JPH0223834A - Tampering apparatus for cacao butter and similar fat material, especially chocolate material - Google Patents

Tampering apparatus for cacao butter and similar fat material, especially chocolate material

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Publication number
JPH0223834A
JPH0223834A JP1001419A JP141989A JPH0223834A JP H0223834 A JPH0223834 A JP H0223834A JP 1001419 A JP1001419 A JP 1001419A JP 141989 A JP141989 A JP 141989A JP H0223834 A JPH0223834 A JP H0223834A
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JP
Japan
Prior art keywords
cooling
stage
heat exchange
heating stage
tempering
Prior art date
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Application number
JP1001419A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Helmut Sollich
ヘルムート・ゾリッヒ
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Beteiligungen Sorg GmbH and Co KG
Original Assignee
Beteiligungen Sorg GmbH and Co KG
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0223834A publication Critical patent/JPH0223834A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To provide stabilized beta crystal at the outlet of a tempering device for prepared materials by specifying the ratio of added areas between the heat exchange plane of a heating stage and all the heat exchange planes of cooling and heating stages. CONSTITUTION: A cooling stage 43 is formed by a cooling step 6 surrounding the lower area of a rotary driving shaft 1, and a heating step 45 is provided on an upper heating stage 44. The heat exchange plane of the heating stage is set to 40% at least, mainly, to 50% in the added areas of all the heat exchange planes of cooling and heating stages, and the temperature of a tempering medium or the temperature on the heat exchange plane of the heating stage is kept constant higher than the melting temperature of instable crystal but lower than the melting temperature of stable beta crystal.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、材料室とこの材料室中に混合・攪拌部材を
装備した少なくとも一個の冷却ステージとを具備し、材
料が熱交換によって冷却ステージの熱交換面で冷却循環
路に繋がっている冷却媒体によって冷却され、次いで加
熱ステージに導入され、この材料がテンパー循環路に繋
がるテンパー媒体によって加熱ステージの熱交換面で熱
交換して再び温められるカカオバター及び類似な油脂材
料、特にチョコレート材料のテンパー装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention comprises a material chamber and at least one cooling stage equipped with a mixing/stirring member in the material chamber, and the material is cooled and circulated on the heat exchange surface of the cooling stage by heat exchange. Cocoa butter and similar oil and fat materials are cooled by a cooling medium connected to a tempering circuit and then introduced into a heating stage, where this material is warmed again by heat exchange on the heat exchange surface of the heating stage by a tempering medium connected to a tempering circuit. , in particular relates to a device for tempering chocolate materials.

L記の様なテンパー装置は、西独特許第2536063
号公報により公知である。そこに使用されている冷却ス
テージには、互いに重なり、冷却循環路に繋がる冷却し
たカバーと床面を有する冷却スチップがある。冷却ステ
ージの材料室には、混合・攪拌部材としてスクレーパー
がある。これ等の冷却ステージには、材料が入る室を取
り巻く加熱ステージが続いている。この室の円筒状の外
面は、加熱ステージの熱交換面として形成され、テンパ
ー媒体を有するテンパー循環路に繋がっている。
A tempering device such as L is described in West German Patent No. 2536063.
It is known from the publication no. The cooling stages used therein include cooling chips having cooled covers and floors that overlap each other and are connected to cooling circuits. In the material chamber of the cooling stage, there is a scraper as a mixing/stirring member. These cooling stages are followed by heating stages surrounding the chamber into which the material enters. The cylindrical outer surface of this chamber is formed as a heat exchange surface of the heating stage and is connected to a tempering circuit with a tempering medium.

加熱ステージの熱交換面は、冷却ステージの熱交換面よ
り相当小さく形成されているので、全体の熱交換面の約
10%が加熱ステージ中に設置されている。加熱ステー
ジの材料室には、混合・攪拌部材は設置されていない。
The heat exchange surface of the heating stage is made considerably smaller than the heat exchange surface of the cooling stage, so that about 10% of the total heat exchange surface is located in the heating stage. No mixing/stirring member is installed in the material chamber of the heating stage.

この材料室は、むしろ材料の均質化と、予め作成した結
晶を装備した材料を市めるために使用されている。この
場合、材料の温度上昇が生じる。加熱ステージの前記材
料室に滞在する時間は、溶解性の低い不安定結晶が溶解
して溶解性の高い結晶形に変換する時間と機会を有する
ように設計されている。テンパー循環路のテンパー媒体
の温度がここでは、加熱ステージの材料の排出温度に依
存して制御される。この温度は加熱ステージに配設した
温度検出器によって測定される。この制御過程で、テン
パー循環路のテンパー媒体の温度に大きな温度−ト昇が
生じる。
This material chamber is rather used for material homogenization and for distributing materials equipped with pre-formed crystals. In this case, an increase in the temperature of the material occurs. The time the heating stage spends in the material chamber is designed so that the less soluble unstable crystals have time and opportunity to dissolve and convert to more soluble crystalline forms. The temperature of the tempering medium of the tempering circuit is controlled here as a function of the discharge temperature of the material of the heating stage. This temperature is measured by a temperature detector located on the heating stage. During this control process, a large temperature rise occurs in the temperature of the tempering medium in the tempering circuit.

