JPH02251495A - Optical card and preparation thereof - Google Patents

Optical card and preparation thereof

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Publication number
JPH02251495A
JPH02251495A JP1073297A JP7329789A JPH02251495A JP H02251495 A JPH02251495 A JP H02251495A JP 1073297 A JP1073297 A JP 1073297A JP 7329789 A JP7329789 A JP 7329789A JP H02251495 A JPH02251495 A JP H02251495A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical card
photosensitive resin
unevenness
exposure
information
Prior art date
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Pending
Application number
JP1073297A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eijiro Ichimura
市村 英治郎
Koichi Saito
晃一 斉藤
Shigeki Nakamu
茂樹 中務
Kyoko Okamoto
岡本 京子
Koji Ono
浩司 小野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kuraray Co Ltd filed Critical Kuraray Co Ltd
Priority to JP1073297A priority Critical patent/JPH02251495A/en
Publication of JPH02251495A publication Critical patent/JPH02251495A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain an optical card having high durability and excellent in mass productivity and having the good reproducibility of unevenness by forming the advance data region on a data recording surface as a recessed or protruding part and specifying the angle of inclination formed by the inclined surface constituting a V-shaped recessed or protruding part and the normal line of the data recording surface to specify the bending of the optical card. CONSTITUTION:Unevenness 5 is formed to the surface of an optical card 1 to record advance data. As the unevenness 5, recessed parts are formed or protruding parts are formed in a chevron-shape. Each of the chevron-shape protruding part 20 provided to the data region 9 present on the data recording surface 7 of the first base material 29 is provided so that the wall surface thereof is formed into an inclined surface 6 and the angle theta of inclination formed by the inclined surface 6 and the normal line A of the data recording surface 7 is formed so as to become 15-85 deg. over 50% or more of the total inclined surface. When the optical card 1 is placed on a support stand of a fulcrum-to-fulcrum distance of 20mm and load of about 15kg is applied to the optical card 1 at the almost central part between fulcrum points by a press wedge (prescribed in JIS K7203), the bending of the optical card 1 is 2mm or more. Therefore, the optical card having high durability and performing stable recording and reproduction even when accuracy forming the height or width of unevenness is slightly inferior is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ビームを用いて情報を記録あるいは再生す
る光カードおよびその製造方法に関し、特に名刺大の光
カードに用いて好適なものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an optical card that records or reproduces information using a light beam and a method for manufacturing the same, and is particularly suitable for use in a business card-sized optical card. be.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、携帯に便利な名刺程度の大きさの大容量情報記録
媒体として、光学的に情報の記録再生を行う光カードが
注目されており、実用化に向けて開発がその用途などの
検討と共に行なわれている。
In recent years, optical cards, which optically record and reproduce information, have been attracting attention as portable, large-capacity information recording media that are about the size of business cards. It is.

このような光カードは例えば特表昭58−500437
号公報に開示されているように、その表面に記録面があ
り、ここに光反射のための記録膜が設けられている。そ
して、この記録膜上に例えばピットなどの凹凸を形成し
て所定の情報を記録している。
Such an optical card is, for example, Special Publication No. 58-500437.
As disclosed in the above publication, there is a recording surface on the surface, and a recording film for light reflection is provided on this surface. Then, predetermined information is recorded by forming irregularities such as pits on this recording film.

光カードの記録膜としては、例えば銀粒子をゼラチンマ
トリックス中に分散させた膜、テルルやビスマスなどの
金属薄膜、ポリスチレンやニトロセルロースなどの有機
薄膜、シアニン類や金属ジオラード錯体類などの色素薄
膜、あるいは相転位を利用したテルル低酸化物膜などが
提唱されている。そして、この記録膜の表面に光ビーム
、例えばレーザビームを照射し、上記凹凸として数ミク
ロン程度の微小なピットを刻むことによって、所定の情
報が記録される。
Recording films for optical cards include, for example, films in which silver particles are dispersed in a gelatin matrix, metal thin films such as tellurium and bismuth, organic thin films such as polystyrene and nitrocellulose, dye thin films such as cyanines and metal diorade complexes, Alternatively, a low tellurium oxide film using phase transition has been proposed. Then, predetermined information is recorded by irradiating the surface of this recording film with a light beam, for example, a laser beam, and carving minute pits on the order of several microns as the unevenness.

光カードは一般的に、追加記録のできる追記可能光カー
ドと読み出しだけが行なわれる再生専用光カードとに分
類されるが、何れの場合でも記録膜にアドレス情報やト
ラッキング制御用情報などの情報の一部が予め記録され
ている。これを再生するときは、光ビームを照射してそ
の反射光量の変化、即ちコントラストを読取って行なう
Optical cards are generally classified into write-once optical cards that can record additional data and read-only optical cards that can only be read, but in both cases, the recording film contains information such as address information and tracking control information. Some of them are pre-recorded. To reproduce this, a light beam is irradiated and the change in the amount of reflected light, that is, the contrast is read.

このような光情報記録媒体としては光ディスクが既に実
用化されている。光ディスクには、その製造の際あらか
じめ、その情報記録層に少なくとも一部の情報があらか
じめ記録される場合が多い。
Optical discs have already been put into practical use as such optical information recording media. In many cases, at least a portion of information is pre-recorded on the information recording layer of an optical disc during its manufacture.

そのあらかじめ記録される情報としては、全ての情報の
場合もあるが、アドレスとか記録再生装置の光ヘッドの
動作を制御するための例えばトラッキング制御用の情報
環一部の情報の場合もある。
The pre-recorded information may be all the information, but it may also be information such as an address or part of the information ring for tracking control, for example, to control the operation of the optical head of the recording/reproducing device.

そして、これらのあらかじめ記録される情報に基づく記
録面上の反射率の異なる微小なピットとして、断面が矩
形状の凹凸を利用したものがある。
There is a method that utilizes unevenness with a rectangular cross section as minute pits with different reflectances on the recording surface based on the information recorded in advance.

光ディスクを再生する方法として、次のような方式があ
る。即ち、光ディスクの記録膜上に設けられる凹凸の高
さをレーザ光の波長の1/4又はl/8として所定の情
報を記録し、再生時にレーザ光を記録膜の凹凸部に照射
し、それらの反射光の位相差による干渉効果によって生
じるコントラストを読み取る方式、及び光ビームを記録
膜の凹凸部に照射し、その反射光の凹凸による散乱効果
によって生じるコントラストを読み取る方式がある。
There are the following methods for playing back optical discs. That is, predetermined information is recorded with the height of the unevenness provided on the recording film of the optical disk set to 1/4 or 1/8 of the wavelength of the laser beam, and during reproduction, the laser beam is irradiated onto the uneven portion of the recording film, and the height of the unevenness is set to 1/4 or 1/8 of the wavelength of the laser beam. There are two methods: one method reads the contrast caused by the interference effect due to the phase difference of the reflected light, and the other method irradiates the uneven portion of the recording film with a light beam and reads the contrast caused by the scattering effect of the reflected light due to the unevenness.

したがって、光カードを再生する場合も上述した2つの
方式を採用することができる。
Therefore, the above-mentioned two methods can also be employed when reproducing an optical card.

このような光ディスクを作るには、まず、上記情報に基
づく凹凸を表面にバターニングした金属等の板、即ちス
タンパ−を作成し、次いで、このスタンパ−を用いて射
出成型法、2P法、プレス法などにより上記パターンを
転写した透明複製板を作成し、これに記S!膜を兼ねた
反射膜を付与し、この反射膜の他の面にこの膜を保護す
る処置を施すことにより製造する。
To make such an optical disc, first, a stamper is made, such as a metal plate whose surface is patterned with irregularities based on the above information, and then this stamper is used to perform injection molding, 2P method, press A transparent copy board was created by transferring the above pattern using a method, etc., and the S! It is manufactured by applying a reflective film that also serves as a film, and applying a treatment to the other surface of the reflective film to protect the film.

記録膜面に凹凸を設けることによりあらかじめ情報の全
部または一部を記録する光カードは、上述の光ディスク
とよく似た構成なので、上記したような光ディスクの製
造方法を利用して作ることができる。
An optical card in which all or part of information is recorded in advance by providing unevenness on the recording film surface has a structure very similar to the above-mentioned optical disk, and therefore can be manufactured using the above-described optical disk manufacturing method.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

光カードは、上述の光ディスクが使用される状態と違っ
て、従来のいわゆるキャッシュカード等の磁気カードと
同様に携帯されて使用されるものであり、曲げや押圧な
どの機械的外力が常に加えられる。このため、光カード
の記録膜上に設けられた凹凸の形状が永久変形したり、
また凹凸や記録膜自体が壊われたりする恐れが常にある
。したがって、機械的外力に対する耐久性を大きくしな
ければならない。また、光カードは高温多湿、水、洗剤
やアルコールなどの環境に晒されるため、これらに耐え
うる特性が要求される。また、汎用的に用いられるよう
にするためには低価格に提供できるようにしなければな
、らない。しかし、従来の光ディスクは凹凸の断面形状
を矩形状にしているので、凹凸の幅と記録再生装置光ヘ
ッドのレーザーのスポット径との兼ね合い、記録再生装
置光ヘッドのレーザースポットのトラックセンターから
のずれ量などによって、凹凸のある部分とない部分との
反射光量の比即ちコントラストが左右される。したがっ
て、凹凸の形は、高さはもとより幅や長さも厳密な精度
が要求される。特に、上記し一ザースポット径と凹凸の
幅との比率は、記録再生上好ましい範囲が狭くこの狭い
範囲を中心にしてその増減いずれの側にも急激にコント
ラストが低下する。したがって、このような形状の凹凸
は非常に高精度にしなければならない。このため、従来
の光ディスクの技術をそのま利用して光カードを作ると
、例えば事前情報が記録されている凹凸の再現性を良く
するために成形条件を厳しくしなければならなかった。
Unlike the optical disks mentioned above, optical cards are carried and used in the same way as conventional magnetic cards such as cash cards, and external mechanical forces such as bending and pressing are constantly applied to them. . For this reason, the shape of the unevenness provided on the recording film of the optical card may be permanently deformed, or
Furthermore, there is always a risk that the unevenness or the recording film itself may be damaged. Therefore, durability against external mechanical forces must be increased. Furthermore, since optical cards are exposed to environments such as high temperature and humidity, water, detergents, and alcohol, they are required to have characteristics that can withstand these conditions. In addition, in order to be used for general purposes, it must be possible to provide it at a low price. However, since conventional optical discs have a rectangular cross-section of the unevenness, there is a need to balance the width of the unevenness with the laser spot diameter of the optical head of the recording/reproducing device, and the deviation of the laser spot of the optical head of the recording/reproducing device from the track center. Depending on the amount, etc., the ratio of the amount of reflected light between areas with and without unevenness, that is, the contrast, is influenced. Therefore, the shape of the unevenness requires strict precision not only in height but also in width and length. In particular, the above-mentioned ratio of the laser spot diameter to the width of the unevenness has a narrow range that is preferable for recording and reproduction, and the contrast sharply decreases on either side of this narrow range. Therefore, the unevenness of such a shape must be made with very high precision. For this reason, if an optical card is made using conventional optical disk technology, the molding conditions must be made stricter in order to improve the reproducibility of the unevenness on which prior information is recorded, for example.

したがって、大量生産が困難であり、コストダウンに限
界が生じていた。
Therefore, mass production has been difficult, and there has been a limit to cost reduction.

