JPH02269919A - 複数のアーク放電放射線保護装置 - Google Patents
複数のアーク放電放射線保護装置Info
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- JPH02269919A JPH02269919A JP1312203A JP31220389A JPH02269919A JP H02269919 A JPH02269919 A JP H02269919A JP 1312203 A JP1312203 A JP 1312203A JP 31220389 A JP31220389 A JP 31220389A JP H02269919 A JPH02269919 A JP H02269919A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/06—Arrangements for eliminating effects of disturbing radiation; Arrangements for compensating changes in sensitivity
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は過度の強度の放射線の入q=tビームによる損
傷からのレーザ受信装置の保護、特に入射した放射線の
通路を横切て設けられ単一の電源から直列に付勢される
複数のアーク放電を使用する保護システムに関する。
傷からのレーザ受信装置の保護、特に入射した放射線の
通路を横切て設けられ単一の電源から直列に付勢される
複数のアーク放電を使用する保護システムに関する。
[従来技術]
放射線受信装置は種々の状況において使用されている。
特に、赤外線のような放射線を放射するシーンの画像形
成において使用される受信装置が重要である。赤外線画
像システムは、典型的に走査反射鏡を含む光集束システ
ムを介して入来した放射線を観察する放射線感知検出器
のアレイを使用する。検出器は入射した放射線に応答し
て信号を出力し、その信号は赤外線画像システムを動作
しているオペレータによる観察のためにデイスプレィ上
にシーンの画像を生成するために良く知られた信号処理
回路によって使用される。
成において使用される受信装置が重要である。赤外線画
像システムは、典型的に走査反射鏡を含む光集束システ
ムを介して入来した放射線を観察する放射線感知検出器
のアレイを使用する。検出器は入射した放射線に応答し
て信号を出力し、その信号は赤外線画像システムを動作
しているオペレータによる観察のためにデイスプレィ上
にシーンの画像を生成するために良く知られた信号処理
回路によって使用される。
[発明の解決すべき課題]
多数の検出器のアレイにおいて使用されるタイプの放射
線検出器は、過度に強い放射線に露出されたときの加熱
等によって損1易を受は易い半導体材料から構成されて
いる。例えば、画像システムの受信光学系の方向に不注
意または故意に導かれるレーザビームは、放射線検出器
に大きな損傷を与えて検出器を不能にする。
線検出器は、過度に強い放射線に露出されたときの加熱
等によって損1易を受は易い半導体材料から構成されて
いる。例えば、画像システムの受信光学系の方向に不注
意または故意に導かれるレーザビームは、放射線検出器
に大きな損傷を与えて検出器を不能にする。
放射線のこのような検出器またはセンサはレーザレンジ
ファインダ、レーダおよび上S己の画1象システムのよ
うな受動受信システムに見られる。受信システムは、比
較的大きい視界およびレーザ放射線が受信される受容角
度を有する受信望遠鏡を使用する。レーザレンジファイ
ンダのような能動装置の場合において、受信望遠鏡はレ
ーザ放射線を受信するように構成されている。しかしな
がら、受動的な赤外線画像システムの場合には望遠鏡は
赤外線周波数でレーザ放射線に応答するが、シーン放射
線だけが受信望遠鏡に入射するように構成されている。
ファインダ、レーダおよび上S己の画1象システムのよ
うな受動受信システムに見られる。受信システムは、比
較的大きい視界およびレーザ放射線が受信される受容角
度を有する受信望遠鏡を使用する。レーザレンジファイ
ンダのような能動装置の場合において、受信望遠鏡はレ
ーザ放射線を受信するように構成されている。しかしな
がら、受動的な赤外線画像システムの場合には望遠鏡は
赤外線周波数でレーザ放射線に応答するが、シーン放射
線だけが受信望遠鏡に入射するように構成されている。
レーザ放射線は種々の波長で存在し、パルス化されるか
もしくは連続波でもよい。過度の強いレーザ放射線から
受信装置を保護するために、強い放射線が存在するとき
に迅速に動作する光スィッチが光通路を閉じることが望
ましく、さらにこのスイッチは通常の強度の放射線を妨
害されることなく光学系から検出器に通過させなければ
ならない。このような光スィッチはほとんど検出器の損
傷前に瞬間的に付勢され、強いレーザ放射線の伝送を遮
断または大幅に減少させなければならない。
もしくは連続波でもよい。過度の強いレーザ放射線から
受信装置を保護するために、強い放射線が存在するとき
に迅速に動作する光スィッチが光通路を閉じることが望
ましく、さらにこのスイッチは通常の強度の放射線を妨
害されることなく光学系から検出器に通過させなければ
ならない。このような光スィッチはほとんど検出器の損
傷前に瞬間的に付勢され、強いレーザ放射線の伝送を遮
断または大幅に減少させなければならない。
理想的には、このような光スィッチは広い帯域のレーザ
波長から保護し、広い視界にわたって動作されるべきで
ある。
波長から保護し、広い視界にわたって動作されるべきで
ある。
過度に強い放射線から保護するためのスイッチの1つは
プラズマアークスイッチである。レーザ放射線の通路を
遮断するプラズマアーク放電の動作は、Cohn氏他に
よる米国特許節3.9134.003号明IITJ書(
1976年6月IG日)およびCohn氏他による第4
,380.079号明細書(1983年4月12日)に
おける説明から理解される。
プラズマアークスイッチである。レーザ放射線の通路を
遮断するプラズマアーク放電の動作は、Cohn氏他に
よる米国特許節3.9134.003号明IITJ書(
1976年6月IG日)およびCohn氏他による第4
,380.079号明細書(1983年4月12日)に
おける説明から理解される。
高密度のプラズマは、屈折、反射および吸収により放射
線と相互作用することができる。この効果を使用するこ
とにより、パルス成形およびパワー制限のためにレーザ
放射線を外らすことが上記の特許明細書の最初のものに
記載されている。例えば、5ミクロンの波長の一酸化炭
素レーザからの放射線はビーム焦点に設置された短、い
パルスプラズマアーク放電によって外らされることかで
きる。レーザ放射線を外すか、もしくは吸収するのに必
要なプラズマ密度を探すために強度の集中された高電流
のアーク放電を使用する必要がある。
線と相互作用することができる。この効果を使用するこ
とにより、パルス成形およびパワー制限のためにレーザ
放射線を外らすことが上記の特許明細書の最初のものに
記載されている。例えば、5ミクロンの波長の一酸化炭
素レーザからの放射線はビーム焦点に設置された短、い
パルスプラズマアーク放電によって外らされることかで
きる。レーザ放射線を外すか、もしくは吸収するのに必
要なプラズマ密度を探すために強度の集中された高電流
のアーク放電を使用する必要がある。
放射線受信装置において比較的広い視界を使用するため
に、プラズマアークスイッチの使用において問題が生じ
る。広い視界はプラズマを通る単一ではなく多数のアー
クのアレイを必要とする。
に、プラズマアークスイッチの使用において問題が生じ
る。広い視界はプラズマを通る単一ではなく多数のアー
クのアレイを必要とする。
従来の多数のアーク放電の発生において、多数の電源が
必要であり、受信望遠鏡の光伝送特性を妨げずに種々の
アーク放電位置に電源を接続することは困難である。さ