この温度上昇は加熱ステージの材料の結晶形に必ずしも
望ましい影響を及ぼさない。一部の場所で高い〆温度は
、不安定なベータ結晶を溶融させるだけでなく、安定な
ベータ結晶も溶融させる。このことは、材料が例えばチ
ョコレートを付着させる場所でチョコレートのバー製品
にするのに不利になり、固体状態にするまでより長い凝
固時間必要である及び/又は比較的低い温度で初めて加
工製品の凝固が生じる。このことは、製品の温度敏感さ
、長もちしないこと、グレー被膜の形成及び柔らかい割
れ目のような良く知られた他の欠点に繋がる。この欠点
の一部を防止するには、加熱ステージからの製品の放出
温度を比較的低く選ぶこと、即ちテンパー循環路のテン
パー媒体の温度を比較的低くして処理することがが知ら
れている。しかし、こうするとテンパー装置による材料
の加工性が悪化するので、このことも望ましいことでは
ない。不安定結晶の一部は、比較的多里になっている。
This temperature increase does not necessarily have a desirable effect on the crystalline form of the heating stage material. High final temperatures in some places not only melt unstable beta crystals, but also stable beta crystals. This makes it disadvantageous for the material to be made into a chocolate bar product, for example, where the chocolate is deposited, requiring longer solidification times to reach the solid state and/or solidification of the processed product only at relatively low temperatures. occurs. This leads to other well-known drawbacks such as temperature sensitivity of the product, short shelf life, gray film formation and soft cracks. In order to prevent some of these drawbacks, it is known to choose a relatively low discharge temperature of the product from the heating stage, i.e. to process the tempering medium in the tempering circuit at a relatively low temperature. . However, this is also undesirable since it deteriorates the workability of the material with the tempering device. Some of the unstable crystals are relatively thick.

従来のテンパー装置は、冷却ステージと加熱ステージを
有するが、総じてこれ等の装置は比較的温かい材料を先
ず冷却し、次いで加熱ステージで再び加熱するために使
用されている。この場合、冷却ステージの構成が特に改
装になる。それは、冷却ステージに対して大きな場所を
占め、加熱ステージに比べて経費のかかる構成となる点
に見出される。即ち、冷却ステージの熱交換面は部分的
にかなり大きく形成されるが、何れの場合にも加熱ステ
ージの熱交換面に比べて大きい。冷却ステージの材料室
には多くの場合付加的な攪拌・混合用部材が設置しであ
る。これに対して、加熱ステージには、大体ただ一個の
閉じた材料室がある。
Conventional tempering devices have a cooling stage and a heating stage, but generally these devices are used to first cool a relatively warm material and then reheat it in a heating stage. In this case, the configuration of the cooling stage will be particularly modified. It is found that it occupies a large amount of space relative to the cooling stage and is an expensive construction compared to the heating stage. That is, the heat exchange surface of the cooling stage is partially formed to be quite large, but in any case it is larger than the heat exchange surface of the heating stage. Additional stirring and mixing elements are often installed in the material chamber of the cooling stage. In contrast, a heating stage generally has only one closed material chamber.

加熱ステージに複数の材料室があってもよく、このステ
ージには攪拌・混合器具が装備しである。
There may be multiple material chambers in the heating stage, which stage is equipped with stirring and mixing equipment.

材料の温度を余り高くしないようにすることも、材料の
後処理に要求される。このため、加熱ステージを冷却ス
テージより構ah小さく形成することが提唱されている
。このテンパー装置の領域では、加熱ステージが冷却ス
テージよりがなり小さく形成されたタイプの機械が定着
し、広まっている。冷却時にしばしば比較的多数の不安
定結晶が形成され、これ等の結晶は次の加熱で比較的高
い温度になると再び溶融する。この場合、通常冷却ステ
ージの安定化した結晶は、処理後チョコレート材料の急
激で規定通りの凝固に必要とされはと充分形成されてい
ない。材料を必要な速度で正確に凝固させるためには、
不安定結晶の残量が非常に少なくなっている必要がある
。この様な材料を加工後、非常に急速に冷却して一低温
と早い空気速度で一更に早く凝固させようとすると、非
常に多数の不安定結晶を形成することになる。この結果
、艷のない、軟弱なチョコレートになる。これ等の観点
から、加熱ステージの熱交換面は冷却ステージの熱交換
面より通常非常に小さく選定されている。
It is also required for post-processing of the material that the temperature of the material is not too high. For this reason, it has been proposed that the heating stage be made much smaller than the cooling stage. In this field of tempering machines, machines of the type in which the heating stage is designed to be larger and smaller than the cooling stage have become established and widespread. During cooling, a relatively large number of unstable crystals are often formed, which melt again on subsequent heating to a relatively high temperature. In this case, usually the stabilized crystals of the cooling stage are not sufficiently formed as required for the rapid and controlled solidification of the chocolate material after processing. In order to solidify the material precisely at the required rate,
The amount of unstable crystals remaining must be very small. If such a material is cooled very rapidly after processing and attempted to solidify even faster at lower temperatures and higher air velocities, a large number of unstable crystals will form. The result is a soft chocolate with no grains. From these points of view, the heat exchange surface of the heating stage is usually chosen to be much smaller than the heat exchange surface of the cooling stage.

チョレート材料を熱い状態から直接処理できなことがが
知られている。その理由は、材料中のカカオバターが凝
固核を形成するのに非常に緩慢であるからである。それ
故、凝固は非常にゆっくりと行われる。テンパー装置中
で行われる予備結晶化は凝固時間を大幅に低減させる。
It is known that cholate materials cannot be processed directly from the hot state. The reason is that the cocoa butter in the material is very slow to form solidification nuclei. Therefore, coagulation takes place very slowly. The pre-crystallization carried out in the tempering apparatus significantly reduces the solidification time.