本発明は上述の問題点にかんがみ、高い耐久性が得られ
ると共に安定して記録・再生性が得られ、また精度上の
許容範囲が大きくて量産性に優れ、しかも凹凸の再現性
がよい光カードおよびその製造方法を提供することを目
的とする。
In view of the above-mentioned problems, the present invention provides a light beam that provides high durability, stable recording and reproducing performance, has a wide tolerance range for accuracy, is suitable for mass production, and has good reproducibility of unevenness. The purpose is to provide a card and its manufacturing method.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明による光カードは、光ビームによって読み取られ
る情報記録面上の事前情報領域が凹部または凸部、とじ
て形成されている。そして、上記情報記録面が形成され
ている第1の基材と、上記情報記録面に形成されている
金属薄膜からなる記録マークを保護するために上記第1
の基材上に設けられた第2の基材とを具備し、上記凹部
がV字状に形成されているかまたは上記凸部が山形状に
形成されていて、これらV字状四部または山形状凸部を
構成する傾斜面と上記情報記録面の法線との傾斜角が全
傾斜面の50%以上において15°以上85@以下に形
成されているとともに、上記光カードを支点間距離20
mmの支持台(JIs  K7203規定)上に置いて
上記支点間の略中央部に加圧くさび(JIS  K72
03規定)により約15kgの荷重をかけたときのたわ
みが2am以上である。
In the optical card according to the present invention, the pre-information area on the information recording surface that is read by a light beam is formed as a concave portion or a convex portion. In order to protect the first base material on which the information recording surface is formed and the recording mark made of the metal thin film formed on the information recording surface,
a second base material provided on the base material, the recessed portion is formed in a V-shape, or the convex portion is formed in a mountain shape, and the V-shaped four parts or the mountain shape The angle of inclination between the inclined surface constituting the convex portion and the normal line of the information recording surface is 15° or more and 85° or less on 50% or more of the entire inclined surface, and the optical card is held at a distance between fulcrums of 20°.
Place it on a support stand (JIS K7203 standard) of mm and insert a pressure wedge (JIS K72
03 regulations), the deflection is 2 am or more when a load of approximately 15 kg is applied.

また、光カードの製造方法は、光ビームによって読み取
られる情報記録面上の事前情報領域が凹部または凸部と
して形成されている光カードの製造方法において、 (イ)基板上に感光性樹脂を塗布して感光性樹脂層を形
成する工程、 (ロ)上記事前情報領域に記録する事前情報に対応させ
て上記感光性樹脂層を部分的に露光する工程、 (ハ)部分的に露光された上記感光性樹脂を現像すると
ともに必要に応じて後加工を行い、上記感光性樹脂層に
上記基板の法線との傾斜角が全傾斜面の50%以上にお
いて15°以上85″以下の傾斜面を有する凹凸を形成
する工程、(ニ)感光性樹脂層に凹凸が形成された上記
基板を用いてスタンパを製造する工程、 (ホ)上記スタンパを用いて光カードのレプリカを製造
する工程、 をそれぞれ具備している。
In addition, in the method of manufacturing an optical card, in which the pre-information area on the information recording surface to be read by a light beam is formed as a concave or convex portion, (a) coating a photosensitive resin on the substrate; (b) partially exposing the photosensitive resin layer in accordance with the prior information recorded in the prior information area; (c) partially exposing the above. Develop the photosensitive resin and perform post-processing as necessary to form a sloped surface on the photosensitive resin layer with an inclination angle of 15° or more and 85'' or less with respect to the normal line of the substrate at 50% or more of the total sloped surface. (d) manufacturing a stamper using the substrate with the unevenness formed on the photosensitive resin layer; and (e) manufacturing a replica of an optical card using the stamper. Equipped with

〔作用〕[Effect]

第1の基材上の情報記録面に形成されている記録膜を第
2の基材によって保護する。また、事前情報を記録する
ために光カードに形成する凹凸の断面形状を全傾斜面の
50%以上において、156以上85°以下の傾斜面を
有するV字状または山形状にして、その高さや幅に対す
る精度の許容範囲を大きくするとともに、再生時におけ
る光ビームスポットのトラックセンターからのずれ量な
どによって、凹凸のある部分とない部分とのコントラス
トがあまり変わらないようにする。
The recording film formed on the information recording surface on the first base material is protected by the second base material. In addition, the cross-sectional shape of the unevenness formed on the optical card for recording advance information is made into a V-shape or mountain-like shape with an inclination of 156 degrees or more and 85 degrees or less on 50% or more of the total slope. To widen the permissible range of precision for width and to prevent the contrast between a portion with unevenness and a portion without unevenness from changing much depending on the amount of deviation of a light beam spot from the track center during reproduction.

上記試験における光カードのたわみが2mm以上あると
、光カードは曲げに対してよく追随するようになり、カ
ード自体の機械的外力に対する耐久性がよくなる。そし
て、光カードが十分な可撓性を有して上記凹凸の断面形
状が上述のように形成されているので、例えば携帯時に
曲げられても上記凹凸が容易に永久変形上ずにその形状
の機械的外力に対する安定性がよい。また、全傾斜面の
50%以上において、15°以上85°以下の傾斜面を
有する凹凸は形状の再現性がよいので、スタンパやレプ
リカを製造するときの条件をゆるめて生産することがで
き、量産が可能になる。
When the optical card in the above test has a deflection of 2 mm or more, the optical card follows the bending well, and the card itself has good durability against external mechanical forces. Since the optical card has sufficient flexibility and the cross-sectional shape of the unevenness is formed as described above, the unevenness does not easily become permanently deformed even if it is bent during carrying, for example. Good stability against external mechanical forces. In addition, since the unevenness having an inclined surface of 15° or more and 85° or less on 50% or more of all inclined surfaces has good reproducibility of shape, it is possible to loosen the conditions when manufacturing stampers and replicas. Mass production becomes possible.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の光カードの一実施例を示す平面図、第
2図は第1図中矢印■で示した部分の拡大図である。第
1図及び第2図で示すように、光カード1は名刺程度の
大きさ、すなわち、例えば横85m5で縦54龍に形成
されている。また、厚さは0.1〜INIA程度でよく
、本実施例では0.8mmで形成する。そして、その表
面に凹凸5を形成して事前情報を記録する。即ち、第2
図に示すように光カード1の長手方向に多数のトラッキ
ングトラック3が一定の間隔を明けて直線的に設けられ
ている。そして、このトラッキングトラック3間に存在
する領域の中央長手方向にクロックトラック8が断続的
に設けられ、このクロックトラック8と上記各トラッキ
ングトラック3との間に記録領域4がそれぞれ設けられ
ている。なお図中、事前記録されている領域を4aで示
し、追加記録される領域を4bで示している。上記事前
記録されている情報は例えばアドレス情報などである。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the optical card of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of the portion indicated by the arrow ■ in FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the optical card 1 is about the size of a business card, that is, for example, 85 m5 wide and 54 square meters long. Further, the thickness may be approximately 0.1 to INIA, and in this embodiment, it is formed to be 0.8 mm. Then, irregularities 5 are formed on the surface to record prior information. That is, the second
As shown in the figure, a large number of tracking tracks 3 are provided linearly in the longitudinal direction of the optical card 1 at regular intervals. Clock tracks 8 are provided intermittently in the center longitudinal direction of the area between the tracking tracks 3, and recording areas 4 are provided between the clock tracks 8 and each of the tracking tracks 3, respectively. In the figure, the pre-recorded area is indicated by 4a, and the additionally recorded area is indicated by 4b. The pre-recorded information is, for example, address information.

また、上記追加記録される領域4bは必要な情報が書込
めるように平坦となっており、この記録領域4bに将来
例えばレーザ光を用いてピットを形成して情報を記録す
る。
Further, the additionally recorded area 4b is flat so that necessary information can be written therein, and in the future, information will be recorded by forming pits in this recording area 4b using, for example, a laser beam.

本実施例においては、凹凸5として凹部をv字状に形成
するか又は凸部を山形状に形成する。山形状凸部の場合
について説明すると、第3図の凸部形状説明図に示すよ
うに、第1の基材29上の情報記録面7にある情報領域
9に設けられた山形・状凸部20は、その壁面が傾斜面
6に形成されている。このような傾斜面6と情報記録面
7の法線Aとの傾斜角θは、山形状凸部20の全傾斜面
6が滑らかな曲線であると仮定し、その曲線上の任意の
位置を接点として引くことのできる接線と法線Aとが成
す角度である。従って、本実施例における傾斜角θは、
その傾斜面6の各々の位置において変化する。即ち、例
えば情報記録面7上の平面から勾配が始まる点a (b
)の近傍においてθは15° (θ1)であり、頂部に
近づ(につれてθが漸次増大して頂部付近の点a   
(b’)においてθは85° (θ2)である。そして
、山形状凸部20を構成する点aから点すに至る全傾斜
面の内で、傾斜角θが15°<θ<B5°の範囲にある
傾斜面6が85%を占めるようにしである。
In this embodiment, as the unevenness 5, a concave portion is formed in a V shape, or a convex portion is formed in a mountain shape. To explain the case of a mountain-shaped convex part, as shown in the convex shape explanatory diagram in FIG. 20 has a wall surface formed into an inclined surface 6. The inclination angle θ between the inclined surface 6 and the normal line A of the information recording surface 7 is determined by assuming that the entire inclined surface 6 of the mountain-shaped convex portion 20 is a smooth curve, and by calculating any position on the curve. This is the angle formed by the normal A and a tangent that can be drawn as a point of contact. Therefore, the inclination angle θ in this example is
It changes at each position of the inclined surface 6. That is, for example, a point a (b
) is 15° (θ1), and as it approaches the top (as θ gradually increases, the point a near the top
In (b'), θ is 85° (θ2). The slope 6 having an inclination angle θ in the range of 15°<θ<B5° occupies 85% of all the slopes from the point a to the point constituting the mountain-shaped convex portion 20. be.

なお、全傾斜面とは、凸部または凹部の裾部で傾斜角θ
が87°以下になった部分を起点とし、起点から凸部ま
たは凹部の頂上部を越えて、他方の裾部で同様に87°
以上になった部分を終点とする。
Note that a fully sloped surface is defined as the slope angle θ at the bottom of a convex or concave portion.
Starting point is the part where the angle is 87° or less, go beyond the top of the convex or concave part from the starting point, and do the same at 87° at the other hem.
The end point is the part that reaches this point.

この実施例におけるV字状凹部または山形状凸部は、上
記の条件を満たせば種々の形状であってよい。例えば、
第4図に変形例を示すが、傾斜角θがほぼ一定である山
形状凸部20でもよい。また第5図に他の変形例を示す
が、傾斜角θが一定で頂部において平坦部20aを有す
る山形状凸部20でもよい。さらに1つの情報領域内に
上記のような凸部または凹部は2つ以上あってもよい。
The V-shaped recess or mountain-shaped protrusion in this embodiment may have various shapes as long as the above conditions are met. for example,
Although a modified example is shown in FIG. 4, a mountain-shaped convex portion 20 having a substantially constant inclination angle θ may be used. Further, although another modification is shown in FIG. 5, a mountain-shaped convex portion 20 having a constant inclination angle θ and a flat portion 20a at the top may be used. Furthermore, there may be two or more convex portions or concave portions as described above in one information area.

