JPH02243674A - Amino acid derivative, production thereof and pharmaceutical composition containing the same - Google Patents

Amino acid derivative, production thereof and pharmaceutical composition containing the same

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JPH02243674A
JPH02243674A JP2034572A JP3457290A JPH02243674A JP H02243674 A JPH02243674 A JP H02243674A JP 2034572 A JP2034572 A JP 2034572A JP 3457290 A JP3457290 A JP 3457290A JP H02243674 A JPH02243674 A JP H02243674A
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JP
Japan
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formula
group
cyclohexyl
methanol
lower alkyl
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JP2034572A
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Japanese (ja)
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Keiji Henmi
逸見 恵次
Masahiro Neya
正博 閨
Hiroshi Marusawa
丸澤 宏
Shinya Watanabe
真也 渡邊
Shinji Hashimoto
眞志 橋本
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

NEW MATERIAL:An amino acid derivative expressed by formula I [R<2> is H or alkyl; R<4> is aryl; R<5> is N-containing heterocyclic ring, (i) R<1> is alkyl substituted with acyl, etc.; R<3> is formula II (R<8> and R<9> are H or alkyl or both, together with the adjacent N, form a ring; X<1> is single bond, O, etc.; X<2> is NH, O or CH2; (ii) R<1> is heterocyclic ring; R<3> is formula II; X<1> is single bond; X<2> is O or CH2; (iii) R<1> is alkyl substituted with acyl, etc.; R<3> is alkyl; X<1> is NR<10> (R<10> is H or alkyl); X<2> is NH or CH2 or (iv) R<1> is alkyl substituted with acyl, etc.; R<3> is alkyl; X<1> is O; X<2> is NH, O or CH2] and salts thereof. EXAMPLE:(3S)-N,N-Dimethyl-3-tritylamino-4-cyclohexyl-2-hydroxybu- tanesulfonamide. USE:A medicine capable of exhibiting renin inhibitory activity. PREPARATION:For example, a compound expressed by formula III (Ra<5> is N-containing heterocyclic ring; R<11> is N-protecting group) is reacted with a compound expressed by formula IV to provide a compound expressed by formula V. The N-protecting group is then eliminated to afford a compound expressed by formula VI, which is subsequently reacted with a compound expressed by formula VII to provide the compound expressed by formula I.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、レニン阻害活性を有する新規なアミノ酸誘
導体に関するものであり、医療の分野で利用される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a novel amino acid derivative having renin inhibitory activity, and is used in the medical field.

[従来の技術] これまで、レニン阻害活性を有するペプチド化合物とし
て、特公昭62− 13360号公報、特開昭61− 
33153号公報、特開昭61− 236770号公報
、特開昭62− 234052号公報、特開昭63 −
 253097号公報、特表昭63− 503380号
公報、特開平1 − 19071号公報、特開平1−1
9053号公報、他多数報告されており、今なお、特に
経口投与可能なレニン阻害剤の開発が続けられている。
[Prior Art] Until now, peptide compounds having renin inhibitory activity have been disclosed in Japanese Patent Publication No. 13360/1982 and Japanese Patent Application Laid-open No. 1988-13360.
33153, JP-A-61-236770, JP-A-62-234052, JP-A-63-
No. 253097, Japanese Patent Publication No. 1983-503380, Japanese Patent Application Laid-Open No. 19071-1990, Japanese Patent Application Laid-open No. 1990-1
No. 9053 and many other reports have been made, and the development of renin inhibitors that can be administered orally is still continuing.

[問題点を解決するための手段] この発明の口約とするアミノ酸誘導体は新規であり、下
記一般式[1Fで示すことができる。
[Means for Solving the Problems] The amino acid derivative according to the present invention is novel and can be represented by the following general formula [1F].

[式中、R は水素または低級アルキル基、R4はアリ
ール基、R5はN−含有複素環基を意味し、 (i )R’はアシルおよび式 一NH−  −0−またはーCH 2−を意味するか、
または (i)R  は複素環基、R3は式 (式中、R はアシル基、R7は水素または低級アルキ
ル基を意味する)で示される基よりなる群から選択され
た置換基で置換きれている低級アルキル基、R3は式 (式中、R8、R9およびAはそれぞれ前と同じ意味)
で示される基、Xは単結合、X2は一〇−または−C)
t2−を意味するか、または(i)R1はアシルおよび
式 (式中、R8およびR9はそれぞれ水素または適当な置
換基で置換されていてもよい低級アルキル基を意味する
か、またはR8とR9は隣接する窒素原子と一緒になっ
て複素環基を形成し、Aは低級アルキレン基を意味する
)で示される基、Xl(式中、RおよびR7はそれぞれ
前と同じ意味)で示きれる基よりなる群から選択された
置換基で置換きれている低級アルキル基、R3は低級ア
ル素または低級アルキル基を意味する)、X2は味)、
Xは一NH−または一CH 2−を意味するか、または (iv )R’はアシルおよび式 聚盗基ユ (式中、RおよびR7はそれぞれ前と同じ意味)で示さ
れる基よりなる群から選択された置換基で置換きれてい
る低級アルキル基、R3は低級アルキル基、X は−〇
−1X2は一冊一 −〇−または−CH2−を意味する
] 目的化合物[I]またはその塩は下記反応式で説明され
る製造法によって製造することができるが、目的化合物
[!]の製造法は下記製造法のみに限定されるものでは
ない。
[wherein R represents hydrogen or a lower alkyl group, R4 represents an aryl group, and R5 represents an N-containing heterocyclic group; Do you mean?
or (i) R is a heterocyclic group, and R3 is substituted with a substituent selected from the group consisting of the following formula: (wherein R is an acyl group and R7 is hydrogen or a lower alkyl group) lower alkyl group, R3 is the formula (in the formula, R8, R9 and A each have the same meaning as before)
(X is a single bond, X2 is 10- or -C)
t2-, or (i) R1 represents acyl and the formula (wherein R8 and R9 each represent hydrogen or a lower alkyl group optionally substituted with a suitable substituent, or R8 and R9 together with adjacent nitrogen atoms to form a heterocyclic group, A means a lower alkylene group), a group represented by Xl (wherein R and R7 each have the same meaning as before) a lower alkyl group substituted with a substituent selected from the group consisting of (R3 means a lower alkyl group or a lower alkyl group), X2 is a taste),
X means 1NH- or 1CH2-, or (iv) R' is a group consisting of acyl and a group of the formula 聚过 radical yu (wherein R and R7 each have the same meaning as before) A lower alkyl group substituted with a substituent selected from R3 is a lower alkyl group, X is -〇-1 can be produced by the production method explained in the reaction formula below, but the target compound [! ] The manufacturing method is not limited to the following manufacturing method.

もしくはカルボキシ 基におけるその反応 性誘導体またはそれ らの塩 もしくはアミン基 におけるその反応 性誘導体またはそ れらの塩 [IV] またはその塩 第」31塁 第」二二塁 [■コ またはその塩 もしくはアミン基における その反応性誘導体またはそ れらの塩 + [Vコ またはその塩 [VI[] もしくはカルボキシ基に おけるその反応性誘導体 またはそれらの塩 またはその塩 製JlL主 R’−X’−H [■] またはその塩 製m R−X −COOH [■コ もしくはカルボキシ基におけ るその反応性誘導体またはそ れらの塩 もしくはアミノ基におけるその 反応性誘導体またはそれらの塩 またはその塩 またはその塩 [式中、R5はN−保護基を有していてもよいN一含有
複素環基、 R11はN−保護基、 じ意味)を意味し、 R、R、R、R、R、X  およびX2はそれぞれ前と
同じ意味である] この明細書の記載において、この発明の範囲内に包含さ
れる種々の定義の好適な例を以下詳細に述べる。
or a reactive derivative thereof at the carboxy group or a salt thereof or a reactive derivative thereof at the amine group or a salt thereof [IV] or a salt thereof or a salt thereof or a salt thereof at the amine group. Reactive derivative or a salt thereof + [V co or a salt thereof [VI[] or a reactive derivative thereof at the carboxy group or a salt thereof or a salt thereof JlL main R'-X'-H [■] or a salt thereof m R-X -COOH [■ Reactive derivative thereof or a salt thereof in a co- or carboxy group or a reactive derivative thereof or a salt thereof in an amino group or a salt thereof [wherein R5 represents an N-protecting group] R, R, R, R, R, X and X2 each have the same meaning as before] In the description of the specification, preferred examples of various definitions included within the scope of the present invention will be described in detail below.

「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜6個
を有する基を意味するものとする。
"Lower", unless otherwise specified, shall mean groups having 1 to 6 carbon atoms.

好適な「低級アルキル基」としては、メチノ呟エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブデル、第三級
ブチル、ペンチル、インペンチル、ヘキシル等のような
直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。
Suitable "lower alkyl groups" include methinoethyl,
Mention may be made of straight or branched alkyl groups such as propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, impentyl, hexyl, and the like.

好適な1アシル基、としては、例えばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル
、インバレリル、ピバロイル、4−メチルバレリル等の
低級アルカノイル基、例えばメゾルアミノアセチル、メ
チルアミノプロピオニル、ジメチルアミノブチリル等の
モノ−またはジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルカ
ノイル基、例えばメトキシアセチル、メトキシプロピオ
ニル、エトキシプロピオニル等の低級アルコキシ(低級
)アルカノイル基、例えばベンゾイル、トルオイル等の
アロイル基、例えばシクロプロピルカルボニル、シクロ
ブチルカルボニルペンチルカルボニル、シクロへキシル
カルボニル等のシクロ(低級)アルキルカルボニル基、
例えばグリシル、ベンゾイルグリシル、第三級ブトキシ
カルボニルグリシル、第三級ブトキシカルボニルロイシ
ル、アセチルロイシル、第三級ブトキシカルボニルヒス
チジル等のアミノ基が保護されていてもよいアミノr1
1残基、カルバモイル基、例えばメチルカルバモイル、
エチル力ルバモイ4,プロピルカルバモイル、イソプロ
ピルカルバモイル、ブチルカルバモイル、ペンテルカル
パモイノ呟イソブチルカルバモイル、第三級ブチルカル
バモイル、ジエチルカルバモイル、ジエチルカルバモイ
ル ソプロピルカルバモイル イル ルバモイル基、例えばビフリル力ルバモイル、ピリジル
エチルカルバモイル、チアゾリルメチルカルバモイル、
モルホリノメデルカルパモイル、モルホリノエチルカル
バモイル等の複素環(低級)アルキルカルバモイルL 
nえばN−ピコリル−N−メチルカルバモイル、N−ピ
リジルエチル−N−メチルカルバモイル、N−モルホリ
ノメチル−N−エチルカルバモイル、N−モルホリノエ
チル−N−メチルカルバモイル等のN−複素環(低級)
アルキル−N−低級アルキルカルバモイル基、例えばベ
ンジルカルバモイル、フェネデルカルバモイル、ベンズ
ヒドリルカルバモイルル(低級)アルキルカルバモイル
基、例えばN−ベンジル−N−メチル力ルバモイノ1N
ーフェネチル−N−メチルカルバモイル −N−エチルカルバモイル等のN−アル(低a)アルキ
ル−N−低級アルキルカルバモイル基、例えばN−フェ
ニル−N−メチルカルバモイル等のN−アリール−N−
低級アルキルカルバモイル基、例えばメトキシカルボニ
ルメチルカルバモイル、エトキシ力ルポニルメデルカル
バモイル、エトキシカルボニルエチルカルバモイル等の
低級アルコキシカルボニル(低級)アルキルカルバモイ
ル基、例えばメトキシメチルカルバモイル、メトキシメ
チルカルバモイル、エトキシプロピルカルバモイル ルバモイル基、例えばベンゾイルカルバモイル、ドルオ
イルカルバモイル等のアロイルカルバモイル基、例えば
ピリジルカルバモイル、モルホリノカルバモイル、チア
ゾリルカルバモイル等の複素環カルバモイル基、例えば
N−ピリジル−N−メチルカルバモイル、N−チアゾリ
ル−N−メチルカルバモイル等のN−複素環−N−低級
アルキルカルバモイル基、複素環カルボニル基、より好
ましくは例えばモルホリノカルボニル、デオモルホリノ
力ルボニル、ピペリジノカルボニルチル−1−ピペラジ
ニルカルボニル、1.2,3。
Suitable 1-acyl groups include, for example, lower alkanoyl groups such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, invaleryl, pivaloyl, and 4-methylvaleryl, such as mesolaminoacetyl, methylaminopropionyl, dimethylaminobutyryl, and the like. mono- or di(lower)alkylamino(lower)alkanoyl groups, e.g. lower alkoxy(lower)alkanoyl groups such as methoxyacetyl, methoxypropionyl, ethoxypropionyl, aroyl groups such as benzoyl, toluoyl, e.g. cyclopropylcarbonyl, cyclo cyclo(lower) alkylcarbonyl groups such as butylcarbonylpentylcarbonyl, cyclohexylcarbonyl,
For example, amino r1 whose amino group may be protected, such as glycyl, benzoylglycyl, tertiary-butoxycarbonylglycyl, tertiary-butoxycarbonylleucyl, acetylleucyl, tertiary-butoxycarbonylhistidyl, etc.
one residue, a carbamoyl group, e.g. methylcarbamoyl,
Ethylcarbamoyl, propylcarbamoyl, isopropylcarbamoyl, butylcarbamoyl, pentelcarpamoyl, isobutylcarbamoyl, tertiary butylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, diethylcarbamoylsopropylcarbamoylrubamoyl, such as bifrylcarbamoyl, pyridylethylcarbamoyl, thiazolylmethylcarbamoyl,
Heterocyclic (lower) alkylcarbamoyl L such as morpholinomedelcarpamoyl and morpholinoethylcarbamoyl
N-heterocycle (lower) such as N-picolyl-N-methylcarbamoyl, N-pyridylethyl-N-methylcarbamoyl, N-morpholinomethyl-N-ethylcarbamoyl, N-morpholinoethyl-N-methylcarbamoyl, etc.
Alkyl-N-lower alkylcarbamoyl groups, such as benzylcarbamoyl, phenedelcarbamoyl, benzhydrylcarbamoyl(lower)alkylcarbamoyl groups, such as N-benzyl-N-methylcarbamoyl
N-al(lower a)alkyl-N-lower alkylcarbamoyl groups such as phenethyl-N-methylcarbamoyl-N-ethylcarbamoyl, N-aryl-N- such as N-phenyl-N-methylcarbamoyl;
lower alkoxycarbonyl (lower) alkylcarbamoyl groups such as methoxycarbonylmethylcarbamoyl, ethoxycarbonylmedelcarbamoyl, ethoxycarbonylethylcarbamoyl, etc.; For example, aroylcarbamoyl groups such as benzoylcarbamoyl and doluoylcarbamoyl, heterocyclic carbamoyl groups such as pyridylcarbamoyl, morpholinocarbamoyl, thiazolylcarbamoyl, etc., such as N-pyridyl-N-methylcarbamoyl, N-thiazolyl-N-methylcarbamoyl, etc. N-heterocycle-N-lower alkylcarbamoyl group, heterocycle carbonyl group, more preferably morpholinocarbonyl, deomorpholinocarbonyl, piperidinocarbonylthyl-1-piperazinylcarbonyl, 1.2,3.

6−テトラヒドロ−1−ピリジルカルボニル等の、低級
アルキル基で置換されていてもよいN−含有複素環−N
−イルカルボニル基、例えばメトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカル
ボニル、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカ
ルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等の低級アルコキ
シカルボ、ニル基、例えばヨードエトキシカルボニル、
ジクロロエトキシカルボニル、トリクロロエトキシカル
ボニル、トリフルオロメトキシカルボニル等のモノ−(
またはジまたはトリ)ハロ(低級)アルコキシカルボニ
ル基、例えばヒドロキシメトキシカルボニル基、ヒドロ
キシエトキシカルボニル基、ヒドロキシプロポキシカル
ボニル基、ヒドロキシブトキシカルボニル基等のヒドロ
キシ(低級)アルコキシカルボニル基、例えばベンジル
オキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、4−
ニトロベンジルオキシカルボニル、トリチルオキシカル
ボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル等のアル(低
級)アルコキシカルボニル基、例えばビニルオキシカル
ボニル、アリルオキシカルボニル等の低級アルケニルオ
キシカルボニル基、例えばアセチルメトキシカルボニル
、プロピオニルメトキシカルボニル カルボニル等の低級アルカノイル(低級)アルコキシカ
ルボニル基、例えばメシル、エチルスルホニル、プロピ
ルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホ
ニル、イソブチルスルホニル、第三級ブチルスルホニル
、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル等の低級ア
ルキルスルホニル基、例えばフェニルスルホニル、トシ
ル等ノアリールスルホニル基等が挙げられる。
N-containing heterocycle-N optionally substituted with a lower alkyl group such as 6-tetrahydro-1-pyridylcarbonyl
-ylcarbonyl groups, e.g. lower alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl, nyl groups, e.g. iodo ethoxycarbonyl,
Mono-( such as dichloroethoxycarbonyl, trichloroethoxycarbonyl, trifluoromethoxycarbonyl)
or di- or tri)halo(lower)alkoxycarbonyl groups, such as hydroxymethoxycarbonyl, hydroxyethoxycarbonyl, hydroxypropoxycarbonyl, hydroxybutoxycarbonyl, hydroxy(lower)alkoxycarbonyl groups, such as benzyloxycarbonyl, phenethyloxy carbonyl, 4-
Al(lower) alkoxycarbonyl groups such as nitrobenzyloxycarbonyl, trityloxycarbonyl, and benzhydryloxycarbonyl, lower alkenyloxycarbonyl groups such as vinyloxycarbonyl and allyloxycarbonyl, such as acetylmethoxycarbonyl, propionylmethoxycarbonylcarbonyl, etc. lower alkanoyl (lower) alkoxycarbonyl groups such as mesyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, tert-butylsulfonyl, pentylsulfonyl, hexylsulfonyl, lower alkylsulfonyl groups such as phenylsulfonyl, Examples include noarylsulfonyl groups such as tosyl.

好適な「アリール基Jとしては、フェニル、ナフチル、
トリル、キシリル、メシチル、クメニル等の基が挙げら
れ、それらの中で好ましいものはフェニル基およびナフ
チル基である。
Suitable aryl groups J include phenyl, naphthyl,
Examples include groups such as tolyl, xylyl, mesityl, cumenyl, etc., among which preferred are phenyl and naphthyl groups.

R8およびR9の「適当な置換基で置換されていてもよ
い低級アルキル基」における適当な置換基としては、例
えば上記のアリール基、下記の複素環基等が挙げられる
Suitable substituents for the "lower alkyl group optionally substituted with a suitable substituent" for R8 and R9 include, for example, the above-mentioned aryl group, the following heterocyclic group, and the like.

R における好適な「複素環基ハR8およびR9の低級
アルキル基上の置換基としての好適な「複素環基」およ
びR8 、R9および隣接する窒素原子によって形成き
れる好適な「複素環基」としては、モルホリノ、チオモ
ルホリノ、ピロリジン−1−イル、ピラゾリジン−1−
イル、ピペリジノ、ピペラジン−1−イル、ピロリン−
1−イル等が挙げられる。
The preferred "heterocyclic group" for R as a substituent on the lower alkyl group of R8 and R9 and the preferred "heterocyclic group" formed by R8, R9 and the adjacent nitrogen atom include , morpholino, thiomorpholino, pyrrolidin-1-yl, pyrazolidine-1-
yl, piperidino, piperazin-1-yl, pyrroline-
1-yl and the like.