更に、カカオバターは多様態である。つまり種々の結晶
形で凝固し、その内の溶融度の高いへ一夕結晶のみが安
定である。この安定結晶形のみが良好な艶と、耐久性と
収縮による良好な成形性を示す。
Furthermore, cocoa butter is diverse. In other words, it solidifies in various crystal forms, and only the crystals with a high degree of melting are stable overnight. Only this stable crystalline form exhibits good gloss, durability and good formability due to shrinkage.

その外、カカオバターは単イ頃態である。つまり種々の
結晶形が自動的に変化するが、−力方向のみである、言
い換えると低い溶融性から高い溶融性の結晶形に変換す
る。チョコレート製品の結晶の変換によって、製品表面
に油ののりを良くさせる能力が上昇する。
Besides, cocoa butter is in a simple state. That is, the various crystal forms change automatically, but only in the -force direction, in other words, from a low melting to a high melting crystal form. The conversion of the crystals of chocolate products increases their ability to spread oil onto the surface of the product.

カカオバターは、最終冷却時に、つまりチョコレート製
品に凝固させる場合、種結晶の結晶形と同じ結晶形に凝
固する傾向がある。しかし、この場合結晶の熱交換速度
に注意する必要がある。即ち、冷却を材料が凝固するま
で急激にしないことが必要である。テンパー装置は全<
−船釣に予備結晶化に使用さるもので、未だ液状の材料
中でこの材料に含有されている油脂の一定量を高い溶融
度の安定ベータ結晶に凝固させる。その場合、小さな結
晶集合体が大量に、材料中に理想的−様に分布する必要
がある。
Cocoa butter, upon final cooling, i.e. when solidifying into a chocolate product, tends to solidify into the same crystalline form as that of the seed crystals. However, in this case, it is necessary to pay attention to the heat exchange rate of the crystal. That is, it is necessary not to cool the material too rapidly until it solidifies. All tempering devices are
- Used for pre-crystallization in boat fishing, in which a certain amount of fats and oils contained in a still liquid material is solidified into stable beta crystals of high melting degree. In that case, a large number of small crystal aggregates must be ideally distributed in the material.

この発明の課題は、作成した材料がテンパー装置の出口
でほぼ安定したベータ結晶を有し、その数が加熱ステー
ジで低減しないように構成される巻頭に記載した種類に
属するテンパー装置を提供することにある。加えて、加
熱ステージで温度差を少なくし、充分な時間を与えて不
安定な結晶形を溶かすことができる。
The object of the invention is to provide a tempering device of the type mentioned at the beginning, in which the material produced has beta crystals that are almost stable at the exit of the tempering device, and whose number is not reduced in the heating stage. It is in. In addition, a heating stage can reduce the temperature difference and provide enough time to melt unstable crystalline forms.

上記の課題は、この発明により以下のようにして達成さ
れている。即ち、加熱ステージの熱交換面を一定に制御
した温度にするため、この加熱ステージの熱交換面が冷
却ステージと加熱ステージの全熱交換面の少なくとも4
0%、主として50%になることによっている。従って
、加熱ステージの熱交換面は、加熱ステージの熱交換面
とほぼ同じ大きさに形成される。つまり、個々の部材を
装備した加熱ステージが空間的に冷却ステージとほぼ同
じ場所を占める。それ故、加熱ステージは従来の装置の
加熱ステージに比べて非常に大きく、強力になっている
。このテンパー装置では、テンパーした材料の出口温度
が加熱ステージで一定に維持されているのでなく、テン
パー媒体の温度又は加熱ステージの熱交換面の温度が一
定に維持されている。一定に維持した上記の温度は、約
31゜5°Cと33°Cの間にあり、不安定結晶の溶融
温度より高く、安定なベータ結晶の溶融温度より低い。
The above object has been achieved by the present invention as follows. That is, in order to keep the heat exchange surface of the heating stage at a constant and controlled temperature, the heat exchange surface of the heating stage covers at least 4 of the total heat exchange surfaces of the cooling stage and the heating stage.
0%, mainly by 50%. Therefore, the heat exchange surface of the heating stage is formed to have approximately the same size as the heat exchange surface of the heating stage. That is, the heating stage equipped with the individual components occupies approximately the same spatial location as the cooling stage. Therefore, the heating stage is much larger and more powerful than that of conventional devices. In this tempering device, the temperature at the outlet of the tempered material is not maintained constant in the heating stage, but the temperature of the tempering medium or the temperature of the heat exchange surface of the heating stage is maintained constant. The above temperature, maintained constant, is between about 31°5°C and 33°C, which is above the melting temperature of unstable crystals and below the melting temperature of stable beta crystals.

テンパー装置に対して規定され、設計された装入負荷に
応じて、冷却ステージの熱交換面に対する加熱ステージ
の熱交換面の比が、いくぶん異なる。
Depending on the prescribed and designed charge load for the tempering device, the ratio of the heat exchange surface of the heating stage to the heat exchange surface of the cooling stage is somewhat different.

はぼ等しいか殆ど同じ形状がどんな場合でも有効である
Approximately equal or nearly identical shapes are valid in all cases.

