JPH02284837A - Compensation of stage tare in vertical state - Google Patents

Compensation of stage tare in vertical state

Info

Publication number
JPH02284837A
JPH02284837A JP1105060A JP10506089A JPH02284837A JP H02284837 A JPH02284837 A JP H02284837A JP 1105060 A JP1105060 A JP 1105060A JP 10506089 A JP10506089 A JP 10506089A JP H02284837 A JPH02284837 A JP H02284837A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
fine movement
air cylinder
pressure
thrust
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1105060A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toru Kamata
徹 鎌田
Fumio Tabata
文夫 田畑
Hidenori Sekiguchi
英紀 関口
Yuji Sakata
裕司 阪田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP1105060A priority Critical patent/JPH02284837A/en
Publication of JPH02284837A publication Critical patent/JPH02284837A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To perform the compensation of a tare with high reliability by forming the structure that the pressure offsetting the tare of a Y stage generates thrust in the state of the pressure offsetting the tares of both stages in the state of a jogging stage is bonded with the Y stage being released with its generation of a thrust on an air cylinder. CONSTITUTION:In the state of a jogging stage 8 being bonded with a Y stage 5 the pressure PH set by a 1st regulator 18 generates a thrust FH on an air cylinder 13 through the passages 25, 26 provided with the jogging stage 8 and a Y stage 5 and a shuttle valve 26. In the state of the jogging stage 8 being released from the Y stage 5 the jogging stage 8 and Y stage 5 are separated and so the pressure PH set by the 1st regulator 18 is released to the atmosphere and the pressure PL set by a 2nd regulator 19 generates a thrust FL on the air cylinder 13 through a shuttle valve 22. The state of the jogging state 8 is directly related to the pressure setting of the air cylinder 13 to perform the changeover of the thrust.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 縦型ステージに於けるステージの自重を補償する方法に
関し、 鉛直方向のステージの自重補償が高い信頼性で行われる
ようになることを目的とし、 縦型ステージに於けるXYステージのXステージのY軸
方向が鉛直方向と一致する場合に、Xステージにエアシ
リンダをそのスライド方向がY軸方向と一致するように
取付け、エアシリンダの移動部をYステージに結合し圧
搾空気を注入して、該Yステージとその搭載部材である
微動ステージの自重とは逆方向で且つ等しい大きさの定
常推力を発生させる縦型ステージに於けるステージ自重
補償方法であって、微動ステージがYステージに結合し
た状態では、第1のレギュレータで設定したYステージ
及び微動ステージの自重を相殺する圧力(PH)が微動
 ステージ及びYステージに備えた流路25及び26、
並びにシャトル弁を通してエアシリンダに推力(FH)
を発生させ、微動ステージがYステージから離脱した状
態では、第2のレギュレータで設定したYステージの自
重を相殺する圧力(PL)がシャトル弁を通じてエアシ
リンダに推力(FL)を発生させるように構成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] Regarding a method of compensating for the dead weight of a stage in a vertical stage, the purpose of this invention is to compensate for the dead weight of the stage in the vertical direction with high reliability. When the Y-axis direction of the X stage of the XY stage matches the vertical direction, install the air cylinder on the X stage so that its sliding direction matches the Y-axis direction, and move the moving part of the air cylinder to the Y stage. This is a stage weight compensation method for a vertical stage, in which compressed air is injected into the vertical stage to generate a steady thrust force in the opposite direction and equal in magnitude to the weight of the Y stage and its mounting member, the fine movement stage. When the fine movement stage is connected to the Y stage, the pressure (PH) that offsets the weight of the Y stage and the fine movement stage set by the first regulator is applied to the flow channels 25 and 26 provided in the fine movement stage and the Y stage.
and thrust (FH) to the air cylinder through the shuttle valve.
is generated, and when the fine movement stage is separated from the Y stage, the pressure (PL) that offsets the self weight of the Y stage set by the second regulator is configured to generate thrust (FL) in the air cylinder through the shuttle valve. do.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、縦型ステージに於けるステージの自重を補償
する方法に関する。
The present invention relates to a method for compensating for stage weight in a vertical stage.

LSIの微細化高集積化に伴って、マスク上の回路パタ
ーンをウェハ上に露光転写する技術に益々高精度化が要
求されている。
2. Description of the Related Art As LSIs become smaller and more highly integrated, techniques for exposing and transferring circuit patterns on a mask onto a wafer are required to have higher precision.

