JPH02223477A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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Publication number
JPH02223477A
JPH02223477A JP1308540A JP30854089A JPH02223477A JP H02223477 A JPH02223477 A JP H02223477A JP 1308540 A JP1308540 A JP 1308540A JP 30854089 A JP30854089 A JP 30854089A JP H02223477 A JPH02223477 A JP H02223477A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
recording film
cyclic olefin
recording
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP1308540A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisaharu Hihashi
樋端 久治
Mitsuyuki Kuroiwa
光之 黒岩
Takeshi Minoda
武 美濃田
Akira Todo
昭 藤堂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Petrochemical Industries Ltd filed Critical Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority to JP1308540A priority Critical patent/JPH02223477A/en
Publication of JPH02223477A publication Critical patent/JPH02223477A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To enhance an adhesion between a recording film and a substrate by a method wherein an optical recording medium is formed by providing the recording film containing Te as a main component, Cr, C, and H on the substrate made of a cyclic olefin random copolymer. CONSTITUTION:By applying a magnetron sputtering method to Te and Cr as separate targets in a mixed gas of an organic gas containing C and H and an Ar gas, a recording layer 12 made of a Te-Cr alloy thin film containing C and H is formed on a substrate 11, whereby an optical recording medium 10 is produced. As the substrate 11, a cyclic olefin random copolymer shown by a formula I is used. In the formula I, (n) represents 0 or a positive integer, R<1> - R<12> are H, halogen or hydrocarbon, and R<9> - R<12> may bond with each other to form a monocyclic or polycyclic group, which may have double bonds.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、光あるいは熱等のエネルギービームの照射に
より基板上の記録膜にピットを形成して情報を記録する
ようにした光記録媒体に関する。
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an optical recording medium in which information is recorded by forming pits in a recording film on a substrate by irradiation with an energy beam such as light or heat.

発明の技術的背景 光記録媒体には、エネルギービームの照射により、記録
膜の一部に穴もしくは凹部等の物理的変化部を形成する
方式のものと、記録膜の一部に光学的特性(屈折率、反
射率など)を変化させた光学特性変化部を形成する方式
のものとがある。
Technical Background of the Invention There are two types of optical recording media: those in which physically changed parts such as holes or recesses are formed in a part of the recording film by irradiation with an energy beam, and those in which a part of the recording film has optical properties ( There is also a method in which an optical characteristic changing section is formed by changing the refractive index, reflectance, etc.).

いずれの方式の光記録媒体における記録膜としでも、テ
ルル(Te)等の低融点金属を主成分とする記録膜が従
来から知られている(特開昭58−71195号公報、
特開昭58−9234号公報)。低融点金属膜として代
表的なTe膜は、非常に低いエネルギーで所望の物理的
変化部もしくは光学特性変化部(以下、総称して、「ピ
ットJと称す)を形成でき、高感度材料として極めて有
望である。ここて感度とは単位面積当りのピット形成に
要するエネルギー(m J / ad )で定義される
As a recording film for any type of optical recording medium, a recording film whose main component is a low-melting point metal such as tellurium (Te) has been known (Japanese Patent Application Laid-open No. 71195/1983,
(Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-9234). Te film, which is typical as a low-melting point metal film, can form desired physical change parts or optical property change parts (hereinafter collectively referred to as "pit J") with very low energy, making it extremely useful as a high-sensitivity material. Here, sensitivity is defined as the energy required to form pits per unit area (mJ/ad).

このように従来Teを主成分とする記録膜は知られてい
るが、これらの記録膜を通常の基板だとえばポリカーボ
ネート樹脂からなる基板に積層してなる光記録媒体は、
記録感度が充分ではないという問題点があり、さらに記
録感度が向上した光記録媒体の出現が望まれている。
As described above, recording films containing Te as a main component are known, but an optical recording medium in which these recording films are laminated on a normal substrate made of polycarbonate resin,
There is a problem that the recording sensitivity is not sufficient, and there is a desire for an optical recording medium with further improved recording sensitivity.

また上記のようなTeを主成分とする記録膜を通常の基
板たとえばポリカーボネート樹脂からなる基板に積層し
てなる光記録媒体は、基板と記録膜との密着性も充分で
はなかった。このため基板と記録膜との密着性を高める
ためにポリカーボネート樹脂基板の表面をプラズマ処理
する工程が必要となることがあった。
Furthermore, optical recording media in which a recording film containing Te as a main component as described above is laminated on a normal substrate, such as a substrate made of polycarbonate resin, have insufficient adhesion between the substrate and the recording film. Therefore, in order to improve the adhesion between the substrate and the recording film, a step of plasma-treating the surface of the polycarbonate resin substrate is sometimes necessary.

本発明者らは、上記のような光記録媒体の記録感度を高
め、しかも基板と記録膜との密着性を高めるべく鋭意研
究したところ、基板として特定の構造を有するエチレン
と環状オレフィンとのランダム共重合体を用い、かつ上
記のような基板に特定の記録膜を積層すれば、記録感度
に優れ、しかも基板と記録膜との密着性に優れた光記録
媒体が得られることを見出して本発明を完成するに至っ
た。
The present inventors conducted intensive research to increase the recording sensitivity of the optical recording medium as described above and also to improve the adhesion between the substrate and the recording film, and found that a random combination of ethylene and cyclic olefin having a specific structure was used as the substrate. The author of this book discovered that by using a copolymer and laminating a specific recording film on the substrate as described above, an optical recording medium with excellent recording sensitivity and excellent adhesion between the substrate and the recording film could be obtained. The invention was completed.

なおTeを主成分として含む記録膜の耐酸化性を向上さ
せるために、記録膜の組成面からの検討も行なわれてお
り、たとえば特公昭59−33320号公報には、Cお
よびHが含まれたTe膜が提案されており、また特開昭
59−63038号公報には、Crが含まれたTe膜が
提案されている。しかしながら上記のような各公報に提
案されたTeを主成分として含む記録膜は、いずれもそ
の耐酸化性が充分であるとは言えない。
In order to improve the oxidation resistance of a recording film containing Te as a main component, studies have also been conducted from the viewpoint of the composition of the recording film. For example, in Japanese Patent Publication No. 59-33320, A Te film containing Cr has been proposed, and JP-A-59-63038 proposes a Te film containing Cr. However, none of the recording films containing Te as a main component proposed in the above-mentioned publications have sufficient oxidation resistance.

発明の目的 本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解決し
ようとするものであって、記録感度に優れ、しかも基板
と光記録膜との密着性に優れた光記録媒体を提供するこ
とを目的としている。
Purpose of the Invention The present invention aims to solve the problems associated with the prior art as described above, and provides an optical recording medium with excellent recording sensitivity and excellent adhesion between the substrate and the optical recording film. It is intended to.

発明の概要 本発明に係る光記録媒体は、基板と、この基板上に形成
された記録膜とからなり、この記録膜にエネルギービー
ムを照射することにより、この記録膜にピットを形成し
て情報を記録するようにした光記録媒体において、 前記記録膜は、Teを主成分としてCr、CおよびHを
含む薄膜であり、 基板が、 エチレンと、下記一般式[I]で表わされる環状オレフ
ィンとの共重合体とからなる環状オレフィン系ランダム
共重合体から形成されていることを特徴としている。
Summary of the Invention The optical recording medium according to the present invention consists of a substrate and a recording film formed on the substrate.By irradiating the recording film with an energy beam, pits are formed in the recording film and information is stored. In the optical recording medium for recording, the recording film is a thin film containing Te as a main component and Cr, C, and H, and the substrate is composed of ethylene and a cyclic olefin represented by the following general formula [I]. It is characterized by being formed from a cyclic olefin random copolymer consisting of a copolymer of

(式[I]において、nは0もしくは正の整数であり、
R1ないしR12はそれぞれ水素原子、ノ\ロゲン原子
または炭化水素基を示し、R9−R12は、互いに結合
して単環または多環の基を形成していでもよく、かつ該
単環または多環の基が二重結合を有していてもよく、 またR9とRlOとで、またはR11とR12とで、ア
ルキリデン基を形成していてもよい)。
(In formula [I], n is 0 or a positive integer,
R1 to R12 each represent a hydrogen atom, a norogen atom, or a hydrocarbon group, and R9 to R12 may be bonded to each other to form a monocyclic or polycyclic group, and The group may have a double bond, and R9 and RlO or R11 and R12 may form an alkylidene group).

このような環状オレフィン系ランダム共重合体中におい
ては、該環状オレフィン成分は一般式[■]で表わされ
る構造を形成している。
In such a cyclic olefin random copolymer, the cyclic olefin component forms a structure represented by the general formula [■].

(式[1]において、nは0もしくは正の整数であり、
RないしR12はそれぞれ水素原子、ハロ■ ゲン原子または炭化水素基を示し、R−R12は、互い
に結合して単環または多環の基を形成していでもよく、
かつ該単環または多環の基が二重結合を有していてもよ
く、    IQ またR とRとで、またはRliとR12とで、アルキ
リデン基を形成していてもよい)。
(In formula [1], n is 0 or a positive integer,
R to R12 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group, and R-R12 may be bonded to each other to form a monocyclic or polycyclic group,
The monocyclic or polycyclic group may have a double bond, and R and R or Rli and R12 may form an alkylidene group).