この新しいテンパー装置の主要な利点は次の点にある。The main advantages of this new tempering device are:

それは、作成する材料が加熱ステージの出口で31.5
℃〜32.5°Cの程度になり、この温度が通常のテン
パー装置の場合より約2°C高い点にある。このことが
、低い材料粘性をもたらし、作成した材料をさらりとし
た状態にし、加工し易くしている。何らかの物を被せる
場合、例えばカバリング・チョコレート、クツキー及び
バーの様な場合、材料の節約になる。温度が高いにもか
かわらず、材料が安定したベータ結晶成分が多いので早
く凝固する。この材料は製品をながもちさせる、特にグ
レー霜の発生に対して弱わさが少なくなり熱に安定であ
る。成形過程で大切な優れた縮みが得られる。この材料
は凝固した形で優れた光沢を有し、−Sに努められてい
る様な、壊れ易い割れ目をもたらす。
It means that the material to be created is 31.5 at the exit of the heating stage.
°C to 32.5 °C, at the point where this temperature is about 2 °C higher than in conventional tempering equipment. This results in a low material viscosity, making the produced material free-flowing and easy to process. If you cover something, such as covering chocolate, cutlets and bars, you will save on materials. Despite the high temperature, the material solidifies quickly because it has a large amount of stable beta crystal components. This material makes the product last longer, is particularly less susceptible to the formation of gray frost, and is more thermally stable. Excellent shrinkage, which is important during the molding process, can be achieved. This material has excellent luster in the solidified form and provides brittle cracks, such as those attempted in -S.

一方、今まのテンパー装置では加熱ステージの出口に材
料の温度検出器を装備し、この温度検出器に応じてテン
パー媒体の温度を制御している。
On the other hand, existing tempering devices are equipped with a material temperature detector at the exit of the heating stage, and the temperature of the tempering medium is controlled in accordance with this temperature detector.

F記の方式は、この発明では採用していない。これとは
逆に、テンパー媒体の温度を温度検出器で測定し、テン
パー媒体の温度を温度制御装置を用いて一定に制御して
いる。加熱ステージの比較的広い熱交換面によって、テ
ンパーされる材料は加熱ステージの最後で一定の温度に
される。この温度の絶対値は最早重要ではない。むしろ
重要なのは、広い面を加熱ステージに用いて、温度差を
少な(して材料中に含有される安定ベータ結晶を損なわ
ないようにし、反対に不安定結晶形を溶解させることに
ある。材料をその上に降り注ぐ最終製品の品位が高い場
合、どんな場合でも安定なヘータ結晶の成分が加熱ステ
ージの最終部で重要である。即ち、テンパー媒体の温度
、従って加熱ステージの熱交換面の温度を一定に維持す
るため、加熱ステージのテンパー媒体の側に温度検出器
を装備している。
The method described in F is not adopted in this invention. On the contrary, the temperature of the tempering medium is measured by a temperature detector, and the temperature of the tempering medium is controlled to be constant using a temperature control device. Due to the relatively large heat exchange surface of the heating stage, the material to be tempered is brought to a constant temperature at the end of the heating stage. The absolute value of this temperature is no longer important. Rather, the key is to use a large surface area for the heating stage so that the temperature difference is small (so that the stable beta crystals contained in the material are not destroyed, and, on the contrary, the unstable crystal forms are dissolved. If the final product falling onto it is of high quality, a stable heta-crystalline content is important in the final part of the heating stage in any case, i.e. to maintain a constant temperature of the tempering medium and thus of the heat exchange surfaces of the heating stage. The heating stage is equipped with a temperature sensor on the side of the tempering medium to maintain the temperature.

加熱ステージのテンパー循環路は、渦状の流れになるよ
うに形成されている。この場合、加熱ステージの材料室
で動作する、材料の強力な混合と渦を発生させる混合・
攪拌部材が配設しである。
The tempering circulation path of the heating stage is formed to have a spiral flow. In this case, the mixing device, which operates in the material chamber of the heating stage, generates a strong mixing and vortex of the material.
A stirring member is provided.

加熱ステージのテンパー媒体側で渦状の流れを用いて、
温度差が小さい場合でも優れた熱の伝達が行える。この
材料中に生じた渦によって非常に強力な結晶成長が始ま
り、材料には冷却ステージを去った時、未だ不安定結晶
があるが、更に充分な安定結晶(4〜5%)があるので
、充分子ζすきさにした加熱ステージを通過後、材料中
には不安定な結晶はないか、あるいは僅かにしか残って
いない。材料を強力に混合し渦を作ると高濃度の安定化
ヘータ結晶の−様な分布も得られる。加工後に続くテン
パーした材料の冷却は、従来のものより早く行われる。
Using a swirling flow on the tempering medium side of the heating stage,
Excellent heat transfer is possible even when the temperature difference is small. The vortices created in this material initiate very strong crystal growth, and when the material leaves the cooling stage, there are still unstable crystals, but there are also enough stable crystals (4-5%) that After passing through the heating stages with sufficient numeric spacing, there are no or only a few unstable crystals remaining in the material. By vigorously mixing the materials and creating a vortex, a high concentration of stabilized heta crystals can also be obtained. Cooling of the tempered material following processing occurs faster than in the conventional case.

その理由は、高溶解性の安定な結晶は低い溶解性の結晶
より早く凝固するからである。
The reason is that stable crystals with high solubility solidify faster than crystals with low solubility.

