding dual port memory, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-4
3888 etc.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、上述した技術には、次のような問題のあ
ることが本発明者らによって明らかとされた。
However, the present inventors have found that the above-mentioned technique has the following problems.

すなわち、従来の半導体集積回路装置は、単一の速度環
境下での使用を想定して形成されているため、複数の速
度環境をもつシステムあるいは装置を効率良く構成する
ことができない、という問題があった。
In other words, since conventional semiconductor integrated circuit devices are formed with the assumption that they will be used in a single speed environment, there is a problem in that it is not possible to efficiently configure systems or devices that have multiple speed environments. there were.

例えば、マルチボートR,AMを用いるカソード・レイ
・チューブ・コントローラ(c−athod  ray
tube  controller :以下CRTC又
はCl1(IT=rントローラと略す)の場合、マルチ
ボートRAMに記憶された記憶画像をカソード・レイ・
チューブ(cathod  ray  tube :以
下CRTと略す。)に表示させるための読出動作(表示
動作)は、CRTの表示速度に同期させるために、高速
で行なう必要がある。しかしながら、マルチボートRA
Mに記憶された記憶画像の書換動作(描画動作)は、C
RTの表示速度に同期させる必要がないので、比較的低
速で行なってもよい。このような場合も、従来のマルチ
ボートRAMでは、その全体を最大動作速度に合わせて
構成していた9つまり、従来のマルチボートRAMは、
高速を必要とする読出動作に使用される回路も、必ずし
も高速であることを必要としない書換動作に使用される
回路も、−律に高速動作向きの回路形式で構成していた
。この結果、従来のマルチボートRAMはその高速化の
代償として、消費電力の増大や集積規模の縮小といった
不利を余儀な(されていた。
For example, a cathode ray tube controller (c-athode ray tube controller) using multi-boat R, AM
tube controller: In the case of CRTC or Cl1 (hereinafter abbreviated as IT=r controller), the memory image stored in the multi-board RAM is transferred to the cathode, ray,
The reading operation (display operation) for displaying on a cathod ray tube (hereinafter abbreviated as CRT) must be performed at high speed in order to synchronize with the display speed of the CRT. However, multi-boat RA
The rewriting operation (drawing operation) of the memory image stored in M is performed by C.
Since it is not necessary to synchronize with the display speed of RT, it may be performed at a relatively low speed. Even in such a case, the conventional multi-board RAM was configured entirely to match the maximum operating speed.9 In other words, the conventional multi-board RAM
Both the circuits used for read operations that require high speeds and the circuits used for rewrite operations that do not necessarily require high speeds, are typically constructed in a circuit format suitable for high speed operations. As a result, conventional multi-board RAMs have been forced to suffer disadvantages such as increased power consumption and reduced integration scale in exchange for increased speed.

高速動作が必要とされるシステムあるいは装置において
、その高速動作の必要性がすべての回路にわたっている
場合は以外に少なく、その主要な回路部あるいはその回
路の一部分だけが高速動作可能に形成されていればよい
という場合が多い、と言うことが発明者の検討によって
明らかとされた。
In a system or device that requires high-speed operation, there are very few cases in which the need for high-speed operation extends to all circuits, and only the main circuit part or a part of the circuit is formed to be capable of high-speed operation. The inventor's studies have revealed that there are many cases where this is the case.

本発明の目的は、複数の速度環境をもつ半導体集積回路
装置及びそれを用いたシステムを効率良く構成すること
にある。
An object of the present invention is to efficiently configure a semiconductor integrated circuit device having multiple speed environments and a system using the same.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴に
ついては、本明細書の記述および添附図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、下記のとおりである。
A summary of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、1つの半導体集積回路装置は、同種の機能を
構成する第1及び第2回路ブロックを複数含み、この同
種の機能を構成する上記第1及び第2回路ブロックの回
路形式はブロック間相互で異ならせられる。
That is, one semiconductor integrated circuit device includes a plurality of first and second circuit blocks constituting the same type of function, and the circuit formats of the first and second circuit blocks constituting the same type of function are mutually mutual between the blocks. be made different.

〔作用〕[Effect]

上記した手段によれば、同種機能の回路ブロックにおい
て、高速動作が要求される第1回路ブロックは高速化に
適した回路構造とされ、必ずしも高速動作を要しない第
2回路ブロックは低消費電力化および高集積化に適した
回路構造とされる。
According to the above means, among circuit blocks having the same type of function, the first circuit block that requires high-speed operation has a circuit structure suitable for high-speed operation, and the second circuit block that does not necessarily require high-speed operation has a low power consumption. It also has a circuit structure suitable for high integration.

これにより、複数の速度環境をもつ半導体集積回路装置
及びそれを用いたシステムが効率良く構成される。
As a result, a semiconductor integrated circuit device having multiple speed environments and a system using the same can be efficiently configured.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の好適な実施例を図面を参照しながら説明
する。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

なお、図において、同一符号は同一あるいは相当部分を
示すものとする。。
In addition, in the figures, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts. .

第1図は本発明の第1実施例による半導体集積回路装置
の概略構成を示す。
FIG. 1 shows a schematic configuration of a semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention.

同図に示す半導体集積回路装置工C1は、それぞれにE
CL(エミッタ論理)型の回路構造をもつn個の高速側
回路ブロック1−1〜1−n(第1回路ブロック)と、
それぞれにBi−0MO8(バイポーラ・CMO,S複
合論理)型の回路構造をもつn°個の低速側回路ブロッ
クl−1゛〜1−nl  (第2回路ブロック)とが同
一半導体基板(SUB)内に集積形成されている。入力
信号IN、IN’は、高速処理を要するものとそうでな
いものとに振り分けられてそれぞれの回路ブロックl−
1−1−n 、 1−1’ −、1−n’の入力端子に
入力される。高速処理を有する入力信号INは高速側回
路ブロック1−1〜1−nに入力され、高速処理を要し
ない入力信号IN’は低速側回路ブロック1−1゛〜1
−n′に入力される。
The semiconductor integrated circuit device engineer C1 shown in the same figure is
n high-speed side circuit blocks 1-1 to 1-n (first circuit blocks) having a CL (emitter logic) type circuit structure;
The n° low-speed circuit blocks l-1 to 1-nl (second circuit blocks), each having a Bi-0MO8 (bipolar/CMO, S complex logic) type circuit structure, are on the same semiconductor substrate (SUB). It is formed in an integrated manner. The input signals IN and IN' are divided into those that require high-speed processing and those that do not, and are sent to each circuit block l-
It is input to the input terminals of 1-1-n, 1-1'-, and 1-n'. Input signals IN that require high-speed processing are input to high-speed side circuit blocks 1-1 to 1-n, and input signals IN' that do not require high-speed processing are input to low-speed side circuit blocks 1-1'' to 1-1.
-n'.

−また、高速側回路ブロック1−1〜1−n1cて高速
処理された出力信号OUTと、低速側回路ブロック1−
1′〜1−n′にて低速処理された出力信号OUT’は
、それぞれに半導体基板集積回路装置1tIc1の外部
端子から外部に採りだされるようになっている。
- Also, the output signals OUT processed at high speed by the high-speed side circuit blocks 1-1 to 1-n1c and the low-speed side circuit block 1-
The output signals OUT' processed at low speed in steps 1' to 1-n' are respectively outputted to the outside from external terminals of the semiconductor substrate integrated circuit device 1tIc1.

ここで、上述した2種類の回路ブロック1−1〜1− 
nと1−1″〜1−n′は、その動作速度を定める回路
構造は互いに異なるが、その機能については、対応する
符号同士で同一あるいは類似の機能を有するものとみな
される。
Here, the above two types of circuit blocks 1-1 to 1-
Although n and 1-1'' to 1-n' have different circuit structures that determine their operating speeds, the corresponding symbols are considered to have the same or similar functions.

上記低速側回路ブロック1−1′〜1−n′を構成する
回路ユニットとしては、例えば第2図に示すようなりC
L(バイポーラ・CMOS複合論理)回路が用いられる
。同図に示すBCL回路はBi−0M08回路とも呼ば
れ、pチャンネルMOSトランジスタMpl、Mp2と
nチャンネルMOsトランジスタMfll〜Mr15と
による低消費電力型の0M08回路で構成された入力論
理部と、電源電圧Vccと接地電位GNDとの間にトー
テンボール接続された電流駆動能力の大きなNPNバイ
ポーラトランジスタQn 1 + Qn 2で構成され
た出力部を含む。BCL回路は高速性については後述さ
れるECL回路に綿ものの、低消費電力性および高集積
化適性などについては、ECL回路よりも格段にすぐれ
た特性を備えている。
For example, the circuit units constituting the low-speed side circuit blocks 1-1' to 1-n' are as shown in FIG.
An L (bipolar/CMOS complex logic) circuit is used. The BCL circuit shown in the figure is also called a Bi-0M08 circuit, and has an input logic section composed of a low power consumption 0M08 circuit including p-channel MOS transistors Mpl, Mp2 and n-channel MOS transistors Mfll to Mr15, and a power supply voltage It includes an output section composed of NPN bipolar transistors Qn 1 +Qn 2 having a large current driving ability and connected in a toten ball manner between Vcc and ground potential GND. Although the BCL circuit is inferior to the ECL circuit described later in terms of high speed, it has characteristics far superior to the ECL circuit in terms of low power consumption and suitability for high integration.

なお、同図に示すBi−0M08回路は2人力NOR回
路を形成する。Vcc及びGNDは正側電源電位及び接
地電位(sV及びOv又はOV及び−5,2V)、A 
’ トB ’ &を論理入力、O’は論理出力をそれぞ
れ示す。
Note that the Bi-0M08 circuit shown in the figure forms a two-manpower NOR circuit. Vcc and GND are the positive power supply potential and ground potential (sV and Ov or OV and -5,2V), A
'ToB'& indicates logic input, and O' indicates logic output.

また、上記高速側回路ブロック1−1〜1−nを構成す
る回路ユニットは、例えば第3図に示されるようなEC
L(エミッタ結合論理)回路が使用される。同図に示す
ECL回路は、カレントスイッチ用のバイポーラトラン
ジスタQ n 3〜Qn5に比較的大きな動作電流を流
しながら不飽和状態で動作させるので、消費電力が大き
くされるという問題はあるものの、非常に高速で動作さ
せることができる。なお、同図に示すECL回路は2人
力NORを形成する。GNDは高レベル基準となる接地
電位(0■)、VILHは負側TIt源電位(−5,2
■)、AとBは論理入力、0は論理出力、’ L 1 
+RL2は負荷抵抗、Qn6はNPN型の出力バイポー
ラトランジスタ、Q n 7はベースに基準電位Vcc
を受ける電流源用バイポーラトランジスタ、ltl、)
t2及びR3は抵抗をそれぞれ示す。さらにNPNバイ
ポーラトランジスタQn8、抵抗R4〜R6及びダイオ
ードDI、D2から形成された参照電位VI3B発生回
路が設けられる。尚、このECL回路の動作は公知であ
るので説明は略される。
Further, the circuit units constituting the high-speed side circuit blocks 1-1 to 1-n are, for example, ECs as shown in FIG.
An L (emitter coupled logic) circuit is used. The ECL circuit shown in the figure operates in an unsaturated state while passing a relatively large operating current through the bipolar transistors Qn3 to Qn5 for current switches, so although there is a problem in that the power consumption increases, it is extremely Can operate at high speed. Note that the ECL circuit shown in the figure forms a two-manpower NOR. GND is the ground potential (0■) serving as a high level reference, and VILH is the negative TIt source potential (-5, 2
■), A and B are logic inputs, 0 is logic output, ' L 1
+RL2 is a load resistance, Qn6 is an NPN output bipolar transistor, and Qn7 has a reference potential Vcc at its base.
Bipolar transistor for current source receiving current, ltl,)
t2 and R3 each represent resistance. Further provided is a reference potential VI3B generation circuit formed from an NPN bipolar transistor Qn8, resistors R4 to R6, and diodes DI and D2. Incidentally, since the operation of this ECL circuit is well known, the explanation thereof will be omitted.

