JPH02252192A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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Publication number
JPH02252192A
JPH02252192A JP1070642A JP7064289A JPH02252192A JP H02252192 A JPH02252192 A JP H02252192A JP 1070642 A JP1070642 A JP 1070642A JP 7064289 A JP7064289 A JP 7064289A JP H02252192 A JPH02252192 A JP H02252192A
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JP
Japan
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bit line
complementary
memory cell
circuit
selection
Prior art date
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Pending
Application number
JP1070642A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobumi Matsuura
松浦 展巳
Takeshi Kizaki
木崎 健
Yasushi Takahashi
康 高橋
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi ULSI Engineering Corp, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi ULSI Engineering Corp
Priority to JP1070642A priority Critical patent/JPH02252192A/en
Publication of JPH02252192A publication Critical patent/JPH02252192A/en
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Abstract

PURPOSE:To reduce the area of a chip to be occupied by a circuit element for the precharge of a complementary bit line by providing a bit select switch, which executes turning-on operation in correspondence to the non-selection period of a memory cell, and an equalize switch. CONSTITUTION:DRAM (dynamic random access memory) is equipped with plural n-channel type equalizer MOSFETs Q9 to selectively short-circuit complementary common data lines CD and -CD. A timing control circuit 12 is provided to control all bit line select switches 9 and the FETs Q9 to a turn-on state during the non-selection period of a memory cell 11. When these all the switches 9 and FETs Q9 are controlled to the turn-on state during the non- selection period of the memory cell 11, a pair of complementary bit lines BLi and -BLi, for which a level is forcibly set according to a power supply voltage Vdd and a ground voltage Vss, are conducted and thus, all the lines BLi and -BLi are balanced to a voltage almost half of the voltage Vdd. Thus, an exclusive precharge circuit is not required for each complementary bit line.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体記憶装置さらには相補ビット線のプリチ
ャージに関し、例えばDRAM (ダイナミック・ラン
ダム・アクセス・メモリ)に適用して有効な技術に関す
るものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductor memory device and also to precharging of complementary bit lines, and relates to a technique that is effective when applied to, for example, a DRAM (dynamic random access memory). It is.

〔従来技術〕[Prior art]

DRAMは、信号電荷を蓄積容量に保持する形式のダイ
ナミック型メモリセルを有し、データの読み出しに際し
て蓄積容量からビット線に現れる信号電荷をセンスアン
プで所定の到達レベルに増幅する。例えば折り返し交点
方式で形成されたDRAMは、相補ビット線の夫々に差
動増幅回路で成るセンスアンプのデータ入出力端子が結
合され、メモリセルの選択端子に結合されている所定の
ワード線が選択されると、これによって選択されたメモ
リセルの蓄積電荷が相補ビット線の一方に与えられる。
A DRAM has a dynamic memory cell that stores signal charges in a storage capacitor, and when reading data, a sense amplifier amplifies the signal charges appearing from the storage capacitor to a bit line to a predetermined level. For example, in a DRAM formed using the folded intersection method, data input/output terminals of a sense amplifier consisting of a differential amplifier circuit are coupled to each complementary bit line, and a predetermined word line coupled to a selection terminal of a memory cell is selected. Then, the accumulated charge of the selected memory cell is applied to one of the complementary bit lines.

メモリセルから蓄積電荷が与えられると、当該一方のビ
ット線には電荷再配分によって決定されるレベルが現れ
る。センスアンプは、その一方のビット線上で変化され
るレベルと、他方のビット線に与えられている参照電位
との電位差を増幅して、相補ビット線を所定の到達レベ
ルに向は相補的にレベル強制する。
When stored charge is applied from a memory cell, a level determined by charge redistribution appears on one of the bit lines. The sense amplifier amplifies the potential difference between the level changed on one bit line and the reference potential applied to the other bit line, and adjusts the complementary bit line to a predetermined level. Force.

ところで、センスアンプによって相補的にレベル強制さ
れる相補ビット線の到達レベルは、読み出しデータの論
理値に拘らず電源電圧と接地電圧との対になっており、
また、センスアンプが相補型MO8回路のようなコンプ
リメンタリプッシュプル回路によって構成されるような
場合にはその動作点は電源電圧の概ね半分のレベルにな
り、さらに相補ビット線の充放電に伴うノイズを低減さ
せるには相補ビット線の充放電電流のピーク値を小さく
することが必要になる。これらの点により、相補ビット
線に上記参照電位を与えるには、従来からビット線のハ
ーフプリチャージが利用され、例えば、メモリセルの非
選択期間やスタンバイ期間にオン状態に制御されるイコ
ライズスイッチを、夫々の相補ビット線の間に配置して
、相補ビット線を電源電圧の中間レベルにプリチャージ
するようになっていた。
Incidentally, the level reached by the complementary bit lines whose levels are forced complementary by the sense amplifier is a pair of the power supply voltage and the ground voltage, regardless of the logical value of the read data.
In addition, when the sense amplifier is configured with a complementary push-pull circuit such as a complementary MO8 circuit, its operating point is approximately half the power supply voltage, and furthermore, noise due to charging and discharging of the complementary bit line is reduced. To reduce this, it is necessary to reduce the peak value of the charging/discharging current of the complementary bit line. Due to these points, half precharging of bit lines has traditionally been used to apply the above reference potential to complementary bit lines. , and between the respective complementary bit lines to precharge the complementary bit lines to an intermediate level of the power supply voltage.