冷却ステージにも、渦状の流れを形成する冷却循環路が
形成してもよい。冷却ステージでも相当大きな温度差が
影響を及ぼすとしても、熱交換面の強力な利用を示せる
ので、テンパー装置の全体の構造体積はそれに応じて小
さく構成でき、いずれにしても従来はど大きくならない
A cooling circuit forming a spiral flow may also be formed in the cooling stage. Even if the cooling stage is also affected by fairly large temperature differences, the strong use of the heat exchange surface can be demonstrated, so that the overall structural volume of the tempering device can be constructed correspondingly small, and in any case is not as large as before.

冷却ステージと加熱ステージは、それ自体間じか、ある
いは同一に形成できる。冷却ステージの材料室も、また
加熱ステージの材料室も、類似、あるいは同じように形
成した混合・攪拌部材を装備できる。ただ大切な点は、
二つの独立した循環路、つまり冷却循環路とテンパー循
環路を配設することにある。
The cooling stage and the heating stage can be formed directly or identically. Both the material chamber of the cooling stage and also the material chamber of the heating stage can be equipped with similar or similarly configured mixing and stirring elements. The only important point is that
The purpose is to provide two independent circulation paths, a cooling circulation path and a tempering circulation path.

この発明を好適実施例に基づき更に詳しく図示して説明
する。
The present invention will be explained in more detail with reference to preferred embodiments.

第1図に示す装置は、ヨーロッパ特許出願(第8810
6189.9号公報)の第1図の装置と原理的に同じ構
成である。この出願では特に混合・攪拌部材の構成を述
べたものである。見通しを良くするため、これ等の部材
をもう一度示すことはしない。下部領域には、駆動回転
軸1がここでも冷却ステップ6によって取り巻かれてい
る。これ等の冷却ステップは全体で冷却ステージ43を
形成し、上部には加熱ステージがある。貯蔵室7を加熱
ステージ44に続けて更に設置することができるが、多
くの場合必要ではない。加熱ステージ44には、加熱ス
テップ45がある。これ等のステップは冷却ステップ6
とは原理的にその構造だけでなく、動作方式も次のよう
に異なっている。それは、冷却ステージ43の領域で材
料が冷えるが、加熱ステージ44の領域では再び温まる
点にある。どの加熱ステップ45にも、材料室46が形
成してあり、ここでも漏出口14と16が内部又は外部
に配設しである。加熱ステップ45の構造は冷却ステッ
プ6と相違していない。つまり、加熱ステップ45にも
加熱室47と熱交換面48があり、それ等の室で材料が
温められる。攪拌器具は、見通しを良くするため描き込
んでない。この攪拌器具は、材料室46で連続的に駆動
されている。処理しようとする材料は、図示していない
ポンプによって導管13とその内側にある漏出口16を
経由して最下端材料室8に通じている。そこでこの材料
は攪拌器具によって攪拌され、より大きい直径になる。
The device shown in FIG.
The structure is basically the same as the device shown in FIG. 1 of Publication No. 6189.9). This application specifically describes the configuration of the mixing/stirring member. For clarity, these components are not shown again. In the lower region, the drive shaft 1 is again surrounded by a cooling step 6 . These cooling steps together form a cooling stage 43, on top of which is a heating stage. A further storage chamber 7 can be installed following the heating stage 44, but in many cases this is not necessary. The heating stage 44 includes a heating step 45 . These steps are cooling step 6
It differs in principle not only in its structure but also in its operating method as follows. The point is that the material cools down in the area of the cooling stage 43, but warms up again in the area of the heating stage 44. In every heating step 45 a material chamber 46 is formed, again with leak openings 14 and 16 arranged internally or externally. The structure of the heating step 45 does not differ from the cooling step 6. That is, the heating step 45 also has a heating chamber 47 and a heat exchange surface 48, and the material is heated in these chambers. The stirring equipment is not drawn to improve visibility. This stirring device is continuously driven in the material chamber 46. The material to be treated is communicated to the lowermost material chamber 8 via a conduit 13 and an internal leakage opening 16 by means of a pump (not shown). The material is then agitated by a stirring device to a larger diameter.

その結果、材料は外部に設置した漏出口14を経由して
次の室に導入される。こうして、材料は、図示していな
いポンプによって搬送され、冷却ステージ43の全ての
材料室8を通過し、これに繋がる加熱ステージ44の最
下端材料室46に達する。こうして、材料は再び温めら
れる。
As a result, the material is introduced into the next chamber via the externally installed leak opening 14. In this way, the material is transported by a pump (not shown), passes through all the material chambers 8 of the cooling stage 43, and reaches the lowest material chamber 46 of the heating stage 44 connected thereto. The material is thus rewarmed.