第4図と第5図は、同一半導体集積回路装置内に形成さ
れる低速側回路ブロックと高速側回路ブロックの他の組
み合せ例を示す。
FIGS. 4 and 5 show other examples of combinations of low-speed circuit blocks and high-speed circuit blocks formed within the same semiconductor integrated circuit device.

すなわち、上記低速側回路ブロック1−1′〜1−n゛
を構成する回路ユニットは、例えば第4図に示されるよ
うな純CMOS論理回路を含む。
That is, the circuit units forming the low-speed side circuit blocks 1-1' to 1-n' include pure CMOS logic circuits as shown in FIG. 4, for example.

この純CMOS回路は、2人力NOR回路とされ、同図
の様にpチャネルMO8FETMp3.Mp4及びNチ
ャネルMO8FET?vIn 6 、Mn7を含む。こ
の0M08回路の動作は、公知であるので、説明は略さ
れる。また、上記高速側回路ブロック1−1〜l−nを
構成する回路ユニットは、例えば第5図に示されるよう
なTTL回路を含む。このTTL回路は、PNP型の入
カバイボーラトランジスタQpl及びQp2、フェイズ
スゲリッタ用npnバイポーラトランジスタQ n 9
 及びQnlO1出力トランジスタQn 11及びQr
l12、ダイオードD3〜D5、及び抵抗R7〜all
を含む。
This pure CMOS circuit is a two-way NOR circuit, and as shown in the figure, p-channel MO8FETMp3. Mp4 and N channel MO8FET? Contains vIn 6 and Mn7. Since the operation of this 0M08 circuit is well known, its explanation will be omitted. Further, the circuit units constituting the high-speed side circuit blocks 1-1 to 1-n include, for example, a TTL circuit as shown in FIG. 5. This TTL circuit consists of PNP type input bipolar transistors Qpl and Qp2, and an npn bipolar transistor for phase gater Qn9.
and QnlO1 output transistors Qn 11 and Qr
l12, diodes D3 to D5, and resistors R7 to all
including.

尚、上記TTL回路の動作は公知であるので説明は略さ
れる。
Incidentally, since the operation of the TTL circuit described above is well known, the explanation thereof will be omitted.

以上のように、同一半導体集積回路装置内に、同種の機
能をもつ回路ブロックが複数形成されるとともに、各回
路ブロックを構成する回路ユニット群の回路構造が各ブ
ロック間で異ならせられる。
As described above, a plurality of circuit blocks having the same type of function are formed in the same semiconductor integrated circuit device, and the circuit structures of the circuit units forming each circuit block are made different between the blocks.

すなわち、高速動作が要求される回路ブロックは高速化
に適した回路構造とされ、必ずしも高速動作が要求され
ない回路ブロックは低消費電力化および高集積化に適し
た回路構造とされろ。
That is, circuit blocks that require high-speed operation should have a circuit structure suitable for high-speed operation, and circuit blocks that do not necessarily require high-speed operation should have a circuit structure that is suitable for low power consumption and high integration.

これにより、複数の速度環境をもつシステムあるいは装
置を効率良く構成することができるとともに、高速を必
要とするシステムあるいは装置の構成を最適化すること
ができるよ5になる。
This makes it possible to efficiently configure a system or device that has multiple speed environments, and to optimize the configuration of a system or device that requires high speed.

次に、本発明をカラーパレットLSIに適用した場合に
ついて説明する。
Next, a case where the present invention is applied to a color palette LSI will be described.

まず、第6図を用いて、カラーパレットLSIが組込ま
れた画像処理システムが説明される。この画像処理シス
テムは、マイクロプロセッサユニット(m1cropr
ocessor  unit以下MPUと言う)6−5
°、グラフィックコントローラ(graphic  c
ontroller ) 6−5 a、複数のビデオメ
モリ(video memory)又は7L/−ム。
First, an image processing system incorporating a color palette LSI will be explained using FIG. This image processing system consists of a microprocessor unit (m1cropr
(hereinafter referred to as MPU) 6-5
°, graphic controller (graphic c
controller) 6-5a, multiple video memories or 7L/-memories.

バッファ’メモリ(frame buffer mem
ory)6−5b、カラーパレット(color  p
alette )又はカラールックアップテーブル(c
olor  1ookup  tabe ) CPLT
及びアナログカーy−CRTディスプレイ6−8を含む
。M P U 6−5°は、グラフィックコントローラ
6−53及びカラーパレットCPLTにデータバスDB
及びアドレスバスADBを介して相互に接続されて、グ
ラフィックコントローラ6−5a及びカラーパレットC
PLTの動作制御を行なう。
frame buffer mem
ory) 6-5b, color palette (color p
alette ) or color lookup table (c
color 1lookup table) CPLT
and an analog car y-CRT display 6-8. MPU 6-5° connects the graphic controller 6-53 and color palette CPLT to the data bus DB.
and a graphics controller 6-5a and a color palette C.
Controls the operation of the PLT.

グラフィックコントロー/F6−5aは、日立製作所か
ら発売されているラスタ・スキャン型のアドバンストC
RT:rントローラ(Advanced  CRT  
Controller:AC几TC)HD63484の
様なグラフィック描画及び表示機能付のCRTコントロ
ーラを利用することができる。すなわち、ビデオメモリ
6−5b内に既にストアされた画像データをCRTディ
スプレイに表示する表示動作の場合、グラフィックコン
トローラ6−5bは、CRTディスプレイの表示タイミ
ングに同期して、上記ビデオメモ1J6−5bをアクセ
ス(表示アクセス)するための表示アドレスを発生する
。さらに、ビデオメモリ6−5b内に既にストアされた
画像データを書き換える描画動作の場合、グラフィック
コントローラ6−5aは、MPU6−5゜から供給され
た描画コマンドを識別し、ビデオメモ1J6−5bをア
クセス(描画アクセス)するだめの描画アドレスを発生
する。この描画動作の場合、グラフィックコントローラ
6−5bは、ビデオメモ’J 6−5 b内に格納され
た画像データのリード動作又はビデオメモIJ 6−5
 b内に書き込まれるべき画像データのライト動作の両
方を実行できる。
The graphic controller/F6-5a is a raster scan type Advanced C released by Hitachi.
RT: r controller (Advanced CRT)
Controller: A CRT controller with a graphic drawing and display function, such as AC TC) HD63484, can be used. That is, in the case of a display operation in which image data already stored in the video memory 6-5b is displayed on the CRT display, the graphic controller 6-5b displays the video memo 1J6-5b in synchronization with the display timing of the CRT display. Generates a display address for access (display access). Furthermore, in the case of a drawing operation that rewrites image data already stored in the video memory 6-5b, the graphic controller 6-5a identifies the drawing command supplied from the MPU 6-5° and accesses the video memo 1J6-5b. (Drawing access) Generates a drawing address to be used. In the case of this drawing operation, the graphic controller 6-5b performs a read operation of image data stored in the video memo 'J 6-5b or a video memo IJ 6-5
Both the write operation of the image data to be written in b can be performed.

また、グラフィックコントローラ6−58は、CRTデ
ィスプレイ6−8に図形を表示するために必要とされる
水平同期信号(H8YNC)及び垂直同期信号(V8Y
NC)(以下水平/垂直同期号(SYNC)と言う)や
表示タイミングクロックDISP(図示せず)などの各
種表示用同期信号を常に発生する。
The graphics controller 6-58 also provides a horizontal synchronization signal (H8YNC) and a vertical synchronization signal (V8YNC) required for displaying graphics on the CRT display 6-8.
It constantly generates various display synchronization signals such as a horizontal/vertical synchronization signal (SYNC) (hereinafter referred to as horizontal/vertical synchronization signal (SYNC)) and a display timing clock DISP (not shown).

上記とデオメモ’)6−5bは、たとえば、64Kwo
rdX4bit構成の高速半導体メモリが2個利用され
ることによって構成される。したがって、上記ビデオメ
モリ6−5bは、上記グラフィックコントローラ6−5
aから供給される1つの表示アドレスによって8ビツト
の画素データを出力する。
The above and Deomemo') 6-5b are, for example, 64Kwo
It is constructed by using two high-speed semiconductor memories of rdX4bit configuration. Therefore, the video memory 6-5b is connected to the graphics controller 6-5.
8-bit pixel data is output according to one display address supplied from a.

カラーパレットCPLTは、ビデオメモリ6−5bから
出力された8ビツトの画素データ(表示データ)をピク
セルデータ入力端子PO〜P7に受け、上記8ビツトの
画素データに対応するアドレスのカラーデータをアナロ
グ色信号出力端子R0G及Bから出力する。すなわち、
ビデオメモリ6−5bは上記カラーパレットCPLT内
に設けられたメモリアレイをアクセスするためのアドレ
スデータを画素データとして記憶させられている。上記
から理解されるように、上記カラーパレットCPLTは
、その内部に(2’)=256ワードの男う−データを
保持しているので、アナログCRTディスプレイ6−8
のCR,T画面は、256色の色を同時に表示可能とさ
れる。上記256ワードのカラーデータの各々は4ビツ
トの赤色、4ビツトの緑色及び4ビツトの背合情報を含
む12ビツトのデジタル色情報で構成される。したがっ
て、上記ビデオメモリからの画素データがカラーパレッ
トCPLTに入力されると、その画素データに従うアド
レスにストアされた12ビツトのデジタル色情報が読み
出されるとともに、4ビツトの赤。
The color palette CPLT receives 8-bit pixel data (display data) output from the video memory 6-5b at pixel data input terminals PO to P7, and converts the color data at the address corresponding to the 8-bit pixel data into an analog color. Output from signal output terminals R0G and B. That is,
The video memory 6-5b stores address data for accessing the memory array provided in the color palette CPLT as pixel data. As understood from the above, the color palette CPLT holds (2')=256 words of data therein, so the analog CRT display 6-8
The CR and T screens of the 2015 can display 256 colors at the same time. Each of the 256 words of color data consists of 12 bits of digital color information including 4 bits of red, 4 bits of green, and 4 bits of background information. Therefore, when pixel data from the video memory is input to the color palette CPLT, the 12-bit digital color information stored at the address according to the pixel data is read out, as well as the 4-bit red color information.

緑及び背合情報のそれぞれがカラーパレットCPLT内
の対応するデジタル−アナログ変換器によってデジタル
信号からアナログ信号に変換されて、アナログ色信号出
力端子R,G及びBから出力されるようになっている。
Each of the green and back information is converted from a digital signal to an analog signal by a corresponding digital-to-analog converter in the color palette CPLT, and is outputted from analog color signal output terminals R, G, and B. .

