JPH02242256A - Production of positive type photosensitive coating solution and positive type photosensitive printing plate - Google Patents

Production of positive type photosensitive coating solution and positive type photosensitive printing plate

Info

Publication number
JPH02242256A
JPH02242256A JP6335789A JP6335789A JPH02242256A JP H02242256 A JPH02242256 A JP H02242256A JP 6335789 A JP6335789 A JP 6335789A JP 6335789 A JP6335789 A JP 6335789A JP H02242256 A JPH02242256 A JP H02242256A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
photosensitive
printing plate
positive type
type photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6335789A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Adachi
裕 安達
Sei Goto
聖 後藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP6335789A priority Critical patent/JPH02242256A/en
Publication of JPH02242256A publication Critical patent/JPH02242256A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To reduce the toxicity of a coating soln., to improve the coating performance and to make a printing plate free from pinholes and ununiformity in lines by incorporating a high molecular compd. contg. o-quinonediazido groups and ethyl lactate. CONSTITUTION:This coating soln. contains a high molecular compd. (A) contg. o-quinonediazido groups and a slightly malodorous ethyl lactate dissolving the compd. A and having low toxicity. The compd. A may be a product obtd. by esterifying phenol-formaldehyde resin with o-naphthoquinonediazidosulfonic acid. A positive type photosensitive printing plate is preferably produced by coating a support such a a grained Al plate with this coating soln. and drying this soln.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ポジ型感光性塗布液及びポジ型感光性印刷版
の製造方法に関し、更に詳しくは毒性が低く、塗布性が
改善されたポジ型感光性塗布液及びポジ型感光性印刷版
の製造方法に関する。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for producing a positive-working photosensitive coating liquid and a positive-working photosensitive printing plate. The present invention relates to a mold photosensitive coating liquid and a method for producing a positive photosensitive printing plate.

[発明の背景] ポジ型感光性印刷版は、感光性組成物を適当な溶媒に溶
解し、これを支持体に塗布し乾燥することにより製造さ
れるが、従来、このようなポジ型感光性印刷版の製造の
際、感光性組成物を溶解する溶媒として、種々のものが
用いられ、例えばメチルセロソルブ(エチレングリコー
ルモノメチルエーテル)、エチルセロソルブ等のグリコ
ールエーテル類、メチルセロソルブアセテート、エチル
セロソルブアセテート等のセロソルブエステル類が主と
して用いられている。
[Background of the Invention] A positive-working photosensitive printing plate is manufactured by dissolving a photosensitive composition in a suitable solvent, applying it to a support, and drying it. Conventionally, such a positive-working photosensitive printing plate During the production of printing plates, various solvents are used to dissolve the photosensitive composition, such as glycol ethers such as methyl cellosolve (ethylene glycol monomethyl ether) and ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, etc. Cellosolve esters are mainly used.

しかしながら、これらの塗布溶媒は、感光性印刷版の製
造時、毒性が強いという問題があり、また臭気が強く、
不快感があり作業環境上好ましくない、更に感光性組成
物を前記の溶媒を用いて支持体上に塗布すると、塗布性
が悪く、例えば筋ムラやピンホール等がしばしば発生し
、商品としての価値を損なうことがあり、特に感光性組
成物として、ポジ型のオルトキノンジアジド基を含む高
分子化合物を用いる場合、この高分子化合物は、分子量
が比較的大きいので、これと前記の塗布溶媒とからなる
感光性塗布液を支持体に塗布すると、得られたポジ型感
光性印刷版は、塗布性が今一つという問題がある。
However, these coating solvents have the problem of being highly toxic during the production of photosensitive printing plates, as well as having a strong odor.
It is uncomfortable and unfavorable in terms of the working environment.Furthermore, when a photosensitive composition is coated on a support using the above-mentioned solvent, coating properties are poor, and streaks and pinholes often occur, which reduces the value of the product as a product. In particular, when a polymer compound containing a positive orthoquinonediazide group is used as a photosensitive composition, this polymer compound has a relatively large molecular weight, so it may be difficult to use a photosensitive composition consisting of this polymer compound and the above-mentioned coating solvent. When a photosensitive coating liquid is applied to a support, the resulting positive-working photosensitive printing plate has a problem of poor coating properties.