らに、多数の電源の使用により全てのアーク放電が検出
器を保護するために同時に発生されるようにアーク放電
の同期に関して問題が発生する。実施例によると、典型
的なシステムでは10乃至20個程度の多数のアーク放
電が必要とされている。従来のこのような多数のアーク
放電は非常に多数のパワーケーブルすなわち増大された
合計パワー量を必要とし、アーク放電に与えられる種々
の電流によって発生された電磁妨害を伴う。このように
複雑な装置の結果、システム効率、システムの大きさお
よびセンサ電子装置との両立性はかなり制約されるため
、航空または衛星画像システムのような最小の寸法およ
び高性能を必要とする状況において効果的に使用される
ことができないシステムとなる。
必要であり、受信望遠鏡の光伝送特性を妨げずに種々の
アーク放電位置に電源を接続することは困難である。さ
らに、多数の電源の使用により全てのアーク放電が検出
器を保護するために同時に発生されるようにアーク放電
の同期に関して問題が発生する。実施例によると、典型
的なシステムでは10乃至20個程度の多数のアーク放
電が必要とされている。従来のこのような多数のアーク
放電は非常に多数のパワーケーブルすなわち増大された
合計パワー量を必要とし、アーク放電に与えられる種々
の電流によって発生された電磁妨害を伴う。このように
複雑な装置の結果、システム効率、システムの大きさお
よびセンサ電子装置との両立性はかなり制約されるため
、航空または衛星画像システムのような最小の寸法およ
び高性能を必要とする状況において効果的に使用される
ことができないシステムとなる。
[課題解決のための手段]
放射線検出器のアレイおよびシーンから検出器のアレイ
に放射線を導く光学系を有する赤外線画像システムのよ
うな受信システムによって上記の問題が克服され、その
他の利点が提供され、本発明によるとプラズマ中でアー
ク放電を電気的に発生させる放射線保護システムは光学
系内に設けられる。
に放射線を導く光学系を有する赤外線画像システムのよ
うな受信システムによって上記の問題が克服され、その
他の利点が提供され、本発明によるとプラズマ中でアー
ク放電を電気的に発生させる放射線保護システムは光学
系内に設けられる。
放射線保護システムは放射線の伝播通路を横断する方向
に設けられ、放射線か伝播する窓を有する1以上の絶縁
プレート上に構成された電極を含む。スパーク電極は各
プレートの一側で窓を横断する方向にスパークを導くた
めにプレート中の窓の両側に直列に配置されている。接
地パッドは、スパーク電極と共に直列のキャパシタを形
成するようにスパーク電極と反対側の各プレートの背面
に位置されている。アーク電流が種々の電極でプラズマ
を通って流れている間、プラズマはキャパシタの放電に
低いインピーダンス通路を与え、これによって次の組の
アーク放電用のキャパシタが準備される。残りの電荷は
プレート材料の抵抗を通して放電される。プレート材料
はまた各電極と接地パッドの間において所望の量のキャ
パシタンスを選択するのに十分な値の誘電定数を有して
いることが好ましい。
に設けられ、放射線か伝播する窓を有する1以上の絶縁
プレート上に構成された電極を含む。スパーク電極は各
プレートの一側で窓を横断する方向にスパークを導くた
めにプレート中の窓の両側に直列に配置されている。接
地パッドは、スパーク電極と共に直列のキャパシタを形
成するようにスパーク電極と反対側の各プレートの背面
に位置されている。アーク電流が種々の電極でプラズマ
を通って流れている間、プラズマはキャパシタの放電に
低いインピーダンス通路を与え、これによって次の組の
アーク放電用のキャパシタが準備される。残りの電荷は
プレート材料の抵抗を通して放電される。プレート材料
はまた各電極と接地パッドの間において所望の量のキャ
パシタンスを選択するのに十分な値の誘電定数を有して
いることが好ましい。
さらに保護システムは、一連のキャパシタに電力を供給
するために入来した放射線のセンサによってトリガーさ
れる直流(D C)電源を含む。センサに接続された電
気回路は、入来した放射線のパワーがパルス化された電
力供給源をトリガーするのに適切な値を設定するために
比較されるしきい値を設定する。電力供給源は第1の2
つの電極間のアークを発生させるのに十分に高い電圧で
一連のキャパシタにおける第1のキャパシタにノくルス
化された電力を供給する。プレートは、アークの電流が
1対の電極間を流れるプラズマの発生に適切なネオンの
ようなガスを充填された室内に設けられる。電流が第1
のキャパシタに流入すると、第1のキャパシタは次の2
つの電極間のアーク放電を開始する電圧に充電し、その
結果次のキャノマシタを充電する。このようにして、電
源からの電流が放射線通路に横断方向に設けられた同時
発生アークのアレイを提供するように同時に全てのアー
クを通って流れるまで、次々に放電アークが開始される
。アークは放射線が検出器のアレイに達することを阻止
するために入来した放射線と相互作用する。各々がそれ
自身のスパーク電極の組を具備する1組のプレートを使
用することによって、各プレートで生成されたアーク放
電位置は、伝播通路の全部分がアークによって阻止され
ることを保証し、それによって実質的に検出器のアレイ
に達する放射線がないことを保証するために他方のプレ
ートにおけるアーク放電位置に関してずらされて配置さ
れていてもよい。本発明の好ましい実施例において、電
源は機械的シャ・ンターのようなさらに別の保護装置を
付勢するのに十分に長い時間期間にわたってアークを維
持するのに適したエネルギで充電されるキャパシタを含
む。
するために入来した放射線のセンサによってトリガーさ
れる直流(D C)電源を含む。センサに接続された電
気回路は、入来した放射線のパワーがパルス化された電
力供給源をトリガーするのに適切な値を設定するために
比較されるしきい値を設定する。電力供給源は第1の2
つの電極間のアークを発生させるのに十分に高い電圧で
一連のキャパシタにおける第1のキャパシタにノくルス
化された電力を供給する。プレートは、アークの電流が
1対の電極間を流れるプラズマの発生に適切なネオンの
ようなガスを充填された室内に設けられる。電流が第1
のキャパシタに流入すると、第1のキャパシタは次の2
つの電極間のアーク放電を開始する電圧に充電し、その
結果次のキャノマシタを充電する。このようにして、電
源からの電流が放射線通路に横断方向に設けられた同時
発生アークのアレイを提供するように同時に全てのアー
クを通って流れるまで、次々に放電アークが開始される
。アークは放射線が検出器のアレイに達することを阻止
するために入来した放射線と相互作用する。各々がそれ
自身のスパーク電極の組を具備する1組のプレートを使
用することによって、各プレートで生成されたアーク放
電位置は、伝播通路の全部分がアークによって阻止され
ることを保証し、それによって実質的に検出器のアレイ
に達する放射線がないことを保証するために他方のプレ
ートにおけるアーク放電位置に関してずらされて配置さ
れていてもよい。本発明の好ましい実施例において、電
源は機械的シャ・ンターのようなさらに別の保護装置を
付勢するのに十分に長い時間期間にわたってアークを維
持するのに適したエネルギで充電されるキャパシタを含
む。
[実施例]
第1図において、シーン24から出て、光学系26によ
ってシーン24から検出器22に向けられる赤外線のよ
うな放射線を検出する検出器22のアレイを含む画像シ
ステム20が示されている。検出器は直線アレイまたは
行および列のマトリクスから構成されたアレイに配列さ
れてもよい。検出器22は検出器22に入射する放射線
に応答して信号プロセ、ソサ28に電気信号を出力し、
信号プロセ・ノサ28はシーン24の画像に検出器の信
号を変換する良く知られた回路網を使用する。画像はプ
ロセッサ28の出力端子に接続されたデイスプレィ30
上に与えられる。
ってシーン24から検出器22に向けられる赤外線のよ
うな放射線を検出する検出器22のアレイを含む画像シ
ステム20が示されている。検出器は直線アレイまたは