尚、ビット線のプリチャージ回路について記載された文
献の例としては特開昭60−212894号がある。
An example of a document describing a bit line precharge circuit is Japanese Patent Laid-Open No. 60-212894.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、従来のように夫々の相補ビット線毎に専
用のプリチャージ回路を設けると、その分だけ半導体記
憶装置のチップ面積が大きくなり、そのプリチャージ回
路によるチップ占有面積は、記憶容量の増大、言い換え
るなら、相補ビット線対の増大に呼応して増えてしまう
。特に、限られたチップ面積の中で記憶容量を増大させ
ることが要求されるようなりRAMにおいては、ビット
線プリチャージ回路によるチップ占有面積の増大を無視
することはできない。
However, if a dedicated precharge circuit is provided for each complementary bit line as in the past, the chip area of the semiconductor memory device will increase accordingly, and the chip area occupied by the precharge circuit will increase the storage capacity. In other words, the number increases as the number of complementary bit line pairs increases. Particularly in RAMs, where it is required to increase the storage capacity within a limited chip area, the increase in chip area occupied by the bit line precharge circuit cannot be ignored.

本発明の目的は、相補ビット線毎に専用のプリチャージ
回路を必要とせずにビット線のプリチャージを行うこと
ができる半導体記憶装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can precharge bit lines without requiring a dedicated precharge circuit for each complementary bit line.

本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述及び添付図面から明らか一 になるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、ビット線選択スイッチを介して相補ビット線
が共通接続される相補コモンデータ線にイコライズスイ
ッチを配置し、メモリセルの非選択期間に上記ビット線
選択スイッチ及びイコライズスイッチをオン状態に制御
するものである。
That is, an equalization switch is arranged on a complementary common data line to which complementary bit lines are commonly connected via a bit line selection switch, and the bit line selection switch and equalization switch are controlled to be in an on state during a non-selection period of a memory cell. It is.

上記イコライズスイッチは、許容されるプリチャージ期
間の長短に応じて相補コモンデータ線の異なる位置に複
数個配置することができる。
A plurality of equalize switches can be arranged at different positions on the complementary common data line depending on the length of the allowable precharge period.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、メモリセルの非選択期間に呼応
してオン動作されるビット線選択スイッチ及びイコライ
ズスイッチは、メモリセルの選択期間に呼応して相補的
な到達レベルに強制された相補ビット線を、電気的に導
通にして相互に平衡なレベルになるようにプリチャージ
する。
According to the above-described means, the bit line selection switch and the equalization switch, which are turned on in response to the non-selection period of the memory cell, are complementary bits forced to a complementary attainment level in response to the selection period of the memory cell. The lines are electrically conductive and precharged to mutually balanced levels.

〔実施例〕〔Example〕

第2図には本発明の一実施例であるDRAMのブロック
図が示される。同図に示されるDRAMは、特に制限さ
れないが、公知の半導体集積回路製造技術によってシリ
コン基板のような1つの半導体基板に形成されている。
FIG. 2 shows a block diagram of a DRAM which is an embodiment of the present invention. The DRAM shown in the figure is formed on a single semiconductor substrate such as a silicon substrate by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique, although this is not particularly limited.

第2図において1は、複数個のダイナミック型メモリセ
ルをマトリクス配置したメモリセルアレイであり、メモ
リセルの選択端子は行方向毎にワード線に結合され、メ
モリセルのデータ入出力端子は列方向毎に相補ビット線
に結合される。夫々の相補ビット線は、相補ビット線に
1対1対応で接続された複数個のビット線選択スイッチ
を含むYスイッチ回路2を介して相補コモンデータ線C
D、CDに共通接続されている。
In FIG. 2, reference numeral 1 denotes a memory cell array in which a plurality of dynamic memory cells are arranged in a matrix.Selection terminals of the memory cells are connected to word lines in each row direction, and data input/output terminals of the memory cells are connected in each column direction. is coupled to the complementary bit line. Each complementary bit line is connected to a complementary common data line C via a Y switch circuit 2 including a plurality of bit line selection switches connected one-to-one to the complementary bit lines.
It is commonly connected to D and CD.

本実施例のDRAMはアドレスマルチプレクス方式が採
用され、Xアドレス信号Axをアドレスバッファ及びア
ドレスマルチプレクサ3を介してXアドレスラッチ4か
らXアドレスデコーダ5に供給した後、Yアドレス信号
Ayをアドレスバッファ及びアドレスマルチプレクサ3
を介してYアドレスラッチ6からYアドレスデコーダ7
に供給する。Xアドレスデコーダ5はこれに供給される
アドレス信号に対応するワード線を選択レベルに駆動す
る。所定のワード線が選択レベルに駆動されると、この
ワード線に選択端子が結合されたメモリセルが選択され
る。また、Yアドレスデコーダ7はこれに供給されるア
ドレス信号に対応するビット線選択スイッチをオン動作
させて、上記選択されたメモリセルをコモンデータ線C
D、CDに導通にする。
The DRAM of this embodiment adopts an address multiplex system, and after supplying the X address signal Ax from the X address latch 4 to the X address decoder 5 via the address buffer and address multiplexer 3, the Y address signal Ay is supplied to the address buffer and address multiplexer 3. Address multiplexer 3
from Y address latch 6 to Y address decoder 7 via
supply to. The X address decoder 5 drives the word line corresponding to the address signal supplied thereto to a selection level. When a predetermined word line is driven to a selection level, a memory cell whose selection terminal is coupled to this word line is selected. Further, the Y address decoder 7 turns on the bit line selection switch corresponding to the address signal supplied thereto, and transfers the selected memory cell to the common data line C.
Make conductive to D and CD.

