JPH0228208A - Radiation-sensitive copolymer and production thereof - Google Patents

Radiation-sensitive copolymer and production thereof

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JPH0228208A
JPH0228208A JP10236889A JP10236889A JPH0228208A JP H0228208 A JPH0228208 A JP H0228208A JP 10236889 A JP10236889 A JP 10236889A JP 10236889 A JP10236889 A JP 10236889A JP H0228208 A JPH0228208 A JP H0228208A
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JP
Japan
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copolymer
ditrophenyl
general formula
ester
group
Prior art date
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Pending
Application number
JP10236889A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatatomi Nishikubo
忠臣 西久保
Koji Iizawa
飯沢 孝司
Makoto Murata
誠 村田
Mitsunobu Komurasaki
小紫 満信
Yoshiyuki Harita
榛田 善行
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
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Publication date
Application filed by Japan Synthetic Rubber Co Ltd filed Critical Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Publication of JPH0228208A publication Critical patent/JPH0228208A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject copolymer, capable of being soluble and insoluble in solvents according to wavelengths of radiation to be irradiated and suitable as resist materials for transferring picture images by reacting specific two kinds of compounds and an amine compound. CONSTITUTION:The objective copolymer, obtained by reacting a compound expressed by formula I [R<1> and R<2> are halogen, alkyl or aryl) [e.g., di(nitrophenyl) 2,4-dimethylcyclobutane-1,3-dicarboxylate] with a compound expressed by formula II (R<3> is bifunctional organic group; R<4> and R<5> are H, halogen or cyano; y and z are 0-3) [e.g., di(nitrophenyl) phenylene diacrylate] and an amine compound (e.g., 1,3-dipiperidylpropane) and having structural units expressed by formulas III and IV and 0.1-4dl/g reduced viscosity (0.5g/dl in concentrated sulfuric acid at 30 deg.C).

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] yおよびZは前記 本発明は感放射線性共重合体に関し、特に画像イメージ
を転写するレジスト材料として好適な感放射線性共重合
体およびその製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] y and Z are the aforementioned radiation-sensitive copolymers, and in particular, radiation-sensitive copolymers suitable as resist materials for transferring image images and their production. Regarding the method.

[従来の技術] 現在、感放射線性樹脂は種々の用途に広く使用されてい
る。感放射線性樹脂には、放射線を照射した部分が溶媒
に不溶化するネガ型のものと、放射線を照射した部分が
溶媒に可溶化するポジ型のものがあり、このネガ型また
はポジ型の感放射線性樹脂は用途により使い分けられて
いる。これらの感放射線性樹脂は、例えばIC5LSI
、プリント基板回路などの微細加工において、画像イメ
ージを転写したレジストパターンを形成するレジスト材
料として用いられている。
[Prior Art] Currently, radiation-sensitive resins are widely used for various purposes. There are two types of radiation-sensitive resins: negative-type resins in which the irradiated part becomes insoluble in the solvent, and positive-type resins in which the irradiated part becomes soluble in the solvent. Polymer resins are used differently depending on their purpose. These radiation-sensitive resins include, for example, IC5LSI
In microfabrication of printed circuit board circuits, etc., it is used as a resist material to form a resist pattern onto which an image is transferred.

[発明が解決しようとする問題点コ しかしながら、従来の感放射線性樹脂をレジスト材料と
して用いた場合、画像イメージを転写する際に不必要な
レジストパターンの発生が生じてしまうと、その不必要
なレジストパターンを選択的に修正することは不可能で
あった。
[Problems to be solved by the invention] However, when conventional radiation-sensitive resins are used as resist materials, unnecessary resist patterns are generated when transferring images. It was not possible to selectively modify the resist pattern.

本発明は上記の問題点を解決し、放射線を照射した場合
に、その波長を選択することにより架橋反応または分解
反応を起こし、溶媒可溶性にも溶媒不溶性にもすること
ができ、例えばレジスト材料として用いた場合に、発生
してしまった不必要なレジストパターンを後から修正す
ることのできる感放射線共重合体を提供するものである
The present invention solves the above problems, and when irradiated with radiation, a crosslinking reaction or a decomposition reaction occurs by selecting the wavelength, making it solvent soluble or solvent insoluble. For example, it can be used as a resist material. The object of the present invention is to provide a radiation-sensitive copolymer that allows unnecessary resist patterns to be corrected later when used.

[問題点を解決するための手段] すなわち本発明は、下記一般式(I)で表わされる構造
単位および下記一般式(n)で表わされる構造単位を有
する還元粘度0. 1〜4舐/g(0,5g/dj2.
1JJ2中、30°C)ノ感放射線性共重合体およびそ
の製造方法を提供するものである。
[Means for Solving the Problems] That is, the present invention provides a structure having a structural unit represented by the following general formula (I) and a structural unit represented by the following general formula (n) and having a reduced viscosity of 0. 1-4 licks/g (0.5g/dj2.
1JJ2 at 30°C) and a method for producing the same.

(式中、R1およびR2は同一でも異なってもよく、ハ
ロゲン原子、アルキル基またはアリール基を示す) 0 凡’                     
     R’ 0+1  1 −C−c=cH+CH=CH+R,3+CH=CH+−
CH=C−C−(II)(式中、R3は2価の有機基を
示し、R4およびR5は同一でも異なってもよく、水素
原子、ハロゲン原子またはシアノ基を示し、yおよび2
は0〜3の数である) 本発明の感放射線性共重合体(以下、単に「共重合体」
という)は、前記一般式(I)および(n)で表わされ
る構造単位を、通常、モル比1:9〜9:1、好ましく
は2:8〜8:2の割合で有するものである。
(In the formula, R1 and R2 may be the same or different and represent a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group.)
R' 0+1 1 -Cc=cH+CH=CH+R, 3+CH=CH+-
CH=C-C-(II) (wherein, R3 represents a divalent organic group, R4 and R5 may be the same or different, represent a hydrogen atom, a halogen atom or a cyano group, and y and 2
is a number from 0 to 3) The radiation-sensitive copolymer of the present invention (hereinafter simply referred to as "copolymer")
) has the structural units represented by the general formulas (I) and (n) in a molar ratio of usually 1:9 to 9:1, preferably 2:8 to 8:2.

前記一般式(I)におけるR1およびR2としでは、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素数
1〜4のアルキル基;塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
などのハロゲン原子;フェニル基、キシリル基、トリル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、メトキシフ
ェニル基などの炭素数6〜20のアリール基が挙げられ
、R1およびR2は同一でも異なってもよい。
R1 and R2 in the general formula (I) include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group; a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom; a phenyl group , a xylyl group, a tolyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a methoxyphenyl group, and other aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, and R1 and R2 may be the same or different.

これらのR1およびR2のうち、フェニル基、メトキシ
フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基など
が好ましい。
Among these R1 and R2, phenyl group, methoxyphenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, etc. are preferable.

前記一般式(I)におけるyおよび2は、0が好ましい
y and 2 in the general formula (I) are preferably 0.