アナログ色信号出力端子R,G及びBから出力されるT
TLレベルのアナログ色信号AR,AG及びABは、ア
ナログCRTディスプレイ6−8のCRTに供給される
T output from analog color signal output terminals R, G and B
The TL level analog color signals AR, AG and AB are supplied to the CRT of an analog CRT display 6-8.

アナログCRTディスプレイ6−8の表示画面が、たと
えば、640ドツトで構成された1本の走査m(ラスタ
)を400本含む場合、上記カラーパレッ)CPLTは
、上記表示画面の1つのドツトの表示に対して上記アナ
ログ色信号AR,AG及びABを1回出力する。したが
って、カラーパレッ)CPLTの上記アナログ色信号A
R,AG及びABの出力動作は、CRTディスプレイ6
−8の表示タイミングに同期させられている。すなわち
、上記ビデオメモ!J6−5bは、上記グラフィックコ
ントローラ6−5bによって、上記アナログCR,Tデ
ィスプレイ6−8の表示タイミングに同期して表示アク
セスされるとともに、上記表示タイミングに同期して、
画素データをカラーパレットCPLTに供給する。そし
て、カラーパレットCPLTは、上記表示タイミングに
同期して、上記アナログ色信号AR,AG及びABを上
記ディスプレイ6−8に供給する。
If the display screen of the analog CRT display 6-8 includes, for example, 400 scans m (rasters) each consisting of 640 dots, the color palette (CPLT) is adjusted to display one dot on the display screen. On the other hand, the analog color signals AR, AG and AB are outputted once. Therefore, the above analog color signal A of color palette) CPLT
The output operations of R, AG and AB are performed on the CRT display 6.
-8 is synchronized with the display timing. Ie the video memo above! J6-5b is accessed for display by the graphic controller 6-5b in synchronization with the display timing of the analog CR, T display 6-8, and in synchronization with the display timing,
Supply pixel data to color palette CPLT. The color palette CPLT then supplies the analog color signals AR, AG, and AB to the display 6-8 in synchronization with the display timing.

上記アナログCRTディスプレイ6−8の水平表示時間
及び垂直表示時間が、それぞれ30.4μS及び16.
11m5とされる場合、1ドツトの表示時間は30.4
μs÷640ドツト=47.5ns=21、05 MH
zとされるので、カラーパレットCPLTのドツトクロ
ック端子DOTCKには21.05MHzのドツトクロ
ックが図示されない発振回路から入力される。また、グ
ラフィックコントローラ6−5aから出力される水平/
垂直同期信号5YNCがカラーパレットCPLTの同期
信号端子8YNCに供給される。したがって、上記アナ
ログ色信号AJAG、及びABは上記同期信号5YNC
及びドツトクロックに同期してCRTディスプレイ6−
8に供給される。カラーパレットCPTLの表示アクセ
ス動作速度はたとえば、80−150MHzとされる。
The horizontal display time and vertical display time of the analog CRT display 6-8 are 30.4 μS and 16.5 μS, respectively.
If the area is 11m5, the display time of one dot is 30.4
μs ÷ 640 dots = 47.5 ns = 21,05 MH
z, a 21.05 MHz dot clock is input from an oscillation circuit (not shown) to the dot clock terminal DOTCK of the color palette CPLT. Also, the horizontal/
Vertical synchronization signal 5YNC is supplied to synchronization signal terminal 8YNC of color palette CPLT. Therefore, the analog color signals AJAG and AB are the synchronization signal 5YNC.
and CRT display 6- in synchronization with the dot clock.
8. The display access operation speed of the color palette CPTL is, for example, 80-150 MHz.

一方、カラーパレットCPTLは、MPU6−5″から
の指示に対応して、その内部に記憶されているデジタル
色情報を変換可能とされている。
On the other hand, the color palette CPTL is capable of converting digital color information stored therein in response to instructions from the MPU 6-5''.

すなわち、このカラーパレットCPLTは前述の様に2
56色の色情報を記憶しているけれども、その256色
の色情報は4096 (212)色の中からMPU6−
5’によって選択されたものである。したがって、MP
U6−5’は、必要に応じ、カラーパレットCPLT内
の12ビツトのデジタル色情報の書換を実行する。上記
色情報の変更動作は、CRTディスプレイ6−8の表示
時間に同期する必要がなく、MPU6−5’の動作速度
、たとえば、1〜10MHzに同期すれば良い。この色
情報書換動作は、MPU6−5’から供給されるレジス
タ選択信号、リード制御信号、ライト制御信号、チップ
セレクト信号及びデータバスDBを介して供給される書
換アドレス及び書換色データをそれぞれ外部端子几So
、R8I、WR。
In other words, this color palette CPLT has 2 colors as described above.
Although the color information of 56 colors is stored, the color information of the 256 colors is selected from among 4096 (212) colors by the MPU6-
5'. Therefore, M.P.
U6-5' executes rewriting of the 12-bit digital color information in the color palette CPLT as necessary. The color information changing operation does not need to be synchronized with the display time of the CRT display 6-8, and may be synchronized with the operating speed of the MPU 6-5', for example, 1 to 10 MHz. This color information rewriting operation is performed by transmitting the register selection signal, read control signal, write control signal, chip select signal supplied from the MPU 6-5', and the rewriting address and rewriting color data supplied via the data bus DB to external terminals, respectively.几So
, R8I, WR.

RD、C8及びDo−D7に受けることによって実行さ
れる。
It is executed by receiving RD, C8 and Do-D7.

上記から理解されるように、第6図で示される画像処理
(グラフィック処理)システムにおいて、MPU6−5
’は低速外部動作システムとされ、上記グラフィックコ
ントローラ6−5a及びビデオメモリ6−5bは高速外
部動作システム6−5本される。
As understood from the above, in the image processing (graphic processing) system shown in FIG.
' is a low-speed external operation system, and the graphic controller 6-5a and video memory 6-5b are used as a high-speed external operation system 6-5.

第7図は、第6図に示されたカラーパレットCPLTの
ブロックダイヤグラムを示している。
FIG. 7 shows a block diagram of the color palette CPLT shown in FIG.

カラーパレットCPLTは、デジタルカラー情報を記憶
するためのメモリアレイ6−1を含む。
Color palette CPLT includes a memory array 6-1 for storing digital color information.

上記メモリアレイ6−1は、たとえば、256ワード×
12ビツトのデュアルポートメモリセルを含み、ビクセ
ルデータ入力端子PO〜P7から供給された8ビツトの
ビクセルデータをクロック信号CLKに同期してラッチ
するところのアドレスラッチ回路(AD−LATCH)
6−3の出力信号をデコードし、上記ビクセルデータに
従う複数のメモリセル(12個)を選択するビクセルデ
ータデコード回路(P−DEC) 6−4と、データ入
出力端子Do−D7から入出力バッ7アI10を介して
、アドレスレジスタ6−3゛に供給された8ビツトの書
換アドレスをデコードし、上記書換アドレスに従う複数
のメモリセル(12個)を選択する書換アドレスデコー
ド回路D−DEC6−4°との両方からアクセス可能と
される。
The memory array 6-1 has, for example, 256 words x
An address latch circuit (AD-LATCH) that includes a 12-bit dual port memory cell and latches 8-bit pixel data supplied from the pixel data input terminals PO to P7 in synchronization with the clock signal CLK.
A pixel data decoding circuit (P-DEC) decodes the output signal of 6-3 and selects a plurality of memory cells (12 pieces) according to the above-mentioned pixel data. A rewriting address decoding circuit D-DEC6-4 decodes the 8-bit rewriting address supplied to the address register 6-3' through the 7A I10 and selects a plurality of memory cells (12 pieces) according to the rewriting address. ° and can be accessed from both.

上記ビクセルデータデコーダ6−4によって選択された
複数のメモリセルに記憶されたデジタルカラーデータは
、センス回路P−8NS6−6によって読出されるとと
もにクロック信号CLKに同期して、センス回路P−8
NS6−6内のラッチ回路に保持される。そして、ラッ
チされたカラ端子にそれぞれ4ビツトづつ供給されると
ともに、それらによって、アナログ色信号AR,AB及
びAGに変換されて、クロック信号CKLに同期してア
ナログ色信号出力端子R,G及びBに供給される。
The digital color data stored in the plurality of memory cells selected by the pixel data decoder 6-4 is read out by the sense circuit P-8NS6-6, and in synchronization with the clock signal CLK, the digital color data is read out by the sense circuit P-8NS6-6.
It is held in the latch circuit in NS6-6. Then, 4 bits are supplied to each of the latched color terminals, and converted into analog color signals AR, AB, and AG. supplied to

一方、デコーダ回路D−DEC6−4’によって選択さ
れた12個のメモリセルに対しては、それらのメモリセ
ルへのデータ書込及びそれらのメモリセルからのデータ
読出しが可能である。データ書込(書換)動作の場合、
メモリセルに書き込まれるべきカラーデータは、MPU
6−5°から出力されて、外部端子DO〜D7及び上記
入出力/(ツファI10を介して、レジスタR,−RE
G。
On the other hand, data can be written to and read from the 12 memory cells selected by the decoder circuit D-DEC6-4'. In the case of data write (rewrite) operation,
The color data to be written into the memory cells is sent to the MPU.
It is output from 6-5° and connected to registers R, -RE via external terminals DO to D7 and the above input/output/(Tuffa I10).
G.

G−BEG、及びB−REGの各レジスタに4ビツトづ
つ格納される。その後、上記レジスタR−。
Four bits are stored in each register of G-BEG and B-REG. Then the register R-.

G−、及びB−REGの保持データは書込ノくルス信号
「W玉のローレベルに対応して活性化状態とされたライ
トアンプWAによって、選択状態のメモリセルに書き込
まれる。一方、データ読み出し動作の場合、選択された
メモリセルにストアされたデータは、センスアンプD−
8NS6−6’によって増幅されるとともに、データマ
ルチプレクサD−MPX及び入出力バッファ工10を介
してデータ入出力端子DO〜D7に供給される。
The data held in G- and B-REG is written into the selected memory cell by the write amplifier WA, which is activated in response to the low level of the write pulse signal "W". In the case of a read operation, the data stored in the selected memory cell is transferred to the sense amplifier D-
The signal is amplified by the 8NS6-6' and supplied to the data input/output terminals DO to D7 via the data multiplexer D-MPX and the input/output buffer 10.

制御回路C0NTは、チップセレクト信号C8、リード
制御信号n、ライト制御信号n及びレジスタ選択信号)
LSO及びR81に基づいて、内部レジスタ選択信号R
8S、内部リード制御信号R、マルチプレクサ制御信号
MPXC1出カイネーブル信号OE及び書き込みノ(ル
スφWRを発生する。また、上記制御回路C0NTは、
ドツトクロックDOTCK及び同期信号5YNCにもと
づいて内部クロック信号CLK及びCLKを発生する。
The control circuit C0NT includes a chip select signal C8, a read control signal n, a write control signal n, and a register selection signal)
Based on LSO and R81, internal register selection signal R
8S, an internal read control signal R, a multiplexer control signal MPXC1 output enable signal OE, and a write pulse φWR are generated.
Internal clock signals CLK and CLK are generated based on the dot clock DOTCK and synchronization signal 5YNC.

