JPH0226261B2 - - Google Patents

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JPH0226261B2
JPH0226261B2 JP60194408A JP19440885A JPH0226261B2 JP H0226261 B2 JPH0226261 B2 JP H0226261B2 JP 60194408 A JP60194408 A JP 60194408A JP 19440885 A JP19440885 A JP 19440885A JP H0226261 B2 JPH0226261 B2 JP H0226261B2
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JP
Japan
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degree
matching
pattern
point
partial
Prior art date
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JP60194408A
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Japanese (ja)
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JPS6194184A (en
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Kazumasa Okumura
Haruhiko Yokoyama
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、複数のパターンの位置を無接触でパ
ターンマツチングを用いて認識する時に必要とな
る一致度極大点検出装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a matching maximum point detection device that is required when recognizing the positions of a plurality of patterns using pattern matching without contact.

従来の技術 近年、無接触で対象物の位置を検出するために
パターン認識の産業界における要求は増々高まり
一部は半導体組立工程等に利用されている。以
下、図面を参照しながら、上述したような従来の
パターンマツチングによる位置認識について説明
を行なう。
BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years, the demand for pattern recognition in industries to detect the position of objects without contact has been increasing, and some patterns are being used in semiconductor assembly processes. Hereinafter, position recognition by conventional pattern matching as described above will be explained with reference to the drawings.

第1図は従来のパターンマツチングによる位置
認識方法の構成を示すブロツク図である。第1図
において、1は撮像装置、2は撮像装置1を駆動
するための同期信号発生回路、3は走査ビームの
位置を得るための座標発生回路、4は撮像装置1
からの映像信号を2値化する回路からなる前処理
回路、5はシフトレジスタからなる一時記憶回
路、6は一時記憶回路5に記憶されたパターンの
うち一致度検出に用いるパターンを並列的に切り
出すための2次元パターン切出し回路、7はあら
かじめ登録されているパターンを一致度検出がで
きる形で記憶される標準パターン記憶回路、8は
2次元パターン切出し回路6で切り出されるパタ
ーンと標準パターン記憶回路7に記憶されている
パターンとを比較し、一致の度合を検出する一致
度検出回路、9は一致度を記憶する一致度記憶回
路、10は一致度の比較を行なう比較回路、11
は一致度検出回路8より出力された一致度を一致
度記憶回路9へ伝えるゲート回路、12は座標発
生回路3より出力された座標を座標記憶回路へ伝
えるゲート回路、13は走査ビームの座標を記憶
する座標記憶回路である。
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a conventional position recognition method using pattern matching. In FIG. 1, 1 is an imaging device, 2 is a synchronization signal generation circuit for driving the imaging device 1, 3 is a coordinate generation circuit for obtaining the position of the scanning beam, and 4 is the imaging device 1
5 is a temporary storage circuit consisting of a shift register; 6 is a preprocessing circuit consisting of a circuit that binarizes the video signal from 5; 6 is a temporary storage circuit for cutting out patterns used for matching degree detection in parallel from among the patterns stored in the temporary storage circuit 5; 7 is a standard pattern storage circuit that stores pre-registered patterns in a form that allows for the degree of matching to be detected; 8 is a standard pattern storage circuit 7 that stores the patterns cut out by the 2D pattern extraction circuit 6; 9, a coincidence degree storage circuit that stores the degree of coincidence; 10, a comparison circuit that compares the degree of coincidence; 11;
12 is a gate circuit that transmits the degree of coincidence output from the degree of coincidence detection circuit 8 to the degree of coincidence memory circuit 9; 12 is a gate circuit that conveys the coordinates output from the coordinate generation circuit 3 to the coordinate memory circuit; 13 is a gate circuit that transmits the coordinates of the scanning beam; This is a coordinate storage circuit that stores coordinates.