本発明は、主としてマスク上の回路パターンをウェハ上
に露光転写するステッパーに適用するものであって、ス
テージの自重を補償してマスクとウェハの位置決めを高
精度で行うことを可能とするものである。
The present invention is mainly applied to a stepper that exposes and transfers a circuit pattern on a mask onto a wafer, and makes it possible to position the mask and wafer with high precision by compensating for the weight of the stage. be.

〔従来の技術) 本発明が土として適用される例えばシンクロトロン軌道
放射光(以下SORと称す)を光源としてマスク上の回
路パターンをウェハ上に露光転写する縦型ステージは、
SOR光が水平に放射される事と、SOR光の波長が非
常に短い為にミラ等で反射させて方向を変えることが出
来ない為に、マスクやウェハは垂直に配置され露光され
るように構成されている。
[Prior Art] A vertical stage to which the present invention is applied, for example, uses synchrotron orbital radiation (hereinafter referred to as SOR) as a light source to expose and transfer a circuit pattern on a mask onto a wafer.
Because the SOR light is emitted horizontally and the wavelength of the SOR light is very short, it cannot be reflected by a mirror or the like to change the direction, so the mask and wafer are placed vertically and exposed. It is configured.

第3図の説明図に示す如く縦型ステージの直立したウェ
ハステージベースlの正面には、X軸ガイド2があり、
X軸ガイド2の上には移動自在にXステージ3があり、
Xステージ3の上にはY軸ガイド4があり、Y軸ガイド
4の上には移載部27を搭載した移動自在なるXステー
ジ5があって、図示省略したリニアボールねし等を使用
した移動機構を備えており、このXYの2つのガイドで
ウェハの大凡の位置決めをする粗動ステージ6を構成し
ている。
As shown in the explanatory diagram of FIG. 3, there is an X-axis guide 2 in front of the upright wafer stage base l of the vertical stage.
Above the X-axis guide 2 is a movable X stage 3.
Above the X stage 3 is a Y-axis guide 4, and above the Y-axis guide 4 is a movable X stage 5 equipped with a transfer section 27, using a linear ball screw or the like (not shown). It is equipped with a moving mechanism, and these two XY guides constitute a coarse movement stage 6 that roughly positions the wafer.

Xステージ5の上には、ウェハ7を保持して例えば圧電
素子等の電気−機械変換素子を使用してXY力方向精密
な位置決めを行う微動ステージ8が移動可能に取付けら
れている。
A fine movement stage 8 is movably mounted on the X stage 5 for holding the wafer 7 and performing precise positioning in the XY force directions using an electro-mechanical transducer such as a piezoelectric element.

従ってウェハ7は、Xステージ5及び微動ステージ8に
依ってXY力方向自在に移動することが出来、ステップ
アンドリピート動作に依って露光すべきウェハ7のエリ
アをマスクテーブル9に保持されたマスク10に順次位
置せしめ、マスク10を通じて照射されるSOR光11
に依って露光される。
Therefore, the wafer 7 can be freely moved in the XY force directions by the X stage 5 and the fine movement stage 8, and the area of the wafer 7 to be exposed can be moved by the step-and-repeat operation using the mask 10 held on the mask table 9. SOR light 11 is sequentially positioned at
exposed to light.

斯かる縦型ステージに於いてY軸を鉛直方向と一致させ
て構成する場合、第4図(a)の説明図に示す如く、Y
軸ガイド4上を移動するXステージ5及び微動ステージ
8の荷重12に対向する為に、定常的な出力が要求され
る。
When configuring such a vertical stage so that the Y axis coincides with the vertical direction, as shown in the explanatory diagram of FIG. 4(a),
A constant output is required to counter the load 12 of the X stage 5 and fine movement stage 8 moving on the axis guide 4.

