JPH02298356A - Method and apparatus for regenerating catalyst - Google Patents

Method and apparatus for regenerating catalyst

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JPH02298356A
JPH02298356A JP11693889A JP11693889A JPH02298356A JP H02298356 A JPH02298356 A JP H02298356A JP 11693889 A JP11693889 A JP 11693889A JP 11693889 A JP11693889 A JP 11693889A JP H02298356 A JPH02298356 A JP H02298356A
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JP
Japan
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processing chamber
catalyst
processing
gas
flow section
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Pending
Application number
JP11693889A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Tamayama
玉山 昌顕
Junichi Takano
純一 高野
Hiroyuki Ozaki
尾崎 広行
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KASHIMA ENG KK
SOFUTAADE KOGYO KK
Original Assignee
KASHIMA ENG KK
SOFUTAADE KOGYO KK
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Publication date
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  • Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)

Abstract

PURPOSE:To efficiently regenerate a catalyst by a method wherein a waste catalyst is allowed to fall in the porous fluidizing part in the first-third treatment chambers under gravity and treatment gases are allowed to flow through the respective treatment chambers to successively remove an oil component, a sulfur component and a carbon component. CONSTITUTION:A waste catalyst 1 is allowed to fall through the porous fluidizing part in the first treatment chamber 11 under gravity and passed so as to traverse the fluidizing part 21 while oxygen with concn. of 3% or less is allowed to flow through the treatment chamber 11 at 200-380 deg.C to remove an oil component. Next, the waste catalyst 1 is allowed to fall through the porous fluidizing part 37 in the second treatment chamber 12 continuing to the treatment chamber 11 under gravity and passed so as to cross the fluidizing part 37 while oxygen with concn. of 1.0-5.0% is allowed to flow through the treatment chamber 12 at 300-450 deg.C to remove a sulfur component. Subsequently, the waste catalyst 1 is allowed to fall through the porous fluidizing part 48 in the third treatment chamber 13 continuing to the treatment chamber 12 under gravity and passed so as to cross the fluidizing part 38 while oxygen with concn. of 2.0-10% is allowed to flow through the treatment chamber 13 at 350-600 deg.C to remove a carbon component.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野J 本発明は、石油精製工業、石油化学工業等において用い
られる触媒の再生方法及びその装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application J] The present invention relates to a method and apparatus for regenerating a catalyst used in the oil refining industry, petrochemical industry, etc.

[背景技術1 例えば、石油精製工業において、水素処理を目的として
ニッケル、コバルト、モリブデン等の触媒が使用されて
いる。これらの触媒は、使用時間が増すとともに、その
表面に石油中の不純物である硫黄分や炭素分が付着して
触媒活性が低下してゆく、従って、ある程度活性の低下
した触媒は、活性を取り戻すための再生処理が必要にな
る。この触媒の再生処理方法は、触媒が反応装置内に充
填されたまま行う装置内再生と、活性の低下した廃触媒
を反応装置から抜き出し、専用の再生装置を使用して行
う装置外再生とに大別される。
[Background Art 1] For example, in the petroleum refining industry, catalysts such as nickel, cobalt, and molybdenum are used for hydrogen treatment. As the usage time of these catalysts increases, sulfur and carbon content, which are impurities in petroleum, adhere to the surface of these catalysts, and their catalytic activity decreases.Therefore, catalysts whose activity has decreased to some extent may regain their activity. Therefore, regeneration processing is required. This catalyst regeneration treatment method consists of in-device regeneration, which is carried out while the catalyst remains in the reactor, and out-of-device regeneration, which is carried out by extracting the spent catalyst whose activity has decreased from the reactor and using a dedicated regenerator. Broadly classified.

装置内再生法によれば、触媒を抜き出す手間は省けるが
、再生に時間がかかる上、再生処理中その触媒が充填さ
れた反応装置を使用することができず、また適当なサン
プリング手段が設けられていないため、再生状態を的確
に制御することができないという欠点が伴う、一方、装
置外再生によれば、費用はかかるが、専用の再生装置を
使用しているので、時間が短くて済み、また付設のサン
プリング手段により再生状態を的確に制御することがで
きる。
Although the in-device regeneration method saves the effort of extracting the catalyst, it takes time to regenerate, the reactor filled with the catalyst cannot be used during the regeneration process, and appropriate sampling means are not provided. On the other hand, external playback is expensive but takes less time because it uses a dedicated playback device. Furthermore, the reproduction state can be precisely controlled by the attached sampling means.

そこで、従来、装置外再生のための各種の触媒再生装置
が提案されている。
Therefore, conventionally, various catalyst regeneration devices for external regeneration have been proposed.

例えば、特開昭59−213444号公報によれば、振
動式コンベア又は回転式炉を使用することにより、廃触
媒を細長い部屋の内部を連続的に進行させると共に、そ
の廃触媒の加熱を電磁波で行うようにした固体触媒の活
性化、再活性化又は再生方法及びその装置が開示されて
いる。また、特開昭60−48149号公報によれば、
多孔金属からなるロータリーキルンの内周壁にその回転
により一例端部側から他側端部側への搬送力を与える方
向の螺旋状通路を形成すると共に、ロータリーキルン内
を複数の室に画成し、且つ各室に処理用ガスをロータリ
ーキルン壁を貫通して経由させる処理用ガス通路をロー
タリーキルンの外側に接続して設けたことを特徴とする
触媒再生装置が開示されている。更に、特開昭60−9
4145号公報によれば、処理ガス中の酸素含有量と処
理温度を制御しながら廃触媒中の炭素と硫黄化合物を段
階的に燃焼除去する連続式触媒再生方法が開示され、こ
のための装置には触媒の移動に回転トレー、回転ねしコ
ンベヤ又はベルトコンベヤが使用される。
For example, according to Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-213444, by using a vibrating conveyor or a rotary furnace, the waste catalyst is continuously moved inside a long and narrow chamber, and the waste catalyst is heated by electromagnetic waves. A method for activating, reactivating or regenerating a solid catalyst and an apparatus therefor are disclosed. Also, according to Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-48149,
A spiral passage is formed in the inner circumferential wall of the rotary kiln made of porous metal in a direction that applies a conveying force from one end to the other end by rotation thereof, and the inside of the rotary kiln is defined into a plurality of chambers. A catalyst regeneration device is disclosed in which a processing gas passage is connected to the outside of the rotary kiln and is provided in each chamber through which processing gas passes through the wall of the rotary kiln. Furthermore, JP-A-60-9
According to Publication No. 4145, a continuous catalyst regeneration method is disclosed in which carbon and sulfur compounds in a waste catalyst are burned and removed in stages while controlling the oxygen content in the processing gas and the processing temperature, and an apparatus for this purpose is disclosed. A rotating tray, rotating conveyor or belt conveyor is used to move the catalyst.

[発明が解決しようとする課題1 上述した特開昭59−213444号公報等に係る従来
の触媒再生方法及び装置によれば、再生装置内の廃触媒
の移送に振動式コンベア、ロータリーキルン、回転トレ
ー等を使用しているため、装置が複雑になると共に、稼
働コストが嵩むという欠点が生じていた。
[Problem to be Solved by the Invention 1] According to the conventional catalyst regeneration method and apparatus disclosed in JP-A-59-213444, etc., a vibrating conveyor, a rotary kiln, and a rotary tray are used to transfer the waste catalyst in the regenerator. etc., the device becomes complicated and the operating cost increases.

本発明は、効率的に実施することができる触媒の再生方
法及びその装置を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a catalyst regeneration method and apparatus that can be carried out efficiently.