ところで、凹凸の断面形状を矩形状にするとともに、こ
れらの凹部または凸部の高さを記録再生装置の光ヘッド
のレーザー光の波長の174または1/8として、主と
して上記レーザー光の反射光の位相差による干渉効果を
利用して、情報を読み取る方法の場合、既述したように
上記凹凸の形状は高さはもとより、幅や長さも厳密な精
度が要求される。特に、上記レーザ光スポット径と凹凸
の幅との比率は、記録再生上好ましい範囲が狭く、この
狭い範囲を中心にして、上記比率の増減いずれの側にも
急激にコントラストが低下する。
By the way, the cross-sectional shape of the unevenness is made into a rectangular shape, and the height of these depressions or protrusions is set to 174 or 1/8 of the wavelength of the laser beam of the optical head of the recording/reproducing device. In the case of a method of reading information using the interference effect due to a phase difference, as described above, the shape of the unevenness requires strict precision not only in height but also in width and length. In particular, the ratio of the laser beam spot diameter to the width of the unevenness has a narrow range that is preferable for recording and reproduction, and around this narrow range, the contrast sharply decreases as the ratio increases or decreases.

ところが、本発明の凹凸形状の場合は、上記コントラス
トがあまり変わらない、したがって、上記凹凸の高さや
幅は、厳密な精度が要求されないので、効率良く複製生
産することが可能になる。
However, in the case of the uneven shape of the present invention, the above-mentioned contrast does not change much, and therefore, the height and width of the above-mentioned unevenness do not require strict accuracy, so that efficient reproduction production is possible.

さらに、上記のように高い寸法精度が要求されないので
、光カードが携帯使用される際に受ける曲げ、温湿度変
化および薬品等による一時的な変形に対しても本発明の
光カードは有効である。
Furthermore, since high dimensional accuracy as mentioned above is not required, the optical card of the present invention is effective against bending, temperature and humidity changes, temporary deformation caused by chemicals, etc. when the optical card is used in a portable manner. .

一方、記録再生装置の光ヘッドの光ビームによる照射光
の、記録面における散乱効果を主に利用して情報を読み
取る場合、凹凸部の壁部の傾斜角θは任意の値に設定で
きる。しかし本発明者らが種々実験し検討した結果、上
記傾斜角θが25゜以上75°以下である場合に上記コ
ントラストが非常に良好となり、15°未溝の場合と8
5°を越える場合には実用上十分な上記コントラストが
得られないことが明らかになった。−h記傾斜角θが1
5°未満の場合には、壁部および凹凸が形成されている
情報領域9以外の面の平滑性が極度に要求されるととも
に、携帯時に受ける外力によるわずかの変形により上記
コントラストが低下する。
On the other hand, when information is read mainly by utilizing the scattering effect on the recording surface of the light irradiated by the light beam of the optical head of the recording/reproducing device, the inclination angle θ of the wall portion of the uneven portion can be set to an arbitrary value. However, as a result of various experiments and studies conducted by the present inventors, the contrast is very good when the inclination angle θ is 25° or more and 75° or less;
It has become clear that if the angle exceeds 5°, the above-mentioned contrast that is practically sufficient cannot be obtained. - h inclination angle θ is 1
If the angle is less than 5°, the surfaces other than the wall portion and the information area 9 where the unevenness is formed are required to be extremely smooth, and the contrast is reduced due to slight deformation due to external force applied when carrying the device.

また、上記傾斜角θが85°を越える場合も同様である
Further, the same applies when the above-mentioned inclination angle θ exceeds 85°.

また、光ビームで情報を読み取る場合、情’lfVtw
I域9の反射光量はOになるのが好ましいが、現実的に
はOである必要はなく、コントラストは記録再生装置で
判読できる程度に大きければ良い。むしろ、携帯時の安
定性、生産性の観点から、凹凸部5の頂上部や裾部はあ
る程度なだらかであることが望ましい。種々実験の結果
、凹凸部5の形状としては、傾斜角θが15°以上85
°以下の壁部が、全傾斜面にわたる必要はなく、全傾斜
面の50%以上あることが好ましく、全傾斜面の70%
以上あれば特に好適である。
Also, when reading information with a light beam, the information 'lfVtw
Although it is preferable that the amount of reflected light in the I region 9 be O, in reality it does not need to be O, and the contrast may be large enough to be readable by a recording/reproducing device. Rather, from the viewpoint of stability during portability and productivity, it is desirable that the top and bottom portions of the uneven portion 5 be somewhat gentle. As a result of various experiments, the shape of the uneven portion 5 has an inclination angle θ of 15° or more 85
It is not necessary for the walls below ° to cover the entire slope, but it is preferable that the wall covers 50% or more of the total slope, and 70% of the total slope.
It is particularly preferable if it is above.

第6図は、上記凹凸5としてV字状凹部19を情報領域
9に形成した第1図の光カード1の断面図であるが、第
1の基材29、金属薄膜からなる記録膜31および第2
の基材32が上記の順に積層されている。そして記録再
生に用いられる光ビームLに対して凹部となるV字状凹
部19が第1の基材29上の情報領域9に設けられてい
る。
FIG. 6 is a sectional view of the optical card 1 of FIG. 1 in which V-shaped recesses 19 are formed in the information area 9 as the unevenness 5, and the first base material 29, the recording film 31 made of a metal thin film, and Second
The base materials 32 are laminated in the above order. A V-shaped recess 19 that serves as a recess for the light beam L used for recording and reproduction is provided in the information area 9 on the first base material 29.

上記記録膜31としては、記録感度が高(、かつ、高反
射率であるのが良い。種々実験の結果、テルル−セレン
合金、テルル−セレン−鉛合金、テルル−セレン−金合
金、テルル−セレン−白金合金などのテルル−セレンを
含む合金が好ましい。
The recording film 31 preferably has high recording sensitivity (and high reflectance).As a result of various experiments, tellurium-selenium alloy, tellurium-selenium-lead alloy, tellurium-selenium-gold alloy, tellurium-selenium Alloys containing tellurium-selenium, such as selenium-platinum alloys, are preferred.

テルル−セレン−白金合金は機械的外力や高温高湿度に
対する耐久性が高く特に好ましい。上記テルル−セレン
系合金の薄膜は脆いが、本実施例の場1合は、光カード
が携帯使用される際に受ける曲げ、温湿度変化および薬
品などによる一時的な変形に対しても、記録膜が破壊さ
れにくくなり、記録再生性能の良好な光カードが得られ
る。
Tellurium-selenium-platinum alloy is particularly preferred because it has high durability against external mechanical forces and high temperature and high humidity. The thin film of the tellurium-selenium alloy described above is fragile, but in the case of this example, it can withstand bending that occurs when the optical card is used as a portable device, temporary deformation caused by changes in temperature and humidity, chemicals, etc. The film is less likely to be destroyed, and an optical card with good recording and reproducing performance can be obtained.

なお、情報の全部が記録膜面にあらかじめ収録されてい
る光カードの反射膜としては、高反射率の得られる材料
がよく、例えば、金、銀およびアルミニュームなどの金
属薄膜を用いる。中でも低価格であるアルミニュームが
特に好ましい。
Note that the reflective film of an optical card in which all of the information is recorded in advance on the recording film surface is preferably made of a material that provides high reflectance, such as a metal thin film such as gold, silver, or aluminum. Among them, aluminum is particularly preferred because of its low cost.

上記記録膜31の膜厚は、lOOλ〜1500人であり
、適切な反射率が得られるように適宜設定すればよい。
The thickness of the recording film 31 is 100λ to 1500, and may be appropriately set so as to obtain an appropriate reflectance.

本実施例の光カード1では、上記記録膜31の片面は第
2の基材32で保護されるが、光カードの携帯時に受け
る種々の外力に対して光カードを安定に保持するために
は、第1の基材29は形態安定性の良好な樹脂である必
要がある。上記樹脂はガラス転移温度が60℃以上、好
ましくは75℃以上の高分子化合物が良い。上記高分子
化合物としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアミ
ド、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、ポリカーボネ
ート、ポリエステル、ポリオレフィンおよびポリスチレ
ンなどが用いられる。
In the optical card 1 of this embodiment, one side of the recording film 31 is protected by the second base material 32, but in order to stably hold the optical card against various external forces received when carrying the optical card, , the first base material 29 needs to be a resin with good shape stability. The resin is preferably a polymer compound having a glass transition temperature of 60°C or higher, preferably 75°C or higher. As the polymer compound, polymethyl methacrylate, polyamide, acrylic acid/methacrylic acid copolymer, polycarbonate, polyester, polyolefin, polystyrene, etc. are used.

さらに上記第2の基材32もまた適切なものを選択しな
ければ、情報領域9の形状と記録膜31を組み合わせて
も良好な光カードを得にくい。種々の材料について実験
し検討した結果、より柔らかい材料を用いると、光カー
ドの携帯時に受ける種々の外力に対して記録再生特性が
安定で、かつ、記録感度が良好であり、25℃における
動的剪断弾性率が1.OX I O” dyn /am
”以下の材料が好ましいことが明らかになった。上記の
動的剪断弾性率を有する材料の中でも、ウレタン系の接
着剤が特に好ましく、他にシリコーン系やアクリル系の
接着剤も好ましい。ここで、接着剤とは、いわゆる粘着
剤をも含めた広義の接着剤を意味する。
Furthermore, unless the second base material 32 is also selected appropriately, it will be difficult to obtain a good optical card even if the shape of the information area 9 and the recording film 31 are combined. As a result of experiments and studies on various materials, we found that using a softer material provides stable recording and reproducing characteristics against various external forces that are applied when carrying an optical card, and has good recording sensitivity. The shear modulus is 1. OX I O" dyn/am
``It has become clear that the following materials are preferable.Among the materials having the above dynamic shear modulus, urethane-based adhesives are particularly preferable, and silicone-based and acrylic-based adhesives are also preferable. The term "adhesive" refers to adhesives in a broad sense, including so-called adhesives.

上記記録膜31に接着剤を介して施される基板33とし
ては、上記高分子化合物を単独で、または2種類以上を
例えば積層して用いることができるが、上記基板33が
記録再生装置の光ヘッドの光ビーム照射側にない場合に
は、金属板等も用いることができる。
As the substrate 33 applied to the recording film 31 via an adhesive, the above-mentioned polymer compounds can be used alone, or two or more types can be used in a stacked manner. If it is not on the light beam irradiation side of the head, a metal plate or the like can also be used.

なお、本発明による光カードの表面、即ち第1の基材2
9及び基板33の各表面に、樹脂などの表面に通常行わ
れる表面処理により表面硬化N30を形成しても良い。
Note that the surface of the optical card according to the present invention, that is, the first base material 2
Surface hardening N30 may be formed on each surface of the substrate 9 and the substrate 33 by a surface treatment that is normally performed on the surface of a resin or the like.

特に記録再生装置の光ヘッドの光ビームを照射する側の
第1の基材29の表面に行うと、耐摩耗性向上および紫
外線透過防止等の効果がある。また、上記光ビームの照
射側ではない表面には、直接または接着剤を介して金属
板などを施すこともできる。
In particular, when applied to the surface of the first base material 29 on the side that is irradiated with the light beam of the optical head of the recording/reproducing device, effects such as improved wear resistance and prevention of UV transmission can be obtained. Furthermore, a metal plate or the like can be applied directly or via an adhesive to the surface that is not on the side irradiated with the light beam.