R およびR5における好適な1N−含有複素環基」と
しては、例えばピリジル、ピリミジニル、ピロリル、ピ
ロリジニル、イミダゾリル、チアゾリル、チアジアゾリ
ル、オキサシリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンズオキ
サジアゾリル、ベンズイミダゾリル等のような飽和また
は不飽和の、N−、N−およびS−、またはN−および
〇−含有複素環基が挙げられる。
Suitable 1N-containing heterocyclic groups in R and R5 include, for example, saturated groups such as pyridyl, pyrimidinyl, pyrrolyl, pyrrolidinyl, imidazolyl, thiazolyl, thiadiazolyl, oxasilyl, benzothiadiazolyl, benzoxadiazolyl, benzimidazolyl, etc. or unsaturated N-, N- and S-, or N- and O-containing heterocyclic groups.

上記の「N−含有複素環基」は後述のN−保護基を有し
ていてもよい。
The above-mentioned "N-containing heterocyclic group" may have an N-protecting group as described below.

好適な「低級アルキレン基」としては、メチレン、エチ
レン、トリメプレン、テトラメチレン、ペンタメチレン
、ヘキサメチレン、プロピレン、メチルメチレン、エチ
ルメチレン、プロピルメチレン等のような直鎖または分
枝鎖アルキレン基が挙げられ、それらの中でさらに好ま
しいものとしてはC1−C,アルキレン基、最も好まし
いものとしてはメチレン、エチレン、トリメチレン、テ
トラメチレンおよびメチルメチレンが挙げられる。
Suitable "lower alkylene groups" include straight or branched alkylene groups such as methylene, ethylene, trimeprene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene, propylene, methylmethylene, ethylmethylene, propylmethylene, and the like. Among these, more preferred are C1-C, alkylene groups, and most preferred are methylene, ethylene, trimethylene, tetramethylene and methylmethylene.

好適なrH−保護基」としては、例えばホルミル、アセ
チル、プロピオニル、トリフルオロアセチル等の置換さ
れたまたは非置換低級アルカノイル基、フタロイル基、
例えば第三級ブトキシカルボニル、第三級アミルオキシ
カルボニル等の低級アルコキシカルボニル基、例えばベ
ンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル等の置換されたまたは非置換アラルフキジカル
ボニル基、例えばベンゼンスルホニル、トシル等の置換
されたまたは非置換アレーンスルホニル基、ニトロフェ
ニルスルフェニル基、例エバ)リテル、ベンジル等のア
ルキレ基等が挙げられる。
Suitable rH-protecting groups include, for example, substituted or unsubstituted lower alkanoyl groups such as formyl, acetyl, propionyl, trifluoroacetyl, phthaloyl groups,
Lower alkoxycarbonyl groups such as tertiary butoxycarbonyl, tertiary amyloxycarbonyl, substituted or unsubstituted aralpoxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, e.g. benzenesulfonyl, tosyl Substituted or unsubstituted arenesulfonyl groups such as, nitrophenylsulfenyl groups, alkylene groups such as littelle, benzyl, etc., and the like.

目的化合物[I]の好適な医薬として許容される塩類は
常用の無毒性塩類であり、例えばギ酸塩、酢酸塩、トリ
フルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩,メタンスル
ホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸
塩等の有機酸付加塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫
酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩、例えばアスパラギン酸
塩、グルタミン酸塩等のアミノ酸との塩等が挙げられる
Suitable pharmaceutically acceptable salts of the target compound [I] are conventional non-toxic salts, such as formate, acetate, trifluoroacetate, maleate, tartrate, methanesulfonate, benzenesulfonate. salts, organic acid addition salts such as toluene sulfonates, inorganic acid addition salts such as hydrochlorides, hydrobromides, sulfates, phosphates, salts with amino acids such as aspartates, glutamates, etc. Can be mentioned.

目的化合物[1]の製造法を以下詳細に説明する。The method for producing the target compound [1] will be explained in detail below.

製j口礼1 第1工程 化合物[IV]またはその塩は、化合物[II]もしく
はカルボキシ基におけるその反応性誘導体またはそれら
の塩を、化合物[m]もしくはアミノ基におけるその反
応性誘導体またはそれらの塩と反応させることにより製
造することができる。
Preparation Procedure 1 First Step Compound [IV] or a salt thereof is a compound [II] or a reactive derivative thereof at a carboxy group or a salt thereof, or a compound [m] or a reactive derivative thereof at an amino group or a salt thereof. It can be produced by reacting with salt.

化合物[IV]の好適な塩類は、化合物[I]について
例示したものを参照すればよい。
For suitable salts of compound [IV], refer to those exemplified for compound [I].

化合物[11のカルボキシ基における好適な反応性誘導
体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミド
、活性化エステル等が挙げられる。
Suitable reactive derivatives of the carboxy group of compound [11] include acid halides, acid anhydrides, activated amides, activated esters, and the like.

それらの反応性誘導体の好適な例としては酸塩化物;酸
アジド;例えばジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェ
ニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換さ
れた燐酸、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸
、例えばメタンスルホン#等のスルホン酸、例えば酢酸
、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ピバリン酸、ペンタ
ン酸、インペンタン酸、2−エチル酪酸、トリクロロ酢
M等の脂肪族カルボン酸または例えば安息香醋等の芳香
族カルボン酸のような酸との混合酸無水物;対称酸無水
物;イミダゾール、4−置換イミダゾール、ジメデルピ
、ラゾール、トリアゾールまたはテトラゾールとの活性
化アミド:または例えばシアノメチルエステル、メトキ
シメチルエステル、ジメチルイミノメチルocu3)2
i=cu−]エステル、ビニルエステル、プロパルギル
エステル、p−ニトロフェニルエステル、2.4−ジニ
トロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、
ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステ
ル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエス
テル、p−ニトロフェニルデオエステル、p−タレジル
チオエステル シメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエ
ステル、ピペリジルエステル、8−キノリルチオエステ
ル等の活性化エステノ呟または例えばN.N−ジメチル
ヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2−(IH)−
ピリドン、N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロ
キシフタルイミド、1−ヒドロキシ−IH−ベンゾトリ
アゾール等のN−ヒドロキシ化合物とのエステル等が挙
げられる.これらの反応性誘導体は使用すべき化合物[
1[]の種類によってそれらの中から任意に選択すもこ
とができる。
Suitable examples of such reactive derivatives include acid chlorides; acid azides; substituted phosphoric acids such as dialkyl phosphoric acid, phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid, halogenated phosphoric acid, dialkyl phosphorous acid, sulfurous acid, thiosulfuric acid, Sulfuric acid, sulfonic acids such as methanesulfone, aliphatic carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, pivalic acid, pentanoic acid, impentanoic acid, 2-ethylbutyric acid, trichloroacetic acid M, or e.g. benzoic acid mixed acid anhydrides with acids such as aromatic carboxylic acids; symmetrical acid anhydrides; activated amides with imidazole, 4-substituted imidazoles, dimedelpi, razoles, triazoles or tetrazoles: or e.g. cyanomethyl esters, methoxymethyl Ester, dimethyliminomethylocu3)2
i=cu-] ester, vinyl ester, propargyl ester, p-nitrophenyl ester, 2,4-dinitrophenyl ester, trichlorophenyl ester,
Activation of pentachlorophenyl ester, mesylphenyl ester, phenylazophenyl ester, phenylthioester, p-nitrophenyl deoester, p-talesylthioester dimethylthioester, pyranyl ester, pyridyl ester, piperidyl ester, 8-quinolylthioester, etc. Estheno muttering or for example N. N-dimethylhydroxylamine, 1-hydroxy-2-(IH)-
Examples include esters with N-hydroxy compounds such as pyridone, N-hydroxysuccinimide, N-hydroxyphthalimide, and 1-hydroxy-IH-benzotriazole. These reactive derivatives are the compounds to be used [
You can arbitrarily select one from among them depending on the type of 1[].

化合#[II]およびその反応性誘導体の好適な塩類と
しては、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ
金属塩、例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアル
カリ土類金属塩、アンモニウム塩、例えばトリメチルア
ミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピッリン塩
、ジシクロヘキシルアミン塩、N.N’ −ジベンジル
エチレンジアミン塩等の有機塩基塩等のような塩基塩、
および化合物[!コについて例示したような酸付加塩が
挙げられる。
Suitable salts of compound #[II] and its reactive derivatives include, for example, alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts, alkaline earth metal salts such as calcium salts and magnesium salts, ammonium salts such as trimethylamine salts, Triethylamine salt, pyridine salt, pilin salt, dicyclohexylamine salt, N. base salts such as organic base salts such as N'-dibenzylethylenediamine salts;
and compounds [! Examples include acid addition salts such as those exemplified above.

化合物[111]のアミノ基における好適な反応性誘導
体としては、化合物[11[]とアルデヒド、ケトン等
のようなカルボニル化合物との反応によって生成するシ
ッフの塩基型イミノ基またはそのエナミン型歪変異生体
;化合物[頂コとビス(トリメチルシリル)アセトアミ
ド、モノ(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(ト
リメチルシリル)ス素等のようなシリル化合物との反応
によって生成するシリル誘導体:化合物[111]と三
塩化燐、ホスゲンとの反応によって生成する誘導体等が
挙げられる。
Suitable reactive derivatives of the amino group of compound [111] include Schiff's base-type imino group produced by the reaction of compound [11] with a carbonyl compound such as an aldehyde, a ketone, etc., or an enamine-type strain variant thereof. ; Compound [silyl derivative produced by the reaction of the apex with a silyl compound such as bis(trimethylsilyl)acetamide, mono(trimethylsilyl)acetamide, bis(trimethylsilyl)sulfur, etc.: Compound [111] and phosphorus trichloride, phosgene and Examples include derivatives produced by the reaction.

化合物[11[]およびその反応性誘導体の好適な塩類
は、化合物[I]について例示したような塩類を参照す
ればよい。
For suitable salts of compound [11[] and its reactive derivatives, refer to the salts exemplified for compound [I].

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチル、N.N−ジメチルホルムアミド
、ピリジンのような常用の溶媒中で行われるが、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる有機
溶媒中でも反応を行うことができる.これらの常用の溶
媒は水との混合物として使用してもよい。
The reaction is usually carried out using water, alcohols such as methanol and ethanol, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N. The reaction is carried out in a commonly used solvent such as N-dimethylformamide or pyridine, but the reaction can be carried out in any other organic solvent as long as it does not adversely affect the reaction. These conventional solvents may be used in mixtures with water.

この反応において化合物[]I]を遊離酸の形またはそ
の塩の形で使用する場合には、N、N’ −ジシクロヘ
キシルカルボジイミド シル−N′−モルホリノエチルカルボジイミド;N−シ
クロヘキシル−N’−(4−ジエデルアミノシクロヘキ
シル)カルボジイミドHN+N’ジエチルカルボジイミ
ド、N.N’ −ジイソプロピルカルボジイミド;N−
エチル−N’−(3−ジメデルアミノプロピル)カルボ
ジイミド+N。
When compound []I] is used in the form of the free acid or its salt in this reaction, N,N'-dicyclohexylcarbodiimidosyl-N'-morpholinoethylcarbodiimide;N-cyclohexyl-N'-(4 -diedelaminocyclohexyl)carbodiimide HN+N'diethylcarbodiimide, N. N'-diisopropylcarbodiimide; N-
Ethyl-N'-(3-dimedelaminopropyl)carbodiimide+N.

N′ −カルボニルビス−(2−メチルイミダゾール)
;ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシルイミン;
ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン;エトキ
シアセプレン;1−アルコキシ−1−クロロエチレン;
亜燐酸トリアルキル;ボッ燐酸ニブル;ポリ燐酸イソプ
ロピル;オキシ塩化燐(塩化ホスホリル);三塩化溝;
ジフェニルアジ化ホスホリル;塩化チオニル;塩化オキ
ザリル;例えばクロロギ酸エチル、クロロギ酸イソプロ
ピル等のハロギ酸低級アルキル;トリフェニルホスフィ
ン;2−エチル−7−ヒドロキシベンズイソオキサゾリ
ウム塩;2−エチル−5 − ( m −スルホフェニ
ル)イソオキサゾリウムヒドロキシド分子内塩;1−(
p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−
IH−ベンゾトリアゾール、N.N−ジメデルホルムア
ミドと塩化チオニル、ホスゲン、クロロギ酸トリクロロ
メチル、オキシ塩化燐等との反応によって調製したいわ
ゆるビルスマイヤー試薬等のような慣用の縮合剤の存在
下に反応を行うのが好ましい。
N'-carbonylbis-(2-methylimidazole)
;pentamethyleneketene-N-cyclohexylimine;
diphenylketene-N-cyclohexylimine;ethoxyaceprene;1-alkoxy-1-chloroethylene;
Trialkyl phosphite; Nibble borophosphate; Isopropyl polyphosphate; Phosphorus oxychloride (phosphoryl chloride); Trichloride groove;
Phosphoryl diphenylazide; thionyl chloride; oxalyl chloride; lower alkyl haloformates such as ethyl chloroformate and isopropyl chloroformate; triphenylphosphine; 2-ethyl-7-hydroxybenzisoxazolium salt; 2-ethyl-5- ( m -sulfophenyl) isoxazolium hydroxide inner salt; 1-(
p-chlorobenzenesulfonyloxy)-6-chloro-
IH-benzotriazole, N. Preferably, the reaction is carried out in the presence of a conventional condensing agent, such as the so-called Vilsmeier reagent prepared by the reaction of N-dimedelformamide with thionyl chloride, phosgene, trichloromethyl chloroformate, phosphorus oxychloride, and the like.

反応はまた、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)ア
ルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモルホ
リン、N.N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等の
ような無機塩基または有機塩基の存在下に行ってもよい
The reaction also includes alkali metal bicarbonates, tri(lower)alkylamines, pyridine, N-(lower)alkylmorpholines, N. It may be carried out in the presence of an inorganic or organic base such as N-di(lower)alkylbenzylamine and the like.

反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

第」≦L拐 化合物[V]またはその塩は、化合物[IV]またはそ
の塩をN−保護基の脱離反応に付すことにより製造する
ことができる。
Compound [V] or a salt thereof can be produced by subjecting compound [IV] or a salt thereof to an N-protecting group elimination reaction.

化合物[V]の好適な塩類については化合物[I]につ
いて例示したものを参照すればよい。
For suitable salts of compound [V], refer to those exemplified for compound [I].

この反応は加水分解、還元等のような常法に従って行わ
れる。
This reaction is carried out according to conventional methods such as hydrolysis, reduction, etc.

加水分解は塩基またはルイス酸を含めた酸の存在下に行
うのが好ましい。
Hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or an acid, including a Lewis acid.

好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のア
ルカリ土類金属、それらの金属の水酸化物または炭酸塩
または炭酸水素塩、ヒドラジン、例えばトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリ
ン、1.5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−
エン、1。
Suitable bases include, for example, alkali metals such as sodium and potassium, alkaline earth metals such as magnesium and calcium, hydroxides or carbonates or bicarbonates of these metals, hydrazine, trimethylamines such as trimethylamine, triethylamine, etc. Alkylamine, picoline, 1.5-diazabicyclo[4.3.0]nona-5-
En, 1.

4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1.8−
ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7ーエン等の
ような無機塩基および有機塩基が挙げられる。
4-diazabicyclo[2.2.2]octane, 1.8-
Included are inorganic and organic bases such as diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene and the like.

好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、例えば
塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素、フッ化
水素等の無機酸および例えばピリジン塩酸塩等の酸付加
塩化合物が挙げられる。
Suitable acids include, for example, formic acid, acetic acid, propionic acid,
Examples include organic acids such as trichloroacetic acid and trifluoroacetic acid, inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, hydrogen chloride, hydrogen bromide, and hydrogen fluoride, and acid addition salt compounds such as pyridine hydrochloride.

例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ
酢酸停のようなルイス酸を使用する脱離は、例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行う
のが好ましい。
Desorption using a Lewis acid such as trihaloacetate, such as trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc., is preferably carried out in the presence of a cation scavenger, such as anisole, phenol, etc.

反応は通常、水、例えばメタンーノ呟エタノール等のア
ルコール、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロ
メタン、テトラヒドロフランのような溶媒、またはそれ
らの混合物中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない
溶媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行うこ
とができる。液状の塩基または酸も溶媒として使用する
ことができる。
The reaction is usually carried out in water, an alcohol such as ethanol, a solvent such as methylene chloride, chloroform, tetrachloromethane, tetrahydrofuran, or a mixture thereof, or in any other solvent that does not adversely affect the reaction. The reaction can be carried out in any solvent. Liquid bases or acids can also be used as solvents.

反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

脱離反応に適用されうる還元法としては、化学的還元お
よび接触還元が挙ζブられる。
Reduction methods that can be applied to the elimination reaction include chemical reduction and catalytic reduction.

化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化クロム、酢酸クロム
等の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭
化水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせである。
Suitable reducing agents used for chemical reduction include, for example, tin,
Metals such as zinc and iron or metal compounds such as chromium chloride and chromium acetate, and formic acid, acetic acid, propionic acid,
It is a combination with an organic or inorganic acid such as trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, hydrochloric acid, or hydrobromic acid.

接触還元に使用される好適な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化
パラジウム、パラジウム−次素、コロイドパラジウム、
パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム
等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバ
ルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還元鉄
、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー鋼、ウル
マン鋼等の銅触媒等のような常用のものである。
Suitable catalysts used for catalytic reduction are platinum catalysts such as platinum plates, platinum sponges, platinum black, colloidal platinum, platinum oxide, platinum wires, platinum catalysts such as palladium sponges, palladium black, palladium oxide, palladium-hypochloride, colloids. palladium,
Palladium catalysts such as palladium-barium sulfate, palladium-barium carbonate, nickel catalysts such as reduced nickel, nickel oxide, Raney nickel, cobalt catalysts such as reduced cobalt, Raney cobalt, iron catalysts such as reduced iron, Raney iron, etc. Commonly used materials include reduced steels, Raney steels, Ullmann steels, etc. with copper catalysts.

還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロパツー
ル、N、N−ジメデルホルムアミドのような反応に悪影
響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合物中で行
われる。さらに、化学的還元に使用される上記酸が液体
である場合には、それらを溶媒として使用することもで
きる。さらにまた、触媒還元に使用される好適な溶媒と
しては、上記溶媒およびジエチルエーテル、ジオキサン
、テトラヒドロフラン等のようなその他の慣用の溶媒、
またはそれらの混合物が挙げられる。
The reduction is usually carried out in conventional solvents that do not adversely affect the reaction, such as water, methanol, ethanol, propatool, N,N-dimedelformamide, or mixtures thereof. Furthermore, if the acids used in the chemical reduction are liquids, they can also be used as solvents. Furthermore, suitable solvents used in the catalytic reduction include the above-mentioned solvents and other conventional solvents such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc.
or a mixture thereof.

この還元の反応温度は特に限定きれず、通常冷却下ない
し加熱下に反応が行われる。
The reaction temperature for this reduction is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

第3工程 目的化合物CI]またはその塩は、化合物[V]もしく
はアミノ基におけるその反応性誘導体またはそれらの塩
を、化合物[VI[]もしくはカルボキシ基におけるそ
の反応性誘導体tたはそれらの塩と反応させ、必要に応
じてN−保護基を脱離することにより製造することがで
きる。
Third step target compound CI] or a salt thereof is a compound [V] or a reactive derivative thereof at an amino group or a salt thereof, and a compound [VI[] or a reactive derivative thereof at a carboxy group or a salt thereof. It can be produced by reacting and, if necessary, removing the N-protecting group.