また、前記一般式(II)におけるR3である有機基と
しては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基
、テトラメチレン基などの炭素数1〜6のアルキレン基
、フェニレン基、キシリレン基、トリレン基、ニトロフ
ェニレン基、シアノフェニレン基、ナフチレン基などの
炭素数6〜20のアリーレン基が挙げられ、フェニレン
基、キシリレン基、トリレン基などが好ましい。
In addition, examples of the organic group represented by R3 in the general formula (II) include alkylene groups having 1 to 6 carbon atoms such as methylene group, ethylene group, propylene group, and tetramethylene group, phenylene group, xylylene group, tolylene group, Examples include arylene groups having 6 to 20 carbon atoms such as nitrophenylene group, cyanophenylene group, and naphthylene group, with phenylene group, xylylene group, and tolylene group being preferred.

さらに、R4およびR5であるハロゲン原子としては、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙
げられる。
Furthermore, as the halogen atoms that are R4 and R5,
Examples include fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, and iodine atom.

本発明の共重合体は、前記一般式(I)および(II)
で表わされる構造が、通常、下記一般式(V)で表わさ
れる構造を介して結合しているものである。
The copolymer of the present invention has the general formulas (I) and (II)
The structures represented by are usually bonded via a structure represented by the following general formula (V).

一般式(V) X  =         (V) 前記一般式(V)におけるXとしては、後記するアミン
化合物の2つの第1級または第2級アミン基から水素原
子を1つずつ除いたアミン化合物残基を挙げることがで
きる。
General formula (V) can be mentioned.

本発明の共重合体は、例えば下記一般式(III)で表
わされる化合物(以下「化合ウニ」と称する)、下記一
般式(IV)(以下「化合物■」と称する)で表わされ
る化合物およびアミン化合物モノマーとして反応させる
ことにより得られる。
The copolymer of the present invention includes, for example, a compound represented by the following general formula (III) (hereinafter referred to as "compound sea urchin"), a compound represented by the following general formula (IV) (hereinafter referred to as "compound ■"), and an amine. It is obtained by reacting the compound as a monomer.

(式中、R1およびR2は前記一般式(I)と同じ) 凡5 =C 000−@+N0t (IV) (式中、R3、R4、R5yおよびZは前記一般式(I
I)と同様である) 前記化合物Iとしては“、2,4−ジメチルシクロブタ
ン−1,3−ジカルボン酸ジにトロフェニル)エステル
、3.4−ジメチルシクロブタン−1,2−ジカルボン
酸ジにトロフェニル)エステル、2,4−ジクロロシク
ロブタン−1,3ジカルボン酸ジにトロフェニル)エス
テル、3.4−ジクロロシクロブタン−1,2−ジカル
ボン酸ジにトロフェニル)エステル、2.4−ジフェニ
ルシクロブタン−1,3−ジカルボン酸ジ(ニトロフェ
ニル)エステル、3,4−ジフェニルシクロブタン−1
,2−ジカルボン酸ジにトロフェニル)エステル、2,
4−ジ(メトキシフェニル)シクロブタン−1,3−ジ
カルボン酸ジにトロフェニル)エステル、3,4−ジ(
メトキシフェニル)シクロブタン−1,2−ジカルボン
酸ジにトロフェニル)エステル、2.4−ジにトロフェ
ニル)シクロブタン−1,3−ジカルボン酸ジにトロフ
ェニル)エステル、3゜4−ジにトロフェニル)シクロ
ブタン−1,2−ジカルボン酸ジにトロフェニル)エス
テル、2.4−ジ(シアノフェニル)シクロブタン−1
゜3−ジカルボン酸ジ(ニトロフェニル)エステル、3
.4−ジ(シアノフェニル)シクロブタン−1゜2−ジ
カルボン酸ジにトロフェニル)エステルなどを挙げるこ
とができ、これらのうちでは、2゜4−ジフェニルシク
ロブタン−1,3−ジカルボン酸ジにトロフェニル)エ
ステル、3,4−ジフェニルシクロブタン−1,2−ジ
カルボン酸ジにトロフェニル)エステル、2.4−ジ(
メトキシフェニル)シクロブタン−1,3−ジカルボン
酸ジにトロフェニル)エステル、3,4−ジ(メトキシ
フェニル)シクロブタン−1,2−ジカルボン酸ジにト
ロフェニル)エステル、2゜4−ジにトロフェニル)シ
クロブタン−1,3ジカルボン酸ジにトロフェニル)エ
ステル、3.4−ジにトロフェニル)シクロブタン−1
゜2−ジカルボン酸ジにトロフェニル)エステル、2.
4−ジ(シアノフェニル)シクロブタン−1゜3−ジカ
ルボン酸ジにトロフェニル)エステル、3.4−ジ(シ
アノフェニル)シクロブタン−1゜2−ジカルボン酸ジ
にトロフェニル)エステルなどが好ましい。
(In the formula, R1 and R2 are the same as in the general formula (I).) Approximately 5 = C 000-@+N0t (IV)
The above compound I includes "2,4-dimethylcyclobutane-1,3-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 3,4-dimethylcyclobutane-1,2-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester," phenyl) ester, 2,4-dichlorocyclobutane-1,3 dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 3,4-dichlorocyclobutane-1,2-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 2,4-diphenylcyclobutane- 1,3-dicarboxylic acid di(nitrophenyl) ester, 3,4-diphenylcyclobutane-1
, 2-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 2,
4-di(methoxyphenyl)cyclobutane-1,3-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 3,4-di(
methoxyphenyl)cyclobutane-1,2-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 2,4-ditrophenyl)cyclobutane-1,3-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 3゜4-ditrophenyl) )cyclobutane-1,2-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 2,4-di(cyanophenyl)cyclobutane-1
゜3-dicarboxylic acid di(nitrophenyl) ester, 3
.. Examples include 4-di(cyanophenyl)cyclobutane-1゜2-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, and among these, 2゜4-diphenylcyclobutane-1,3-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester. ) ester, 3,4-diphenylcyclobutane-1,2-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 2,4-di(
methoxyphenyl)cyclobutane-1,3-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 3,4-di(methoxyphenyl)cyclobutane-1,2-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 2゜4-ditrophenyl) )cyclobutane-1,3 dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 3,4-ditrophenyl)cyclobutane-1
゜2-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester, 2.
Preferred examples include 4-di(cyanophenyl)cyclobutane-1°3-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester and 3,4-di(cyanophenyl)cyclobutane-1°2-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester.

上記のうち、例えば2,4−ジフェニルシクロブタン−
1,3−ジカルボン酸ジにトロフェニル)エステルは、
トルキシル酸クロライド1モルに対して、ニトロフェノ
ール2モルを反応させることにより得ることができ、3
.4−ジフェニルシクロブタン−1,2−ジカルボン酸
ジにトロフェニル)エステルは、ケイ皮酸クロライドと
ニトロフェノールの反応生成物であるニトロフェニルシ
ンナメートを固相光二量化反応に供することにより得る
ことができる。
Among the above, for example, 2,4-diphenylcyclobutane-
1,3-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester is
It can be obtained by reacting 2 moles of nitrophenol with 1 mole of truxylic acid chloride, and 3
.. 4-Diphenylcyclobutane-1,2-dicarboxylic acid ditrophenyl) ester can be obtained by subjecting nitrophenyl cinnamate, which is a reaction product of cinnamic acid chloride and nitrophenol, to a solid-phase photodimerization reaction. .