発明の詳細な説明 以下本発明に係る光記録媒体について、具体的に説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The optical recording medium according to the present invention will be specifically described below.

本発明に係る光記録媒体10は、第1−図に示すように
、基板11上に光記録膜12が積層された構造を有して
いる。
The optical recording medium 10 according to the present invention has a structure in which an optical recording film 12 is laminated on a substrate 11, as shown in FIG.

また、本発明に係る光記録媒体10は、2枚の記録媒体
10を、外周部に介在する外周スペーサと内周部に介在
する内周スペーサとを介してその光記録膜12同士が対
面するようにして貼り合せ、エアーサンドイッチ構造の
光記録媒体としても良い。
Further, in the optical recording medium 10 according to the present invention, the optical recording films 12 of the two recording media 10 face each other with an outer circumferential spacer interposed at the outer circumference and an inner circumferential spacer interposed at the inner circumference. In this way, they may be bonded together to form an optical recording medium with an air sandwich structure.

この際、スペーサと光記録媒体との接合は、超音波溶接
によって行なっても、接着剤、たとえばホットメルト接
着剤を用いて行なっても良い。
At this time, the spacer and the optical recording medium may be joined by ultrasonic welding or by using an adhesive such as a hot melt adhesive.

基  板 本発明に係る光記録媒体では、上記のような基板11は
、 エチレンと、下記一般式[I]で表わされる環状オレフ
ィンとの共重合体とからなり、135℃のデカリン中で
測定した極限粘度[η]が0.05〜10dA!/gの
範囲にある環状オレフィン系ランダム共重合体から形成
されている。
Substrate In the optical recording medium according to the present invention, the substrate 11 as described above is made of a copolymer of ethylene and a cyclic olefin represented by the following general formula [I], and has a copolymer of ethylene and a cyclic olefin represented by the following general formula [I]. Intrinsic viscosity [η] is 0.05 to 10 dA! /g of a cyclic olefin random copolymer.

ランダム共重合体について説明する。A random copolymer will be explained.

上記一般式[I]で表わされる環状オレフィンについて
さらに詳しく説明すると、上記一般式[11で表わされ
る環状オレフィンは、上記式[I]で表わされる他、以
下に記載する式[I −a]で表わすこともできる。
To explain in more detail about the cyclic olefin represented by the above general formula [I], in addition to being represented by the above formula [I], the cyclic olefin represented by the above general formula [11] is also represented by the following formula [I-a]. It can also be expressed.

(式[I]において、nは0もしくは正の整数であり、
R1ないしR12はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子ま
たは炭化水素基を示し、R9−R12は、互いに結合し
て単環または多環の基を形成していてもよく、かつ該単
環または多環の基が二重結合を有していてもよく、 またR とRとで、またはR11とR12とで、アルキ
リデン基を形成していてもよい)。
(In formula [I], n is 0 or a positive integer,
R1 to R12 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group, and R9 to R12 may be bonded to each other to form a monocyclic or polycyclic group, and the monocyclic or polycyclic group may have a double bond, and R and R or R11 and R12 may form an alkylidene group).

上記のような環状オレフィン系ランダム共重合体は、そ
の軟化温度(TMA)が70℃以上であることが好まし
い。以下、このような軟化温度(TMA)が70℃以上
である環状オレフィン系ただし、上記[I−a]におい
て、nはOまたは1であり、mは0または正の整数であ
り、R1−R18は、それぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子および炭化水素基よりなる群から選ばれる原子
もしくは基を表わす。
The cyclic olefin random copolymer as described above preferably has a softening temperature (TMA) of 70° C. or higher. Hereinafter, such a cyclic olefin type having a softening temperature (TMA) of 70°C or higher, provided that in the above [I-a], n is O or 1, m is 0 or a positive integer, and R1-R18 each independently represents an atom or group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydrocarbon group.

そして、R15〜R18は、互いに結合して単環または
多環の基を形成していてもよく、かつ該単環または多環
の基が二重結合を有していてもよい。
R15 to R18 may be bonded to each other to form a monocyclic or polycyclic group, and the monocyclic or polycyclic group may have a double bond.

また、R15とR16とで、またはR17とR18とで
アルキリデン基を形成していてもよい。
Furthermore, R15 and R16 or R17 and R18 may form an alkylidene group.

このような環状オレフィン系ランダム共重合体中におい
ては、該環状オレフィン成分は一般式[■]で表わされ
る構造を形成している。
In such a cyclic olefin random copolymer, the cyclic olefin component forms a structure represented by the general formula [■].

アルキリデン基を形成していてもよい)。(may form an alkylidene group).

なお、環状オレフィンを、上記のように[I −a]で
表わすと、環状オレフィン系ランダム共重合体中におい
ては、該環状オレフィン成分は、以下に示す式[II−
a]で表わされる構造を形成している。
Incidentally, when the cyclic olefin is represented by [I-a] as described above, in the cyclic olefin-based random copolymer, the cyclic olefin component is represented by the formula [II-a] shown below.
a].

(式[11]において、nはOもしくは正の整数であり
、RないしR12はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子ま
たは炭化水素基を示し、R9−R12は、互いに結合し
て単環または多環の基を形成していてもよく、かっ該単
環または多環の基が二重結合を有していてもよく、 またR とRとで、またはR11とR12とで、1ま ただし、上記[H−a]において、nは0または1であ
り、mはOまたは正の整数であり、R1−R18は、そ
れぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子および炭化水素
基よりなる群から選ばれる原子もしくは基を表イっず。
(In formula [11], n is O or a positive integer, R to R12 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group, and R9 to R12 are bonded to each other to form a monocyclic or polycyclic group. The monocyclic or polycyclic group may have a double bond, and R and R or R11 and R12 may be 1, but the above [H -a], n is 0 or 1, m is O or a positive integer, and R1 to R18 are each independently an atom or group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydrocarbon group. It's displayed.

そして、R15〜R18は、互いに結合して単環または
多環の基を形成していてもよく、かっ該単環または多環
の基が二重結合を有していてもよい。
R15 to R18 may be bonded to each other to form a monocyclic or polycyclic group, and the monocyclic or polycyclic group may have a double bond.

また、R15とR16とで、またはRI7とRIllと
でアルキリデン基を形成していてもよい。
Furthermore, R15 and R16 or RI7 and RIll may form an alkylidene group.

上記のような環状オレフィン系ランダム共重合体の構成
成分である環状オレフィンは、一般式[IIで表わされ
る不飽和単量体からなる群から選ばれた少なくとも1種
の環状オレフィンである。
The cyclic olefin that is a component of the above-mentioned cyclic olefin-based random copolymer is at least one cyclic olefin selected from the group consisting of unsaturated monomers represented by the general formula [II].

一般式中[IIで表わされる環状オレフィンは、シクロ
ペンタジェン類と相応するオレフィン類とをディールス
・アルダ−反応で縮合させることにより容易に製造する
ことができる。
The cyclic olefin represented by II in the general formula can be easily produced by condensing a cyclopentadiene and a corresponding olefin in a Diels-Alder reaction.