行および列のマトリクスから構成されたアレイに配列さ
れてもよい。検出器22は検出器22に入射する放射線
に応答して信号プロセ、ソサ28に電気信号を出力し、
信号プロセ・ノサ28はシーン24の画像に検出器の信
号を変換する良く知られた回路網を使用する。画像はプ
ロセッサ28の出力端子に接続されたデイスプレィ30
上に与えられる。
実施例について説明すると、光学系26はシーン24か
ら出る放射線の光線3Gを検出器22上に焦点を結ばせ
るために第1のレンズ32および第2のレンズ34を含
む。典型的に検出器22は平面1と沿って配列され、レ
ンズ32および34は検出器32の平面上にシーン24
の実像を形成する。さらに、第1のレンズ32は2つの
レンズ32と34との間の焦平面38に中間の実像を形
成し、焦平面38を通った光線3Gは第2のレンズ34
によって検出器32の平面上に画像を再生される。
ら出る放射線の光線3Gを検出器22上に焦点を結ばせ
るために第1のレンズ32および第2のレンズ34を含
む。典型的に検出器22は平面1と沿って配列され、レ
ンズ32および34は検出器32の平面上にシーン24
の実像を形成する。さらに、第1のレンズ32は2つの
レンズ32と34との間の焦平面38に中間の実像を形
成し、焦平面38を通った光線3Gは第2のレンズ34
によって検出器32の平面上に画像を再生される。
シーン24の走査は軸42に回転可能に取付けられた反
射鏡40を使用することによって実行され、軸42は信
号プロセッサ28によって回転装置44に供給された電
気駆動信号に応答して反射鏡40を回転する回転装置4
4に反射鏡40を接続する。プロセッサ28によって供
給された信号により回転装置44を付勢することによっ
て、反射鏡40の回転はプロセッサ28によって実行さ
れる信号処理動作と同期される。シーン24から伝播し
た光線36はレンズ32および34を通過させるために
反射鏡40によって反射される。羽根48を有する保護
機械シャッタ46は、過度に高いパワーの放射線による
損傷の可能性から検出器22を保護するために過度に高
いパワーをqす゛る入射する放射線を遮断するように第
1のレンズ32の前面に設けられている。
射鏡40を使用することによって実行され、軸42は信
号プロセッサ28によって回転装置44に供給された電
気駆動信号に応答して反射鏡40を回転する回転装置4
4に反射鏡40を接続する。プロセッサ28によって供
給された信号により回転装置44を付勢することによっ
て、反射鏡40の回転はプロセッサ28によって実行さ
れる信号処理動作と同期される。シーン24から伝播し
た光線36はレンズ32および34を通過させるために
反射鏡40によって反射される。羽根48を有する保護
機械シャッタ46は、過度に高いパワーの放射線による
損傷の可能性から検出器22を保護するために過度に高
いパワーをqす゛る入射する放射線を遮断するように第
1のレンズ32の前面に設けられている。
本発明によると、システム20は光学系26内に位置さ
れた放射線保護システム50を具備している。
れた放射線保護システム50を具備している。
保護システム50は放射線の強さに応答して、検出器2
2を保護するために放射線を阻止するように放射光線3
Gの伝播通路に沿って配置されている。保護システム5
0の出力信号はライン52を介して羽根48を閉じるシ
ャッタ4Bに供給され、それによって過度の強力な放射
線による損傷から検出器22を保護する。
2を保護するために放射線を阻止するように放射光線3
Gの伝播通路に沿って配置されている。保護システム5
0の出力信号はライン52を介して羽根48を閉じるシ
ャッタ4Bに供給され、それによって過度の強力な放射
線による損傷から検出器22を保護する。
赤外線の検出のために検出器22は、検出器22を冷却
してその動作に適切な低温に維持するために低温室(示
されていない)内に設置される。第1−図におけるシス
テム20の図面は、本発明を理解するのに必要なシステ
ム20の素子だけを示すために簡単化されている。した
がって、支持部54上に設置された検出器22が示され
ているだけであり、支持部54は平面に沿って位置し、
導電体および、または信号プロセッサ28に各検出器2
2の信号を接続するために良く知られている多重化回路
(示されていない)を含む。
してその動作に適切な低温に維持するために低温室(示
されていない)内に設置される。第1−図におけるシス
テム20の図面は、本発明を理解するのに必要なシステ
ム20の素子だけを示すために簡単化されている。した
がって、支持部54上に設置された検出器22が示され
ているだけであり、支持部54は平面に沿って位置し、
導電体および、または信号プロセッサ28に各検出器2
2の信号を接続するために良く知られている多重化回路
(示されていない)を含む。
保護システム50はスパーク室56、放射線のセンサ5
8および検出器22からの放射線の伝播を阻止するプラ
ズマアークを生成するように室5Gを付勢するためにセ
ンサ58に接続されたjJ勢装置60を含む。
8および検出器22からの放射線の伝播を阻止するプラ
ズマアークを生成するように室5Gを付勢するためにセ
ンサ58に接続されたjJ勢装置60を含む。
付勢装置60の出力信号は、シャッタ4Gを動作するよ
うにライン52を介して供給される。機械シャッタ4G
またはその他の機械シャッタ(示されていない)は、放
射線のビームの焦点またはその近くにその焦点を結ばせ
、それによって入射した放射線を弱める。ために必要な
シャッタ羽根の進行量を最小にするようにスパーク室5
6の側に沿って設けられてもよい。これはシャッタ応答
時間を最小にする。焦点またはその付近に位置される機
械シャッタの一例として、各シャッタ羽根がはさみの羽
根のように移動することが必要な全距離は、1ミリメー
タ以下の範囲である。急速な動作のシャッタは羽根を速
く進行させる機械的利点のために機械的なてこ作用と共
同する圧電気材料を使用することによって構成されても
よい。放射線を阻止するために羽根に要求される運動は
、1.0マイクロ秒という非常に小さい時間フレームに
おいて発生し、付勢間隔はプラズマの保護間隔の期間よ
りも速い。
うにライン52を介して供給される。機械シャッタ4G
またはその他の機械シャッタ(示されていない)は、放
射線のビームの焦点またはその近くにその焦点を結ばせ
、それによって入射した放射線を弱める。ために必要な
シャッタ羽根の進行量を最小にするようにスパーク室5
6の側に沿って設けられてもよい。これはシャッタ応答
時間を最小にする。焦点またはその付近に位置される機
械シャッタの一例として、各シャッタ羽根がはさみの羽
根のように移動することが必要な全距離は、1ミリメー
タ以下の範囲である。急速な動作のシャッタは羽根を速
く進行させる機械的利点のために機械的なてこ作用と共
同する圧電気材料を使用することによって構成されても
よい。放射線を阻止するために羽根に要求される運動は
、1.0マイクロ秒という非常に小さい時間フレームに
おいて発生し、付勢間隔はプラズマの保護間隔の期間よ
りも速い。
そのため機械シャッタは、−度プラズマアーク放電が発
生されたら連続的な保護が与えられるようにプラズマに
よる保護が終了する前に保護することができる。
生されたら連続的な保護が与えられるようにプラズマに
よる保護が終了する前に保護することができる。
第2図および第3図を参照すると、保護システム50の
構造が詳細に示されている。付勢装置60は増幅器62
、検出器64、比較器6G、しきい値電圧の供給源6B
、電源70、抵抗72および74、キャパシタ76並び
にスイッチ78を含む。スパーク室56は、室56の壁
82内に包含されたネオン、アルゴン、キセノンおよび
ヘリウムのような稀ガスの1つであることが好ましいイ
オン化ガス内に設けられた1組のスパーク板80を含む
。壁82は第2図における矢印で示された光線36に室
56中を伝播させるように放射線に対して透明である。
構造が詳細に示されている。付勢装置60は増幅器62
、検出器64、比較器6G、しきい値電圧の供給源6B