化合物[VI]の好適な塩類については、化合物[1r
コについて例示したような塩基との塩を参照すればよい
For suitable salts of compound [VI], compound [1r
Refer to the salts with bases as exemplified above.

この反応は洟土工1と実質的に同様にして行うことがで
きるので、この反応の反応方式および例えば反応性誘導
体、縮合剤、溶媒、反応温度等の反応条件については1
上工1の説明を参照すればよい。
This reaction can be carried out in substantially the same manner as in 1. Therefore, the reaction method and reaction conditions such as the reactive derivative, condensing agent, solvent, and reaction temperature are described in 1.
Please refer to the explanation of construction work 1.

化合物[V]のN−含有複素環基が保護されている場合
には、さらに化合物[V]と化合物[■]との反応生成
物のN−=保護基を脱離することにより目的化合物[I
]を製造することができる。
When the N-containing heterocyclic group of compound [V] is protected, the target compound [ I
] can be manufactured.

この脱離反応はこの製造法の第2工程と実質的に同様に
して行うことができるので、この反応の反応方式および
例えば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の反
応条件についてはこの製造法のLLL12説明を参照す
ればよい。
Since this elimination reaction can be carried out in substantially the same manner as the second step of this production method, the reaction method and reaction conditions such as base, acid, reducing agent, catalyst, solvent, reaction temperature, etc. Please refer to the explanation of LLL12 of this manufacturing method.

1泣黄ユ 目的化合物[1a]またはその塩は、化合物[■コまた
はその塩および化合物[■]またはその塩をウレイド基
またはカルバモイルオキシ基の生成反応に付し、必要に
応じてN−保護基を脱離することにより製造することが
できる。
1. The target compound [1a] or a salt thereof can be obtained by subjecting a compound [■] or a salt thereof and a compound [■] or a salt thereof to a reaction for producing a ureido group or a carbamoyloxy group, and optionally N-protection. It can be produced by eliminating the group.

化合物[Ia]、[■コおよび[■]の好適な塩類につ
いては化合物[I]について例示したものを参照すれば
よい。
For suitable salts of compounds [Ia], [■] and [■], refer to those exemplified for compound [I].

この反応はホスゲン、例えばクロロギ酸エチル、クロロ
ギ酸トリクロロメチル等のハロギ酸エステル化合物、N
、N’ −カルボニルジイミダゾール、例えばコバルト
カルボニル、マンガンカルボニル等の金属カルボニル化
合物、−酸化炭素と塩化パラジウム等のような触媒との
組合わせ等のようなカルボニル基を導入する試薬の存在
下に行われる。
This reaction is performed using phosgene, a haloformate compound such as ethyl chloroformate, trichloromethyl chloroformate, N
, N'-carbonyldiimidazole, a metal carbonyl compound such as cobalt carbonyl, manganese carbonyl, etc., in the presence of a reagent that introduces a carbonyl group, such as a combination of carbon oxide and a catalyst such as palladium chloride, etc. be exposed.

この反応は通常、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベ
ンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化メチレン、N、
N−ジメチルホルムアミドのような溶媒中で行われるが
、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のいか
なる有m溶媒中でも反応を行うことができる。
This reaction typically involves dioxane, tetrahydrofuran, benzene, toluene, chloroform, methylene chloride, N,
Although the reaction is carried out in a solvent such as N-dimethylformamide, the reaction can be carried out in any other solvent that does not adversely affect the reaction.

反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

化合物[■コのN−含有複素環基が保護されている場合
には、きらに化合物[■]と化合物[■コとの反応生成
物のN−保護基を脱離することにより目的化合物[1a
]を製造することができる。
When the N-containing heterocyclic group of the compound [■] is protected, the target compound [■] can be obtained by removing the N-protecting group of the reaction product between the compound [■] and the compound [■]. 1a
] can be manufactured.

この脱離反応は脳j1法」2の31ユ1と実質的に同様
にして行うことができるので、この反応の反応方式およ
び例えば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の
反応条件については本jE法」2のl工1の説明を参照
すればよい。
This elimination reaction can be carried out in substantially the same manner as in Section 31 of ``Neuro J1 Method'' 2. For conditions, please refer to the explanation of Step 1 in "JE Method" 2.

製1D【ユ 目的化合物[1b]またはその塩は化合物[■コもしく
はアミノ基におけるその反応性誘導体またはそれらの塩
を、化合物[IX]もしくはカルボキシ基におけるその
反応性誘導体またはそれらの塩と反応許せ、必要に応じ
てN−保護基を脱離することにより製造することができ
る。
[1D] The target compound [1b] or a salt thereof can be prepared by reacting a compound [IX] or a reactive derivative thereof at an amino group or a salt thereof with a compound [IX] or a reactive derivative thereof at a carboxy group or a salt thereof. , can be produced by removing the N-protecting group as necessary.

化合物[Ib]の好適な塩類については、化合物[11
について例示したような塩類を参照すればよい。
For suitable salts of compound [Ib], compound [11
Please refer to the salts exemplified above.

化合物[IX]の好適な塩類については、化合物[1[
]について例示したような塩基との塩類を参照すればよ
い。
For suitable salts of compound [IX], compound [1[
] may be referred to as salts with bases such as those exemplified.

この反応はIL法」工の策土工1と実質的に同様にして
行うことができ、従ってこの反応の反応方式および例え
ば反応性誘導体、縮合剤、溶媒、反応温度等の反応条件
については製j【法」2の気土工塁の説明を参照すれば
よい。
This reaction can be carried out in substantially the same manner as earthwork 1 of the IL method, and therefore the reaction method and reaction conditions such as reactive derivative, condensing agent, solvent, reaction temperature, etc. Please refer to the explanation of earthworks in [Act] 2.

化合物[■]のN−含有複素環基が保護されている場合
には、さらに化合物[IX]と化合物[■コとの反応生
成物のN−保護基を脱離することにより目的化合物[I
b]を製造することができる。
When the N-containing heterocyclic group of compound [■] is protected, the target compound [I
b] can be produced.

この脱離反応は艶jE法」2の亀主工1と実質的に同様
にして行うことができるので、この反応の反応方式およ
び例えば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の
反応条件については脳j【法」2のLLL12説明を参
照すればよい。
This elimination reaction can be carried out in substantially the same manner as Kamejiku 1 of ``AtsushijE method'' 2, so the reaction method of this reaction and, for example, the base, acid, reducing agent, catalyst, solvent, reaction temperature, etc. For reaction conditions, please refer to the explanation of LLL12 in Brain J [Method] 2.

原料化合物[■コ中、それらの中のある種のものは新規
化合物であり、下記反応式で示される製造法により製造
することができる。
Among the raw material compounds [■], some of them are new compounds and can be produced by the production method shown in the following reaction formula.

[Xl またはその塩 R’−Xl−H [■] またはその塩 [XI] 竺」51塁 [XI ] [■a] またはその塩 [式中、R12は保N−aれたカルボキシ基を意味し、 R1、R4およびXlはそれぞれ前と同じ意味]好適な
「保護されたカルボキシ基」としては、例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル ボニル、ブトキシカルボニル、第二級ブトキシカルボニ
ル、インブトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニ
ル、ペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカ
ルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等の低級アルコキ
シカルボニル基、任意に置換されていてもよいアル(低
級)アルコキシカルボニル基、その例として、例えばベ
ンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル、トリチル
オキシカルボニル等のニトロ基で置換きれていてもよい
七ノーまたはジーまたはトリフェニル(低級)アルフキ
ジカルボニル基等のような、常用の保護基によって保護
されたカルボキシ基が挙げられる。
[Xl or a salt thereof R'-Xl-H [■] or a salt thereof [XI] and R1, R4 and Xl each have the same meaning as before] Suitable "protected carboxy groups" include, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonylbonyl, butoxycarbonyl, secondary butoxycarbonyl, imbutoxycarbonyl, Lower alkoxycarbonyl groups such as tertiary butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, neopentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl, optionally substituted alkoxycarbonyl groups, such as benzyloxycarbonyl, Commonly used protecting groups such as 7-no or di- or triphenyl (lower) alkyl dicarbonyl groups optionally substituted with nitro groups such as 4-nitrobenzyloxycarbonyl, benzhydryloxycarbonyl, trityloxycarbonyl, etc. Examples include carboxy groups protected by .

原料化合物の前記製造法を以下詳細に説明する。The method for producing the raw material compound will be explained in detail below.

製ILΔ 亀土工1 化合物[XI]は、化合物[■コまたはその塩および化
合物[Xlまたはその塩をウレイド基またはカルバモイ
ルオキシ基の生成反応に付すことにより製造することが
できる。
ILΔ Kamedoko 1 Compound [XI] can be produced by subjecting compound [■] or a salt thereof and compound [Xl or a salt thereof to a reaction for producing a ureido group or a carbamoyloxy group.

化合物[Xlの好適な塩類については、化合物[I]に
ついて例示したような塩類を参照すればよい。
For suitable salts of compound [Xl, refer to the salts exemplified for compound [I].

この反応は鳳jL広」、と実質的に同様にして行うこと
ができ、従ってこの反応の反応方式および例えばカルボ
ニル基を導入する試薬、溶媒、反応温度等の反応条件に
ついては袈jL医」、の説明を参照すればよい。
This reaction can be carried out in substantially the same manner as Hiroshi Oho, JL, and therefore, the method of this reaction and the reaction conditions, such as reagents, solvents, and reaction temperatures for introducing carbonyl groups, are provided by JL Hiroshi. Please refer to the explanation.

第」二【菫 化合物[VIa]またはその塩は、化合物[XI]をカ
ルボキシ保護基の脱離反応に付すことにより製造するこ
とができる。
The second violet compound [VIa] or a salt thereof can be produced by subjecting compound [XI] to a carboxy-protecting group elimination reaction.

化合物[V!a]の好適な塩類については、化合物[■
]について例示したような塩類を参照すればよい。
Compound [V! For suitable salts of compound [■
] Please refer to the salts exemplified above.

この反応はIJIの策主工1と実質的に同様にして行う
ことができ、従ってこの反応の反応方式および例えば塩
基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の反応条件に
ついては、鳳jE法」1の第2工程の説明を参照すれば
よい。
This reaction can be carried out in substantially the same manner as IJI's Scheme 1, and therefore the reaction method and reaction conditions such as base, acid, reducing agent, catalyst, solvent, reaction temperature, etc. Please refer to the explanation of the second step of "JE method" 1.

上記製造法で得られた化合物は、粉砕、再結晶、カテム
クロマトグラフイー、薄層クロマトグラブイ−、再沈殿
等のような常法によって単離、精製することができる。
The compound obtained by the above production method can be isolated and purified by conventional methods such as pulverization, recrystallization, catem chromatography, thin layer chromatography, reprecipitation, and the like.

化合物[1]およびその他の化合物には、不斉次素原子
に基づく立体異性体1個以上が含まれ、そのような異性
体およびそれらの混合物はすべてこの発明の範囲内に包
含される。
Compound [1] and other compounds include one or more stereoisomers based on asymmetric elementary atoms, and all such isomers and mixtures thereof are included within the scope of the present invention.

治療のためにこの発明の化合物[I]および医薬として
許容されるその塩類は、有機または無機固体状または液
状賦形剤と混合して前記化合物の1種を有効成分として
含有する、経口投与、非経口投与または外用投与に適し
た医薬製剤の形で使用するとかできる.医薬製剤として
はカプセル、錠剤、糖衣錠、顆粒、溶液、懸濁液、エマ
ルシヨン等が挙げられる。所望に応じてこれらの製剤中
に助剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液およびそ
の他の通常使用される添加剤が含まれていてもよい。
For treatment, the compound [I] of this invention and its pharmaceutically acceptable salts can be administered orally, containing one of the above compounds as an active ingredient in admixture with an organic or inorganic solid or liquid excipient; It can be used in the form of pharmaceutical preparations suitable for parenteral or topical administration. Pharmaceutical preparations include capsules, tablets, sugar-coated tablets, granules, solutions, suspensions, emulsions, and the like. If desired, auxiliaries, stabilizers, wetting agents or emulsifiers, buffers and other commonly used additives may be included in these formulations.

化合物[I]の投与量は患者の年齢および状態によって
変化するが、化合物CI]を平均1回約0.1mg5 
1 rag、 10mg、 50mg、 loOmg、
 250mg、 5QOmB。
The dose of compound [I] varies depending on the age and condition of the patient, but the average dose of compound [CI] is about 0.1 mg5
1 rag, 10mg, 50mg, loOmg,
250mg, 5QOmB.

1000mgの投与量で高血圧および心不全の治療に有
効である。−膜内には1日当り0.1mg/個体〜約1
000mg/個体との間の量を投与すればよい。
A dose of 1000 mg is effective in treating hypertension and heart failure. - 0.1 mg/individual to about 1 per day in the membrane
000 mg/individual may be administered.

[発明の効果] 目的化合物[11の有用性を示すために、化合物[!〕
の代表的化合物の薬理試験結果を以下に示す。
[Effect of the invention] In order to demonstrate the usefulness of the target compound [11], the compound [! ]
The pharmacological test results of representative compounds are shown below.

笠luL良惣 (1)  (2R,3S)−3−[N”−[N−[N−
メチル−N−(2−(N−モルホリノカルボニル−N−
メチルアミノ)エチル)アミノカルボニル]−L−フェ
ニルアラニル]−Na−メチル−L−ヒスチジルコアミ
ノ−4−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−1−インプ
ロとルアミノスルホニルブタン (実施例3−(2)の化合物) (2)  (2S、3S)−2−[Na−4N−[N−
メチル−N−(2−(N−モルホリノカルボニル−N−
メチルアミン)エチル)アミ7カルボニル]−L−フェ
ニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスデジルコアミ
ノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチル
へブタン(実施例1の化合物) (3)  (2S、3S)−2−4Na−[N−(2−
(N−モルホリノカルボニル−N−メゾルアミノ)エト
キシカルボニル)−L−フェニルアラニル) −N(!
−メチルーL−ヒスチジルコアミノ−1−シクロへキシ
ル−3−ヒドロキシ−6−メチルへブタン (実施例3−(22)の化合物) U羞 ヒト血漿を薬物前処理しない男性ボランティアから採取
し、プールとして使用した。エチレンジアミン四酢酸(
EDTA )ジナトリウム塩を抗凝血剤として使用した
。血漿中内因レニンおよびアンジオテンシンゲンをpH
6,0でインキュベート(37’C)a、血漿レニン作
用をアンジオテンシン!生成率として測定した。インキ
ュベート混合物は血漿2501dl、フッ化(フェニル
メチル)スルホニル5−1緩衝液(ナトリウム−燐酸カ
リウム緩衝液、pH6,0) 30−および50%エチ
ルアルコール−水損体中適宜濃度の試験化合物154を
含むものであった。90分間インキュベート後に生成し
たアンジオテンシンIを、市販キットRENIJK10
0 [:12ミ・7サリアート・ニーーレネルギー・ア
トミノ(Comm1ssariat A L’ener
gia Atomique)製コを用いて行うラジオイ
ミュノアッセイ法により測定した。試料を二組−揃いと
してインキュベートし、各チューブを二組−揃いとして
ラジオイミュノアッセイ法で測定した。血漿レニン活性
抑制百分率を、試験化合物存在下および存在しない場合
に生成したアンジオテンシンIの量を比較することによ
り計算した。血漿レニン作用を50%抑制した試験化合
物濃度(IC5o)をピロビット(Probit)法に
より決定した。
KasaluL Ryoso (1) (2R,3S)-3-[N”-[N-[N-
Methyl-N-(2-(N-morpholinocarbonyl-N-
methylamino)ethyl)aminocarbonyl]-L-phenylalanyl]-Na-methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-impro and lyaminosulfonylbutane (Example 3-(2) ) (2) (2S,3S)-2-[Na-4N-[N-
Methyl-N-(2-(N-morpholinocarbonyl-N-
methylamine)ethyl)ami7carbonyl]-L-phenylalanyl]-Nα-methyl-L-hisdedylcoamino-1-cyclohexyl-3-hydroxy-6-methylhebutane (compound of Example 1) (3 ) (2S, 3S)-2-4Na-[N-(2-
(N-morpholinocarbonyl-N-mesolamino)ethoxycarbonyl)-L-phenylalanyl) -N(!
-Methyl-L-histidylcoamino-1-cyclohexyl-3-hydroxy-6-methylhebutane (compound of Example 3-(22)) U photophobic human plasma was collected from a male volunteer without drug pretreatment, Used as a pool. Ethylenediaminetetraacetic acid (
EDTA) disodium salt was used as an anticoagulant. Plasma endogenous renin and angiotensingen at pH
Incubate at 6,0 (37'C) a, angiotensin and plasma renin action! It was measured as the production rate. The incubation mixture contained 2501 dl of plasma, 5-1 sulfonyl fluoride buffer (sodium-potassium phosphate buffer, pH 6,0), 30- and 50% ethyl alcohol--test compound 154 at the appropriate concentration in the aqueous body. It was something. Angiotensin I generated after incubation for 90 minutes was collected using a commercially available kit RENIJK10.
0 [:Comm1ssariat A L'ener
It was measured by a radioimmunoassay method using a device manufactured by Gia Atomique. Samples were incubated in duplicate and each tube was measured in duplicate by radioimmunoassay. Percent inhibition of plasma renin activity was calculated by comparing the amount of angiotensin I produced in the presence and absence of the test compound. The concentration of the test compound that inhibited plasma renin action by 50% (IC5o) was determined by the Probit method.

上記の試験結果から明らかな様に、目的化合物[11お
よびその塩類は、レニ°ンに対する強い阻害作用を有し
、特に経口投与可能な降圧剤および心不全用剤として有
用である。
As is clear from the above test results, the target compound [11 and its salts have a strong inhibitory effect on renin, and are particularly useful as orally administrable antihypertensive agents and agents for heart failure.

[実施例] 以下実施例に従って目的化合物[I]の好ましい製造例
を説明するが、これらの化合物の製造法は下記実施例に
限定されるものではない。
[Example] Preferred production examples of the target compound [I] will be explained below according to Examples, but the production methods of these compounds are not limited to the following Examples.

下記実施例ではTLC板としてキーゼルゲル(Kies
elgel ) 60F254 (商標:メルク社製)
(厚き: 0.25mm )を使用した。
In the following examples, Kiesgel (Kies) was used as the TLC plate.
elgel) 60F254 (trademark: manufactured by Merck & Co., Ltd.)
(thickness: 0.25 mm) was used.

鼠j111 (1)N−第三級−ブトキシ力ルボニルーL−シクロへ
キシルアラニンメチルエステル(8,561g)のトリ
フルオロ酢酸(8!1111 )溶液を0℃で30分間
攪拌する。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル(3001
11Q )に溶解する。溶液を飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液(250m11 )および食塩水(300111
11)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
濃縮して、L−シクロへキシルアラニンメチルエステル
(5,670g )を油状物として得る。
(1) A solution of N-tertiary-butoxycarbonyl-L-cyclohexylalanine methyl ester (8,561 g) in trifluoroacetic acid (8!1111) was stirred at 0°C for 30 minutes. The solvent was distilled off, and the residue was diluted with ethyl acetate (3001
11Q). The solution was mixed with saturated aqueous sodium bicarbonate solution (250ml) and brine (300ml).
11), dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain L-cyclohexylalanine methyl ester (5,670 g) as an oil.