そこで、本発明者等は、前記の問題点について、種々検
討を加えた結果、ポジ型感光性組成物として、オルトキ
ノンジアジド基を含む高分子化合物を使用する場合、特
定の溶媒を用いて感光性塗布液を製造することによって
、感光性印刷版の製造時における毒性が低く、さらに塗
布性が向上したポジ型感光性印刷版が得られることを見
出し、ここに本発明を完成するに至った。
Therefore, as a result of various studies regarding the above-mentioned problems, the present inventors have found that when using a polymer compound containing an orthoquinone diazide group as a positive-working photosensitive composition, it is necessary to use a specific solvent to make the photosensitive composition. The present inventors have discovered that by producing a coating liquid, a positive-working photosensitive printing plate with low toxicity during production of a photosensitive printing plate and improved coating properties can be obtained, and has now completed the present invention.

[発明の目的] 本発明の目的は、感光性印刷版の製造時における毒性が
低く、臭気が緩和されると共に塗布性が改善されたポジ
型感光性塗布液及びポジ型感光性印刷版の製造方法を提
供することにある。
[Object of the Invention] The object of the present invention is to provide a positive-working photosensitive coating liquid and a positive-working photosensitive printing plate with low toxicity, alleviated odor, and improved coating properties during the production of photosensitive printing plates. The purpose is to provide a method.

[発明の構成] 本発明の目的は、 1)オルトキノンジアジド基を含む高分子化合物と乳酸
エチルとを含有するポジ型感光性塗布液。
[Structure of the Invention] The objects of the present invention are as follows: 1) A positive photosensitive coating liquid containing a polymer compound containing an orthoquinonediazide group and ethyl lactate.

2)支持体に、オルトキノンジアジド基を含む高分子化
合物と乳酸エチルとを含有するポジ型感光性塗布液を塗
布し乾燥することを特徴とするポジ型感光性印刷版を製
造する方法によってそれぞれ達成される。
2) Each achieved by a method for producing a positive-working photosensitive printing plate, which is characterized by coating a support with a positive-working photosensitive coating solution containing a polymer compound containing an orthoquinonediazide group and ethyl lactate and drying it. be done.

以下、本発明を更に具体的に説明する。The present invention will be explained in more detail below.

本発明に用いられる溶剤に溶解することにより得られる
塗布液は、ポジ型感光性組成物を含有しているが、この
ポジ型感光性組成物としては、オルトキノンジアジド基
を含む高分子化合物が主として用いられるが、ここでオ
ルトキノンジアジド基を含む高分子化合物とは、オルト
キノンジアジド基を含む化合物とアルカリ可溶性樹脂と
の反応生成物の場合又はオルトキノンジアジド基を含む
化合物とアルカリ可溶性樹脂との混合物である場合のい
づれか又は両方からなる意味に用いられる。
The coating solution obtained by dissolving in the solvent used in the present invention contains a positive photosensitive composition, and this positive photosensitive composition is mainly composed of a polymer compound containing an orthoquinone diazide group. Here, the polymer compound containing an orthoquinonediazide group is a reaction product of a compound containing an orthoquinonediazide group and an alkali-soluble resin, or a mixture of a compound containing an orthoquinonediazide group and an alkali-soluble resin. It is used to mean either or both cases.

以下にその代表的なものについて説明する。Typical examples will be explained below.

オルトキノンジアジド基を含む高分子化合物としては、
例えば0−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フェノ
ール類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエス
テル化合物が挙げられる。
As a polymer compound containing an orthoquinonediazide group,
For example, ester compounds of 0-naphthoquinonediazide sulfonic acid and polycondensation resins of phenols and aldehydes or ketones may be mentioned.

前記のフェノール類としては、例えば、フェノール、0
−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3.
5−キシレノール、カルバクロール、チモール等のm個
フエノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等
の二価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の
三価フェノール等が挙げられる。
Examples of the phenols include phenol, 0
-cresol, m-cresol, p-cresol, 3.
Examples include m-phenols such as 5-xylenol, carvacrol, and thymol, dihydric phenols such as catechol, resorcinol, and hydroquinone, and trihydric phenols such as pyrogallol and phloroglucin.

前記のアルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、ベンズ
アルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデヒド、
フルフラール等が挙げられる。
Examples of the aldehyde include formaldehyde, benzaldehyde, acetaldehyde, crotonaldehyde,
Examples include furfural.

これらのアルデヒドのうち好ましいものは、ホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。
Preferred among these aldehydes are formaldehyde and benzaldehyde.

更に前記のケトンとしては、アセトン、メチルエチルケ
トン等が挙げられる。
Furthermore, examples of the above-mentioned ketones include acetone, methyl ethyl ketone, and the like.

前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド ホルムアルデヒド樹脂、I−、O−混合クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。
Specific examples of the polycondensation resin include phenol/formaldehyde formaldehyde resin, I-, O-mixed cresol/formaldehyde resin, resorcinol/benzaldehyde resin, pyrogallol/acetone resin, and the like.