、電源70、抵抗72および74、キャパシタ76並び
にスイッチ78を含む。スパーク室56は、室56の壁
82内に包含されたネオン、アルゴン、キセノンおよび
ヘリウムのような稀ガスの1つであることが好ましいイ
オン化ガス内に設けられた1組のスパーク板80を含む
。壁82は第2図における矢印で示された光線36に室
56中を伝播させるように放射線に対して透明である。
室56は、第1図に示されているように光線36が集束
し第1のレンズ32により光線に焦点を結ばせるので平
面38で再少量を占有ので焦平面38の位置に設けられ
ている。各スパーク板80はスパーク板80内の明確な
開口として形成された中心窓84を具備し、6窓84を
通って光線3Gを伝播させるように配置されている。ス
パーク板80は通常の手段(示されていない)でそれを
把持する脚部88を有するベース86上に互いに整列し
て位置されている。
し第1のレンズ32により光線に焦点を結ばせるので平
面38で再少量を占有ので焦平面38の位置に設けられ
ている。各スパーク板80はスパーク板80内の明確な
開口として形成された中心窓84を具備し、6窓84を
通って光線3Gを伝播させるように配置されている。ス
パーク板80は通常の手段(示されていない)でそれを
把持する脚部88を有するベース86上に互いに整列し
て位置されている。
スパーク板80は、6窓84の長手方向を横断する方向
にイオン化されたガスのプラズマによる電気アークを発
生するために電極90を具備している。
にイオン化されたガスのプラズマによる電気アークを発
生するために電極90を具備している。
窓84は、反射鏡40によってシーン24を走査すると
きに光線36を横断方向に運動させるように反射鏡40
の走査平面中に細長く形成されている。スパーク板80
は各電極90によって発生されたアークを交錯させ、そ
れによって反射鏡40の回転により生じた放射線の全範
囲の走査通路をカバーするようにずらされて配置されて
いる。アークの交錯パターンは第3図におれる複合的な
窓の概略図により示されており、各アーク放電が第2図
において示されたアークの組の識別符号と対応するよう
に番号を付されている。
きに光線36を横断方向に運動させるように反射鏡40
の走査平面中に細長く形成されている。スパーク板80
は各電極90によって発生されたアークを交錯させ、そ
れによって反射鏡40の回転により生じた放射線の全範
囲の走査通路をカバーするようにずらされて配置されて
いる。アークの交錯パターンは第3図におれる複合的な
窓の概略図により示されており、各アーク放電が第2図
において示されたアークの組の識別符号と対応するよう
に番号を付されている。
動作において、センサ58はそれに入射した放射線に応
答して電気信号を出力する。センサ58の出力信号は増
幅器62を介して検出器64に結合され、増幅器62は
検出器64による検出に適切なパワーレベルに信号を増
幅する。比較器66はライン52に信号を出力するよう
に検出器64によって検出された信号をしきい値電源6
8によって供給された基準信号と比較する。ライン52
上の信号はセンサ58に入射した放射線が適切なパワー
レベルを有するときにゼロの論理状態を有し、検出器6
4によって出力された信号がしきい値電源G8によって
出力された基■信号を越えたときには論理]の値に変化
する。
答して電気信号を出力する。センサ58の出力信号は増
幅器62を介して検出器64に結合され、増幅器62は
検出器64による検出に適切なパワーレベルに信号を増
幅する。比較器66はライン52に信号を出力するよう
に検出器64によって検出された信号をしきい値電源6
8によって供給された基準信号と比較する。ライン52
上の信号はセンサ58に入射した放射線が適切なパワー
レベルを有するときにゼロの論理状態を有し、検出器6
4によって出力された信号がしきい値電源G8によって
出力された基■信号を越えたときには論理]の値に変化
する。
ライン52上の論理1の信号は、入射した放射線のパワ
ーが過度に高く、検出器22のアレイを損傷するかもし
れないことを示している。
ーが過度に高く、検出器22のアレイを損傷するかもし
れないことを示している。
電源70は、電極90間の窓84にわたって電気スパー
クを開始するのに十分に高い電圧をキャパシタ76に供
給するDC電源である。電源70は適当な高い値を有す
る電圧を発生するために良く知られた回路を内臓してい
る。電源70の一方の端子は接地され、他方の端子は抵
抗72を介してキャパシタ76に電圧を出力する。抵抗
72とキャパシタ76との間の接続ノードはスイッチ7
8によって接地されている。抵抗74はキャパシタが充
電されるようにスイッチ78と結合されたキャパシタ端
子と反対側のキャパシタ76のの端子を接地する。キャ
パシタ76と抵抗74との接合部に接続しているライン
92は、室56中のスパーク板のアレイに電圧を接続す
るように機能する。スパーク板80は、抵抗94および
スパーク板80を互に接続する導体96および98によ
ってライン92と地面との間に電気的に直列に接続され
ている。
クを開始するのに十分に高い電圧をキャパシタ76に供
給するDC電源である。電源70は適当な高い値を有す
る電圧を発生するために良く知られた回路を内臓してい
る。電源70の一方の端子は接地され、他方の端子は抵
抗72を介してキャパシタ76に電圧を出力する。抵抗
72とキャパシタ76との間の接続ノードはスイッチ7
8によって接地されている。抵抗74はキャパシタが充
電されるようにスイッチ78と結合されたキャパシタ端
子と反対側のキャパシタ76のの端子を接地する。キャ
パシタ76と抵抗74との接合部に接続しているライン
92は、室56中のスパーク板のアレイに電圧を接続す
るように機能する。スパーク板80は、抵抗94および
スパーク板80を互に接続する導体96および98によ
ってライン92と地面との間に電気的に直列に接続され
ている。
実施例によると、抵抗94はアーク放電中にプラズマを
通って流れるほぼ2,000アンペアの比較的大きい電
流のため0,1オ一ム程度の比較的小さい値を有する。
通って流れるほぼ2,000アンペアの比較的大きい電
流のため0,1オ一ム程度の比較的小さい値を有する。
抵抗94の大きさは所望のプラズマアーク放電期間を選
択するように調節されることができる。キャパシタ76
と抵抗72との間の接続ノードに接地するスイッチ78
の動作は、プラズマ放電を開始させるように第1の電極
対間にキャパシタ7Gの電圧を与える。ライン52上の
比較器6Gの論理1信号は、キャパシタ76と抵抗72
との間のノードに接地するようにスイッチ78を動作す
るために使用される。上記のように、ライン52上の比
較器の論理1信号はまたシャッタ46を付勢し、さらに
プロセッサ28に与えられる画像データのないことを信
号で示すために使用される。
択するように調節されることができる。キャパシタ76
と抵抗72との間の接続ノードに接地するスイッチ78
の動作は、プラズマ放電を開始させるように第1の電極
対間にキャパシタ7Gの電圧を与える。ライン52上の
比較器6Gの論理1信号は、キャパシタ76と抵抗72
との間のノードに接地するようにスイッチ78を動作す
るために使用される。上記のように、ライン52上の比
較器の論理1信号はまたシャッタ46を付勢し、さらに
プロセッサ28に与えられる画像データのないことを信
号で示すために使用される。
第4図乃至第10図はスパーク板80の構造を詳t(I
fに示している。少なくとも1つのスパーク板80はス
パーク室56の構成において使用される。好ましくは、
第2図に示された3枚の板のような(層数のスパーク板
80がスパーク室56の構成において使用されるべきで
ある。各スパーク板80は同一の構造を灯し、第4図乃
至第10図にはこれらの板の1構造が示されている。
fに示している。少なくとも1つのスパーク板80はス
パーク室56の構成において使用される。好ましくは、
第2図に示された3枚の板のような(層数のスパーク板
80がスパーク室56の構成において使用されるべきで
ある。各スパーク板80は同一の構造を灯し、第4図乃