夫々の相補ピッ1−線には、センスアンプアレイ8に含
まれる差動増幅回路で成るようなセンスアンプが接続さ
れている。このセンスアンプは、選択されたメモリセル
の蓄積電荷と後述する参照電位との電位差を検出して増
幅する。相補ピッ1〜線の電位差が増幅されると、その
変化は相補コモンデータ線CD、CDから入出力回路9
のメインアンプで増幅され、これによってメモリセルデ
ータが外部に読み出される。外部から入出力回路9に書
き込みデータが与えられると、入出力回路の書き込みア
ンプがその書き込みデータに従って相補コモンデータ線
CD、CDを駆動し、これにより、アドレス信号にて選
択された相補ビット線を介して所定のメモリセルにその
データに応する電荷情報が蓄積される。
A sense amplifier, such as a differential amplifier circuit included in the sense amplifier array 8, is connected to each complementary pin 1- line. This sense amplifier detects and amplifies the potential difference between the accumulated charge of the selected memory cell and a reference potential described later. When the potential difference between the complementary pins 1 and 1 is amplified, the change is transmitted from the complementary common data lines CD and CD to the input/output circuit 9.
The main amplifier of the main amplifier amplifies the memory cell data, and the memory cell data is read out to the outside. When write data is given to the input/output circuit 9 from the outside, the write amplifier of the input/output circuit drives the complementary common data lines CD, CD according to the write data, thereby driving the complementary bit line selected by the address signal. Charge information corresponding to the data is stored in a predetermined memory cell via the memory cell.

第1図には上記Yスイッチ回路2、メモリセルアレイ1
、センスアンプアレイ8近傍の詳細な回路例が示されて
いる。
FIG. 1 shows the Y switch circuit 2 and the memory cell array 1.
, a detailed circuit example near the sense amplifier array 8 is shown.

本実施例のDRAMにおいて代表的に示される1対の相
補ビット線BLi、BLiはセンスアンプ10に対して
折り返し交点方式で構成されている。メモリセル11は
、特に制限されないが、Nチャンネル型選択MO8FE
TQIと蓄積容量C5が直列接続されて成る1トランジ
スタ型とされ、そのデータ入出力端子は、対応する相補
ビット線BLi、BLiに順番に接続され、その選択端
子は行毎に対応する所定のワード線WLI〜WLnに結
合されている。各メモリセル11の蓄積容量Csには、
特に制限されないが、回路の一方の電源電圧Vddの電
圧の半分に相当する電圧が与えられている。
A pair of complementary bit lines BLi, BLi, which are typically shown in the DRAM of this embodiment, are configured in a folded-crossing manner with respect to the sense amplifier 10. The memory cell 11 is an N-channel type selection MO8FE, although it is not particularly limited.
It is a one-transistor type in which TQI and storage capacitor C5 are connected in series, and its data input/output terminals are sequentially connected to corresponding complementary bit lines BLi, BLi, and its selection terminal is connected to a predetermined word corresponding to each row. It is coupled to lines WLI-WLn. The storage capacity Cs of each memory cell 11 is as follows:
Although not particularly limited, a voltage equivalent to half of the voltage of the power supply voltage Vdd on one side of the circuit is applied.

上記センスアンプ10は、特に制限されないが、pチャ
ンネル型MO8FETQ2とnチャンネル型MO5FE
TQ3を直列接続して成る相補型M○S(以下単にCM
O8とも記す)インバータと、pチャンネル型MO8F
ETQ2 ’とnチャンネル型MO8FETQ3 ’を
直列接続して成るCMOSインバータとを1対有し、相
互に一方のCMOSインバータの入力端子を他方のCM
OSインバータの出力端子に交差結合して成るスタティ
ックラッチを主体に、上記MO8FETQ2.Q2′の
コモンソース電極をpチャンネル型パワースイッチMO
8FETQ4を介して回路の電源電圧Vddに結合し、
上記MO8FETQ3.Q3 ’のコモンソース電極を
nチャンネル型パワースイッチMO8FETQ5を介し
て回路の他方の電源電圧としての接地電圧Vssに結合
して構成される。上記パワースイッチMO5FETQ4
.Q5は、チップ選択期間に呼応してセンスアンプ信号
φsaにより同相でスイッチ制御される。
The sense amplifier 10 includes, but is not particularly limited to, a p-channel type MO8FETQ2 and an n-channel type MO5FE.
Complementary type M○S (hereinafter simply referred to as CM) consisting of TQ3 connected in series
(also written as O8) inverter and p-channel type MO8F
It has a pair of CMOS inverters made by connecting ETQ2' and n-channel type MO8FETQ3' in series, and the input terminal of one CMOS inverter is connected to the input terminal of the other CM.
The MO8FETQ2. The common source electrode of Q2' is connected to a p-channel power switch MO.
Coupled to the circuit power supply voltage Vdd via 8FETQ4,
Above MO8FETQ3. The common source electrode of Q3' is connected to the ground voltage Vss as the other power supply voltage of the circuit via an n-channel power switch MO8FETQ5. Above power switch MO5FETQ4
.. Q5 is switch-controlled in phase by the sense amplifier signal φsa in response to the chip selection period.

Yスイッチ回路2に含まれるビット線選択スイッチは夫
々の相補ビット線に対応して設けられ、相補ビット線B
Li、BLiに対応するビット線選択スイッチ9は、一
方のビット線BLiとコモンデータ線CDとの間に介在
されたnチャンネル型MO8FETQ6と、他方のビッ
ト線BLiとコモンデータ線CDとの間に介在されたn
チャンネル型MO8FETQ7とによって構成され、両
者のゲート電極には上記Yアドレスデコーダ7から出力
されるビット線選択信号Y S W iが供給される。
The bit line selection switch included in the Y switch circuit 2 is provided corresponding to each complementary bit line, and the bit line selection switch included in the Y switch circuit 2 is provided corresponding to each complementary bit line.
The bit line selection switch 9 corresponding to Li and BLi is an n-channel type MO8FET Q6 interposed between one bit line BLi and common data line CD, and an n-channel type MO8FET Q6 interposed between one bit line BLi and common data line CD. mediated n
A bit line selection signal Y S Wi outputted from the Y address decoder 7 is supplied to the gate electrodes of both channels.