以上のように構成されたパターンマツチングに
よる位置認識方法について、以下その動作につい
て説明する。まず半導体チツプ等の対象物は、撮
像装置1により映像信号に変換される。この時の
走査ビームは同期信号発生回路2が発生した同期
信号に同期しておりその座標は座標発生回路3よ
り常時得られる。次に映像信号は前処理回路4で
調理回路が扱いやすい2値化信号に変換されシフ
トレジスタからなる一時記憶回路5へ入力され
る。この中から次の2次元パターン切出し回路6
によつて、映像情報が縦横ある大きさ(例えば16
×16画素)をもつた四角形のパターン情報として
順次読み出される。一致度検出回路8では、2次
元パターン切出し回路6で切り出されたパターン
と標準パターン記憶回路7に記憶されている標準
パターンとを比較し一致の度合いを検出する。検
出された一致度は一致度記憶回路9に過去におい
て記憶されている一致度と比較回路10で比較
し、検出した一致度の方が大きい時にゲート回路
11を開いて一致度記憶回路9の内容を更新す
る。この比較回路10の出力は、さらにゲート回
路12にも送られ、その時の走査ビームの座標値
を座標記憶回路13へ導き、過去に記憶された座
標値を更新する。
The operation of the position recognition method using pattern matching configured as described above will be explained below. First, an object such as a semiconductor chip is converted into a video signal by the imaging device 1. The scanning beam at this time is synchronized with the synchronization signal generated by the synchronization signal generation circuit 2, and its coordinates are always obtained from the coordinate generation circuit 3. Next, the video signal is converted by a preprocessing circuit 4 into a binary signal that can be easily handled by a cooking circuit, and is input to a temporary storage circuit 5 consisting of a shift register. The next two-dimensional pattern cutting circuit 6 from this
Depending on the image information, the horizontal and vertical size (for example, 16
x 16 pixels) is sequentially read out as rectangular pattern information. The matching degree detection circuit 8 compares the pattern cut out by the two-dimensional pattern cutting circuit 6 and the standard pattern stored in the standard pattern storage circuit 7 to detect the degree of matching. The detected degree of coincidence is compared with the degree of coincidence stored in the past in the degree of coincidence memory circuit 9 in the comparison circuit 10, and when the degree of coincidence detected is greater, the gate circuit 11 is opened and the contents of the degree of coincidence memory circuit 9 are compared. Update. The output of the comparison circuit 10 is further sent to the gate circuit 12, and the coordinate values of the scanning beam at that time are guided to the coordinate storage circuit 13, thereby updating the previously stored coordinate values.

この動作を繰り返し走査の終了するフレームの
最終の時点では、あらかじめ記憶されている標準
パターンに最も一致したパターンが存在した画像
中の座標位置X,Yが、その時の一致度と共に記
憶され保持される。
Repeating this operation, at the final point in the frame when scanning ends, the coordinate position X, Y in the image where the pattern that most closely matches the pre-stored standard pattern exists is stored and retained along with the degree of matching at that time. .

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記のような構成では最もよく
パターンが一致した位置1点しか検出されず、対
象とする部分パターンと類似した形状パターンが
複数個存在する場合にはそのうちのどの部分パタ
ーンを検出するかわからないという問題点を有し
ていた。
Problems to be Solved by the Invention However, with the above configuration, only one point is detected where the pattern most closely matches, and if there are multiple shape patterns similar to the target partial pattern, only one of them is detected. This method has a problem in that it is not known which partial pattern to detect.

本発明は上記問題点に鑑み、撮像画面上に対象
とする部分パターンと類似した形状パターンが複
数個存在してもそれらをすべて検出するための一
致度極大点検出装置を提供するものである。
In view of the above problems, the present invention provides a matching maximum point detection device for detecting all of a plurality of shape patterns similar to a target partial pattern on an image capturing screen.

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明の一致度極
大点検出装置は、少なくとも3×3画素の領域を
代表位置とする部分パターンの一致度をその位置
関係と対応付けて一時記憶する手段と、そのうち
中心位置を代表位置とする部分パターンの一致度
がその隣接する近傍を代表位置とする部分パター
ンの一致度のいずれよりも小さくないときに中心
位置を一致度極大点と判定し、かつ隣接する近傍
を代表位置とする部分パターンの一致度と同じ値
であつても重複した極大点判定を生じない手段と
を備えたものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the matching maximum point detection device of the present invention corresponds the matching degree of a partial pattern whose representative position is an area of at least 3×3 pixels with its positional relationship. and a means for temporarily storing the central position, and when the matching degree of the partial pattern with the center position as the representative position is not smaller than the matching degree of the partial pattern with the adjacent neighborhood as the representative position, the central position is set to the maximum matching degree. A point is determined as a point, and means is provided that does not cause redundant local maximum point determination even if the matching degree is the same as that of a partial pattern whose representative position is an adjacent neighborhood.

作 用 本発明は上記した構成によつて、撮像画面上に
複数の類似形状パターンが存在しても、その各々
のパターンについて一致度極大点を得ることがで
きパターンマツチングにより複数点の認識をする
ことができることとなる。
Effects According to the present invention, even if a plurality of similar shape patterns exist on the imaging screen, the maximum matching point can be obtained for each pattern, and the recognition of the plurality of points can be achieved by pattern matching. It is possible to do so.