至第10図にはこれらの板の1構造が示されている。
スパーク板80は誘電材料のプレート100を含み、プ
レート100は窓84を構成する中央の長方形開口を具
備して形成される。電極90はプレート100の前方側
面に設けられ、各電極90の中央ボディ部分から窓84
の周囲に外方向に延在するフィンガ102を含む。入力
電極104および出力電極106もまたプレート100
の前方側面に設けられている。接地パッド108は電極
90に一致してプレート100の後部側面に設けられて
いる。第10図に示されているように、パッド108は
窓84の一端に沿って形成された接続セクション110
によって結合された窓84の反対側に設けられた2枚の
板セクションを有する。第1O図にはまた電極90.1
04および106の外形が破線で示されている。接地パ
ッド108の上方で、プレート100の誘電材料によっ
て接地パッド10gから間隔を置かれた電極90の配列
は一連のキャパシタを形成し、各キャパシタにおいて電
極90が1つのキャパシタプレートとして機能し、パッ
ド+08が反対側のキャパシタプレートとして機能する
。出力電極10Gの一部はパッド108と共同して別の
キャパシタを形成するように112で拡大され、電極1
06のキャパシタは、第2図に示されているように1枚
のスパーク板80と続くスパーク板80との相互接続に
利用することができる。電極LOGの拡大部分112と
関連したキャパシタは、2枚の連続したスパーク板80
の間に単一のスパーク板80上の2つの連続した電極と
同一の電気特性を与えるように機能する。
レート100は窓84を構成する中央の長方形開口を具
備して形成される。電極90はプレート100の前方側
面に設けられ、各電極90の中央ボディ部分から窓84
の周囲に外方向に延在するフィンガ102を含む。入力
電極104および出力電極106もまたプレート100
の前方側面に設けられている。接地パッド108は電極
90に一致してプレート100の後部側面に設けられて
いる。第10図に示されているように、パッド108は
窓84の一端に沿って形成された接続セクション110
によって結合された窓84の反対側に設けられた2枚の
板セクションを有する。第1O図にはまた電極90.1
04および106の外形が破線で示されている。接地パ
ッド108の上方で、プレート100の誘電材料によっ
て接地パッド10gから間隔を置かれた電極90の配列
は一連のキャパシタを形成し、各キャパシタにおいて電
極90が1つのキャパシタプレートとして機能し、パッ
ド+08が反対側のキャパシタプレートとして機能する
。出力電極10Gの一部はパッド108と共同して別の
キャパシタを形成するように112で拡大され、電極1
06のキャパシタは、第2図に示されているように1枚
のスパーク板80と続くスパーク板80との相互接続に
利用することができる。電極LOGの拡大部分112と
関連したキャパシタは、2枚の連続したスパーク板80
の間に単一のスパーク板80上の2つの連続した電極と
同一の電気特性を与えるように機能する。
スパーク板80の構造において、プレート100はほぼ
1mmの厚さを有する。電極90.104および106
は銅のような金属から構成され、誘電材料のスラブ10
0上に容易に付着される。典型的に、スパーク板80の
構造においてプレート100の前方および後方の両側面
は銅箔でクラッドされ、電極および接地パッドはエツチ
ングされている。所望ならば、タングステンティップが
フィンガ102の端部および窓84に面している電極1
04および10Bの端部に設けられてもよい。
1mmの厚さを有する。電極90.104および106
は銅のような金属から構成され、誘電材料のスラブ10
0上に容易に付着される。典型的に、スパーク板80の
構造においてプレート100の前方および後方の両側面
は銅箔でクラッドされ、電極および接地パッドはエツチ
ングされている。所望ならば、タングステンティップが
フィンガ102の端部および窓84に面している電極1
04および10Bの端部に設けられてもよい。
第11図および第12図を参照すると、スパーク室56
の電気的動作が説明されている。第11図において、3
つの電極90および電極104の拡大部分1.12によ
って単一のスパーク板80上に形成されたキャパシタは
4つのキャパシタ114 、118 、118および1
20により示されている。プレートLOOの材料は本質
的に絶縁性であり、キャパシタ114乃至120を放電
させるのに十分な最小抵抗を有し、この抵抗は第11図
において符号122 、124 、126および128
で示されている。実施例によると、各抵抗22乃至12
8は少なくとも1メグオームの値を有し、はぼ20ピコ
フアラドの容量と共同し、その結果として残りの電荷に
対して数マイクロ秒程度の放電時間となる。プラズマア
ークにより行われる放電と組合せられたこの放電は、キ
ャパシタがプラズマアークの比較的高い反復周波数を与
えるように動作することを保証する。本発明の好ましい
実施例において、例えばアーク放電は1秒に数百回の反
復率で再生されることができる。所望ならば、プレート
100の材料は抵抗122乃至128に所望の値をもた
らすように炭素粒子を含浸されてもよいし、或はその代
りに抵抗122乃至128はプレート100上に設けら
れたディスクリートな抵抗(示されていない)として構
成されることもできる。本発明の好ましい実施例では炭
素粒子は使用されておらずアークによる放電と共同する
プレートtooの材料の固有抵抗はキャパシタ114乃
至20の速い放電に十分であることか発見された。プレ
ート100は繊維状のガラスとエポキシまたはテフロン
のようなプラスチックバインダとのブレンドから構成さ
れるか、或はアルミナのようにセラミックから構成され
てもよい。
の電気的動作が説明されている。第11図において、3
つの電極90および電極104の拡大部分1.12によ
って単一のスパーク板80上に形成されたキャパシタは
4つのキャパシタ114 、118 、118および1
20により示されている。プレートLOOの材料は本質
的に絶縁性であり、キャパシタ114乃至120を放電
させるのに十分な最小抵抗を有し、この抵抗は第11図
において符号122 、124 、126および128
で示されている。実施例によると、各抵抗22乃至12
8は少なくとも1メグオームの値を有し、はぼ20ピコ
フアラドの容量と共同し、その結果として残りの電荷に
対して数マイクロ秒程度の放電時間となる。プラズマア
ークにより行われる放電と組合せられたこの放電は、キ
ャパシタがプラズマアークの比較的高い反復周波数を与
えるように動作することを保証する。本発明の好ましい
実施例において、例えばアーク放電は1秒に数百回の反
復率で再生されることができる。所望ならば、プレート
100の材料は抵抗122乃至128に所望の値をもた
らすように炭素粒子を含浸されてもよいし、或はその代
りに抵抗122乃至128はプレート100上に設けら
れたディスクリートな抵抗(示されていない)として構
成されることもできる。本発明の好ましい実施例では炭
素粒子は使用されておらずアークによる放電と共同する
プレートtooの材料の固有抵抗はキャパシタ114乃
至20の速い放電に十分であることか発見された。プレ
ート100は繊維状のガラスとエポキシまたはテフロン
のようなプラスチックバインダとのブレンドから構成さ
れるか、或はアルミナのようにセラミックから構成され
てもよい。
最初に、第11図の回路の動作において、スイッチ78
は電源70が抵抗72および74を介してキャパシタ7
6に電流を供給することによりキャパシタ76を充電す
ることができるように開かれる。ライン52上に付勢信
号が発生されると、スイッチ78は電極AおよびBの両
端に充電されたキャパシタ78の全電圧を供給するため
に閉じる(第1図に示された位置)。抵抗72はスイッ
チ78を通るサージ電流を阻止するのに十分な値の抵抗
を有する。抵抗74の抵抗値は大きい電流が接地される
ことを阻止し、それによってキャパシタ7Bを短絡する