以上のように構成した光カード1を支点間距離20mの
支持台(JIS  K7203規定)上に置き、これら
の支点間の中央部に加圧くさび(JIs  K7203
規定)により約15kgの荷重をかけたところ、たわみ
は5■1以上であり、除荷すると元に戻り、光カードは
十分な可撓性を備えていることがT11認された。
The optical card 1 configured as described above is placed on a support stand (JIS K7203 standard) with a distance between fulcrums of 20 m, and a pressure wedge (JIS K7203) is placed in the center between these fulcrums.
When a load of approximately 15 kg was applied (according to the regulations), the deflection was 5×1 or more, and returned to its original state when the load was removed, confirming T11 that the optical card had sufficient flexibility.

次に、この光カードlに対して、波長8300m、光強
度の半値幅におけるビーム径4,5μmであるレーザ光
を用いて記録領域4bに情報を書込むと共に、事前記録
をも含めた情報の読取り試験を行った。この場合、書込
みパワーは10mW、書込み時間は20μsでピットを
形成し、読取りパワーはQ、4mWで情報を読取った。
Next, information is written into the recording area 4b of this optical card l using a laser beam with a wavelength of 8300 m and a beam diameter of 4.5 μm at half width of the light intensity, and information including pre-recorded information is written on the optical card l. A reading test was conducted. In this case, pits were formed with a write power of 10 mW and a write time of 20 μs, and information was read with a read power of Q and 4 mW.

その結果、追加記録の書込みを行った後の事前記録をも
含めた情報の読取りは、事前記録のための上記V字状凹
部19については、反射光が散乱され、追加記録のため
の上記ピットについては、反射膜が消失して、それぞれ
十分な反射光コントラストが得られて、良好に行うこと
ができた。また、トラッキングについても問題はなかっ
た。
As a result, when reading information including pre-recording after additional recording has been written, reflected light is scattered in the V-shaped recess 19 for pre-recording, and the reflected light is scattered in the above-mentioned pits for additional recording. The reflective film disappeared and a sufficient contrast of reflected light was obtained in both cases, and the results were successful. There were also no problems with tracking.

また、上記光カード1について、屈曲試験及び高温試験
を行なった。すなわち、その長辺方向に20龍、短辺方
向にl0m5それぞれ曲げる曲げ疲労試験を30回/分
の繰返し速度で行って、上記光カード1の表方向及び裏
方向にそれぞれ250回、計1000回の繰返し曲げ変
形を与えた。また、75℃、85%RHの高温多湿下で
100時間保持する加速劣化試験を行なって上記光カー
トlの耐久性を調べた。
Further, the optical card 1 was subjected to a bending test and a high temperature test. That is, a bending fatigue test was performed in which the optical card 1 was bent 20 meters in the long side direction and 10 m5 in the short side direction at a repetition rate of 30 times/minute, and the optical card 1 was bent 250 times each in the front direction and the back direction, for a total of 1000 times. was subjected to repeated bending deformation. In addition, an accelerated deterioration test was conducted in which the optical cart was held for 100 hours at a high temperature and humidity of 75° C. and 85% RH to examine the durability of the optical cart I.

その結果、上述の2つの試験後に上記光カード1の外観
を目視したところ、既述した各構成部材(例えば、記録
)I!31)にクラックなどは見られず、外観上の変化
は認められなかった。そして、書込み及び読取り特性も
変化は認められなかった。
As a result, when the external appearance of the optical card 1 was visually observed after the above two tests, it was found that each of the above-mentioned structural members (for example, recording) I! No cracks were observed in 31), and no changes in appearance were observed. Also, no change was observed in the writing and reading characteristics.

なお、本実施例と比較するために、上述した実施例1と
同様の構造であって、第2の基材32を構成する材料の
動的剪断弾性率が25℃において1 xto” dyn
 7cm”以上の場合について、説明する。
In addition, in order to compare with this example, the structure is similar to that of Example 1 described above, and the dynamic shear modulus of the material constituting the second base material 32 is 1 x to" dyn at 25°C.
The case of 7 cm" or more will be explained.

即ち、下記表に示すような3種類の接着剤からそれぞれ
構成される、第2の基材32を有する3種類の追記可能
光カード1を得る。そして、上記光カード1の追加記録
領域4bに実施例1と同じ条件で書込みを行ったら、下
記表に示すように、書込み記録は不良であった。
That is, three types of recordable optical cards 1 having second base materials 32 each made of three types of adhesives as shown in the table below are obtained. When writing was performed on the additional recording area 4b of the optical card 1 under the same conditions as in Example 1, the writing and recording was defective as shown in the table below.

なお、下記表における動的剪断弾性率は、実施例1と同
一の条件で求めたものである。
Note that the dynamic shear modulus in the table below was determined under the same conditions as in Example 1.

以上の如く第2の基材32が、動的剪断弾性率が25℃
においてlX10”dyn/−以上である材料から構成
されると、記録感度が低下して追加記録の書込みが十分
に行われないことがわかる。
As described above, the second base material 32 has a dynamic shear modulus of 25°C.
It can be seen that if the material is made of a material having a value of 1×10” dyn/− or more, the recording sensitivity decreases and additional recording cannot be written satisfactorily.

このような構成の光カードを製造するために、本発明は
、(イ)基板に感光性樹脂を塗布する工程、(ロ)基板
に塗布された感光性樹脂を、光カードにあらかじめ収録
する情頼に対応して、部分的に露光する工程、(ハ)基
板に塗布され部分的に露光された感光性樹脂を、現像、
または、現像および後加工を行い、感光性樹脂に、全傾
斜面の50%以上において15e′以上85″以下の傾
斜面を有する凹凸を発現さ、せる工程。(ニ)上記(イ
)〜(ハ)の工程により得られるところの基板を用いて
スタンパ−を製造する工程、(ホ)上記(ニ)の工程に
より得られるところのスタンパ−を用いて、複製加工を
行う工程とを備えている。
In order to manufacture an optical card with such a configuration, the present invention includes (a) a step of applying a photosensitive resin to a substrate, and (b) a step of prerecording information on the optical card with the photosensitive resin applied to the substrate. (c) The partially exposed photosensitive resin coated on the substrate is developed,
Alternatively, a step of performing development and post-processing to make the photosensitive resin develop unevenness having an inclined surface of 15e' or more and 85'' or less on 50% or more of the total inclined surface. (d) The above (a) to ( A step of manufacturing a stamper using the substrate obtained in step (c), and (e) a step of performing duplication processing using the stamper obtained in step (d) above. .

上記(ニ)の工程は従来から行われている種々の方法が
適用される0例えば、現像後の基板をそのまま、又は感
光性樹脂の上に金属等の薄膜を形成してから、樹脂スタ
ンパ−としたり、現像後の基板の感光性樹脂の上に金属
薄膜を形成してから電鋳法により金属スタンパ−を製造
したり、基板として金属を用いた場合には現像後エツチ
ング法で金属スタンパ−を製造する、といった種々の方
法が適用される。ただし、この工程で出来上がったスタ
ンパ−は、後述する特徴のある(イ)(ロ)(ハ)の工
程を既に経ているがゆえに、数多くの微細な特徴のある
凹凸から成るパターンを表面に有している。
For the step (d) above, various conventional methods can be applied. For example, the developed substrate may be used as it is, or a thin film of metal or the like is formed on the photosensitive resin and then the resin stamper is used. Alternatively, a metal stamper can be manufactured by electroforming after forming a metal thin film on the photosensitive resin of the substrate after development, or if a metal is used as the substrate, a metal stamper can be manufactured by an etching method after development. Various methods can be applied, such as manufacturing. However, because the stamper completed in this process has already gone through the processes (a), (b), and (c), which will be described later, it has a pattern on its surface consisting of many fine irregularities. ing.

上記(ホ)の工程も従来から行われている種々の方法が
適用される。例えば、上記スタンパ−を用いて、射出成
型法、2P法、プレス法などによって上記パターンを転
写した複製板を作成し、これに記録膜を兼ねた反射膜を
付与し、この反射膜の他の面にこの膜を保護する処置を
施す、という一連の工程から成る方法が適用される。し
たがって、本発明の製造方法の特徴部分を大別すると、
■(イ)の工程において感光性樹脂が塗布された基板(
以後、RMと略記する)を作成する際、その感光性樹脂
の感光特性(感度)または/および現像特性(感度)を
調節しておき、主としてこのことに起因して、(ハ)の
工程で所望の傾斜面を有する微細な凹凸を発現させる方
法。
Various conventional methods can also be applied to the step (e) above. For example, using the stamper described above, a copy plate is created by transferring the above pattern by an injection molding method, a 2P method, a press method, etc., a reflective film that also serves as a recording film is applied to this, and other layers of this reflective film are added. A method is applied that consists of a series of steps in which the surface is treated to protect the film. Therefore, the characteristics of the manufacturing method of the present invention can be broadly classified as follows:
■Substrate coated with photosensitive resin in step (a) (
(hereinafter abbreviated as RM), the photosensitive characteristics (sensitivity) and/or development characteristics (sensitivity) of the photosensitive resin are adjusted, and mainly due to this, in the step (c). A method for producing fine irregularities with desired sloped surfaces.

■(ロ)の工程においてRMの感光性樹脂を部分的に露
光する際、その光源を調節して露光エネルギーを加減し
、主としてこのことに起因して、(ハ)の工程で所望の
斜面を有する微細な凹凸を発現させる方法。
■When partially exposing the RM photosensitive resin in the step (B), the light source is adjusted to increase or decrease the exposure energy, and mainly due to this, the desired slope is created in the step (C). A method for producing fine irregularities.

■(ハ)の工程において現像条件を調節し、主としてこ
のことに起因して、(ハ)の工程で所望の傾斜面を有す
る微細な凹凸を発現させる方法。
(2) A method in which the developing conditions are adjusted in the step (c) and, mainly due to this, fine irregularities having a desired slope are developed in the step (c).

■現像後加工して、主としてこのことに起因して(ハ)
の工程で所望する傾斜面を有する微細な凹凸を発現させ
る方法。
■Processing after development, mainly due to this (c)
A method of developing fine irregularities with desired sloped surfaces in the process.

Φ上記■〜■の方法を併用する方法がある。ΦThere is a method of using the above methods ■ to ■ in combination.

■の方法としては、例えば吸光度の高い感光性樹脂組成
物を用いてその塗膜から成るRMを作成する、などして
上記(ハ)の工程の現像処理により、RMの感光性樹脂
層に、全傾斜面の50%以上において15゛以上85°
以下の傾斜面を有する凹凸を発現させることができる。
As method (2), for example, a photosensitive resin composition with high absorbance is used to create an RM consisting of a coating film thereof, and then the photosensitive resin layer of the RM is formed by the development treatment in the step (c) above. 15° or more and 85° on 50% or more of all slopes
It is possible to develop unevenness having the following inclined surfaces.

他に、感光特性(感度)または/および現像特性(感度
)の低い感光性樹脂を用いてRMを作成して長時間露光
を行い、上記(ハ)の工程の現像処理により、RMの感
光性樹脂層に、全傾斜面の50%において15°以上8
5°以下の傾斜面を有する凹凸を発現させることができ
る。
In addition, the RM is created using a photosensitive resin with low photosensitivity (sensitivity) and/or development characteristics (sensitivity), exposed for a long time, and the development process in step (c) above increases the photosensitivity of the RM. The resin layer has an angle of 15° or more on 50% of the total slope 8
It is possible to develop unevenness having an inclined surface of 5° or less.