一般式[IIで表わされる環状オレフィンとして、具体
的には、以下に記載した化合物、あるい2.5 7.1
0 はテトラシクロ[4,4,0,1,1]−]3−ドデセ
ン14,5.8−ジメタノ−1,2,3,4,4a、 
5.8.8a〜オクタヒドロナフタレン)のほかに、2
−メチル−1,4,5,8ジメタノ−1,2,3,4,
4a、 5.8.8a−オクタヒドロナフタレン、2−
エチル−1,4,5,8−ジメタノ刊、2,344m、
 5.8.8a−オクタヒドロナフタレン、2−プロピ
ル−1458−ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5
.8.8a−オクタヒドロナフタレン、2−へキシル−
1,4,5,8−ジメタノー1.2.3.4.イa、 
5.8.8a−オクタヒドロナフタレン、2,3−ジメ
チル−1,4,5,8−ジメタノ−I2344a、 5
.8.8a−オクタヒドロナフタレン、2−メチル−3
エチル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,
4a 58 Haミオフタヒドロナフタレン2−クロロ
−1458ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5.8
.8a−オクタヒドロナフタレン、2−ブロモ−1,4
,5,8−ジメタノ利2344a、 5.8.8a−オ
クタヒドロナフタレン、2−フルオロL 4.5.8−
ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5.8.8a−オ
クタヒドロナフタレン、2,3−ジクロロ−1,45,
8−ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5.8.8a
−オクタヒドロナフタレン、2−シクロへキシル−]、
 4.5.8−ジメタノ−123、4,4a、 5.8
.8a−オクタヒドロナフタレン、2−n−ブチル−1
,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5
88a−オクタヒドロナフタレン、2−イソブチル−1
,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4B、 5
.8.8a−オクタヒドロナフタレンなどのオクタヒド
ロナフタレン類を例示することができる。
As the cyclic olefin represented by the general formula [II, specifically, the compounds described below, or 2.5 7.1
0 is tetracyclo[4,4,0,1,1]-]3-dodecene14,5.8-dimethano-1,2,3,4,4a,
5.8.8a ~ octahydronaphthalene), in addition to 2
-Methyl-1,4,5,8 dimethanol-1,2,3,4,
4a, 5.8.8a-octahydronaphthalene, 2-
Published by ethyl-1,4,5,8-dimethano, 2,344m,
5.8.8a-Octahydronaphthalene, 2-propyl-1458-dimethano-1,2,3,4,4a, 5
.. 8.8a-octahydronaphthalene, 2-hexyl-
1,4,5,8-dimethanol 1.2.3.4. Ia,
5.8.8a-Octahydronaphthalene, 2,3-dimethyl-1,4,5,8-dimethano-I2344a, 5
.. 8.8a-octahydronaphthalene, 2-methyl-3
Ethyl-1,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,
4a 58 Ha myophthahydronaphthalene 2-chloro-1458 dimethanol-1,2,3,4,4a, 5.8
.. 8a-octahydronaphthalene, 2-bromo-1,4
, 5,8-dimethanol 2344a, 5.8.8a-octahydronaphthalene, 2-fluoro L 4.5.8-
Dimethano-1,2,3,4,4a, 5.8.8a-octahydronaphthalene, 2,3-dichloro-1,45,
8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5.8.8a
-octahydronaphthalene, 2-cyclohexyl-],
4.5.8-dimethano-123,4,4a, 5.8
.. 8a-octahydronaphthalene, 2-n-butyl-1
,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5
88a-octahydronaphthalene, 2-isobutyl-1
,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4B, 5
.. Octahydronaphthalenes such as 8.8a-octahydronaphthalene can be exemplified.

さらに、式で表わされる環状オレフィン[IIの例とし
ては、以下に記載する化合物を挙げることができる。
Furthermore, examples of the cyclic olefin [II represented by the formula include the compounds described below.

(以下余白) すなわち、本発明において使、用される上記式[I]で
表わされる環状オレフィンとしては、具体的には、 ビシクロ[2,2,11ヘプト−2−エン誘導本テトラ
シクロ[4,4,0,12、S 、 17 、1 ” 
]−]3−ドデセン誘導 倣キサシクロ[6,6,1,136,1111,13,
Q2.7.Q9.+4]4−へプタデンセン誘導朱 オクタシクロ[8,8,0,12,”、1’、7,1目
y+e、1重3.l6Q3.e、QI217]−5−ト
コセン誘導4本ペンタシクロ[6,6,1,13・6.
02・7.09・14]−4−へキサデセン誘導化 ヘプタシクロ−5−イコセン誘導本 ヘプタシクロー5−ヘンエイコセン誘導体、トリシクロ
[4,3,0,12、6コー3−デセン誘導4本トリシ
クロ[4,3,0,12,6]−3−ウンデセン誘導本
ペンタシクロ[6,5,1,13・6,02・?、Q9
.+3]−4−ペンタデセン誘導本 ペンタシクロペンタデカジエン誘導イ札ペンタシクロ[
4,7,0,12・5.08・13.19・+2]−3
−ペンl タデセン誘導本 ペンタシクロ[7,g、QJ3.e、Q2.7.l+1
1.+7.Qo、16112.151−4−エイコセン
誘導化および ノナシクロ[9,10,1,1,4,7,03・8,0
2・Ill、Q12・21113・2G、Q14・19
.116・Il+] 5−ベンタコセン誘導体を挙げる
ことができる。
(Left below) Specifically, the cyclic olefin represented by the above formula [I] used in the present invention includes bicyclo[2,2,11hept-2-ene-derived tetracyclo[4, 4,0,12,S,17,1”
]-]3-dodecene induced imitation xacyclo[6,6,1,136,1111,13,
Q2.7. Q9. +4] 4-heptadensene-derived vermilion octacyclo[8,8,0,12,'', 1', 7, 1st y+e, 1-fold 3.l6Q3.e, QI217]-5-tococene-derived 4-pentacyclo[6, 6,1,13・6.
02・7.09・14]-4-Hexadecene derivative Heptacyclo-5-icosene derivative This heptacyclo 5-heneicosene derivative, tricyclo[4,3,0,12,6-3-decene derivative 4-tricyclo[4, 3,0,12,6]-3-undecene derivative pentacyclo[6,5,1,13・6,02・? ,Q9
.. +3] -4-pentadecene induction book pentacyclopentadecadiene induction bill pentacyclo[
4,7,0,12・5.08・13.19・+2]-3
- Pen l Tadecene derivative book Pentacyclo [7, g, QJ3. e, Q2.7. l+1
1. +7. Qo, 16112.151-4-eicosene derivatization and nonacyclo[9,10,1,1,4,7,03・8,0
2・Ill, Q12・21113・2G, Q14・19
.. 116·Il+] 5-bentacocene derivatives.

以下にこのような化合物の具体的な例を示す。Specific examples of such compounds are shown below.

などのようなビシクロ[2,2,11 導体; ヘプト エン誘 Sl CH。Bicyclo [2, 2, 11 conductor; hept enticement Sl CH.

ン 5.1叶ジメチルテトラ 9−エチル−11,12−ジメ 9−イソブチル 11、12 5、8.9.10−テトラメチ ユ1 2、7.9− )リメチルテ CH。hmm 5.1 Leaf dimethyltetra 9-ethyl-11,12-dime 9-isobutyl 11, 12 5,8.9.10-tetramethy Yu1 2,7.9-) Remethylte CH.

−)−O 8−メチルテトラシフ 8−エチルテトラシフ 18] 3−ドデセン ヘキシルテトラシ ュ】 + 11 ] −3 ドデセン 8−メチル エチルテ ドデセン 一3−ドデセン 1す 3−ドデセン ・I f+ ] −3 ドデセン ユ3 .12 5.17.11Iコ 3−ドデセ ン 一ドデセン 、12 6.17.111]−3−ドデセ ン 5+ 17・’ e]−3−F テセ:/父 5.17・18コー3−ドデセン 7・10] ドデセン 3−ドデセン 、+eココ−−ドデセン 、12.6,17.111コー3 ドデセ ン iダ [4,4,0,12・5.17・Il!] 3−ドデセ
ン クロ[4,4,0,12 17・ +9] 3−ドデセン [4,4,0,12・5.17 目1−3 ドデセン 一ドデセン 8−インプロピリデン 14] 4−へブタデセン ドデセン デセン 、1e] ドデセン デセン 一ドデセン などのテトラシクロ[4,4,0,125,17,11
1コー3 ドデセ ン誘導体; (以下余白) ヘプタデセン ag′ 3.111.Q3.8.Q12 17] 5−トコセン誘導体; +s、(12’、7.Q* +4] 4−ヘプ タデセン などのへキサシクロ[6,6,1,13・6.1111
・I 3 、 Q2・7,09.14コー4−ヘプタデ
セン誘導体; トコセン lfl、113 + 6 、 Q3 8.01 2.17]−5 トコセン 15−エチルオクタシフ +vl−5−トコセン などのペンタシクロ[6,6,1,13,6,02?、
Q9.14]−4− などのオクタシクロ[8,8,0,12・9.14・7
,1目・Il+、11ヘキサデセン誘導体。
-) -O 8-Methyltetrasif 8-ethyltetrasif 18] 3-dodecenehexyltetrasif] + 11 ] -3 Dodecene 8-methylethyltedodecene-3-dodecene 1-3-dodecene.I f+ ] - 3 Dodesenyu 3. 12 5.17.11I 3-dodecene-dodecene, 12 6.17.111]-3-dodecene 5+ 17・' e]-3-F Tese:/father 5.17.18 3-dodecene 7.10 ] dodecene 3-dodecene, +e coco-dodecene, 12.6, 17.111 co-3 dodecene i da [4, 4, 0, 12・5.17・Il! ] 3-Dodecene [4,4,0,12 17・+9] 3-Dodecene [4,4,0,12・5.17 Item 1-3 Dodecene-Dodecene 8-Impropylidene 14] 4-Hebutade Tetracyclo[4,4,0,125,17,11
1-3 Dodecene derivative; (blank below) Heptadecene ag' 3.111. Q3.8. Q12 17] 5-tococene derivative; +s, (12', 7.Q* +4] Hexacyclo[6,6,1,13・6.1111 such as 4-heptadecene
・I 3 , Q2 ・7, 09.14 Co-4-heptadecene derivatives; Tococene lfl, 113 + 6, Q3 8.01 2.17]-5 Pentacyclo[6 such as tococene 15-ethyl octashif + vl-5-tococene ,6,1,13,6,02? ,
Q9.14] -4- and other octacyclo [8, 8, 0, 12, 9.14, 7
, 1st Il+, 11 hexadecene derivative.