前記化合物■としては、フェニレンジアクリル酸ジにト
ロフェニル)エステル、メチレンジアクリル酸ジにトロ
フェニル)エステル、キシリレンジアクリル酸ジにトロ
フェニル)エステル、トリレンジアクリル酸ジにトロフ
ェニル)エステル、ニトロフェニレンジアクリル酸ジに
トロフェニル)エステル、ナフチレンジアクリル酸ジに
トロフェニル)エステル、シにトロフェニル)フェニレ
ンジ(α−シアノアクリレート)、ジ(ニトロフェニル
)メチレンジ(α−シアノアクリレート)、ジにトロフ
ェニル)キシリレンジ(α−シアノアクリレート)、ジ
にトロフェニル)トリレンジ(α−シアノアクリレート
)、シにトロフェニル)ニトロフェニレンジ(α−シア
ノアクリレート)、ジにトロフェニル)ナフチレンジ(
α−シアノアクリレート)、ジにトロフェニル)フェニ
レンジ(α−フロロアクリレート)、ジにトロフェニル
)フェニレンジ(α−タロロアクリレート)、ジにトロ
フェニル)トリレンジ(α−ブロモアクリレート)、ジ
にトロフェニル)ナフチレンジ(α−ヨードアクリレー
ト)、ジにトロフェニル)フェニレンジ(α−シアノブ
タジェンカルボキシレート)、ジにトロフェニル)エチ
レンジ(α−シアノブタジェンカルボキシレート)、ジ
にトロフェニル)トリレンジ(α−シアノブタジェンカ
ルボキシレート)、ジにトロフェニル)キシリレンジ(
α−シアノブタジェンカルボキシレート)、ジにトロフ
ェニル)シアノフェニレンジ(α−シアノブタジェンカ
ルボキシレート)、ジにトロフェニル)ナフチレンジ(
α−シアノブタジェンカルボキシレート)、ジにトロフ
ェニル)トリレンジ(α−クロロブタジェンカルボキシ
レート)、ジにトロフェニル)ナフチレンジ(α−ブロ
モブタジェンカルボキシレート)、ジにトロフェニル)
フェニレンジ(α−ヨードブタジェンカルボキシレート
)、ジにトロフェニル)エチレンジ(α−フロロブタジ
ェンカルボキシレート)などを、好ましくはフェニレン
ジアクリル酸ジにトロフェニル)エステル、トリレンジ
アクリル酸ジにトロフェニル)エステル、キシリレンジ
アクリル酸ジにトロフェニル)エステル、ジにトロフェ
ニル)フェニレンジ(α−シアノアクリレート)、ジに
トロフェニル)トリレンジ(α−シアノアクリレート)
、ジにトロフェニル)ニトロフェニレンジ(α−シアノ
アクリレ−I−)、ジにトロフェニル)フェニレンジ(
α−フロロアクリレート)、ジにトロフェニル)フェニ
レンジ(α−シアノブタジェンカルボキシレート)、ジ
にトロフェニル)トリレンジ(αシアノブタジェンカル
ボキシレート)、ジにトロフェニル)シアノフェニレン
ジ(α−シアノブタジェンカルボキシレート)、ジにト
ロフェニル)エチレンジ(α−フロロブタジェンカルボ
キシレート)などを挙げることができる。
The compound (2) includes phenylene diacrylic acid ditrophenyl) ester, methylene diacrylic acid ditrophenyl) ester, xylylene diacrylic acid ditrophenyl) ester, tolylene diacrylic acid ditrophenyl) ester, Nitrophenyl diacrylic acid ditrophenyl) ester, naphthylene diacrylic acid ditrophenyl) ester, ditrophenyl) phenylene di(α-cyanoacrylate), di(nitrophenyl) methylene di(α-cyanoacrylate), xylylene di(α-cyanoacrylate), ditrophenyl) tolylene di(α-cyanoacrylate), nitrophenyl)
α-cyanoacrylate), ditrophenyl) phenylene di(α-fluoroacrylate), ditrophenyl) phenylene di(α-taloloacrylate), ditrophenyl) tolylene di(α-bromoacrylate), ditrophenyl) trophenyl) naphthylene di(α-iodoacrylate), ditrophenyl) phenylene di(α-cyanobutadiene carboxylate), ditrophenyl) ethylene di(α-cyanobutadiene carboxylate), ditrophenyl) tolylene di (α-cyanobutadiene carboxylate), ditrophenyl) xylylene di(
α-cyanobutadienecarboxylate), ditrophenyl)cyanophenylenedi(α-cyanobutadienecarboxylate), ditrophenyl)naphthylenedi(
α-cyanobutadienecarboxylate), ditrophenyl) tolylenedi(α-chlorobutadienecarboxylate), ditrophenyl)naphthylenedi(α-bromobutadienecarboxylate), ditrophenyl)
Phenylene di(α-iodobutadiene carboxylate), ditrophenyl)ethylene di(α-fluorobutadiene carboxylate), etc., preferably phenylene diacrylic acid ditrophenyl) ester, tolylene diacrylic acid ditrophenyl), etc. phenyl) ester, xylylene diacrylic acid ditrophenyl) ester, ditrophenyl) phenylene di(α-cyanoacrylate), ditrophenyl) tolylene di(α-cyanoacrylate)
, ditrophenyl) nitrophenylene di(α-cyanoacrylate-I-), ditrophenyl) phenylene di(
α-fluoroacrylate), ditrophenyl) phenylene di(α-cyanobutadiene carboxylate), ditrophenyl) tolylene di(α-cyanobutadiene carboxylate), ditrophenyl) cyanophenylene di(α-cyanobutadiene carboxylate), ditrophenyl) butadiene carboxylate), ditrophenyl) ethylene di(α-fluorobutadiene carboxylate), and the like.

またアミン、化合物としては、1,3−ジピペリジルプ
ロパン、1,3−ジピロリジルプロパン、キシリレンジ
アミン、イミダゾリジン、ピペラジン、1,4−ナフタ
レンジアミン、2,4−ピリジンジアミン、1,3−プ
ロパンジアミン、オキンジアニリン、ヘキサメチレンジ
アミン、1,4−シクロヘキサンジアミンなどの第1級
および第2級ジアミン化合物を、好ましくは1,3−ジ
ピペリジルプロパン、1,3−ジビロリジルプロパン、
ピペラジン、イミダゾリジン、キシリレンジアミン、ヘ
キサメチレンジアミンなどを挙げることができる。
In addition, amines and compounds include 1,3-dipiperidylpropane, 1,3-dipyrrolidylpropane, xylylenediamine, imidazolidine, piperazine, 1,4-naphthalenediamine, 2,4-pyridinediamine, 1,3 - primary and secondary diamine compounds such as propanediamine, oquindianiline, hexamethylenediamine, 1,4-cyclohexanediamine, preferably 1,3-dipiperidylpropane, 1,3-divirolidylpropane,
Examples include piperazine, imidazolidine, xylylene diamine, hexamethylene diamine, and the like.