■の方法としては、例えば、光カードにあらかじめ収録
する′情報に対応して露光する部と露光しない部分とを
パターン化したマスクを用いるところのいわゆるマスク
露光を行う際、RMに上記マスクを密着させず一定の距
離を隔てて配置するか、またはRMと光源との間に光散
乱板を置いて露光を行い、上記(ハ)の工程の現像処理
により、RMの感光性樹脂層に、全傾斜面の50%以上
において、156以上85@以下の傾斜面を有する凹凸
を発現させることができる。他に、光カードにあらかじ
め収録する情報に対応してRMの露光する部分をレーザ
ーカッティング装置を用いて露光する際、記録再生光ヘ
ッドの光ビニム走査方向に直角方向のレーザーパワーを
変化させながら露光を行い、上記(ハ)の工程の現像処
理により、RMの感光性樹脂層に、全傾斜面の50%以
上において、15@以上85@以下の傾斜面を有する凹
凸を発現させることができる。
As for method (2), for example, when performing so-called mask exposure, in which a mask is patterned with areas to be exposed and areas not to be exposed in accordance with the information recorded in advance on the optical card, the mask is tightly attached to the RM. Either the RM and the light source are placed at a certain distance apart from each other, or a light scattering plate is placed between the RM and the light source for exposure, and the development process in step (c) above completely coats the photosensitive resin layer of the RM. On 50% or more of the sloped surface, it is possible to develop unevenness having a slope of 156 or more and 85@ or less. In addition, when exposing the exposed portion of the RM using a laser cutting device in accordance with the information recorded in advance on the optical card, the exposure is performed while changing the laser power in the direction perpendicular to the optical vinyl scanning direction of the recording/reproducing optical head. By performing the development treatment in step (c) above, it is possible to cause the photosensitive resin layer of the RM to develop irregularities having an inclined surface of 15 @ or more and 85 @ or less on 50% or more of the total inclined surface.

■の方法としては、−i的に、部分的に露光されたRM
を現像するとき、現像が進むにつれて感光性樹脂の除去
される部分は感光性樹脂塗膜の厚み方向に勾配を持って
進行しその勾配は経時的に大きくなる。従って、現像の
進行状況を追跡し、程よい勾配になる時点を見計らって
現像を停止すれば良い、しかし一般的には、現像開始後
極短時間の間にかかる勾配が急変するので、15°以上
85″以下の傾斜面が全傾斜面の50%以上ある山形の
凹凸がRMの全面に亘って発現したところで現像を止め
ることは極めて困難である。ところが、上記■■の方法
即ち上記(イ)(ロ)の工程で講じた処置を併用するこ
とにより、かかる勾配の制御が可能となり、15°以上
85°以下の傾斜面が全傾斜面の50%以上ある山形の
凹凸がRMの全面に亘って発現したところで現像を止め
ることができる。
As for the method (2), -i-wise, partially exposed RM
When developing, as the development progresses, the portion of the photosensitive resin that is removed progresses with a gradient in the thickness direction of the photosensitive resin coating, and the gradient becomes larger over time. Therefore, it is only necessary to track the progress of development and stop development when the slope reaches a suitable level. However, in general, the slope changes rapidly within a very short time after the start of development, so it is recommended to It is extremely difficult to stop development when mountain-shaped unevenness, in which the slopes of 85" or less account for 50% or more of the total slopes, appears over the entire surface of the RM. However, it is extremely difficult to stop the development when the above method By combining the measures taken in step (b), it becomes possible to control the slope, and the mountain-shaped unevenness, in which 50% or more of the total slope is sloped at 15° or more and 85° or less, extends over the entire surface of the RM. Development can be stopped at the point where it appears.

以上のように、■〜■の何れの方法を用いてもRMの樹
脂層に全傾斜面の50%以上において、15°以上85
°以下の傾斜面を有する凹凸を発現できる。しかし一般
のフォトレジストは、残膜率半ばで現像を止めると露光
量の変動により残膜率が変化しやすく、再現性に難があ
る。つまり、フォトレジストは傾斜面の角度が直角に近
い矩形状断面を再現性よく発現させるのに都合良くなっ
ていて、壁面の勾配がゆるやかになるようにコントロー
ルして山形状ビットを作ることは難しい。
As mentioned above, no matter which method (1) to (2) is used, the resin layer of RM has a slope of 15° or more and 85° or more on 50% or more of the total slope.
It is possible to develop irregularities with slopes of less than 100°C. However, with general photoresists, if development is stopped at a halfway point in the residual film rate, the residual film rate tends to change due to fluctuations in the exposure amount, and reproducibility is difficult. In other words, photoresist is convenient for producing a rectangular cross-section with a slope close to a right angle with good reproducibility, but it is difficult to control the slope of the wall surface to be gentle and create a chevron-shaped bit. .

したがって、■〜■の方法にて希望の凹凸を発現させる
場合には再現性が悪い。
Therefore, the reproducibility is poor when desired unevenness is developed using methods ① to ②.

しかも、■及び■の方法を用いると発現させたパターン
が台形状断面になることがある。断面が台形状であると
、樹脂等に成形する条件が円弧状の断面の時に比べて厳
しくなる。第7図に同一条件でガラス転移温度が145
℃のポリカポネートシートに成形した時の断面形状を示
す。
Moreover, when methods (1) and (2) are used, the developed pattern may have a trapezoidal cross section. If the cross section is trapezoidal, the conditions for molding into resin etc. will be stricter than when the cross section is arcuate. Figure 7 shows the glass transition temperature of 145 under the same conditions.
The cross-sectional shape when molded into a polycarbonate sheet at ℃ is shown.

この場合、温度が140℃、圧力が100kg/d、時
間が1分で成形した。第7図A及びBから明らかなよう
に、円弧状断面の凸部10aを有する金型lOで成形さ
れたプラスチックシート11の方が、台形状断面の凸部
12aを有する金型12で成形されたプラスチックシー
ト13よりも良好に成形される。この場合金型はオスの
みで、プラスチックシート11,13の厚みは、金型1
0.12の円弧状又は台形状の凸部10a、12aの高
さよりはるかに大である。
In this case, molding was performed at a temperature of 140° C., a pressure of 100 kg/d, and a time of 1 minute. As is clear from FIGS. 7A and 7B, the plastic sheet 11 molded with the mold 10 having the convex portion 10a having an arcuate cross section is better than the plastic sheet 11 molded with the mold 12 having the convex portion 12a having a trapezoidal cross section. The molded plastic sheet 13 is better molded than the plastic sheet 13. In this case, the mold is only male, and the thickness of the plastic sheets 11 and 13 is the same as that of the mold 1.
This is much larger than the height of the arcuate or trapezoidal convex portions 10a and 12a of 0.12.

なお、プラスチックシートを成形する際、成形温度をガ
ラス転移点以上にすると成形性は良好となるが、シート
にたわみ、そり等が生じ易い傾向がある。しかし、ガラ
ス転移点より若干低い温度で成形する場合には、そのよ
うな問題は避けられる。したがって、上記のごとく、ガ
ラス転移温度よりも若干低い成形温度の場合、台形状断
面であるよりも、円弧状断面の凸の方が有利である。上
記第7図に示したそれぞれの断面形状の凸部10a、1
2aを有する金型10.12で成形した際の成形溝深さ
dlを成形温度に対してプロットしたグラフを第8図に
示す。
Note that when molding a plastic sheet, if the molding temperature is set above the glass transition point, the moldability will be good, but the sheet will tend to warp or warp. However, such problems can be avoided if molding is performed at a temperature slightly lower than the glass transition point. Therefore, as mentioned above, when the molding temperature is slightly lower than the glass transition temperature, a convex arcuate cross section is more advantageous than a trapezoidal cross section. Convex portions 10a and 1 having respective cross-sectional shapes shown in FIG. 7 above.
FIG. 8 shows a graph plotting the molding groove depth dl against the molding temperature when molding was performed using a mold 10.12 having a mold size 2a.

第8図から明らかなように、円弧状断面の凸部10aを
有する金型lOを使用した方が、台形状断面の凸部12
aを有する金型12を使用するよりも、成形可能温度範
囲が広く、再現性良い結果を得ることができた。
As is clear from FIG. 8, it is better to use the mold lO having the convex part 10a with an arcuate cross section, since the convex part 12 with a trapezoidal cross section is
It was possible to obtain results with a wider moldable temperature range and better reproducibility than when using the mold 12 having a.

特に、光カードのように0.7龍以下の薄いプラスチッ
ク基板に微細パターンを設けねばならない時、射出成形
は容易でないので、プラスチックシートにプレスしてパ
ターン形成することが望ましい。その際、成形条件のぶ
れによって性能の変化があまりないことが、量産等を考
えた上で非常に有効である。その点で円弧状の断面形状
は有利である。
Particularly, when a fine pattern must be formed on a thin plastic substrate of 0.7 mm or less, such as an optical card, injection molding is not easy, so it is preferable to press the pattern onto a plastic sheet. In this case, it is very effective for mass production that there is little change in performance due to variations in molding conditions. In this respect, an arcuate cross-sectional shape is advantageous.

上記のような円弧状の断面形状を再現性良く得るにはパ
ターン形成後の熱処理が有効であることがわかった。す
なわち、一般に、フォトレジストは現像後適当な温度で
熱処理(ボストベーキング)して、残留溶媒分の除去を
はかるが、この温度をさらに上げると、適当に角がとれ
て、台形状断面のものが円弧状断面となる温度範囲が感
光性樹脂の軟化点の近傍にある。第9図〜第12図に市
販のポジレジストを用い、140℃、135℃、130
℃及び120℃の温度で熱処理したときの形状測定結果
をを示す。
It has been found that heat treatment after pattern formation is effective in obtaining the above-mentioned arcuate cross-sectional shape with good reproducibility. In other words, photoresists are generally heat-treated (bost-baked) at an appropriate temperature after development to remove residual solvent, but if this temperature is raised further, the corners are rounded and trapezoidal cross sections are formed. The temperature range in which the cross section becomes arcuate is near the softening point of the photosensitive resin. Commercially available positive resists were used in Figures 9 to 12 at 140°C, 135°C, and 130°C.
The results of shape measurement when heat treated at temperatures of 120°C and 120°C are shown.

各図から明らかなように、140℃に加熱することによ
り、容易に円弧状の断面形状を得ることができた。しか
も、現像の段階では、台形の断面形状を有するパターン
を発現させれば良いから、再現性が良い。したがって、
本性により、再現性の良い円弧状の断面形状を有するパ
ターン形成が可能となった。したがって、これから得ら
れる金型を用いて、光カード用のレプリカ作成が容易と
なった。
As is clear from each figure, an arcuate cross-sectional shape could be easily obtained by heating to 140°C. Furthermore, since it is sufficient to develop a pattern having a trapezoidal cross-sectional shape at the development stage, reproducibility is good. therefore,
This property makes it possible to form a pattern with an arcuate cross-sectional shape with good reproducibility. Therefore, using the mold obtained from this, it has become easy to create a replica for an optical card.

以下、本発明を適用した光カードの製造方法の具体例を
実施例1〜3について図面を参照して説明する。
Hereinafter, specific examples of the method for manufacturing an optical card to which the present invention is applied will be described for Examples 1 to 3 with reference to the drawings.

ス1j0− 第13A図〜第131図に実施例1の製造工程A−1を
示し、この順に製造工程を説明する。なお、工程A−I
の各符号と図面番号の各アルファベットとは対応する。
1j0- Figures 13A to 131 show the manufacturing process A-1 of Example 1, and the manufacturing process will be explained in this order. In addition, process A-I
Each symbol corresponds to each alphabet of the drawing number.

