JPH0220523A - Silicone imide copolymer and preparation thereof - Google Patents

Silicone imide copolymer and preparation thereof

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JPH0220523A
JPH0220523A JP16956188A JP16956188A JPH0220523A JP H0220523 A JPH0220523 A JP H0220523A JP 16956188 A JP16956188 A JP 16956188A JP 16956188 A JP16956188 A JP 16956188A JP H0220523 A JPH0220523 A JP H0220523A
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JP
Japan
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formulas
tables
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chemical formulas
chemical
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Application number
JP16956188A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiharu Kimura
良晴 木村
Hideki Yamane
秀樹 山根
Toshio Kitao
北尾 敏男
Yoshihiro Furuishi
古石 喜弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tonen General Sekiyu KK
Original Assignee
Tonen Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0220523A publication Critical patent/JPH0220523A/en
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a copolymer having excellent heat resistance and softening temp. and moldability adjustable to a desired level by reacting bis(m- aminophenyl)-1,1,3,3-tetraalkyl-disiloxane with a plurality of arom. carboxylic acid dianhydrides. CONSTITUTION:A silicone imide copolymer having repeating units of formula I or II is obtd. by reacting bis(m-aminophenyl)-1,1,3,3-tetraalkyldisilosxane with a plurality of arom. carboxylic acid dianhydrides. In the formulas, R1 and R2 are each formula III or IV; X is a direct bonding, -O-, -CO-, -S-, -SO2-; R<1> and R<2> are groups different from each other; R<0> is an alkyl. Said copolymer has heat resistance and its properties, such as softening temp. and flexibility, are easily adjustable. Therefore, it is suitably used for not only a film for a flexible printed circuit board, an insulating material for heavy electric instruments, a heat-resistant electric wire coating for airplanes but also varnishes, tapes, a matrix resin for fiber-reinforced composite materials etc., in accordance with required characteristics.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フレキシブルプリント配線基板用フィルム、
重電機器用絶縁材料、キャリヤーテープ、航空機用耐熱
電線被覆材をはじめとしてワニス、テープ、繊維強化複
合材料のマトリックス樹脂等にも好適な新規なシリコン
イミド共重合体及びその製造方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention provides a flexible printed wiring board film,
The present invention relates to a novel silicone imide copolymer suitable for insulating materials for heavy electrical equipment, carrier tapes, heat-resistant wire coating materials for aircraft, as well as varnishes, tapes, matrix resins for fiber-reinforced composite materials, and a method for producing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ポリイミド、即ち1分子鎖中にイミド基を含む高分子は
、その種類に応じて樹脂フィルム、接着剤、成形品、M
A縁クワニスの各種用途に応用され。
Polyimide, that is, a polymer containing an imide group in one molecular chain, can be used as a resin film, adhesive, molded product, M
Applied to various uses of A-edge varnish.

その耐熱性を利用して航空機の構造材やフレキシブル回
路(FPC)等にも利用されている。特に分子内に芳香
族環の占める割合の高いポリイミドは優れた耐熱性材料
として知られているが、その反面。
Taking advantage of its heat resistance, it is also used in aircraft structural materials and flexible circuits (FPC). In particular, polyimide, which has a high proportion of aromatic rings in its molecules, is known as an excellent heat-resistant material, but on the other hand.

可撓性や各種溶剤に対する溶解性が悪く、従って加工性
に欠けるといった欠点がある。この欠点を解決するため
に、従来よりポリイミドの主鎖中にアミドやエステル結
合、シロキサン結合等を心入する各種変性ポリイミドの
製造方法の開発が行われ、又、この種の製造方法により
ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリシリコン
イミド、更には熱可塑性を示すポリエーテルイミド等の
各種変性ポリイミドが開発され、製造されている。
It has drawbacks such as poor flexibility and solubility in various solvents, and therefore lacks processability. In order to solve this drawback, various methods for producing modified polyimides have been developed that include amide, ester bonds, siloxane bonds, etc. in the main chain of polyimide. , polyesterimide, polysiliconimide, and various modified polyimides such as polyetherimide exhibiting thermoplasticity have been developed and manufactured.

特にポリシリコンイミドについては、ジアミノシロキサ
ン化合物と無水ピロメリッ1〜酸、ビフェニルテトラカ
ルボン酸・2無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸
・2無水物等のテトラカルボン酸・2無水物とを反応さ
せてポリシリコンイミドを得るポリシリコンイミドの製
造方法、及びこの様な製造方法により得られたポリシリ
コンイミドが、特公昭43−27439号公報、特公昭
47−9268号公報等に開示されており、それぞれジ
アミノシロキサン化合物等の種類、組成や得られたポリ
シリコンイミドの種類等に応じて様々な提案がなされて
いる。
In particular, polysilicon imide is produced by reacting a diaminosiloxane compound with a tetracarboxylic acid dianhydride such as pyromellitic anhydride, biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, etc. A method for producing polysilicon imide to obtain an imide and a polysilicon imide obtained by such a production method are disclosed in Japanese Patent Publication No. 43-27439, Japanese Patent Publication No. 47-9268, etc., and diaminosiloxane, respectively. Various proposals have been made depending on the type and composition of the compound, the type of polysilicon imide obtained, etc.