前記化合物■、化合物■およびアミン化合物の反応は、
例えばモル比1:0.5〜2:1〜3で、放射線をしゃ
断した環境で、通常、0〜60℃、好ましくは15〜3
0℃で、5〜200時間行なう。このとき、ジメチルア
セトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルア
ミド、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホル
ムなどの極性溶媒を、モノマーの総fl101量部に対
して10〜50市量部程度加えることが好ましい。反応
後、反応生成物は、例えば炭酸ナトリウム、炭酸水素す
トリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ性化合物の3〜
10重量%水溶液中に添加し、12〜36時間撹拌する
ことによって共重合体を析出させ、分離した共重合体を
水洗し、乾燥することにより共重合体を回収する。
The reaction of the compound (1), compound (2) and amine compound is as follows:
For example, at a molar ratio of 1:0.5 to 2:1 to 3, in a radiation-blocked environment, usually 0 to 60°C, preferably 15 to 3°C.
It is carried out at 0°C for 5 to 200 hours. At this time, 10 to 50 parts by weight of a polar solvent such as dimethylacetamide, dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoramide, tetrahydrofuran, methylene chloride, and chloroform are added to 101 parts by weight of the total fl of the monomers. It is preferable to add some degree. After the reaction, the reaction product is a mixture of alkaline compounds such as sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium carbonate, etc.
The copolymer is precipitated by adding it to a 10% by weight aqueous solution and stirring for 12 to 36 hours, and the copolymer is recovered by washing the separated copolymer with water and drying it.

ここで化合物■、化合物■およびアミン化合物は同時に
反応させてもよいし、化合物■と化合物■を順次アミン
化合物と反応させてもよい。化合物■、化合物■および
アミン化合物を同時に反応させると、得られる共重合体
には前記一般式(I)および(If)で表わされる構造
単位がランダムに存在し、化合物Iと化合物■を順次ア
ミン化合物と反応させると、得られる共重合体には前記
一般式(I)で表わされる構造単位をGするブロックと
一般式(II)で表わされる構造単位を釘するブロック
が存在するようになる。
Here, the compound (1), the compound (2), and the amine compound may be reacted simultaneously, or the compound (1) and the compound (2) may be reacted with the amine compound sequentially. When compound (1), compound (2) and amine compound are reacted simultaneously, structural units represented by formulas (I) and (If) are randomly present in the resulting copolymer, and compound I and compound (2) are sequentially reacted with amine. When reacted with a compound, the resulting copolymer contains a block that connects the structural unit represented by the general formula (I) with G and a block that connects the structural unit represented by the general formula (II).

本発明の共重合体によってレジストを構成する場合には
、通常、この共重合体を前記極性溶媒などの溶剤に溶解
させた形で用いられる。この場合の共重合体の濃度は一
概に規定できないが、塗布した場合の膜厚に対応して決
められ、一般には5〜30市量%とされる。
When forming a resist using the copolymer of the present invention, the copolymer is usually used in a form dissolved in a solvent such as the above-mentioned polar solvent. Although the concentration of the copolymer in this case cannot be absolutely defined, it is determined depending on the thickness of the coated film, and is generally set at 5 to 30% by market weight.

また本発明の共重合体によってレジストを構成する場合
には、必要に応じて安定剤(老化防止剤)、アミン系化
合物よりなる増感剤などを添加することができる。
Further, when a resist is constituted by the copolymer of the present invention, a stabilizer (antiaging agent), a sensitizer made of an amine compound, etc. can be added as necessary.

上記安定剤としては、例えばヒドロキノン、メトキシフ
ェノール、p−t−ブチルカテコール、2.2′−メチ
レンビス(6−t−ブチル−4エチルフエノール)など
のヒドロキシ芳香族化合物;ベンゾキノン、p−1ルキ
ノン、p−キシロキノンなどのキノン類;フェニル−α
−ナフチルアミン、p、p  −ジフェニルフェニレン
ジアミンなどのアミン類;ジラウリルチオジプロピオナ
ート、4.4−チオビス(6−t−ブチル−3メチルフ
エノール) 、2.2’−チオビス(4メチル−6−t
−ブチルフェノール) 、2− (3゜5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシアニリノ)4.6−ビス(N−オ
クチルチオ)−δ−トリアジンなどの硫黄化合物が挙げ
られる。これらの添加量は、通常、0.5〜5重量%程
度である。
Examples of the stabilizer include hydroxy aromatic compounds such as hydroquinone, methoxyphenol, p-t-butylcatechol, and 2,2'-methylenebis(6-t-butyl-4ethylphenol); benzoquinone, p-1-ruquinone, Quinones such as p-xyquinone; phenyl-α
-Amines such as naphthylamine, p,p-diphenylphenyl diamine; dilaurylthiodipropionate, 4,4-thiobis(6-t-butyl-3methylphenol), 2,2'-thiobis(4methyl-6 -t
-butylphenol), 2-(3°5-di-t-butyl-4-hydroxyanilino)4,6-bis(N-octylthio)-δ-triazine, and the like. The amount of these added is usually about 0.5 to 5% by weight.

本発明の共重合体は、例えば紫外線、遠紫外線、可視光
線などの放射線に感応し、特に高い精度の解像度が要求
されるIC,LSI、液晶基板、印刷板、テレビシャド
ウマスクなどの製造において用いられ、特にレジストと
して好適である。
The copolymer of the present invention is sensitive to radiation such as ultraviolet rays, far ultraviolet rays, and visible light, and is used in the production of ICs, LSIs, liquid crystal substrates, printing plates, television shadow masks, etc. that require particularly high resolution. It is especially suitable as a resist.

本発明の共重合体は放射線を照射した場合に、その波長
を選択することにより架橋反応または分解反応が起きる
ので、溶媒を選択することにより放射線照射後の共重合
体を溶媒可溶性にも、溶媒不溶性にもすることができる
。例えば、波長3000m以1−1好ましくは300〜
370nm程度の紫外線を照射した場合には、紫外線照
射部分が前記極性溶媒に不溶となり、波長300nm未
満、好ましくは190〜27Or+m程度の紫外線を照
射した場合には、紫外線照射部分がエチレングリコール
やジエチレングリコールなどのアルコール類、および酢
酸イソアミルなどのエステル類に可溶となる。
When the copolymer of the present invention is irradiated with radiation, a crosslinking reaction or a decomposition reaction occurs depending on the wavelength. Therefore, by selecting a solvent, the copolymer after irradiation can be made soluble in a solvent or solvent. It can also be made insoluble. For example, the wavelength is 3000 m or more 1-1 preferably 300 m or more
When irradiated with ultraviolet light of about 370 nm, the ultraviolet irradiated part becomes insoluble in the polar solvent, and when irradiated with ultraviolet light with a wavelength of less than 300 nm, preferably about 190 to 27 Or+m, the ultraviolet irradiated part becomes ethylene glycol, diethylene glycol, etc. It is soluble in alcohols and esters such as isoamyl acetate.