この荷重12を補償する手段として、図示の如く例えば
ロッドレスシリンダ等のエアシリンダ13をスライド方
向がY軸と一致するようにXステージ3に取付け、エア
シリンダ13の移動部であるピストンヨーク14とXス
テージ5を連結し、レギュレータ1Gを介してエアシリ
ンダ13に圧搾空気を適量注入して荷重12とは逆方向
で且つ等しい大きさの定常推力15を発生させる方法が
ある。
As a means to compensate for this load 12, as shown in the figure, an air cylinder 13 such as a rodless cylinder is attached to the X stage 3 so that its sliding direction coincides with the Y axis, and the piston yoke 14, which is the moving part of the air cylinder 13, There is a method of connecting the X stage 5 and injecting an appropriate amount of compressed air into the air cylinder 13 via the regulator 1G to generate a steady thrust 15 of the same magnitude and in the opposite direction to the load 12.

上記の如き自重の補償方法の場合、同図(b)の説明図
に示す如(、微動ステージ8がXステージ5から離脱す
ると、Xステージ5の駆動系に対する荷重がXステージ
5の自重のみとなり、エアシリンダ13の出力が上回る
分だけXステージ5に対して鉛直上方向に定常推力17
が発生し、Xステージ5の駆動系は突然発生した過大な
外力に対向する為に、外力とは逆向きで且つ等しい推力
をエアシリンダ13に生じさせる必要がある。
In the case of the above self-weight compensation method, as shown in the explanatory diagram of FIG. , a steady thrust 17 is generated vertically upward against the X stage 5 by the amount that the output of the air cylinder 13 exceeds.
occurs, and in order for the drive system of the X stage 5 to face the suddenly generated excessive external force, it is necessary to generate a thrust in the air cylinder 13 in the opposite direction to and equal to the external force.

この為には、駆動用アクチエータやパワーアンブを大型
高性能化する方法もあるが、−船釣には装置の低価格化
、小型化、省エネルギー化等に阻まれて実現できない。
For this purpose, there is a method of increasing the size and performance of the drive actuator and power amplifier, but this cannot be realized for boat fishing due to the need to reduce the cost, size, and energy saving of equipment.

そこで第5図に示す如く、エアシリンダ13の推力を切
り換える方法が使用される。
Therefore, as shown in FIG. 5, a method of switching the thrust of the air cylinder 13 is used.

つまり、微動ステージ8がYステージ5から離脱した場
合には、エアシリンダ13が発生する推力を、Yステー
ジ5の自重のみに対向するように設定するものである。
In other words, when the fine movement stage 8 is separated from the Y stage 5, the thrust generated by the air cylinder 13 is set so as to oppose only the weight of the Y stage 5.

図に於いて、18はYステージ5及び微動ステージ8の
自重と等しい圧力PHを設定する第1のレギュレータ、
19はYステージ5の自重と等しい圧力PLを設定する
第2のレギュレータ、20は第1のレギュレータ18に
接続された第1の3ボート電磁弁、21は第2のレギュ
レータ19に接続された第2の3ポート電磁弁、22は
第1と第2の3ボート電磁弁20.21とエアシリンダ
13との中間に介在するシャトル弁、23は微動ステー
ジ8とYステージ5の結合状態を検知する例えば光学セ
ンサで成る検知手段、24は検知手段23の情報に基づ
いて第1と第2の3ボート電磁弁20.21を切り換え
る例えばリレーで成る制御手段である。
In the figure, 18 is a first regulator that sets a pressure PH equal to the weight of the Y stage 5 and fine movement stage 8;
19 is a second regulator that sets a pressure PL equal to the weight of the Y stage 5; 20 is a first three-boat solenoid valve connected to the first regulator 18; and 21 is a second regulator connected to the second regulator 19. 2, a 3-port solenoid valve; 22, a shuttle valve interposed between the first and second 3-boat solenoid valves 20, 21 and the air cylinder 13; 23, detecting the coupling state of the fine movement stage 8 and Y stage 5; The detection means 24 is, for example, an optical sensor, and the control means 24 is a control means, for example, a relay, which switches the first and second three-boat electromagnetic valves 20, 21 based on the information from the detection means 23.

以下、動作説明をする。The operation will be explained below.

同図(a)に示す如く、微動ステージ8がYステージ5
に結合した状態に於いては、第1のレギュレータ18で
設定された圧力PHが第1の3ボート電磁弁20及びシ
ャトル弁22を通じてエアシリンダ13に推力FHを発
生させる。
As shown in the same figure (a), the fine movement stage 8 is the Y stage 5.
In the state where the air cylinder 13 is connected to the air cylinder 13, the pressure PH set by the first regulator 18 causes the air cylinder 13 to generate a thrust force FH through the first three-boat solenoid valve 20 and the shuttle valve 22.