上記データマルチプレクサD−MPXは、上記マルチプ
レクサ制御信号M P X Cのハイレベルに応答し、
供給される12ビツトのデータを、たとえば、4ビツト
づつ3回時分割して人出力バッ7アI10に供給する、 上記入出力バッファI10は、上記出力イネーブル信号
OEめローレベルに応答して出力バッファ回路とされ、
上記出力イネーブル信号OEのハイレベルに応答して入
力バッファ回路とされる。
The data multiplexer D-MPX responds to the high level of the multiplexer control signal MPXC,
The input/output buffer I10 outputs the supplied 12-bit data in response to the low level of the output enable signal OE. It is considered as a buffer circuit,
It is set as an input buffer circuit in response to the high level of the output enable signal OE.

上記内部レジスタ選択信号R8Sは、上記アドレスレジ
スタ(ADD−REG)6−3’及び上記書換データレ
ジスタR−,G −、及びB−REGのレジスタ選択信
号とされる。上記入出力バッファI10から書換アドレ
ス信号が入力されると、上記内部レジスタ選択信号R8
Sによって上記アドレスレジスタ(ADD−REG)6
−3°が選択状態とされる。入出力バッファI10から
書換えられるべきR,G及びBカラーデータが4ビツト
づつ時分割で供給されると、内部レジスタ選択信号R8
Sによって、3つの書換データレジスタ、R−I(、E
G 、 G−REG及びB−REGが次々と選択状態と
され、所望のカラーデータがそれらのデータレジスタR
−、G −、及びB−REGに格納される。
The internal register selection signal R8S is used as a register selection signal for the address register (ADD-REG) 6-3' and the rewriting data registers R-, G-, and B-REG. When the rewriting address signal is input from the input/output buffer I10, the internal register selection signal R8
The above address register (ADD-REG) 6 is set by S.
−3° is the selected state. When the R, G, and B color data to be rewritten from the input/output buffer I10 is supplied in a time-division manner in 4 bits each, the internal register selection signal R8
By S, three rewrite data registers, R-I(,E
G, G-REG and B-REG are selected one after another, and the desired color data is stored in their data registers R.
-, G-, and B-REG.

第8図は、第7図に示されたメモリアレイ6−1の一部
、ピクセルデータデコーダ6−2、書換アドレスデコー
ダ6−2°、センス回路(P−8NS。
FIG. 8 shows a part of the memory array 6-1 shown in FIG. 7, a pixel data decoder 6-2, a rewrite address decoder 6-2°, and a sense circuit (P-8NS).

D−8NS)6−6及び6−6′、及びライトアンプW
Aを示している。尚、同図は、12ビツトのカラーデー
タの内の1ビツト分に対応する部分を示している。実際
には、デコーダ回路6−4、及び6−4°を除く他の部
分が11組存在することに注意されたい。
D-8NS) 6-6 and 6-6', and light amplifier W
It shows A. Note that this figure shows a portion corresponding to one bit of the 12-bit color data. It should be noted that in reality, there are 11 sets of decoder circuits 6-4 and other parts excluding 6-4°.

1メモリユニツ)MUは、256個のメモリセルMCO
〜MC255、ワード線WO〜W64゜WO’−W64
’及び相補データ線対DO、DO。
1 memory unit) MU is 256 memory cells MCO
~MC255, word line WO~W64゜WO'-W64
' and complementary data line pair DO, DO.

DO’ 、 Do’〜D3.D3.D3’ 、D3’を
含む。おのおののメモリセルは二本のワード線と2対の
相補データ線対とに接続されて、プーアルボートメモリ
セルとされる。たとえばメモリセルMCOは、ビクセル
データデコーダ6−2に結合された第1ワード#JWQ
書換アドレスデコーダ6−2′に結合された第2ワード
線WO′、第1相補データ線対Do、Do及び第2相補
データ線対DO° 、DOoとに結合される。他のメモ
リセルにも同様に対応する第1及び第2ワード線及び第
1及びWJ2相補データ線対が結合される。
DO', Do'~D3. D3. Contains D3' and D3'. Each memory cell is connected to two word lines and two pairs of complementary data lines to form a pool port memory cell. For example, the memory cell MCO is connected to the first word #JWQ coupled to the pixel data decoder 6-2.
It is coupled to a second word line WO' coupled to a rewriting address decoder 6-2', a first complementary data line pair Do, Do, and a second complementary data line pair DO°, DOo. Similarly, corresponding first and second word lines and first and WJ2 complementary data line pairs are coupled to other memory cells.

Nチャネル負荷MO8FET’r□ 、’r□ 、TQ
・。
N-channel load MO8FET'r□,'r□,TQ
・.

(第1動作電圧)が供給される端子Vccとの間にそれ
ぞれのソースドレイン経路が結合されるとともK、それ
ぞれのゲート電極が上記端子Vccに結合されて、各相
補データ線をバイアスする。
A respective source-drain path is coupled to a terminal Vcc to which a first operating voltage (K) is supplied, and a respective gate electrode is coupled to said terminal Vcc to bias each complementary data line.

第1共通データ巌対CDLO、CDLOは、カラムスイ
ッチ用NチャネルMO8FET対CSO。
The first common data pair CDLO, CDLO is a column switch N-channel MO8FET pair CSO.

C8O〜C83,C83のソースドレイン経路を介して
、上記第1相補データ線対Do 、Do〜D3 、D3
と結合される。
The first complementary data line pair Do, Do-D3, D3 is connected via the source-drain path of C8O-C83, C83.
is combined with

第2共通データ線対CDLO° 、CDLO’は、カラ
ムスイッチ用NチャネルMO8FET対C8Q’。
The second common data line pair CDLO°, CDLO' is a column switch N-channel MO8FET pair C8Q'.

C8o°〜C83’  、083’ のソースドレイン
経路を介して、上記第2相補データ線対Do’  。
The second complementary data line pair Do' is connected to the second complementary data line pair Do' through the source-drain path C8o° to C83' and 083'.

Do’〜D3’  、D3’  と結合される。Do' to D3' and D3' are combined.

第1センスアンプ(P−8NS ) 6−6は、それぞ
れのベース電極が対応する第1共通データ線対CDLO
、CDLOに結合され、それぞれのエミッタ電極が共通
結合された一対の差動NPNバイポーラトランジスタD
Q1.DQ2.上記差動バイポーラトランジスタDQI
 、DQ2にその動作電流を供給する電流源MO8F’
ETC8MI及び上記差動バイポーラトランジスタDQ
l 、DQ2のコレクタに結合されたメインアンプMA
Iを含む。上記電流源MO8FETC8MIのソースド
レインパスはバイポーラトランジスタDQI 。
The first sense amplifier (P-8NS) 6-6 has a base electrode corresponding to the first common data line pair CDLO.
, CDLO, and a pair of differential NPN bipolar transistors D with their respective emitter electrodes commonly coupled.
Q1. DQ2. The above differential bipolar transistor DQI
, a current source MO8F' that supplies its operating current to DQ2.
ETC8MI and the above differential bipolar transistor DQ
l , main amplifier MA coupled to the collector of DQ2
Contains I. The source/drain path of the current source MO8FETC8MI is a bipolar transistor DQI.

DQ2の共通エミッタと回路の接地を位(第2動作電位
)が供給されるGND端子との間に結合され、そのゲー
ト電極は、常にMO8F’ETC8MIをオン状態とす
るための電圧Vcsが供給される。
It is coupled between the common emitter of DQ2 and the GND terminal to which the circuit ground potential (second operating potential) is supplied, and its gate electrode is supplied with a voltage Vcs to always keep MO8F'ETC8MI in the on state. Ru.

そのため、第1センスアンプ(P−8NS ) 6−6
は、常に動作状態におかれろことによって、高速読出し
を可能とする。
Therefore, the first sense amplifier (P-8NS) 6-6
By being always in an active state, it is possible to perform high-speed reading.

バイアス回路BCは、第1共通データ線対CDLO。The bias circuit BC connects the first common data line pair CDLO.

CDLOK結合され、それを常に所定の電位にバイアス
し、高速読出しを可能とする。上記バイアス回路BCは
それぞれのゲート電極がvcc端子に接続されたNチャ
ネルMO8FETQBI。
CDLOK coupling, which always biases it to a predetermined potential and enables high-speed reading. The bias circuit BC is an N-channel MO8FETQBI whose respective gate electrodes are connected to the vcc terminal.

QB2.QB3及びQB4によって構成される。QB2. Consists of QB3 and QB4.

上記MO8FETQB1及びQB3のそれぞれは、コモ
ンデータ線バイアス電位が供給される端子VCDBと対
応する第1共通データ線対CDL O。
Each of the MO8FETs QB1 and QB3 is a first common data line pair CDLO corresponding to a terminal VCDB to which a common data line bias potential is supplied.

CDLOとの間に設けられ、上記MO8FETQB2及
びQB4のそれぞれは対応する第1共通データ線対CD
Lo 、CDLoと接地端子GNDとの間に設けられる
。上記端子VCDBに供給されるコモンデータ線電位は
、上記バイアス回路BCによってバイアスされる第1共
通データ線対CDLO、CDLOの電位すなわち、差動
バイポーラトランジスタDQ1.DQ2のベース電位カ
スタンバイ状態の時において、差動バイポーラトランジ
スタのそれぞれのコレクタ電位以下となるように決定さ
れる。したがって、差動バイポーラトランジスタDQI
 、DQ2は、飽和動作されないように工夫される。
CDLO, and each of the MO8FETs QB2 and QB4 is provided between the corresponding first common data line pair CD
Lo, is provided between CDLo and the ground terminal GND. The common data line potential supplied to the terminal VCDB is the potential of the first common data line pair CDLO, CDLO biased by the bias circuit BC, that is, the potential of the differential bipolar transistors DQ1. The base potential of DQ2 is determined to be lower than the collector potential of each differential bipolar transistor in the standby state. Therefore, the differential bipolar transistor DQI
, DQ2 are devised so as not to operate in saturation.

第2センスアンプ6−6′は、第1センスアンプ6−6
と同様に、差動NPNバイポーラトランジスタDQ3及
びDQ4、電流源NチャネルMO8FET C3M2及
びメインアンプMA2を含む。
The second sense amplifier 6-6' is the first sense amplifier 6-6.
Similarly, it includes differential NPN bipolar transistors DQ3 and DQ4, a current source N-channel MO8FET C3M2, and a main amplifier MA2.

上記第1センスアンプ6−6との相違点は、Vcs端子
と上記電流源MO8FET C3M2のゲート電極との
間に接続されたソースドレインバスト上記内部リード制
御信号Rを受けるように接続されたゲート電極とを有す
るスイッチングN、MO8FET SWが設けられてい
ることである。したがって、第2セ/スアングは、上記
内部リード制御信号Rがハイレベルとされる読み出し期
間のみ動作状態とされ、それによって消費電力の増加が
防がれている。
The difference from the first sense amplifier 6-6 is that the source drain bust is connected between the Vcs terminal and the gate electrode of the current source MO8FET C3M2, and the gate electrode is connected to receive the internal read control signal R. A switching N, MO8FET SW having the following characteristics is provided. Therefore, the second sequence is kept in operation only during the read period when the internal read control signal R is at a high level, thereby preventing an increase in power consumption.