A、直径127n+、厚さ1.4鰭のガラス基板21を
フレオン洗浄して乾燥させた後、フォトレジストをスピ
ンコード法により乾燥時の厚みが0.9μmになるよう
に塗布してから、対流オーブン中で110℃、30分の
ブリベーキングを行ってフォトレジスト層22を形成し
た。
A. After Freon cleaning and drying a glass substrate 21 with a diameter of 127n+ and a thickness of 1.4 fins, a photoresist was applied using a spin code method to a dry thickness of 0.9 μm, and then a convection film was applied. A photoresist layer 22 was formed by baking in an oven at 110° C. for 30 minutes.

B、第2図に示すトラッキングトラック3を形成するた
めにラインパターンの遮光部24が遮光部幅24a=3
μmで設けられているとともに、アドレスなどの事前情
報記録4a及びクロックトラック8などの凹凸5を形成
するための遮光部24が遮光部幅24a=3μm、長さ
任意で設けられているフォトマスク23をフォトレジス
ト層22の表面に配置して露光を行う。この場合の露光
条件は次の通りであった。
B. In order to form the tracking track 3 shown in FIG. 2, the line pattern light shielding part 24 has a light shielding part width 24a=3.
A photomask 23 is provided with a light shielding portion 24 having a width 24a of 3 μm and an arbitrary length for forming advance information recording 4a such as an address and unevenness 5 such as a clock track 8. is placed on the surface of the photoresist layer 22 and exposed. The exposure conditions in this case were as follows.

露光エネルギー:30mJ/ad プリントギャップdos10μm この際、上述のようなプリントギャップd0を設けて露
光すると、フォトマスクの遮光部24のエツジの部分で
の回折により、光強度分布は第14図に示すようになる
Exposure energy: 30 mJ/ad Print gap dos 10 μm At this time, when exposing with the print gap d0 as described above, the light intensity distribution will be as shown in FIG. 14 due to diffraction at the edge of the light shielding part 24 of the photomask. become.

C3上記露光を行った上記ガラス基板21を現像液に浸
漬し、露光されたフォトレジストを溶解して除去するこ
とによって、フォトレジストN22上に上記パターンに
対応した凸部15を形成した。
C3 The exposed glass substrate 21 was immersed in a developer to dissolve and remove the exposed photoresist, thereby forming convex portions 15 corresponding to the pattern on the photoresist N22.

現像後に形成されたパターン、即ち凸部15は第13C
図に示すように上部に平坦部15aが残り台形状であっ
た。
The pattern formed after development, that is, the convex portion 15 is the 13th C.
As shown in the figure, a flat portion 15a remained at the top and had a trapezoidal shape.

D、上記現像後、上記ガラス基板21について対流オー
ブン中で140℃、60分の熱処理を行った。処理後の
凸部15は平坦部15aが消失して形状はなめらかな傾
斜面15bを有する山形となった。
D. After the above development, the glass substrate 21 was heat-treated at 140° C. for 60 minutes in a convection oven. After the treatment, the flat portion 15a of the convex portion 15 disappeared and the shape became a mountain shape with a smooth sloped surface 15b.

第17図にこの凸部15を拡大して示す、この凸部15
の形状測定結果によると、基板21の面の法線Bと凸部
15の傾斜面15b上の任意の点に引いた接線とのなす
傾斜角度θ″が15°以上85°以下の範囲にある傾斜
面は、全傾斜面のうち85%を占めていた。
This convex portion 15 is shown in an enlarged scale in FIG.
According to the shape measurement results, the inclination angle θ'' between the normal B of the surface of the substrate 21 and the tangent drawn to an arbitrary point on the inclined surface 15b of the convex portion 15 is in the range of 15° or more and 85° or less. The slopes accounted for 85% of the total slopes.

E、上記凸部15が形成された面にスパッタリングによ
って750人の厚さのニッケル膜25を形成して電鋳用
導電膜とし、次にこの面にニッケル層を電着によって形
成してこれを剥離する電鋳を行って、0.6+n厚のス
タンパマザー27を得た。
E. A nickel film 25 with a thickness of 750 mm is formed by sputtering on the surface on which the convex portion 15 is formed to form a conductive film for electroforming, and then a nickel layer is formed on this surface by electrodeposition to form this. A stamper mother 27 having a thickness of 0.6+n was obtained by performing peeling electroforming.

F、このスタンパマザー27に再びニッケル電鋳を行っ
て、上記凸部15に対応した凸部17を有する0、3鶴
厚の成形用スタンパ28を得た。この凸部17の高さh
は0.80μmであった。
F. This stamper mother 27 was again subjected to nickel electroforming to obtain a molding stamper 28 having a thickness of 0.3 mm and having a convex portion 17 corresponding to the convex portion 15 described above. The height h of this convex portion 17
was 0.80 μm.

G、上記成形用スタンパ28を用いて、レプリカ29の
基材としてガラス転移温度が145℃である0、4鶴厚
のポリカーボネートシートに熱プレス成形してレプリカ
29を作成した。なお、このポリカーボネートシートの
熱プレス成形面の反対の面にシリコン系表面硬化剤によ
って表面硬化層30を形成しである。このプレス成形条
件は次の通りであった。
G. Using the molding stamper 28 described above, a replica 29 was prepared by hot press molding a 0.4 mm thick polycarbonate sheet having a glass transition temperature of 145° C. as a base material for the replica 29. A surface hardening layer 30 is formed on the opposite surface of the polycarbonate sheet from the hot press molding surface using a silicone surface hardening agent. The press molding conditions were as follows.

成形温度:140℃ 成形圧カニ 100 kg/cj 成形時間成形時間 上60秒リカ29の面に形成された凹部5aを触針式表
面検査機で検査したところ、深さdが0゜75μm、幅
Wが4.0μmの山形状断面を有するピットであった。
Molding temperature: 140°C Molding pressure: 100 kg/cj Molding time: 60 seconds on molding time When the recess 5a formed on the surface of Rika 29 was inspected using a stylus type surface inspection machine, the depth d was 0° and the width was 75 μm. The pit had a mountain-shaped cross section with W of 4.0 μm.

そして、上述した傾斜角度θが15″以上85″以下の
範囲にあるピットの傾斜面は、全傾斜面のうち85%を
占めていた。また、レプリカ29の全体の反りは長平方
向で最大3 mm程度であり、上記表面硬化層30には
全く損傷は見られなかった。
The sloped surfaces of the pits having the above-mentioned slope angle θ in the range from 15'' to 85'' accounted for 85% of all sloped surfaces. Further, the overall warpage of the replica 29 was about 3 mm at most in the longitudinal direction, and no damage was observed in the surface hardened layer 30.

H1上記レプリカ29の上記凹部5aが形成されている
パターン転写面に、白金、テルル、セレンが原子数比で
5:15:20である合金から成る記録)l!i!31
を、スパッタリングによって360人の厚さに形成した
H1 Recording made of an alloy of platinum, tellurium, and selenium in an atomic ratio of 5:15:20 on the pattern transfer surface on which the recessed portion 5a of the replica 29 is formed) l! i! 31
was formed to a thickness of 360 mm by sputtering.

■、上記レプリカ29に形成した記録膜31の面上に2
液型ポリウレタン系接着剤を用いて接着剤層32を形成
し、これを介してTi0zの含有した0、3mm厚さの
白色ポリカーボネートシートの基板33を裏打ち接着し
た。上記接着剤の硬化後の動的剪断弾性率は25℃、角
周波数1 rad/秒の条件で、5X10’dyn/−
であった。この後、54mmX85,5mmに打抜き加
工することによって第1図に示すような光カード1を得
た。上記光カード1の厚さけ約0.8mmであった。
(2) 2 on the surface of the recording film 31 formed on the replica 29;
An adhesive layer 32 was formed using a liquid polyurethane adhesive, and a substrate 33 of a white polycarbonate sheet containing Ti0z and having a thickness of 0.3 mm was adhered to the backing through the adhesive layer 32. The dynamic shear modulus of the above adhesive after curing is 5X10'dyn/- at 25°C and an angular frequency of 1 rad/sec.
Met. Thereafter, the optical card 1 as shown in FIG. 1 was obtained by punching into a size of 54 mm x 85.5 mm. The thickness of the optical card 1 was approximately 0.8 mm.

なお、第131図に示す図面において上方から光りが入
射するように光カード1は使用される。
Note that in the drawing shown in FIG. 131, the optical card 1 is used so that light enters from above.

し、たがって、上記凹部5aはこの場合には光りに対し
て凸となり、第3図に示した山形状凸部20と対応する
Therefore, in this case, the concave portion 5a becomes convex with respect to the light, and corresponds to the mountain-shaped convex portion 20 shown in FIG.

このようにして形成した光カード1について、追記記録
の書き込み及び読取り試験を上述した条件と同一の条件
で実施した。
Regarding the optical card 1 thus formed, write-once recording and reading tests were conducted under the same conditions as described above.

その結果、事前記録した部分から良好なコントラストが
得られ、記録読取り及びトラッキングは全て支障なく行
われた。従って、既述したような傾斜面を有する凹凸が
、事前情報を記録するための凹凸として使用可能である
ことが確認された。
As a result, good contrast was obtained from the prerecorded portion, and recording reading and tracking were performed without any problems. Therefore, it was confirmed that the unevenness having an inclined surface as described above can be used as an unevenness for recording prior information.

なお、追加記録の書き込み部からも良好なコントラスト
が得られ、読み取りは十分可能であった。
It should be noted that good contrast was obtained even from the written portion of the additional recording, and reading was sufficiently possible.

また、光カードlについて、上述した屈曲試験及び高温
試験を同様に行った。そして、これらの2つの試験後に
光カード1の外観を目視したところ、既述した各構成部
材(例えば、記録膜31)にクランクなどは見られず、
外観上の変化は認められなかった。また、書込み及び読
取り特性についても変化はそれぞれ認められなかった。
Further, the above-mentioned bending test and high temperature test were similarly conducted on the optical card 1. When the appearance of the optical card 1 was visually inspected after these two tests, no cranks or the like were observed in each of the aforementioned constituent members (for example, the recording film 31).
No change in appearance was observed. Further, no changes were observed in the writing and reading characteristics.

上記光カード1の上記たわみも、上述した方法で測定し
たところ5龍以上であった。
The deflection of the optical card 1 was also measured by the method described above and was 5 dragons or more.

以上のように、本実施例ではフォトレジスト層22上に
滑らかな凸部15を形成することができて、これから得
られた成形用スタンパ28を用いて、上記凸部15とほ
ぼ同じ山形状ピットである凹部5aをレプリカ29上に
形成することができた。また、レプリカ29の凹部5a
の深さdは成形用スタンパ28の凸部17の高さhとほ
ぼ同一であった。従って、上述した方法によると光カー
ドのレプリカを再現性よく複製加工できる。
As described above, in this example, smooth convex portions 15 can be formed on the photoresist layer 22, and by using the molding stamper 28 obtained from this, mountain-shaped pits that are almost the same as the convex portions 15 are formed. It was possible to form the recess 5a on the replica 29. In addition, the recess 5a of the replica 29
The depth d was almost the same as the height h of the protrusion 17 of the molding stamper 28. Therefore, according to the method described above, a replica of an optical card can be processed with high reproducibility.

ス財l生影 実施例2は、上述の実施例1の工程B、H及び■の一部
を次のようにそれぞれ異ならせている。
In Example 2, steps B, H, and (2) of Example 1 described above are partially different from each other as follows.