一方、同図(b)に示す如(、微動ステージ8がYステ
ージ5から離脱した状態に於いては、第2のレギュレー
タ19で設定された圧力PLが第2の3ポート電磁弁2
1及びシャトル弁22を通じてエアシリンダ13に推力
FLを発生させる。
On the other hand, as shown in FIG. 2(b), when the fine movement stage 8 is detached from the Y stage 5, the pressure PL set by the second regulator 19 is applied to the second 3-port solenoid valve 2.
A thrust force FL is generated in the air cylinder 13 through the air cylinder 1 and the shuttle valve 22.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記第5図の構成に於いては、検知手段23及び制御手
段24が必要である他に、検知手段23、制御手段24
.3ボート電磁弁20.21等の故障に依って下記の如
き問題点が発生する。
In the configuration shown in FIG. 5, in addition to the detection means 23 and the control means 24, the detection means 23 and the control means 24 are
.. The following problems occur due to failure of the three boat solenoid valves 20, 21, etc.

(1)  微動ステージ8がYステージ5に結合した状
態に於いては、エアシリンダ内の圧力がYステージ5及
び微動ステージ8の自重に対抗出来ずにステージが下降
する。
(1) When the fine movement stage 8 is coupled to the Y stage 5, the pressure within the air cylinder cannot counteract the weight of the Y stage 5 and the fine movement stage 8, and the stage descends.

(2)微動ステージ8がYステージ5から離脱した状態
に於いては、エアシリンダ内の圧力がYステージ5の自
重を上回り、ステージが上昇する。
(2) When the fine movement stage 8 is separated from the Y stage 5, the pressure inside the air cylinder exceeds the weight of the Y stage 5, and the stage rises.

本発明は、自重の補償が高い信頼性で行われるようにな
ることを目的とするものである。
The object of the present invention is to ensure that compensation for dead weight is carried out with high reliability.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成する為に本発明に於いては、第1図(a
)の説明図に示す如く、微動ステージ8がYステージ5
に結合した状態では、第1のレギュレータ18で設定し
たYステージ5、及び微動ステージ8の自重を相殺する
圧力(PH)が微動ステージ8及びYステージ5に備え
た流路25及び26、並びにシャトル弁22を通じてエ
アシリンダ13に推力(FH)を発生させ、微動ステー
ジ8がYステージ5から離脱した状態では、第2のレギ
ュレータ19で設定したYステージ5の自重を相殺する
圧力(PL)がシャトル弁22を通じてエアシリンダ1
3に推力(FL)を発生させるようにしたものである。
In order to achieve the above object, in the present invention, FIG.
), the fine movement stage 8 is the Y stage 5.
When the Y stage 5 and the fine movement stage 8 are connected to each other, the pressure (PH) set by the first regulator 18 that offsets the weight of the Y stage 5 and the fine movement stage 8 is applied to the flow paths 25 and 26 provided in the fine movement stage 8 and the Y stage 5, and the shuttle. A thrust (FH) is generated in the air cylinder 13 through the valve 22, and when the fine movement stage 8 is detached from the Y stage 5, the pressure (PL) set by the second regulator 19 that offsets the weight of the Y stage 5 is applied to the shuttle. Air cylinder 1 through valve 22
3 to generate thrust (FL).

〔作用〕[Effect]

(1)微動ステージ8がYステージ5に結合した状態に
於いては、第1のレギュレータ18で設定した圧力P)
(が微動ステージ8及びYステージ5に備えた流路25
及び26、並びにシャトル弁22を通じてエアシリンダ
13に推力FHを発生させる。
(1) When the fine movement stage 8 is connected to the Y stage 5, the pressure P set by the first regulator 18)
(The flow path 25 provided in the fine movement stage 8 and Y stage 5
, 26 , and the shuttle valve 22 to generate thrust FH in the air cylinder 13 .

シャトル弁22では、第1のレギュレータ18で設定し
た圧力PHが第2のレギュレータ19で設定した圧力P
Lより高圧である為に圧力PHが優先する。
In the shuttle valve 22, the pressure PH set by the first regulator 18 is equal to the pressure P set by the second regulator 19.
Since the pressure is higher than L, pressure PH has priority.