[課題を解決するための手段] 本発明に係る触媒の再生方法は、廃触媒を第一処理室内
の多孔状流通部中を重力で降下させ、この第一処理室内
に処理ガスを流しながら、前記多孔状流通部を横切るよ
うに通過させて油分を除去する工程と、前記廃触媒を前
記第一処理室と連続する第二処理室の多孔状流通部中を
重力で降下させ、この第二処理室内に処理ガスを流しな
がら、前記多孔状流通部を横切るように通過させて硫黄
分を除去する工程と、前記廃触媒を前記第二処理室と連
続する第三処理室の多孔状流通部中を重力で降下させ、
この第三処理室内に処理ガスを流しながら、前記多孔状
流通部を横切るように通過させて炭素分を除去する工程
とを設けたことを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] The method for regenerating a catalyst according to the present invention includes lowering the spent catalyst by gravity through a porous flow section in a first processing chamber, and flowing a processing gas into the first processing chamber. removing oil by passing the waste catalyst across the porous flow section; lowering the waste catalyst by gravity through the porous flow section of a second processing chamber that is continuous with the first processing chamber; a step of removing sulfur by passing the processing gas across the porous flow section while flowing it into the processing chamber; and a porous flow section of a third processing chamber that connects the waste catalyst with the second processing chamber. The inside is lowered by gravity,
The third processing chamber is characterized by a step of removing carbon by passing the processing gas across the porous flow section while flowing the processing gas into the third processing chamber.

この触媒の再生方法において、第一処理室内に導入する
処理ガスは、その温度を200〜380℃、酸素濃度を
3%以下とするのがよい、温度を200°C未満とする
と油分の除去が不充分となり、380℃を越すと発火の
虞れが生じる。また、酸素濃度が3%を越すと発火し易
くなる。第二処理室内に導入する処理ガスは、その温度
を300〜450℃、酸素濃度を1.0〜5.0%とす
るのがよい、温度を300 ”C未満とすると硫黄分の
燃焼除去が不充分となり、450°Cを越すと必要以上
に加熱することになる。また、酸素濃度を1゜0%より
薄くすると燃焼しにくくなり、5.0%より濃くすると
燃焼しすぎて室内が過度に高温になる。第三処理室内に
導入する処理ガスは、その温度を350〜600℃、酸
素濃度を2.0〜1O1O%とするのがよい、温度を3
50度未満とすると炭素の燃焼除去が不充分となり、6
00 ’Cを越えると触媒活性が低下する。酸素濃度を
2゜0%より薄くすると炭素が燃焼しにくくなり、10
.0%より濃くすると燃焼しすぎて室内が過度に高温に
なる。
In this catalyst regeneration method, the temperature of the processing gas introduced into the first processing chamber is preferably 200 to 380°C, and the oxygen concentration is 3% or less. If the temperature is less than 200°C, oil removal is difficult. If the temperature is insufficient and the temperature exceeds 380°C, there is a risk of ignition. Moreover, if the oxygen concentration exceeds 3%, it becomes easy to ignite. The processing gas introduced into the second processing chamber should preferably have a temperature of 300 to 450°C and an oxygen concentration of 1.0 to 5.0%. If the temperature is less than 300"C, the sulfur content will be removed by combustion. If the oxygen concentration exceeds 450°C, it will be heated more than necessary.Also, if the oxygen concentration is less than 1.0%, it will be difficult to burn, and if it is more than 5.0%, it will burn too much and the room will become overheated. The processing gas introduced into the third processing chamber should preferably have a temperature of 350 to 600°C and an oxygen concentration of 2.0 to 10%.
If the temperature is less than 50 degrees, combustion and removal of carbon will be insufficient, and 6
When the temperature exceeds 00'C, the catalyst activity decreases. When the oxygen concentration is lower than 2.0%, carbon becomes difficult to burn, and 10%
.. If it is more concentrated than 0%, it will burn too much and the temperature inside the room will become excessively high.

この触媒の再生方法において、第一処理室〜第三処理室
における触媒の再生工程に加えて、前記廃触媒を前記第
三処理室と連続する第四処理室の多孔状流通部中を重力
で降下させ、この第四処理室内に処理ガスを流しながら
、前記多孔状流通部を横切るように通過させて残存炭素
分を完全に除去する工程を設けることができる。
In this catalyst regeneration method, in addition to the catalyst regeneration process in the first to third processing chambers, the spent catalyst is passed by gravity through a porous flow section in a fourth processing chamber that is continuous with the third processing chamber. A step may be provided in which the remaining carbon content is completely removed by lowering the processing gas and passing it across the porous flow section while flowing the processing gas into the fourth processing chamber.

この際、第四処理室内に導入する処理ガスは、その温度
を450〜600℃、酸素濃度を3.0〜10.0%と
するのがよい、この第四処理室は、第三処理室における
炭素分の除去が不充分な場合の処理のためのものである
から、温度及び酸素濃度を少なくとも第三処理室の温度
及び酸素fA慶より高めとする必要がある。
At this time, it is preferable that the processing gas introduced into the fourth processing chamber has a temperature of 450 to 600°C and an oxygen concentration of 3.0 to 10.0%. Since this treatment is for a case where carbon content is insufficiently removed in the third treatment chamber, the temperature and oxygen concentration must be higher than at least the temperature and oxygen concentration in the third treatment chamber.

また、この触媒の再生方法を実施するための再生装置は
、廃触媒中の油分を除去する第一処理室と、硫黄分を除
去する第二処理室と、炭素分を除去する第三処理室とを
鉛直方向に連結して設け、各処理室内に廃触媒が降下す
る多孔状流通部と処理ガス流通部を設けると共に、各処
理室にこの多孔状流通部を処理ガスが横切るように処理
ガス導入口と処理ガス排出口を設けたことをvf徹とす
る。
In addition, the regeneration device for carrying out this catalyst regeneration method consists of a first treatment chamber for removing oil from the spent catalyst, a second treatment chamber for removing sulfur, and a third treatment chamber for removing carbon. A porous flow section through which the waste catalyst descends and a processing gas flow section are provided in each processing chamber. The provision of an inlet and a processing gas outlet is considered to be vf.

この触媒の再生装置において、前記第三処理室の後に更
に炭素分を除去する第四処理室を鉛直方向に連結して設
けることができる。
In this catalyst regeneration device, a fourth processing chamber for further removing carbon content can be provided after the third processing chamber and connected in the vertical direction.

[実施例] 図面を参照して本発明に係る触媒再生装置の一実施例を
説明する。なお、ここで再生する廃触媒は、石油精製プ
ラントにおいて水素処理のために使用されたものである
[Example] An example of a catalyst regeneration device according to the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the waste catalyst regenerated here is one that has been used for hydrogen treatment in an oil refinery plant.

この触媒再生装置は、触媒再生塔10と、処理ガス供給
機構70と、処理ガス排出機構90とを備えて構成され
る。
This catalyst regeneration device includes a catalyst regeneration tower 10, a treated gas supply mechanism 70, and a treated gas discharge mechanism 90.

前記触媒再生塔10は、上から順に廃触媒i中の油分を
除去する第一処理室11と、硫黄分を除去する第二処理
室12と、炭素分を除去する第三及び第四処理室13.
35とが鉛直方向に連結して設けられ、この第一処理室
11の上部にはバルブ14を介して廃触媒1供給用ホツ
パー15が設けられ、また第四処理室35の下部にはバ
ルブ58を介して再生触媒2の受部16が設けられる。
The catalyst regeneration tower 10 includes, in order from the top, a first processing chamber 11 for removing oil from the spent catalyst i, a second processing chamber 12 for removing sulfur, and third and fourth processing chambers for removing carbon. 13.
A hopper 15 for supplying the waste catalyst 1 is provided in the upper part of the first processing chamber 11 via a valve 14, and a valve 58 is provided in the lower part of the fourth processing chamber 35. A receiving portion 16 for the regenerated catalyst 2 is provided via the .

ホッパー15には、その円錐伏の内周面に沿って金網等
からなる多孔状スクリーン17が取付けられ、廃触媒1
に付着している油分が一部取り除かれるようになってい
る。ここで取り除かれた油は、ホッパー17に接続され
た廃油ライン18を通って排出される。
A porous screen 17 made of wire mesh or the like is attached to the hopper 15 along its conical inner circumferential surface.
This will remove some of the oil adhering to the The oil removed here is discharged through a waste oil line 18 connected to a hopper 17.