ヘプタシクロ[8,7,0 などのトリシクロ[4,3,0,12・5コデセン誘導
体; コモン などのへブタシクロ−5−イコセン誘導体あるX/)は
へブタシクロ−5 ヘンエイコセン誘導体; メチル トリシフ などのトリシクロ[4,4,0,12 5]−3 ウンデセン誘導 体 3/ 1.6−シメチルペンタ セン などのペンタシクロ [47,Q、12.s、Qll、+3,1912] −3−ペンタデセン誘導体; 14、15 ジメチルペン +6,112 15] 4−エイ コモン などのペンタシクロ[6,5,1,13・6.O2? 
、 Q9 、 l 3 ] 、、−]4.−ペンタデセ
ン誘導体 ;、7.lI[1 17,0目 16.11 15] −4−エイコセン などのへブタシクロ [7I8.Q、13.6.Q2.7.lI9.+7.Q
10,112 15] −4−エイコセン誘導体; などのジエン化合物; 21、ll3.28.Qld丁9,1 5.18]  5−ベンタコセン 3.211.QIA、+9.ll5.Ie]5−ヘンタ
コセン などのノナシクロ[jJ IQ、 l、 14.v、Q
3.ll、Q2.Ill、Q10.21,113.29
.QIA、+9,116.111]  5−ベンタコセ
ン誘導体; (以下余白) 汐、め この環状オレフィン系ランダム共重合体は、上記のよう
にエチレンおよび前記環状オレフィンを必須成分とする
ものであるが、該必須の二成分の他に本発明の目的を損
なわない範囲で、必要に応じて他の共重合可能な不飽和
単量体成分を含有していてもよい。任意に共重合されて
いてもよい該不飽和単量体として、具体的には、たとえ
ば生成するランダム共重合体中のエチレン成分単位と等
モル未満の範囲のプロピレン、1−ブテン、4−メチル
−1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デ
セン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−へキサデ
セン、1−オクタデセン、l−エイコセンなどの炭素原
子数が3〜20のα−オレフィンなどを例示することが
できる。
tricyclo[4,3,0,12.5 codecene derivatives such as heptacyclo[8,7,0; heptacyclo-5-icosene derivatives such as common 4,4,0,12 5]-3 Undecene derivatives 3/ Pentacyclo[47,Q, 12. s, Qll, +3,1912] -3-pentadecene derivatives; 14,15 dimethyl pen +6,112 15] pentacyclo[6,5,1,13,6. O2?
, Q9, l3],,-]4. -Pentadecene derivative; 7. lI[1 17,0th 16.11 15] Hebutacyclo[7I8. Q, 13.6. Q2.7. lI9. +7. Q
10,112 15] -4-eicosene derivatives; diene compounds such as 21, ll3.28. Qld D9,1 5.18] 5-bentacocene 3.211. QIA, +9. ll5. Ie] nonacyclo[jJ IQ, l, 14. such as 5-hentacocene. v, Q
3. ll, Q2. Ill, Q10.21, 113.29
.. QIA, +9,116.111] 5-bentacocene derivative; (blank below) Shio and Meko's cyclic olefin-based random copolymer contains ethylene and the cyclic olefin as essential components, as described above. In addition to the two essential components, other copolymerizable unsaturated monomer components may be contained as necessary within a range that does not impair the object of the present invention. Specifically, the unsaturated monomer which may be optionally copolymerized includes, for example, propylene, 1-butene, 4-methyl in an amount less than equimolar to the ethylene component unit in the random copolymer to be produced. -α-olefins having 3 to 20 carbon atoms such as 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, and l-eicosene For example,

上記のような軟化点(TMA)が70℃以上である環状
オレフィン系ランダム共重合体において、エチレンに由
来する繰り返し単位(a)は、40〜85モル%、好ま
しくは50〜75モル%の範囲で存在しており、また該
環状オレフィンに由来する繰り返し単位(b)は15〜
60モル%、好ましくは25〜50モル%の範囲で存在
しており、エチレンに由来する繰り返し単位(a)およ
び該環状オレフィンに由来する繰り返し単位(b)は、
ランダムに実質上線状に配列している。なお、エチレン
組成および環状オレフィン組成は13C−NMRによっ
て測定した。この環状オレフィン系ランダム共重合体が
実質上線状であり、ゲル状架橋構造を有していないこと
は、該共重合体が135℃のデカリン中に完全に溶解す
ることによって確認できる。
In the above-mentioned cyclic olefin random copolymer having a softening point (TMA) of 70°C or higher, the repeating unit (a) derived from ethylene is in the range of 40 to 85 mol%, preferably 50 to 75 mol%. The repeating unit (b) derived from the cyclic olefin is 15 to
The repeating unit (a) derived from ethylene and the repeating unit (b) derived from the cyclic olefin are present in an amount of 60 mol%, preferably 25 to 50 mol%,
They are randomly arranged in a substantially linear manner. Note that the ethylene composition and cyclic olefin composition were measured by 13C-NMR. The fact that this cyclic olefin random copolymer is substantially linear and does not have a gel-like crosslinked structure can be confirmed by completely dissolving the copolymer in decalin at 135°C.

このような環状オレフィン系ランダム共重合体の135
℃のデカリン中で測定した極限粘度[η]は、0.05
〜10dA’/g、好ましくは0.08〜5dj!/g
の範囲にある。
135 of such a cyclic olefin random copolymer
The intrinsic viscosity [η] measured in decalin at ℃ is 0.05
~10 dA'/g, preferably 0.08-5 dj! /g
within the range of

また環状オレフィン系ランダム共重合体のサーマル・メ
カニカル・アナライザーで測定した軟化温度(TMA)
は、70℃以上、好ましくは90〜250℃、さらに好
ましくは100〜200°Cの範囲にある。なお軟化温
度(TMA)は、デュポン社製Thermomecha
nical Analyse+を用いて1mm厚さシー
トの熱変形挙動により測定した。すなわちシート上に石
英製針をのせ、荷重49gをかけ、5°C/分で昇温し
でいき、針が0.635mm侵入した温度をTMAとし
た。また、該環状オレフィン系ランダム共重合体のガラ
ス転移温度(Tg)は、通常50〜230℃、好ましく
は70〜210℃の範囲にあることが望ましい。
In addition, the softening temperature (TMA) of the cyclic olefin random copolymer was measured using a thermal mechanical analyzer.
is in the range of 70°C or higher, preferably 90 to 250°C, more preferably 100 to 200°C. The softening temperature (TMA) is Thermomecha manufactured by DuPont.
The thermal deformation behavior of a 1 mm thick sheet was measured using nical Analyse+. That is, a quartz needle was placed on the sheet, a load of 49 g was applied, the temperature was raised at a rate of 5° C./min, and the temperature at which the needle penetrated 0.635 mm was defined as TMA. Further, it is desirable that the glass transition temperature (Tg) of the cyclic olefin random copolymer is generally in the range of 50 to 230°C, preferably 70 to 210°C.

また、この環状オレフィン系ランダム共重合体のX線回
折法によって測定した結晶化度は、0〜10%、好まし
くは0〜7%、とくに好ましくは0〜5%の範囲、であ
る。
The degree of crystallinity of this cyclic olefin random copolymer measured by X-ray diffraction is in the range of 0 to 10%, preferably 0 to 7%, particularly preferably 0 to 5%.

本発明における基板を構成する上記の環状オレフィン共
重合体は、特開昭60−168708号公報、特開昭6
1−120816号公報、特開昭61−115912号
公報、特開昭61−115916号公報、特願昭61−
!15905号公報、特願昭61−95906号公報、
特開昭61−271308号公報、特開昭61−272
216号公報などにおいて本出願人が提案した方法に従
い適宜条件を選択することにより、製造することができ
る。
The above-mentioned cyclic olefin copolymer constituting the substrate in the present invention is disclosed in JP-A-60-168708 and JP-A-6
1-120816, JP-A-61-115912, JP-A-61-115916, and Japanese Patent Application JP-A-61-115916.
! Publication No. 15905, Japanese Patent Application No. 1988-95906,
JP-A-61-271308, JP-A-61-272
It can be produced by appropriately selecting conditions according to the method proposed by the applicant in Publication No. 216 and the like.

また、基板を形成する樹脂として、上記のような環状オ
レフィンランダム共重合体と共に、上述の式[I]で表
わされる環状オレフィンが開環重合することにより形成
される次式[Ir[]で表わされる繰り返し単位を含む
重合体もしくは共重合体が含まれていてもよく、さらに
上記式[III]で表わされる繰り返し単位を水添する
ことにより形成される次式[1v]て示すような繰り返
し単位を含む重合体あるいは共重合体が含まれていても
よい。
In addition, as a resin forming the substrate, a cyclic olefin random copolymer as described above and a resin represented by the following formula [Ir[] formed by ring-opening polymerization of a cyclic olefin represented by the above formula [I] may be used. A repeating unit as shown in the following formula [1v] formed by hydrogenating a repeating unit represented by the above formula [III] may also be included. A polymer or copolymer containing may also be included.