種々の循環路は以下の様に形成して配設しである。即ち
、遡源過器49と手動仕切弁50を装備した導管28を
経由して注入弁51に達するので、冷却ステージ43の
冷却循環路が充填される。この冷却循環路には、混合貯
槽20がある。この貯槽から一本の導管21がポンプ2
2に通ずる。そしてこのポンプから一本の導管23が冷
却ステージ43の最上端ステップ6の冷却室9に通じて
いる。導管26を経由して、冷却水が最下端冷却室9か
ら混合貯槽20に戻る。導管28から導管21に通ずる
導管52には、減圧弁として形成しである制御弁29と
、電磁弁30と、手動仕切弁53とが配設しであるので
、この導管52を経由して、冷却ステージ43の循環水
の温度を下げるために冷却水が予備貯槽から必要な場合
、循環路に添加できる。この第一循環路に排水弁54と
55が配設しである。ポンプ22の背後には、逆上弁5
6とマノメータ57が設置しである。混合貯槽20には
、加熱装置58が配設してあり、熱検出器59によって
接触サーモメータ60を介して駆動でき、特に夜間加熱
用に、チョコレート材料が装置にただ液状に維持され、
製品にされていない時点に使用される。材料の温度を冷
却ステージ43の端部で測定する温度検出器41を介し
て、冷却循環路の温度が温度制御器42によって調節さ
れるか、制御されて循環する水量が常時一定に維持され
、ただ微々たる温度制御が行われ、冷却ステージ43の
端部で所望の設定した低い温度に材料が到達する。温度
制御器42によって電磁弁30が操作される。
The various circulation paths are formed and arranged as follows. That is, it reaches the injection valve 51 via the conduit 28 equipped with a retrofilter 49 and a manual gate valve 50, so that the cooling circuit of the cooling stage 43 is filled. In this cooling circuit there is a mixing storage tank 20. One conduit 21 is connected to the pump 2 from this storage tank.
Leads to 2. A conduit 23 leads from this pump to the cooling chamber 9 of the uppermost step 6 of the cooling stage 43. Via conduit 26, cooling water returns from the lowermost cooling chamber 9 to the mixing reservoir 20. A conduit 52 leading from the conduit 28 to the conduit 21 is provided with a control valve 29 formed as a pressure reducing valve, a solenoid valve 30, and a manual gate valve 53. If cooling water is needed from a reserve reservoir to reduce the temperature of the circulating water in the cooling stage 43, it can be added to the circuit. Drain valves 54 and 55 are arranged in this first circulation path. Behind the pump 22 is a reverse valve 5.
6 and a manometer 57 are installed. A heating device 58 is arranged in the mixing reservoir 20, which can be driven by a heat detector 59 via a contact thermometer 60, so that the chocolate material is kept only in liquid form in the device, especially for night-time heating.
Used at no point in the product. Via a temperature sensor 41 that measures the temperature of the material at the end of the cooling stage 43, the temperature of the cooling circuit is regulated or controlled by a temperature controller 42 so that the amount of water circulated is kept constant at all times; However, slight temperature control is provided such that the material reaches the desired set low temperature at the end of the cooling stage 43. The solenoid valve 30 is operated by the temperature controller 42 .

冷却ステージ43の領域には、安全圧力開閉器61が装
備しである。温かい材料を通す導管13には、温度検出
器62と材料導入温度用の表示部63が装備してあって
もよい。
The area of the cooling stage 43 is equipped with a safety pressure switch 61. The conduit 13 through which the warm material passes may be equipped with a temperature detector 62 and an indicator 63 for the material introduction temperature.

テンパー循環路である第二循環路は、基本的にはそれ自
体第一循環路と同じように形成されているが、ここでは
加熱ステージ44の内部で材料の加熱のみを行う、導管
23から分岐した導管64には、導通量調節弁65、電
磁弁66及び手動仕切弁67があるので、温かい水はこ
うして冷却循環路からテンパー循環路の混合貯槽68に
達する。
The second circuit, which is a tempering circuit, is basically constructed in the same way as the first circuit, but here it branches off from the conduit 23, which only heats the material inside the heating stage 44. The conduit 64 has a flow control valve 65, a solenoid valve 66 and a manual gate valve 67, so that the warm water thus reaches the mixing tank 68 of the tempering circuit from the cooling circuit.

そこから、導管69がポンプ70に達し、逆止弁ブ1と
導管73中のマノメータ72を経由して加熱ステージ4
4の最ト段加熱室47に導入される。
From there, conduit 69 reaches pump 70 via check valve 1 and manometer 72 in conduit 73 to heating stage 4.
4 is introduced into the highest stage heating chamber 47.

ここでも、テンパー媒体、水は加熱ステップ45を通過
して逆流して添加され、導管74を経由して混合貯槽6
8に戻される。この混合貯槽68には、加熱装置75が
装備しである。この装置は夜間加熱のために温度検出器
76と接触サーモメータ77によって駆動される。導管
73から手動仕切弁79を装備した導管78が分岐して
いる。この導管78は材料排出部18に通じている。こ
の排出部の導管構成部分は、テンパーする材料を矢印1
9に応じて加工場所に輸送して所望の材料排出温度を失
わないように、加熱されるか、あるいは温度を一定に維
持しである。戻し導管80には、手動仕切弁81が設置
しである。温度検出器82と安全サーモメータ83によ
って加熱ステージ44の問題箇所の材料温度を監視でき
る。更に、材料排出温度を測定する温度検出器84があ
り、この検出器は材料排出温度を表示するため、表示装
置85に接続されている。更に、この加熱循環路には水
排出弁86が配設しである。温度検出器87は、導管7
3中に配設してあり、温度制御器88に接続されている
。この制御器は他方で電磁弁66を制御する。冷却水戻
り通路89を経由して、過剰な水がテンパー循環路から
も冷却循環路からも排出される。
Again, the tempering medium, water, is added back through the heating step 45 and via conduit 74 to the mixing reservoir 6.
Returned to 8. This mixing tank 68 is equipped with a heating device 75. This device is driven by a temperature sensor 76 and a contact thermometer 77 for night heating. A conduit 78 equipped with a manual gate valve 79 branches off from the conduit 73 . This conduit 78 leads to the material outlet 18 . The conduit component of this discharge section carries the material to be tempered by arrow 1.
9, the material may be heated or the temperature may be kept constant during transport to the processing location so as not to lose the desired material discharge temperature. A manual gate valve 81 is installed in the return conduit 80. Temperature detector 82 and safety thermometer 83 allow monitoring of material temperature at problem locations on heating stage 44. Furthermore, there is a temperature detector 84 for measuring the material discharge temperature, which detector is connected to a display device 85 for displaying the material discharge temperature. Furthermore, a water discharge valve 86 is disposed in this heating circuit. Temperature detector 87 is connected to conduit 7
3 and is connected to a temperature controller 88. This controller in turn controls the solenoid valve 66. Via the cooling water return channel 89, excess water is discharged both from the tempering circuit and from the cooling circuit.