Rf:0.50(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.50 (chloroform:methanol.

s : i * v/v) (2)塩化トリチル(8,531g)の乾燥塩化メチレ
ン< somi )溶液をL−シクロへキシルアラニン
メチルエステル(5,670g )とトリエチルアミン
(t2ssmn )の乾燥塩化メチレン(80111”
)中混合物に0°Cで10分間かけて加える。混合物を
0°Cで1時間攪拌後、放冷によって室温とし、2時間
攪拌する。混合物を減圧濃縮し、これに酢酸エチル(5
00戚)と10%クエン酸水溶液c soome )を
加える1分離する有機層を水(500mQ )、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液(5001111)、水(50
om )および食塩水(500mQ )で順次洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して、N−トリチ
ル−し−シクロへキシルアラニンメチルエステル(13
,560g )を油状物として得る。
s: i * v/v) (2) A solution of trityl chloride (8,531 g) in dry methylene chloride (somi) was added to a solution of L-cyclohexylalanine methyl ester (5,670 g) and triethylamine (t2ssmn) in dry methylene chloride ( 80111”
) to the mixture over 10 minutes at 0°C. The mixture is stirred at 0° C. for 1 hour, then allowed to cool to room temperature and stirred for 2 hours. The mixture was concentrated under reduced pressure, and ethyl acetate (5
00 relative) and 10% citric acid aqueous solution c soome
om) and saline solution (500 mQ),
After drying with magnesium sulfate, it was concentrated under reduced pressure to give N-trityl-cyclohexylalanine methyl ester (13
, 560 g) as an oil.

Rf : 0.79(n−ヘキサン:酢酸エチル。Rf: 0.79 (n-hexane: ethyl acetate.

2 : 1 、v/v) (3)  水素化アルミニウムリチウム(1,335g
)の無水ジエチルエーテル(47+11Q )中部濁液
にN−トリチル−し−シクロへキシルアラニンメチルニ
スチル(10,03g )のジエチルエーテル(47m
1l )溶液を攪拌下室温で20分間かけて滴下する。
2:1, v/v) (3) Lithium aluminum hydride (1,335g
) to anhydrous diethyl ether (47+11Q) suspension was N-trityl-cyclohexylalanine methylnistyl (10.03g) in diethyl ether (47ml).
1 l) solution was added dropwise over 20 minutes at room temperature while stirring.

混合物を10分間攪拌後、0℃に冷却し、これに水飽和
ジエチルエーテル(2001111>を加える。析出物
を濾過し、ジエチルエーテル(400!111 )で洗
浄する。有I!贋を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥し
、減圧濃縮して、N−)リチルーし一シクロへキシルア
ラニノール(9,085g )を油状物として得る。
After stirring the mixture for 10 minutes, it was cooled to 0°C and water-saturated diethyl ether (2001111) was added to it.The precipitate was filtered and washed with diethyl ether (400!111). Dry over magnesium and concentrate in vacuo to give N-)richyl-monocyclohexylalaninol (9,085 g) as an oil.

Rf: 0.28(n−ヘキサン:酸mエチル。Rf: 0.28 (n-hexane: ethyl acid.

2 : 1 tv/v) (4)゛三酸化硫黄ピリジン錯体(12,99g )の
乾燥ジメチルスルホキシド(40ffl11 )溶液を
N−トリチルーL−シクロへキシルアラニノール(6,
00g)とトリエチルアミン(11,37111)の乾
燥ジメチルスルホキシド(6011111’)中混合物
に窒素雰囲気下10分間かけて加える。5分間攪拌後、
溶液を氷水(500ffLQ )中に注ぐ。
2:1 tv/v) (4) A solution of sulfur trioxide pyridine complex (12,99 g) in dry dimethyl sulfoxide (40 ffl11) was mixed with N-trityl-L-cyclohexylalaninol (6,
00g) and triethylamine (11,37111) in dry dimethyl sulfoxide (6011111') under a nitrogen atmosphere over 10 minutes. After stirring for 5 minutes,
Pour the solution into ice water (500ffLQ).

得られたスラリーをジエチルエーテル(5001×3)
で抽出し、抽出物を合わせ硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮して、N−トリプル−L−シクロヘキシルアラ
ニナール(5,98g)を油状物として得る。
The resulting slurry was mixed with diethyl ether (5001×3)
After combining the extracts and drying with magnesium sulfate,
Concentration under reduced pressure gives N-triple-L-cyclohexylalaninal (5.98 g) as an oil.

Rf : 0.82(n−へキサン:酢9エチル。Rf: 0.82 (n-hexane: 9 ethyl acetate.

2 : 1 、v/v) (5)  N、N−ジメデルメタンスルホンアミド(2
,035g )の乾燥テトラヒドロフラン(44mi)
溶液にn−プチルリデウム(10,33111。
2:1, v/v) (5) N,N-dimedelmethanesulfonamide (2
,035g) of dry tetrahydrofuran (44mi)
n-butyllideum (10,33111) in solution.

n−ヘキサン中1.6M溶液)を窒素雰囲気下−5℃で
5分間かけて滴下する。混合物を17分間攪拌後、−6
8℃に冷却し、N−トリチル−し−シクロへキシルアラ
ニナール(5,970g)の乾燥テトラヒドロフラン(
33m1l )溶液で処理する0反応混合物を同温で5
分間攪拌“する0反応を飽和塩化アンモニウム水溶液(
201111+ )で停止し、溶媒を留去し、残渣にj
t[エテル(1501111)と10%クエン酸水溶液
(150m1! )を加える。有機層を水(150mM
)、飽和度酸水素ナトリウム水溶液(15011Q )
、水(1501d )および食塩水(150!+11 
)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶離溶媒:酢酸エチル−n−ヘキサン)で精製して、(
3S)−N、N−ヅメデル−3−トリプルアミノ−4−
シクロへキシル−2−ヒドロキシブタンスルホンアミド
(4,778g )を油状物として得る。
A 1.6 M solution in n-hexane) is added dropwise over 5 minutes at -5° C. under nitrogen atmosphere. After stirring the mixture for 17 minutes, -6
Cooled to 8°C, N-trityl-cyclohexylalaninal (5,970 g) was dissolved in dry tetrahydrofuran (
33ml 1l) solution to treat the reaction mixture at the same temperature.
Stir for 0 minutes to stir the reaction in a saturated aqueous ammonium chloride solution (
201111+), the solvent was distilled off, and the residue was
Add ether (1501111) and 10% aqueous citric acid solution (150 ml!). The organic layer was diluted with water (150mM
), saturated sodium hydrogen oxide aqueous solution (15011Q)
, water (1501d) and saline solution (150!+11
) and dried with magnesium sulfate. The solvent was distilled off and the residue was subjected to silica gel column chromatography (
Elution solvent: ethyl acetate-n-hexane) to purify with (
3S)-N,N-dumedel-3-tripleamino-4-
Cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide (4,778 g) is obtained as an oil.

Rf:0.37(n−へキサン:酢酸エチル。Rf: 0.37 (n-hexane: ethyl acetate.

2  :  1  、v/v) 11亘ユ 製造例1−(5)と同様にして下記化合物を得る。2: 1, v/v) 11 Wataru Yu The following compound is obtained in the same manner as in Production Example 1-(5).

(1〉N−イソプロピルメタンスルホンアミド(2,0
0g)、N−トリチル−L−シクロヘキシルアラニナー
ル(4,91g)およびn−ブチルリチウム(16,9
5mm )から(3S>−N−イソプロピル−3−トリ
チルアミノ−4−シクロヘキシル−2−ヒドロキシブタ
ンスルホンアミド(3,94g)を得る。
(1>N-isopropyl methanesulfonamide (2,0
0 g), N-trityl-L-cyclohexylalaninal (4,91 g) and n-butyllithium (16,9
5 mm ) to obtain (3S>-N-isopropyl-3-tritylamino-4-cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide (3,94 g).

Rf : 0.23(n −ヘキサン:酢酸エチル。Rf: 0.23 (n-hexane: ethyl acetate.

4 : 1 、V/V) (2)  1−メチルスルホニルピペリジン(2,44
g)、N−トリチル−L−シクロヘキシルアラニナール
(5,96g)およびn−ブチルリチウム(10,3d
 )から1−((3S)−3−)リチルアミノー4−シ
クロヘキシル−2−ヒドロキシブチルスルホニル)ピペ
リジン(4,07g)を得る。
4:1, V/V) (2) 1-methylsulfonylpiperidine (2,44
g), N-trityl-L-cyclohexylalaninal (5,96 g) and n-butyllithium (10,3 d
) to obtain 1-((3S)-3-)lytylamino-4-cyclohexyl-2-hydroxybutylsulfonyl)piperidine (4,07 g).

Rf:0546(n−ヘキサン;酢酸エチル。Rf: 0546 (n-hexane; ethyl acetate.

3 : 1 、v/v) !j11互 (3S )−N、N−ジメチル−3−トリチルアミノ−
4−シクロへキシル−2−ヒドロキシブタンスルホンア
ミド(4,764g )を50?≦酢酸水溶液(100
mQ )に溶解する。溶液を室温で5分間攪拌し、得ら
れた析出物を水(401×3)洗する。濾液を6011
2に濃縮し、これにジエチルエーテル(601111)
を加える。水着を炭酸水素ナトリウムで中性とし、混合
物を酢酸エチル(80mllX3)で抽出する。抽出物
を合わせ、食塩水(2401111)で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧濃縮して、(3S >−N、
N−ジメチル−3−アミノ−4−シクロヘキシル−2−
ヒドロキシブタンスルホンアミド(2,325g )を
固形物として得る。
3:1, v/v)! j11 mutual (3S)-N,N-dimethyl-3-tritylamino-
4-Cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide (4,764g) at 50? ≦Aqueous acetic acid solution (100
mQ). The solution is stirred at room temperature for 5 minutes and the resulting precipitate is washed with water (401 x 3). 6011 filtrate
2 and diethyl ether (601111)
Add. The bathing suit is neutralized with sodium bicarbonate and the mixture is extracted with ethyl acetate (80ml x 3). The extracts were combined, washed with brine (2401111), dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain (3S > -N,
N-dimethyl-3-amino-4-cyclohexyl-2-
Hydroxybutanesulfonamide (2,325 g) is obtained as a solid.

融点: 110.5−112℃ Rf:0.50(クロロホルム:メタノール:酢酸、8
:1:1.v/v) 11亘1 製造例3と同様にして下記化合物を得る。
Melting point: 110.5-112°C Rf: 0.50 (chloroform:methanol:acetic acid, 8
:1:1. v/v) 11.1 The following compound is obtained in the same manner as in Production Example 3.

(1)  (3S)−N−イソプロピル−3−アミノ−
4−シクロへキシル−2−ヒドロキシブタンスルホンア
ミド 融点? 154.5−155.5℃ Rf:0.19(クロロホルム:メタノール。
(1) (3S)-N-isopropyl-3-amino-
4-Cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide melting point? 154.5-155.5°C Rf: 0.19 (chloroform:methanol.

9 : 11V/V) (2)  1−((33)−3−アミノ−4−シクロへ
キシル−2−ヒドロキシブチルスルホニル)ピペリジン 融点7108−112℃ Rf:0.39Cクロロホルム:メタノール:酢酸、 
16: 1 : 1.v/v) 1産遭J Na−第三級−ブトキシカルボニル−N(Z−メチル−
N1111−トシル−L−ヒスチジン(4,216g 
)および(3S)−N、N−ジメチル−3−アミノ−4
−シクロヘキシル−2−ヒドロキシブタンスルホンアミ
ド(2,310g )の乾燥塩化メチレン(1GOff
Ll )中部合物を0℃に冷却後、N−メチルモルホリ
ン(0,64m1l )でpH8,0に!ltL、次い
でN−エチル−N″−(3−ジメチルアミノプロピル)
カルボジイミド塩酸塩(1,909g )を加える。混
合物を同温で16時間攪拌する。溶媒を留去し、残渣を
酢酸エチル(300−)に溶解する。溶液を10%クエ
ン酸水溶液(300m11 )、水(300IIIII
)、炭酸水素ナトリウム水溶液(300戚)、水(30
0fflQ )および食塩水(30011) )で順次
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離溶媒:
クロロホルム)で精製して、(2R,3S)−3−(N
a−第三m−−1/トキシカルボニルーN −メチル−
Nlrl′−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−4−シ
クロへキシル−2−ヒドロキシ−1−(N、N −ジメ
チルアミノスルホニル)ブタン(2,41g)を油状物
として得る。
9: 11V/V) (2) 1-((33)-3-amino-4-cyclohexyl-2-hydroxybutylsulfonyl)piperidine Melting point 7108-112°C Rf: 0.39C Chloroform: Methanol: Acetic acid,
16: 1: 1. v/v) 1st generation J Na-tertiary-butoxycarbonyl-N(Z-methyl-
N1111-tosyl-L-histidine (4,216g
) and (3S)-N,N-dimethyl-3-amino-4
-Cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide (2,310 g) in dry methylene chloride (1 G Off
After cooling the middle compound to 0°C, the pH was adjusted to 8.0 with N-methylmorpholine (0.64ml)! ltL, then N-ethyl-N″-(3-dimethylaminopropyl)
Add carbodiimide hydrochloride (1,909 g). The mixture is stirred at the same temperature for 16 hours. The solvent is evaporated and the residue is dissolved in ethyl acetate (300-). The solution was mixed with 10% citric acid aqueous solution (300ml) and water (300ml).
), sodium hydrogen carbonate aqueous solution (300 relatives), water (30
0fflQ ) and brine (30011) ), dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent:
(2R,3S)-3-(N
a-tertiary m--1/toxycarbonyl-N-methyl-
Nlrl'-tosyl-L-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N,N-dimethylaminosulfonyl)butane (2.41 g) is obtained as an oil.

Rf:0.61(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.61 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) 製」L匹」− 製造例5と同様にして下記化合物を得る。9:1, v/v) Made by "L" The following compound is obtained in the same manner as in Production Example 5.

(1)(2R,3S)−3−(Na−第Ei−/トキシ
カルボニルーN −メチル−NII′1−トα シルーL−ヒスチジル)アミノ−4−シクロヘキシル−
2−ヒドロキシ−1−イソプロとルアミノスルホニルブ
タン Rf:0.45(クロロホルム:メタノール。
(1) (2R,3S)-3-(Na-Ei-/toxycarbonyl-N-methyl-NII'1-α-silyl-L-histidyl)amino-4-cyclohexyl-
2-hydroxy-1-isopro and ruaminosulfonylbutane Rf: 0.45 (chloroform:methanol.

9 : 11V/V) (2)(2R,3S)−3−(Na−第三4N−/トキ
シカルボニルーNa−メチル−N1111−トシル−L
−ヒスチジル)アミノ−4−シクロへキシル−2−ヒド
ロキシ−1−ピペリジノスルホニルブタン Rf:0.66(クロロホルム:メタノール:酢酸+1
6: 1 : 1 、v/v) 鼠JJLヱ (2R,3S)−3−(N  −第三級−ブトキシカル
ボニル−N −メチル−N1°−トシル−L−ヒスチジ
ル)アミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシ−1
−(N、N−ジメチルアミノスルホニル)ブタン(48
0,2mg)のトリフルオロ酢酸(511111)溶液
を一5℃で4時間攪拌する。混合物を濃縮し、残渣を酢
酸エチル(301111”)に溶解する。溶液を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液(30m1! )、水(30I
Q )および食塩水(301all )で順次洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して、(2R13
S)−3−(N  −メチル−Nin−トシル−L−ヒ
スチジル)アミノ−4−シクロヘキシル−2−ヒドロキ
シ−1−(N、N−ジメチルアミノスルホニル)ブタン
(407,0mg )を無定形粉末として得る。
9: 11V/V) (2) (2R,3S)-3-(Na-tertiary 4N-/toxycarbonyl-Na-methyl-N1111-tosyl-L
-Histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-piperidinosulfonylbutane Rf: 0.66 (chloroform: methanol: acetic acid + 1
6: 1: 1, v/v) Rat JJLヱ(2R,3S)-3-(N-tertiary-butoxycarbonyl-N-methyl-N1°-tosyl-L-histidyl)amino-4-cyclo xyl-2-hydroxy-1
-(N,N-dimethylaminosulfonyl)butane (48
A solution of 0.2 mg) of trifluoroacetic acid (511111) was stirred at -5°C for 4 hours. The mixture is concentrated and the residue is dissolved in ethyl acetate (301111"). The solution is dissolved in saturated aqueous sodium bicarbonate (30ml!), water (30ml)
Q) and saline solution (301all),
After drying with magnesium sulfate, it was concentrated under reduced pressure to obtain (2R13
S)-3-(N-methyl-Nin-tosyl-L-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N,N-dimethylaminosulfonyl)butane (407,0 mg) as an amorphous powder. obtain.

Rf:0.18(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.18 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) 聚i!互 製造例7と同様にして下記化合物を得る。9:1, v/v) Jui! Mutual The following compound is obtained in the same manner as in Production Example 7.

(1)(2R,3S)−3−(Na−yLfルーNll
11−トシル−し−ヒスチジル)アミノ−4−シクロへ
キシル−2−ヒドロキシ−1−イソプロとルアミノスル
ホニルブタン Rf:0.3g(クロロホルム:メタノール。
(1) (2R,3S)-3-(Na-yLf-Nll
11-Tosyl-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isopro and ruaminosulfonylbutane Rf: 0.3 g (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) (2)(2R,3S)−3−(Na−メfルーN i″
′−トシル−し−ヒスチジル)アミノ−4−シクロヘキ
シル−2−ヒドロキシ−1−ピペリジノスルホニルブタ
ン Rf:0.19(クロロホルム:メタノール。
9: 1, v/v) (2) (2R, 3S)-3-(Na-MefNi''
'-Tosyl-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-piperidinosulfonylbutane Rf: 0.19 (chloroform:methanol.

io : 1r v/v) 11贋ユ (1)  2− (N−メチルアミノ)エタノール(2
,253g )の乾燥テトラヒドロフラン(45IQ)
l液を0℃に冷却し、これにトリエチルアミン(4,1
81111)および塩化モルホリノカルボニル(4,4
87g )の乾燥テトラヒドロフラン(20m11 )
溶液を加える。混合物を0℃で1.5時間攪拌後、冷却
浴を除去し、室温でさらに24時間攪拌する。不溶物を
濾去し、濾液を減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶離溶媒:0〜1%メタノール−
クロロホルム)でallて、2−(N−モルホリノカル
ボニル− ミノ)エタノール( 6.150g )を油状物として
得る。
io: 1r v/v) 11 counterfeit (1) 2-(N-methylamino)ethanol (2
, 253g) of dry tetrahydrofuran (45IQ)
The l solution was cooled to 0°C, and triethylamine (4,1
81111) and morpholinocarbonyl chloride (4,4
87g) of dry tetrahydrofuran (20ml)
Add solution. After stirring the mixture at 0° C. for 1.5 hours, the cooling bath is removed and the mixture is stirred for a further 24 hours at room temperature. Insoluble matters are removed by filtration, and the filtrate is concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: 0-1% methanol).
chloroform) to obtain 2-(N-morpholinocarbonyl-mino)ethanol (6.150 g) as an oil.

Rf:0.44Cクロロホルム:メタノール。Rf: 0.44C chloroform:methanol.