[実 施 例] 以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
が、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[Examples] Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

なお、実施例中において特に説明を加えない限り、部お
よび%はいずれも重量基準である。
In the examples, all parts and percentages are based on weight unless otherwise specified.

実施例1 (1)p−ニトロフェノール56.2gを600m1の
テトラヒドロフランに溶解した後に、ピリジン18.6
gを加えた。次に系内温度を0〜5°Cに保ちながら、
ケイ皮酸クロライド67.2gをテトラヒドロフラン2
0m1に溶かした溶11kをゆっくり混合物に滴下した
。2時間反応後、反応混合物を水8N中に入れ、生じた
沈殿物を分離し乾燥した。さらに、この乾燥した沈殿物
60gを水1゜000m1とメタノール250m1の混
合液中に分散させ、10時間光照射を行ない、3.4−
ジフェニルシクロブタン−1,2−ジカルボン酸ジ(p
ニトロフェニル)エステル(以下「β−BNPT」と称
す)を合成した。得られたβ−BNPTはメチルエチル
ケトンで再結晶精製した。
Example 1 (1) After dissolving 56.2 g of p-nitrophenol in 600 ml of tetrahydrofuran, 18.6 g of pyridine was dissolved.
g was added. Next, while maintaining the system temperature at 0 to 5°C,
67.2 g of cinnamic acid chloride was added to 2 g of tetrahydrofuran.
Solution 11k dissolved in 0ml was slowly added dropwise to the mixture. After reacting for 2 hours, the reaction mixture was poured into 8N water, and the resulting precipitate was separated and dried. Furthermore, 60 g of this dried precipitate was dispersed in a mixed solution of 1°000 ml of water and 250 ml of methanol, and irradiated with light for 10 hours.
diphenylcyclobutane-1,2-dicarboxylic acid di(p
(nitrophenyl) ester (hereinafter referred to as "β-BNPT") was synthesized. The obtained β-BNPT was purified by recrystallization with methyl ethyl ketone.

(2)テレフタルアルデヒド96.7g、マロン酸17
4.1gおよびピリジン257.9gの混合物にピペリ
ジンを数滴加えて、50℃で2時間、さらに100℃で
3時間撹拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷し
、水5℃に投入し、析出した沈殿物を分離し乾燥した。
(2) Terephthalaldehyde 96.7g, malonic acid 17
A few drops of piperidine were added to a mixture of 4.1 g and 257.9 g of pyridine, and the mixture was stirred at 50°C for 2 hours and then at 100°C for 3 hours. Thereafter, the reaction mixture was allowed to cool to room temperature, poured into water at 5° C., and the deposited precipitate was separated and dried.

さらに、この乾燥した沈殿物176.6gに塩化チオニ
ル115゜4gおよびジメチルホルムアミド11滴を加
えて3時間還流して反応させた。残余の塩化チオニルは
減圧蒸留で除去し、生成物を得た。次いで、p−ニトロ
フェノール102.6gを1,000m1のテトラヒド
ロフランに溶解した後にピリジン40゜7gを加え、系
内温度を0〜5gに保ちながら上述の生成物184.7
gを60m1のテトラヒドロフランに溶かした溶液を徐
々に滴下した。2時間反応後、反応混合物を水152に
入れ、析出したp−フェニレンジアクリル酸ジ(p−ニ
トロフェニル)エステル(以下rP−NPDAJと称す
)を分離し、ジメチルホルムアミドで再結晶を行ない精
製した。
Furthermore, 115.4 g of thionyl chloride and 11 drops of dimethylformamide were added to 176.6 g of this dried precipitate, and the mixture was refluxed for 3 hours to react. Residual thionyl chloride was removed by vacuum distillation to obtain a product. Next, 102.6 g of p-nitrophenol was dissolved in 1,000 ml of tetrahydrofuran, and then 40.7 g of pyridine was added, and while the temperature inside the system was maintained at 0 to 5 g, 184.7 g of the above product was obtained.
A solution prepared by dissolving G in 60 ml of tetrahydrofuran was gradually added dropwise. After 2 hours of reaction, the reaction mixture was poured into water 152, and the precipitated p-phenylene diacrylic acid di(p-nitrophenyl) ester (hereinafter referred to as rP-NPDAJ) was separated and purified by recrystallization with dimethylformamide. .

(31(1)で得られたβ−BNPT  0.6731
g。
(β-BNPT obtained in 31(1) 0.6731
g.

(2)で得られたP−NPDA  0.5755gおよ
び1,3−ジピペリジルプロパン0.5259gを三角
フラスコに入れ、ジメチルアセトアミド5mlを加えた
後、密栓をして室温で19時間反応させた。反応終了後
;反応混合物を5%炭酸ナトリウム水溶液100m1に
滴下し、析出物を分離し乾燥して、下記の構造を有する
還元粘度0. 94g/J (0,5g/cm!、濃硫
酸中、30℃)の共重合体(以下「共重合体A」と称す
る)を得た。この共重合体Aには、一般式(I)および
一般式(II)で表わされる構造単位がランダムに存在
していた。なお、共重合体Aの元素分析の結果、炭素は
77.48%、水素は8.19%、窒素は6゜69%で
あった。共重合体Aの赤外吸収スペクトルを第1図に示
す。
0.5755 g of P-NPDA obtained in (2) and 0.5259 g of 1,3-dipiperidylpropane were placed in an Erlenmeyer flask, and after adding 5 ml of dimethylacetamide, the flask was tightly stoppered and reacted at room temperature for 19 hours. After completion of the reaction; the reaction mixture was added dropwise to 100 ml of a 5% aqueous sodium carbonate solution, and the precipitate was separated and dried to form a product having the following structure with a reduced viscosity of 0. A copolymer (hereinafter referred to as "copolymer A") of 94 g/J (0.5 g/cm!, in concentrated sulfuric acid, 30° C.) was obtained. In this copolymer A, structural units represented by general formula (I) and general formula (II) were randomly present. Incidentally, as a result of elemental analysis of copolymer A, carbon content was 77.48%, hydrogen content was 8.19%, and nitrogen content was 6.69%. The infrared absorption spectrum of copolymer A is shown in FIG.