(2)微動ステージ8がYステージ5から離脱した状態
に於いては、微動ステージ8とYステージ5が分離する
為、第1のレギュレータ18で設定した圧力PHは大気
に解放され、第2のレギュレータ19で設定した圧力P
Lがシャトル弁22を通じてエアシリンダ13に推力F
Lを発生させる。
(2) When the fine movement stage 8 is separated from the Y stage 5, the fine movement stage 8 and the Y stage 5 are separated, so the pressure PH set by the first regulator 18 is released to the atmosphere, and the pressure PH set by the first regulator 18 is released to the atmosphere. Pressure P set by regulator 19
L is a thrust force F to the air cylinder 13 through the shuttle valve 22.
Generate L.

このように微動ステージ8の状態が直接的にエアシリン
ダ13の圧力設定に関与し、推力の切り換えを行う。
In this way, the state of the fine movement stage 8 directly affects the pressure setting of the air cylinder 13 and switches the thrust.

〔実施例〕〔Example〕

第1図及び第2図は本発明の一実施例である。 1 and 2 show one embodiment of the present invention.

全図を通じて同一部分には同一符号を付して示した。Identical parts are designated by the same reference numerals throughout the figures.

本発明に於いては、第1図(a)の説明図に示す如く、
微動ステージ8が粗動ステージ6に結合した状態では、
第1のレギュレータ18で設定した移載部27を含むX
ステージ5、及び微動ステージ8の自重を相殺する圧力
PHが該微動ステージ8及びXステージ5に備えた流路
25及び26、並びにシャトル弁22を通じてエアシリ
ンダ13に推力F [−(を発生させ、同図(b)に示
す如く、微動ステージ8が粗動ステージ6から離脱した
状態では、第2のレギュレータ19で設定したXステー
ジ5の自重を相殺する圧力PLがシャトル弁22を通じ
てエアシリンダ13に推力FLを発生させるようにした
ものである。
In the present invention, as shown in the explanatory diagram of FIG. 1(a),
When the fine movement stage 8 is coupled to the coarse movement stage 6,
X including the transfer section 27 set by the first regulator 18
The pressure PH that offsets the weight of the stage 5 and the fine movement stage 8 causes the air cylinder 13 to generate a thrust force F [-( As shown in FIG. 5B, when the fine movement stage 8 is separated from the coarse movement stage 6, the pressure PL set by the second regulator 19 to offset the weight of the X stage 5 is applied to the air cylinder 13 through the shuttle valve 22. It is designed to generate thrust FL.

即ち同図(a)の如(微動ステージ8が粗動ステージ6
のXステージ5に結合した状態に於いては、第1のレギ
ュレータ18で設定した圧力PHが、微動ステージ8及
びXステージ5に備えた流路25及び26並びにシャト
ル弁22を通じてエアシリンダ13に推力FHを発生さ
せる。
In other words, as shown in FIG.
When connected to the X stage 5, the pressure PH set by the first regulator 18 applies thrust to the air cylinder 13 through the flow channels 25 and 26 and the shuttle valve 22 provided in the fine movement stage 8 and the X stage 5. Generate FH.

この時、シャトル弁22では、第1のレギュレータ18
で設定した圧力PHが第2のレギュレータ19で設定し
た圧力PLより高圧である為に圧力PHが優先する。
At this time, in the shuttle valve 22, the first regulator 18
Since the pressure PH set in is higher than the pressure PL set by the second regulator 19, the pressure PH takes priority.

一方、同図い)の如く微動ステージ8が粗動ステージ6
から離脱した状態に於いては、微動ステージ8とXステ
ージ5が分離する為、第1のレギュレータ18で設定し
た圧力P Hは大気に解放され、第2のレギュレータ1
9で設定した圧力PLがシャトル弁22を通じてエアシ
リンダ13に推力FLを発生させる。
On the other hand, as shown in the same figure, the fine movement stage 8 and the coarse movement stage 6
When the fine movement stage 8 and the X stage 5 are separated from each other, the pressure PH set by the first regulator 18 is released to the atmosphere and
The pressure PL set in step 9 causes the air cylinder 13 to generate thrust FL through the shuttle valve 22.

このように微動ステージ8の状態が直接的にエアシリン
ダ13の圧力設定に関与し、推力の切り換えを行う為、
従来技術の問題点は解決する。
In this way, the state of the fine movement stage 8 directly affects the pressure setting of the air cylinder 13 and switches the thrust.
The problems of the prior art are solved.