上記相補コモンデータ線CD、CDは、nチャンネル型
のプルアップMO8FETQ8.Q8を介して電電圧子
Vddに結合されている。このプルアップMO8FET
Q8.Q8は制御信号φ□によりチップ選択期間に呼応
してオン状態に制御される。プルアップMO8FETQ
8.Q8がオン状態に制御されると、相補コモンデータ
線CD。
The complementary common data lines CD and CD are connected to n-channel type pull-up MO8FETQ8. It is coupled to the voltage voltage Vdd via Q8. This pull-up MO8FET
Q8. Q8 is controlled to be on by control signal φ□ in response to the chip selection period. Pull-up MO8FETQ
8. When Q8 is controlled to be on, the complementary common data line CD.

CDは、最初に電源電圧Vddに対してMO8FETQ
8のしきい値電圧分だけ電圧降下したレベルに強制され
る。Yスイッチ回路2によって所定の相補ビット線が選
択されるまでには所定のワード線が選択され、これによ
り相補ビット線B Li 。
CD first connects MO8FETQ to power supply voltage Vdd.
The voltage is forced to a level lowered by the threshold voltage of 8. Before a predetermined complementary bit line is selected by the Y switch circuit 2, a predetermined word line is selected, and thereby the complementary bit line B Li is selected.

BLiにはそのとき選択されたメモリセルの蓄積電荷量
に応じた電位差が形成され、その電位差は、活性化され
たセンスアンプ10によって増幅される。センスアンプ
10による増幅動作が実質的に確定すると、所定のタイ
ミングでYアドレスデコーダ7はビット線選択動作を行
い、例えばピッ)・線選択信号Y S W iがハイレ
ベルのような選択レベルにされる。このとき、センスア
ンプ10の動作により、ビット線BLiの到達レベルが
電源電圧Vddで、他方のビット線BLjの到達レベル
が接地電圧Vssであるとすると、一方のコモンデータ
線CDは、電源電圧Vddに対してMO8FETQ8の
しきい値電圧骨だけ電圧降下した電圧を維持し、他方の
コモンデータ線CDは、そのときオン動作されるMOS
FETQ7とMO8FETQ8とのオン抵抗による抵抗
分圧比に概ねしたがって上記一方のコモンデータ線CD
のレベルよりも低くされる。この相補コモンデータ線C
D。
A potential difference corresponding to the amount of accumulated charge of the memory cell selected at that time is formed in BLi, and this potential difference is amplified by the activated sense amplifier 10. When the amplification operation by the sense amplifier 10 is substantially determined, the Y address decoder 7 performs a bit line selection operation at a predetermined timing, and for example, the line selection signal YSWi is set to a selection level such as a high level. Ru. At this time, if the level reached by the bit line BLi is the power supply voltage Vdd and the level reached by the other bit line BLj is the ground voltage Vss due to the operation of the sense amplifier 10, one common data line CD is set to the power supply voltage Vdd. The voltage that is lower than the threshold voltage of MO8FETQ8 is maintained, and the other common data line CD is connected to the MOS that is turned on at that time.
According to the resistance voltage division ratio due to the on-resistance of FETQ7 and MO8FETQ8, one of the common data lines CD
be lower than the level of This complementary common data line C
D.

CDのレベル差が入出力回路9に含まれるメインアンプ
で増幅されることにより、メモリセルデータが外部に読
み出される。尚、相補コモンデータ線cD、CDの到達
レベルは、メインアンプの回路構成や特性により、必ず
しも電源電圧Vddと接地電圧Vssにされる必要はな
い。
By amplifying the CD level difference by the main amplifier included in the input/output circuit 9, the memory cell data is read out. Note that the levels reached by the complementary common data lines cD and CD do not necessarily have to be set to the power supply voltage Vdd and the ground voltage Vss, depending on the circuit configuration and characteristics of the main amplifier.

本実施例のDRAMは、チップ非選択期間に夫々の相補
ビット線を電源電圧Vddの半分の電圧にハーフプリチ
ャージする回路構成をYスイッチ回路2側に持つ。即ち
、相補コモンデータ線CD。
The DRAM of this embodiment has a circuit configuration on the Y switch circuit 2 side that half-precharges each complementary bit line to half the voltage of the power supply voltage Vdd during the chip non-selection period. That is, complementary common data line CD.

CDを選択的に短絡可能とするnチャンネル型イコライ
ズMO3FETQ9を複数個設けると共に、メモリセル
の非選択期間に上記全てのビット線選択スイッチ9及び
イコライズMO8FETQ9をオン状態に制御するタイ
ミング制御回路12を持つ。メモリセルの非選択期間に
上記全てのビット線選択スイッチ9及びイコライズMO
8FETQ9がオン状態に制御されると、その前のチッ
プ選択期間にセンスアンプ1oの動作で到達レベルが電
源電圧Vddと接地電圧Vssにレベル強制されている
全ての相補ビット線が、破線で示されるようにMO8F
ETQ6から相補コモンデータ線CD、CD並びにMO
8FETQ7を経由する経路を介して導通され、これに
より全ての相補ビット線は電源電圧Vddの概ね半分の
電圧に平衡化される。
A plurality of n-channel type equalizing MO3FETQ9 that can selectively short-circuit the CD are provided, and a timing control circuit 12 is provided that controls all the bit line selection switches 9 and equalizing MO8FETQ9 to be in the on state during the non-selection period of the memory cell. . During the non-selection period of memory cells, all the bit line selection switches 9 and equalization MO
When 8FETQ9 is controlled to be on, all complementary bit lines whose levels were forced to the power supply voltage Vdd and ground voltage Vss by the operation of the sense amplifier 1o during the previous chip selection period are indicated by broken lines. Like MO8F
Complementary common data lines CD, CD and MO from ETQ6
The bit lines are made conductive through a path passing through the 8FET Q7, thereby balancing all complementary bit lines to a voltage approximately half of the power supply voltage Vdd.