共重合体A 実施例2 (1)  α−トルキシル酸135.86gに塩化チオ
ニル128. 50gおよびジメチホルムアミド1aを
加えて3時間転流させた後、残余の塩化チオニルを減圧
蒸留除去し、生成物を得た。次いで、p−ニトロフェノ
ール61.3gを600m1のテトラヒドロフランに溶
解した後にピリジン20゜3gを加え、系内温度を0〜
5℃に保ちながら上述の生成物145.20gをテトラ
ヒドロフラン20m1に溶かした溶液をゆっくり滴下し
た。2時間反応後、反応混合物を水82中に入れ、生じ
た沈殿物を分離し乾燥し、2.4−ジフェニルシクロブ
タン−1,2−ジカルボン酸ジ(p−ニトロフェニル)
エステル(以下[α−B N P T J ト称す)を
合成した。得られたα−BNPTは、メチルエチルケト
ンで再結晶を行ない精製した。
Copolymer A Example 2 (1) 135.86 g of α-truxylic acid was added with 128 g of thionyl chloride. After adding 50 g and dimethylformamide 1a and stirring for 3 hours, the remaining thionyl chloride was removed by distillation under reduced pressure to obtain a product. Next, after dissolving 61.3 g of p-nitrophenol in 600 ml of tetrahydrofuran, 20.3 g of pyridine was added, and the temperature inside the system was lowered from 0 to 0.
A solution of 145.20 g of the above product dissolved in 20 ml of tetrahydrofuran was slowly added dropwise while maintaining the temperature at 5°C. After 2 hours of reaction, the reaction mixture was poured into water 82, and the resulting precipitate was separated and dried to give di(p-nitrophenyl 2,4-diphenylcyclobutane-1,2-dicarboxylate).
An ester (hereinafter referred to as [α-BNPTJ]) was synthesized. The obtained α-BNPT was purified by recrystallization with methyl ethyl ketone.

(2)イソフタルアルデヒド96.7g、マロン酸17
4.1gおよびピリジン257.9gの混合物にピペリ
ジンを数滴加えて、50℃で2時間、さらに100℃で
3時間撹拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷し
、水51.に投入し、析出した沈殿物を分離し乾燥した
。さらに、この乾燥した沈殿物176.6gに塩化チオ
ニル115゜4gおよびジメチルホルムアミド1tiを
加えて3時間環流して反応させた。残余の塩化チオニル
は減圧蒸留で除去し、生成物を得た。次いで、mニトロ
フェノール102.6gを1,000m1のテトラヒド
ロフランに溶解した後にピリジン40゜7gを加え、系
内温度を0〜5℃に保ちながら」二連の生成物184.
7gを60m1のテトラヒドロフランに溶かした溶液を
徐々に滴下した。2時間反応後、反応混合物を水15f
!、に入れ、析出したm−フ二二しンジアクリル酸ジ(
m−ニトロフェニル)エステル(以下1m−NPDAJ
と称す)を分離し、ジメチルホルムアミドで再結晶を行
ない精製した。
(2) Isophthalaldehyde 96.7g, malonic acid 17
A few drops of piperidine were added to a mixture of 4.1 g and 257.9 g of pyridine, and the mixture was stirred at 50°C for 2 hours and then at 100°C for 3 hours. Thereafter, the reaction mixture was allowed to cool to room temperature, and 51% of water was added. The precipitate was separated and dried. Furthermore, 115.4 g of thionyl chloride and 1 ti of dimethylformamide were added to 176.6 g of this dried precipitate, and the mixture was refluxed for 3 hours to react. Residual thionyl chloride was removed by vacuum distillation to obtain a product. Next, after dissolving 102.6 g of m-nitrophenol in 1,000 ml of tetrahydrofuran, 40.7 g of pyridine was added, and while maintaining the system temperature at 0 to 5° C., two series of products 184.
A solution of 7 g dissolved in 60 ml of tetrahydrofuran was gradually added dropwise. After 2 hours of reaction, the reaction mixture was mixed with 15 f of water.
! , m-phinidine diacrylate di(
m-nitrophenyl) ester (hereinafter referred to as 1m-NPDAJ)
) was separated and purified by recrystallization with dimethylformamide.

(31(liで得られたα−BNPT  0.6731
g。
(α-BNPT obtained with (31(li) 0.6731
g.

(2)で得られたm−NPDA  0.5755gおよ
び1,3−ジピペリジルプロパン0.5259gを三角
フラスコに入れ、ジメチルアセトアミド5mlを加えた
後、密栓をして室温で19時間反応させた。反応終了後
、反応混合物を5%炭酸ナトリウム水溶液100m1に
滴下し、析出物を分離し乾燥して、下記の構造を有する
還元粘度0.6g/瀬、(0,5g/df!、濃硫酸中
、30℃)の共重合体(以下「共重合体B」と称する)
を得た。この共重合体Bには、一般式(I)および一般
式(n)で表わされる構造単位がランダムに存在してい
た。なお、共重合体Bの元素分析の結果は共重合体Aと
同様であった。共重合体Bの赤外吸収スペクトルを第2
図に示す。
0.5755 g of m-NPDA obtained in (2) and 0.5259 g of 1,3-dipiperidylpropane were placed in an Erlenmeyer flask, and after adding 5 ml of dimethylacetamide, the flask was tightly stoppered and reacted at room temperature for 19 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was added dropwise to 100 ml of 5% aqueous sodium carbonate solution, and the precipitate was separated and dried to give a reduced viscosity of 0.6 g/df., (0.5 g/df!) with the following structure, in concentrated sulfuric acid. , 30°C) (hereinafter referred to as "copolymer B")
I got it. In this copolymer B, structural units represented by general formula (I) and general formula (n) were randomly present. The results of elemental analysis of copolymer B were similar to those of copolymer A. The infrared absorption spectrum of copolymer B was
As shown in the figure.

共重合体B 実施例3 (1)  シアノ酢酸63.8gとp−ニトロフェノー
ル104.3gを酢酸エチル350 mlに溶解した。
Copolymer B Example 3 (1) 63.8 g of cyanoacetic acid and 104.3 g of p-nitrophenol were dissolved in 350 ml of ethyl acetate.

次に系内温度を0〜5℃に保ちながら、ジシクロへキシ
ルカルボジイミド154.srを酢酸エチル350m1
に溶かした溶液を混合物に滴下した後に、そのままの温
度で1時間、さらに室温で1時間撹拌して反応させた。
Next, while maintaining the system temperature at 0 to 5°C, dicyclohexylcarbodiimide 154. sr to ethyl acetate 350ml
was added dropwise to the mixture, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour and then at room temperature for 1 hour to react.

反応後、析出物をを戸別し、P液を濃縮することによっ
て生じた結晶をベンゼンとn−ヘキサンの混合溶媒(4
:1)を用いて精製した。
After the reaction, the precipitate was separated from each other, and the crystals generated by concentrating the P solution were dissolved in a mixed solvent of benzene and n-hexane (4
:1).

(2)テレフタルアルデヒド15.0gを水22に加え
、さらに水酸化カリウムの1.74%水溶液0.851
を加えた。この溶液を1時間窒素置換した後、窒素気流
下でアセトアルデヒド18.8mlを水150m1に溶
解した溶液を滴下した。滴下終了後、さらに窒素気流下
で1時間撹拌を行ない、析出した結晶を戸別し、水で洗
浄した。
(2) Add 15.0 g of terephthalaldehyde to 22 ml of water, and then add 0.85 ml of a 1.74% aqueous solution of potassium hydroxide.
added. After this solution was purged with nitrogen for 1 hour, a solution of 18.8 ml of acetaldehyde dissolved in 150 ml of water was added dropwise under a nitrogen stream. After the dropwise addition was completed, stirring was continued for 1 hour under a nitrogen stream, and the precipitated crystals were separated and washed with water.