ただし、上記式[m]および[IV]において、nおよ
びR−R12は、前記式[I]で示される環状オレフィ
ンにおけるnおよびR〜R12と同じ意味である。
However, in the above formulas [m] and [IV], n and R-R12 have the same meanings as n and R to R12 in the cyclic olefin shown in the above formula [I].

また上記の環状オレフィン共重合体には、必要に応じ、
耐熱安定剤、耐候安定剤、帯電防止剤、スリップ剤、ア
ンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、顔料、天然
油、合成油、ワックスなどを配合することができ、その
配合割合は適宜量である。たとえば、任意成分として配
合される安定剤として具体的には、テトラキス[メチレ
ン−3(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオネートコメタン、β−(3,5−ジー(
−ブチル−4ヒドロキシフェニル)プロピオン酸アルキ
ルエステル(特に炭素数18以下のアルキルエステルが
好ましい)、2.2’−オキザミドビス[エチル−3(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオネートなどのフェノール系酸化防止剤、ステアリ
ン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、12ヒドロキシス
テアリン酸カルシウムなどの脂肪酸金属塩、グリセリン
モノステアレート、グリセリンモノラウレート、グリセ
リンジステアレート、ペンタエリスリトールモノステア
レート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタ
エリスリトールトリステアレート等の多価アルコール脂
肪酸エステルなどを挙げることができる。これらは単独
で配合してもよいが、組合わせて配合してもよく、たと
えばテトラキス[メチレン−3(3,5−ジt−ブチル
ー4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタンと
ステアリン酸亜鉛およびグリセリンモノステアレートと
の組合せ等を例示することができる。
In addition, the above cyclic olefin copolymer may include, if necessary,
Heat-resistant stabilizers, weather-resistant stabilizers, antistatic agents, slip agents, anti-blocking agents, anti-fog agents, lubricants, dyes, pigments, natural oils, synthetic oils, waxes, etc. can be blended in appropriate amounts. It is. For example, specific stabilizers that may be added as optional ingredients include tetrakis[methylene-3(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate comethane, β-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate comethane, (
-butyl-4hydroxyphenyl) propionic acid alkyl ester (alkyl esters having 18 or less carbon atoms are particularly preferred), 2,2'-oxamidobis[ethyl-3(
Phenolic antioxidants such as 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, fatty acid metal salts such as zinc stearate, calcium stearate, and calcium 12-hydroxystearate, glycerin monostearate, glycerin monolaurate , polyhydric alcohol fatty acid esters such as glycerin distearate, pentaerythritol monostearate, pentaerythritol distearate, and pentaerythritol tristearate. These may be blended alone or in combination, such as tetrakis[methylene-3(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate comethane, zinc stearate, and glycerin]. Examples include combinations with monostearate.

本発明では特に、フェノール系酸化防止剤および多価ア
ルコールの脂肪酸エステルとを組合せて用いることが好
ましく、該多価アルコールの脂肪酸エステルは3価以上
の多価アルコールのアルコール性水酸基の一部がエステ
ル化された多価アルコール脂肪酸エステルであることが
好ましい。
In the present invention, it is particularly preferable to use a combination of a phenolic antioxidant and a fatty acid ester of a polyhydric alcohol. Polyhydric alcohol fatty acid esters are preferred.

このような多価アルコールの脂肪酸エステルとしては、
具体的には、グリセリンモノステアレート、グリセリン
モノラウレート、グリセリンモノミリステート、グリセ
リンモノパルミテート、グリセリンジステアレート、グ
リセリンジラウレート等のグリセリン脂肪酸エステル、
ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリス
リトールモノラウレート、ペンタエリスリトールジステ
アレート、ペンタエリスリトールジラウレート、ペンタ
エリスリトールトリステアレート等のペンタエリスリト
ールの脂肪酸エステルが用いられる。
Such fatty acid esters of polyhydric alcohols include:
Specifically, glycerin fatty acid esters such as glycerin monostearate, glycerin monolaurate, glycerin monomyristate, glycerin monopalmitate, glycerin distearate, and glycerin dilaurate;
Fatty acid esters of pentaerythritol such as pentaerythritol monostearate, pentaerythritol monolaurate, pentaerythritol distearate, pentaerythritol dilaurate, and pentaerythritol tristearate are used.

このようなフェノール系酸化防止剤は、環状オレフィン
系ランダム共重合体組成物100重量部に対して0.0
1〜10重量部好ましくは0.05〜3重量部さらに好
ましくは0.1〜1重量部の量で用いられ、また多価ア
ルコールの脂肪酸エステルは該組成物100重量部に対
して0.01〜10重量部好ましくは0.05〜3重量
部の量で用いられる。
Such a phenolic antioxidant is used in an amount of 0.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the cyclic olefin random copolymer composition.
It is used in an amount of 1 to 10 parts by weight, preferably 0.05 to 3 parts by weight, more preferably 0.1 to 1 part by weight, and the fatty acid ester of polyhydric alcohol is used in an amount of 0.01 parts by weight per 100 parts by weight of the composition. It is used in an amount of ~10 parts by weight, preferably 0.05 to 3 parts by weight.

本発明に係る光記録媒体では、基板11として上記のよ
うな環状オレフィン系ランダム共重合体が用いられてお
り、このような光記録媒体は、理由は定かではないが、
ポリカーボネート、ポリ(メタ)アクリレートなどを基
板として用いた光記録媒体と比較して記録感度が優れて
いる。またこの環状オレフィン系ランダム共重合体から
なる基板11と記録膜12とは密着性に優れており、し
たがって記録膜は長期安定性に優れるとともに記録膜の
酸化が効果的に防止される。したがってこの環状オレフ
ィン系ランダム共重合体か、らなる基板11上に記録膜
12を積層してなる光記録媒体は、記録感度に優れ、ま
た耐久性および長期安定性にも優れている。また本発明
に係る光記録媒体10は反りがなく割れが生ずることが
ない。
In the optical recording medium according to the present invention, the above-mentioned cyclic olefin random copolymer is used as the substrate 11, and although the reason for this optical recording medium is not clear,
It has superior recording sensitivity compared to optical recording media using polycarbonate, poly(meth)acrylate, etc. as a substrate. Further, the substrate 11 made of the cyclic olefin random copolymer and the recording film 12 have excellent adhesion, and therefore the recording film has excellent long-term stability and oxidation of the recording film is effectively prevented. Therefore, an optical recording medium in which a recording film 12 is laminated on a substrate 11 made of this cyclic olefin random copolymer has excellent recording sensitivity, durability, and long-term stability. Further, the optical recording medium 10 according to the present invention is free from warpage and cracks.

記  録  膜 本発明で用いられる上記のような記録膜12は、Teを
主成分としてCr、CおよびHを少なくとも含む薄膜で
あり、Te以外の低融点元素あるいはその他の成分を含
んでもよい。記録膜12中に含ませることが可能なTe
以外の元素としては、T iSMnXN i、Z r、
Nbz Ta、All 。
Recording Film The recording film 12 as described above used in the present invention is a thin film containing Te as a main component and at least Cr, C, and H, and may also contain low melting point elements other than Te or other components. Te that can be included in the recording film 12
Elements other than TiSMnXN i, Z r,
Nbz Ta, All.

Pt、SmXB15 In5Se、Pb、Co。Pt, SmXB15 In5Se, Pb, Co.

S i、Sb、Ge、Ag、Pd、Sn、Zn等が例示
される。
Examples include Si, Sb, Ge, Ag, Pd, Sn, and Zn.

このような記録膜12に含まれるCrの含有割合は、記
録膜中に含まれる全原子数に対して、0.1〜40原子
%、好ましくは0.5〜10原子%、特に好ましくは1
〜4原子%の範囲にあるか、または記録膜中のTeおよ
びCrの合計原子数に対してのCrの含有割合が、0.
1〜40原子%、好ましくは0.5〜10原子%、特に
好ましくは1〜4原子%の範囲にあることが好ましい。
The content ratio of Cr contained in such a recording film 12 is 0.1 to 40 atomic %, preferably 0.5 to 10 atomic %, particularly preferably 1 atomic %, based on the total number of atoms contained in the recording film.
-4 atomic %, or the content ratio of Cr to the total number of Te and Cr atoms in the recording film is 0.0.
It is preferably in the range of 1 to 40 atom %, preferably 0.5 to 10 atom %, particularly preferably 1 to 4 atom %.

このような範囲でCrを含ませることによって、記録膜
12の耐酸化性を向上させるにもかかわらず、記録感度
が低下せず、場合によっては記録膜度を向上させること
ができるからである。
This is because by including Cr in such a range, although the oxidation resistance of the recording film 12 is improved, the recording sensitivity does not decrease, and in some cases, the recording film density can be improved.