ビクセルデータに従うメモリセルに記憶されたデータを
読み出す場合、上記ピクセルデータデコーダ(P−DE
C) 6−4はアドレスラッチ回路(ADD−LATC
H)6−3から供給された内部相補アドレス信号pdo
、pdo〜pd7.J)d7をデコードし、第1ワード
、IJWO−w53のいずれか1つたとえばワード線w
□を選択レベルとするとともに、第1カラム選択線Yo
〜Y3のいずれか1つたとえば、カラム選択線YOを選
択レベルとする。ワード線WQの選択レベルによって、
メモリセルMCOが選択状態とされて、それに記憶され
たデータに対応するように、第1相補データ線Do 、
Doの電位が変化される。一方、カラム選択線YOの選
択レベルによって、カラムスイッチMO8FETC8Q
及びσ百1がオン状態とされて、第1相補データ線DQ
 、DQの電位変動が第1共通データ線対CDLQ及び
CDLOに伝達される。その結果、上記差動バイポーラ
トランジスタDQ1.DQ2はそのベース電極の電位変
化を検出し、メインアンプMAIに検出出力な供給する
。そして、上記メインアンプMAIは、その出力に上記
メモリセルMCOに記憶されたデータに対応する読出し
データRDOを供給する。
When reading data stored in memory cells according to pixel data, the pixel data decoder (P-DE
C) 6-4 is an address latch circuit (ADD-LATC
H) Internal complementary address signal pdo supplied from 6-3
, pdo to pd7. J) Decode d7 and write any one of the first word, IJWO-w53, for example, word line w
□ is the selection level, and the first column selection line Yo
-Y3, for example, the column selection line YO is set to the selection level. Depending on the selection level of word line WQ,
When the memory cell MCO is brought into a selected state, the first complementary data lines Do,
The potential of Do is changed. On the other hand, depending on the selection level of the column selection line YO, the column switch MO8FETC8Q
and σ101 are turned on, and the first complementary data line DQ
, DQ are transmitted to the first common data line pair CDLQ and CDLO. As a result, the differential bipolar transistor DQ1. DQ2 detects the potential change of its base electrode and supplies a detection output to the main amplifier MAI. The main amplifier MAI supplies read data RDO corresponding to the data stored in the memory cell MCO to its output.

一方、アドレスレジスタ(ADD−REG)6−3′に
格納されたアドレス信号に従うメモリセルを選択する場
合、上記アドレスデコーダ(D−DEC)は、アドレス
レジスタ6−3′から供給された内部アドレノ信号a 
d O−a d 7をデコードし、上記内部アドレス信
号a d O−a d 7に従う1つの第2ワード線、
たとえば第2ワード線WO及び第2カラム選択線YQ’
〜Y3’の内の1つ、たとえば、第2カラム選択線Y3
’をそれぞれ選択レベルとすることKよってメモリセル
MC3を選択状態とする。上記選択状態とされたメモリ
セルMC3からデータを読み出す場合には、メモリセル
MC3のデータが第2相補データ線対D3’  、D3
’  、ON状態とされたカラムスイッチMO8FET
 C83’  、C8a’のソースドレインバス、第2
コモンf −夕線対CD L O’ 。
On the other hand, when selecting a memory cell according to the address signal stored in the address register (ADD-REG) 6-3', the address decoder (D-DEC) receives the internal address signal supplied from the address register 6-3'. a
one second word line decoding d O-a d 7 and following said internal address signal a d O-a d 7;
For example, the second word line WO and the second column selection line YQ'
~Y3', for example, the second column selection line Y3
By setting K to the selection level, respectively, the memory cell MC3 is brought into the selected state. When reading data from the selected memory cell MC3, the data of the memory cell MC3 is transferred to the second complementary data line pair D3', D3.
' , column switch MO8FET turned ON
C83', source drain bus of C8a', second
Common f-evening line pair CD L O'.

CDLO’を介して、差動バイポーラトランジスタDQ
3 、DQ4のベースに伝達される。リード動作の場合
ハイレベルの内部リード制御信号Rが上記スイッチMO
8FET 8Wのゲートに供給されるので、電流源MO
8FETC8M2は差動バイポーラトランジスタDQ3
 、DQ4に動作電流を供給している状態にあるっその
ため、上記差動バイポーラトランジスタDQ3 、DQ
4はそのベースの電位変化を検出し、メインアンプMA
2の入力に検出出力を供給する。メインアンプMA2は
それに応答して、その出力から上記メモリセルMC3に
ストアされたデータに対応するリードデータRDQ’を
供給する。一方、上記選択状態とされたメモリセルMC
3のデータが書き換えられる場合、上記メモリセルMC
3にストアされるべきデータRWoは、上記ライトパル
スφWRによって活性化状態とされたライトアンプWA
によって、第2共通データ線対CDLO’、C1)LO
oへ伝達される。したがって、上記第2共通データ線対
CDLO’  、CDLO’の電位は、上記データ搏W
Oに対応してハイレベル及びローレベル又はローレベル
及びハイレベルにされる。上記第2共通データ線対CD
LO’  、CDLO’の電位差は、上記カラムスイッ
チMO8F’ET C83’ 、C83’のソースドレ
インパス、第2相補データ線対D3’。
Through CDLO', differential bipolar transistor DQ
3, transmitted to the base of DQ4. In the case of a read operation, a high level internal read control signal R is sent to the switch MO.
Since it is supplied to the gate of 8FET 8W, the current source MO
8FETC8M2 is a differential bipolar transistor DQ3
, DQ4, the differential bipolar transistors DQ3, DQ
4 detects the potential change of the base and connects the main amplifier MA.
The detection output is supplied to the input of 2. In response, main amplifier MA2 supplies read data RDQ' corresponding to the data stored in the memory cell MC3 from its output. On the other hand, the memory cell MC brought into the selected state
When the data of 3 is rewritten, the memory cell MC
The data RWo to be stored in the write amplifier WA activated by the write pulse φWR is
Accordingly, the second common data line pair CDLO', C1) LO
transmitted to o. Therefore, the potential of the second common data line pair CDLO', CDLO' is the same as the potential of the second common data line pair CDLO', CDLO'.
It is set to high level and low level or low level and high level corresponding to O. Said second common data line pair CD
The potential difference between LO' and CDLO' is the source/drain path of the column switch MO8F'ET C83', C83', and the second complementary data line pair D3'.

D3”を介して、上記メモリセルMC3に伝達される。D3'' is transmitted to the memory cell MC3.

それによって、上記データRWOK対応したデータが、
上記メモリセルMC3に記憶される。
As a result, the data corresponding to the above data RWOK becomes
It is stored in the memory cell MC3.

すなわち、メモリセルMC3のデータが書換えられる。That is, the data in memory cell MC3 is rewritten.

第9図(5)は、上記ピクセルデータデコーダ(p−D
EC)6−4の一部分の回路図を示している。
FIG. 9(5) shows the pixel data decoder (p-D
EC) 6-4 shows a partial circuit diagram.

図示の回路は、同図から理解されるように、上記カラム
スイッチ選択線YO、Yl 、Y2 、Y3を駆動する
ところのカラムデコーダに対応する。同図において、出
力段に黒いマークが付された論理回路記号は、バイポー
ラ・CMOS回路BCLとされる。第9図(B)には上
記カラムデコーダを構成するバイポーラ・0MO8型の
2人力NAND回路の論理記号及び等価回路図が示され
る、第9図(5)かられかるように、カラムデコーダは
、12個のバイポーラ・CMOS回路BCLO〜BCL
I 1を含む。8個のバイポーラ・CMOS回路BCL
O〜BCL8の入力には、アドレスラッチ回路(ADD
−LATCH)から供給された内部相補アドレス信号p
do、pdQ〜pd3.pd3が印加される。各々のバ
イポーラ・0M08回路は第9図(E9に示されるよう
KpチャネルMO8FETMP20.MP21.Nチャ
ネルMO8FETMn20〜M n 24及び一対の出
力NPNバイポーラトランジスタQn 10 、 Qn
 11から構成される。図示されないビクセルデータデ
コーダ(P−DEC)6−4のローデコーダもバイポー
ラ・0M08回路によって構成される、このように、高
速側の周辺回路6−4は、その構成要素である回路ユニ
ットがバイポーラ・CMOS複合型の論理回路すなわち
Bi−cMos論理回路BCLによって構成されている
As can be understood from the figure, the illustrated circuit corresponds to a column decoder that drives the column switch selection lines YO, Yl, Y2, and Y3. In the figure, the logic circuit symbol whose output stage is marked with a black mark is a bipolar CMOS circuit BCL. FIG. 9(B) shows the logic symbol and equivalent circuit diagram of the bipolar 0MO8 type two-man power NAND circuit that constitutes the column decoder. As seen from FIG. 9(5), the column decoder is as follows: 12 bipolar CMOS circuits BCLO to BCL
Contains I1. 8 bipolar CMOS circuits BCL
An address latch circuit (ADD) is connected to the inputs of O to BCL8.
-LATCH) internal complementary address signal p supplied from
do, pdQ to pd3. pd3 is applied. Each bipolar 0M08 circuit consists of a Kp channel MO8FET MP20.MP21.N channel MO8FET Mn20-Mn24 and a pair of output NPN bipolar transistors Qn10, Qn as shown in FIG. 9 (E9).
It consists of 11 parts. The row decoder of the pixel data decoder (P-DEC) 6-4 (not shown) is also configured by a bipolar 0M08 circuit.In this way, the high-speed side peripheral circuit 6-4 has circuit units that are bipolar components. It is constituted by a CMOS composite type logic circuit, that is, a Bi-cMOS logic circuit BCL.

第10図(5)は、上記アドレスデコーダ(D−DEC
)6−4°の一部分の回路図を示している。
FIG. 10 (5) shows the address decoder (D-DEC).
) shows a circuit diagram of a part of 6-4°.

図示の回路は、上記カラムスイッチ選択線YO’。The illustrated circuit is the column switch selection line YO'.

Yl’  、Y2’  、Y3’を駆動するところのカ
ラムデコーダに対応する。このカラムデコーダは、内部
相補アドレスado、ado−ad3.ad3を受ける
8個のCMOS型NAND回路CMOS゜〜CMOS7
及び上記CMOS型O8力NAND回路CMOSO−0
MO87の出力を受ける4個のCMOS型O8力NAN
D回路CMOS8〜CMOS11を含む。第101但)
には、上記CMOS型O8力NAND回路の論理回路記
号と、それに対応する等価回路図が示されている。この
様に、CMOS型O8力NAND回路は、P M OS
FETMI)30.Mp31.及びNMO8FETMn
30.Mn31から構成される。図示されないアドレス
デコーダ(D−DEC) 6−4’のローデコーダも上
記同様CMOS論理回路で構成される。このように、低
速側の周辺回路6−4゛は、その構成要素である回路ユ
ニットが純CMOS型の論理回路によって構成されてい
る。
This corresponds to a column decoder that drives Yl', Y2', and Y3'. This column decoder has internal complementary addresses ado, ado-ad3 . 8 CMOS type NAND circuits receiving ad3 CMOS゜~CMOS7
and the above CMOS type O8 power NAND circuit CMOSO-0
4 CMOS type O8 power NAN receiving the output of MO87
Includes D circuits CMOS8 to CMOS11. No. 101)
shows the logic circuit symbol of the CMOS type O8 NAND circuit and its corresponding equivalent circuit diagram. In this way, the CMOS type O8 power NAND circuit is
FETMI)30. Mp31. and NMO8FETMn
30. It is composed of Mn31. The row decoder of the address decoder (D-DEC) 6-4', which is not shown, is also constructed of a CMOS logic circuit in the same manner as described above. In this way, the low-speed side peripheral circuit 6-4' has its component circuit units constructed from pure CMOS type logic circuits.