第2図に依って本発明が適用された縦型ステージの露光
動作を説明する。
The exposure operation of the vertical stage to which the present invention is applied will be explained with reference to FIG.

(1)  同図(a)に示す如く、ウェハ7を搭載した
微動ステージ8は、Xステージ5の移載部27及びXス
テージ3に保持されている。
(1) As shown in FIG. 4A, the fine movement stage 8 on which the wafer 7 is mounted is held by the transfer section 27 of the X stage 5 and the X stage 3.

ウェハ7は上記XYステージの移動に依って、マスクテ
ーブル9のマスク10に対し位置決めを行この時、Xス
テージ5及び微動ステージ8の自重に対する補償は、第
1図(a)の状態で行われる。
The wafer 7 is positioned with respect to the mask 10 on the mask table 9 by the movement of the XY stage. At this time, compensation for the weight of the X stage 5 and fine movement stage 8 is performed in the state shown in FIG. 1(a). .

(2)同図(b)に示す如く、ウェハ7を搭載した微動
ステージ8は、移載部27のスライド動作に依ってマス
クテーブル(走査ステージ)9に移転する。
(2) As shown in FIG. 4B, the fine movement stage 8 on which the wafer 7 is mounted is transferred to the mask table (scanning stage) 9 by the sliding movement of the transfer section 27.

この時、Xステージ5及び微動ステージ8の自重に対す
る補償は、第1図(a)の状態で行われる。
At this time, compensation for the weight of the X stage 5 and fine movement stage 8 is performed in the state shown in FIG. 1(a).

(3)同図(C)に示す如く、ウェハ7を搭載した微動
ステージ8はマスクテーブル9に保持され、Xステージ
5は移載部27のスライド動作に依って原位置に戻る。
(3) As shown in FIG. 2C, the fine movement stage 8 on which the wafer 7 is mounted is held by the mask table 9, and the X stage 5 returns to its original position by the sliding movement of the transfer section 27.

この時、Xステージ5の自重に対する補償は、第1図(
1))の状態で行われる。
At this time, compensation for the own weight of the X stage 5 is shown in Figure 1 (
1))).

(4)同図(d)に示す如く、マスクテーブル9の走査
運動とSOR光11に依って露光を行う。
(4) As shown in FIG. 4(d), exposure is performed by the scanning movement of the mask table 9 and the SOR light 11.

この時、Xステージ5の自重に対する補償は、第1図(
b)の状態で行われる。
At this time, compensation for the own weight of the X stage 5 is shown in Figure 1 (
b).

(5)同図(e)に示す如く、マスクテーブル9の走査
運動が終了した後、微動ステージ8は走査原点に戻る。
(5) As shown in FIG. 4(e), after the scanning movement of the mask table 9 is completed, the fine movement stage 8 returns to the scanning origin.

この時、Xステージ5の自重に対する補償は第1図(b
)の状態で行われる。
At this time, compensation for the own weight of the X stage 5 is shown in Figure 1 (b
).

(6)同図(f)に示す如(、Xステージ5がマスクテ
ーブル9の方向にスライドし、微動ステージ8と結合す
る。
(6) As shown in FIG. 4(f), the X stage 5 slides in the direction of the mask table 9 and is coupled to the fine movement stage 8.

次に微動ステージ8及びXステージ5は、移載部27の
スライド動作に依って原位置に戻る。
Next, the fine movement stage 8 and the X stage 5 return to their original positions by the sliding operation of the transfer section 27.

この時、Xステージ5及び微動ステージ8の自重に対す
る補償は、第1図(a)の状態で行われる。
At this time, compensation for the weight of the X stage 5 and fine movement stage 8 is performed in the state shown in FIG. 1(a).