実施例 以下本発明の一実施例について、図面を参照し
ながら説明する。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第2図は本発明の一実施例におけるパターン認
識方法の構成を示すブロツク図である。第2図に
おいて、20は第1図で示したパターンマツチン
グ回路、21はパターンマツチング回路20から
出力される一致度を一時的に記憶する一時記憶回
路、22は画面上のある点の周囲8画素分の一致
度を切り出す8近傍切出し回路、23a〜23h
は8近傍での一致度と比較する回路、24は比較
した結果を元に極大点かどうか判定する極大点判
定回路である。
FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of a pattern recognition method in one embodiment of the present invention. In FIG. 2, 20 is the pattern matching circuit shown in FIG. 1, 21 is a temporary storage circuit that temporarily stores the degree of matching output from the pattern matching circuit 20, and 22 is a circuit around a certain point on the screen. 8-neighborhood extraction circuit that extracts the degree of coincidence for 8 pixels, 23a to 23h
24 is a circuit that compares the degree of coincidence with the 8 neighboring points, and 24 is a maximum point determination circuit that determines whether or not it is a maximum point based on the comparison result.

以上のように構成されたパターン認識方法につ
いて以下その動作について説明する。
The operation of the pattern recognition method configured as described above will be explained below.

対象物を1フレーム走査したときに、パターン
マツチング回路20より出力される一致度が仮に
第3図のように表わされたとする。第3図ではa
点は正しく認識されるべき点であり、b点はa点
より1画素ずれた点、c点は正しく認識されるべ
き点とする。この状態をさらに第4図にて説明す
る。第4図の1は標準パターンでありこのパター
ンで画面を走査し各々の点における一致度を検出
する。第4図の1は標準パターンであり4は第3
図のc点におけるパターンの例で正しく認識され
るべきパターンであるがイ部分のパターンが欠落
しているために一致度は80/100となりa点〜c
点のうちでは最も小さい。第4図の2,3は各々
第3図のa点,b点のパターンの例であり、2は
一致度91/100,3は88/100である。
Assume that when the object is scanned for one frame, the degree of matching output from the pattern matching circuit 20 is expressed as shown in FIG. In Figure 3, a
Points are points that should be correctly recognized, point b is a point shifted by one pixel from point a, and point c is a point that should be correctly recognized. This state will be further explained with reference to FIG. 1 in FIG. 4 is a standard pattern, and the screen is scanned using this pattern to detect the degree of coincidence at each point. 1 in Figure 4 is the standard pattern, and 4 is the third pattern.
In the example of the pattern at point c in the figure, the pattern should be correctly recognized, but because the pattern at part A is missing, the degree of matching is 80/100, which is from point a to c.
The smallest of the points. 2 and 3 in FIG. 4 are examples of the patterns of points a and b in FIG. 3, respectively, where 2 has a matching degree of 91/100 and 3 has a matching degree of 88/100.

この例ではa調とc点を検出したいのである
が、一致度の大きい順に2点の候補点を選ぶとa
点,b点のみ検出されc点は検出されない。c点
を2番目の認識点として検出するには、一致度が
極大となる座標を検出する必要がある。
In this example, we want to detect the a key and the c point, but if we select two candidate points in descending order of degree of matching, a
Only point and point b are detected, and point c is not detected. In order to detect point c as the second recognition point, it is necessary to detect the coordinates at which the degree of matching is maximum.

第2図において、パターンマツチング回路20
より出力される一致度は、シフトレジスタからな
る一時記憶回路21に記憶される。
In FIG. 2, a pattern matching circuit 20
The degree of coincidence outputted from is stored in a temporary storage circuit 21 consisting of a shift register.

第4図1のロの画素が標準パターンの座標値を
代表するとした場合、ロが第5図のA〜Iで示さ
れる位置を走査した時の各々の一致度を第2図に
示す8近傍切出し回路22にて切り出す。第2図
の比較回路23a〜hと極大点判定回路24で
は、切り出されたE点の一致度とその周囲の点
(8近傍の点)の一致度とを比較し下記の条件が
すべて満足された時、E点の一致度は極大点であ
ると判定する。
If it is assumed that the pixel B in Figure 4 represents the coordinate values of the standard pattern, then the degree of coincidence of each of the positions indicated by A to I in Figure 5 when B is scanned is the 8 neighborhood shown in Figure 2. It is cut out by the cutting circuit 22. The comparison circuits 23a to 23h and the maximum point determination circuit 24 in FIG. 2 compare the degree of coincidence of the extracted point E with the degree of coincidence of the surrounding points (eight neighboring points), and the following conditions are all satisfied. , it is determined that the degree of coincidence at point E is the maximum point.