第11図は上記記憶セルMCO〜MC25501つの具
体的回路構成を示している。
FIG. 11 shows a specific circuit configuration of one of the memory cells MCO to MC2550.

同図に示すように、スタティック型の記憶セルMCは、
nチャンネルMO8)ランジスタM n 10 +Mn
11とポリシリコンからなる負荷抵抗RIO。
As shown in the figure, the static type memory cell MC is
n-channel MO8) transistor M n 10 + Mn
11 and a load resistor RIO made of polysilicon.

R11による1つ保持回路部に対し、2組のトランスフ
ァゲートMOSトランジスタMn 12 。
Two sets of transfer gate MOS transistors Mn 12 are provided for one holding circuit section formed by R11.

Mn13とMn12’  、Mn13’を有する。一方
のトランスファゲートMO8)ランジスタM n12、
Mn13は高速側のワードmWを介してオン・オフ制御
される。このトランスファゲートMOSトランジスタM
n12.Mn13および高速側データ#JDを介して、
記憶データの読出/書込が行なわれる。また、他方のト
ランスファゲートMO8)ランジスタMn 12’  
+ Mn 13’は低速側のワード線W゛を介してオン
・オフ制御される。このトランスファゲートMOSトラ
ンジスタMn 12’ 、 Mn 13’および低速側
データ線D’を介して、記憶データの読出/書込が行な
われる。
It has Mn13, Mn12', and Mn13'. One transfer gate MO8) transistor M n12,
Mn13 is controlled on/off via the word mW on the high speed side. This transfer gate MOS transistor M
n12. Via Mn13 and high speed side data #JD,
Reading/writing of stored data is performed. In addition, the other transfer gate MO8) transistor Mn12'
+Mn 13' is controlled on/off via the low-speed side word line W'. Reading/writing of stored data is performed via transfer gate MOS transistors Mn 12', Mn 13' and low-speed side data line D'.

尚、同図に示されたメモリセルの高抵抗値の負荷抵抗R
1O、R11は、pチャネルMO8FETに変更されて
も良い。その場合、メモリセルMCは一般的なCMOS
型スタテスタティックメモリセルる。
Note that the load resistance R of the memory cell shown in the same figure has a high resistance value.
1O and R11 may be changed to p-channel MO8FETs. In that case, the memory cell MC is a general CMOS
Type static memory cell.

第12図は、第8図のメインアンプMA1を示し、第1
3図はメインアンプMAI’を示している。
FIG. 12 shows the main amplifier MA1 of FIG.
Figure 3 shows the main amplifier MAI'.

第12図に示されるようにメインアンプMA1は、定電
i源用のNMO8FETM100−M2O3を含み、そ
れらのゲートには定電圧Vcsが印加。
As shown in FIG. 12, the main amplifier MA1 includes NMO8FETM100-M2O3 for a constant voltage i source, and a constant voltage Vcs is applied to their gates.

される。ペース接地トランジスタBQ、Blのそれぞれ
のエミッタは、上記差動バイポーラトランジスタDQI
 、DQ2のコレクタCI、CIが接続され、コレクタ
C1,C1から供給される検出出力を増幅する。上記ト
ランジスタBo 、BlのコレクタとVcc端子との間
には、負荷MO8FETM107.M108.及びレベ
ルクランプ用のダイオード接続されたバイポーラトラン
ジスタB3 、B4が並列接続される。また、上記トラ
ンジスタBO、Blの共通ペースとVcc端子との間に
も、ダイオード接続されたバイポーラトランジスタB2
が設けられ、差動バイポーラトランジスタDQ1.DQ
2のコレクタCI 、CIの電位をVCCT2VBEの
値にクランプする。したがって、バイアス回路BC及び
上記バイポーラトランジスタBO,Bl、B2によって
、差動バイポーラトランジスタDQI、DQ2の飽和が
防止される。バイポーラトランジスタBo 、Blのコ
レクタはそれぞれエミッタフォロワートランジスタB5
゜B6のペースに入力される。エミッタフォロワートラ
ンジスタB5 、B5の出力は、ランチ回路に入力され
る。ラッチ回路はバイポーラトランジスタB7〜B15
及び抵抗R100〜R103で構成されており、クロッ
ク信号CLKのハイレベルによってエミッタフォロワー
トランジスタB5゜B6の出力を取り込み、クロック信
号CLKのハイレベルによって、エミッタフォロワート
ランジスタB5 、B6の出力を保持する。トランジス
タB7 、B8は入力トランジスタとされトランジスタ
Bllがクロック信号CLKによってオン状態とされる
とき、エミッタフォロワートランジスタB14.B15
のペースに出力信号を供給する。
be done. The emitters of each of the grounded space transistors BQ and Bl are connected to the differential bipolar transistor DQI.
, DQ2 are connected to each other, and the detection outputs supplied from the collectors C1 and C1 are amplified. Between the collectors of the transistors Bo and Bl and the Vcc terminal, a load MO8FETM107. M108. and diode-connected bipolar transistors B3 and B4 for level clamping are connected in parallel. A diode-connected bipolar transistor B2 is also connected between the common space of the transistors BO and Bl and the Vcc terminal.
are provided, and differential bipolar transistors DQ1 . DQ
The potential of collector CI2 and CI is clamped to the value of VCCT2VBE. Therefore, the bias circuit BC and the bipolar transistors BO, Bl, and B2 prevent saturation of the differential bipolar transistors DQI and DQ2. The collectors of bipolar transistors Bo and Bl are each emitter follower transistor B5
゜It is input to the pace of B6. The outputs of the emitter follower transistors B5, B5 are input to the launch circuit. The latch circuit is made of bipolar transistors B7 to B15.
and resistors R100 to R103, and receives the output of the emitter follower transistors B5 and B6 when the clock signal CLK is at a high level, and holds the outputs of the emitter follower transistors B5 and B6 when the clock signal CLK is at a high level. Transistors B7 and B8 are input transistors, and when transistor Bll is turned on by clock signal CLK, emitter follower transistors B14 . B15
provides an output signal to the pace of.

トランジスタB14.B15のエミッタ出力はトランジ
スタBI O、B9のペースにそれぞれ帰還される。そ
の後、トランジスタB11がクロックCLKのローレベ
ルでオフ状態とされ代って、トランジスタB12がクロ
ックCLKのハイレベルでオン状態とされることによっ
て、データを保持する。尚、トランジスタB13は電流
源とされ、そのペースに定電圧VRを印加させられる。
Transistor B14. The emitter output of B15 is fed back to the transistors BIO and B9, respectively. Thereafter, the transistor B11 is turned off by the low level of the clock CLK, and the transistor B12 is turned on by the high level of the clock CLK, thereby holding data. Note that the transistor B13 is used as a current source, and a constant voltage VR is applied to the current source.

そして上記ラッチ回路で保持されたデータは、次段のM
O8FETM109〜M112で構成されたECL−C
MOSレベル変換回路によってECLレベルから0MO
8レベルの出力信号に変換されてリードデータ几DOと
される。
The data held in the latch circuit is transferred to the next stage M
ECL-C composed of O8FETM109 to M112
0MO from ECL level by MOS level conversion circuit
It is converted into an 8-level output signal and used as read data DO.

第13図に示されるメインアンプMAI’は、リード信
号Rがハイレベルとされるときのみオン状態とされる電
流源用MO8FET M2O0〜M2O6と常にオン状
態とされる電流源用MO8FETM207を含む。尚、
上記メインアンプMALと同等なトランジスタは同一の
参照番号が付されるとともに、それらについては説明さ
れない。第12図との相違点は、エミッタ7オロワート
ランジスタB5 、B6のエミッタに接続されたダイオ
ードDI、D2及びそれらダイオードD1゜D2の出力
に第20差動センス回路が接続された点である。第2の
差動センス回路は、差動バイポーラトランジスタB20
.B21.上記トランジスタB20.B21のコレクタ
とVcc端子の間に接続されたダイオード接続されたM
O8FETM208.M2O9及びレベルクランプ用の
ダイオードD3〜D6から構成される。上記ダイオード
D3〜D6は、差動トランジスタのコレクタ電位をその
ペース電位以上にクランプすることによって、差動トラ
ンジスタB20.B21の飽和を防止する。
The main amplifier MAI' shown in FIG. 13 includes current source MO8FETs M2O0 to M2O6 that are turned on only when the read signal R is at a high level, and a current source MO8FET M207 that is always turned on. still,
Transistors equivalent to the main amplifier MAL described above are given the same reference numerals and will not be described. The difference from FIG. 12 is that diodes DI and D2 are connected to the emitters of emitter 7 lower transistors B5 and B6, and a 20th differential sense circuit is connected to the outputs of these diodes D1 and D2. The second differential sense circuit includes a differential bipolar transistor B20
.. B21. Said transistor B20. Diode-connected M connected between the collector of B21 and the Vcc terminal
O8FETM208. It is composed of M2O9 and level clamp diodes D3 to D6. The diodes D3-D6 clamp the collector potentials of the differential transistors above their pace potential, so that the differential transistors B20. Prevents B21 saturation.

第14図は、第8図のバイアス回路BClc印加される
コモンデータ線バイアス電位VCDBの発生回路を示し
、第15図は、電流源用の定電圧Vcsの発生回路を示
す。
FIG. 14 shows a generating circuit for the common data line bias potential VCDB applied to the bias circuit BClc of FIG. 8, and FIG. 15 shows a generating circuit for the constant voltage Vcs for the current source.

VCDB発生回路は、第14図に示されるように、PM
O8FET M3O0、M301 、NMO8FETM
302〜M305及びバイポーラトランジスタB50−
832によって構成される。
The VCDB generation circuit, as shown in FIG.
O8FET M3O0, M301, NMO8FETM
302-M305 and bipolar transistor B50-
832.

Vcs発生回路は、第15図に示されるように、PMO
8FETM400 、NMO8FETM401゜M4O
2,及びバイポーラトランジスタB40゜B41によっ
て構成されるつ尚上記vcoa及びVcs発生回路動作
は尚業者によって容易に理解されると思われるので説明
されない。
The Vcs generation circuit, as shown in FIG.
8FETM400, NMO8FETM401゜M4O
2, and bipolar transistors B40 and B41.The operation of the above vcoa and Vcs generation circuit will not be explained as it is believed to be easily understood by those skilled in the art.

第16図は、第7図を単純化して示したものであり、簡
単にその動作が説明される。
FIG. 16 is a simplified version of FIG. 7, and its operation will be briefly explained.