即ち、工程Bにおけるフォトマスク23には事前記録の
ためのパターンの開口が全面にわたって形成されている
再生専用光カード用のものを用いる。
That is, the photomask 23 used in step B is one for a read-only optical card in which openings in a pattern for pre-recording are formed over the entire surface.

また、工程Hでは記録膜31としてアルミニウムを70
0人の厚さに真空蒸着する。
In addition, in step H, 70% aluminum was used as the recording film 31.
Vacuum deposited to a thickness of 0.

次いで、工程Iではホットメルト接着剤を用いて0.3
IIn+[さのTiO□入り白色ポリカーボネートシー
トを裏打ち接着する。上記接着剤の動的剪断弾性率は実
施例1と同一の条件で求めてlXl0’dyn/c[1
1であった。そして、実施例1と同様な打ち抜き加工を
行って再生専用光カードを得る。このようにして得た光
カードに対し、実施例1と同様な試験を行い、種りの点
で問題がないことを確認した。
Next, in step I, 0.3
A white polycarbonate sheet containing IIn+[Sano TiO□ is adhered to the backing. The dynamic shear modulus of the above adhesive was determined under the same conditions as in Example 1.
It was 1. Then, the same punching process as in Example 1 is performed to obtain a read-only optical card. The optical card thus obtained was subjected to the same test as in Example 1, and it was confirmed that there was no problem in seeding.

ス逼[3 第15A図〜第15G図に実施例3の製造工程A′〜G
′を示し、以下この順に製造工程を説明する。
[3 Figures 15A to 15G show manufacturing steps A' to G of Example 3.
', and the manufacturing process will be explained below in this order.

A′、上述したガラス基板21の一方の面にフォトレジ
スト35を塗布し乾燥後、この面にスパツタリングによ
ってニッケルを0.3鶴の厚さに電鋳形成する。これに
よって表面が平滑な成形スタンパ用ニッケル基板28を
得て、これを105鶴Xl95mmに加工した。
A': A photoresist 35 is applied to one surface of the glass substrate 21 described above, and after drying, nickel is electroformed to a thickness of 0.3 mm on this surface by sputtering. As a result, a nickel substrate 28 for a molded stamper with a smooth surface was obtained, which was processed into a size of 105 mm x 95 mm.

B′、上記ニッケル基板28をフレオン洗浄して乾燥し
た後、フォトレジスト(実施例1と同様のもの)をスピ
ンコード法により乾燥時の厚みが1.9μmになるよう
に塗布してから、実施例1と同様のブリベーキングを行
ってフォトレジスト層22を形成した。
B': After Freon cleaning and drying the nickel substrate 28, a photoresist (same as in Example 1) was applied using a spin code method so that the dry thickness was 1.9 μm. A photoresist layer 22 was formed by performing the same baking process as in Example 1.

C′、実施例1と同様のフォトマスク23を用いて露光
を次のような条件で行った。
C', exposure was carried out using the same photomask 23 as in Example 1 under the following conditions.

露光エネルギー:18mJ/cd プリントギャップ:なしくハードコンタクト露光) D′、露光したニッケル基板28を現像液に浸漬し、実
施例1と同様に露光部のフォトレジスト層22を溶解除
去した。この場合、現像後に得られた凸部15は台形で
あった。
Exposure energy: 18 mJ/cd Print gap: None (hard contact exposure) D': The exposed nickel substrate 28 was immersed in a developer, and the photoresist layer 22 in the exposed area was dissolved and removed in the same manner as in Example 1. In this case, the convex portions 15 obtained after development were trapezoidal.

B′、現像後、対流オープン中で140℃、60分の熱
処理を行ったら、平坦部15aが消失してなめらかな傾
斜面15bを有する凸部15が得られた。
B': After development, heat treatment was performed at 140° C. for 60 minutes in a convection open environment, and the flat portion 15a disappeared and a convex portion 15 having a smooth sloped surface 15b was obtained.

F′、上記ニッケル基板28について、上記現像の終了
したフォトレジストN22が形成された面上でアルゴン
プラズマエツチングを行い、フォトレジストとニッケル
とを同時にエツチングした。
F': Regarding the nickel substrate 28, argon plasma etching was performed on the surface on which the developed photoresist N22 was formed, thereby etching the photoresist and nickel at the same time.

、孔ヱlユ2勺に住 アルゴンガス圧: 5 X 10−”Torr印加電圧
:150W エツチング時間:4時間45分゛ 上記エツチングによりフォトレジスト層22の大部分は
除去され、同時にフォトレジスト層22上に形成された
上記凸部15と対応して、ニッケル基板28上に凸部1
7が形成された。このようにして、上記凸部15と対応
した凸部17を有する成形用スタンパ28をニッケル基
板から直接得ることができた。
Argon gas pressure: 5 x 10-'' Torr Applied voltage: 150 W Etching time: 4 hours and 45 minutes Most of the photoresist layer 22 is removed by the above etching, and at the same time the photoresist layer 22 is removed. A protrusion 1 is formed on the nickel substrate 28 corresponding to the protrusion 15 formed thereon.
7 was formed. In this way, a molding stamper 28 having a convex portion 17 corresponding to the convex portion 15 could be obtained directly from the nickel substrate.

G′、上記成形用スタンパ28によって、実施例1と同
様にしてレプリカ29を得た。
G': A replica 29 was obtained using the molding stamper 28 in the same manner as in Example 1.

以上のレプリカ29の面に形成された凹部5aを実施例
1と同様の方法で検査したところ、上記凹部5aの形状
は、深さdが0.7μm、幅Wが4.0μmのほぼ■字
形、すなわち山形状断面のピットであり、上述した傾斜
角θが15°以上85″以下の範囲にあるビットの傾斜
面は、全傾斜面のうち75%を占めていた。また、レプ
リカ29の反りや表面硬化層30の状態も実施例1と同
様であった。
When the recess 5a formed on the surface of the replica 29 was inspected using the same method as in Example 1, it was found that the recess 5a had a substantially ■-shaped shape with a depth d of 0.7 μm and a width W of 4.0 μm. , that is, pits with a chevron-shaped cross section, and the sloped surfaces of the bit with the above-mentioned slope angle θ in the range of 15° to 85'' accounted for 75% of the total sloped surfaces. The condition of the hardened surface layer 30 was also the same as in Example 1.

上記レプリカ29を用いて上述の実施例1における工程
HX Iと同様の工程を経て光カード1を得た。このよ
うにして得た光カードに対し、実施例1と同様な試験を
行い、種々の点で問題がないことを確認した。
Using the replica 29, an optical card 1 was obtained through a process similar to process HX I in Example 1 described above. The optical card thus obtained was subjected to the same tests as in Example 1, and it was confirmed that there were no problems in various respects.

次に、第16図に実施例1の工程Bにおける露光方法の
変形例を示す。即ち、上述したフォトマスク23をフォ
トレジスト層22上に載置し、その上方の露光用光源5
0とフォトマスク23との間に光の散乱板43を配置し
て露光を行う。この散乱板43によって光は散乱されて
、実施例1と同様の第14図に示した光強度分布になる
Next, FIG. 16 shows a modification of the exposure method in step B of Example 1. That is, the above-mentioned photomask 23 is placed on the photoresist layer 22, and the exposure light source 5 above it is placed.
A light scattering plate 43 is disposed between the photomask 23 and the photomask 23, and exposure is performed. The light is scattered by this scattering plate 43, resulting in the light intensity distribution shown in FIG. 14, which is the same as in the first embodiment.

上述のような露光はレーザカッティング装置を用いて行
うこともできる。即ち、あらかじめ光カードに収録する
情報に対応して部分的に露光され個々の被露光部分につ
いて、記録再生用光ビームの走査方向と直交する方向に
関して露光強度を弱−強一弱のように変化させることに
より、露光部分の断面形状が円弧状となるような露光を
行うようにする方法である。
The above-described exposure can also be performed using a laser cutting device. In other words, the exposure intensity is changed from weak to strong and weak in the direction perpendicular to the scanning direction of the recording and reproducing light beam for each exposed part that is partially exposed in accordance with the information recorded on the optical card in advance. In this method, exposure is performed so that the cross-sectional shape of the exposed portion becomes arcuate.

スfl支 実施例4は、上述の実施例1の工程りを設けず、工程B
及びHの一部を次のようにそれぞれ異ならせている。
In Example 4, the steps in Example 1 described above are not provided, and Step B
Parts of and H are different as follows.

即ち、工程Bはトラック直交方向においてレーザカッテ
ィング装置のレーザパワーを変化させながら露光を行っ
た。
That is, in step B, exposure was performed while changing the laser power of the laser cutting device in the direction perpendicular to the track.

また、工程Hでは記録膜31としてテルルとセレンとが
原子数比で80 ; 20である合金膜を400人の厚
さに真空蒸着した。
In step H, an alloy film containing tellurium and selenium in an atomic ratio of 80:20 was vacuum deposited as the recording film 31 to a thickness of 400 mm.

このようにして得た光カード1は、上記凹凸が、第4図
に示すようにトラック直交方向にV字状断面を有する山
形状凸部20に形成されていた。この山形状凸部20は
、その傾斜面6が真直ぐに傾斜し、第3図で示したU字
状断面のaxa′ (b〜b”)間がほぼ直線であるよ
うな形状となっていた。したがって、上記傾斜面6と上
記情報記録面7の法線Aとが成す傾斜角θは、一義的に
決まり本実施例では約70@であった。したがって、こ
のような傾斜角θを有する傾斜面6が、この例では10
0%となる。また、上記山形状凸部20のトラック直交
方向の断面形状の幅Wは4.0μm、深さdは0.7μ
mであった。この光カード1に対し、実施例1と同様な
試験を行い、種々の点で問題がないことを確認した。
In the thus obtained optical card 1, the unevenness was formed in a chevron-shaped convex portion 20 having a V-shaped cross section in the direction perpendicular to the track, as shown in FIG. This mountain-shaped convex portion 20 had a shape in which the inclined surface 6 was inclined straight, and the distance between axa' (b and b'') of the U-shaped cross section shown in FIG. 3 was almost a straight line. Therefore, the inclination angle θ formed by the above-mentioned inclined surface 6 and the normal line A of the above-mentioned information recording surface 7 is uniquely determined and was approximately 70 @ in this example. The slope 6 is 10 in this example.
It becomes 0%. Further, the width W of the cross-sectional shape of the mountain-shaped convex portion 20 in the direction perpendicular to the track is 4.0 μm, and the depth d is 0.7 μm.
It was m. This optical card 1 was subjected to the same tests as in Example 1, and it was confirmed that there were no problems in various respects.

本実施例で記録膜31に用いたテルル−セレン合金膜は
脆いものであるが、本発明に適用すると十分な耐久性を
示すことがわかった。
Although the tellurium-selenium alloy film used for the recording film 31 in this example is brittle, it was found to exhibit sufficient durability when applied to the present invention.