ように十分大きく選択されるが、キャパシタ76の過度
に長い充電時間を回避する程度に小さい。例えば、キャ
パシタ76の容量と抵抗74の抵抗との積に比例する数
ミリ秒またはそれ以上の放電時間が適切である。
は電源70が抵抗72および74を介してキャパシタ7
6に電流を供給することによりキャパシタ76を充電す
ることができるように開かれる。ライン52上に付勢信
号が発生されると、スイッチ78は電極AおよびBの両
端に充電されたキャパシタ78の全電圧を供給するため
に閉じる(第1図に示された位置)。抵抗72はスイッ
チ78を通るサージ電流を阻止するのに十分な値の抵抗
を有する。抵抗74の抵抗値は大きい電流が接地される
ことを阻止し、それによってキャパシタ7Bを短絡する
ように十分大きく選択されるが、キャパシタ76の過度
に長い充電時間を回避する程度に小さい。例えば、キャ
パシタ76の容量と抵抗74の抵抗との積に比例する数
ミリ秒またはそれ以上の放電時間が適切である。
キャパシタ144はプラズマアークの動作および抵抗2
2の動作によって十分に放電されるため、スイッチ78
が閉じた直後に、第11図の回路点A、:!:Bとの間
に大きい電位差が生じる。参照を簡単にするために、符
号AおよびBは第4図にも示されている。大きい電位差
の結果として、アーク放電は回路点AとBの間で開始さ
れる。電流はキャパシタ114を充電するためにアーク
を介して流れ、その結果キャパシタ114わたって電圧
が発生される。
2の動作によって十分に放電されるため、スイッチ78
が閉じた直後に、第11図の回路点A、:!:Bとの間
に大きい電位差が生じる。参照を簡単にするために、符
号AおよびBは第4図にも示されている。大きい電位差
の結果として、アーク放電は回路点AとBの間で開始さ
れる。電流はキャパシタ114を充電するためにアーク
を介して流れ、その結果キャパシタ114わたって電圧
が発生される。
この結果、キャパシタ116が抵抗124によって放電
されるため、回路点CとDとの間に大きい電位差が生じ
る。キャパシタ+14か充電し続けると、点CとDとの
間の電圧は点CとDとの間でアーク放電を開始するのに
十分に大きくなる。これによりキャパシタ116か充電
され、続いて点EとFとの間でアーク放電が生じる。回
路点EとFとの間のアーク放電によりキャパシタ118
が充電され、続いて回路点GとHとの間でアーク放電が
発生する。回路点GとHとの間のアークにおける電流は
キャパシタ120を充電し、その後抵抗94を介して地
面に流れる。
されるため、回路点CとDとの間に大きい電位差が生じ
る。キャパシタ+14か充電し続けると、点CとDとの
間の電圧は点CとDとの間でアーク放電を開始するのに
十分に大きくなる。これによりキャパシタ116か充電
され、続いて点EとFとの間でアーク放電が生じる。回
路点EとFとの間のアーク放電によりキャパシタ118
が充電され、続いて回路点GとHとの間でアーク放電が
発生する。回路点GとHとの間のアークにおける電流は
キャパシタ120を充電し、その後抵抗94を介して地
面に流れる。
第11図に示された単一のスパーク板80ではなく、2
枚のスパーク板80が直列に接続された場合、午ヤバシ
タ120が充電されるとアーク放電は第2のスパーク板
80において開始され、4つのアークが全て第2の板で
開始されるまで電流は抵抗94を通らない。第2図に示
されたように3枚のスパーク板80が直列に接続された
場合、第2のスパーク板80における4つのアーク放電
の開始後、第1のアーク放電が第3の板において開始さ
れる。第3の板において4つのアーク放電か発生するま
で、電流は抵抗94中を流れない。
枚のスパーク板80が直列に接続された場合、午ヤバシ
タ120が充電されるとアーク放電は第2のスパーク板
80において開始され、4つのアークが全て第2の板で
開始されるまで電流は抵抗94を通らない。第2図に示
されたように3枚のスパーク板80が直列に接続された
場合、第2のスパーク板80における4つのアーク放電
の開始後、第1のアーク放電が第3の板において開始さ
れる。第3の板において4つのアーク放電か発生するま
で、電流は抵抗94中を流れない。
第12図において、アーク放電の連続的な開始はタイミ
ング図により示されている。タイミング図はスパーク室
56における第1の3つのアーク放電の発生を示し、ア
ーク放電はタイミング図の下部の線に示されている付勢
信号に応答して発生される。図は第1のアーク放電の開
始に関する第2のアーク放電の開始における1ナノ秒程
度の遅延、および第2のアーク放電の開始に関する第3
のアーク放電の開始におけるほぼ同程度の大きさの遅延
を示す。第11図示されているように、キャパシタ11
4乃至120全ての充電後、電流は抵抗94を介して継
続的に流れ、電流は継続的にキャパシタ76を放電させ
る。
ング図により示されている。タイミング図はスパーク室
56における第1の3つのアーク放電の発生を示し、ア
ーク放電はタイミング図の下部の線に示されている付勢
信号に応答して発生される。図は第1のアーク放電の開
始に関する第2のアーク放電の開始における1ナノ秒程
度の遅延、および第2のアーク放電の開始に関する第3
のアーク放電の開始におけるほぼ同程度の大きさの遅延
を示す。第11図示されているように、キャパシタ11
4乃至120全ての充電後、電流は抵抗94を介して継
続的に流れ、電流は継続的にキャパシタ76を放電させ
る。
この電流および全てのアーク放電は、キャパシタ7Gが
低過ぎてアークを維持しない電圧レベルまで放電したと
きに終了する。このアーク終了は第12図に示されてい
る。ライン52上の付勢信号(第1図および第2図)は
、上述されたようにシャッタ46にも1共給される。し
かしながら、シャ、ツタ46はアークの電気的な発生よ
りもかなり遅く動作する機械的な装置である。その結果
、シャッタ4Gはアークが開始された後まで望ましくな
い放射線を阻止する効果的な動作を開始しない。アーク
の期間は、付勢信号の前縁からのシャッタ動作の遅延を
カバーするのに十分である。このようにして、検出器2
2(第1図)の継続的な保護は捕捉された信号の開始の
時間と共に始まる。
低過ぎてアークを維持しない電圧レベルまで放電したと
きに終了する。このアーク終了は第12図に示されてい
る。ライン52上の付勢信号(第1図および第2図)は
、上述されたようにシャッタ46にも1共給される。し
かしながら、シャ、ツタ46はアークの電気的な発生よ
りもかなり遅く動作する機械的な装置である。その結果
、シャッタ4Gはアークが開始された後まで望ましくな
い放射線を阻止する効果的な動作を開始しない。アーク
の期間は、付勢信号の前縁からのシャッタ動作の遅延を
カバーするのに十分である。このようにして、検出器2
2(第1図)の継続的な保護は捕捉された信号の開始の
時間と共に始まる。
本゛発明のプラズマアークの発生に関する動作において
、一連のアークは各アークに対する電圧降下がほぼ10
ボルトにすぎないと考えられるような十分に高い導電性
を有する各電極対A−B、C−D、E−FおよびG−H
(第11図)でイオン化された通路を導くことが認めら
れる。これは、上記の残りの電荷に対して非常に小さい
値だけを残してキャパシタを非常に効果的に放電させる
。本発明の好ましい実施例の構造において、電源キャパ
シタ76の電圧の範囲は10乃至20キロボルトである
。
、一連のアークは各アークに対する電圧降下がほぼ10
ボルトにすぎないと考えられるような十分に高い導電性
を有する各電極対A−B、C−D、E−FおよびG−H
(第11図)でイオン化された通路を導くことが認めら
れる。これは、上記の残りの電荷に対して非常に小さい
値だけを残してキャパシタを非常に効果的に放電させる
。本発明の好ましい実施例の構造において、電源キャパ
シタ76の電圧の範囲は10乃至20キロボルトである
。
電源キャパシタ76の容量は56ナノフアラドである。
アーク放電が最初に開始されたとき、1つのア一り放電
の開始から次のアーク放電の開始までの時間遅延は上記
のようにほぼ1ナノ秒である。最後のアーク放電の完了