9:1,v/v) (2)  2 − ( N−モルホリノカルボニル−N
−メチルアミノ)エタノール( 345. 7mg )
の乾燥テトラヒドロフラン( 11111)溶液にクロ
ロ蟻酸トリクロロメチル( 0. 1341111 )
を加よる.混合物を室温で1時間攪拌する.溶液をo”
ct:冷却し、L−フェニルアラニンベンジルエステル
p−トルエンスルホン酸塩(855mg)とトリエチル
アミン( 0.27911! ’) (7)乾燥テトラ
ヒドロフラン(1戚)溶液を0℃に冷却して加える。混
合物をトリエチルアミン(0,307119)を加えて
pH7に保ちなから0℃で30分間攪拌する。溶媒を留
去し、残渣を酢酸エチル(20111)に溶解する。溶
液を0.5M塩酸(2011LQ )、水(201Q 
)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(20111’)、
水(20戚)および食塩水(201Q )で順次洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(l離溶媒:クロロ
ホルム)で精製して、N−[2−(N−モルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エトキシカルボニル]−L
−フェニルアラニンベンジルエステル(422mg) 
ヲ油状物として得る。
9:1, v/v) (2) 2-(N-morpholinocarbonyl-N
-methylamino)ethanol (345.7mg)
Trichloromethyl chloroformate (0.1341111) in dry tetrahydrofuran (11111) solution
Add. Stir the mixture for 1 hour at room temperature. o” the solution
ct: Cool and add L-phenylalanine benzyl ester p-toluenesulfonate (855 mg) and triethylamine (0.27911!') (7) dry tetrahydrofuran (1 relative) solution after cooling to 0°C. The mixture is kept at pH 7 by adding triethylamine (0,307119) and stirred for 30 minutes at 0°C. The solvent is evaporated and the residue is dissolved in ethyl acetate (20111). The solution was mixed with 0.5M hydrochloric acid (2011LQ) and water (201Q
), saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (20111'),
Wash sequentially with water (20K) and brine (201Q), dry over magnesium sulfate, and concentrate under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (l solvent: chloroform) to give N-[2-(N-morpholinocarbonyl-N-methylamino)ethoxycarbonyl]-L
-Phenylalanine benzyl ester (422mg)
Obtained as an oil.

Rf:Q、64Cクロロホルム:メタノール。Rf:Q, 64C chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) 11且旦 L−フェニルアラニンベンジルエステルp−トルエンス
ルホン酸塩(6,41g)の乾燥トルエン(10011
1)溶液にトリエチルアミン(1,52g)およびクロ
ロ蟻酸トリクロロメチル(0,921nll )を加エ
ル、混合物を80’(、C’30分間攪拌後、溶液を減
圧濃縮する。残渣を無水テトラヒドロフラン(100m
 )に溶解し、これにN−イソブチリルーN、N’ −
ジメチルエチレンジアミントリフルオロ酢酸塩(4,0
8g)とトリエチルアミン(1,52g )の無水テト
ラヒドロフラン(40+111 )中温合物を0℃で加
える。混合物を同温で3時間攪拌する。溶媒を留去して
残渣を酢酸エチル(150111’)に溶解し、溶液を
5%塩酸、飽和次階水素ナトノウム水溶液および水で順
次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮する。
9:1, v/v)
1) Add triethylamine (1,52 g) and trichloromethyl chloroformate (0,921 nll) to the solution, stir the mixture for 30 minutes, and concentrate the solution under reduced pressure.
), and to this, N-isobutyryl N,N'-
Dimethylethylenediamine trifluoroacetate (4,0
8 g) and triethylamine (1.52 g) in anhydrous tetrahydrofuran (40+111) at 0°C. The mixture is stirred at the same temperature for 3 hours. The solvent was distilled off, the residue was dissolved in ethyl acetate (150111'), and the solution was washed successively with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous sodium hydroxide solution, and water, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure.

残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキ
サン:酢厳エチル、 1 : 2 、v/v)で精製し
て、N−[N−(2−(N−イソブチリル−N−メチル
アミン)エチル)−N−メチルアミノカルボニル]−L
−フェニルアラニンベンジルエステル(2,29g)を
油状物として得る。
The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane:ethyl acetate, 1:2, v/v) to give N-[N-(2-(N-isobutyryl-N-methylamine)ethyl)-N -methylaminocarbonyl]-L
-Phenylalanine benzyl ester (2.29 g) is obtained as an oil.

Rf:0.48(酢酸エチル) 鼠zti 製造例10と同様にして下記化合物を得る。Rf: 0.48 (ethyl acetate) Mouse zti The following compound is obtained in the same manner as in Production Example 10.

(1)  L−フェニルアラニンベンジルエステルp−
トルエンスルホン酸塩(3,42g )、4−[3−(
N−メチルアミノ)プロピオニル1モルホリントリフル
オロ酢酸塩(2,29g )およびクロロ蟻酸トリクロ
ロメチル(0,49IQ ’)からN−[N−(2−モ
ルホリノカルボニル:X−fル)−N−メチルアミノカ
ルボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル(
1,10g)を得る。
(1) L-phenylalanine benzyl ester p-
Toluenesulfonate (3,42g), 4-[3-(
N-[N-(2-morpholinocarbonyl: carbonyl]-L-phenylalanine benzyl ester (
1.10 g).

Rf:0.30(酢酸エチル) (2)  L−フェニルアラニンベンジルエステルp−
トルエンスルホン酸塩(7,09g )、N−モルホリ
ノカルボニル−N、N’ −ジメチルエチレンジアミン
トリフルオロ酢酸塩(5,00g)およびクロロ蟻酸ト
リクロロメチル(0,92111)からN−[N−(2
−(N−モルホリノカルボニル−N−メチルアミノ)エ
チル)−N−メチルアミノカルボニル −フェニルアラニンベンジルエステル(4.00g)を
得る。
Rf: 0.30 (ethyl acetate) (2) L-phenylalanine benzyl ester p-
Toluenesulfonate (7,09 g), N-morpholinocarbonyl-N,N'-dimethylethylenediamine trifluoroacetate (5,00 g) and trichloromethyl chloroformate (0,92111) to N-[N-(2
-(N-morpholinocarbonyl-N-methylamino)ethyl)-N-methylaminocarbonyl-phenylalanine benzyl ester (4.00 g) is obtained.

Rf:0.56(酢酸エチル) 11匠旦 N−[N−(2−(N−インブチリル−N−メチルアミ
ノ)エチルiNーメチルアミノカルボニル]−L−フェ
ニルアラニンベンジルエステル(2.07g)のメタノ
ール(20ai)溶液を10%パラジウム−炭素( 2
00mg )を用いて3気圧の水素ガス雰囲気中2時間
かけて水素添加した.溶液を濾過し、減圧濃縮して、N
−[N−(2−(N−インブチリル−N−メチルアミノ
)エチル)−N−メチルアミノカルボニル]−L−フェ
ニルアラニン(1.58g)を無定形粉末として得る。
Rf: 0.56 (ethyl acetate) 11 Takudan N-[N-(2-(N-inbutyryl-N-methylamino)ethyl iN-methylaminocarbonyl]-L-phenylalanine benzyl ester (2.07 g) in methanol (20ai) solution to 10% palladium-carbon (2
00mg) in a hydrogen gas atmosphere of 3 atm over 2 hours. The solution was filtered and concentrated under reduced pressure with N
-[N-(2-(N-inbutyryl-N-methylamino)ethyl)-N-methylaminocarbonyl]-L-phenylalanine (1.58 g) is obtained as an amorphous powder.

Rf:0.14 (10%メタノール−クロロホルム)
11轟旦 製造例12と同様にして下記化合物を得る。
Rf: 0.14 (10% methanol-chloroform)
11 The following compound was obtained in the same manner as in Goudan Production Example 12.

(1)  N−[N−(2−モルホリノヵルポニルエチ
ル)−N−メチルアミノカルボニル]−L−フェニルア
ラニン Rf:0.16 (10%メタノール−クロロホルム〉
(2)  N1N−(2−(N−モルホリノカルボニル
−N−メチルアミン)エチル)−N−メゾルアミノカル
ボニル アラニン Rf:0.43(クロロホルム:メタノール:酢酸, 
s : 1: 1 1 v/v)(3)  N−[2−
(N−モルホリノカルボニルル]−L−フェニルアラニ
ン Rf:0.36(クロロホルム:メタノール:酢酸.1
6: 1 : 1 、v/v) 11轟」 製造例1−(5)と同様にして下記化合物を得る。
(1) N-[N-(2-morpholinocarponylethyl)-N-methylaminocarbonyl]-L-phenylalanine Rf: 0.16 (10% methanol-chloroform>
(2) N1N-(2-(N-morpholinocarbonyl-N-methylamine)ethyl)-N-mesolaminocarbonylalanine Rf: 0.43 (chloroform:methanol:acetic acid,
s: 1: 1 1 v/v) (3) N-[2-
(N-morpholinocarbonyl)-L-phenylalanine Rf: 0.36 (chloroform:methanol:acetic acid.1
6:1:1, v/v) 11 Todoroki'' The following compound is obtained in the same manner as in Production Example 1-(5).

(1)  4−メチルスルホニルモルホリン(1.87
g)、N−hリテルーL−シクロヘキシルアラニナール
(4.09g)およびn−ブチルリチウム(7.07戚
)から4−((3S)−3−トリチルアミノ−4−シク
ロへキシル−2−ヒドロキシブチルスルホニル)モルホ
リン(2、69g)を得る。
(1) 4-methylsulfonylmorpholine (1.87
g), 4-((3S)-3-tritylamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy butylsulfonyl)morpholine (2,69 g) is obtained.

Rf : 0.28( n − ヘキサン:酢酸エチル
Rf: 0.28 (n-hexane:ethyl acetate.

2 : 1 、v/v) (2)  N−イソペンチルメタンスルホンアミド(t
t3g)、N−トリチル−L−シクロへキシルアラニナ
ール(7.8Lg)およびn−ブチルリチウム(28.
75戚)から(3S)−N−イソベンチルー3−トリチ
ルアミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシブタン
スルホンアミド(3.79g)を得る。
2:1, v/v) (2) N-isopentyl methanesulfonamide (t
t3g), N-trityl-L-cyclohexylalaninal (7.8Lg) and n-butyllithium (28.
75 relative) to obtain (3S)-N-isobenthyl-3-tritylamino-4-cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide (3.79 g).

Rf:0.86(クロロホルム:メタノール二s : 
1 1V/V) (3)N−イソブチルメタンスルホンアミド(5.68
g)、N−トリチル−L−シクロヘキシルアラニナール
( 11.94g )およびn−ブチルリチウム( 4
3.2ml)から(38)−N−インブチル−3−トリ
チルアミノ−4−シクロヘキシル−2−ヒドロキシブタ
ンスルホンアミド(5.31g)を得る。
Rf: 0.86 (chloroform:methanol 2s:
1 1V/V) (3) N-isobutyl methanesulfonamide (5.68
g), N-trityl-L-cyclohexylalaninal (11.94 g) and n-butyllithium (4
(3.2 ml) to obtain (38)-N-inbutyl-3-tritylamino-4-cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide (5.31 g).

Rf:0.54(n−へキサン:酢酸エチル。Rf: 0.54 (n-hexane: ethyl acetate.

2 : 1 、v/v) (4)N−ブチル−N−メチルメタンスルホンアミド(
4、03g)、N−トリチル−L−シクロへキシルアラ
ニナール(7.75g)およびn−ブチルリチウム( 
13,401Q )から(3S)−N−ブチル−N−メ
チル−3−トリチルアミノ−4−シクロへキシル−2−
ヒドロキシブタンスルホンアミド(7.16g)を得る
2:1, v/v) (4) N-butyl-N-methylmethanesulfonamide (
4,03g), N-trityl-L-cyclohexylalaninal (7.75g) and n-butyllithium (
13,401Q) to (3S)-N-butyl-N-methyl-3-tritylamino-4-cyclohexyl-2-
Hydroxybutanesulfonamide (7.16 g) is obtained.

Rf: 0.54( n−ヘキサン:酢酸エチル。Rf: 0.54 (n-hexane: ethyl acetate.

2 : 1 、v/v) (5)  N−(4−フェニルブチル)メタンスルホン
アミド(3.09g)、N−)リチルーし一シクロヘキ
シルアラニナール(4.50g)およびn−ブチルリチ
ウム( 15. 56dl )から(3S)−N−(4
−フェニルブチル)−3−トリチルアミノ−4−シクロ
へキシル−2−ヒドロキシブタンスルホンアミド(3.
87g)を得る。
2:1, v/v) (5) N-(4-phenylbutyl)methanesulfonamide (3.09 g), N-)lithyl monocyclohexylalaninal (4.50 g) and n-butyllithium (15. 56dl) to (3S)-N-(4
-phenylbutyl)-3-tritylamino-4-cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide (3.
87 g) is obtained.

Rf:0.88(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.88 (chloroform:methanol.

9 : 1 1V/V) (6)  N−(2−モルホリノエチル)メタンスルホ
ンアミド(2.69g)、N−トリチル−し−シクロへ
キシルアラニナール(4.28g)オよびn−ブチルリ
チウム(15.5飢)から(3S)−N−(2−モルホ
リノエチル)−3−トリチルアミノ−4−シクロヘキシ
ル−2−ヒドロキシブタンスルホンアミド(3.53g
)を得る。
9:1 1V/V) (6) N-(2-morpholinoethyl)methanesulfonamide (2.69 g), N-trityl-cyclohexylalaninal (4.28 g) and n-butyllithium ( (3S)-N-(2-morpholinoethyl)-3-tritylamino-4-cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide (3.53 g
).

Rf : 0.35( n−へキサン:酢酸エチル。Rf: 0.35 (n-hexane: ethyl acetate.

1: 1 1 v/v) 11λ長 製造例3と同様にして下記化合物を得る。1: 1 1 v/v) 11λ length The following compound is obtained in the same manner as in Production Example 3.

(1)  (33)−N−ブチル−N−メチル−3−ア
ミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシブタンスル
ホンアミド 融点. 6ロー67、 5℃ HfHO.32(クロロホルム:メタノール。
(1) (33)-N-Butyl-N-methyl-3-amino-4-cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide melting point. 6 low 67, 5℃ HfHO. 32 (chloroform: methanol.

9  :  1  、v/v) (2)  4−((3S)−3−アミノ−4−シクロへ
キシル−2−ヒドロキシブチルスルホニル)モルホリン 融点: 88−90℃ Rf:0.13(クロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) (2) 4-((3S)-3-amino-4-cyclohexyl-2-hydroxybutylsulfonyl)morpholine Melting point: 88-90°C Rf: 0.13 (chloroform:methanol .

9 : 1 、v/v) (3)  (3S)−N−イソペンデル−3−アミノ−
4−シクロへキシル−2−ヒドロキシブタンスルホンア
ミド 融点: 117.5−119.5℃ Rf:0.15(クロロホルム;メタノール。
9:1, v/v) (3) (3S)-N-isopendel-3-amino-
4-Cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide Melting point: 117.5-119.5°C Rf: 0.15 (chloroform; methanol.

9 : 1 、v/v) (4)(3S)−N−インブチル−3−アミノ−4−シ
クロへキシル−2−ヒドロキシブタンスルホンアミド 融点: 119.5−121.5℃ Rf二0.27(クロロホルム:メタノ−Jし。
9:1, v/v) (4)(3S)-N-Inbutyl-3-amino-4-cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide Melting point: 119.5-121.5°C Rf2 0.27 (Chloroform: Methanol-J.

9 : 1 、v/v) (5)  (3S)−N−(4−フェニルブチル)−3
−アミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシブタン
スルホンアミド 融点: 104−105℃ Rf:0.17(クロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) (5) (3S)-N-(4-phenylbutyl)-3
-Amino-4-cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide Melting point: 104-105°C Rf: 0.17 (chloroform:methanol.

9: 11 v/v) (6)  (3S)−N−(2−モルホリノエチル)−
3−アミノ−4−シクロヘキシル−2−ヒドロキシブタ
ンスルホンアミド Rf:0.33(クロロホルム:メタノール、酢酸、1
0:1:1.v/v) kJ」1■ 製造例5と同様にして下記化合物を得る。
9: 11 v/v) (6) (3S)-N-(2-morpholinoethyl)-
3-Amino-4-cyclohexyl-2-hydroxybutanesulfonamide Rf: 0.33 (chloroform: methanol, acetic acid, 1
0:1:1. v/v) kJ''1■ The following compound is obtained in the same manner as in Production Example 5.

(1)(2R,3S)−3−(Na−gEi−/トキシ
カルボニルーNa−メチル−N tl″−トシル−L−
ヒスチジル)アミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロ
キシ−1−モルホリノスルホニルブタン Rf:0.57(クロロホルム:メタノール。
(1) (2R,3S)-3-(Na-gEi-/Toxycarbonyl-Na-methyl-N tl''-tosyl-L-
histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-morpholinosulfonylbutane Rf: 0.57 (chloroform:methanol.

9 : 11V/V) (2)(2R,3S)−3−(Na、J三級−ブトキシ
カルボニル−N −メチル−Nl11−トシル−L−ヒ
スデジル)アミノ−4−シクロヘキシル−2−ヒドロキ
シ−1−イソブチルアミンスルホニルブタン Rf:0.68Cクロロホルム:メタノール。
9: 11V/V) (2) (2R,3S)-3-(Na,J tertiary-butoxycarbonyl-N-methyl-Nl11-tosyl-L-hisdecyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1 -isobutylaminesulfonylbutane Rf: 0.68C chloroform: methanol.

9 : 1 、v/v) (3)(33)−3−(Na−gEi−ブト+ジカルボ
ニルーNa−メチル−Ni札トシル−L−ヒスチジル)
アミノ−4−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−1−イ
ソペンチルアミノスルホニルブタン Rf:0.66(クロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) (3)(33)-3-(Na-gEi-but+dicarbonyl-Na-methyl-Ni-tagtosyl-L-histidyl)
Amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isopentylaminosulfonylbutane Rf: 0.66 (chloroform:methanol.

9 二 1.v/v) (4)(2R,3S)−3−(N  −第三級−ブトキ
シカルボニル−N −メチル−N1″l−トシル−L−
ヒスチジル)アミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロ
キシ−1−(N−ブチル−N−メゾルアミノスルホニル
)ブタンRf:0.66(クロロホルム:メタノール。
9 two 1. v/v) (4) (2R,3S)-3-(N-tertiary-butoxycarbonyl-N-methyl-N1″l-tosyl-L-
histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N-butyl-N-mesolaminosulfonyl)butane Rf: 0.66 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) (5)(2R,3S)−3−[Na−第三m−/α − トキシカルボニルーN  メチル−3−(4−チアゾリ
ル)−L−アシエルコアミノ−4−シクロへキシル−2
−ヒドロキシ−1−イソペンチルアミノスルホニルブタ
ン Rf二O,60(クロロホルム:メタノール9: t 
+ v/v) (6)(3S)−3−(Na−第E級ー/ト+ジカルボ
ニルーNa−メチル−N 111− トシル−L−ヒス
チジル)アミノ−4−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ
−1−(4−フェニルブチルアミノスルホニル)ブタン Rf:0.52Cクロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) (5) (2R,3S)-3-[Na-tertiary m-/α-toxycarbonyl-N methyl-3-(4-thiazolyl)-L-acyelcoamino-4 -cyclohexyl-2
-Hydroxy-1-isopentylaminosulfonylbutane Rf2O,60 (chloroform: methanol 9: t
+ v/v) (6) (3S)-3-(Na-E class-/t+dicarbonyl-Na-methyl-N 111-tosyl-L-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1- (4-phenylbutylaminosulfonyl)butane Rf: 0.52C chloroform: methanol.