第一処理室11の上部接続具19は、第3〜5図に示す
ように、第一処理室11の上面にガスケット19Dを介
して接合された上面板19Aと、偏平角筒状に形成され
ると共に廃触媒1の落下流路を形成するバルブ14側の
接続部分19Bと、後述する第1処理室11の多孔状流
通部21の上端部が嵌合される係止部19Cとで構成さ
れる。
As shown in FIGS. 3 to 5, the upper connector 19 of the first processing chamber 11 is formed into a flat rectangular cylindrical shape with an upper surface plate 19A joined to the upper surface of the first processing chamber 11 via a gasket 19D. The connecting part 19B on the valve 14 side forms a falling flow path for the waste catalyst 1, and the locking part 19C is fitted with the upper end of the porous flow part 21 of the first processing chamber 11, which will be described later. Ru.

油分を除去するための第一処理室11は、第6〜8図に
示すように、円筒状の筒体20と、この筒体20内の中
央に鉛直方向に設けられると共に、廃触媒1の落下通路
を構成する多孔状流通部21と、この多孔状流通部21
が仕切ることにより筒体20内に形成された2つのガス
流通部22A。
As shown in FIGS. 6 to 8, the first processing chamber 11 for removing oil is provided with a cylindrical body 20 and in the center of this body 20 in the vertical direction, and is located inside the spent catalyst 1. A porous circulation section 21 that constitutes a falling passage, and this porous circulation section 21
Two gas flow portions 22A are formed within the cylindrical body 20 by partitioning the two gas flow portions 22A.

22Bと、この筒体20の外周を覆うように設けられた
断熱部材23とを存している。
22B, and a heat insulating member 23 provided so as to cover the outer periphery of this cylindrical body 20.

この筒体20は、一方のガス流通部22A側に処理ガス
3を導入するための導入口24が形成され、また他方の
ガス流通部22B側に処理ガス3を排出するための排出
口25が形成されている。
This cylindrical body 20 has an inlet 24 for introducing the processing gas 3 on one side of the gas circulation section 22A, and an outlet 25 for discharging the processing gas 3 on the other side of the gas circulation section 22B. It is formed.

なお、これらの導入口24及び排出口25は、図示は1
箇所であるが、処理ガス供給ラインが筒体20内又はそ
の近傍で分岐することにより、筒体20に対して複数箇
所、例えば3箇所に形成されている。この筒体20の底
部には、除去された廃触媒l中の油を補集するための油
受皿26が設けられ、この油受皿26内と連通ずるよう
に筒体20の側面には排油ライン34と接続された排油
口26Aが形成されている。
Note that these inlet ports 24 and outlet ports 25 are shown as 1 in the figure.
However, by branching the processing gas supply line within or near the cylinder body 20, the process gas supply line is formed at a plurality of positions, for example, three positions, with respect to the cylinder body 20. An oil pan 26 is provided at the bottom of the cylindrical body 20 to collect the oil contained in the removed waste catalyst l. An oil drain port 26A connected to the line 34 is formed.

多孔状流通部21は、第9〜11図にも示すように、四
角形状の枠部材27と格子状の枠部材28との間に多孔
状スクリーン29が挟持されたものが一対、筒体20の
内面に固定された位置決め部材30を介して所定間隔を
おいてホルダ31により取り付けられ、その上端は上記
上部接続具19の係止部19cに嵌合されて構成されて
いる。
As shown in FIGS. 9 to 11, the porous flow section 21 includes a pair of rectangular frame members 27 and a lattice-shaped frame member 28 with a porous screen 29 sandwiched between them, and a cylindrical body 20. It is attached by a holder 31 at a predetermined interval via a positioning member 30 fixed to the inner surface of the upper connector 19, and its upper end is configured to fit into the locking portion 19c of the upper connector 19.

これらの枠部材27.28は、廃触媒lの降下の際、多
孔状流通部21の内側からガス流通部22A、22B側
に廃触媒1の圧力が加わることを考慮して、四角形状の
枠部材27が多孔状流通部21側に、また格子状の枠部
材28がガス流通部22A、22B側に配置される。ま
た、位置決め部材30が中空の場合には、内部への廃触
媒1の侵入を防ぐために、その上面に遮蔽板30Aが取
付けられる。なお、この多孔状スクリーン29は、例え
ば直径0.635m−の線材を使用して、16メツシユ
の金網で作製されたものである。
These frame members 27 and 28 are rectangular frames in consideration of the fact that the pressure of the waste catalyst 1 is applied from the inside of the porous flow part 21 to the gas flow parts 22A and 22B side when the waste catalyst l is lowered. The member 27 is arranged on the side of the porous flow section 21, and the lattice-shaped frame member 28 is arranged on the side of the gas flow sections 22A and 22B. Further, when the positioning member 30 is hollow, a shielding plate 30A is attached to the upper surface of the positioning member 30 in order to prevent the spent catalyst 1 from entering the inside. Note that this porous screen 29 is made of, for example, a 16-mesh wire mesh using a wire rod having a diameter of 0.635 m.

この第一処理室11には、第7図に示すように、その下
部に内部温度のモニター用温度計32と廃触媒1のサン
プリング用ノズル33とが備え付けられている。この際
、ノズル33は、その内端が筒体20の中心に向って斜
め上方約45度の角度で開口され、多孔状流通部21内
を重力降下する廃触媒lを内情開口から所定量サンプリ
ングできるようになっている。
As shown in FIG. 7, the first processing chamber 11 is equipped with a thermometer 32 for monitoring internal temperature and a nozzle 33 for sampling the waste catalyst 1 at its lower part. At this time, the nozzle 33 has its inner end opened at an angle of about 45 degrees diagonally upward toward the center of the cylindrical body 20, and samples a predetermined amount of the waste catalyst l falling by gravity within the porous flow section 21 from the internal opening. It is now possible to do so.

第一処理室11と第二処理室12との間に設けられる仕
切板31は、第12〜14図に示すように、第一処理室
11の多孔状流通部21の下端が係止される係止部31
Aが上部に形成され、また第二処理室12の多孔状流通
部37が係止される係止部31Bが下部に形成されたも
のである。この仕切板31は、その端部31Cが第一処
理室llの筒体20の下方フランジ部2OAと第二処理
室12の筒体36の上方フランジ部36Aとの間にれぞ
れガスケット31Dを介して接合されている。
As shown in FIGS. 12 to 14, the partition plate 31 provided between the first processing chamber 11 and the second processing chamber 12 is engaged with the lower end of the porous flow section 21 of the first processing chamber 11. Locking part 31
A is formed in the upper part, and a locking part 31B to which the porous flow part 37 of the second processing chamber 12 is locked is formed in the lower part. This partition plate 31 has an end 31C with a gasket 31D between the lower flange 2OA of the cylinder 20 of the first processing chamber 11 and the upper flange 36A of the cylinder 36 of the second processing chamber 12. It is joined through.

硫黄分を除去するための第二処理室12は、第15〜1
7図に示すように、上記第一処理室11と同様の構成で
あり、筒体36と、この筒体36内に多孔状流通部37
及び2つのガス流通部38A、38Bを有し、更にこの
筒体36の外周を覆う断熱部材39を備えている。
The second processing chamber 12 for removing sulfur content includes the 15th to 1st processing chambers.
As shown in FIG. 7, it has the same configuration as the first processing chamber 11 described above, and includes a cylindrical body 36 and a porous flow section 37 inside the cylindrical body 36.
It has two gas flow parts 38A and 38B, and is further provided with a heat insulating member 39 that covers the outer periphery of the cylinder body 36.

この筒体36の場合も、一方のガス流通部3BA側に処
理ガス3を導入するための導入口40が形成され、また
他方のガス流通部38B側に処理ガス3を排出するため
の排出口41が形成されている。なお、これらの導入口
40及び排出口41は、第一処理室11の筒体20と同
様に、筒体36に対して複数箇所、例えば3箇所に形成
されている。
In the case of this cylindrical body 36 as well, an inlet 40 for introducing the processing gas 3 is formed on one side of the gas circulation section 3BA, and an outlet for discharging the processing gas 3 on the other side of the gas circulation section 38B. 41 is formed. Note that, similarly to the cylinder body 20 of the first processing chamber 11, these inlet ports 40 and discharge ports 41 are formed at a plurality of locations, for example, three locations, with respect to the cylinder body 36.