高速側入力回路6−3には、フレームバッファメモリ6
−5等からアドレス入力データ(画素データ)が高速の
基準クロックに同期して入力される。また、低速側入力
回路6−3°には、マイクロプロセッサ6−5′側から
書込データおよびアドレスが比較的低速の基準クロック
に同期して入力される。この2系統の入力によってメモ
リアレイ6−1がアクセスされる。このアクセスによっ
てメモリアレイ6−1から読み出された記憶データすな
わちデジタル画像信号は、アナログ部13−2ODA変
換器6−7でアナログ画像信号に変換されて出力される
。このようにして出力されるアナログ画像信号V0によ
って、カラーCRTにカラー画像を表示させることがで
きる。尚、6−2は高速周辺回路、6−2’は低速周辺
回路とされる。
The high-speed side input circuit 6-3 includes a frame buffer memory 6.
-5 etc., address input data (pixel data) is input in synchronization with a high-speed reference clock. Further, write data and addresses are inputted from the microprocessor 6-5' side to the low-speed side input circuit 6-3° in synchronization with a relatively low-speed reference clock. Memory array 6-1 is accessed by these two input systems. The stored data, that is, the digital image signal read out from the memory array 6-1 by this access, is converted into an analog image signal by the analog section 13-2 and the ODA converter 6-7, and is output. A color image can be displayed on a color CRT using the analog image signal V0 output in this manner. Note that 6-2 is a high-speed peripheral circuit, and 6-2' is a low-speed peripheral circuit.

第17図は、上記カラーパレットCPLTに同時選択禁
止回路11−1が付加した状態を示す。
FIG. 17 shows a state in which a simultaneous selection prohibition circuit 11-1 is added to the color palette CPLT.

尚アドレス信号の参照番号が相違しているiすれども同
一のものと理解されたい。
Although the reference numbers of the address signals are different, it should be understood that they are the same.

すなわち、高速側と低速側から同時にアドレス信号Ad
とAd”が入力されたときに、両アドレスAdとAd’
が共に同一記憶セルを選択するアドレスであるか否かを
判定し、同一記憶セルを選択すると判定した場合に、メ
モリアレイ6−1のデコーダ回路6−4.6−4’の選
択動作を禁止させる。
In other words, the address signal Ad is simultaneously applied from the high speed side and the low speed side.
and Ad' are input, both addresses Ad and Ad' are input.
It is determined whether both are addresses that select the same memory cell, and when it is determined that the same memory cell is selected, the selection operation of the decoder circuit 6-4, 6-4' of the memory array 6-1 is prohibited. let

この同時選択禁止回路11−1は、高速側アドレスAd
と低速側アドレスAd’の間で各ビット位置ごとに排他
的論理和をとるゲート11−2と各ビット位置ごとにと
られた排他的論理和の総論埋積をとるゲート11−3と
によって構成され、ゲート11−3の総論埋積出力が選
択禁止信号Inとしてデコーダ回路6−4.6−4°に
与えられる。デコーダ回路6−4.6−4’は、いずれ
かのデコード段における論理ゲートの論理入力数を1つ
増設し、この増設した論理入力に上記選択禁止信号In
を導入させることにより、同時選択時の選択動作が禁止
されるよ5になっている。
This simultaneous selection prohibition circuit 11-1 is configured to control the high-speed side address Ad.
It is composed of a gate 11-2 which performs an exclusive OR for each bit position between and a low-speed address Ad', and a gate 11-3 which performs a general summation of the exclusive OR taken for each bit position. The general logic output of the gate 11-3 is applied to the decoder circuit 6-4.6-4° as the selection inhibit signal In. In the decoder circuit 6-4, 6-4', the number of logic inputs of the logic gate in any decoding stage is increased by one, and the above-mentioned selection prohibition signal In is added to this added logic input.
By introducing 5, the selection operation at the time of simultaneous selection is prohibited.

この場合、上記選択禁止信号Inは、低速側と高速側の
両デコーダ回路6−4.6−4°に一緒に与えるように
してもよいが、例えば低速側のデコーダ6−4′だけに
与えて高速側のアドレスAdを優先させるようにしたり
、反対に、高速側のデコーダ6−4だけに与えて低速側
のアドレスAd’を優先させるようにしてもよい。
In this case, the selection prohibition signal In may be applied to both the low-speed side and high-speed side decoder circuits 6-4. Alternatively, it may be given only to the high-speed decoder 6-4 to give priority to the low-speed address Ad'.

以上のような同時選択禁止回路11−1によって、高速
側と低速側が同一記憶セルを同時に選択することにより
生じるかも知れない誤動作を確実に回避することができ
るようになる。
The simultaneous selection prohibition circuit 11-1 as described above makes it possible to reliably avoid malfunctions that may occur due to simultaneous selection of the same memory cell by the high-speed side and the low-speed side.

第18図は上記カラーパレットCPLTにテスト回路1
2−1.12−1’を内蔵させたものである。テスト回
路12−1.12−1’は、高速周辺回路6−2と低速
周辺回路6−2°とにそれぞれ独立して設けられている
。12−1は高速側の動作テストを行なうためのテスト
回路であって、例えばH4−CMOS論理回路のように
、高速動作に対応する回路構造を用いて構成されている
Figure 18 shows test circuit 1 on the color palette CPLT.
2-1.12-1' is built-in. The test circuits 12-1, 12-1' are provided independently in the high-speed peripheral circuit 6-2 and the low-speed peripheral circuit 6-2°. Reference numeral 12-1 is a test circuit for performing a high-speed operation test, and is constructed using a circuit structure compatible with high-speed operation, such as an H4-CMOS logic circuit, for example.

12−i’は低速側の動作テストを行なうためのテスト
回路であって、例えば純CMOS論理回路型のように、
低消費電力化および高集積化などに適した回路構造を用
いて構成されている。
12-i' is a test circuit for performing a low-speed operation test, such as a pure CMOS logic circuit type,
It is constructed using a circuit structure suitable for low power consumption and high integration.

以上のように、テスト回路12−1.12−1゜を動作
速度別に分けて内蔵させることにより、各速度での動作
テストをそれぞれ適正に行なうことができる。これとと
もに、高速側と低速側の2系統の動作テストを同時に行
なうことができるので、テスト時間の短縮が図れる。さ
らに、低速側と高速側の2系統の動作テストを互いに分
離して行なうことができるので、テストノ(ターンの作
成などが簡単になるという利点も得られるようになる。
As described above, by arranging the test circuits 12-1 and 12-1° separately for each operating speed, it is possible to appropriately perform an operating test at each speed. In addition, since the operation test of two systems, high-speed side and low-speed side, can be performed simultaneously, the test time can be shortened. Furthermore, since the operation tests of the two systems on the low-speed side and the high-speed side can be performed separately from each other, it is also possible to obtain the advantage that test patterns (turn creation, etc.) are simplified.

第19図は、上記カラーパレットCPLTにテスト回路
14−1.14−2を設けたものである。
FIG. 19 shows the above color palette CPLT provided with test circuits 14-1 and 14-2.

この場合、テスト回路14−1.14−2は、デジタル
部用テスト回路14−1と、アナログ部用テスト回路1
4−2とに分けて設けられている。
In this case, the test circuits 14-1 and 14-2 include the digital part test circuit 14-1 and the analog part test circuit 1.
4-2.

デジタル部用テスト回路14−1は、外部入力端子(図
示省略)から入力回路を介して与えられるテスト条件に
基づいて、高速および低速側デジタル部13−1のテス
トを行なう。アナログ部用テスト回路部14−2は、外
部入力端子8(図示省略)から与えられるテスト条件に
基づいて、アナログ部13−2のテストを行なう。
The digital section test circuit 14-1 tests the high-speed and low-speed side digital sections 13-1 based on test conditions applied from an external input terminal (not shown) via an input circuit. The analog section test circuit section 14-2 tests the analog section 13-2 based on test conditions given from the external input terminal 8 (not shown).

このように、デジタル部13−1とアナログ部13−2
のテストを別々のテスト回路14−1と14−2によっ
て行なわせることにより、第12図に示した実施例の場
合と同様に、テストパターン作成の簡略化およびテスト
の適正化による信頼性の向上といった効果が得られる。
In this way, the digital section 13-1 and the analog section 13-2
By having the tests performed by separate test circuits 14-1 and 14-2, reliability is improved by simplifying test pattern creation and optimizing the test, as in the case of the embodiment shown in FIG. This effect can be obtained.

第20図は本発明の第2実施例による半導体集積回路装
置の概略構成を示す。
FIG. 20 shows a schematic configuration of a semiconductor integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention.

同図に示す半導体集積回路装置IC2は、いわゆるマル
チボートRAMとして構成されたものであって、1つの
メモリアレイ6−1に対して2つの周辺回路6−2.6
−2’が同一半導体基板内に形成されている。一方の周
辺回路は高速側回路ブロック6−2によって構成され、
高速の基準クロックφ1で動作する外部システム6−5
からのアドレスA。−A、を入力回路6−3で受け、デ
コーダ回路6−4によって選択信号にデコードする。他
方の周辺回路6−2゛は低速側回路ブロックによって構
成され、比較的低速の基準クロックφ2で動作する外部
システム6−5″からのアドレスB0〜B、を入力回路
6−3′で受け、デコーダ回路6−4′によって選択信
号にデコードする。同図において、6−6は選択された
記憶セルから記憶情報を読み出すセンス回路、6−7は
センス回路6−6によって読み出された記憶データをア
ナログ化するDA変換器、6−8はアナログ化された記
憶データを表示するCRT表示器である。
The semiconductor integrated circuit device IC2 shown in the figure is configured as a so-called multi-board RAM, and includes two peripheral circuits 6-2.6 for one memory array 6-1.
-2' are formed within the same semiconductor substrate. One peripheral circuit is constituted by a high-speed side circuit block 6-2,
External system 6-5 operating with high-speed reference clock φ1
Address A from. -A is received by the input circuit 6-3 and decoded into a selection signal by the decoder circuit 6-4. The other peripheral circuit 6-2'' is constituted by a low-speed side circuit block, and receives addresses B0 to B from an external system 6-5'' that operates with a relatively low-speed reference clock φ2 at an input circuit 6-3'. It is decoded into a selection signal by a decoder circuit 6-4'.In the figure, 6-6 is a sense circuit that reads out stored information from a selected memory cell, and 6-7 is stored data read out by the sense circuit 6-6. 6-8 is a CRT display that displays the analog stored data.

以上のように、上述した第2実施例による半導体集積回
路装置IC2では、高速側回路ブロックと低速側回路ブ
ロックに加えて、両回路ブロックからアクセスされる共
通回路ブロック(メモリアレイ6−1)を有することを
特徴としている。これにより、低速側システムと高速側
システムとの連携が、外部インタフェイス装置を介さず
に、半導体集積回路装置内にて直接性なわれるようにな
って、効率の良いシステムの構築が可能になる。
As described above, in the semiconductor integrated circuit device IC2 according to the second embodiment described above, in addition to the high-speed side circuit block and the low-speed side circuit block, a common circuit block (memory array 6-1) accessed by both circuit blocks is provided. It is characterized by having This allows the low-speed system and high-speed system to be linked directly within the semiconductor integrated circuit device without going through an external interface device, making it possible to build an efficient system. .

尚、同図において、デコーダDEC6−4はFiG、9
(5)及び(坊に示される回路が、デコーダDEC6−
4’はF”iG、10(Al及び(Blに示される回路
が利用される。
In addition, in the same figure, the decoder DEC6-4 is FiG,9
(5) and (The circuit shown in the box is the decoder DEC6-
4' is F''iG, 10 (Al and (Bl) are used.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor.