9 : 1 1V/V) (7)(3S)−3−(Na−gE&l−プ)*ジカル
ボニルーN −メチル−N i″1++ トシルα 一Lーヒスデジル)アミノ−4−シクロヘキシル−2−
ヒドロキシ−1−(2−モルホリノエテルアミノスルホ
ニル)ブタン Rf:0.67(クロロホルム:メタノール。
9: 1 1V/V) (7) (3S)-3-(Na-gE&l-p)*dicarbonyl-N-methyl-N i″1++ tosyl α 1L-hisdecyl)amino-4-cyclohexyl-2-
Hydroxy-1-(2-morpholinoetheraminosulfonyl)butane Rf: 0.67 (chloroform:methanol.

1o :  1 * v/v) 袈jLLげ 製造例7と同様にして下記化合物を得る。1o: 1 * v/v) kesa jLL get The following compound is obtained in the same manner as in Production Example 7.

(1)(2R,3S)−3−(N  −メチル−N i
m −トシル−し−ヒスデジル)アミノ−4−シクロへ
キシル−2−ヒドロキシ−1−モルホリノスルホニルブ
タン Rf:0.41(クロロホルム:メタノール。
(1) (2R,3S)-3-(N-methyl-N i
m-tosyl-histedyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-morpholinosulfonylbutane Rf: 0.41 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) (2)  (3S)−3−(Na−1fル−Nimトシ
ルーL−ヒスデジル)アミノ−4−シクロへキシル−2
−ヒドロキシ−1−イソペンチルアミノスルホニルブタ
ン Rf:0.50(クロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) (2) (3S)-3-(Na-1f-Nim-tosyl-L-hisdecyl)amino-4-cyclohexyl-2
-Hydroxy-1-isopentylaminosulfonylbutane Rf: 0.50 (chloroform:methanol.

9:1.v/v) (3)(2R,3S)−3−(Na−メfルーN1ff
1−トシルーL−ヒスチジル)アミノ−4−シクロヘキ
シル−2−ヒドロキシ−1−イソブチルアミノスルホニ
ルブタン Rf:0.3g(クロロホルム:メタノール。
9:1. v/v) (3) (2R,3S)-3-(Na-Mel N1ff
1-Tosyl-L-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isobutylaminosulfonylbutane Rf: 0.3 g (chloroform:methanol.

9  :  1  、v/v) (4)(2R,3S)−3−(Na−メチル−N11−
トシル−し−ヒスチジル)アミノ−4−シクロヘキシル
−2−ヒドロキシ−1−(N−ブチル−N−メチルアミ
ノスルホニル)ブタン Rf:0.48(クロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) (4)(2R,3S)-3-(Na-methyl-N11-
Tosyl-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N-butyl-N-methylaminosulfonyl)butane Rf: 0.48 (chloroform:methanol.

9 : 11V/V) (5)(2R,3S) −3−[Na−1fルー3−(
4−チアゾリル)−L−アシエルコアミノ−4−シクロ
へキシル−2−ヒドロキシ−1−イソプロとルアミノス
ルホニルブタンRf:0.37(クロロホルム:メタノ
ール。
9: 11V/V) (5) (2R, 3S) -3-[Na-1f Roux 3-(
4-thiazolyl)-L-acyelcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isopro and ruaminosulfonylbutane Rf: 0.37 (chloroform:methanol.

9 : 11V/V) (6)(2S、3S)−3−(N”−メfルーN1″′
−トシルーL−ヒスチジル)アミノ−4−シクロへキシ
ル−2−ヒドロキシ−1−(N、N−ジメチルアミノス
ルホニル)ブタン Rf:o、22cクロロホルム:メタノール。
9: 11V/V) (6) (2S, 3S)-3-(N"-Mef N1"'
-tosyl-L-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N,N-dimethylaminosulfonyl)butane Rf:o,22c Chloroform:methanol.

9  :  1  、v/v) (7)  (38)−3−(Na−メfルーN”トシル
−し−ヒスチジル)アミノ−4−シクロへキシル−2−
ヒドロキシ−1−(4−フェニルブチルアミンスルホニ
ル)ブタンRf:0.34(クロロホルム:メタノール
9:1, v/v) (7) (38)-3-(Na-Mef-N"tosyl-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-
Hydroxy-1-(4-phenylbutylaminesulfonyl)butane Rf: 0.34 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) (8)  (3S)−3−(Na−メチル−N”トシル
−L−ヒスチジル)アミノ−4−シクロへキシル−2−
ヒドロキシ−1−(2−モルホリノエテルアミノスルホ
ニル)ブタンRf:0.30(クロロホルム:メタノー
ル。
9:1, v/v) (8) (3S)-3-(Na-methyl-N"tosyl-L-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-
Hydroxy-1-(2-morpholinoetheraminosulfonyl)butane Rf: 0.30 (chloroform:methanol.

lO:1.v/v) 11λ長 (1)3−メトキシカルボニルプロピ才二ルクロライド
(9,03g )、モルホリン(5,75g)およびト
リエチルアミン(9,2111)から3−モルホリノカ
ルボニルプロピオン酸メチル(12,59g )を得る
lO:1. v/v) 11λ length (1) Methyl 3-morpholinocarbonylpropionate (12,59 g) from 3-methoxycarbonylpropylene chloride (9,03 g), morpholine (5,75 g) and triethylamine (9,2111) get.

Rf:0.37(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.37 (chloroform:methanol.

9  :  1 1V/V) (2)  3−モルホリノカルボニルプロピオン酸メチ
ル(12,52K )のメタノール(160111+ 
)溶液とIN水酸化ナトリウム水溶液(93,3m1)
の混合物を室温で1時間攪拌する。メタノールを留去し
、残留するアルカリ性水溶液を6N塩酸で酸性とし、酢
酸エテル(120鶴X3)で抽出する。抽出物を合わせ
、食塩水(3001d )で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧濃縮して、3−モルホリノカルボニルプ
ロピオン酸(9,27g)を油状物として得る。
9: 1 1V/V) (2) Methyl 3-morpholinocarbonylpropionate (12,52K) in methanol (160111+
) solution and IN sodium hydroxide aqueous solution (93.3ml)
The mixture is stirred at room temperature for 1 hour. Methanol is distilled off, and the remaining alkaline aqueous solution is made acidic with 6N hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate (120 Tsuru x 3). The extracts are combined, washed with brine (3001d), dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give 3-morpholinocarbonylpropionic acid (9.27 g) as an oil.

Rf:0.62(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.62 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) 11λ長 <1)  4− (N−第三級−ブトキシカルボニルア
ミノ)酪酸(20,32g )の乾燥N、N−ジメチル
ホルムアミド(200111Q )溶液に水素化ナトリ
ウム(鉱油中60%分散液、16.oK )および沃化
メチル(49,81119)を窒素雰囲気下O°Cで加
え、混合物を室温で16時間攪拌する。
9:1, v/v) 11λ length<1) A solution of 4-(N-tertiary-butoxycarbonylamino)butyric acid (20.32 g) in dry N,N-dimethylformamide (200111Q) with sodium hydride (mineral oil) A 60% dispersion in 16.oK ) and methyl iodide (49,81119) are added at 0° C. under a nitrogen atmosphere and the mixture is stirred at room temperature for 16 hours.

溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル(5001M )と水
(500m1l )との間で分配する。有機層を0.5
N塩酸(500!all )、水(500m1! )、
飽和度酸水素ナトリウム水溶液(500m11 )、水
(500III11)および食塩水< 5001111
 )で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃
縮する。
The solvent is evaporated and the residue is partitioned between ethyl acetate (5001M) and water (500ml). organic layer to 0.5
N hydrochloric acid (500!all), water (500ml!),
Saturated sodium hydrogen oxide aqueous solution (500ml), water (500III11) and saline <5001111
), dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure.

残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離溶媒
:8−67%酢酸エチル−n−ヘキサン)で精製して、
4−(N−第三級−ブトキシカルボニル−N−メチルア
ミノ)酪酸メチル(16,t6g )を油状物として得
る。
The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: 8-67% ethyl acetate-n-hexane),
Methyl 4-(N-tertiary-butoxycarbonyl-N-methylamino)butyrate (16,6 g) is obtained as an oil.

Rf : 0.55(n −ヘキサン:酢酸エチル。Rf: 0.55 (n-hexane: ethyl acetate.

2 : 11V/V) (2)  4− (N−第三級−ブトキシカルボニル−
N−メチルアミン)酪酸エチル(7,755g)のトリ
フルオロ酢酸(78+1112 )溶液を室温で30分
間攪拌する。溶媒を留去し、残渣をクロロホルム933
%メタノール(500111X3)と飽和炭酸水素ナト
リウム溶液(6001Q )との間で分配する。有機層
を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣をク
ロロホルム(500+1111 )に溶解する。溶液を
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して、4−(N−
メチルアミノ)酪酸メチル(1,98g)を油状物とし
て得る。
2: 11V/V) (2) 4- (N-tertiary-butoxycarbonyl-
A solution of ethyl (N-methylamine)butyrate (7,755 g) in trifluoroacetic acid (78+1112) is stirred at room temperature for 30 minutes. The solvent was distilled off and the residue was dissolved in chloroform933
% methanol (500111X3) and saturated sodium bicarbonate solution (6001Q). The organic layer is dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue is dissolved in chloroform (500+1111). The solution was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure to give 4-(N-
Methyl methylamino)butyrate (1.98 g) is obtained as an oil.

Rf:0.18(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.18 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) (3)  製造例9−(1)と同様にして4−(N−モ
ルホリノカルボニル−N−メチルアミン)醋酸メチルを
得る。
9:1, v/v) (3) Methyl 4-(N-morpholinocarbonyl-N-methylamine) acetate is obtained in the same manner as in Production Example 9-(1).

Rf:0.48(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.48 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) (4)製造例1g−(2)と同様にして4−(N−モル
ホリノカルボニル− 酪酸を得る。
9:1, v/v) (4) 4-(N-morpholinocarbonyl-butyric acid is obtained in the same manner as in Production Example 1g-(2).

Rf:0.16(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.16 (chloroform:methanol.

9:1,v/v) Ki亘ユ N−[N−(2−(N−モルホリノカルボニル−N−メ
チルアミノ)エチル)−N−メチルアミノカルボニル]
−L−フェニルアラニン(140mg)および(2 S
.3 S)− 2 −m− (Na−メチル−N  トシル−L−ヒスチジル)アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−エチル
ヘブタン(190mg)の乾燥塩化メチレン( 201
Q )溶液を0℃に冷却し、これにN−エチル−N’−
(3−ジエチルアミノブロピル)カルボジイミド塩酸塩
(82mg)を加える.fli合物を同温で2時間、次
いで5℃で一夜攪拌する.溶媒を留去し、残渣を酢酸エ
チル( 20111 ”)に溶解する.溶液を5%塩酸
、1M炭酸水素ナトリウム溶液および食塩水で順次洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して、(2 S
.3 S)− 2 −α− [N   [N−[N−メチル−N−(2−(N−モル
ホリノカルボニル−N−メチルアミノ)エチル)アミノ
カルボニル]−L−フェニルアラニル]−Na−メチル
−N111トシル−L−ヒスチジルコアミノ−1−シク
ロへキシル−3−ヒドロキシ−6−メチルへブタンを得
る.残渣をN.N−ジエチルホルムアミド( 201d
 )に溶解し、この溶液にピリジン塩酸塩(401mg
)を室温で加える.混合物を同温で2時間攪拌する.溶
媒を留去し、残渣を酢酸エチル( 20戚)に溶解する
.溶液を食塩水、1M炭酸水素ナトリウム溶液および食
塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃
縮する.残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ク
ロロホルム:メタノール、9 : 1、v/v)で精製
して、(2S。
9:1, v/v) Ki Wataru N-[N-(2-(N-morpholinocarbonyl-N-methylamino)ethyl)-N-methylaminocarbonyl]
-L-phenylalanine (140 mg) and (2S
.. 3S)-2-m-(Na-methyl-N-tosyl-L-histidyl)amino-1-cyclohexyl-3-hydroxy-6-ethylhebutane (190 mg) in dry methylene chloride (201
Q) Cool the solution to 0°C and add N-ethyl-N'-
Add (3-diethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride (82 mg). The fli mixture was stirred at the same temperature for 2 hours and then at 5°C overnight. The solvent was evaporated and the residue was dissolved in ethyl acetate (20111''). The solution was washed successively with 5% hydrochloric acid, 1M sodium bicarbonate solution and brine, dried over sodium sulfate and concentrated under reduced pressure to give (20111''). S
.. 3S)-2-α- [N [N-[N-methyl-N-(2-(N-morpholinocarbonyl-N-methylamino)ethyl)aminocarbonyl]-L-phenylalanyl]-Na-methyl -N111Tosyl-L-histidylcoamino-1-cyclohexyl-3-hydroxy-6-methylhebutane is obtained. The residue is N. N-diethylformamide (201d
), and to this solution was added pyridine hydrochloride (401 mg
) at room temperature. Stir the mixture at the same temperature for 2 hours. The solvent was distilled off and the residue was dissolved in ethyl acetate (20%). The solution is washed successively with brine, 1M sodium bicarbonate solution, and brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel thin layer chromatography (chloroform:methanol, 9:1, v/v) (2S.

3 S) − 2 − C Na− [ N − [ 
N−ylfルーN−(2−(N−モルホリノカルボニル
−N−メチルアミノ)エチル)アミノカルボニルコーL
ーフェニルアラニル]−Na−メチル−L−ヒスチジル
コアミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−
メチルへブタン( 203a+g)を無定形粉末として
得る。
3 S) - 2 - C Na- [ N - [
N-ylf-N-(2-(N-morpholinocarbonyl-N-methylamino)ethyl)aminocarbonyl-L
-phenylalanyl]-Na-methyl-L-histidylcoamino-1-cyclohexyl-3-hydroxy-6-
Methylhebutane (203a+g) is obtained as an amorphous powder.

融点: 89−92℃ Rf: 0.51(10%メタノール−クロロホルム)
衷〕1艷遣 N−[N−(2−(N−イソブチリル−N−メチルアミ
ン)エチル)−N−メチルアミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニン(230,6mg )と(2R,3S)
−3−(N  −メチル−N 1ffl)−シルーL−
ヒスチジル)アミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロ
キシ−1−(N、N−ジメチルアミノスルホニル)ブタ
ン(350mg )の乾燥塩化メチレン(10−)溶液
を0°Cに冷却し、これにN−エチル−N’  −(3
−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(1
38mg)を加える。W1合物を5℃で2時間攪拌する
。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル(301d )に溶
解する。
Melting point: 89-92°C Rf: 0.51 (10% methanol-chloroform)
1) N-[N-(2-(N-isobutyryl-N-methylamine)ethyl)-N-methylaminocarbonyl]-L-phenylalanine (230.6 mg) and (2R,3S)
-3-(N-methyl-N 1ffl)-silu L-
A solution of dry methylene chloride (10-) of histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N,N-dimethylaminosulfonyl)butane (350 mg) was cooled to 0°C and added with N- Ethyl-N'-(3
-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride (1
38 mg). The W1 compound is stirred at 5° C. for 2 hours. The solvent is evaporated and the residue is dissolved in ethyl acetate (301d).

溶液を5%塩酸、I Mll、M水素ナトリウム溶液お
よび水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
濃縮して、(2R,3S)−3α− −[N   [N−[N−(2−(N−インブチリル−
N−メチルアミン)エチル)−N−メチルアミノカルボ
ニル]−L−フェニルアラニルコーN(2−メチル−N
 im−トシル−L−ヒスチジルコアミノ−4−シクロ
へキシル−2−ヒドロキシ−1−(N、N−ジメチルア
ミノスルホニル)ブタンを得る。残渣をN、N−ジメチ
ルホルムアミド(1ornQ)に溶解し、この溶液にピ
リジン塩酸塩(693mg )を室温で加える。混合物
を同温で2時間攪拌する。溶媒を留去し、残渣を酢酸エ
チル(30mi)に溶解し、溶液をIM*酸水素ナトリ
ウム水溶液および水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルりロマトグラ
フィー(2,5%メタノール−クロロホルム)で精製し
て、(2R。
The solution was washed sequentially with 5% hydrochloric acid, 1 Mll, M sodium hydrogen solution, and water, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give (2R,3S)-3α--[N [N-[N-(2 -(N-inbutyryl-
N-methylamine)ethyl)-N-methylaminocarbonyl]-L-phenylalanylcoN(2-methyl-N
im-tosyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N,N-dimethylaminosulfonyl)butane is obtained. The residue is dissolved in N,N-dimethylformamide (1ornQ) and pyridine hydrochloride (693 mg) is added to this solution at room temperature. The mixture is stirred at the same temperature for 2 hours. The solvent was distilled off, the residue was dissolved in ethyl acetate (30 mi), and the solution was washed successively with IM* sodium hydrogen oxide aqueous solution and water, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography (2.5% methanol-chloroform) (2R.

α− 3S)−3−[N   [N−[N−(2−(N−イソ
ブチリル−N−メチルアミン)エチル)−N−メチルア
ミノカルボニル]−L−フェニルアラニル]−Na−メ
チル−I、−ヒスチジルコアミノ−4−シクロへキシル
−2−ヒドロキシ−1−(N、N−ジメチルアミノスル
ホニル)ブタン(427eag)を得る。
α-3S)-3-[N [N-[N-(2-(N-isobutyryl-N-methylamine)ethyl)-N-methylaminocarbonyl]-L-phenylalanyl]-Na-methyl-I , -histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N,N-dimethylaminosulfonyl)butane (427eag) is obtained.

Rf : 0.39(10%メタノール−クロロホルム
)IL亘ユ 実施例1または2と同様にして下記化合物を得る。
Rf: 0.39 (10% methanol-chloroform) IL Wataru The following compound is obtained in the same manner as in Example 1 or 2.

α− (1)  (2R,3S)−3−[N   [N−(N
−(2−モルホリノカルボニルエチル)−N−メゾルア
ミノカルボニル)−L−yエニルアラニル]−NC1−
メチル−L−ヒスチジルコアミノ−4−シクロへキシル
−2−ヒドロキシ−1−(N、N−ジメチルアミノスル
ホニル)ブタン Rf : 0.44(10%メタノール−クロロホルム
〉α− (2)(2R,3S)−3−[N   [N−[N−メ
チル−N−(2−(N−モルホリノカルボニル−N−メ
チルアミノ)エチル)アミノカルボニル]−L−フェニ
ルアラニル]−Na−メチル−L−ヒスチジルコアミノ
−4−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−1−イソプロ
とルアミノスルホニルブタン 融点、 89−95℃ Rf:0.26(クロロホルム:メタノール。
α- (1) (2R,3S)-3-[N [N-(N
-(2-morpholinocarbonylethyl)-N-mesolaminocarbonyl)-Lyenylalanyl]-NC1-
Methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N,N-dimethylaminosulfonyl)butane Rf: 0.44 (10% methanol-chloroform>α- (2) (2R ,3S)-3-[N [N-[N-methyl-N-(2-(N-morpholinocarbonyl-N-methylamino)ethyl)aminocarbonyl]-L-phenylalanyl]-Na-methyl-L -Histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isopro and ruaminosulfonylbutane Melting point, 89-95°C Rf: 0.26 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) α− (3)(2R,3S)−3−[N   [N−(2−(
N−モルホリノカルボニル−N−メチルアミノ)エトキ
シカルボニル)−L−フェニルアラニル]−N a−メ
チル−L−ヒスチジルコアミノ−4−シクロヘキシル−
2−ヒドロキシ−1−イソプロピルアミンスルホニルブ
タン 融点: 89−98°C Rf:0.26(クロロホルム:メタノール。
9: 1, v/v) α- (3) (2R,3S)-3-[N [N-(2-(
N-morpholinocarbonyl-N-methylamino)ethoxycarbonyl)-L-phenylalanyl]-Na-methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-
2-Hydroxy-1-isopropylaminesulfonylbutane Melting point: 89-98°C Rf: 0.26 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) α− (4)  (2R,3S)−3−[N   [N−[N
−メメチーN−(2−(N−モルホリノカルボニル− カルボニル]−L−フェニルアラニル]−Na−メチル
−L−ヒスチジルコアミノ−4−シクロヘキシル−2−
ヒドロキシ−1−( N.N−ジメチルアミノスルホニ
ル)ブタン 融点: 103−107℃ Rf:0.30(クロロホルム:メタノール。
9 : 1, v/v) α- (4) (2R,3S)-3-[N [N-[N
-MemethyN-(2-(N-morpholinocarbonyl-carbonyl)-L-phenylalanyl]-Na-methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-
Hydroxy-1-(N.N-dimethylaminosulfonyl)butane Melting point: 103-107°C Rf: 0.30 (chloroform:methanol.