Eer>Aer,Eer>Ber Eer>Cer,Eer>Der EerFer,EerGer EerHer,EerIer 但し、AerはA点における一致度であり以下Ber
〜Ierは各々の点での一致度を表わす。
E er > A er , E er > B er E er > C er , E er > D er E er F er , E er G er E er H er , E er I er , where A er is the degree of agreement at point A and below B er
~ Ier represents the degree of agreement at each point.

F〜I点での一致度とE点での一致度との比較
をした時に等しい一致度であつても極大点と判定
しているので、E点と連続した1点が同じ一致度
であつても極大点を見逃すことなくまた重複して
検出することもなく効果的に極大点判定を行な
う。
When comparing the degree of agreement at points F to I with the degree of agreement at point E, even if the degree of agreement is equal, it is determined to be the maximum point, so if one point consecutive to point E has the same degree of agreement. To effectively determine a maximum point without missing the maximum point or detecting it redundantly.

以上のように本実施例によれば、パターンマツ
チングにより得られた一致度を一時記憶し、その
中から注目す点を代表位置とする部分パターンの
一致度とその8近傍を代表位置とする部分パター
ンの一致度とを切り出して、それらを比較し、8
近傍のうち一番上の列の3点と真中の列の左側の
点を第1のグループとし、その他を第2のグルー
プとした場合、注目点する点を代表位置とする部
分パターンの一致度は第1のグループの各点を代
表位置とする部分パターンの一致度より大きく第
2のグループの各点を代表位置とする部分パター
ンの一致度より大きいか同じ値である時に注目点
を極大点と判定することにより、重複することな
く効果的に一致度極大点を検出できる。
As described above, according to this embodiment, the degree of coincidence obtained by pattern matching is temporarily stored, and the degree of coincidence of a partial pattern with the point of interest as the representative position and its 8 neighbors are determined as the representative position. Cut out the matching degree of the partial pattern and compare them, 8
If the three neighboring points in the top row and the left point in the middle row are set as the first group, and the others are set as the second group, the matching degree of the partial pattern with the point of interest as the representative position is larger than the matching degree of the partial pattern whose representative position is each point of the first group, and is greater than or equal to the matching degree of the partial pattern whose representative position is each point of the second group, then the point of interest is set as the maximum point. By determining this, it is possible to effectively detect the maximum matching point without duplication.