前記0−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類の
011基に対する0−ナフトキノンジアジドスルホン酸
の縮合率(011基1個に対する反応率)は、15〜8
0%が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
The condensation rate of 0-naphthoquinonediazide sulfonic acid with respect to the 011 group of the phenol in the 0-naphthoquinonediazide compound (reaction rate with respect to one 011 group) is 15 to 8.
It is preferably 0%, more preferably 20-45%.

更に未発明に用いられる0−キノンジアジド化合物とし
ては、特開昭58−43451号公報に記載された化合
物も使用することができる。
Further, as the O-quinonediazide compound used in the uninvented invention, the compound described in JP-A-58-43451 can also be used.

上記0−キノンジアジド化合物のうち、12−ベンゾキ
ノンジアジドスルホニルクロリド又は1.2−ナフトキ
ノンジアジドスルホニルクロリドとピロガロール・アセ
トン縮合樹脂又は2,3.4−トリヒドロキシベンゾフ
ェノンを反応させて得られる0−キノンジアジドエステ
ル化合物が最も好ましい。
Among the above 0-quinonediazide compounds, an 0-quinonediazide ester compound obtained by reacting 12-benzoquinonediazide sulfonyl chloride or 1,2-naphthoquinonediazide sulfonyl chloride with a pyrogallol acetone condensation resin or 2,3,4-trihydroxybenzophenone. is most preferred.

本発明に用いられる0−キノンジアジド化合物としては
、上記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以上の
化合物を組合せて用いてもよい。
As the O-quinonediazide compound used in the present invention, each of the above compounds may be used alone, or two or more types of compounds may be used in combination.

本発明に用いられる0−キノンジアジドを含む高分子化
合物は、塗布性を考慮すると、分子量が1500以上有
するものが好ましく、更に好ましくは、2000以上の
分子量を有するものがよい。
The polymer compound containing 0-quinonediazide used in the present invention preferably has a molecular weight of 1,500 or more, more preferably 2,000 or more, in view of coating properties.

前記の0−キノンジアジド化合物は、アルカリ可溶性樹
脂と混合して用いた方がよい、アルカリ可溶性樹脂とし
ては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を有するビ
ニル系重合体、特開昭55−57841号公報に記載さ
れている多価フェノールとアルデヒド又はケトンとの縮
合樹脂等が挙げられる。ノボラック樹脂としては、例え
ばフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に
記載されているようなフェノール・クレゾール・ホルム
アルデヒド共重縮合樹脂、特開昭55−127553号
公報に記載されているようなp−置換フェノールとフェ
ノールもしくは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共
重縮合樹脂等が挙げられる。
The above-mentioned 0-quinonediazide compound is preferably used in combination with an alkali-soluble resin. Examples of the alkali-soluble resin include novolak resin, a vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group, and those described in JP-A-55-57841. Examples include condensation resins of polyhydric phenols and aldehydes or ketones. Examples of the novolac resin include phenol-formaldehyde resin, cresol-formaldehyde resin, phenol-cresol-formaldehyde copolycondensation resin as described in JP-A-55-57841, and phenol-cresol-formaldehyde copolycondensation resin as described in JP-A-55-127553. Examples include copolycondensation resins of p-substituted phenol and phenol or cresol and formaldehyde as described above.

またこれらの感光性組成物には、上記の素材の他、必要
に応じて染料、顔料等の色素、感脂化剤、可塑剤、界面
活性剤、有機酸、酸無水物、露光により酸を発生し得る
化合物等を添加することができる。
In addition to the above-mentioned materials, these photosensitive compositions may also contain colorants such as dyes and pigments, sensitizing agents, plasticizers, surfactants, organic acids, acid anhydrides, and acids that can be removed by exposure to light. Compounds that may be generated can be added.

本発明において好ましく用いられる染料は、塩基性染料
及び油溶性染料がある。具体的には、ビクトリア・ピュ
ア・ブルー・BOH,ビクトリア・ブルー・BH,メチ
ル・バイオレット、アイゼン・マラカイトグリーン(以
上、保土谷化学工業製)、パテント・ピュア・ブルー・
vx10−ダミン・B、メチレン・ブルー(以上、住友
化学工業製)等の塩基性染料、並びにスーダン・ブルー
・11 、ビクトリア・ブルー・F4R(以上、B。
Dyes preferably used in the present invention include basic dyes and oil-soluble dyes. Specifically, Victoria Pure Blue BOH, Victoria Blue BH, Methyl Violet, Eisen Malachite Green (manufactured by Hodogaya Chemical Industry), Patent Pure Blue
Basic dyes such as vx10-damin B, methylene blue (manufactured by Sumitomo Chemical), and Sudan Blue 11, Victoria Blue F4R (b).