後、全てのアーク放電はアーク放電のシートを与えるよ
うに同時に現れる。
の開始から次のアーク放電の開始までの時間遅延は上記
のようにほぼ1ナノ秒である。最後のアーク放電の完了
後、全てのアーク放電はアーク放電のシートを与えるよ
うに同時に現れる。
アーク放電のシートは5乃至IOマイクロ秒の期間中生
じ、その後消滅する。しかしながら、イオン化された粒
子は合計でほぼ20マイクロ秒以上イオン化された粒子
を存在させる時間期間中容アーク中に残る。この期間中
に、イオン化された粒子は効果的に入射した放射線を反
射する。上記のように機械シャッタは10マイクロ秒の
間隔内に付勢されることができるため、アーク放電のプ
ラズマは機械シャッタの保護間隔の始めと重畳するのに
十分に長い時間期間の間その放射線反射特性を維持する
。これにより連続的な保護が実現され、保護はアーク放
電の開始と共に始まる。
じ、その後消滅する。しかしながら、イオン化された粒
子は合計でほぼ20マイクロ秒以上イオン化された粒子
を存在させる時間期間中容アーク中に残る。この期間中
に、イオン化された粒子は効果的に入射した放射線を反
射する。上記のように機械シャッタは10マイクロ秒の
間隔内に付勢されることができるため、アーク放電のプ
ラズマは機械シャッタの保護間隔の始めと重畳するのに
十分に長い時間期間の間その放射線反射特性を維持する
。これにより連続的な保護が実現され、保護はアーク放
電の開始と共に始まる。
第13図はスパーク室56(第2図)の構造の好ましい
実施例を示し、3枚のスパーク板80は第2図のベース
86および脚部88により与えられる分離した支持部で
はなくモノリシック構造内に支持されている。第2図に
示されて支持部は本発明の動作を示すのに便利である。
実施例を示し、3枚のスパーク板80は第2図のベース
86および脚部88により与えられる分離した支持部で
はなくモノリシック構造内に支持されている。第2図に
示されて支持部は本発明の動作を示すのに便利である。
しかしながら、製造を容易にし、スパーク室5Gを小型
の構造にするためには第13図の多層構造130が好ま
しい。3枚のス(−ク板80は2つの絶縁材料の層13
2によって分離され、その材料はスパーク板80のプレ
ート100の構成の際に使用されたものと同じであって
もよい。
の構造にするためには第13図の多層構造130が好ま
しい。3枚のス(−ク板80は2つの絶縁材料の層13
2によって分離され、その材料はスパーク板80のプレ
ート100の構成の際に使用されたものと同じであって
もよい。
各層132は窓134を具備しておりぐ窓134は構造
130を通って光線36の通路を形成するために窓84
のように光通路を包囲している。導体96および98(
第2図)は、各層132のそれぞれにわたって延在して
いる短い導電ストリップのような構造130の中に容易
に構成されることができる。導体96および98を構成
する便宜上、構造130の中間におけるスパーク板80
は別の2つのスパーク板80の鏡像のように形成され、
この配置が導体9Gおよび98の長さを最小にする。中
間のスパーク板80の構造の鏡装置による形態は、第2
図に示されているように入力電極104の゛位置が逆に
され、同様に出力電極10Gの位置も逆にされている。
130を通って光線36の通路を形成するために窓84
のように光通路を包囲している。導体96および98(
第2図)は、各層132のそれぞれにわたって延在して
いる短い導電ストリップのような構造130の中に容易
に構成されることができる。導体96および98を構成
する便宜上、構造130の中間におけるスパーク板80
は別の2つのスパーク板80の鏡像のように形成され、
この配置が導体9Gおよび98の長さを最小にする。中
間のスパーク板80の構造の鏡装置による形態は、第2
図に示されているように入力電極104の゛位置が逆に
され、同様に出力電極10Gの位置も逆にされている。
本発明において使用されるプラズマアークは、広い帯域
の波長にわたる放射線を阻止するように動作する。構造
130の入口から見たアーク配列(第3図および第13
図)は広い視界を完全にカバーするものである。プラズ
マアーク放電において、電子はレーザ放射線の屈折、反
射または吸収を生じるようにガスの屈折率を変化させる
。完全な反射のために、プラズマ電子密度はプラズマ周
波数が入射したレーザ放射線の周波数を越えるように十
分に高くなければならない。本発明において、これは上
記の米国特許筒3,964,003号明細書に記載され
ているプラズマ密度のような所望のプラズマ密度を達成
するように強いプラズマアークを使用することによって
得られる。本発明の実施例の構造において、キャパシタ
7G(第11図)は25,000ボルトの電圧に充電さ
れ、5nF (ナノファラド)の蓄積容量を有してもよ
い。アーク放電発生の上昇時間は、5乃至乃至tons
(ナノ秒)程度である。
の波長にわたる放射線を阻止するように動作する。構造
130の入口から見たアーク配列(第3図および第13
図)は広い視界を完全にカバーするものである。プラズ
マアーク放電において、電子はレーザ放射線の屈折、反
射または吸収を生じるようにガスの屈折率を変化させる
。完全な反射のために、プラズマ電子密度はプラズマ周
波数が入射したレーザ放射線の周波数を越えるように十
分に高くなければならない。本発明において、これは上
記の米国特許筒3,964,003号明細書に記載され
ているプラズマ密度のような所望のプラズマ密度を達成
するように強いプラズマアークを使用することによって
得られる。本発明の実施例の構造において、キャパシタ
7G(第11図)は25,000ボルトの電圧に充電さ
れ、5nF (ナノファラド)の蓄積容量を有してもよ
い。アーク放電発生の上昇時間は、5乃至乃至tons
(ナノ秒)程度である。
本発明の上記の実施例は説明に過ぎず、当業者はその修
正が可能であることを理解するであろう。
正が可能であることを理解するであろう。
したがって、本発明はここに記載の実施例に限定される
ものではなく、添付された特許請求の範囲の各請求項に
よってのみ制限されるものである。
ものではなく、添付された特許請求の範囲の各請求項に
よってのみ制限されるものである。
匪の藺庸各占r
第1図は、本発明による放射線保護システムを内臓した
画像システムの概略図である。 第2図は第1図の放射線保護システムの斜視図である。 第3図はプラズマを通る電気アークのアレイを示す第2
図の放射線保護システムのスパーク板の窓から見た図°
であり、アーク放電はスパーク板と一致して交互に配置
されている。 第4図は第2図のスパーク板の平面である。 第5図は第4図のライン5−5におけるスパーク板の側
面図である。 第6図は第4図のライン6−6におけるスパーク板の断
面図である。 第7図は第4図のライン7−7におけるスパーク板の断
面図である。 第8図は第4図のライン8−8におけるスパーク板の断
面図である。 第9図は第4図のライン9−9におけるスパーク板の端
面図である。 第10図は第9図のライン10−10に沿って見たスパ
ーク板の後方側面図である。 第11図は電源に電気接続されている第2図のスパーク
板あ配線図である。 第12図は本発明のスパーク室中での連続的なプラズマ
アーク放電発生のタイミングを示し、また第1図のシス
テムにおいて使用される保護シャッタの効果的な動作時
間を示す。 第13図は本発明のスパーク室における1組のスパーク
板のコンパクトな層構造を示す。 22、84・・・検出器、24・・・シーン、28・・
・プロセッサ、32、 34・・・レンズ、40・・・
反射鏡、46・・・機械シャ・ツタ、48・・・羽根、
50・・・保護システム、56・・・スパーク室、58
・・・センサ、70・・・電源、72.74.94.1
22 。 124 、126 、128・・・抵抗、76、114
、 liB 、 118 。 120・・・キャパシタ、78・・・スイッチ、80・
・・スノく−り板、84・・・窓、100・・・プレー
1−1102・・・フィンガ、90、1.04 、1.