〔発明の効果] 本発明に依って、従来技術の検知手段や3ボート電磁弁
、及び3ポート弁の制御手段が不要になって、低価格化
が達成出来る他、微動ステージの状態が直接的にエアシ
リンダの圧力設定に関与して推力の切り換えを行う構成
の為、自重補償が高い信頼性で行われるようになる等、
経済上及び産業上に多大の効果を奏する。
[Effects of the Invention] According to the present invention, the detection means, 3-boat electromagnetic valve, and 3-port valve control means of the prior art are no longer necessary, and in addition to achieving cost reduction, the state of the fine movement stage can be directly detected. Because the configuration involves changing the air cylinder pressure and switching the thrust, self-weight compensation is performed with high reliability, etc.
It has great economic and industrial effects.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(a)は本発明の縦型ステージに於けるステージ
自重補償方法の説明図、 第1図[有])は同図(a)で微動ステージが粗動ステ
ージから離脱した状態を示す説明図、 第2図(a)〜(f)は本発明の縦型ステージに於ける
ステージ自重補償方法の動作説明図、 第3図は本発明が適用される縮型ステージの説明図、 第4図(a)、(b)は縦型ステージに於ける従来技術
のステージ自重補償方法の説明図、 第5図(a)、(b)は第4図の問題点を解決した従来
技術のステージ自重補償方法の説明図である。 図に於いて、 1はウェハステージ、 3はXステージ、 5はYステージ、 7はウェハ、 9はマスクテーブル、 11はSOR光、 13はエアシリンダ、 14は移動部(ピストンヨーク)、 15.17は定常推力、  16はレギュレータ、18
は第1のレギュレータ、 19は第2のレギュレータ、 20は第1の3ボート電磁弁、 21は第2の3ボート電磁弁、 22はシャトル弁、   23は検知手段、24は制御
手段、    25.26は流路、2はX軸ガイド、 4はY軸ガイド、 6は粗動ステージ、 8は微動ステージ、 10はマスク、 12は荷重、 (aン !?叫の蝮、型ステージ(=かけろステージ自重神償方
ユ犬/)!明図第 図 (で− 同I!l(コ)宿収動ステーシカζ澤且動ステージ、η
゛ら離脱した状把?示すさ免明因第1 図(〒f)2) 本発明の板製ステージ(二於けうステージ白1神償方法
の動イY説明図第 図 茅
Figure 1 (a) is an explanatory diagram of the stage weight compensation method in a vertical stage of the present invention, and Figure 1 (a) shows the state in which the fine movement stage is separated from the coarse movement stage. 2(a) to 2(f) are explanatory diagrams of the operation of the stage self-weight compensation method in a vertical stage of the present invention; FIG. 3 is an explanatory diagram of a contracted stage to which the present invention is applied; Figures 4 (a) and (b) are explanatory diagrams of a conventional stage self-weight compensation method for a vertical stage, and Figures 5 (a) and (b) are illustrations of a conventional technique that solves the problems in Figure 4. FIG. 3 is an explanatory diagram of a stage dead weight compensation method. In the figure, 1 is a wafer stage, 3 is an X stage, 5 is a Y stage, 7 is a wafer, 9 is a mask table, 11 is an SOR light, 13 is an air cylinder, 14 is a moving part (piston yoke), 15. 17 is steady thrust, 16 is regulator, 18
19 is a first regulator; 20 is a first 3-boat solenoid valve; 21 is a second 3-boat solenoid valve; 22 is a shuttle valve; 23 is a detection means; 24 is a control means; 25. 26 is the flow path, 2 is the X-axis guide, 4 is the Y-axis guide, 6 is the coarse movement stage, 8 is the fine movement stage, 10 is the mask, 12 is the load, Stage self-respect god redemption method yu dog /)! Ming map diagram (de- same I! l (ko) accommodation stage deer ζ 澤且moving stage, η
Is it like you left? Figure 1 (F) 2) The board stage of the present invention (2nd Stage White 1) Movement of the Divine Atonement Method

Claims (1)