また、記録膜12中のCの含有量は、記録膜の寿命及び
記録感度の向上の点から、記録膜全体の原子数に対して
40原子%未満、好ましくは3〜20原子%または記録
膜中のTe5CrおよびCの合計原子数に対して、40
原子%未満、好ましくは3〜20原子%であることが望
ましい。このような範囲でCを含有させることにより、
記録感度および記録マージンの向上を図ることが可能と
なる。
Further, from the viewpoint of improving the lifetime of the recording film and recording sensitivity, the content of C in the recording film 12 is less than 40 at%, preferably 3 to 20 at%, or less than 40 at%, preferably 3 to 20 at%, based on the number of atoms in the entire recording film. 40 for the total number of atoms of Te5Cr and C in
It is desirable that it is less than atomic %, preferably 3 to 20 atomic %. By containing C in such a range,
It becomes possible to improve recording sensitivity and recording margin.

また、記録膜12中のHの含有量は、寿命等の点から全
体に対して1〜40原子%好ましくは3〜25原子%で
あることが望ましい。なお、記録膜12中に含まれる各
元素の含有量は、金属元素(TeSCtなど)について
はICP発光分析法(誘導結合型プラズマ発光分析法)
によって、またCについてはX線光電子分光法(ESC
A) 、Hについては有機元素分析法によって測定され
る。
Further, the content of H in the recording film 12 is desirably 1 to 40 atomic %, preferably 3 to 25 atomic %, based on the entire recording film 12 from the viewpoint of life span and the like. The content of each element contained in the recording film 12 is determined by ICP emission spectrometry (inductively coupled plasma emission spectrometry) for metal elements (such as TeSCt).
and X-ray photoelectron spectroscopy (ESC) for C.
A) and H are measured by organic elemental analysis.

上記のような組成を有する記録膜12に情報を書込むに
は、記録すべき情報に応じて変調(オン・オフ)された
レーザビーム等のエネルギービームを該記録膜12に照
射することにより、その照射部分にピットを形成すれば
よい。このピットは、穴や凹部等のような物理的変化部
であってもよいし、屈折率や反射率等の光学的特性を変
化させた光学特性変化部であってもよい。
To write information on the recording film 12 having the above composition, the recording film 12 is irradiated with an energy beam such as a laser beam that is modulated (on/off) depending on the information to be recorded. A pit may be formed in the irradiated portion. This pit may be a physically changed part such as a hole or a recess, or it may be an optical property changed part where optical properties such as refractive index or reflectance are changed.

このような記録膜12の膜厚は、十分な光反射率を得る
程度に厚く、かつ感度を損なわない程度に薄いことが必
要である。具体的には、記録膜12に穴などの物理的変
化部を形成する場合には、記録膜の膜厚は100人〜1
μm好ましくは100〜5000人さら1こ好ましくは
150〜700人程度である。また記録膜12に反射率
または屈折率などの光学的特性変化部を形成する場合に
は、記録膜の膜厚は100人〜1μm好ましくは100
〜5000人さらに好ましくは200〜2000人程度
である。
The thickness of the recording film 12 needs to be thick enough to obtain sufficient light reflectance and thin enough not to impair sensitivity. Specifically, when forming a physically changed part such as a hole in the recording film 12, the thickness of the recording film is 100 to 1.
[mu]m is preferably about 100 to 5,000 people, more preferably about 150 to 700 people. Further, when forming an optical characteristic changing portion such as reflectance or refractive index on the recording film 12, the thickness of the recording film is 100 μm to 1 μm, preferably 100 μm.
~5000 people, more preferably about 200~2000 people.

このような記録膜12を基板11の表面に成膜するには
、たとえば次のようにして行なうことができる。
In order to form such a recording film 12 on the surface of the substrate 11, it can be performed, for example, as follows.

まず、TeおよびCrをそれぞれ別々のターゲットとし
て、もしくはTe−Cr合金をターゲットとし、Cおよ
びHを含む有機ガス、たとえばCH4やC2H2ガスと
、Arガスとの混合ガス中で、マグネトロンスパッタリ
ング法により、基板11上に、CおよびHを含むTe−
Cr合金薄膜から成る記録膜12を成膜する。また、ス
パッタリング法を用いることなく、CH4とTeCr合
金の蒸気とをプラズマ状にして基板にCおよびHを含む
Te−Cr合金薄膜からなる記録膜12を成膜すること
も可能である。また、気相成長またはプラズマ気相成長
によっても、同様の記録膜12を形成することが可能で
ある。さらに他の方法としてT e 1Cr N CS
Fl原子の一部または全部をイオン化してビーム状とし
て基板上に積もらせるようにしてもよい。
First, using Te and Cr as separate targets or a Te-Cr alloy as a target, in a mixed gas of an organic gas containing C and H, such as CH4 or C2H2 gas, and Ar gas, by magnetron sputtering method. On the substrate 11, Te- containing C and H
A recording film 12 made of a Cr alloy thin film is formed. It is also possible to form the recording film 12 made of a Te--Cr alloy thin film containing C and H on the substrate by forming CH4 and TeCr alloy vapor into plasma without using the sputtering method. Further, a similar recording film 12 can also be formed by vapor phase epitaxy or plasma vapor phase epitaxy. Still another method is T e 1Cr N CS
Some or all of the Fl atoms may be ionized and deposited on the substrate in the form of a beam.

このようなCおよびHを含むTe−Cr合金薄膜から成
る記録膜12中のTeおよびCrの含有原子数比は、T
eとCrとを同時スパッタする際には、それぞれの印加
電圧によって、合金ターゲットを用いる場合には合金組
成によって自由に制御される。また、Te−Cr合金薄
膜から成る記録膜12中のCおよびHの含有量は、CH
4とArとの混合比または印加電圧またはスパッタ時の
ガス圧により自由に制御できる。この場合、膜が化学的
に最も安定するHの含有量はCの含有量によって決まる
。ここでは膜中に水素ガス(H2)が発生するほど多量
に含有させない限り、H含有量は任意に選ぶことができ
る。さらに膜厚はスパッタリング時間に比例するので、
自由に制御できる。
The atomic ratio of Te and Cr in the recording film 12 made of such a Te-Cr alloy thin film containing C and H is T
When sputtering e and Cr simultaneously, it can be freely controlled by the respective applied voltages, and if an alloy target is used, by the alloy composition. Further, the content of C and H in the recording film 12 made of a Te-Cr alloy thin film is CH
It can be freely controlled by the mixing ratio of 4 and Ar, the applied voltage, or the gas pressure during sputtering. In this case, the H content at which the film is most chemically stable is determined by the C content. Here, the H content can be arbitrarily selected as long as it is not so large that hydrogen gas (H2) is generated in the film. Furthermore, since the film thickness is proportional to the sputtering time,
Can be controlled freely.

このようにして形成されるCおよびHを含有するTe−
Cr合金薄膜から成る記録膜12における反射率あるい
は消衰係数などの光学特性は、CとHとの含有量によっ
て異なり、情報記録用として利用するには、上記のよう
な光学特性に応じて膜厚が決定される。
Te-containing C and H formed in this way
The optical properties such as reflectance or extinction coefficient of the recording film 12 made of a Cr alloy thin film vary depending on the C and H contents. Thickness is determined.

上記のような条件で形成した記録膜12は、Teなどの
低融点金属単体で形成した膜に比べて著しく耐酸化性お
よび記録感度が向上している。
The recording film 12 formed under the above conditions has significantly improved oxidation resistance and recording sensitivity compared to a film formed from a low melting point metal such as Te.

たとえば、Cr、CおよびHを含有するTe記録膜では
、高温、高湿下に長期間保存したときの反射率の変化は
、Crの含有量が多い程少なく、Te単独の記録膜に比
較して、本発明に係る記録膜の耐酸化性が向上している
ことが実験により確認された。
For example, in a Te recording film containing Cr, C, and H, the change in reflectance when stored at high temperature and high humidity for a long period of time is smaller as the Cr content increases, compared to a recording film containing only Te. It was confirmed through experiments that the oxidation resistance of the recording film according to the present invention was improved.

また、たとえば本発明に係る記録膜によれば、記録用エ
ネルギー出力が比較的小さく、記録感度が向上している
ことが実験により確認された。
Furthermore, it has been confirmed through experiments that, for example, the recording film according to the present invention has a relatively small recording energy output and improved recording sensitivity.

さらに、第2図に示すように、本発明に係る光記録媒体
(図中、曲線A)は、従来のCおよびHを含むTe膜を
有する光記録媒体(図中、曲線B)に比較して、記録用
エネルギー出力の微小変動■に対してC/N比がほとん
ど変化せず、記録マージンが広いことが確認された。
Furthermore, as shown in FIG. 2, the optical recording medium according to the present invention (curve A in the figure) is superior to the conventional optical recording medium having a Te film containing C and H (curve B in the figure). It was confirmed that the C/N ratio hardly changes even with slight fluctuations in the recording energy output, and that the recording margin is wide.