第2図には、第1図のテンパー装置の温度推移が示しで
ある。この場合、冷却ステージ43は加熱ステージ44
とほぼ同じように形成しである。
FIG. 2 shows the temperature transition of the tempering device of FIG. 1. In this case, the cooling stage 43 is replaced by the heating stage 44.
It is formed almost the same way.

つまり、冷却ステップ6と加熱ステップ45の数が一致
しているように形成しである。冷却ステージ43での滞
留期間は2.5分になるので、加熱ステージ44での滞
留期間も2.5分になる。処理すべき材料は約43°C
〜50°Cの温度にした導管13を経由して最下段冷却
ステップ6に導入される。
In other words, the number of cooling steps 6 and the number of heating steps 45 are the same. Since the residence period in the cooling stage 43 is 2.5 minutes, the residence period in the heating stage 44 is also 2.5 minutes. The material to be processed is approximately 43°C
It is introduced into the lowermost cooling step 6 via a conduit 13 brought to a temperature of ~50°C.

冷却循環路の冷却水の温度は、16°C〜22°Cの程
度で、ここでは冷却ステージ43の領域に対してただ模
式的に示しである。冷却水は逆向きに流しであるので、
図示した水平線は実際にはいくぶん上昇気味に推移し、
材料から受は取った熱によって、冷却水の0.5°C程
度の加熱が行われる。重要な点は、循環させている水の
量が冷却室9の渦を得るために非常に多量である点にあ
る。冷却循環路の温度は、冷却ステージ43の終わりで
の得られた材料温度に応じて温度検出器41によって測
定し、温度制御器42を用いて電磁弁30を介して調節
される。冷却ステージ43の終わりでは、材料の温度は
28℃〜29°Cになり、この温度のまま、加熱ステー
ジ44中に入る。ここでは、温かい水は循環路で約31
.5°C〜33℃の温度になる。その場合、この処理も
逆流方法で行われる。
The temperature of the cooling water in the cooling circuit is of the order of 16 DEG C. to 22 DEG C., and is shown here only schematically for the region of the cooling stage 43. Since the cooling water is flowing in the opposite direction,
The horizontal line shown in the diagram is actually trending somewhat upward,
The heat taken from the material heats the cooling water to about 0.5°C. The important point is that the amount of water being circulated is very large in order to obtain the vortex in the cooling chamber 9. The temperature of the cooling circuit is measured by a temperature detector 41 as a function of the material temperature obtained at the end of the cooling stage 43 and is regulated via the solenoid valve 30 using a temperature controller 42 . At the end of the cooling stage 43, the temperature of the material is between 28°C and 29°C and remains at this temperature until it enters the heating stage 44. Here, warm water is circulated around 31
.. The temperature will be between 5°C and 33°C. In that case, this treatment is also carried out in a countercurrent manner.

必要な温水は冷却循環路から取り出し、それに応じて加
熱装置75によって加熱される。前記温水は温水室46
を通過するときその温度を低下させるので、もう−度加
熱する必要がある。チョコレートは加熱ステージ44で
温められ、材料放出温度では31.5°Cと32.5℃
の間の大きさになる。
The required hot water is taken from the cooling circuit and heated accordingly by the heating device 75. The hot water is supplied to the hot water chamber 46.
As it passes through, it lowers its temperature, so it needs to be heated another degree. The chocolate is warmed in heating stage 44, with material release temperatures of 31.5°C and 32.5°C.
The size will be between.