[3]  (2)で得られた結晶18.6gをアセトニ
トリル500m1に溶解し、さらに(1)で得られた結
晶41.2gを溶解した。次にピペリジン2mlを加え
、室温で24時間反応した後、22の水に注ぎ、析出し
たジ(p−ニトロフェニル)p−フェニレンジ(α−シ
アノブタジェンカルボキシレート)(以下「p−NPD
CBと略す」)を戸別し、ニトロベンゼンで再結晶精製
した。
[3] 18.6 g of the crystals obtained in (2) were dissolved in 500 ml of acetonitrile, and 41.2 g of the crystals obtained in (1) were further dissolved. Next, 2 ml of piperidine was added, and after reacting at room temperature for 24 hours, it was poured into 22 water, and the precipitated di(p-nitrophenyl) p-phenylenedi(α-cyanobutadienecarboxylate) (hereinafter referred to as "p-NPD")
(abbreviated as CB)) was purified by recrystallization with nitrobenzene.

4) ジシクロへキシルカルボジイミド0.210gと
実施例1の(1)で得られたβ−BNPT  0゜37
7gをジメチルアセトアミド2mlに溶解し、24時間
反応させた後、(3)で得られたp−NPDCB  0
.169gを加えて、さらに96時間反応させた。反応
終了後、反応溶液を5%炭酸ナトリウム水溶液50m1
に滴下し、生じた析出物を分離し乾燥して、下記の構造
を有する還元粘度0゜40dR/g (0,5g/df
!、濃硫酸中、30°C)の共重合体(以下「共重合体
C」と称する)を得た。共重合体Cの赤外吸収スペクト
ルを第3図に示す。
4) 0.210 g of dicyclohexylcarbodiimide and β-BNPT obtained in Example 1 (1) 0°37
After dissolving 7 g in 2 ml of dimethylacetamide and reacting for 24 hours, the p-NPDCB obtained in (3)
.. 169 g was added and the reaction was further continued for 96 hours. After the reaction is complete, add 50ml of 5% sodium carbonate aqueous solution to the reaction solution.
The resulting precipitate was separated and dried to obtain a reduced viscosity of 0°40dR/g (0.5g/df) having the following structure.
! , in concentrated sulfuric acid at 30°C) (hereinafter referred to as "Copolymer C") was obtained. The infrared absorption spectrum of Copolymer C is shown in FIG.

共重合体C 実施例4 (1)テレフタルアルデヒド10.0gをアセトニトリ
ル300m1に溶解し、さらに実施例3の(1)で得ら
れた結晶30. 9g:を溶解した。次にピペリジン1
.5mlを加え、室温で24時間反応した後、2eの水
に注ぎ、析出したジ(p−ニトロフェニル)p−フェニ
レンジ(α−シアノアクリレート)(以下「p−NPD
CJと称す)を戸別し、ニトロベンゼンで再結晶精製し
た。
Copolymer C Example 4 (1) 10.0 g of terephthalaldehyde was dissolved in 300 ml of acetonitrile, and 30.0 g of the crystals obtained in Example 3 (1) were dissolved. 9g: was dissolved. Then piperidine 1
.. After adding 5 ml and reacting at room temperature for 24 hours, it was poured into 2e of water and the precipitated di(p-nitrophenyl)p-phenylenedi(α-cyanoacrylate) (hereinafter referred to as "p-NPD") was added.
CJ) was sent to each household and purified by recrystallization with nitrobenzene.

(2)  ジシクロへキシルカルボジイミド0.210
gと実施例1の(1)で得られたβ−BNPT  O。
(2) Dicyclohexylcarbodiimide 0.210
g and β-BNPT O obtained in Example 1 (1).

377gをジメチルアセトアミド2mlに溶解し、24
時間反応させた後、(1)で得られたp−NPDC0,
153gを加えて、さらに96時間反応させた。反応終
了後、反応溶液を5%炭酸ナトリウム水溶液50m1に
滴下し、生じた析出物を分離し乾燥して、下記の構造を
有する還元粘度0. 15濯/g (0,5dI2/g
、濃硫酸中、30℃)の共重合体(以下「共重合体DJ
と称する)を得た。共重合体りの赤外吸収スペクトルを
第4図に示す。
Dissolve 377g in 2ml of dimethylacetamide,
After reacting for an hour, p-NPDC0, obtained in (1),
153 g was added and the reaction was further continued for 96 hours. After the reaction is complete, the reaction solution is added dropwise to 50 ml of a 5% aqueous sodium carbonate solution, and the resulting precipitate is separated and dried to give a reduced viscosity of 0. 15 rinses/g (0.5dI2/g
, in concentrated sulfuric acid at 30°C) (hereinafter referred to as "copolymer DJ")
) was obtained. Figure 4 shows the infrared absorption spectrum of the copolymer.

共重合体り 試験例1 共重合体Aの30%塩化メチレン溶液を石英板上に塗布
し、乾燥し、膜厚1μmの共重合体Aの膜を得た。この
共重合体Aの膜に500Wの超高圧水銀灯の254nm
および365nmの波長の紫外線を20cmの距離から
それぞれ別個に照射し、重合体Aの紫外線吸収スペクト
ル吸収の変化を測定した。結果を第5図に示す。
Copolymer Test Example 1 A 30% methylene chloride solution of copolymer A was applied onto a quartz plate and dried to obtain a film of copolymer A having a thickness of 1 μm. This film of copolymer A was exposed to 254 nm of a 500 W ultra-high pressure mercury lamp.
and 365 nm wavelengths were irradiated separately from a distance of 20 cm, and changes in the ultraviolet absorption spectrum of Polymer A were measured. The results are shown in Figure 5.

なお第5図において、(a)は波長365nn+の紫外
線を60分間照射したもの、(b)は紫外線を照射しな
いもの、(C)〜(f)はそれぞれ波長365nmの紫
外線を60分間照射した後に、波長245nmの紫外線
を2分間、5分間、10分間および20分間照射したも
ののスペクトル吸収の変化を示す。第5図から、365
na+の紫外線の照射では架橋に伴ない330nIi付
近の吸収が減少するのに対して、254nmの紫外線の
照射では共重合体Aの分解に伴ない27Onm付近に新
たな吸収が現われることがわかる。
In Figure 5, (a) shows the results after irradiation with ultraviolet rays with a wavelength of 365 nm+ for 60 minutes, (b) shows the results without irradiation with ultraviolet rays, and (C) to (f) each show the results after irradiating with ultraviolet rays with a wavelength of 365 nm for 60 minutes. , shows the change in spectral absorption when irradiated with ultraviolet rays with a wavelength of 245 nm for 2 minutes, 5 minutes, 10 minutes, and 20 minutes. From Figure 5, 365
It can be seen that when irradiated with na+ ultraviolet rays, the absorption near 330 nIi decreases due to crosslinking, whereas when irradiated with 254 nm ultraviolet rays, a new absorption appears near 27 OnIi as copolymer A decomposes.