この第二処理室I2内に設けられる多孔状流通部37は
、上記第一処理室ll内に設けられる多孔状流通部21
と同様の構成、即ち四角形状及び格子状の枠部材37A
、37Bと、これらの間に介装される多孔状スクリーン
37Cとからなる一対の枠体を有する。
The porous flow section 37 provided in the second processing chamber I2 is similar to the porous flow section 21 provided in the first processing chamber 11.
A frame member 37A having the same configuration as that, that is, a square and grid-like frame member
, 37B, and a porous screen 37C interposed between them.

この第二処理室12にも、その下部に内部温度のモニタ
ー用温度計42と廃触媒lのサンプリング用ノズル43
とが付設されている。
This second processing chamber 12 also has a thermometer 42 for monitoring the internal temperature and a nozzle 43 for sampling the waste catalyst 1 at its lower part.
is attached.

第二処理室12と第三処理室13との間に設けられる仕
切板44(第1.2図参照)は、第12〜14図に示す
第一処理室11と第二処理室12との間に設けられる仕
切板31と同様の構成を有している。
A partition plate 44 (see Fig. 1.2) provided between the second processing chamber 12 and the third processing chamber 13 is used to separate the first processing chamber 11 and the second processing chamber 12 shown in Figs. It has the same configuration as the partition plate 31 provided therebetween.

炭素分を除去するための第三処理室13は、第18〜2
0図に示すように、上記第−及び第二処理室11.12
と同様の構成であり、筒体47と、この筒体47内に多
孔状流通部48及び2つのガス流通部49A、49Bを
有し、更にこの筒体47の外周を覆う断熱部材50を備
えている。なお、第四処理室35は、第三処理室13と
全く同様の構成であるため、第三処理室13で使用する
符号と同じものを使用して、第四処理室35についても
併せて説明する。
The third processing chamber 13 for removing carbon content includes the 18th to 2nd processing chambers.
As shown in Figure 0, the above-mentioned first and second processing chambers 11 and 12
It has a structure similar to that of the cylinder body 47, and has a porous circulation part 48 and two gas circulation parts 49A and 49B in the cylinder body 47, and further includes a heat insulating member 50 that covers the outer periphery of the cylinder body 47. ing. In addition, since the fourth processing chamber 35 has exactly the same configuration as the third processing chamber 13, the same reference numerals as those used in the third processing chamber 13 will be used, and the fourth processing chamber 35 will also be described. do.

この筒体47は、上記第二処理室12の場合と同様に、
一方のガス流通部49A側に処理ガス3を導入するため
の導入口51が形成され、また他方のガス流通部49B
側に処理ガス3を排出するための排出口52が形成・さ
れている。なお、これらの導入口51及び排出口52に
ついても、筒体47に対して複数箇所、例えば3箇所に
形成されている。
This cylindrical body 47, as in the case of the second processing chamber 12,
An introduction port 51 for introducing the processing gas 3 is formed on one gas distribution section 49A side, and the other gas distribution section 49B
A discharge port 52 for discharging the processing gas 3 is formed on the side. Note that these inlet ports 51 and outlet ports 52 are also formed at a plurality of locations, for example, three locations, with respect to the cylindrical body 47.

この第三処理室13内に設けられる多孔状流通部4Bは
、上記第−及び第二処理室11.12内に設けられる多
孔状流通部21.37と同様の構成、即ち四角形状及び
格子状の枠部材48A、48Bとこれらの間に介装され
る多孔状スクリーン48Cとからなる枠体一対を有して
いる。
The porous flow section 4B provided in the third processing chamber 13 has the same configuration as the porous flow section 21.37 provided in the first and second processing chambers 11.12, that is, a square shape and a lattice shape. It has a pair of frame bodies consisting of frame members 48A, 48B and a porous screen 48C interposed between them.

この第三処理室13にも、その下部に内部温度のモニタ
ー用温度計53と廃触媒lのサンプリング用ノズル54
とが付設されている。
This third processing chamber 13 also has a thermometer 53 for monitoring the internal temperature and a nozzle 54 for sampling the waste catalyst 1 at its lower part.
is attached.

第三処理室13の下部接続具57は、第21〜23図に
示すように、第二処理室13の下面にガスケア)57D
を介して接合された下面板57A。
As shown in FIGS. 21 to 23, the lower connector 57 of the third processing chamber 13 is connected to the lower surface of the second processing chamber 13 (gas care) 57D.
The bottom plate 57A is joined via the bottom plate 57A.

多孔状流通部48との接続部分57B及びバルブ58例
の接続部分57Cより構成される。
It is composed of a connecting portion 57B with the porous flow section 48 and a connecting portion 57C with the valve 58.

この第三処理室13の下には、バルブ58を介して再生
された触媒2の受部16が連結されている。なお、上記
バルブ14.58としては、リミットスイッチ付のボー
ル弁、スライドバルブ又はロークリフィーダを使用する
ことができる。この受部16内には、再生された高温の
触媒2を冷却するための水冷式コイルパイプ59(第1
図参照)が配設される。
A receiving portion 16 for the regenerated catalyst 2 is connected to the bottom of the third processing chamber 13 via a valve 58 . Note that as the valve 14.58, a ball valve with a limit switch, a slide valve, or a row feeder can be used. Inside this receiving part 16, a water-cooled coil pipe 59 (a first
(see figure) is installed.

なお、第2図に示すように、この触媒再生塔10は、図
示しないフレーム等にステー60杏介して固定されてい
る。
Note that, as shown in FIG. 2, the catalyst regeneration tower 10 is fixed to a frame (not shown) or the like via a stay 60.

前記処理ガス供給機構70は、第111Fに示すように
その主要ラインとして、高温の処理ガス供給ライン71
と、この処理ガス供給ライン71から分岐して第一処理
室11と連通する第一分岐ライン71A、第二処理室1
2と連通ずる第二分岐ライン71B、第三及び第四処理
室13.35と連通ずる第三分岐ライン?ICを有して
いる。
The processing gas supply mechanism 70 has a high temperature processing gas supply line 71 as its main line, as shown in 111F.
A first branch line 71A that branches from this processing gas supply line 71 and communicates with the first processing chamber 11, and a second processing chamber 1.
2, the second branch line 71B communicates with the third and fourth processing chambers 13.35, and the third branch line communicates with the third and fourth processing chambers 13.35? It has an IC.

高温の処理ガス供給ライン71は、石油化学プラント等
における既設の排煙処理装置72の後段として接続され
た焼却炉73から導かれ、その途中に強制送気手段とし
てのブロワ74が設けられている。
A high-temperature process gas supply line 71 is led from an incinerator 73 connected as a downstream part of an existing flue gas treatment device 72 in a petrochemical plant, etc., and a blower 74 as a forced air supply means is provided in the middle of the incinerator 73. .

第一処理室11と連通する第一分岐ライン71Aは、そ
の途中に処理ガスの温度を低下させるため、多数の裸管
からなる空冷式の冷却手段75を備えている。なお、こ
の冷却は、冷却手段75の裸管に水のシャワーをかける
水冷式の冷却手段76を併用して行うこともできる。
The first branch line 71A communicating with the first processing chamber 11 is provided with an air-cooled cooling means 75 consisting of a large number of bare tubes in order to lower the temperature of the processing gas. Note that this cooling can also be performed in combination with a water-cooled cooling means 76 that showers the bare tube of the cooling means 75 with water.

第二処理室12と連通する第二分岐ライン71Bの場合
、第一分岐ライン71Aの冷却手段75で冷却された処
理ガスを必要に応じて適量導く温度調節ライン77が第
一分岐ライン71Aから導かれている。即ち、第二分岐
ライン71Bでは、処理ガス供給ライン71からの高温
ガスと第一分岐ライン71Aからの冷却されたガスとが
混合されることにより温度調節されたガスが流れる。
In the case of the second branch line 71B communicating with the second processing chamber 12, a temperature adjustment line 77 that guides an appropriate amount of the processing gas cooled by the cooling means 75 of the first branch line 71A as needed is led from the first branch line 71A. It's dark. That is, in the second branch line 71B, a gas whose temperature is adjusted by mixing the high temperature gas from the processing gas supply line 71 and the cooled gas from the first branch line 71A flows.