9  :  1  、v/v) α− (5)(2R,33)−3−[N   [N−[N−メ
チル−N−(2−(N−モルホリノカルボニル− カルボニル]−L−フェニルアラニル]−Na−メチル
−L−ヒスチジルコアミノ−4シクロへキシル−2−ヒ
ドロキシ−1−ピペリジノスルホニルブタン 融点: 89−93℃ Rf:0.32(クロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) α-(5)(2R,33)-3-[N[N-[N-methyl-N-(2-(N-morpholinocarbonyl-carbonyl)]-L-phenylalanyl ]-Na-methyl-L-histidylcoamino-4cyclohexyl-2-hydroxy-1-piperidinosulfonylbutane Melting point: 89-93°C Rf: 0.32 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) α− (6)  (2R.3S)−3−[N   [N−[N
−メチル−N−(2−(N−モルホリノカルボニル−N
−メゾルアミノ)エチル)アミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニル]−Na−メチル−3−(4−チアゾリ
ル)−Lーアラニル]アミノ−4−シクロヘキシル−2
−ヒドロキシ−1−イソプロピルアミノスルホニルブタ
ン 融点: 74−80℃ Rf:0.46(クロロホルム:メタノール。
9 : 1, v/v) α- (6) (2R.3S)-3-[N [N-[N
-Methyl-N-(2-(N-morpholinocarbonyl-N
-Mesolamino)ethyl)aminocarbonyl]-L-phenylalanyl]-Na-methyl-3-(4-thiazolyl)-L-alanyl]amino-4-cyclohexyl-2
-Hydroxy-1-isopropylaminosulfonylbutane Melting point: 74-80°C Rf: 0.46 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) α− <7)(2S.3S)−3−[N   [(S)−2−
 [ N− ( 2−(N−インブチリル−N−メチル
アミノ)エチル)−N−メチルアミンカルボニルオキシ
]−3−フェニルプロピオニル]−N  −メチル−L
−ヒスチジルコアミノ−4−シクロへキシル−2−ヒド
ロキシ−1−CN.N−ジメチルアミノスルホニル)ブ
タン 融点: 79−86℃ Rf:0.34(クロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) α- <7) (2S.3S)-3-[N [(S)-2-
[N-(2-(N-inbutyryl-N-methylamino)ethyl)-N-methylaminecarbonyloxy]-3-phenylpropionyl]-N-methyl-L
-Histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-CN. N-dimethylaminosulfonyl)butane Melting point: 79-86°C Rf: 0.34 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) α− (s)(zR.ss)−s−[i   [(S)−2−
(N−メチル−N−(2−モルホリノカルボニルエチル
)アミノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオニ
ル]−Nα−メチル−L−ヒスチジルコアミノ−4−シ
クロヘキシル−2−ヒドロキシ−1−(N,N−ジメチ
ルアミノスルホニル)ブタン 融点: 73−79℃ Rf:0.31(クロロホルム:メタノール。
9 : 1, v/v) α- (s) (zR.ss)-s-[i [(S)-2-
(N-methyl-N-(2-morpholinocarbonylethyl)aminocarbonyloxy)-3-phenylpropionyl]-Nα-methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N,N -dimethylaminosulfonyl)butane Melting point: 73-79°C Rf: 0.31 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) α− (9)(2R.3S)−3−[N   [(S)−2−
[N−(2−(N−インブチリル−N−メチルアミン)
エチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−
7エニルブロピオニル]− NCl−メチル−L−ヒス
チジルコアミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシ
−1−モルホリノスルホニルブタン 融点: 74−80℃ Rf:0.32Cクロロホルム:メタノール。
9: 1, v/v) α- (9) (2R.3S)-3-[N [(S)-2-
[N-(2-(N-inbutyryl-N-methylamine)
ethyl)-N-methylaminocarbonyloxy]-3-
7enylpropionyl]-NCl-methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-morpholinosulfonylbutane Melting point: 74-80°C Rf: 0.32C Chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) α− (10)(2R,3S)−3−[N   [(S)−2
−[N−(2−(N−インブチリル−N−メチルアミン
)エチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオニルコーNaーメゾルーし一ヒスデ
ジル]アミノー4ーシクロヘキシル−2−ヒドロキシ−
1−インプロピルアミンスルホニルブタン融点: 85
−91℃ Rf:0.34(クロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) α-(10)(2R,3S)-3-[N[(S)-2
-[N-(2-(N-inbutyryl-N-methylamine)ethyl)-N-methylaminocarbonyloxy]-3
-phenylpropionyl-Na-mesol-monohedyl]amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-
1-Inpropylaminesulfonylbutane Melting point: 85
-91°C Rf: 0.34 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) α− (11)(2R,3S)−3−[N   [(S)−2
−CN−(2−CN−モルホリノカルボニル−N−メチ
ルアミン)エチル)−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ]−3−フエニルゾα− ロピ才二ル]−N   メチル−L−ヒスチジルコアミ
ノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシ−1−( N
,N−ジメチルアミノスルホニル)ブタン 融点: 74−81℃ Rf:0.31(クロロホルム:メタノール。
9 : 1, v/v) α- (11) (2R,3S)-3-[N [(S)-2
-CN-(2-CN-morpholinocarbonyl-N-methylamine)ethyl)-N-methylaminocarbonyloxy]-3-phenylzoα-ropyridyl]-N methyl-L-histidylcoamino-4- cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N
, N-dimethylaminosulfonyl)butane Melting point: 74-81°C Rf: 0.31 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) (12)(2R.3S)−3−[N    −[(S)
−2−[N−(2−[N−モルホリノカルボニル−N−
メチルアミノ)エテル)−N−メチルアミノカルボニル
オキシ]−3−フェニルブロピオニル]−N −メチル
−し−ヒスチジルコアミノ−4−シクロへキシル−2−
ヒドロキシ−1−イソプロピルアミノスルホニルブタン 融点: 86−92℃ Rf:0.30(クロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) (12)(2R.3S)-3-[N-[(S)
-2-[N-(2-[N-morpholinocarbonyl-N-
methylamino)ether)-N-methylaminocarbonyloxy]-3-phenylbropionyl]-N-methyl-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-
Hydroxy-1-isopropylaminosulfonylbutane Melting point: 86-92°C Rf: 0.30 (chloroform:methanol.

9: t + v/v) <13>(2R,3S)−3−[Na−[(S)−2−
[N−(2−(N−インブチリル−N−メゾルアミノ)
エチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−
フェニルプロピオニル]−N Ci−メチル−L−ヒス
デジルコアミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシ
−1−(N−ブチル−N−メチルアミノスルホニル)ブ
タン 融点:63−68.5℃ Rf:0.32(クロロホルム:メタノール。
9: t + v/v) <13>(2R,3S)-3-[Na-[(S)-2-
[N-(2-(N-inbutyryl-N-mesolamino)
ethyl)-N-methylaminocarbonyloxy]-3-
phenylpropionyl]-N Ci-methyl-L-hisdedylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N-butyl-N-methylaminosulfonyl)butane Melting point: 63-68.5°C Rf: 0.32 (chloroform:methanol.

9 、1 、V/V) (14)(2R,35)−3−[Na−[(S)−2−
[N−(2−(N−インブチリル−N−メチルアミン)
エチル1−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−
フェニルプロピオニル]+ N C1−メチル−L−ヒ
スチジルコアミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキ
シ−1−イソペンチルアミノスルホニルブタン融点: 
83−90℃ Rf70.35Cクロロホルム:メタノール。
9,1,V/V) (14)(2R,35)-3-[Na-[(S)-2-
[N-(2-(N-inbutyryl-N-methylamine)
Ethyl 1-N-methylaminocarbonyloxy]-3-
phenylpropionyl] + N C1-Methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isopentylaminosulfonylbutane Melting point:
83-90°C Rf70.35C Chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) α− (15)(2R,3S)−3−[N   [(S)−2
−[N−(2−(N−イソブチリル−N−メチルアミノ
)エチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオニル]+ N (X−メチル−し−
ヒスチジルコアミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロ
キシ−1−イソブチルアミノスルホニルブタン融点: 
90−97℃ Rf:0.28Cクロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) α- (15) (2R,3S)-3-[N [(S)-2
-[N-(2-(N-isobutyryl-N-methylamino)ethyl)-N-methylaminocarbonyloxy]-3
-phenylpropionyl] + N (X-methyl-
Histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isobutylaminosulfonylbutane Melting point:
90-97°C Rf: 0.28C Chloroform: Methanol.

9 : 1 、v/v) (16)(2R,aS)−3−[Na−[N−[N−メ
ゾルーN−(2−(N−モルホリノカルボニル−N−メ
チルアミン)エチル)アミノカルボニル]−L−フェニ
ルアラニル]−Na−メチル−L−ヒスチジルコアミノ
−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシ−1−イソブチ
ルアミノスルホニルブタン 融点: 93−100℃ Rf:0.20(クロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) (16)(2R,aS)-3-[Na-[N-[N-mesol-N-(2-(N-morpholinocarbonyl-N-methylamine)ethyl)aminocarbonyl] -L-phenylalanyl]-Na-methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isobutylaminosulfonylbutane Melting point: 93-100°C Rf: 0.20 (chloroform: methanol .

9 : 1 、v/v) α− (17)(2R,3S)−3−[N   [N−[N−
(2−(N−インブチリル−N−メチルアミン)エチル
)−N−メチルアミノカルボニル]−L−フェニルアラ
ニル]−N(Z−メチル−し−ヒスチジルコアミノ−4
−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−1−(N−ブチル
−N−メチルアミノスルホニル)ブタン融点: 64−
70.5℃ Rf:0131(/Fフロロルム:メタノール。
9:1, v/v) α- (17)(2R,3S)-3-[N [N-[N-
(2-(N-inbutyryl-N-methylamine)ethyl)-N-methylaminocarbonyl]-L-phenylalanyl]-N(Z-methyl-histidylcoamino-4
-Cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N-butyl-N-methylaminosulfonyl)butane Melting point: 64-
70.5°C Rf: 0131 (/F Fluororum: Methanol.

9 : 1 、v/v) α− (18)(2R,3S)−3−IN   [(S)−2
−[N−(5−(N−モルホリノカルボニル−ルアミノ
カルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオニル]−N
  −メチル−L−ヒスチジルコアミノ−4−シクロヘ
キシル−2−ヒドロキシ−1−( N.N−ジメチルア
ミノスルホニル)ブタン 融点: 67−70℃ Rf:0.32(クロロホルム:メタノール。
9:1, v/v) α- (18) (2R,3S)-3-IN [(S)-2
-[N-(5-(N-morpholinocarbonyl-laminocarbonyloxy]-3-phenylpropionyl]-N
-Methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N.N-dimethylaminosulfonyl)butane Melting point: 67-70°C Rf: 0.32 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) α− (19)(2R.3S)−3−[N   [(S)−2
−[: N− ( 2−(N−モルホリノカルボニル−
アミンカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオニル
]−N −メチル−L−ヒスチジルコアミノ−4−シク
ロヘキシル−2−ヒドロキシ−1−ピペリジノスルホニ
ルブタン融点: 70−76℃ Rf:0.21(クロロホルム:メタノール。
9: 1, v/v) α- (19) (2R.3S)-3-[N [(S)-2
-[: N- (2-(N-morpholinocarbonyl-
aminecarbonyloxy]-3-phenylpropionyl]-N-methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-piperidinosulfonylbutane Melting point: 70-76°C Rf: 0.21 (chloroform :methanol.

10: 1 、 v/v) α − (20)(2R,3S)−3−[N    [(S)−
2−[N−(2−(N−インブチリル−N−メチルアミ
ン)エチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−
3−フェニルプロピオニル]−Na−メチル−L−ヒス
チジルコアミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシ
−1−ピペリジノスルホニルブタン 融点: 75−82℃ Rf:0.25(クロロホルム:メタノール。
10: 1, v/v) α-(20)(2R,3S)-3-[N[(S)-
2-[N-(2-(N-inbutyryl-N-methylamine)ethyl)-N-methylaminocarbonyloxy]-
3-phenylpropionyl]-Na-methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-piperidinosulfonylbutane Melting point: 75-82°C Rf: 0.25 (chloroform:methanol.

10: 1 、 v/v) α− (21)(2R,3S)−3−[N   [(R)−2
−モルホリノ力Jレボニルメチル−3−(1−ナフチル
)プロピオニル]−N (E−メチル−L−ヒスデジル
コアミノ−4−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−1−
(N、N−ジメチルアミノスルホニル)ブタン 融点: 106−110℃ Rf:0.39(クロロホルム:メタノール。
10: 1, v/v) α-(21)(2R,3S)-3-[N[(R)-2
-morpholino-J levonylmethyl-3-(1-naphthyl)propionyl]-N (E-methyl-L-hisdedylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-
(N,N-dimethylaminosulfonyl)butane Melting point: 106-110°C Rf: 0.39 (chloroform:methanol.

9 : 11V/V) α − (22)(2S、3S)−2−[N    [N−(2
−(N−モルホリノカルボニル−N−メチルアミン)エ
トキシカルボニル)−L−フェニルアラニル]−N  
−メゾルーL−ヒスチジル]アミノ−1−シクロへキシ
ル−3−ヒドロキシ−6−メチルへブタン 融点: 78−85℃ Rf:0.35(クロロホルム:メタノール。
9: 11V/V) α − (22) (2S, 3S) −2−[N [N−(2
-(N-morpholinocarbonyl-N-methylamine)ethoxycarbonyl)-L-phenylalanyl]-N
-Mesol-L-histidyl]amino-1-cyclohexyl-3-hydroxy-6-methylhebutane Melting point: 78-85°C Rf: 0.35 (chloroform:methanol.

9: 11 V/V) (23)(2R,3S)−3−[Na−[N−(2−(
N−モルホリノカルボニル−N−メチルアミノ)エトキ
シカルボニル)−L−フェニルアラニル]−N  −メ
チル−L−ヒスチジルコアミノ−4−シクロヘキシル−
2−ヒドロキシ−1−イソプロとルアミノスルホニルブ
タン 融点: 66−72℃ Rf:0.45(クロロホルム:メタノール。
9: 11 V/V) (23)(2R,3S)-3-[Na-[N-(2-(
N-morpholinocarbonyl-N-methylamino)ethoxycarbonyl)-L-phenylalanyl]-N-methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-
2-hydroxy-1-isopro and ruaminosulfonylbutane Melting point: 66-72°C Rf: 0.45 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) α− (24)(3S)−3−[N   [(S)−2−[N
−(2−(N−イソブチリル−N−メチルアミノ)エチ
ル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオニル]−Na−メチル−L−ヒスデジルコ
アミノ−4−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−1−(
4−フェニルブチルアミノスルホニル)ブタン 融点: 78.5−85.5℃ Rf:0.33(クロロホルム:メタノール。
9 : 1, v/v) α- (24)(3S)-3-[N [(S)-2-[N
-(2-(N-isobutyryl-N-methylamino)ethyl)-N-methylaminocarbonyloxy]-3-phenylpropionyl]-Na-methyl-L-hisdedylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy- 1-(
4-phenylbutylaminosulfonyl)butane Melting point: 78.5-85.5°C Rf: 0.33 (chloroform:methanol.

9 : 11V/V) α− (25)(38)−3−[N   [(S)−2−[N
−(2−(N−モルホリノカルボニル−N−メゾルアミ
ノ)エチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシコー
3−フ二二ルブロピ才二ル] −N (!−メチルーL
−ヒスデジル]アミノ−4−シクロへキシル−2−ヒド
ロキシ−1−(2−モルホリノエチルアミノスルホニル
)ブタン 融点: 96−105℃ Rf:0.2G(クロロホルム:メタノール。
9: 11V/V) α- (25)(38)-3-[N [(S)-2-[N
-(2-(N-morpholinocarbonyl-N-mesolamino)ethyl)-N-methylaminocarbonyloxy-3-phenylpropylene] -N (!-Methyl-L
-hisdecyl]amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(2-morpholinoethylaminosulfonyl)butane Melting point: 96-105°C Rf: 0.2G (chloroform:methanol.

ro :  1 、V/V) 犬」11A (1)  (S)−2−[N−メチル−N−(2−(N
−イソブチリル−N−メチルアミン)エチル)アミノカ
ルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸(235
,3mg )の乾燥塩化メチレン(3゜5−)溶液を0
°Cに冷却し、これに塩化オキサリル(64,44)と
N、N−ジメチルホルムアミド(3滴)を加える。混合
物を30分間攪拌後、放冷によって室温とし、きらに3
0分間攪拌する。この溶液を(2R93S)−3−(N
  −メチル−N”−ト:フルーL−ヒスチジル)アミ
ノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシ−1−(N、
N−ジメチルアミノスルホニル)ブタン(392mg)
とN−メチルモルホリン(162,44)の乾燥塩化メ
チレン(6aQ)中温合物に0℃で加える。混合物を同
温で20分間攪拌する。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチ
ル(40111)と10%クエン酸水溶液(40m1)
との間で分配する。有概要を水(4011Q )、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液(40111Q )、水(4
omu )および食塩水(4011+ )で順次洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して、(2R,
3S)−3−α− [N   [(S)−2−[N−メチル−N−(2−(
N−イソブチリル−N−メチルアミン)エチル)アミノ
カルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオニル]−N
  −メチル−N1111−トシル−L−ヒスチジルコ
アミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシ−1−(
N、N−ジメチルアミノスルホニル)ブタン(561,
8+ag)を油状物として得る。
ro: 1, V/V) dog'11A (1) (S)-2-[N-methyl-N-(2-(N
-isobutyryl-N-methylamine)ethyl)aminocarbonyloxy]-3-phenylpropionic acid (235
, 3 mg) in dry methylene chloride (3°5-).
Cool to °C and add oxalyl chloride (64,44) and N,N-dimethylformamide (3 drops). After stirring the mixture for 30 minutes, it was allowed to cool to room temperature, and then
Stir for 0 minutes. This solution (2R93S)-3-(N
-Methyl-N”-t:Flu-L-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(N,
N-dimethylaminosulfonyl)butane (392mg)
and N-methylmorpholine (162,44) in dry methylene chloride (6aQ) at 0°C. The mixture is stirred at the same temperature for 20 minutes. The solvent was distilled off, and the residue was mixed with ethyl acetate (40111) and 10% citric acid aqueous solution (40ml).
to be distributed between. Water (4011Q), saturated sodium bicarbonate aqueous solution (40111Q), water (4011Q),
omu ) and brine (4011+), dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain (2R,
3S)-3-α- [N [(S)-2-[N-methyl-N-(2-(
N-isobutyryl-N-methylamine)ethyl)aminocarbonyloxy]-3-phenylpropionyl]-N
-Methyl-N1111-tosyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-(
N,N-dimethylaminosulfonyl)butane (561,
8+ag) is obtained as an oil.