このとき、ハーフプリチャージ動作が開始される前の相
補コモンデータ線CD、CDのレベルが相補ビット線の
到達レベルに一致していなくても、全ての相補ビット線
容量は相補コモンデータ線容量に比べて絶対的に大きい
ため、ハーフプリチャージ動作開始前の相補コモンデー
タ線CD、CDのレベルは相補ビット線のプリチャージ
レベルに実質的な影響を与えない。特に記憶容量が太き
ければ、言い換えるなら、相補ピッ1へ線のペアが極め
て多ければそのような相補コモンデータ線CD。
At this time, even if the levels of the complementary common data lines CD, CD before the start of the half precharge operation do not match the level reached by the complementary bit lines, all the complementary bit line capacitances are equal to the complementary common data line capacitances. Since the level of the complementary common data lines CD, CD before starting the half precharge operation does not substantially affect the precharge level of the complementary bit line. In particular, if the storage capacity is large, in other words, if the number of pairs of lines to complementary pin 1 is extremely large, such complementary common data lines CD.

CDのレベルによる影響を完全に無視することができる
The influence of CD level can be completely ignored.

また、イコライズMO8FETQ9の数が多ければ多い
ほど相補ピッ1−線の短絡経路が増えるためビット線プ
リチャージ速度が速くなる。
Furthermore, as the number of equalizing MO8FETQ9 increases, the number of short-circuit paths for the complementary P1- line increases, so that the bit line precharge speed becomes faster.

また、DRAMのスタンバイ状態が長くなるようなとき
にハーフプリチャージされた相補ビット線のリーク電流
を補償する必要がある場合には、チップ非選択期間に呼
応してオン動作されるnチャンネル型MO8FETQ1
0.Q10を介して夫々の相補コモンデータ線CD、C
Dに電源電圧Vddの半分の電圧を印加するような構成
を追加することができる。
In addition, if it is necessary to compensate for the leakage current of the half-precharged complementary bit line when the standby state of the DRAM becomes long, an n-channel type MO8FET Q1 that is turned on in response to the chip non-selection period
0. Q10 to the respective complementary common data lines CD, C
It is possible to add a configuration in which a voltage that is half the power supply voltage Vdd is applied to D.

上記タイミング制御回路12はビット線プリチャージの
ための制御信号を形成するだけでなく、DRAMの動作
を全体的に制御するその他の制御信号も形成する回路を
兼ねている。すなわち、このタイミング制御回路12に
は、ロー・アドレス・ストローブ信号RAS、カラム・
アドレス・ストローブ信号CAS、及びライトイネーブ
ル信号WEが外部制御信号として供給される。上記ロー
・アドレス・ストローブ信号RASがローレベルにアサ
ートされると、DRAMのチップ選択並びにXアドレス
系回路の動作が指示され、これによって、上記アドレス
バッファ及びアドレスマルチプレクサ3はXアドレス信
号AxをXアドレスラッチ4に供給すると共に、Xアド
レスデコーダ5の動作やセンスアンプアレイ8の動作が
所定のタイミングで指示される。特に、ロー・アドレス
・ストローブ信号RASがネゲートされているとき、タ
イミング制御回路12は、制御信号φ1をローレベルに
制御すると共に、制御信号φ2をハイレベルに制御し、
さらにYアドレスデコーダ7から出力される全てのビッ
ト線選択信号を選択レベルに強制するための制御信号φ
3を出力して、相補ビット線のハーフプリチャージ動作
を指示する。
The timing control circuit 12 not only forms a control signal for bit line precharging, but also serves as a circuit that forms other control signals that control the overall operation of the DRAM. That is, this timing control circuit 12 has a row address strobe signal RAS, a column strobe signal
Address strobe signal CAS and write enable signal WE are supplied as external control signals. When the row address strobe signal RAS is asserted to a low level, the DRAM chip selection and the operation of the X address related circuit are instructed, whereby the address buffer and address multiplexer 3 convert the X address signal Ax into The signal is supplied to the latch 4, and the operation of the X address decoder 5 and the sense amplifier array 8 are instructed at predetermined timing. In particular, when the row address strobe signal RAS is negated, the timing control circuit 12 controls the control signal φ1 to a low level and controls the control signal φ2 to a high level,
Furthermore, a control signal φ is used to force all bit line selection signals output from the Y address decoder 7 to the selection level.
3 to instruct a half precharge operation of the complementary bit line.

カラム・アドレス・ストローブ信号CASがローレベル
にアサートされると、DRAMのYアドレス系回路の動
作が指示され、これにより、アドレスバッファ及びアド
レスマルチプレクサ3はYアドレス信号AyをYアドレ
スラッチ6に供給すると共に、そのYアドレス信号Ay
に従ったYアドレろデコーダ7によるビット線選択動作
などが所定のタイミングで指示される。ライトイネーブ
ル信号WEは、そのローレベルにより書き込み動作を、
またハイレベルにより読み出し動作を入出力回路9に指
示するための制御信号である。
When the column address strobe signal CAS is asserted to a low level, the operation of the Y address related circuit of the DRAM is instructed, and thereby the address buffer and address multiplexer 3 supply the Y address signal Ay to the Y address latch 6. At the same time, its Y address signal Ay
The bit line selection operation by the Y address decoder 7 in accordance with the above is instructed at a predetermined timing. The write enable signal WE enables the write operation by its low level.
It is also a control signal for instructing the input/output circuit 9 to perform a read operation at a high level.