この材料放出温度は、約2℃はど公知の装置に比べて高
い、それ故、以後の加工処理特性が改善される結果にな
る。
This material release temperature is approximately 2° C. higher compared to known devices, thus resulting in improved subsequent processing properties.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、冷却循環路とテンパー循環路を有するテンパ
ー装置の主要部の模式図。 第2図は、第1図のテンパー装置に関して温度と時間の
グラフ。 図中引用記号: ■・・・駆動回転軸、 6・・・冷却ステップ、 8・・・材料室、 9・・・冷却室、 13.21,23,26.2B、52,64゜69.7
3,74.78・・・導管、 14 16・・・貫通口、 18・・・材料排出口、 19・・・矢印、 20.68・・・混合貯槽、 22.70・・・ポンプ、 29・・・制御弁、 30.66・・・電磁弁、 41.59.62.76・・・温度検出器、42・・・
温度制御器、 43・・・冷却ステージ、 44・・・加熱ステージ、 45・・・加熱ステップ、 47・・・加熱室、 48・・・熱交換面、 49・・・汚れ濾過器、 50.53,67.79.81・・・手動仕切弁、51
・・・充填弁、 54.55・・・水放出弁、 56.71・・・逆止弁、 57・・・マノメータ、 58.75・・・加熱装置、 60.77・・・接触サーモメータ、 61・・・安全圧力開閉器、 63・・・表示部、 65・・・通過量調整弁、 80・・・戻し導管。
FIG. 1 is a schematic diagram of the main parts of a tempering device having a cooling circulation path and a tempering circulation path. FIG. 2 is a graph of temperature versus time for the tempering apparatus of FIG. Reference symbols in the figure: ■... Drive rotating shaft, 6... Cooling step, 8... Material chamber, 9... Cooling chamber, 13.21, 23, 26.2B, 52, 64° 69. 7
3,74.78... Conduit, 14 16... Penetration port, 18... Material discharge port, 19... Arrow, 20.68... Mixing storage tank, 22.70... Pump, 29 ...Control valve, 30.66...Solenoid valve, 41.59.62.76...Temperature detector, 42...
Temperature controller, 43... Cooling stage, 44... Heating stage, 45... Heating step, 47... Heating chamber, 48... Heat exchange surface, 49... Dirt filter, 50. 53,67.79.81...Manual gate valve, 51
...Filling valve, 54.55...Water discharge valve, 56.71...Check valve, 57...Manometer, 58.75...Heating device, 60.77...Contact thermometer , 61... Safety pressure switch, 63... Display unit, 65... Passage amount adjustment valve, 80... Return conduit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、材料室とこの材料室中に混合・攪拌部材を装備した
少なくとも一個の冷却ステージとを具備し、材料が熱交
換によって冷却ステージの熱交換面で冷却循環路に繋が
っている冷却媒体によって冷却され、次いで加熱ステー
ジ(44)に導入され、この材料がテンパー循環路に繋
がるテンパー媒体によって加熱ステージ(44)の熱交
換面(48)で熱交換して再び温められるカカオバター
及び類似な油脂材料、特にチョコレート材料のテンパー
装置において、加熱ステージ(44)の熱交換面(48
)を一定に調節した温度にするため、加熱ステージの熱
交換面(48)は冷却ステージ(43)と加熱ステージ
(44)の熱交換面の加算面積の少なくとも40%、主
に50%であることを特徴とするテンパー装置。 2、加熱ステージ(44)のテンパー媒体側には、テン
パー媒体の温度、従って加熱ステージ(44)の熱交換
面(48)の温度を一定に維持するため温度検出器(8
7)を装備してあることを特徴とする請求項1記載のテ
ンパー装置。 3、加熱ステージ(44)のテンパー循環路は、渦状の
流れ状態を得るために形成してあり、加熱ステージ(4
4)の材料室(46)中で駆動される混合・攪拌部材は
、材料の強力な混合と攪拌をするために装備してあるこ
とを特徴とする請求項1又は2記載のテンパー装置。 4、冷却ステージ(43)にも、渦状の流れ状態を得る
ための冷却循環路が形成してあることを特徴とする請求
項3記載のテンパー装置。 5、冷却ステージ(43)の材料室(8)と加熱ステー
ジ(44)の材料室(46)には、類似又は同じに構成
した混合・攪拌部材が装備してあることを特徴とする請
求項3又は4記載のテンパー装置。 6、冷却ステージ(43)の材料室(8)と加熱ステー
ジ(44)の材料室(46)には、同じ漏出面とそれ以
外に同じ幾何学条件があり、材料に対して同じ滞留時間
にしてあることを特徴とする請求項5記載のテンパー装
置。
[Claims] 1. A material chamber comprising a material chamber and at least one cooling stage equipped with a mixing/stirring member in the material chamber, and the material is connected to the cooling circulation path at the heat exchange surface of the cooling stage through heat exchange. The cocoa material is cooled by the cooling medium in the heating stage (44), and then introduced into the heating stage (44), where this material is warmed again by heat exchange on the heat exchange surface (48) of the heating stage (44) by the tempering medium connected to the tempering circuit. In apparatus for tempering butter and similar fatty materials, especially chocolate materials, the heat exchange surface (48) of the heating stage (44)
) to a constant and regulated temperature, the heat exchange surface (48) of the heating stage is at least 40%, preferably 50%, of the combined area of the heat exchange surfaces of the cooling stage (43) and the heating stage (44). A tempering device characterized by: 2. A temperature detector (8) is installed on the tempering medium side of the heating stage (44) in order to maintain a constant temperature of the tempering medium and therefore the temperature of the heat exchange surface (48) of the heating stage (44).
7) The tempering device according to claim 1, further comprising: 7). 3. The tempering circulation path of the heating stage (44) is formed to obtain a vortex-like flow state.
3. A tempering device according to claim 1 or 2, characterized in that the mixing and stirring member driven in the material chamber (46) of step 4) is equipped for intensive mixing and stirring of the materials. 4. The tempering device according to claim 3, wherein the cooling stage (43) is also provided with a cooling circulation path for obtaining a spiral flow state. 5. A claim characterized in that the material chamber (8) of the cooling stage (43) and the material chamber (46) of the heating stage (44) are equipped with mixing/stirring members having similar or identical configurations. 4. The tempering device according to 3 or 4. 6. The material chamber (8) of the cooling stage (43) and the material chamber (46) of the heating stage (44) have the same leakage surface and otherwise the same geometrical conditions, and have the same residence time for the material. 6. The tempering device according to claim 5, characterized in that:
JP1001419A 1988-04-19 1989-01-09 Tampering apparatus for cacao butter and similar fat material, especially chocolate material Pending JPH0223834A (en)

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EP88106189.9 1988-04-19

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4059047A (en) * 1975-08-13 1977-11-22 Sollich Kg Conditioning machine for chocolate masses

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4059047A (en) * 1975-08-13 1977-11-22 Sollich Kg Conditioning machine for chocolate masses

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