また、共重合体A  O,125gを濃硫酸25m1に
溶かして30分間窒素置換を行なった後に、超高圧水銀
灯の254nIlの波長の紫外線を20cmの距離から
照射して粘度測定を行なった。その結果、照射時間とと
もに粘度が低下し、共重合体Aが254nmの紫外線に
より分解することが確認された。
Further, 125 g of the copolymer A 2 O was dissolved in 25 ml of concentrated sulfuric acid, and the solution was replaced with nitrogen for 30 minutes.The viscosity was then measured by irradiating the solution with ultraviolet rays having a wavelength of 254 nIl from an ultra-high pressure mercury lamp from a distance of 20 cm. As a result, it was confirmed that the viscosity decreased with the irradiation time and that copolymer A was decomposed by the 254 nm ultraviolet rays.

試験例2 共重合体Cの20%塩化メチレン溶液を石英板上に塗布
し、乾燥し、膜厚1μmの共重合体Aの膜を得た。この
共重合体Cの膜に500Wの超高圧水銀灯の254 n
mおよび365nmの波長の紫外線を20cmの距離か
らそれぞれ別個に照射し、重合体Cの紫外線吸収スペク
トルの変化を測定した。
Test Example 2 A 20% methylene chloride solution of copolymer C was applied onto a quartz plate and dried to obtain a film of copolymer A having a thickness of 1 μm. This Copolymer C film was heated to 254 nm using a 500 W ultra-high pressure mercury lamp.
Ultraviolet rays with wavelengths of m and 365 nm were irradiated separately from a distance of 20 cm, and changes in the ultraviolet absorption spectrum of Polymer C were measured.

結果を第6図に示す。The results are shown in Figure 6.

なお第6図において、(a)は波長365r+a+の紫
外線を180分間照射したもの、(b)は紫外線を照射
しないもの、(C)〜(f)はそれぞれ波長365nm
の紫外線を180分間照射した後に、波長254nmの
紫外線を5分間、10分間、30分間および60分間照
射したもののスペクトル吸収の変化を示す。第6図から
、365nmの紫外線の照射では架橋に伴ない380 
n’s付近の吸収が増大するのに対して、254nmの
紫外線の照射では共重合体Cの分解に伴ない280 n
o+付近に新たな吸収が現われることがわかる。
In Figure 6, (a) is a sample that was irradiated with ultraviolet rays with a wavelength of 365r+a+ for 180 minutes, (b) is a sample that was not irradiated with ultraviolet rays, and (C) to (f) are each with a wavelength of 365 nm.
The figure shows changes in spectral absorption after irradiation with ultraviolet rays with a wavelength of 254 nm for 180 minutes, followed by irradiation with ultraviolet rays with a wavelength of 254 nm for 5 minutes, 10 minutes, 30 minutes, and 60 minutes. From Figure 6, irradiation with 365 nm ultraviolet rays causes cross-linking, resulting in 380 nm
While the absorption near n's increases, when irradiated with 254 nm ultraviolet light, copolymer C decomposes and the absorption near 280 n's increases.
It can be seen that new absorption appears near o+.

試験例3 共重合体Cの代わりに共重合体りを使用した以外は、試
験例2と同様にして紫外線吸収スペクトルの変化を測定
した。結果を第7図に示す。
Test Example 3 Changes in the ultraviolet absorption spectrum were measured in the same manner as Test Example 2 except that Copolymer C was used instead of Copolymer C. The results are shown in FIG.

なお第7図において、(a)〜(f)はそれぞれ試験例
2と同様にして紫外線を照射したものを示す。第7図か
ら、365nmの紫外線の照射では架橋に伴ない320
r+m付近の吸収が増大するのに対して、254nmの
紫外線の照射では共重合体りの分解に伴ない290no
+の付近に新たな吸収が現われることがわかる。
In addition, in FIG. 7, (a) to (f) respectively show those irradiated with ultraviolet rays in the same manner as in Test Example 2. From Figure 7, irradiation with 365 nm ultraviolet rays causes crosslinking, resulting in 320 nm
While the absorption near r+m increases, when irradiated with 254 nm ultraviolet rays, the copolymer decomposes and 290 no.
It can be seen that new absorption appears near +.

[発明の効果] 本発明の感放射線性共重合体は、照射する放射線の波長
により溶媒可溶性にも溶媒不溶性にもすることができる
ため、例えばレジストパターンの形成に用いた場合には
、画像イメージを転写した場合に発生する不必要なレジ
ストパターンの修正を可能にすることができる。
[Effects of the Invention] The radiation-sensitive copolymer of the present invention can be made solvent-soluble or solvent-insoluble depending on the wavelength of the irradiated radiation. This makes it possible to correct unnecessary resist patterns that occur when the resist pattern is transferred.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1〜4図は、本発明の実施例1〜4で製造した共重合
体の赤外吸収スペクトルをそれぞれ表わし、第5〜7図
は、試験例1〜3における紫外線の波長と紫外線吸収量
の関係を表わす図である。 特許出願人  日本合成ゴム株式会社 紫外線吸収量 紫外線吸収量
Figures 1 to 4 show the infrared absorption spectra of the copolymers produced in Examples 1 to 4 of the present invention, and Figures 5 to 7 show the wavelength and amount of ultraviolet absorption in Test Examples 1 to 3. FIG. Patent applicant: Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Ultraviolet absorption amount Ultraviolet absorption amount

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)下記一般式( I )で表わされる構造単位および
下記一般式(II)で表わされる構造単位を有する還元粘
度0.1〜4dl/g(0.5g/dl、濃硫酸中、3
0℃)の感放射線性共重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1およびR^2は同一でも異なってもよく
、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基を示す) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^3は2価の有機基を示し、R^4およびR
^5は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原
子またはシアノ基を示し、yおよびzは0〜3の数であ
る)
(1) Having a structural unit represented by the following general formula (I) and a structural unit represented by the following general formula (II), the reduced viscosity is 0.1 to 4 dl/g (0.5 g/dl, in concentrated sulfuric acid, 3
0°C) radiation-sensitive copolymer. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) (In the formula, R^1 and R^2 may be the same or different and represent a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼(II) (In the formula, R^3 represents a divalent organic group, and R^4 and R
^5 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a cyano group, and y and z are numbers from 0 to 3)
(2)下記一般式(III)で表わされる化合物、下記一
般式(IV)で表わされる化合物、およびアミン化合物を
反応させることを特徴とする感放射線性共重合体の製造
方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R^1およびR^2は前記一般式( I )と同
じ) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、R^3、R^4、R^5、yおよびzは前記一
般式(II)と同様である)
(2) A method for producing a radiation-sensitive copolymer, which comprises reacting a compound represented by the following general formula (III), a compound represented by the following general formula (IV), and an amine compound. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(III) (In the formula, R^1 and R^2 are the same as the general formula (I) above) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(IV) (In the formula , R^3, R^4, R^5, y and z are the same as in the above general formula (II))
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