次に本実施例のDRAMの動作の一例を第3図に示され
るタイミングチャートを参照しながら説明する。第3図
にリードアクセス動作の一例が示されている。
Next, an example of the operation of the DRAM of this embodiment will be explained with reference to the timing chart shown in FIG. FIG. 3 shows an example of a read access operation.

時刻t。にロー・アドレス・ストローブ信号RASがロ
ーレベルにアサートされると、DRAMはチップ選択状
態になり、これによって上記制御信号φ3がネゲートさ
れ、チップ非選択期間において無条件に全てのYスイッ
チ選択信号が選択レベルにされている状態が解除され、
所定のYスイッチ選択タイミングまで全てのY選択スイ
ッチがオフ状態にされることにより、相補ビット線と相
補コモンデータ線CD、CDは電気的に非導通にされる
Time t. When the row address strobe signal RAS is asserted to a low level in The state of being set to the selection level is canceled,
By turning off all the Y selection switches until a predetermined Y switch selection timing, the complementary bit lines and complementary common data lines CD, CD are made electrically non-conductive.

D RA Mがチップ選択状態になると、外部から供給
されるXアドレス信号Axを取り込んでXアドレスデコ
ーダ5で解読し、そのXアドレス信号Axに応する所定
のワード線例えばワード線WL1を選択レベルに駆動す
る。これによって選択されるメモリセル11のデータ入
出力端子が結合されている一方のビット線BLiには当
該メモリセル11の蓄積電荷量に従って電荷再配分され
た電圧が現れ、他方のビット線BLiは参照電位として
のプリチャージレベルを維持する。ワード線が選択され
た後にはセンスアンプ10が活性化され、活性化された
該センスアンプ10は相補ビット線BLi、BLiの間
の上記電位差を相補的な到達レベル(電源電圧Vdd、
接地電圧Vss)に向けて増幅する。
When the DRAM enters the chip selection state, it takes in an externally supplied X address signal Ax, decodes it with the X address decoder 5, and sets a predetermined word line, such as word line WL1, corresponding to the X address signal Ax to the selection level. drive As a result, a voltage whose charges are redistributed according to the accumulated charge amount of the memory cell 11 appears on one bit line BLi to which the data input/output terminal of the selected memory cell 11 is connected, and the other bit line BLi is connected to the reference bit line BLi. Maintain the precharge level as a potential. After the word line is selected, the sense amplifier 10 is activated, and the activated sense amplifier 10 converts the potential difference between the complementary bit lines BLi, BLi to a complementary attained level (power supply voltage Vdd,
amplify toward the ground voltage Vss).

また、DRAMがチップ選択状態になると、制御信号φ
、がハイレベルに、そして制御信号φ2がローレベルに
反転され、これによりオフ状態にされるイコライズMO
8FETQ9にて電気的に分離された相補コモンデータ
線CD、CDは、オン状態にされるプルアップMO8F
ETQ8.Q8の作用により電源電圧Vddに対してM
O8FETQ8のしきい値電圧分だけ降下した電圧に強
制される。
Furthermore, when the DRAM enters the chip selection state, the control signal φ
, is inverted to high level, and the control signal φ2 is inverted to low level, thereby turning off the equalization MO.
Complementary common data lines CD and CD electrically separated by 8FETQ9 are pulled up by MO8F to be turned on.
ETQ8. Due to the action of Q8, M
The voltage is forced to drop by the threshold voltage of O8FETQ8.

時刻t1にカラム・アドレス・ストローブ信号CASが
ローレベルにアサートされると、DRAMは外部から供
給されるYアドレス信号Ayを取り込んでYアドレスデ
コーダ7にて解読し、そのYアドレス信号Ayに応する
所定のビット線選択スイッチを選択するための選択信号
例えばビット線選択信号Y S W iを時刻t2にハ
イレベルにする。この選択タイミングはセンスアンプ1
0による増幅動作が実質的に確定した後のタイミングに
なっている。
When the column address strobe signal CAS is asserted to a low level at time t1, the DRAM takes in the Y address signal Ay supplied from the outside, decodes it in the Y address decoder 7, and responds to the Y address signal Ay. A selection signal for selecting a predetermined bit line selection switch, for example, a bit line selection signal Y S Wi , is set to high level at time t2. This selection timing is sense amplifier 1
The timing is after the amplification operation based on 0 has been substantially determined.

このようにして所定の相補ビット線BLi、BLiが選
択されると、到達レベルが接地電圧VsSにされるべき
一方のビット線に接続する一方のコモンデータ線のレベ
ルが低下して、相補コモンデータ線CD、 CDの間に
電位差を生ずる。この電位差が入出力回路9に含まれる
メインアンプにより増幅されることによってそのときの
メモリセルデータが外部に読み出される。
When a predetermined complementary bit line BLi, BLi is selected in this way, the level of one common data line connected to the other bit line whose attained level should be the ground voltage VsS is lowered, and the complementary common data line is A potential difference is created between lines CD and CD. This potential difference is amplified by the main amplifier included in the input/output circuit 9, so that the current memory cell data is read out.

時刻t3にメモリ・リードサイクルが終了してロー・ア
ドレス・ストローブ信号RAS及びカラム・アドレス・
ストローブ信号CASが共にハイレベルにネゲートされ
ると、制御信号φ1がローレベルに戻されてMO8FE
TQ8.Q8がターン・オフされると共に、全てのビッ
ト線選択スイッチがオフ状態にされ、且つ全てのセンス
アンプ10も非活性化されるため、相補ビット線及び相
補コモンデータ線はフローティング状態になる。
At time t3, the memory read cycle ends and the row address strobe signal RAS and column address
When both strobe signals CAS are negated to high level, control signal φ1 is returned to low level and MO8FE
TQ8. When Q8 is turned off, all bit line selection switches are turned off and all sense amplifiers 10 are also deactivated, so the complementary bit lines and complementary common data lines become floating.