A、S、F製)、オイル・ブルー・#603、オイル・
ブルー・BO3,オイル・ブルー・II N(以上、オ
リエント化学工業製)等の油溶性染料が挙げられる。
A, S, F), oil blue #603, oil
Examples include oil-soluble dyes such as Blue BO3 and Oil Blue II N (manufactured by Orient Chemical Industries).

本発明に用いられる0−キノンジアジド基を含む高分子
化合物は、乳酸エチルに溶解して感光性塗布液を形成す
るが、このとき毒性、臭気の改善並びに保存性が向上す
る。該乳酸エチルは、単独又は他の溶剤と組合せて用い
ることができ、更に2種以上の他の溶剤と適宜混合する
こともできる。
The polymer compound containing an O-quinonediazide group used in the present invention is dissolved in ethyl lactate to form a photosensitive coating solution, which improves toxicity, odor, and storage stability. The ethyl lactate can be used alone or in combination with other solvents, and can also be appropriately mixed with two or more other solvents.

その他の溶剤としては、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、アセトン、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、シクロヘキサン、塩化メチレン、メチルエチル
ケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、
ジエチルケトン、シクロヘキサノール、及びn−ブチル
アルコール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコー
ル等のアルコール類及び水等が挙げられる。
Other solvents include dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, acetone, dioxane, tetrahydrofuran, cyclohexane, methylene chloride, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone,
Examples include diethyl ketone, cyclohexanol, alcohols such as n-butyl alcohol, benzyl alcohol, and phenethyl alcohol, and water.

これらの混合溶剤として用いる場合、乳酸エチルの占め
る割合は、できるだけ多い方が好ましいが、少なくとも
10%以上ある方が好ましく、更に好ましくは30%以
上、また更には50%以上がよい。
When used as a mixed solvent, the proportion of ethyl lactate is preferably as large as possible, but preferably at least 10%, more preferably 30% or more, and even more preferably 50% or more.

本発明の感光性塗布液を塗布して感光性印刷版を製造す
るのに適した支持体は、種々のものが用いられるが、例
えば、アルミニウム、亜鉛、銅、鋼等の金属板、及びク
ロム、亜鉛、銅、ニッケル及びアルミニウム等がメツキ
または蒸着された金属板、親水化処理された紙及びプラ
スチック、また金属が蒸着された紙及びプラスチックフ
ィルム、ガラス板、樹脂コート紙、アルミニウム等の金
属箔が張られた紙等が挙げられる。
Various supports can be used to manufacture a photosensitive printing plate by applying the photosensitive coating liquid of the present invention, and examples thereof include metal plates such as aluminum, zinc, copper, and steel; , metal plates plated or vapor-deposited with zinc, copper, nickel, aluminum, etc., paper and plastics treated to make them hydrophilic, paper and plastic films coated with metals, glass plates, resin-coated paper, metal foils such as aluminum, etc. For example, paper covered with

これらのうち好ましいものはアルミニウム板である。Among these, aluminum plates are preferred.

特にアルミニウム板の支持体の場合には、砂目立て処理
、陽極酸化処理及び必要に応じて封孔処理等の表面処理
が施されていることが好ましい。
In particular, in the case of an aluminum plate support, it is preferable that the support be subjected to surface treatments such as graining, anodizing, and, if necessary, sealing.

上記砂目立て処理処理する方法としては、アルミニウム
板等の表面を脱脂した後、ブラシ研磨法、ボール研磨法
、化学研磨法、電解エツチング法等を通用する技術が採
用される。
As a method for carrying out the above-mentioned graining treatment, commonly used techniques such as brush polishing, ball polishing, chemical polishing, electrolytic etching, etc. are employed after degreasing the surface of the aluminum plate or the like.

上記陽極酸化処理は、例えば燐酸、クロム酸。The above-mentioned anodizing treatment is performed using, for example, phosphoric acid or chromic acid.

ホウ酸、硫酸等の無機塩、又はシェラ酸、スルフ1ミン
酸等の有機酸の単独又はこれらの2種以上の酸を混合し
た水溶液又は非水溶液中において、アルミニウム板等を
陽極として電流を通じることによって行われる。
In an aqueous or non-aqueous solution of an inorganic salt such as boric acid, sulfuric acid, etc., or an organic acid such as Scheler's acid or sulfuric acid, or a mixture of two or more of these acids, an electric current is passed using an aluminum plate, etc. as an anode. It is done by

更に封孔処理は、珪酸ナトリウム水溶液、ねっすい及び
若干の無機塩又は有機塩の熱水溶液に浸漬するか、又は
水蒸気浴によって行われる。
Furthermore, the sealing treatment is carried out by immersion in a hot aqueous solution of an aqueous sodium silicate solution, a mineral salt, and some inorganic or organic salts, or by a steam bath.