発明の効果 以上のように本発明は、少なくとも3×3画素
の領域を代表位置とする部分パターンの一致度を
その位置関係と対応付けて一時記憶する手段と、
そのうち中心位置を代表位置とする部分パターン
の一致度がその隣接する近傍を代表位置とする部
分パターンの一致度のいずれよりも小さくないと
きに中心位置を一致度極大点と判定し、かつ隣接
する近傍を代表位置とする部分パターンの一致度
と同じ値であつても重複した極大点判定を生じな
い手段とを設けることにより、一致度極大点を効
果的に検出でき、撮像画面上に複数の類似形状パ
ターンが存在してもそれらの位置をすべて検出す
ることができる。
Effects of the Invention As described above, the present invention provides a means for temporarily storing the degree of coincidence of partial patterns whose representative positions are at least 3×3 pixel areas in association with their positional relationships;
When the matching degree of the partial pattern with the center position as the representative position is not smaller than the matching degree of the partial patterns with the adjacent neighborhood as the representative position, the center position is determined to be the maximum matching point, and By providing a means that does not cause redundant maximum point determination even if the matching value is the same as that of a partial pattern whose neighborhood is the representative position, the maximum matching point can be detected effectively, and multiple points can be displayed on the imaging screen. Even if similar shape patterns exist, all their positions can be detected.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来のパターンマツチングによる位置
認識の構成を示すブロツク図、第2図は本発明の
一実施例におけるブロツク図、第3図は画面走査
に対する一致度の変化の一例を示す図、第4図は
第3図における一致度の変化をより具体的に説明
するためのパターンの状態を示す図、第5図は8
近傍の点を示す図である。 21……一時記憶回路、22……8近傍切出し
回路、23a〜23h……比較回路、24……極
大点判定回路。
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of position recognition using conventional pattern matching, FIG. 2 is a block diagram of an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a diagram showing an example of changes in the degree of matching with respect to screen scanning. Figure 4 is a diagram showing the state of the pattern to more specifically explain the change in the degree of matching in Figure 3, and Figure 5 is a diagram showing the state of the pattern.
It is a diagram showing nearby points. 21... Temporary storage circuit, 22... 8 neighborhood extraction circuit, 23a to 23h... Comparison circuit, 24... Maximum point determination circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 対象物を撮像するための撮像装置と、この撮
像装置により得られる撮像画面上の対象物の中の
複数の部分と略同一のパターンを標準パターンと
して記憶する手段と、上記撮像画面上の部分パタ
ーンを切り出す手段と、上記標準パターンと上記
切り出された部分パターンを比較し一致度を算出
する手段とを有し、算出された一致度が極大とな
る点を検出することにより上記撮像画面上の複数
の類似形状パターンの位置を認識する装置であつ
て、少なくとも3×3画素の領域を代表位置とす
る部分パターンの一致度をその位置関係と対応付
けて一時記憶する手段と、上記一時記憶されてい
る一致度のうち中心位置を代表位置とする部分パ
ターンの一致度がその隣接する近傍を代表位置と
する部分パターンの一致度のいずれよりも小さく
ないときに上記中心位置を一致度極大点と判定
し、かつ上記中心位置を代表位置とする部分パタ
ーンの一致度とその隣接する近傍を代表位置とす
る部分パターンの一致度と同じ値であつても重複
した極大点判定を生じない手段を有した一致度極
大点検出装置。 2 中心位置を代表位置とする部分パターンの一
致度とその隣接する近傍を代表位置とする部分パ
ターンの一致度が同じ値であつても重複した極大
点判定を生じない手段は、上記隣接した近傍を2
分割し、第1の隣接した近傍を代表位置とする部
分パターンの一致度はいずれも中心位置を代表位
置とする部分パターンの一致度よりも小さく、第
2の隣接した近傍を代表位置とする部分パターン
の一致度はいずれも中心位置を代表位置とする部
分パターンの一致度よりも小さいかあるいはその
いずれかが同じ値となる場合に上記中心位置を極
大点と判定することを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の一致度極大点検出装置。
[Scope of Claims] 1. An imaging device for imaging an object, means for storing a pattern that is substantially the same as a plurality of parts of the object on an imaging screen obtained by the imaging device as a standard pattern; The method includes means for cutting out the partial pattern on the imaging screen, and means for comparing the standard pattern and the cut out partial pattern to calculate a degree of coincidence, and detecting a point at which the calculated degree of coincidence is maximum. A device for recognizing the positions of a plurality of similar shape patterns on the imaging screen, wherein the degree of coincidence of partial patterns having an area of at least 3×3 pixels as a representative position is temporarily stored in association with the positional relationship thereof. Then, when the degree of correspondence of the partial pattern whose representative position is the center position among the temporarily stored degrees of correspondence is not smaller than the degree of correspondence of the partial pattern whose representative position is its adjacent neighborhood, the degree of correspondence of the partial pattern at the center position is determined to be the maximum matching point, and the matching value of the partial pattern with the above center position as the representative position is the same as the matching degree of the partial pattern with its adjacent neighborhood as the representative position, but the overlapped maximum point is determined. A maximum coincidence point detection device having a means for preventing occurrence of 2. Even if the matching degree of a partial pattern whose representative position is the center position and the matching degree of a partial pattern whose adjacent vicinity is the representative position are the same value, the means to avoid duplicate local maximum point determinations is to 2
The degree of matching of the partial patterns divided and having the first adjacent neighborhood as the representative position is lower than the degree of matching of the partial patterns having the center position as the representative position, and the part having the second adjacent neighborhood as the representative position. A patent claim characterized in that the center position is determined to be the maximum point when the degree of matching of the patterns is either smaller than the degree of matching of partial patterns having the center position as a representative position, or when either of them is the same value. The device for detecting the maximum point of coincidence according to item 1.
JP60194408A 1985-09-03 1985-09-03 Detector for point of maximum coincidence degree Granted JPS6194184A (en)

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JPS63282581A (en) * 1987-05-14 1988-11-18 Nippon Micro Data Kk Image recognition device
JPS6444584A (en) * 1987-08-12 1989-02-16 Hitachi Ltd Composite template matching image processor

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JPS6194184A (en) 1986-05-13

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