このフローティング状態において、相補相補ビット線は
、センスアンプ10の増幅動作で電源電圧Vddと接地
電圧Vssをペアとするレベルに到達されており、相補
コモンデータ線CD、CDは、電源電圧VddからMO
3FETQ8のしきい値電圧分だけ降下したレベルを基
準に相互に僅かな差を持ったレベルに維持されている。
In this floating state, the complementary bit lines have reached the level of pairing the power supply voltage Vdd and the ground voltage Vss by the amplification operation of the sense amplifier 10, and the complementary common data lines CD, CD are connected from the power supply voltage Vdd to the MO
They are maintained at levels with a slight difference from each other based on the level dropped by the threshold voltage of 3FETQ8.

そして、制御信号φ3がローレベルに反転されて全ての
ビット線選択スイッチがオン状態にされ、且つ制御信号
φ2がハイレベルに反転されてイコライズMO8FET
Q9がターン・オンされると、電源電圧Vddと接地電
圧vssをペアとして持つ全ての相補ビット線が、オン
状態のビット線選択スイッチとイコライズMO8FET
Q9を介して相補コモンデータ線経由で電気的に導通さ
れ、これにより全ての相補ビット線は電源電圧Vddの
概ね半分の電圧に平衡化されてハーフプリチャージされ
る。
Then, the control signal φ3 is inverted to low level to turn on all the bit line selection switches, and the control signal φ2 is inverted to high level to turn on the equalizing MO8FET.
When Q9 is turned on, all complementary bit lines with supply voltage Vdd and ground voltage vss as a pair are connected to the bit line selection switch and equalizing MO8FET in the on state.
Electrical conduction is established via the complementary common data line via Q9, whereby all the complementary bit lines are balanced and half precharged to a voltage approximately half of the power supply voltage Vdd.

上記実施例によれば以下の作用効果を得るものである。According to the above embodiment, the following effects can be obtained.

(1)すなわち、ビット線選択スイッチを介して相補ビ
ット線が共通接続される相補コモンデータ線CD、’C
DにイコライズMO8FETQ9を配置し、メモリセル
の非選択期間に上記ビット線選択スイッチ及びイコライ
ズMO8FETQ9をオン状態に制御することにより、
メモリセルの非選択期間におけるビット線選択スイッチ
及びイコライズMO8FETQ9は、メモリセルの選択
期間に呼応して相補的な到達レベルVdd、Vssに強
制された相補ビット線を、電気的に導通にして相互に平
衡なレベルになるようにプリチャージすることかできる
(1) That is, complementary common data lines CD, 'C to which complementary bit lines are commonly connected via a bit line selection switch
By arranging the equalizing MO8FETQ9 at D and controlling the bit line selection switch and the equalizing MO8FETQ9 to the on state during the non-selection period of the memory cell,
During the memory cell non-selection period, the bit line selection switch and equalizing MO8FETQ9 electrically conduct the complementary bit lines forced to the complementary attainment levels Vdd and Vss in response to the memory cell selection period, so that they are mutually connected. It can be precharged to a balanced level.

(2)上記作用効果により、相補ビット線毎に専用のプ
リチャージ回路を必要とせずにビット線のハーフプリチ
ャージを行うことができるから、従来のように夫々の相
補ピッ1−線毎に専用のプリチャージ回路を設けなくて
もよくなる。本実施例の場合には相補コモンデータ線C
D、CDの所要位置にイコライズMO8FETQ9配置
すると共に、チップ非選択期間に全てのビット線選択ス
イッチをオン状態に制御する論理をタイミング制御回路
12に追加するだけで済む。したがって、相補ビット線
をプリチャージするために設けた専用的な回路素子によ
るチップ占有面積を著しく低減することができ、これに
より、限られたチップ面積の中で記憶容量を一層増大さ
せることができるようになる。
(2) Due to the above effects, it is possible to perform half precharging of the bit line without requiring a dedicated precharging circuit for each complementary bit line. This eliminates the need to provide a precharge circuit. In the case of this embodiment, the complementary common data line C
It is only necessary to arrange the equalizing MO8FETQ9 at the required positions of D and CD, and to add logic to the timing control circuit 12 to control all the bit line selection switches to be in the on state during the chip non-selection period. Therefore, the chip area occupied by dedicated circuit elements provided for precharging the complementary bit lines can be significantly reduced, thereby further increasing the storage capacity within the limited chip area. It becomes like this.

(3)イコライズMO5FETQ9の数が多ければ多い
ほど相補ビット線の短絡経路が増えるため、これに呼応
してビット線プリチャージ速度を速くすることができる
(3) As the number of equalized MO5FETQ9 increases, the number of short-circuit paths for complementary bit lines increases, and accordingly, the bit line precharge speed can be increased.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づいて
具体的に説明したが本発明はそれに限定されるものでは
なくその要旨を逸脱しない範囲において種々変更するこ
とができる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described above based on examples, the present invention is not limited thereto and can be modified in various ways without departing from the gist thereof.

例えば、上記実施例では相補コモンデータ線に対するイ
コライズMO8FETQ9の設置場所については特別に
限定していないが、例えば、メモリセルの選択MO8F
ETのゲート電極を兼ねるポリシリコン配線にアルミニ
ウム配線を接続し、且つ、ポリシリコン配線を要所要所
で分断して成るようなワードシャント構造をワード線に
採用する場合には、そのシャント部の空き領域にコモン
データ線のイコライズMO8FETを配置させることが
できる。
For example, in the above embodiment, the installation location of the equalizing MO8FETQ9 with respect to the complementary common data line is not particularly limited.
When adopting a word shunt structure for the word line, in which an aluminum wiring is connected to a polysilicon wiring that also serves as the gate electrode of the ET, and the polysilicon wiring is divided at strategic points, the shunt section is free. Equalizing MO8FETs for the common data line can be placed in the area.