第三及び第四処理室13.35と連通する第三分岐ライ
ン71Cは、処理ガス供給ライン71からの高温ガスが
流れるように処理ガス供給うイン71に直接連結されて
いる。
A third branch line 71C communicating with the third and fourth processing chambers 13.35 is directly connected to the processing gas supply inlet 71 so that the high temperature gas from the processing gas supply line 71 flows.

第二分岐ライン71Bと第三分岐ライン71Cの途中に
は、それぞれ処理ガス中の酸素濃度を調整するための空
気供給弁18.19が取付けられている。また、処理ガ
ス供給ライン71、第二分岐ライン71B及び第三分岐
ライン71Cの途中には、それぞれ処理ガス中の酸素濃
度を測定するためのサンプリング用バルブ80,81.
82が設けられ、これらのバルブ80,81.82を介
して図示しない酸素濃度測定装置に接続されている。
Air supply valves 18 and 19 are installed in the middle of the second branch line 71B and the third branch line 71C, respectively, for adjusting the oxygen concentration in the processing gas. Further, sampling valves 80, 81. are provided in the middle of the processing gas supply line 71, the second branch line 71B, and the third branch line 71C, respectively, for measuring the oxygen concentration in the processing gas.
82 is provided, and is connected to an oxygen concentration measuring device (not shown) via these valves 80, 81, and 82.

なお、図示するように、各ライン71.71A。In addition, as shown in the figure, each line 71.71A.

71B、71Cの適当な位置には、開閉バルブV、流i
t%A整弁C,流量計F、圧力計P、温度計Tが設けら
れている。また、焼却tJ313の後段には、更に廃熱
ボイラー83と煙突84が付設されている。更に、図示
しないが、この処理ガス供給ライン7LA、TIB、’
?ICの適当な位置には、スチーム又は窒素を用いた火
災等の事故防止手段が設けられている。また、ホッパー
15にも、窒素を用いた事故防止手段が設けられる。
At appropriate positions of 71B and 71C, on-off valves V and flow i
A t%A regulating valve C, a flow meter F, a pressure gauge P, and a thermometer T are provided. Moreover, a waste heat boiler 83 and a chimney 84 are further attached to the latter stage of the incineration tJ313. Furthermore, although not shown, the processing gas supply lines 7LA, TIB,'
? Accident prevention means such as fire using steam or nitrogen are provided at appropriate locations on the IC. Further, the hopper 15 is also provided with an accident prevention means using nitrogen.

前記処理ガス排出機構90は、第一処理室11のガス排
出口25に接続された第一排出ライン91、第二処理室
12のガス排出口41に接続された第二排出ライン92
A、第三及び第四処理室12.35のガス排出口52に
接続された第三排出ライン92Bを備えている。
The processing gas discharge mechanism 90 includes a first discharge line 91 connected to the gas discharge port 25 of the first processing chamber 11 and a second discharge line 92 connected to the gas discharge port 41 of the second processing chamber 12.
A, a third exhaust line 92B connected to the gas exhaust ports 52 of the third and fourth processing chambers 12.35 is provided.

第一〇F出シライン91、その途中に廃ガス中の油分を
分離する気液分離器93が設けられるが、油分の分離後
であっても、廃ガス中には多少の油分を含むため、焼却
炉73の入口側に戻され、焼却炉73で他の可燃ガスと
共に焼却される。一方、気液分離器93で分離された油
は、排油ライン94を通って容器95に貯蔵される。第
三排出ライン92Bは、その途中に空気供給弁78.7
9に接続された熱交換器96が設けられ、これによって
注入空気が予熱される。そして、このライン92Bは、
第二排出ライン92Aと一本化された排出ライン92と
なって廃熱ボイラー83の入口側に戻され、焼却炉73
からの高温の燃焼ガスと共に廃熱ボイラー83での水加
熱に供される。この際、排出ライン92の途中にはバイ
パスライン7IDが接続され、プロワ74の立ち上げ時
におけるブロワ74の排気側流量を所定量(ミニマムフ
ロー)に確保するため、このバイパスライン71Dが処
理ガス供給ライン71に連通している。
A gas-liquid separator 93 is installed in the middle of the 10F output line 91 to separate oil from the waste gas, but even after the oil has been separated, the waste gas still contains some oil. The gas is returned to the inlet side of the incinerator 73, where it is incinerated together with other combustible gases. On the other hand, the oil separated by the gas-liquid separator 93 passes through an oil drain line 94 and is stored in a container 95. The third discharge line 92B has an air supply valve 78.7 in the middle thereof.
A heat exchanger 96 connected to 9 is provided, by means of which the inlet air is preheated. And this line 92B is
The exhaust line 92 is integrated with the second exhaust line 92A, and is returned to the inlet side of the waste heat boiler 83, and the incinerator 73
The waste heat boiler 83 heats water together with high-temperature combustion gas from the waste heat boiler 83. At this time, a bypass line 7ID is connected in the middle of the discharge line 92, and in order to ensure the flow rate on the exhaust side of the blower 74 at a predetermined amount (minimum flow) when the blower 74 is started up, this bypass line 71D supplies the processing gas. It is connected to line 71.

次に、この再生装置を使用した触媒の再生方法を説明す
る。
Next, a method for regenerating a catalyst using this regenerator will be explained.

先ず、石油精製プラントにおいて水素処理のために使用
された廃触媒1を触媒再生塔lOのホッパー15内に充
填する。
First, the spent catalyst 1 used for hydrogen treatment in a petroleum refinery plant is charged into the hopper 15 of the catalyst regeneration tower IO.

次に、触媒再生塔lOの上下のバルブ14,58の開度
を調整することにより、触媒再生塔10内への廃触媒l
の導入量を制御する。廃触媒1は、バルブ14を通って
重力で降下してゆき、第一処理室ll内に導入される。
Next, by adjusting the opening degrees of the upper and lower valves 14, 58 of the catalyst regeneration tower 10, the spent catalyst lO is discharged into the catalyst regeneration tower 10.
control the amount of introduction. The spent catalyst 1 descends by gravity through the valve 14 and is introduced into the first processing chamber 11.

この際、第一処理室II内には、処理ガス供給ライン7
1及び第一分岐ライン71Aを経由して冷却された温度
250℃、酸素濃度0.2〜0.3%の処理ガス3が筒
体20の導入口24から供給されている。この第一処理
室11において、処理ガス3は一方の処理ガス流通部2
2Aから多孔状流通部21を横切るように通過して他方
の処理ガス流通部22Bに行くことにより、多孔状流通
部21内を降下中の廃触媒1と接触し、この廃触媒1の
油分を除去する。除去された油分は、筒体20の底部の
油受皿26に捕集され、排油ライン34を通って排出さ
れる。
At this time, a processing gas supply line 7 is provided in the first processing chamber II.
A processing gas 3 having a temperature of 250° C. and an oxygen concentration of 0.2 to 0.3% is supplied from an inlet 24 of the cylindrical body 20 via the first branch line 71A and the first branch line 71A. In this first processing chamber 11, the processing gas 3 is supplied to one processing gas distribution section 2.
By passing from 2A across the porous flow section 21 and going to the other treated gas flow section 22B, it comes into contact with the waste catalyst 1 that is descending inside the porous flow section 21, and the oil content of this waste catalyst 1 is removed. Remove. The removed oil is collected in the oil pan 26 at the bottom of the cylindrical body 20 and is discharged through the oil drain line 34.

多孔状流通部21を通過した処理ガス3は、排出口25
から気液分離器93を通って焼却炉73に戻され、ここ
で多少含有している油分が燃焼除去される。なお、この
第一処理室11における油分の除去状態は、付設された
サンプリング用ノズル33によって随時モニターされて
いる。また、多孔状流通部21内の温度は温度計32に
より検出されると共に、第一排出ライン91の温度も温
度計Tで検出され、これらの温度に基づいて第一分岐ラ
イン71Aから排出される処理ガス3の温度調整がなさ
れるようになっている。
The processing gas 3 that has passed through the porous flow section 21 is discharged through the exhaust port 25.
It passes through the gas-liquid separator 93 and is returned to the incinerator 73, where some of the oil contained therein is burned off. Note that the state of oil removal in the first processing chamber 11 is constantly monitored by an attached sampling nozzle 33. Further, the temperature inside the porous flow section 21 is detected by the thermometer 32, and the temperature of the first discharge line 91 is also detected by the thermometer T, and based on these temperatures, the fluid is discharged from the first branch line 71A. The temperature of the processing gas 3 is adjusted.