さらにまた、第3図に示すように、本発明に係る光記録
媒体(図中、曲線A)は、従来のCおよびHを含むTe
膜を有する光記録媒体(図中、曲線B)に比較して、反
射率の経時的変化がほとんどなく、耐久性が向上するこ
とも確認された。このことは後述する表2からも明らか
である。
Furthermore, as shown in FIG. 3, the optical recording medium according to the present invention (curve A in the figure) is different from the conventional Te
It was also confirmed that, compared to an optical recording medium having a film (curve B in the figure), there was almost no change in reflectance over time and the durability was improved. This is also clear from Table 2, which will be described later.

また本発明では、上述したように基板11上に記録膜1
2を成膜した後、必要に応じて、この記録膜12または
記録膜12と基板11を、不活性ガス、還元性ガス、も
しくは酸素を含んだガス雰囲気中で、熱処理することも
できる。熱処理温度は、記録膜中に含まれるTeの融点
以下であることが必要であり、好ましくは70〜300
℃特に90〜150℃の温度範囲がよい。また熱処理時
間は5秒以上であることが好ましい。
Further, in the present invention, as described above, the recording film 1 is placed on the substrate 11.
After forming the recording film 2, the recording film 12 or the recording film 12 and the substrate 11 can be heat-treated in an inert gas, reducing gas, or gas atmosphere containing oxygen, if necessary. The heat treatment temperature needs to be below the melting point of Te contained in the recording film, preferably 70 to 300
℃, especially preferably in the temperature range of 90 to 150℃. Further, the heat treatment time is preferably 5 seconds or more.

このように、記録膜12を基板11上に形成した後に記
録膜12または記録膜12と基板11を熱処理すること
で、記録膜における記録感度が向上すると共に、記録マ
ージンが広がる。これは熱処理によって、記録膜がある
程度結晶化される等によると考えられる。
In this way, by heat-treating the recording film 12 or the recording film 12 and the substrate 11 after forming the recording film 12 on the substrate 11, the recording sensitivity of the recording film is improved and the recording margin is widened. This is thought to be because the recording film is crystallized to some extent by the heat treatment.

なお、本発明は、第1図に示す実施例に限定されず、本
発明の範囲内で種々に改変することができる。
Note that the present invention is not limited to the embodiment shown in FIG. 1, and can be variously modified within the scope of the present invention.

たとえば、第4図に示すように、基板11と記錫膜12
との間に、下地層13を積層させるようにしてもよい。
For example, as shown in FIG.
A base layer 13 may be laminated between the two.

下地層13としては、たとえばフッ化マグネシウム(M
gF2)などからなるフッ化物膜、酸化ケイ素(SI0
2.5IO)もしくは窒化ケイ素(SJN4)などから
なるケイ素化合物膜、Ti、Ni5Cr、AIまたはN
i−Crなどからなる金属薄膜、ポリテトラフルオロエ
チレン(PTFE)薄膜などのフッ素置換の炭化水素化
合物および/またはそのポリマーの薄膜、Cr−CH薄
膜(Cr、  CおよびHを含む膜)などが用いられる
。下地層13の膜厚は、その材質によっても異なるが、
一般に、10〜1000人、好ましくは50〜500人
である。このような膜厚に設定することで、透明性を維
持することができると共に、下地層13としての種々の
特性を発揮することができる。
As the base layer 13, for example, magnesium fluoride (M
fluoride film consisting of silicon oxide (SI0
Silicon compound film made of 2.5IO) or silicon nitride (SJN4), Ti, Ni5Cr, AI or N
Metal thin films made of i-Cr etc., thin films of fluorine-substituted hydrocarbon compounds and/or their polymers such as polytetrafluoroethylene (PTFE) thin films, Cr-CH thin films (films containing Cr, C and H), etc. are used. It will be done. The thickness of the base layer 13 varies depending on its material, but
Generally 10-1000 people, preferably 50-500 people. By setting the film thickness in this manner, transparency can be maintained and various characteristics as the base layer 13 can be exhibited.

このような下地層13を基板11の表面に形成するには
、記録層12を形成する場合と同様に、マグネトロンス
パッタリング法、気相成長法、プラズマ気相成長法、蒸
着法またはスピンコード法などの塗布によって行なえば
よい。
In order to form such an underlayer 13 on the surface of the substrate 11, similarly to the case of forming the recording layer 12, magnetron sputtering method, vapor phase epitaxy method, plasma vapor phase epitaxy method, vapor deposition method, spin code method, etc. This can be done by applying.

このような下地層13を、基板11と記録膜12との間
に設ければ、記録感度がさらに向上し、場合によっては
記録マージンもさらに広がることになる。
If such an underlayer 13 is provided between the substrate 11 and the recording film 12, the recording sensitivity will be further improved and, in some cases, the recording margin will be further expanded.

また上記のような記録膜12を上記のような基板11上
に積層してなる光記録媒体は、特に記録感度に優れ、ま
た場合によっては記録マージンもさらに広くなっている
Further, an optical recording medium formed by laminating the above-described recording film 12 on the above-described substrate 11 has particularly excellent recording sensitivity and, in some cases, even wider recording margin.

また、本発明によれば、第1図または第4図に示す光記
録媒体10における記録膜12の表面に表面層を形成す
るようにしてもよい。表面層を形成する材質としては、
記録膜の元素、5iSTi等の酸化物、窒化物、金属な
どが用いられる。表面層の膜厚は、その材質によっても
異なるが、5〜100人、好ましくは10〜50人であ
る。
Further, according to the present invention, a surface layer may be formed on the surface of the recording film 12 in the optical recording medium 10 shown in FIG. 1 or 4. The material forming the surface layer is
Elements of the recording film, oxides such as 5iSTi, nitrides, metals, etc. are used. The thickness of the surface layer varies depending on the material, but is 5 to 100 layers, preferably 10 to 50 layers.

発明の効果 本発明に係る光記録媒体は、Teを主成分とし、さらに
Cr、CおよびHを含有する記録膜を、エチレンと環状
オレフィンとのランダム共重合体からなる基板上に積層
してなる構造を有しているため、記録感度に優れ、しか
も基板と記録膜との密着性に優れ、かつ耐酸化性にも優
れているという優れた効果を有している。
Effects of the Invention The optical recording medium according to the present invention is formed by laminating a recording film containing Te as a main component and further containing Cr, C and H on a substrate made of a random copolymer of ethylene and cyclic olefin. Because of its structure, it has excellent effects such as excellent recording sensitivity, excellent adhesion between the substrate and recording film, and excellent oxidation resistance.

[実施例] 以下、本発明をさらに具体的な実施例に基づき説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
[Examples] The present invention will be described below based on more specific examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1 真空容器を排気後、ArガスおよびCHt、ガスを導入
し、内部圧力を6 X 10’Torrとした( Ar
/ CH4= 9 / 1 :ガス流量比)。次に、T
eおよびCrをターゲットとし、同時スパッタを行なっ
た。その際、各々のターゲットに与える電圧およびスパ
ッタ時間を制御することによりT e g7Cr 2 
C4Hvの組成を有する膜厚240人の記録膜をエチレ
ンとテトラシクロ[44,012・5.17・101−
3−ドデセン(構造式= ω以下DMONと略記する)
の非品性の共重合体(”’C−NMR分析で測定したエ
チレン含量59モル%、DMON含量41モル%、13
5℃デカリン中で測定した極限粘度[η]が0.42d
l/ g 、軟化温度(TMA)154°C)からなる
光デイスク基板(以下、PO基板という)上に成膜し、
光記録媒体を得た。
Example 1 After evacuating the vacuum container, Ar gas, CHt, and gas were introduced, and the internal pressure was set to 6 x 10' Torr (Ar
/CH4=9/1: gas flow rate ratio). Next, T
Simultaneous sputtering was performed using e and Cr as targets. At that time, by controlling the voltage applied to each target and the sputtering time, T e g7Cr 2
A recording film with a thickness of 240 and a composition of C4Hv was prepared using ethylene and tetracyclo[44,012・5.17・101−
3-dodecene (structural formula = ω, abbreviated as DMON below)
A non-quality copolymer (ethylene content 59 mol%, DMON content 41 mol%,
Intrinsic viscosity [η] measured in decalin at 5°C is 0.42d
l/g, softening temperature (TMA) 154 °C) on an optical disk substrate (hereinafter referred to as PO substrate),
An optical recording medium was obtained.

実施例2 記録膜の膜厚を290人とした以外は、実施例1と同様
にしてT e s7Cr 2 Ci、 H7の記録膜を
PO基板上に成膜した。
Example 2 A recording film of Te s7Cr 2 Ci, H7 was formed on a PO substrate in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the recording film was 290.

実施例3,4 実施例1,2を各々100℃の温度でN2雰囲気下で2
0分間熱処理を施した。
Examples 3 and 4 Examples 1 and 2 were each treated at a temperature of 100°C under a N2 atmosphere.
Heat treatment was performed for 0 minutes.