また、メモリセルアレイが複数個のメモリマットに分割
されている場合にはメモリマットの境界部分の領域にイ
コライズMO8FETを配置することができる。
Further, when the memory cell array is divided into a plurality of memory mats, equalizing MO8FETs can be arranged in the boundary areas of the memory mats.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるDRAMに適用した
場合について説明したが、本発明はそれに限定されるも
のではなく、擬似スタティックRAMやその他の半導体
記憶装置に広く適用することができる。本発明は少なく
とも相補ビット線をプリチャージする条件のものに適用
することができる。
In the above explanation, the invention made by the present inventor was mainly applied to DRAM, which is the field of application that formed the background of the invention, but the present invention is not limited thereto, and is applicable to pseudo-static RAM and other semiconductors. It can be widely applied to storage devices. The present invention can be applied at least to conditions where complementary bit lines are precharged.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、ビット線選択スイッチを介して相補ビット線
が共通接続される相補コモンデータ線にイコライズスイ
ッチを配置し、メモリセルの非選択期間に上記ピッ1−
線選択スイッチ及びイコライズスイッチをオン状態に制
御することにより、相補ビット線毎に専用のプリチャー
ジ回路を必要とせずにピッ1〜線のハーフプリチャージ
を行うことができるという効果がある。
That is, an equalize switch is placed on a complementary common data line to which complementary bit lines are commonly connected via a bit line selection switch, and the above-mentioned pin 1-
By controlling the line selection switch and the equalization switch to be in the on state, there is an effect that half precharging of the pin 1 to line can be performed without requiring a dedicated precharging circuit for each complementary bit line.

したがフて、従来のように夫々の相補ビット線毎に専用
のプリチャージ回路を設けなくてもよくなるから、相補
ビット線をプリチャージするための回路素子によるチッ
プ占有面積を著しく低減することができ、これにより、
半導体記憶装置の記憶容量や集積度向上に寄与すること
ができるようになる。
Therefore, it is no longer necessary to provide a dedicated precharge circuit for each complementary bit line as in the past, and the area occupied by the circuit elements for precharging the complementary bit lines can be significantly reduced. and this allows
This can contribute to improving the storage capacity and degree of integration of semiconductor memory devices.

そして、許容されるプリチャージ期間の長短に応じてイ
コライズスイッチを相補コモンデータ線の異なる位置に
複数個配置することにより、ビット線プリチャージ速度
を容易に速くすることができる。
By arranging a plurality of equalization switches at different positions on the complementary common data line depending on the length of the allowable precharge period, the bit line precharge speed can be easily increased.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例に係るDRAMの要部を示す
回路図、 第2図は第1図に示されるDRAMの全体を概略的に示
すブロック図、 第3図は本実施例のビット線プリチャージ動作の一例を
示すタイミングチャートである。 1・・・メモリセルアレイ、2・・・Yスイッチ回路、
5・・・Xアドレスデコーダ、7・・・Yアドレスデコ
ーダ、8・・・センスアンプアレイ、9・・・ビット線
選択スイッチ、10・・・センスアンプ、11・・・メ
モリセル、12・・・タイミング制御回路、BLi、B
Li相補ビット線、CD、CD・・・相補コモンデータ
線、Q8・・・プルアップMO8FET、Q9・・・イ
コライズMO8FET、φ□、φ2.φ3・・・制御信
号、Y S W i・・・ビット線選択信号。
FIG. 1 is a circuit diagram showing the main parts of a DRAM according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram schematically showing the entire DRAM shown in FIG. 1, and FIG. 5 is a timing chart showing an example of a bit line precharge operation. 1...Memory cell array, 2...Y switch circuit,
5...X address decoder, 7...Y address decoder, 8...Sense amplifier array, 9...Bit line selection switch, 10...Sense amplifier, 11...Memory cell, 12...・Timing control circuit, BLi, B
Li complementary bit line, CD, CD...complementary common data line, Q8...pull-up MO8FET, Q9...equalize MO8FET, φ□, φ2. φ3...Control signal, YSWi...Bit line selection signal.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、マトリクス配置された複数のメモリセルと、メモリ
セルの選択端子に結合されたワード線と、上記メモリセ
ルのデータ入出力端子に結合された相補ビット線と、相
補ビット線を選択するために夫々の相補ビット線に接続
されたビット線選択スイッチと、上記ビット線選択スイ
ッチが共通接続される相補コモンデータ線と、相補コモ
ンデータ線を選択的に短絡するイコライズスイッチと、
メモリセルの非選択期間に上記ビット線選択スイッチ及
びイコライズスイッチをオン状態に制御する制御回路と
を備えて成る半導体記憶装置。 2、上記イコライズスイッチは、相補コモンデータ線の
異なる位置に複数個配置されて成るものである請求項1
項記載の半導体記憶装置。
[Claims] 1. A plurality of memory cells arranged in a matrix, a word line coupled to a selection terminal of the memory cell, a complementary bit line coupled to a data input/output terminal of the memory cell, and a complementary bit. A bit line selection switch connected to each complementary bit line to select a line, a complementary common data line to which the bit line selection switches are commonly connected, and an equalization switch that selectively shorts the complementary common data line. ,
A semiconductor memory device comprising: a control circuit that controls the bit line selection switch and the equalization switch to be in an on state during a non-selection period of a memory cell. 2. Claim 1, wherein a plurality of the equalize switches are arranged at different positions on the complementary common data line.
The semiconductor storage device described in 1.
JP1070642A 1989-03-24 1989-03-24 Semiconductor storage device Pending JPH02252192A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR960008842A (en) * 1994-08-26 1996-03-22 로버트 시. 콜웰 Fast voltage balanced circuit in complementary data line after write cycle in memory circuit

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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