本発明において、感光性塗布液の支持体への塗布量は、
用途によって異るが、−数的に固形分としてO,S〜3
.5g/a”が適当である。
In the present invention, the amount of photosensitive coating liquid applied to the support is as follows:
Although it varies depending on the use, - numerically as solid content O, S ~ 3
.. 5g/a'' is appropriate.

本発明の塗布液の塗布方法としては、デイツプコーティ
ング、ロールコーティング、リバースロールコーティン
グ、エアドクターコーティング、ブレードコーティング
、ロッドコーティング、ナイフコーティング、スクイズ
コーティング、グラビアコーティング、キャストコーテ
ィング、カーテンコーティング、押出しコーティング、
等の方法が用いられ、塗布膜厚は、0.1〜5g/m’
が好ましい、また乾燥温度は20〜150℃、好ましく
は30〜100℃の範囲である。
The coating method of the present invention includes dip coating, roll coating, reverse roll coating, air doctor coating, blade coating, rod coating, knife coating, squeeze coating, gravure coating, cast coating, curtain coating, extrusion coating,
The coating film thickness is 0.1 to 5 g/m'.
is preferred, and the drying temperature is in the range of 20 to 150°C, preferably 30 to 100°C.

本発明に係る現像液は、実質的に有機溶媒を含まないア
ルカリ性の水性溶液であり、アルカリ剤として好ましく
はケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム
、第三リン酸ナトリウム、第ニリン酸ナトリウム、第三
リン酸カリウム、第ニリン酸カリウム、炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム等が挙げられる。これらの中でもケイ酸
カリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム等のケイ
酸アルカリを含有する現像液は現像階調性が良好なため
最も好ましく、ケイ酸アルカリの組成がそル比で[S 
I 02 ] / [M] =0.5〜1.5(ここに
[5IOz  ]   CM]はそれぞれS i 02
のモル濃度と総アルカリ金属のモル濃度を示す、)であ
り、かつSin、を0.8〜8重量%含有する現像液が
好ましく用いられる。このケーを酸アルカリ組成のうち
、特にモル比で[St[h]/[M]=0.5〜0.7
5であり、かつ5i02が0.8〜4ffi量%の現像
液は、低濃度のため現像廃液の中和が容易なことから好
ましく用いられ、一方0.75を超大1,3までのモル
比であり、かつ5in2が1〜8重量%の現像液は緩衝
力が高く、処理能力が高いことから好適に用いられる。
The developer according to the present invention is an alkaline aqueous solution that does not substantially contain an organic solvent, and the alkaline agent is preferably potassium silicate, lithium silicate, sodium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or hydroxide. Examples include lithium, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic potassium phosphate, dibasic potassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, and the like. Among these, a developer containing an alkali silicate such as potassium silicate, lithium silicate, or sodium silicate is most preferable because it has good development gradation, and the composition of the alkali silicate is [S
I 02 ] / [M] = 0.5 to 1.5 (here, [5IOz ] CM] is S i 02
A developer solution containing 0.8 to 8% by weight of Sin is preferably used. Of the acid-alkali composition, this case is particularly suitable for the molar ratio [St[h]/[M]=0.5 to 0.7.
5 and 5i02 of 0.8 to 4ffi% is preferably used because it is easy to neutralize the developing waste solution due to its low concentration, while the molar ratio of 0.75 to 1.3 is preferably used. A developer containing 1 to 8% by weight of 5in2 is preferably used because it has a high buffering power and a high processing ability.

本発明に係る現像液のpH(25℃)は12以上であり
、好ましくは12.5〜14.0である。また、該現像
液中には、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、
亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシウムなどの水溶性亜硫
酸塩を添加することができる。亜硫酸塩の現像液組成物
中における好ましい含有量は0.05〜4I!量%で、
より望ましくは0.1〜t重量%である。
The pH (25° C.) of the developer according to the present invention is 12 or more, preferably 12.5 to 14.0. In addition, the developer contains, for example, sodium sulfite, potassium sulfite,
Water-soluble sulfites such as lithium sulfite and magnesium sulfite can be added. The preferred content of sulfite in the developer composition is 0.05-4I! In quantity%,
More preferably, it is 0.1 to t% by weight.