06・・・電極、10g・・・接地パッド。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
画像システムの概略図である。 第2図は第1図の放射線保護システムの斜視図である。 第3図はプラズマを通る電気アークのアレイを示す第2
図の放射線保護システムのスパーク板の窓から見た図°
であり、アーク放電はスパーク板と一致して交互に配置
されている。 第4図は第2図のスパーク板の平面である。 第5図は第4図のライン5−5におけるスパーク板の側
面図である。 第6図は第4図のライン6−6におけるスパーク板の断
面図である。 第7図は第4図のライン7−7におけるスパーク板の断
面図である。 第8図は第4図のライン8−8におけるスパーク板の断
面図である。 第9図は第4図のライン9−9におけるスパーク板の端
面図である。 第10図は第9図のライン10−10に沿って見たスパ
ーク板の後方側面図である。 第11図は電源に電気接続されている第2図のスパーク
板あ配線図である。 第12図は本発明のスパーク室中での連続的なプラズマ
アーク放電発生のタイミングを示し、また第1図のシス
テムにおいて使用される保護シャッタの効果的な動作時
間を示す。 第13図は本発明のスパーク室における1組のスパーク
板のコンパクトな層構造を示す。 22、84・・・検出器、24・・・シーン、28・・
・プロセッサ、32、 34・・・レンズ、40・・・
反射鏡、46・・・機械シャ・ツタ、48・・・羽根、
50・・・保護システム、56・・・スパーク室、58
・・・センサ、70・・・電源、72.74.94.1
22 。 124 、126 、128・・・抵抗、76、114
、 liB 、 118 。 120・・・キャパシタ、78・・・スイッチ、80・
・・スノく−り板、84・・・窓、100・・・プレー
1−1102・・・フィンガ、90、1.04 、1.
06・・・電極、10g・・・接地パッド。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
Claims (9)
- (1)放射線を検出する手段および受信システムによっ
て観察されているシーンから検出手段に向う通路に沿っ
て放射線の光線を向ける手段を含む受信システムにおけ
る前記通路上に設けられた放射線保護システムにおいて 放射線通路を横切るように向けられた放電アークを発生
するために配置された、放射線通路の周囲に設けられた
電極を有する電極装置と、 前記電極の対の間にアーク放電を発生するのに十分な大
きさの電圧を供給するための出力端子および帰線端子を
有し、前記電極が出力端子および帰線端子間に直列に配
置されている電源手段と、前記電源手段の帰線端子にそ
れぞれ電極が接続されている1組のキャパシタと、 前記直列電極の第1の電極対の間に第1のアーク放電を
発生するために前記電源手段を付勢する手段とを具備し
、 前記第1の電極の対に接続された前記キャパシタの第1
のものは前記第1のアーク放電の電流によって前記直列
電極の第2の電極対の間の第2のアーク放電を発生する
のに十分な大きさの電位に充電され、前記キャパシタの
次のものはアーク放電のアレイを順次開始するために前
記アーク放電中の電流によって順次充電され、前記アー
ク放電は前記放射線光線が前記検出手段に到達すること
を阻止する放射線保護システム - (2)前記電極は、アーク放電の存在する際にプラズマ
を発生させる気体の雰囲気中に取付けられる請求項1記
載のシステム。 - (3)前記電極装置は少なくとも1つのスパーク板を含
み、このスパーク板は前記放射線通路を横切るように設
けられ、前記放射線に透明な中央の窓を有し、前記電極
は前記板の第1の側に位置され、前記電極と共に複数の
前記キャパシタを形成するために前記電極と一致して前
記第1の側の反対側の第2の側に接地パッドが設けられ
ており、前記板の材料は前記複数のキャパシタの誘電体
として機能する請求項2記載のシステム。 - (4)前記電源手段は、出力キャパシタおよび前記アー
ク放電を開始するのに十分な電圧に前記出力キャパシタ
を充電するための電力供給源を含み、前記電源手段は前
記電力供給源から前記出力キャパシタを遮断し、前記ア
ーク放電を開始するように前記第1の電極対と前記出力
キャパシタを直列に再接続するスイッチを含む請求項3
記載のシステム。 - (5)入射した放射線のパワーレベルを感知するために
センサ手段を含み、前記センサ手段は過度の放射線パワ
ーを感知したとき前記アーク放電を開始するために前記
電源手段のスイッチを付勢する請求項4記載のシステム
。 - (6)前記システムは複数の前記スパーク板を含み、前
記スパーク板は前記光通路に沿って直列に配置され、前
記スパーク板はそれぞれ前記通路に対して横断する方向
に向けられ、通路は前記スパーク板の前記窓を通過し、 前記板の第1のものの上の直列電極中の最後の電極は、
前記板の第2のものの上の直列電極中の第1の電極に接
続されている請求項5記載のシステム。 - (7)前記板の1つの中の電極は前記放射線通路の周囲
の前記板の別のものの中の電極に関してずらされて配置
されている請求項6記載のシステム。 - (8)前記システムは複数の前記スパーク板を含み、前
記スパーク板は前記光通路に沿って直列に配置され、そ
れぞれ前記通路に横断する方向に向けられ、前記通路は
前記スパーク板の前記窓を通過し、 前記板の第1のものの上の直列電極中の最後の電極は、
前記板の第2のものの上の直列電極中の第1の電極に接
続されている請求項3記載のシステム。 - (9)前記板の1つにおける電極は前記放射線通路の周
囲の前記板の別のものの中の電極に関してずらされて配
置されている請求項8記載のシステム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/277,814 US4990761A (en) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | Plural arc radiation protector |
US277.814 | 1988-11-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02269919A true JPH02269919A (ja) | 1990-11-05 |
JPH0617821B2 JPH0617821B2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=23062474
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1312203A Expired - Lifetime JPH0617821B2 (ja) | 1988-11-30 | 1989-11-30 | 複数のアーク放電放射線保護装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4990761A (ja) |
EP (1) | EP0371423A3 (ja) |
JP (1) | JPH0617821B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015141057A (ja) * | 2014-01-28 | 2015-08-03 | アズビル株式会社 | 火炎検出器 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4214036A1 (de) * | 1992-04-29 | 1993-11-04 | Abb Patent Gmbh | Vorrichtung zum empfang von fokussierter lichtstrahlung |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE794438A (fr) * | 1972-02-01 | 1973-05-16 | Commissariat Energie Atomique | Obturateur optique |
US4179194A (en) * | 1976-02-02 | 1979-12-18 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Electrically controllable wide angle of view optical notch filter |
US4380079A (en) * | 1980-09-12 | 1983-04-12 | Northrop Corp. | Gas laser preionization device |
SU1113772A1 (ru) * | 1983-02-04 | 1984-09-15 | Предприятие П/Я В-2190 | Оптический затвор |
GB8331298D0 (en) * | 1983-11-23 | 1983-12-29 | British Telecomm | Optical devices |
-
1988
- 1988-11-30 US US07/277,814 patent/US4990761A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-11-25 EP EP19890121831 patent/EP0371423A3/en not_active Ceased
- 1989-11-30 JP JP1312203A patent/JPH0617821B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015141057A (ja) * | 2014-01-28 | 2015-08-03 | アズビル株式会社 | 火炎検出器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0371423A2 (en) | 1990-06-06 |
EP0371423A3 (en) | 1991-07-03 |
JPH0617821B2 (ja) | 1994-03-09 |
US4990761A (en) | 1991-02-05 |
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