例えば、高速側回路ブロックと低速側回路ブロックの他
に、両回路ブロックの中間の速度で動作する回路構造を
有する中速型回路ブロックを加える構成であってもよい
For example, in addition to the high-speed circuit block and the low-speed circuit block, a medium-speed circuit block having a circuit structure that operates at an intermediate speed between the two circuit blocks may be added.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるカラーパレット用マ
ルチボートRAMに適用した場合について説明したが、
それに限定されるものではなく、例えばマイクロプロセ
ッサあるいはゲートアレイなど忙も適用できる。
The above explanation has mainly been about the case where the invention made by the present inventor is applied to the multi-board RAM for color palettes, which is the field of application that formed the background of the invention.
The present invention is not limited thereto, and can also be applied to microprocessors or gate arrays, for example.

第6図に示される画像表示システムは、−例であって、
それに限定されるものではない。たとえば、CQ出版社
から1987年1月1日に発行された[トランジスタ技
術1月号]の402ページから420ページに開示され
るシステムを利用することができる。
The image display system shown in FIG. 6 is an example of:
It is not limited to that. For example, the system disclosed on pages 402 to 420 of [Transistor Technology January Issue] published by CQ Publishing on January 1, 1987 can be used.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、同一半導体集積回路装置内にて、同種の機能
をもつ回路ブロックを複数形成するとともに、同種の機
能を構成する複数の回路ブロックの回路構造をブロック
間で異ならせる構成によって、高速が要求される動作は
高速化に適した回路構造を有する回路ブロックに行なわ
せることができる一方、必ずしも高速化を要しない動作
は低消費電力化および高集積化に適した回路構造を有す
る回路ブロックに行なわせることができるため、複数の
速度環境をもつシステムあるいは装置を効率良く構成す
るとともに、高速を必要とするシステムあるいは装置の
構成を最適化することができる、という効果が得られる
That is, high speed is required by forming a plurality of circuit blocks with the same type of function in the same semiconductor integrated circuit device, and by making the circuit structures of the plurality of circuit blocks constituting the same type of function different between the blocks. Operations that require higher speeds can be performed by circuit blocks with circuit structures suitable for higher speeds, while operations that do not necessarily require higher speeds can be performed by circuit blocks with circuit structures suitable for lower power consumption and higher integration. Therefore, it is possible to efficiently configure a system or device having a plurality of speed environments, and to optimize the configuration of a system or device that requires high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の第1実施例による半導体集積回路装置
の概略構成を示す図、 第2図は低速側回路ブロックの構成要素である回路ユニ
ットの回路構造の一例を示す図、第3図は高速側回路ブ
ロックの構成要素である回路ユニットの回路構造の一例
を示す図、第4図は低速側回路ブロックの構成要素であ
る回路ユニットの回路構造の別の例を示す図、第5図は
高速側回路ブロックの構成要素である回路ユニットの回
路構造の別の例を示す図、第6図は本発明が用いられた
カラーパレットCPLTが利用される画像処理システム
の概略構成を示す図、 第7図は本発明のカラーパレッ)CPLTのブロック図
を示し、 第8図は本発明のカラーパレットCPLTのメモリアレ
イ及びその周辺回路図を示し、第9区間は第8図の半導
体集積回路装置に形成されている高速側デコーダ回路6
−4の構成例を部分的に示す図、 第9図(B)はBCL回路の具体的な回路図、第10区
内は第8図の半導体集積回路装置に形成されている低速
側デコーダ回路6−4”の構成例を部分的に示す図、 第10図(ト))は0M08回路の具体的な回路図、第
11図は第8図の記憶セルの(ロ)略図を示す図、第1
2図は、第8図の高速メインアンプMAIの回路図を示
し、 第13図は、第8図の低速メインアンズMAIの回路図
を示し、 第14図は、VCDB発生回路の回路図を示し、第15
図は、■C3発生回路の回路図を示し、第16図は第7
図を単純化してしめした概略構成を示す図、 第17図は本発明のカラーパレットCPLTに同時選択
禁止ブロック11−1を設けた場合の概略構成を示す図
、 第18図は本発明のカラーパレッlc:PLTにテスト
回路12−1 、12−1’を設けた場合の概略構成を
示す図、 第19図は本発明のカラーパレットCPLTにテスト回
路14−2 、14−2’を設けた場合の概略構成を示
す図、 第20図は、本発明のM2実施例で、本発明をデュアル
ポート)LAMに適用した場合のブロック図を示す。 ICI 、IC2・・・半導体集積回路装置、1−1〜
1−n・・・高速側回路ブロック、1−1′〜1−n′
パ低速側回路ブロック、6−1・・・メモリアレイ、6
−2・・・高速側周辺回路、6−2′・・・低速側周辺
回路、6−3・・・高速側入力回路、6−3゛・・・低
速側入力回路、6−4・・・高速側デコーダ回路、6−
4′・・・低速側デコーダ回路、W・・・高速側ワード
線、W′・・・低速側ワード線、D・・・高速側データ
線、D′・・・低速側データ線、11−1・・・同時選
択禁止回路、12−1・・・高速側テスト回路、12−
1′・・・低速側テスト回路、13−1・・・デジタル
部、13−2・・・アナログ部、14−1・・・デジタ
ル部用テスト回路、14−2・・・アナログ部用テスト
回路、CPLT・・・カラーパレットLSI。 第   1  図 第   4  図        第  5   図第
  6   図 第 70(A) 図 第70(B)図 合℃←0 第  18  図 第  19  図
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing an example of a circuit structure of a circuit unit that is a component of a low-speed side circuit block, and FIG. 4 is a diagram showing an example of the circuit structure of a circuit unit that is a component of the high-speed side circuit block, FIG. 4 is a diagram showing another example of the circuit structure of a circuit unit that is a component of the low-speed side circuit block, and FIG. 6 is a diagram showing another example of the circuit structure of a circuit unit that is a component of a high-speed side circuit block, FIG. 7 shows a block diagram of the color palette CPLT of the present invention, FIG. 8 shows a memory array and its peripheral circuit diagram of the color palette CPLT of the present invention, and the 9th section shows the semiconductor integrated circuit device of FIG. High-speed side decoder circuit 6 formed in
9 (B) is a specific circuit diagram of the BCL circuit, and the section 10 is a low-speed side decoder circuit formed in the semiconductor integrated circuit device of FIG. 8. 6-4"; FIG. 10 (g)) is a specific circuit diagram of the 0M08 circuit; FIG. 11 is a diagram (b) schematic diagram of the memory cell in FIG. 8; 1st
Figure 2 shows a circuit diagram of the high-speed main amplifier MAI in Figure 8, Figure 13 shows a circuit diagram of the low-speed main amplifier MAI in Figure 8, and Figure 14 shows a circuit diagram of the VCDB generation circuit. , 15th
The figure shows the circuit diagram of the C3 generation circuit, and Figure 16 shows the circuit diagram of the C3 generation circuit.
FIG. 17 is a diagram showing a schematic configuration when a simultaneous selection prohibition block 11-1 is provided in the color palette CPLT of the present invention; FIG. 18 is a diagram showing a schematic configuration of the color palette CPLT of the present invention; Palette lc: A diagram showing a schematic configuration when a PLT is provided with test circuits 12-1 and 12-1'. FIG. 19 shows a color palette CPLT of the present invention provided with test circuits 14-2 and 14-2' FIG. 20 is an M2 embodiment of the present invention, and is a block diagram when the present invention is applied to a dual-port LAM. ICI, IC2... semiconductor integrated circuit device, 1-1~
1-n...High-speed side circuit block, 1-1' to 1-n'
low speed side circuit block, 6-1... memory array, 6
-2...High-speed side peripheral circuit, 6-2'...Low-speed side peripheral circuit, 6-3...High-speed side input circuit, 6-3゛...Low-speed side input circuit, 6-4...・High-speed side decoder circuit, 6-
4'...Low speed side decoder circuit, W...High speed side word line, W'...Low speed side word line, D...High speed side data line, D'...Low speed side data line, 11- 1...Simultaneous selection prohibition circuit, 12-1...High speed side test circuit, 12-
1'...Low speed side test circuit, 13-1...Digital section, 13-2...Analog section, 14-1...Test circuit for digital section, 14-2...Test for analog section Circuit, CPLT...color palette LSI. Figure 1 Figure 4 Figure 5 Figure 6 Figure 70 (A) Figure 70 (B) ℃←0 Figure 18 Figure 19

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、同一半導体集積回路装置内にて、同種の機能を有す
る複数の回路ブロックが形成されるとともに、同種の機
能を構成する複数の回路ブロックがブロックごとに互い
に異なる回路構造によって構成されていることを特徴と
する半導体集積回路装置。 2、相対的に高速動作に適した回路構造を有する回路ブ
ロックと、相対的に低消費電力および高集積化に適した
回路構造を有する回路ブロックとがそれぞれ、同種の機
能を構成していることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の半導体集積回路装置。 3、同一半導体集積回路装置内にて、相対的に高速動作
に適した回路構造を有する高速側回路ブロックと、低消
費電力化および高集積化に適した回路構造を有する低速
側回路ブロックと、高速側回路ブロックと低速側回路ブ
ロックの両方からアクセスされる共通回路ブロックとが
形成されていることを特徴とする半導体集積回路装置。 4、高速側回路ブロックの回路構造と低速側回路ブロッ
クの回路構造の組み合せとして、高速側がバイポーラ・
CMOS複合論理回路であって、低速側が純CMOS論
理回路であることを特徴とする特許請求の範囲第3項記
載の半導体集積回路装置。 5、共通回路ブロックとしてメモリアレイが形成されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の半導
体集積回路装置。 6、同一半導体集積回路装置内にて、相対的に高速動作
に適した回路構造を有する高速側回路ブロックと、低消
費電力化および高集積化に適した回路構造を有する低速
側回路ブロックと、上記高速側回路ブロックと上記低速
側回路ブロックとをそれぞれ独立してテストする高速側
用テスト回路と低速側用テスト回路とを備えたことを特
徴とする半導体集積回路装置。
[Claims] 1. A plurality of circuit blocks having the same type of function are formed within the same semiconductor integrated circuit device, and the plurality of circuit blocks constituting the same type of function have different circuit structures for each block. A semiconductor integrated circuit device comprising: 2. A circuit block having a circuit structure suitable for relatively high-speed operation and a circuit block having a circuit structure suitable for relatively low power consumption and high integration each constitute the same type of function. Claim 1 characterized by
The semiconductor integrated circuit device described in . 3. Within the same semiconductor integrated circuit device, a high-speed side circuit block having a circuit structure suitable for relatively high-speed operation, and a low-speed side circuit block having a circuit structure suitable for low power consumption and high integration; A semiconductor integrated circuit device comprising a common circuit block that is accessed by both a high-speed circuit block and a low-speed circuit block. 4. As a combination of the circuit structure of the high-speed side circuit block and the circuit structure of the low-speed side circuit block, the high-speed side is bipolar.
4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 3, wherein the semiconductor integrated circuit device is a CMOS complex logic circuit, and the lower speed side is a pure CMOS logic circuit. 5. The semiconductor integrated circuit device according to claim 4, wherein a memory array is formed as a common circuit block. 6. Within the same semiconductor integrated circuit device, a high-speed side circuit block having a circuit structure suitable for relatively high-speed operation, and a low-speed side circuit block having a circuit structure suitable for low power consumption and high integration; A semiconductor integrated circuit device comprising a high-speed side test circuit and a low-speed side test circuit that independently test the high-speed side circuit block and the low-speed side circuit block, respectively.
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