次に、第一処理室11内で油分が除去された廃触媒1は
、連続的に第二処理室12内の多孔状流通部37中を重
力で降下してゆく。この際、第二処理室12内には、処
理ガス供給うイン71からのガスと温度11節ライン7
7からのガスとが混合されて400°Cに温度iP1節
され、更に空気供給弁78を介して酸素補給されて酸素
濃度2.2%とされた処理ガス3が筒体36の導入口4
0から供給されている。この第二処理室12において、
処理ガス3は一方の処理ガス流通部38Aから多孔状流
通部37を横切るように通過して他方の処理ガス流通部
38Bに行くことにより、多孔状流通部37内を降下中
の廃触媒1と接触し、この廃触媒1の硫黄分を燃焼除去
する。多孔状流通部37を通過した処理ガス3は、排出
口41から排出ライン92A、92を通って廃熱ボイラ
ー83に戻される。なお、この第二処理室12における
硫黄分の除去状態は、付設されたサンプリング用ノズル
43によって随時モニターされている。また、この第二
処理室12においても第一処理室11と同様に、多孔状
流通部37内の温度計42及び第二排出ライン92Aの
温度計Tにより検出される温度に基づいて第二分岐ライ
ン71Bの処理ガス温度及び酸素濃度が調整されている
Next, the spent catalyst 1 from which oil has been removed in the first processing chamber 11 continuously descends by gravity through the porous flow section 37 in the second processing chamber 12 . At this time, the second processing chamber 12 contains gas from the processing gas supply line 71 and the temperature 11-node line 7.
The processing gas 3 is mixed with the gas from 7 and brought to a temperature iP1 of 400°C, and is further supplied with oxygen via the air supply valve 78 to have an oxygen concentration of 2.2%.
It is supplied from 0. In this second processing chamber 12,
Processing gas 3 passes from one processing gas distribution section 38A across the porous distribution section 37 and goes to the other processing gas distribution section 38B, so that it is combined with the waste catalyst 1 that is descending inside the porous distribution section 37. The sulfur content of the spent catalyst 1 is removed by combustion. The processing gas 3 that has passed through the porous flow section 37 is returned to the waste heat boiler 83 from the exhaust port 41 through the exhaust lines 92A and 92. Note that the state of sulfur removal in the second processing chamber 12 is constantly monitored by an attached sampling nozzle 43. In addition, in this second processing chamber 12, as in the first processing chamber 11, a second branch is established based on the temperature detected by the thermometer 42 in the porous flow section 37 and the thermometer T in the second discharge line 92A. The processing gas temperature and oxygen concentration in line 71B are adjusted.

次に、第二処理室12内で硫黄分が除去された廃触媒1
は、連続的に第三処理室13内の多孔状流通部48中を
重力で降下してゆく。この際、第三処理室13内には、
第三分岐ライン71Cを経由し、空気供給弁79を介し
て酸素補給された温度450°C5酸素濃度3.3%の
処理ガスが筒体47の導入口51から供給されている。
Next, the spent catalyst 1 from which the sulfur content has been removed in the second processing chamber 12
continuously descends by gravity through the porous flow section 48 in the third processing chamber 13. At this time, in the third processing chamber 13,
Processing gas having a temperature of 450° C. and an oxygen concentration of 3.3% is supplied from the inlet 51 of the cylinder 47 via the third branch line 71C and the air supply valve 79.

この第三処理室13において、処理ガス3は一方の処理
ガス流通部49Aから多孔状流通部4日を横切るように
通過して他方の処理ガス流通部49Bに行く−ことによ
り、多孔状流通部4日内を降下中の廃触媒1と接触し、
この廃触媒1の炭素分を燃焼除去する。多孔状流通部4
8を通過した処理ガス3は、排出口52から第三排出ラ
イン92Bを通り、燃焼で高温になっているため、途中
熱交換器96で冷却され、廃熱ボイラー83に戻される
。この際、熱交換器96では第三排出ライン92B中の
処理ガス3と熱交換して高温となった空気が前記第二、
第三分岐ライン71B、71Cに設けられた空気供給弁
78.79に供給されるようになっており、これらの第
二、第三分岐ライン71B、71C内の処理ガス温度を
低下させないようになっている。
In this third processing chamber 13, the processing gas 3 passes from one processing gas distribution section 49A across the porous distribution section 4 and goes to the other processing gas distribution section 49B. Contact with the descending spent catalyst 1 within 4 days,
The carbon content of this waste catalyst 1 is removed by combustion. Porous flow section 4
The processing gas 3 that has passed through the exhaust port 8 passes through the third exhaust line 92B from the exhaust port 52, and is heated to a high temperature due to combustion, so it is cooled in the heat exchanger 96 and returned to the waste heat boiler 83. At this time, in the heat exchanger 96, the air heated to high temperature by exchanging heat with the process gas 3 in the third discharge line 92B is transferred to the second
The air is supplied to the air supply valves 78 and 79 provided in the third branch lines 71B and 71C, so as not to lower the processing gas temperature in these second and third branch lines 71B and 71C. ing.

なお、この第三処理室13における炭素分の除去状態も
、付設されたサンプリング用ノズル54によって随時モ
ニターされている。また、この第三処理室13において
も、温度計53等による計測結果に基づき第三分岐ライ
ン71C中の処理ガス温度及び酸素濃度が調整されてい
る。
Note that the state of carbon removal in the third processing chamber 13 is also monitored at any time by the attached sampling nozzle 54. Also, in the third processing chamber 13, the processing gas temperature and oxygen concentration in the third branch line 71C are adjusted based on the measurement results by the thermometer 53 and the like.

そして、第三処理室13に付設されたサンプリング用ノ
ズル54によって、第三処理室13における炭素分の除
去が不充分であるとモニターされた場合には、第三処理
室13に連結された第四処理室35において、第三処理
室13に供給された処理ガス3より温度及び酸素濃度の
高い処理ガス3が供給されて、完全な炭素分の除去がな
される。
If the sampling nozzle 54 attached to the third processing chamber 13 monitors that the removal of carbon content in the third processing chamber 13 is insufficient, the sampling nozzle 54 connected to the third processing chamber 13 In the fourth processing chamber 35, a processing gas 3 having a higher temperature and higher oxygen concentration than the processing gas 3 supplied to the third processing chamber 13 is supplied, and carbon content is completely removed.

即ち、この第四処理室35には、例えば温度500″C
1酸素濃度465%の処理ガス3が供給される。
That is, this fourth processing chamber 35 has a temperature of, for example, 500''C.
A processing gas 3 having an oxygen concentration of 465% is supplied.

このようにして第一、第二、第三、第四処理室11.1
2,13.35を通過した廃触媒lは再生され、この再
生された触媒2は、バルブ58を通って受部16内に溜
められる。この後、受部16内の再生触媒2が所定量に
達すると、スライドバルブ61を開いて、ドラム缶等の
容器62に再生触媒2を移す。
In this way, the first, second, third and fourth processing chambers 11.1
The waste catalyst 1 that has passed through the valve 2, 13, and 35 is regenerated, and the regenerated catalyst 2 is stored in the receiving portion 16 through the valve 58. Thereafter, when the regenerated catalyst 2 in the receiving part 16 reaches a predetermined amount, the slide valve 61 is opened and the regenerated catalyst 2 is transferred to a container 62 such as a drum can.

以下、上述の操作を連続することにより、廃触媒1を順
次再生する。
Thereafter, by continuing the above-described operations, the spent catalyst 1 is sequentially regenerated.