Rf:0.48(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.48 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) (3)  ピリジン塩酸塩(697,4mg )を(2
R13S)−3−[Na−[(S)−2−[N−メチル
−N−(2−(N−インブチリル−N−メチルアミノ)
エチル)アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロ
ピオニル]−N(Z−メチル−Nll11−トシル−L
−ヒスチジルコアミノ−4−シクロへキシル−2−ヒド
ロキ’/  1−(N、N−’;メゾルアミノスルホニ
ル)ブタン(552,9a+g )の乾燥N、N−ジメ
チルホルムアミド(5,5mA)溶液に室温で加える。
9:1, v/v) (3) Pyridine hydrochloride (697.4 mg) was mixed with (2
R13S)-3-[Na-[(S)-2-[N-methyl-N-(2-(N-inbutyryl-N-methylamino)
ethyl)aminocarbonyloxy]-3-phenylpropionyl]-N(Z-methyl-Nll11-tosyl-L
-Histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy'/1-(N,N-'; mesolaminosulfonyl)butane (552,9a+g) in dry N,N-dimethylformamide (5,5mA) Add to solution at room temperature.

混合物を2.5時間攪拌後、溶媒を留去する。残渣を酢
酸エチル(301119)と食塩水(30証)との間で
分配する。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(3
011)および食塩水(30m )で順次洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。薄層クロマトグ
ラフィー(クロロホルム:メタノール、8:1、v/v
 )で精製して、(2R,3S)−3−[Na−[(S
)−2−[N−メゾルーN−(2−(N−インブチリル
−N−メチルアミノ)エチル)アミンカルボニルオキシ ニルプロピオニル]−N  −メチル−し−ヒスチジル
コアミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシ−1 
− ( N.N−ジメチルアミノスルホニル)ブタン(
429mg)を無定形粉末として得る。
After stirring the mixture for 2.5 hours, the solvent is distilled off. The residue is partitioned between ethyl acetate (301119) and brine (30 proof). The organic layer was dissolved in saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (3
011) and brine (30 m ), dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. Thin layer chromatography (chloroform:methanol, 8:1, v/v
) to give (2R,3S)-3-[Na-[(S
)-2-[N-Mesol-N-(2-(N-inbutyryl-N-methylamino)ethyl)aminecarbonyloxynylpropionyl]-N-methyl-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2 -Hydroxy-1
- (N.N-dimethylaminosulfonyl)butane (
429 mg) as an amorphous powder.

融点: 79−86℃ Rf:0.32Cクロロホルム:メタノール。Melting point: 79-86℃ Rf: 0.32C chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) 火」L汽」− (1)実施例1と同様にして(2R.3S)−3α− −[N   (N−第三級−ブトキシカルボニル−3−
(1−ナフチル)−L−アラニル)−N  メチル−N
Illl−トシル−L−ヒスデα − ジルコアミノ−4−シクロへ,キシル−2−ヒドロキシ
−1−イソプロピルアミンスルホニルブタンを得る。
9: 1, v/v) Tu'L'- (1) In the same manner as in Example 1, (2R.3S)-3α- -[N (N-tertiary-butoxycarbonyl-3-
(1-naphthyl)-L-alanyl)-N methyl-N
Illll-tosyl-L-hisdeα-zircoamino-4-cycloto, xyl-2-hydroxy-1-isopropylaminesulfonylbutane is obtained.

Rf:0.59(クロロホルム;メタノール。Rf: 0.59 (chloroform; methanol.

9 : 1 、v/v) (2)  製造例7と同様にして(2 R.3 S)−
 3α− −[N   (3−(1−ナフチル)−L−アシエル)
 −N CI−メチル−N111−トシル−L−ヒスチ
ジルコアミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシ−
1−イソプロピルアミノスルホニルブタンを(畳る。
9:1, v/v) (2) In the same manner as Production Example 7 (2 R.3 S)-
3α--[N (3-(1-naphthyl)-L-acyel)
-N CI-methyl-N111-tosyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-
1-isopropylaminosulfonylbutane (fold.

Rf:0.42(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.42 (chloroform:methanol.

9  :  1  、v/v) (3)  製造例9−(2)と同様にして(2R。9: 1, v/v) (3) Same as Production Example 9-(2) (2R.

38)−3−[Na−[N−(2−(N−メチル−N−
モルホリノカルボニルアミノ)エトキシカルボニル)−
3−(1−ナフチル)4m− 一Lーアラニル]− NCl−メチル−N  トシル−
L−ヒスデジルコアミノ−4−シクロへキシル−2−ヒ
ドロキシ−1−イソプロピルアミノスルホニルブタンを
得る。
38)-3-[Na-[N-(2-(N-methyl-N-
Morpholinocarbonylamino)ethoxycarbonyl)-
3-(1-naphthyl)4m- 1L-alanyl]- NCl-methyl-N tosyl-
L-hisdedylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isopropylaminosulfonylbutane is obtained.

Rf:0.54(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.54 (chloroform:methanol.

9:1,v/v) り4)実施例1と同様にして、実施例5−(3)の化合
物のトシル基を脱離して.(2 R,3 S)α − −3−[N   [N−(2−(N−メチル−N−モル
ホリノカルボニルアミノ)エトキシカルボニル)−3−
(1−ナフチル)−L−アラニル]−N −メチル−L
−ヒスチジルコアミノ−4−シクロへキシル−2−ヒド
ロキシ−1−イソプロとルアミノスルホニルブタンを得
る。
9:1, v/v) 4) In the same manner as in Example 1, the tosyl group of the compound of Example 5-(3) was removed. (2R,3S)α--3-[N[N-(2-(N-methyl-N-morpholinocarbonylamino)ethoxycarbonyl)-3-
(1-naphthyl)-L-alanyl]-N-methyl-L
-Histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isopro and ruaminosulfonylbutane are obtained.

融点: 89−96℃ Rf:0.28(クロロホルム:メタノール。Melting point: 89-96℃ Rf: 0.28 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) 及五廻J (1)  実施例1と同様にして、(2R,35)−3
−[N  −(N−第三級−ブトキシカルボニル−し一
ブエニルアラニル)−Na−メチル−N1r1′−トシ
ル−L−ヒスチジルコアミノ−4−シクロへキシル−2
−ヒドロキシ−1−イソプロピルアミノスルホニルブタ
ンを得る。
9: 1, v/v) and five turns J (1) In the same manner as in Example 1, (2R, 35)-3
-[N-(N-tertiary-butoxycarbonyl-butenylalanyl)-Na-methyl-N1r1'-tosyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2
-Hydroxy-1-isopropylaminosulfonylbutane is obtained.

Rf:o、ezcクロロホルム:メタノール。Rf: o, ezc chloroform: methanol.

9 : I TV/V) (2)製造例7と同様にして(2R,35)−3−(N
a−L−フェニルアラニル−Na−メチル−N 1ff
i−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−4−シクロヘキ
シル−2−ヒドロキシ−1−イソプロピルアミノスルホ
ニルブタンを得る。
9: I TV/V) (2) In the same manner as in Production Example 7, (2R,35)-3-(N
a-L-phenylalanyl-Na-methyl-N 1ff
i-Tosyl-L-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isopropylaminosulfonylbutane is obtained.

Rf:0.39(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.39 (chloroform:methanol.

9  :  1  、v/v) (3〉  実施例1と同様にして、3−モルホリノカル
ボニルプロピオンH(39mg) 、(2R。
9:1, v/v) (3> In the same manner as in Example 1, 3-morpholinocarbonylpropion H (39 mg), (2R.

3 S ) −3−(Na−L −)xニルア−r= 
4− Na−メゾルーN°−トンルーL−ヒスチジル)
アミノ−4−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−1−イ
ソプロピルアミンスルホニルブタン(130mg)およ
び1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カ
ルボジイミド塩酸塩(40mg)から(2R,3S)−
3−α− [N   (N−(3−モルホリノカルボニルプロピオ
ニル)−L−フェニルアラニル]−N −メゾルーN 
im −トシル−L−ヒスチジα ル]アミノー4−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−1
−イソプロピルアミンスルホニルブタン(152,8m
g)を得る。
3S) -3-(Na-L-)xNir-r=
4-Na-Mesol-N°-ton-L-Histidyl)
(2R,3S)- from amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isopropylaminesulfonylbutane (130 mg) and 1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride (40 mg)
3-α- [N (N-(3-morpholinocarbonylpropionyl)-L-phenylalanyl]-N -Mesol-N
im -tosyl-L-histidyl]amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1
-isopropylaminesulfonylbutane (152,8m
g) is obtained.

Rf:0.48(クロロホルム:メタノール。Rf: 0.48 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v) (4)実施例1と同様にして、実施例6−(3)の化合
物のトシル基を脱離して(2R,3S)α − −3−[N   [N−(3−モルホリノカルボニルプ
ロピオニル)−L−フェニルアラニルコーNa−メチル
−L−ヒスチジルコアミノ−4−シクロへキシル−2−
ヒドロキシ−1−イソプロピルアミンスルホニルブタン
を得る。
9:1, v/v) (4) In the same manner as in Example 1, the tosyl group of the compound of Example 6-(3) was removed to form (2R,3S)α--3-[N[N- (3-morpholinocarbonylpropionyl)-L-phenylalanylco-Na-methyl-L-histidylcoamino-4-cyclohexyl-2-
Hydroxy-1-isopropylaminesulfonylbutane is obtained.

融点: 101−108℃ Rf:0.48Cクロロホルム:メタノール。Melting point: 101-108℃ Rf: 0.48C chloroform:methanol.

4 : 1 、V/V) ILL1 21)  実施例6−(3)と同様にして、4−(N−
モルホリノカルボニル− ン)酪酸(63mg)、(2 R,3 S)− 3 −
 ( Na−L−フェニルアラニル−N −メチル−N
 i″++ トシル−L−ヒスチジル)アミノ−4−シ
クロヘキシル−2−ヒドロキシ−1−イソプロピルアミ
ンスルホニルブタン(170og)および1−エチル−
3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩
酸塩(52. 5mg)α− から(2R.3S)−3−[N   [N−( 4−(
N−モルホリノカルボニル−N−メチルアミノ)フチリ
ル)−L−フェニルアラニル]−N  −メチル−N1
11−トシル−L−ヒα スチジル]アミノー4ーシクロヘキシル−2−ヒドロキ
シ−1−イソプロピルアミノスルホニルブタン( 22
9. 5mg )を得る。
4:1, V/V) ILL1 21) In the same manner as in Example 6-(3), 4-(N-
Morpholinocarbonyl-butyric acid (63 mg), (2R,3S)-3-
(Na-L-phenylalanyl-N-methyl-N
i″++ tosyl-L-histidyl)amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isopropylaminesulfonylbutane (170 og) and 1-ethyl-
3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride (52.5 mg) α- to (2R.3S)-3-[N [N-( 4-(
N-morpholinocarbonyl-N-methylamino)phthyryl)-L-phenylalanyl]-N-methyl-N1
11-Tosyl-L-hyalpha stidyl]amino-4-cyclohexyl-2-hydroxy-1-isopropylaminosulfonylbutane (22
9. 5 mg).

u:o.50(クロロホルム:メタノール。u: o. 50 (chloroform: methanol.

9: 1 1 V/V) (2)  実施例1と同様にして、実施例7−(1)の
化合物のトシル基を脱離して(2R.3S)α− −3−CN   [N−(4−(N−モルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)フチリル)−L−フェニルア
ラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジルコアミノ−4
−シクロへキシル−2−ヒドロキシ−1−イソプロピル
アミノスルホニルブタン 融点. 86−93℃ Rf:0.26(クロロホルム:メタノール。
9: 1 1 V/V) (2) In the same manner as in Example 1, the tosyl group of the compound of Example 7-(1) was removed (2R.3S) α- -3-CN [N-( 4-(N-morpholinocarbonyl-N-methylamino)phthyryl)-L-phenylalanyl]-Nα-methyl-L-histidylcoamino-4
-Cyclohexyl-2-hydroxy-1-isopropylaminosulfonylbutane Melting point. 86-93°C Rf: 0.26 (chloroform:methanol.

9 : 1 、v/v)9:1, v/v)

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^2は水素または低級アルキル基、R^4は
アリール基、R^5はN−含有複素環基を意味し、 (i)R^1はアシルおよび式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^6はアシル基、R^7は水素または低級ア
ルキル基を意味する)で示される基よりなる群から選択
された置換基で置換されている低級アルキル基、R^3
は 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^8およびR^9はそれぞれ水素または適当
な置換基で置換されていてもよい低級アルキル基を意味
するか、またはR^8とR^9は隣接する窒素原子と一
緒になって複素環基を形成し、Aは低級アルキレン基を
意味する)で示される基、X^1は単結合、−O−また
は▲数式、化学式、表等があります▼(式中、R^1^
0は水素または低級アルキル基を意味する)、X^2は
−NH、−O−または−CH_2−を意味するか、また
は (ii)R^1は複素環基、R^3は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^8、R^9およびAはそれぞれ前と同じ意
味)で示される基、X^1は単結合、X^2は−O−ま
たは−CH_2−を意味するか、または (iii)R^1はアシルおよび式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^6およびR^7はそれぞれ前と同じ意味)
で示される基よりなる群から選択された置換基で置換さ
れている低級アルキル基、R^3は低級アルキル基、X
^1は▲数式、化学式、表等があります▼(式中、R^
1^0は前と同じ意味)、X^2は−NH−または−C
H_2−を意味するか、または (iv)R^1はアシルおよび式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^6およびR^7はそれぞれ前と同じ意味)
で示される基よりなる群から選択された置換基で置換さ
れている低級アルキル基、R^3は低級アルキル基、X
^1は−O−、X^2は−NH−、−O−または−CH
_2−を意味する] で示されるアミノ酸誘導体およびその塩。
(1) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R^2 means hydrogen or a lower alkyl group, R^4 means an aryl group, R^5 means an N-containing heterocyclic group, (i) R^1 is acyl and a group represented by the formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. a lower alkyl group substituted with a substituent selected from the group R^3
is the formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. and R^9 together with adjacent nitrogen atoms form a heterocyclic group, A means a lower alkylene group), X^1 is a single bond, -O- or ▲ mathematical formula, chemical formula , tables, etc. ▼ (In the formula, R^1^
0 means hydrogen or a lower alkyl group), X^2 means -NH, -O- or -CH_2-, or (ii) R^1 is a heterocyclic group, R^3 is the formula ▲ Formula , chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^8, R^9 and A each have the same meaning as before), X^1 is a single bond, X^2 is -O- or -CH_2 - or (iii) R^1 is acyl and the formula ▲ has a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (in the formula, R^6 and R^7 each have the same meaning as before)
a lower alkyl group substituted with a substituent selected from the group consisting of the groups represented by R^3 is a lower alkyl group,
^1 has ▲mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(In the formula, R^
1^0 means the same as before), X^2 is -NH- or -C
H_2-, or (iv) R^1 is acyl and the formula ▲ has a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (in the formula, R^6 and R^7 each have the same meaning as before)
a lower alkyl group substituted with a substituent selected from the group consisting of the groups represented by R^3 is a lower alkyl group,
^1 is -O-, X^2 is -NH-, -O- or -CH
_2-] Amino acid derivatives and salts thereof.
(2)R^1がアシルおよび式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基よりなる群から選択された置換基で置換さ
れている低級アルキル基、R^3が式▲数式、化学式、
表等があります▼ (式中、R^8およびR^9はそれぞれ水素、または複
素環およびアリールよりなる群から選択された置換基で
置換されていてもよい低級アルキル基を意味するか、ま
たはR^8とR^9は隣接する窒素原子と一緒になって
複素環基を形成し、Aは低級アルキレン基を意味する)
で示される基、X^1が単結合、−O−または▲数式、
化学式、表等があります▼、X^2が−NH−、−O−
または−CH_2−である特許請求の範囲第1項に記載
の化合物。
(2) R^1 is acyl and a lower alkyl group substituted with a substituent selected from the group consisting of the formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼, R^3 is the formula ▲ Numerical formula, Chemical formula,
There are tables, etc. ▼ (In the formula, R^8 and R^9 each mean hydrogen or a lower alkyl group optionally substituted with a substituent selected from the group consisting of a heterocycle and an aryl, or R^8 and R^9 together with adjacent nitrogen atoms form a heterocyclic group, and A means a lower alkylene group)
A group represented by, X^1 is a single bond, -O- or ▲ formula,
There are chemical formulas, tables, etc. ▼, X^2 is -NH-, -O-
or -CH_2-.
(3)R^1が複素環基、R^3が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^8およびR^9はそれぞれ水素、または複
素環およびアリールよりなる群から選択された置換基で
置換されていてもよい低級アルキル基を意味するか、ま
たはR^8とR^9は隣接する窒素原子と一緒になって
複素環基を形成し、Aは低級アルキレン基を意味する)
で示される基、X^1が単結合、X^2が−O−または
−CH_2−である特許請求の範囲第1項に記載の化合
物。
(3) R^1 is a heterocyclic group, R^3 is a formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^8 and R^9 are each hydrogen or a group consisting of a heterocycle and aryl. means a lower alkyl group optionally substituted with selected substituents, or R^8 and R^9 together with adjacent nitrogen atoms form a heterocyclic group, and A is a lower alkylene group. )
The compound according to claim 1, wherein in the group represented by , X^1 is a single bond, and X^2 is -O- or -CH_2-.
(4)R^1がアシルおよび式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基よりなる群から選択された置換基で置換さ
れている低級アルキル基、R^3が低級アルキル基、X
^1が▲数式、化学式、表等があります▼、X^2が−
NH−または−CH_2−である特許請求の範囲第1項
に記載の化合物。
(4) R^1 is acyl and a lower alkyl group substituted with a substituent selected from the group consisting of the formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼, R^3 is a lower alkyl group, X
^1 is ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, X^2 is -
The compound according to claim 1, which is NH- or -CH_2-.
(5)R^1がアシルおよび式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基よりなる群から選択された置換基で置換さ
れている低級アルキル基、R^3が低級アルキル基、X
^1が−O−、X^2が−NH−、−O−または−CH
_2−である特許請求の範囲第1項に記載の化合物。
(5) R^1 is acyl and a lower alkyl group substituted with a substituent selected from the group consisting of the formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼, R^3 is a lower alkyl group, X
^1 is -O-, X^2 is -NH-, -O- or -CH
The compound according to claim 1, which is _2-.
(6)R^1がモルホリノカルボニルおよび式▲数式、
化学式、表等があります▼ (式中、R^6はモルホリノカルボニル基または低級ア
ルカノイル基、R^7は水素または低級アルキル基を意
味する)で示される基よりなる群から選択された置換基
で置換されている低級アルキル基である特許請求の範囲
第2、4または5項に記載の化合物。
(6) R^1 is morpholinocarbonyl and formula ▲ formula,
There are chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^6 means a morpholinocarbonyl group or lower alkanoyl group, and R^7 means hydrogen or a lower alkyl group.) A substituent selected from the group consisting of the groups shown below. 6. The compound according to claim 2, 4 or 5, which is a substituted lower alkyl group.
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WO1994025062A1 (en) * 1993-04-28 1994-11-10 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Oral pharmaceutical compositions containing renin inhibitors

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