また、該現像液中に特開昭50−51324号公報に記
載されているようなアニオン性界面活性剤、および両性
界面活性剤、特開昭59−75255号公報、同80−
111246号公報及び同80−213943号公報等
に記載されているような非イオン性界面活性剤のうち少
なくとも一つ含有させることにより、または特開昭55
−95946号公報、同56−142528号公報に記
載されるように高分子電解質を含有させることにより、
感光性組成物への濡れ性を高めたり、階調性をさらに高
めることができ、好ましく用いられる。かかる界面活性
剤の添加量は特に制限はないが、0.003〜3!!!
量%が好ましく、特に0.006〜1重量%の濃度が好
ましい、さらに該ケイ酸アルカリのアルカリ金属として
全アルカリ金属中、カリウムを20モル%以上含むこと
が、現像液中での不溶物発生が少ないため好ましく、よ
り好ましくはカリウムを90モル%以上含むことであり
、最も好ましくはカリウムが100モル%の場合である
In addition, an anionic surfactant and an amphoteric surfactant as described in JP-A-50-51324 and an amphoteric surfactant, JP-A-59-75255 and JP-A-80-
By containing at least one of the nonionic surfactants as described in JP-A No. 111246 and JP-A No. 80-213943, or by
By containing a polymer electrolyte as described in JP-95946 and JP-A-56-142528,
It is preferably used because it can improve the wettability to the photosensitive composition and further improve the gradation. The amount of such surfactant added is not particularly limited, but is between 0.003 and 3! ! !
The concentration is preferably 0.006 to 1% by weight, and the alkali metal of the alkali silicate contains 20 mol% or more of potassium among all the alkali metals to prevent the generation of insoluble matter in the developer. It is preferable because it has a small amount of potassium, more preferably 90 mol% or more of potassium, and most preferably 100 mol% of potassium.

更に本発明に使用される現像液には消泡剤を含有させる
ことができる。好適な消泡剤には有機シラン化合物が挙
げられる。
Furthermore, the developer used in the present invention can contain an antifoaming agent. Suitable antifoaming agents include organosilane compounds.

上記のような現像液で画像露光された本発明に係る感光
性平版印刷版を現像する方法としては従来公知の種々の
方法が可能である。具体的には画像露光された本発明に
係る感光性平版印刷版を現像液中に浸漬する方法、当該
本発明に係る感光性平版印刷版の感光層に対して多数の
ノズルから現像液を噴出する方法、現像液が湿潤された
スポンジで本発明に係る感光性平版印刷版の感光層を拭
う方法、本発明に係る感光性平版印刷版の感光層の表面
に現像液をローラー塗布する方法などが挙げられる。ま
たこのようにして、本発明に係る感光性平版印刷版の感
光層に現像液を施した後、感光層の表面をブラシなどで
軽く擦することもできる。
Various conventionally known methods can be used to develop the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention which has been imagewise exposed with the developer as described above. Specifically, a method of immersing an image-exposed photosensitive lithographic printing plate according to the present invention in a developer solution, and a method of jetting the developer solution from a number of nozzles onto the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention. A method of wiping the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention with a sponge moistened with a developer, a method of applying a developer with a roller to the surface of the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention, etc. can be mentioned. Further, after applying a developer to the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention in this manner, the surface of the photosensitive layer can be lightly rubbed with a brush or the like.

現像条件については、前記現像方法に応じて適宜選ぶこ
とができる。−例を示すと、例えば浸漬による現像方法
では約10〜40℃の現像液に約10〜80秒間させる
方法が選ばれる。
The developing conditions can be appropriately selected depending on the developing method. - For example, in a developing method by immersion, a method is selected in which the material is exposed to a developer solution at about 10 to 40° C. for about 10 to 80 seconds.

[発明の作用] 本発明に用いられるオルトキノンジアジド基を含む高分
子化合物は、分子量が少なくとも1500を有するので
、このような高分子化合物を十分溶解する必要があるが
、乳酸エチルは、前記の高分子化合物を十分溶解すると
共に毒性が低く、さらに臭気が弱いので、塗布溶剤とし
て用いた場合、作業環境が改善されるばかりでなく、塗
布性が良好である。
[Operation of the invention] Since the polymer compound containing an orthoquinone diazide group used in the present invention has a molecular weight of at least 1500, it is necessary to sufficiently dissolve such a polymer compound. It sufficiently dissolves molecular compounds, has low toxicity, and has a weak odor, so when used as a coating solvent, it not only improves the working environment but also provides good coating properties.