上記本実施例に係る触媒の再生方法及び装置によれば、
触媒再生塔10が、上から順に廃触媒1中の油分を除去
する第一処理室11と、硫黄分を除去する第二処理室1
2と、炭素分を除去する第三及び第四処理室13.35
とが鉛直方向に連結して設けられているため、ホッパー
15から受部16まで廃触媒1が重力で自然に降下して
ゆき、特別の移送手段及びそのためのエネルギーを必要
としない、従って、装置が簡略化できると共に、稼働コ
ストを低減できる点で有利である。
According to the catalyst regeneration method and apparatus according to the present example,
The catalyst regeneration tower 10 includes, from the top, a first processing chamber 11 that removes oil from the spent catalyst 1 and a second processing chamber 1 that removes the sulfur content.
2, and the third and fourth processing chambers 13.35 for removing carbon content.
Since these are vertically connected, the spent catalyst 1 naturally falls from the hopper 15 to the receiving part 16 by gravity, and no special transport means or energy is required. This is advantageous in that it can simplify the process and reduce operating costs.

また、廃触媒1は、筒体20.36.47とは隔離され
た多孔状流通部21,37.48内を降下するので、酸
素を供給し過ぎて暴走した場合であっても、筒体20.
36.47が保護される。
In addition, since the waste catalyst 1 descends in the porous flow parts 21, 37.48 that are isolated from the cylinder 20, 36, 47, even if the cylinder goes out of control due to excessive supply of oxygen, 20.
36.47 is protected.

炭素分の除去のため、第三処理室13の後に更に第四処
理室35を設けたので、炭素分の完全な除去が可能にな
る。
Since the fourth processing chamber 35 is further provided after the third processing chamber 13 for removing carbon, it is possible to completely remove carbon.

重力による自然降下方式ではあるが、ホッパー15の下
のバルブ14及び第四処理室35の下のバルブ58の開
度を調整することにより、廃触媒1の流量を制御するこ
とができる。
Although it is a natural descent method due to gravity, the flow rate of the spent catalyst 1 can be controlled by adjusting the opening degrees of the valve 14 under the hopper 15 and the valve 58 under the fourth processing chamber 35.

各処理室11,12.13.35にそれぞれサンプリン
グ用ノズル33,43.54を設置しているので、各処
理室11,12,13.35内の廃触媒1の処理状態を
正確に把握することができ、均一な品質を有する再生触
媒が得られる。
Since sampling nozzles 33, 43.54 are installed in each processing chamber 11, 12, 13.35, respectively, the processing status of the waste catalyst 1 in each processing chamber 11, 12, 13.35 can be accurately grasped. A regenerated catalyst with uniform quality can be obtained.

更に、処理ガス3の供給源を既設の排煙処理装置72と
しているので、処理ガス3専用の供給装置を設ける必要
がなく、経済的である。
Furthermore, since the existing flue gas treatment device 72 is used as the supply source of the processing gas 3, there is no need to provide a dedicated supply device for the processing gas 3, which is economical.

なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
本発明の目的を達成できる範囲での変形は、本発明に含
まれるものである。
Note that the present invention is not limited to the above embodiments,
Modifications within the scope of achieving the object of the present invention are included in the present invention.

例えば、各処理室11,12.13.35の多孔状流通
部21.37.48の構成は任意であり、より具体的に
は、スクリーン29自体が充分な強度を有するものであ
れば、枠部材27.28を使用しないで構成することも
できる。また、スクリーン29は金網に限らず、パンチ
ングメタル、その他の多孔板でもよく、要するに処理ガ
ス3の流通を許容し、同時に廃触媒1の多孔状流通部2
1゜37.48からの脱出を防止できる多孔状の部材で
あればよい。
For example, the configuration of the porous flow portions 21.37.48 of each processing chamber 11, 12.13.35 is arbitrary, and more specifically, as long as the screen 29 itself has sufficient strength, the frame It is also possible to construct the device without the elements 27,28. In addition, the screen 29 is not limited to a wire mesh, but may be a punched metal or other perforated plate.
Any porous member that can prevent escape from 1°37.48° is sufficient.

また、硫黄分を除去する第二処理室12と炭素分を除去
する第三及び第四処理室13.35との連結順序は、任
意である。従って、必ずしも第二処理室12が先に位置
する必要はなく、第三及び第四処理室13.35の方が
先に位置していて、次に第二処理室12が位置するよう
に連結してもよい。
Further, the connection order of the second processing chamber 12 for removing sulfur content and the third and fourth processing chambers 13.35 for removing carbon content is arbitrary. Therefore, the second processing chamber 12 does not necessarily need to be located first, but the third and fourth processing chambers 13.35 may be located first, and the second processing chamber 12 may be located next. You may.

また、炭素分を除去するための処理室として、第三及び
第四処理室13.35を設けたが、処理する廃触媒lに
応じて、一つの処理室だけを設けるようにしてもよい。
Although the third and fourth processing chambers 13.35 are provided as processing chambers for removing carbon, only one processing chamber may be provided depending on the waste catalyst I to be processed.

更に、これら以外の形状、構造、材質等も必要に応じて
変更できることは勿論である。
Furthermore, it goes without saying that the shape, structure, material, etc. other than these can be changed as necessary.

[発明の効果] 本発明によれば、触媒の再生を効率的に行うことができ
るため、装置コスト及び稼働コストを低減できるという
効果がある。
[Effects of the Invention] According to the present invention, since the catalyst can be regenerated efficiently, there is an effect that the equipment cost and operating cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図は本発明の一実施例を示すもので、第1図は本実施例
に係る触媒再生装置の概略構成図、第2図は再生塔の正
面図、第3図は上部接続具の平面図、第4図はその側面
図、第5図はその断面図、第6図は第一処理室の平面図
、第7図及び第8図はその断面図、第9図は要部の平面
間、第1O図及び第11図は各枠部材の正面図、第12
図は仕切板の平面図、第13図及び第14図はその断面
図、第15図は第二処理室の平面図、第16図及び第1
7図はその断面図、第18図は第三処理室の平面図、第
19図及び第20図はその断面図、第21図は下部接続
具の平面図、第22図及び第23図はその断面図である
。 1・・・廃触媒、2・・・再生触媒、3・・・処理ガス
、lO・・・触媒再生塔、11・・・第一処理室、12
・・・第二処理室、13・・・第三処理室、35・・・
第四処理室、20.36.47・・・筒体、21,37
.48・・・多孔状流通部、22A、22B、38A、
38B。 49A、49B・・・ガス流通部、24,40.51・
・・ガス導入口、js、41.52・・・ガス排出口、
70・・・処理ガス供給機構、90・・・処理ガス排出
機構。 出願人 ソフタード工業株式会社 鹿島エンジニアリング株式会社 玉出 8顕 代理人 弁理士 木下 實三 (ほか2名)第2図 第3図 第5図 第6図 2乙 第7図 第8図 第9図 第1O図    第11図 第12図 第13図 第14図 第15図 第18図 第19図 第20図 第21図 手続補正書(自他 平成2年8月9日 帽評1−116938号 2、発明の名称 触媒の再生方法及びその装置 住所a=187  東京都小平市美園町1丁目17番7
号名称   ソフタード工業株式会社 fす者 用土 勝彦(1わX2名) 4、代理人 住所[相]169東京都新宿区大久保−丁目1番7号高
木ビル4F @舌(03)205−84718、補正の
内容 (1)明細書中、第17頁第5行、第6行及び第10行
「第三処理室13Jを「第四処理室35」と補正する。 (2)同、第19頁第7〜lO行[第三及び第四処理室
13.35と・・・・・・直接連結されている。Jを1
下記の通り補正する。 [第三及び第四処理室13.35と連通ずる第三分岐ラ
イン?ICには、第二分岐ラインTIBと同様に、処理
ガス供給ライン71からの高温ガスと第一分岐ライン7
1Aからの冷却されたガスとが混合されることにより温
度調節されたガスが流れる。」 (3)同、第20頁第15行r2,35Jを「3゜35
」と補正する。 (4)同、第21頁第4行「空気供給弁」を「低温流体
側が空気供給弁」と補正する。 (5)図面中、第1図を別紙の通り補正する。 以上
The figures show one embodiment of the present invention, in which Fig. 1 is a schematic configuration diagram of a catalyst regeneration device according to this embodiment, Fig. 2 is a front view of a regeneration tower, and Fig. 3 is a plan view of an upper connector. , Fig. 4 is a side view thereof, Fig. 5 is a sectional view thereof, Fig. 6 is a plan view of the first processing chamber, Figs. 7 and 8 are sectional views thereof, and Fig. 9 is a plane view of the main parts. , 1O and 11 are front views of each frame member, and 12.
The figure is a plan view of the partition plate, FIGS. 13 and 14 are sectional views thereof, FIG. 15 is a plan view of the second processing chamber, and FIGS. 16 and 1.
7 is a sectional view thereof, FIG. 18 is a plan view of the third processing chamber, FIGS. 19 and 20 are sectional views thereof, FIG. 21 is a plan view of the lower connector, and FIGS. 22 and 23 are FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Spent catalyst, 2... Regenerated catalyst, 3... Processing gas, lO... Catalyst regeneration tower, 11... First processing chamber, 12
...Second processing chamber, 13...Third processing chamber, 35...
Fourth processing chamber, 20.36.47...Cylinder, 21,37
.. 48... Porous flow section, 22A, 22B, 38A,
38B. 49A, 49B... Gas distribution section, 24, 40.51.
...Gas inlet, js, 41.52...Gas outlet,
70... Processing gas supply mechanism, 90... Processing gas discharge mechanism. Applicant Softard Kogyo Co., Ltd. Kashima Engineering Co., Ltd. Tamade 8 Agent Patent attorney Sanzo Kinoshita (and 2 others) Figure 2 Figure 3 Figure 5 Figure 6 Figure 2 Otsu Figure 7 Figure 8 Figure 9 Figure 1O Figure 11 Figure 12 Figure 13 Figure 14 Figure 15 Figure 18 Figure 19 Figure 20 Figure 21 Procedural amendment (August 9, 1990 Hat Review No. 1-116938 2, Invention Name Catalyst regeneration method and equipment Address a=187 1-17-7 Misono-cho, Kodaira-shi, Tokyo
Name: Softard Kogyo Co., Ltd. Owner: Katsuhiko (1 person x 2 people) 4. Agent address: 4F Takagi Building, 1-7 Okubo-chome, Shinjuku-ku, Tokyo, 169 @ Tongue (03) 205-84718, revised Contents (1) In the specification, page 17, lines 5, 6, and 10, "Third processing chamber 13J" is corrected to "Fourth processing chamber 35." (2) Same, page 19, lines 7 to 10 [directly connected to the third and fourth processing chambers 13.35]. J to 1
Correct as shown below. [The third branch line that communicates with the third and fourth processing chambers 13.35? Similar to the second branch line TIB, the IC is connected to high temperature gas from the processing gas supply line 71 and the first branch line 7.
Temperature-controlled gas flows by mixing with the cooled gas from 1A. ” (3) Same, page 20, line 15 r2, 35J as “3°35
” he corrected. (4) Same, page 21, line 4, "air supply valve" is corrected to "air supply valve on the low temperature fluid side". (5)Amend Figure 1 in the drawings as shown in the attached sheet. that's all