なお、感光性樹脂としては、ネガ型またはポジ型のフォ
トレジストを用いることができるが、例えば特開昭62
−95525号公報、特開昭62−95526号公報に
開示されているような、不飽和結合を有する高分子化合
物とカルボニル基を有するドーパントとからなる怒光性
高分子材料を用いることができる。
Note that as the photosensitive resin, negative or positive photoresists can be used;
A photogenic polymeric material comprising a polymeric compound having an unsaturated bond and a dopant having a carbonyl group, as disclosed in JP-A-95525 and JP-A-62-95526, can be used.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

零発帆は上述したように、第1の基材上に情報記録面を
形成しこの情報記録面を第2の基材で保護して可撓性が
大きい光カード本体を形成し、かつ事前情報を記録する
ために光カードの情報記録面に予め形成される凹部また
は凸部の形状を傾斜面を有する7字状または山形状にす
るとともに、全傾斜面の50%以上についてその傾斜角
を15″以上85°以下にしたので、機械的外力や高温
多湿などの環境に対してきわめて高い耐久性を有し、携
帯して使用するのに耐え得るとともに、凹凸の高さや幅
を形成する精度が多少悪くても安定した記録再生を行う
ことができる光カードが得られる。
As mentioned above, in zero sailing, an information recording surface is formed on a first base material, and this information recording surface is protected by a second base material to form a highly flexible optical card body. The shape of the concave or convex portions formed in advance on the information recording surface of the optical card for recording information shall be in the shape of a 7-shape or a mountain with an inclined surface, and the inclination angle of 50% or more of the total inclined surface shall be adjusted. Since the angle is 15" or more and 85 degrees or less, it has extremely high durability against mechanical external forces and environments such as high temperature and humidity, and can withstand portable use, as well as accuracy in forming the height and width of the unevenness. An optical card that can perform stable recording and reproduction even if the performance is somewhat poor can be obtained.

したがって、光カードを製造する際の成形条件などを緩
和して大量にかつ安価に製造することを可能にする。ま
た、凹凸のある部分とない部分とのコントラストが再生
ビームスポットのトラ・ツクセンターからのずれ量など
によってあまり変わらないとともに、再生光ビームとし
てコヒーレント性のない種々の光ビームを使用すること
ができるので、記録再生装置を設計、製作する際の条件
範囲を広くすることができる。
Therefore, it is possible to relax the molding conditions when manufacturing optical cards and to manufacture them in large quantities and at low cost. In addition, the contrast between areas with and without unevenness does not change much depending on the amount of deviation of the reproduction beam spot from the track center, and various non-coherent light beams can be used as the reproduction light beam. Therefore, the range of conditions when designing and manufacturing a recording/reproducing device can be widened.

また、スタンパ作成用の基板に全傾斜面の50%以上に
おいて、15°以上85°以下の傾斜面を有する凹部(
凸部)を発現させ、この基板に基づいてスタンパ及びレ
プリカを作成するようにしたので、スタンパ及びレプリ
カを作成する際の条件を大幅に緩和させても良好な再現
性が得られる光カードを容易に製造することができる。
In addition, on the substrate for making a stamper, a recess (
Since the stamper and replica are created based on this substrate, it is easy to create an optical card that can obtain good reproducibility even if the conditions for creating the stamper and replica are significantly relaxed. can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例によって製造した光カードの
平面図、第2図は第1図中矢印■部の拡大図、第3図は
光カードの凹凸部の1頃斜角を説明するための断面図、
第4図は山形状凸部の変形例を示す断面図、第5図は山
形状凸部の他の変形例を示す断面図、第6図は第2図の
Ml−V1方向の断面図、第7図は金型の形状と成形物
の形状との一例を示す図、第8図は金型の形状と成形温
度との関係を示すグラフ、第9図〜第12図は熱処理温
度と凹部の断面形状との関係を示す図、第13図は実施
例1の製造方法を説明するための模式的な断面図、第1
4図は露光の様子とフォトレジスト層の深さ方向の露光
強度分布との関係を示す図、第15図は実施例3の製造
方法を説明するための模式的な断面図、第16図は露光
方法の変形例を示す模式的な断面図、第17図はフォト
レジスト層上に形成される凸部の傾斜角を説明するため
の断面図である。 なお図面に用いた符号において、 1−・・−・−・・・−・−光カード 5−・・・−・−・・−・〜・・・凹凸6 ・−・・−
・・・−−−m−傾斜面7 ・−一−−−・・・−・−
情報記録面9・−・・−・−・−一−−−情報領域15
・−・・−・・−・・−・フォトレジスト層の凸部19
・−・・・・−・・V字状凹部 20・・−・・・・・−山形状凸部 21−・−・−・・基板 22−・−・・フォトレジスト層 23−−−一・・・・・フォトマスク 24−・−・・・・遮光部 28−・・−・・−成形用スタンパ 29 ・−・−−−−一第1の基材(レプリカ)31・
−・・・−・−・・記録膜 32・−・・・・−・−・第2の基材(接着剤層)43
 ・−・−・・・・散乱板 50−−一一一・−・−露光用光源 A、B−・−・−法線 である。
FIG. 1 is a plan view of an optical card manufactured according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged view of the arrow ■ in FIG. A cross-sectional view for
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a modification of the mountain-shaped convex portion, FIG. 5 is a cross-sectional view showing another modification of the mountain-shaped convex portion, and FIG. 6 is a cross-sectional view in the Ml-V1 direction of FIG. Figure 7 is a diagram showing an example of the shape of the mold and the shape of the molded product, Figure 8 is a graph showing the relationship between the shape of the mold and molding temperature, and Figures 9 to 12 are heat treatment temperatures and recessed parts. FIG. 13 is a schematic cross-sectional view for explaining the manufacturing method of Example 1, and FIG.
Figure 4 is a diagram showing the relationship between the exposure state and the exposure intensity distribution in the depth direction of the photoresist layer, Figure 15 is a schematic cross-sectional view for explaining the manufacturing method of Example 3, and Figure 16 is FIG. 17 is a schematic cross-sectional view showing a modification of the exposure method, and is a cross-sectional view for explaining the inclination angle of the convex portion formed on the photoresist layer. In addition, in the symbols used in the drawings, 1-...----...-- Optical card 5--...----...----... Unevenness 6...-
...--m-slanted surface 7 ・-1-----...--
Information recording surface 9--・------1---Information area 15
・−・・−・・−・・−・Convex portion 19 of photoresist layer
···········································V-shaped recess 20····················································································································································. ...Photomask 24--Light blocking portion 28--Molding stamper 29--First base material (replica) 31--
--- Recording film 32 --- Second base material (adhesive layer) 43
.--Scattering plate 50--111--Exposure light sources A, B--Normal line.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、光ビームによって読み取られる情報記録面上の事前
情報領域が凹部または凸部として形成されている光カー
ドにおいて、 上記情報記録面が形成されている第1の基材と、上記情
報記録面に形成されている金属薄膜からなる記録膜を保
護するために上記第1の基材上に設けられた第2の基材
とを具備し、 上記凹部がV字状に形成されているかまたは上記凸部が
山形状に形成されていて、これらV字状凹部または山形
状凸部を構成する傾斜面と上記情報記録面の法線との傾
斜角が全傾斜面の50%以上において15°以上85°
以下に形成されているとともに、 上記光カードを支点間距離20mmの支持台(JISK
7203規定)上に置いて上記支点間の略中央部に加圧
くさび(JISK7203規定)により約15kgの荷
重をかけたときのたわみが2mm以上であることを特徴
とする光カード。 2、上記第1の基材が60℃以上のガラス転移温度を有
する高分子化合物であるとともに上記第2の基材が25
℃において1×10^5dyn/cm^2以下の動的剪
断弾性率を有することを特徴とする請求項1記載の光カ
ード。 3、光ビームによって読み取られる情報記録面上の事前
情報領域が凹部または凸部として形成されている光カー
ドの製造方法において、 (イ)基板上に感光性樹脂を塗布して感光性樹脂層を形
成する工程、 (ロ)上記事前情報領域に記録する事前情報に対応させ
て上記感光性樹脂層を部分的に露光する工程、 (ハ)部分的に露光された上記感光性樹脂を現像すると
ともに必要に応じて後加工を行い、上記感光性樹脂層に
上記基板の法線との傾斜角が全傾斜面の50%以上にお
いて15°以上85°以下の傾斜面を有する凹凸を形成
する工程、(ニ)感光性樹脂層に凹凸が形成された上記
基板を用いてスタンパを製造する工程、 (ホ)上記スタンパを用いて光カードのレプリカを製造
する工程、 をそれぞれ具備することを特徴とする光カードの製造方
法。 4、上記工程(ロ)における露光が、事前情報に対応し
たパターンの開口または遮光部が形成されているマスク
を上記感光性樹脂に密着させずに配置して行うマスク露
光であることを特徴とする請求項3記載の光カードの製
造方法。 5、上記工程(ロ)における露光が、事前情報に対応し
たパターンの開口または遮光部が形成されているマスク
と露光用光源との間に光散乱板を配置して行うマスク露
光であることを特徴とする、請求項3記載の光カードの
製造方法。 6、上記工程(ロ)における露光が、記録・再生用光ビ
ームの走査方向と直交する方向において露光強度を変化
させながら露光するレーザカッティングであることを特
徴とする請求項3記載の光カードの製造方法。 7、上記工程(ハ)における後加工が、現像後の感光性
樹脂をその軟化点近傍の温度において行う熱処理である
ことを特徴とする請求項3〜6のいずれか一項に記載の
光カードの製造方法。
[Scope of Claims] 1. An optical card in which a pre-information area on an information recording surface read by a light beam is formed as a concave or convex portion, a first base material on which the information recording surface is formed; and a second base material provided on the first base material to protect a recording film made of a metal thin film formed on the information recording surface, and the recessed part is formed in a V-shape. or the convex portion is formed in a mountain shape, and the inclination angle between the slope forming the V-shaped recess or the mountain-shaped convex portion and the normal line of the information recording surface is 50% of the total slope. 15° or more and 85° or more
The optical card is mounted on a support stand (JISK) with a distance between fulcrums of 20 mm.
7203) and having a deflection of 2 mm or more when a load of approximately 15 kg is applied to the approximate center between the supporting points using a pressure wedge (JISK 7203 regulations). 2. The first base material is a polymer compound having a glass transition temperature of 60°C or higher, and the second base material is a 25%
The optical card according to claim 1, having a dynamic shear modulus of 1 x 10^5 dyn/cm^2 or less at °C. 3. In the method of manufacturing an optical card in which the pre-information area on the information recording surface to be read by a light beam is formed as a concave or convex portion, (a) a photosensitive resin layer is formed by applying a photosensitive resin on the substrate. (b) partially exposing the photosensitive resin layer in accordance with the prior information recorded in the prior information area; (c) developing the partially exposed photosensitive resin; performing post-processing as necessary to form unevenness on the photosensitive resin layer having an inclined surface having an inclination angle of 15° or more and 85° or less with respect to the normal line of the substrate on 50% or more of the total inclined surface; (d) manufacturing a stamper using the substrate having irregularities formed on the photosensitive resin layer; and (e) manufacturing a replica of an optical card using the stamper. Method of manufacturing optical cards. 4. The exposure in the above step (b) is characterized by being a mask exposure performed by arranging a mask in which openings or light-shielding portions with a pattern corresponding to the prior information are formed without being in close contact with the photosensitive resin. 4. The method for manufacturing an optical card according to claim 3. 5. The exposure in step (b) above is mask exposure performed by placing a light scattering plate between the exposure light source and a mask in which a pattern of openings or light shielding parts corresponding to the prior information is formed. The method for manufacturing an optical card according to claim 3, characterized in that: 6. The optical card according to claim 3, wherein the exposure in the step (b) is laser cutting in which exposure is performed while changing the exposure intensity in a direction perpendicular to the scanning direction of the recording/reproducing light beam. Production method. 7. The optical card according to any one of claims 3 to 6, wherein the post-processing in the step (c) is a heat treatment of the photosensitive resin after development at a temperature near its softening point. manufacturing method.
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