以下余白 [実施例] 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、こ
れらに限定されるものではない。
In the following margin [Examples] The present invention will be described below with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例 下記の組成を有する感光液を調製し、これを砂目量てし
たアルミニウム板にロールコータを用いて固形分1.8
g/m’の塗布量となるように塗布した後、乾燥して感
光性平版印刷版の試料1を得た。
Example A photosensitive solution having the following composition was prepared, and a solid content of 1.8 was coated on a grained aluminum plate using a roll coater.
After coating to a coating weight of g/m', it was dried to obtain Sample 1 of a photosensitive planographic printing plate.

[感光液] ピロガロール・アセトン樹脂とナフトキノン−(1,2
)−ジアジド−4−スルホン酸クロリドとのエステル化
合物(平均分子量2500)2.3 I!量部 フェノール及びm+、p−混合クレゾール(各そル比4
8:32:20)とホルムアルデヒドとの共重縮合樹脂 6.71i量部 バラオクチルフェノールとホルマリン とから合成されたノボラック樹脂 0、g重量部 2−トリクロルメチル−5−(β−ベンゾフリルビニル
)−1,3,4−オキサジアゾール0.05重量部 ビクトリアピュアブルーB OH0,07!l量部乳酸
エチル           45Il量部上記感光液
中の乳酸エチルを第1表に示す化合物に変える以外は、
試料1と同様にして感光性平版印刷版の試料2〜5を作
製した。
[Photosensitive liquid] Pyrogallol acetone resin and naphthoquinone (1,2
)-Ester compound with diazide-4-sulfonic acid chloride (average molecular weight 2500) 2.3 I! Amount of phenol and m+, p- mixed cresol (each ratio 4
8:32:20) and formaldehyde 6.71 parts by weight Novolak resin synthesized from rose octylphenol and formalin 0,000 parts by weight 2-trichloromethyl-5-(β-benzofurylvinyl)- 1,3,4-oxadiazole 0.05 parts by weight Victoria Pure Blue B OH0,07! 1 part Ethyl lactate 45 Il parts Except for changing the ethyl lactate in the above photosensitive solution to the compound shown in Table 1,
Samples 2 to 5 of photosensitive lithographic printing plates were prepared in the same manner as Sample 1.

また上記感光液中の有機溶剤である乳酸エチルは、その
まま使用し、ピロガロール・アセトン樹脂とナフトキノ
ン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロリドと
のエステル化合物を283.4.3’ 、4°、5°−
へキサヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン−(1
,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロリドとのエステ
ル化合物(エステル化率8゛3%)に変えた以外は、同
様にして感光性平版印刷版の試料6を作製した。
In addition, ethyl lactate, which is an organic solvent in the photosensitive solution, is used as it is, and an ester compound of pyrogallol acetone resin and naphthoquinone-(1,2)-diazide-4-sulfonic acid chloride is used as 283.4.3'. 4°, 5°−
Hexahydroxybenzophenone and naphthoquinone (1
Sample 6 of the photosensitive lithographic printing plate was prepared in the same manner except that an ester compound with ,2)-diazide-4-sulfonic acid chloride (esterification rate: 8.3%) was used.

このようにして得られた試料1〜6について、感光液の
塗布性をマランゴニ−1縦スジおよびピンホールについ
て観察した。
Regarding Samples 1 to 6 thus obtained, the coating properties of the photosensitive liquid were observed for Marangoni-1 vertical streaks and pinholes.

ここにマランゴニ−とは、塗布乾燥後の塗布面に生じる
もやもやとした渦状の塗布むらを指す。
Here, the term "marangoni" refers to hazy, spiral-like coating unevenness that occurs on the coated surface after coating and drying.

この種の塗布むらは溶剤の揮発に伴なう温度低下で、湿
潤した状態の感光層の表面張力が局所的に異なることに
起因するマランゴニ−効果がその要因である。
The cause of this type of coating unevenness is the Marangoni effect, which is caused by local differences in surface tension of the wet photosensitive layer due to a temperature drop accompanying the volatilization of the solvent.

ピンホールとは、塗布面に現れる円形の感光層の白抜け
を指す、また縦スジは塗布液の平滑化が進まないために
、支持体の走行方向に現れる感光層膜厚の不均一状態で
ある。
Pinholes refer to circular white spots in the photosensitive layer that appear on the coating surface, and vertical streaks are unevenness in the thickness of the photosensitive layer that appears in the running direction of the support because the coating solution is not smoothed. be.