【特許請求の範囲】 縦型ステージに於けるXYステージのYステージ(5)
のY軸方向が鉛直方向と一致する場合に、Xステージ(
3)にエアシリンダ(13)をそのスライド方向がY軸
方向と一致するように取付け、前記エアシリンダ(13
)の移動部(14)を前記Yステージ(5)に結合し圧
搾空気を注入して、該Yステージ(5)とその搭載部材
である微動ステージ(8)の自重とは逆方向で且つ等し
い大きさの定常推力を発生させる縦型ステージに於ける
ステージ自重補償方法であって、 前記微動ステージ(8)が前記Yステージ(5)に結合
した状態では、第1のレギュレータ(18)で設定した
前記Yステージ(5)、及び微動ステージ(8)の自重
を相殺する圧力(PH)が該微動ステージ(8)及びY
ステージ(5)に備えた流路25及び26、並びにシャ
トル弁(22)を通じて前記エアシリンダ(13)に推
力(FH)を発生させ、前記微動ステージ(8)が前記
Yステージ(5)から離脱した状態では、第2のレギュ
レータ(19)で設定した前記Yステージ(5)の自重
を相殺する圧力(PL)が前記シャトル弁(22)を通
じて前記エアシリンダ(13)に推力(FL)を発生さ
せるようにしたことを特徴とする縦型ステージに於ける
ステージ自重補償方法。
[Claims] Y stage (5) of the XY stage in the vertical stage
When the Y-axis direction of matches the vertical direction, the X stage (
Attach the air cylinder (13) to the air cylinder (13) so that its sliding direction coincides with the Y-axis direction, and
) is coupled to the Y stage (5) and compressed air is injected so that the weights of the Y stage (5) and the fine movement stage (8), which is its mounting member, are opposite and equal to each other. A stage self-weight compensation method in a vertical stage that generates a steady thrust of a magnitude, wherein when the fine movement stage (8) is coupled to the Y stage (5), the first regulator (18) sets the The pressure (PH) that offsets the weight of the Y stage (5) and the fine movement stage (8) caused by the fine movement stage (8) and the Y stage (8)
Thrust (FH) is generated in the air cylinder (13) through flow channels 25 and 26 provided in the stage (5) and the shuttle valve (22), and the fine movement stage (8) is separated from the Y stage (5). In this state, the pressure (PL) set by the second regulator (19) that offsets the weight of the Y stage (5) generates a thrust force (FL) in the air cylinder (13) through the shuttle valve (22). A stage weight compensation method for a vertical stage, characterized in that the stage weight is compensated for in a vertical stage.
JP1105060A 1989-04-25 1989-04-25 Compensation of stage tare in vertical state Pending JPH02284837A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1105060A JPH02284837A (en) 1989-04-25 1989-04-25 Compensation of stage tare in vertical state

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1105060A JPH02284837A (en) 1989-04-25 1989-04-25 Compensation of stage tare in vertical state

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02284837A true JPH02284837A (en) 1990-11-22

Family

ID=14397429

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1105060A Pending JPH02284837A (en) 1989-04-25 1989-04-25 Compensation of stage tare in vertical state

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02284837A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014090198A (en) * 2007-03-05 2014-05-15 Nikon Corp Mobile device and patterning device, and mobile driving method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014090198A (en) * 2007-03-05 2014-05-15 Nikon Corp Mobile device and patterning device, and mobile driving method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6049186A (en) Method for making and operating an exposure apparatus having a reaction frame
US8179621B2 (en) Apparatus for manipulation of an optical element
KR100325644B1 (en) Stage system and stage driving method for use in exposure apparatus
US6337484B1 (en) Positioning device and lithographic projection apparatus comprising such a device
US6441884B1 (en) Projection exposure apparatus
US8358401B2 (en) Stage apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
JP5348630B2 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
US5881987A (en) Vibration damping apparatus
US20060175993A1 (en) Alignment apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US20060092394A1 (en) Lithographic tool with dual isolation system and method for configuring the same
US20040017623A1 (en) Deformable mirror with high-bandwidth servo for rigid body control
CN101464634B (en) Lithographic apparatus, workbench system and its control method
JP6862543B2 (en) Motor assembly, lithographic equipment, and device manufacturing methods
US6999162B1 (en) Stage device, exposure system, method of device manufacture, and device
KR20040014219A (en) Support device and production method thereof, stage device, and exposure apparatus
JP5348628B2 (en) Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US20050236908A1 (en) Stage positioning unit for photo lithography tool and for the like
KR20040007448A (en) Holding device, holding method, exposure device, and device manufacturing method
US10310392B2 (en) Positioning device, lithographic apparatus and device manufacturing method
KR102014586B1 (en) Mobile body apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JPH02284837A (en) Compensation of stage tare in vertical state
JP2012531030A (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
JP2001023896A (en) Stage device and aligner
KR102595405B1 (en) Mobile unit apparatus, exposure apparatus, method for manufacturing flat panel display, method for manufacturing device, and method for driving mobile unit
KR102209597B1 (en) Stage system, lithographic apparatus and device manufacturing method