実施例5 T e 97 Cr 3合金ターゲツトを用い、ガス流
量比をA r / CH4= 9 / 1とし、実施例
1と同様にしてTe  Cr  CH、膜厚230人の
記錫膜をPO基板上に成膜した。
Example 5 Using a Te 97 Cr 3 alloy target and setting the gas flow rate ratio to Ar/CH4 = 9/1, a Te Cr CH film with a film thickness of 230 people was deposited on a PO substrate in the same manner as in Example 1. The film was deposited on

実施例6 真空容器を排気後、ArガスおよびCHi、ガスを導入
し、内部圧力を6 X 10’Tor+とした(Ar/
CH4=9/トガス流量比)。次に、TeおよびCrを
ターゲットとし、同時スパッタを行なった。その際、各
々のターゲットに与える電圧およびスパッタ時間を制御
することにより、記録膜中のTe、CrおよびCの原子
数比が次の式、(Te   Cr 98.8  1.2 )96C4で表わせるTe。
Example 6 After evacuating the vacuum container, Ar gas, CHi, and gas were introduced to make the internal pressure 6 x 10'Tor+ (Ar/
CH4=9/togas flow rate ratio). Next, simultaneous sputtering was performed using Te and Cr as targets. At that time, by controlling the voltage applied to each target and the sputtering time, the atomic ratio of Te, Cr and C in the recording film can be expressed by the following formula, (Te Cr 98.8 1.2 )96C4 Te.

Cr、CおよびHを含む記録膜を240人の膜厚でPO
基板上に成膜し、光記録媒体を得た。
A recording film containing Cr, C and H was produced with a film thickness of 240 mm.
A film was formed on a substrate to obtain an optical recording medium.

実施例7 記録膜の膜厚を290人とした以外は、実施例6と同様
にして、Te1CrおよびCの原子数比が次の式、(T
e98Cr2)96C4で表わせるTe、Cr5Cおよ
びHを含む記録膜をPO基板上に成膜した。
Example 7 The atomic ratio of Te1Cr and C was determined by the following formula, (T
A recording film containing Te, Cr5C and H represented by e98Cr2)96C4 was formed on a PO substrate.

実施例8 記録膜の膜厚を260人とした以外は、実施例6と同様
にして、Te、CrおよびCの原子数比が次の式、(T
 e   Cr 96.8  3.2 )96°47表わせるTe、Cr
、CおよびHを含む記録膜をPO基板上に成膜した。
Example 8 The atomic ratio of Te, Cr and C was determined by the following formula, (T
e Cr 96.8 3.2 ) 96°47 Te, Cr
A recording film containing , C and H was formed on a PO substrate.

実施例9 膜厚を230人とした以外は、実施例6と同様にして、
Te1CrおよびCの原子数比が次の式、(Te92C
r8)98C2で表わせるTe、Cr。
Example 9 Same as Example 6 except that the film thickness was 230 people,
The atomic ratio of Te1Cr and C is as follows, (Te92C
r8) Te, Cr expressed as 98C2.

CおよびHを含む記録膜をPO基板上に成膜した。A recording film containing C and H was formed on a PO substrate.

実施例10 T e 97 Cr 3の合金ターゲットを用い、記録
膜の膜厚を230人とした以外は、実施例6と同様にし
て、Te5CrおよびCの原子数比が次の式、(Te 
  Cr 97.5  2.5 )96C4で表わせるTe。
Example 10 The atomic ratio of Te5Cr and C was determined by the following formula, (Te
Cr 97.5 2.5 ) Te represented by 96C4.

Cr、CおよびHを含む記録膜をPO基板上に成膜した
A recording film containing Cr, C and H was formed on a PO substrate.

実施例11 T e 94 Cr 6の合金ターゲットを用い、記録
膜の膜厚を250人とした以外は、実施例6と同様にし
て、Te、CrおよびCの原子数比が次の式、(Te 
  Cr 95.1  4.9 )98C2で表わせるTe。
Example 11 The atomic ratio of Te, Cr and C was determined by the following formula, ( Te
Cr 95.1 4.9 ) Te represented by 98C2.

Cr、CおよびHを含む記録膜をPO基板上に成膜した
A recording film containing Cr, C and H was formed on a PO substrate.

実施例12〜17 実施例6〜11の光記録媒体を各々100 ’Cの温度
でN2雰囲気下で20分間熱処理を施した。
Examples 12-17 The optical recording media of Examples 6-11 were each subjected to heat treatment at a temperature of 100'C for 20 minutes under an N2 atmosphere.

[試験結果] (1)1800rpmでディスクを回転させ3.7MH
2の周波数でレーザー光を照射し、記録特性を調べた。
[Test results] (1) Rotate the disk at 1800 rpm to 3.7MH
The recording characteristics were examined by irradiating laser light at a frequency of 2.

ここでC/Nmaxとはレーザーパワーを変えた際のC
/N比の最大値を示す。記録感度はC/ N  max
X O,9< C/Nとなるレーザーパワーの最小値を
、マージンとはC/N > C/NmgxX0.9とな
るレーザーパワーの範囲を表わす。
Here, C/Nmax is the C when changing the laser power.
/N ratio maximum value. Recording sensitivity is C/N max
The minimum value of the laser power that satisfies X O,9 < C/N, and the margin represents the range of laser power that satisfies C/N > C/NmgxX0.9.

結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

表1 (2)温度70℃、相対湿度85%の環境下に500時
間放置した後の反射率Rを当初の反射率表 盤目状の切傷を付ける。
Table 1 (2) The reflectance R after being left for 500 hours in an environment with a temperature of 70° C. and a relative humidity of 85% is measured by making a cut in the shape of a surface of the original reflectance.

セロハンテープにチバン製) 価する。Made by Chiban on cellophane tape) worth it.

評   価 ■成膜直後 を用いて剥離評 表3 [基板と光記録膜との密着性評価] 以下の方法により実施例3の光記録媒体の基板と光記録
膜との密着性の評価を行った。
Evaluation ■ Peeling evaluation table 3 using immediately after film formation [Evaluation of adhesion between substrate and optical recording film] The adhesion between the substrate and optical recording film of the optical recording medium of Example 3 was evaluated by the following method. Ta.

結果を表3に示す。The results are shown in Table 3.

密着性試験 基盤目試験(Its K5400) 試料の記録膜上に、直交する縦横11本ずつの平行線を
カッターナイフを用いて1 mmの間隔でひく。1dの
中に100個の升目ができるように基$1 : 100
/+00は100個の升目のうち剥離しなかった升目が
100個あることを示す。
Adhesion Test Baseline Test (Its K5400) On the recording film of the sample, 11 orthogonal parallel lines are drawn at 1 mm intervals using a cutter knife. Base $1: 100 so that there are 100 squares in 1d
/+00 indicates that out of 100 squares, there are 100 squares that did not peel off.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例に係る光記録媒体の概略断面
図、第2,3図は本発明に係る光記録媒体と従来の光記
録媒体との作用効果上の相違を示すグラフ、第4図は本
発明の他の実施例に係る光記録媒体の概略断面図である
。 10・・・光記録媒体    11・・・基板12・・
・記録膜      13・・・下地層第 図
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an optical recording medium according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2 and 3 are graphs showing differences in function and effect between the optical recording medium according to the present invention and a conventional optical recording medium. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an optical recording medium according to another embodiment of the present invention. 10... Optical recording medium 11... Substrate 12...
・Recording film 13... Underlayer diagram

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)基板と、この基板上に形成された記録膜とからなり
、この記録膜にエネルギービームを照射することにより
、この記録膜にピットを形成して情報を記録するように
した光記録媒体において、前記記録膜は、Teを主成分
としてCr、CおよびHを含む薄膜であり、基板が、 エチレンと、下記一般式[ I ]で表わされる環状オレ
フィンとの共重合体とからなる環状オレフィン系ランダ
ム共重合体から形成されていることを特徴とする光記録
媒体: ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[ I ] (式[ I ]において、nは0もしくは正の整数であり
、R^1ないしR^1^2はそれぞれ水素原子、ハロゲ
ン原子または炭化水素基を示し、R^9〜R^1^2は
、互いに結合して単環または多環の基を形成していても
よく、かつ該単環または多環の基が二重結合を有してい
てもよく、 またR^9とR^1^0とで、またはR^1^1とR^
1^2とで、アルキリデン基を形成していてもよい)。
[Scope of Claims] 1) Consisting of a substrate and a recording film formed on the substrate, the recording film is irradiated with an energy beam to form pits in the recording film and record information. In the optical recording medium, the recording film is a thin film containing Te as a main component and Cr, C, and H; An optical recording medium characterized by being formed from a cyclic olefin random copolymer consisting of: ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼...[I] (In formula [I], n is 0 or a positive integer, R^1 to R^1^2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group, and R^9 to R^1^2 are bonded to each other to form a monocyclic or polycyclic ring. may form a group, and the monocyclic or polycyclic group may have a double bond, and R^9 and R^1^0, or R^1^1 and R^
1^2 may form an alkylidene group).
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