その結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

以下余白 第1表から明らかなように、本発明外である有機溶剤と
してエチルセロソルブを用いたものは、マランゴニ−1
縦スジおよびピンホールの観察結果は劣るものであった
。また有機溶剤としては乳酸エチルを用いたが、感光物
質として2,3゜4.3’ 、4°、5゛−へキサヒド
ロキシベンゾフェノンとナフトキノン−(1,2)−ジ
アジド−4−スルホン酸クロリドとのエステル化合物(
エステル化率83%)を用いたものでは、やはり評価結
果は劣るものであった。
As is clear from Table 1 below, Marangoni-1
The observation results for vertical streaks and pinholes were poor. Ethyl lactate was used as the organic solvent, and 2,3°4.3',4°,5'-hexahydroxybenzophenone and naphthoquinone-(1,2)-diazide-4-sulfonic acid chloride were used as the photosensitive materials. Ester compound with (
The evaluation results were still inferior in the case where the esterification rate was 83%).

[発明の効果] 本発明は、オルトキノンジアジド基を含む高分子化合物
と乳酸エチルとを組合せて用いたので、感光性印刷版の
製造に際し、塗布工程において、毒性が低く、臭気も弱
いので、作業環境が改善され、更に支持体への塗布液の
塗布性が良好であり、優れた品質の感光性印刷版が得ら
れる。
[Effects of the Invention] The present invention uses a combination of a polymer compound containing an orthoquinone diazide group and ethyl lactate, so it is less toxic and has less odor during the coating process when producing photosensitive printing plates, making it easier to work with. The environment is improved, the coating liquid has good applicability to the support, and a photosensitive printing plate of excellent quality can be obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)オルトキノンジアジド基を含む高分子化合物と乳酸
エチルとを含有するポジ型感光性塗布液。 2)支持体に、オルトキノンジアジド基を含む高分子化
合物と乳酸エチルとを含有するポジ型感光性塗布液を塗
布し乾燥することを特徴とするポジ型感光性印刷版を製
造する方法。
[Scope of Claims] 1) A positive photosensitive coating liquid containing a polymer compound containing an orthoquinone diazide group and ethyl lactate. 2) A method for producing a positive-working photosensitive printing plate, which comprises coating a support with a positive-working photosensitive coating solution containing a polymer compound containing an orthoquinone diazide group and ethyl lactate, and drying the coating solution.
JP6335789A 1989-03-15 1989-03-15 Production of positive type photosensitive coating solution and positive type photosensitive printing plate Pending JPH02242256A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6335789A JPH02242256A (en) 1989-03-15 1989-03-15 Production of positive type photosensitive coating solution and positive type photosensitive printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6335789A JPH02242256A (en) 1989-03-15 1989-03-15 Production of positive type photosensitive coating solution and positive type photosensitive printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02242256A true JPH02242256A (en) 1990-09-26

Family

ID=13226919

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6335789A Pending JPH02242256A (en) 1989-03-15 1989-03-15 Production of positive type photosensitive coating solution and positive type photosensitive printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02242256A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1266196A (en) Gumming solution for use in the burning-in of offset- printing plates and process for the production of an offset-printing plate
JPH048781B2 (en)
JPH029337B2 (en)
JPH01282549A (en) Composition of developing solution for planographic printing plate and developing process
JPH02242256A (en) Production of positive type photosensitive coating solution and positive type photosensitive printing plate
JPH0341820B2 (en)
JPS63276047A (en) Photosensitive composition and photosensitive planographic printing plate
JPS6224263A (en) Method for developing photosensitive lithographic plate
JP2001503872A (en) Direct positive lithographic plate
JPH11202485A (en) Photosensitive composition for planographic printing plate
JP3847452B2 (en) Photosensitive planographic printing plate
JPH02293751A (en) Production of positive type photosensitive coating liquid and positive type photosensitive planographic printing plate
JPH11194489A (en) Photosensitive composition for lithographic printing plate
JPH10207056A (en) Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate
JPH021855A (en) Photosensitive planographic plate
JPH0240659A (en) Developer for photosensitive planographic printing plate and method for developing the printing plate
JPS62125357A (en) Developing solution composition and developing method for photosensitive lithographic printing plate
JPH1069069A (en) Production of photosensitive planographic printing plate
JPH0627646A (en) Photosensitive planographic printing plate
JPH0643636A (en) Photosensitive planographic printing plate
JPH05131773A (en) Photosensitive planographic printing plate
JPH08144090A (en) Production of substrate for photosensitive planographic printing plate and photosensitive planographic printing plate
JPH03255446A (en) Photosensitive coating solution
JPH04110946A (en) Photosensitive composition
JPS63304245A (en) Photosensitive composition and photosensitive planographic printing plate