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)廃触媒を第一処理室内の多孔状流通部中を重力で
降下させ、この第一処理室内に処理ガスを流しながら、
前記多孔状流通部を横切るように通過させて油分を除去
する工程と、 前記廃触媒を前記第一処理室と連続する第二処理室の多
孔状流通部中を重力で降下させ、この第二処理室内に処
理ガスを流しながら、前記多孔状流通部を横切るように
通過させて硫黄分を除去する工程と、 前記廃触媒を前記第二処理室と連続する第三処理室の多
孔状流通部中を重力で降下させ、この第三処理室内に処
理ガスを流しながら、前記多孔状流通部を横切るように
通過させて炭素分を除去する工程と を設けたことを特徴とする触媒の再生方法。
(1) The spent catalyst is lowered by gravity through the porous flow section in the first processing chamber, and while flowing the processing gas into the first processing chamber,
removing oil by passing the waste catalyst across the porous flow section; lowering the spent catalyst by gravity through the porous flow section of a second processing chamber that is continuous with the first processing chamber; a step of removing sulfur by passing the processing gas across the porous flow section while flowing it into the processing chamber; and a porous flow section of a third processing chamber that connects the waste catalyst with the second processing chamber. A method for regenerating a catalyst, comprising the step of lowering the catalyst by gravity, and removing carbon by passing the processing gas across the porous flow section while flowing the processing gas into the third processing chamber. .
(2)第1請求項記載の触媒の再生方法において、第一
処理室内に導入する処理ガスは、その温度を200〜3
80℃、酸素濃度を3%以下とし、第二処理室内に導入
する処理ガスは、その温度を300〜450℃、酸素濃
度を1.0〜5.0%とし、 第三処理室内に導入する処理ガスは、その温度を350
〜600℃、酸素濃度を2.0〜10.0% としたことを特徴とする触媒の再生方法。
(2) In the catalyst regeneration method according to the first claim, the processing gas introduced into the first processing chamber has a temperature of 200 to 3
The processing gas is introduced into the second processing chamber at a temperature of 80°C and an oxygen concentration of 3% or less, and the processing gas is introduced into the third processing chamber at a temperature of 300 to 450°C and an oxygen concentration of 1.0 to 5.0%. The processing gas has a temperature of 350
A method for regenerating a catalyst, characterized in that the temperature is 600°C and the oxygen concentration is 2.0 to 10.0%.
(3)第1請求項記載の触媒の再生方法において、第一
処理室〜第三処理室における触媒の再生工程に加えて、 前記廃触媒を前記第三処理室と連続する第四処理室の多
孔状流通部中を重力で降下させ、この第四処理室内に処
理ガスを流しながら、前記多孔状流通部を横切るように
通過させて残存炭素分を完全に除去する工程を設けたこ
とを特徴とする触媒の再生方法。
(3) In the method for regenerating a catalyst according to claim 1, in addition to the step of regenerating the catalyst in the first to third processing chambers, the spent catalyst is transferred to a fourth processing chamber that is continuous with the third processing chamber. It is characterized by providing a step of completely removing residual carbon by lowering the gas through the porous flow section by gravity and passing it across the porous flow section while flowing the processing gas into the fourth processing chamber. A method for regenerating a catalyst.
(4)第3請求項記載の触媒の再生方法において、第四
処理室内に導入する処理ガスは、その温度を450〜6
00℃、酸素濃度を3.0〜10.0% としたことを特徴とする触媒の再生方法。
(4) In the method for regenerating a catalyst according to claim 3, the processing gas introduced into the fourth processing chamber has a temperature of 450 to 6
A method for regenerating a catalyst, characterized in that the temperature is 00°C and the oxygen concentration is 3.0 to 10.0%.
(5)廃触媒中の油分を除去する第一処理室と、硫黄分
を除去する第二処理室と、炭素分を除去する第三処理室
とを鉛直方向に連結して設け、各処理室内に廃触媒が降
下する多孔状流通部と処理ガス流通部を設けると共に、
各処理室にこの多孔状流通部を処理ガスが横切るように
処理ガス導入口と処理ガス排出口を設けたことを特徴と
する触媒の再生装置。
(5) A first treatment chamber for removing oil from the spent catalyst, a second treatment chamber for removing sulfur, and a third treatment chamber for removing carbon are vertically connected, and each treatment chamber In addition to providing a porous flow section through which the waste catalyst descends and a processing gas flow section,
A catalyst regeneration device characterized in that each processing chamber is provided with a processing gas inlet and a processing gas outlet so that the processing gas crosses the porous flow section.
(6)第5請求項記載の触媒の再生装置において、前記
第三処理室の後に更に炭素分を除去する第四処理室を鉛
直方向に連結して設けたことを特徴とするとする触媒の
再生装置。
(6) The catalyst regeneration apparatus according to claim 5, characterized in that a fourth processing chamber for further removing carbon content is provided after the third processing chamber and connected in a vertical direction. Device.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6094145A (en) * 1983-10-03 1985-05-27 エイチアールアイ・インコーポレーテツド Continuous catalyst regeneration due to stepwise combustion removal of carbon and sulfur compounds
JPS62191038A (en) * 1985-12-27 1987-08-21 ユ−オ−ピ− インコ−ポレイテツド Method and apparatus for regenerating hydrocarbon convertingcatalyst

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