本発明者は最近ビス(n+−アミノフェニル)−1,1
,3゜3−テトラアルキルジシロキサンと芳香族テトラ
カルボン酸・2無水物を反応させてテトラアルキルジシ
ロキサンがアミノ基を有する芳香環のメタ位に結合した
分子鎖に高い屈曲性と自由度を有する新規なポリシリコ
ンイミドを提案した(特願昭62−202764号)。
The present inventor recently discovered bis(n+-aminophenyl)-1,1
, 3゜By reacting 3-tetraalkyldisiloxane with an aromatic tetracarboxylic acid dianhydride, the tetraalkyldisiloxane imparts high flexibility and freedom to the molecular chain bonded to the meta position of the aromatic ring having an amino group. (Japanese Patent Application No. 1982-202764).

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、これらの変性ポリシリコンイミドにおい
ても軟化温度等の種々の物性を所望どおりに調節するこ
とは極めて困難であり、時として可撓性や各種溶剤に対
する溶解性が悪く、従って加工性が充分でなかったり、
或いは耐熱性や軟化点が低下しすぎるといった点が指摘
され、種々の成分が任意に選択でき、軟化温度等の種々
の物性を意のままに調節できる新規な変性イミドもしく
はイミド共重合体の開発が望まれている。
However, even with these modified polysilicon imides, it is extremely difficult to adjust various physical properties such as softening temperature as desired, and sometimes flexibility and solubility in various solvents are poor, resulting in insufficient processability. There was no
Alternatively, it has been pointed out that heat resistance and softening point are too low, and various components can be selected arbitrarily and various physical properties such as softening temperature can be adjusted at will. Development of new modified imide or imide copolymer. is desired.

従って、本発明の目的は、耐熱性に優れると共に軟化温
度及び加工性を所望どおりに適宜調節できる新規なイミ
ド共重合体及びその製造方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a novel imide copolymer which has excellent heat resistance and whose softening temperature and processability can be appropriately adjusted as desired, and a method for producing the same.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明の上記の目的は、下記繰返し単位(り及び繰返し
単位(II)を有するシリコンイミド共重合体、下記繰
返し単位(1)及び繰返し単位(III)を有するシリ
コンイミド共重合体及び下記繰返し単位(1)、繰返し
単位(II)、繰返し単位(III)及び繰返し単位(
IV)を有するシリコンイミド共重合体並びにこれらの
製造方法によって達成される。
The above object of the present invention is to obtain a silicone imide copolymer having the following repeating unit (RI) and a repeating unit (II), a silicone imide copolymer having the following repeating unit (1) and a repeating unit (III), and a silicone imide copolymer having the following repeating unit (III) and the following repeating unit. (1), repeating unit (II), repeating unit (III) and repeating unit (
IV) and their production methods.

(式中、R”、R”;  Q、  ンζ及−8−匡コで
X:直接結合、−O−、−CO−1−S−1−SO2−
但しR1とR2は相異なる基を表わす。
(In the formula, R", R";
However, R1 and R2 represent different groups.

Ro;アルキル基 ) X;直接結合、−缶、−C−1−S−1−50,−但し
R1とR2は相異なる基を表わす。
Ro: alkyl group) X: direct bond, -can, -C-1-S-1-50, -where R1 and R2 represent different groups.

Y;−(h、−)、−5−、−3Q、−、−CH2−5
−C(CI43)2−1”c (CF3 )2−1−3
L(CIら)2−) なお、アルキル基としては種々のものが用いられ、その
炭素数に特別な制約はないが1通常はメチル基、エチル
基、プロピル基又はブチル基の如き低級アルキル基が使
用され、特にメチル基が好適に使用される。
Y;-(h,-),-5-,-3Q,-,-CH2-5
-C(CI43)2-1"c (CF3)2-1-3
L(CI et al.) 2-) Various types of alkyl groups are used, and there are no particular restrictions on the number of carbon atoms; however, lower alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, or butyl groups are usually used. is used, and methyl group is particularly preferably used.

即ち、本発明のシリコン含有イミド共重合体は、前記し
たようにテトラアルキルジシロキサンからなる珪素部分
を有し、且つこの珪素部分の両末端にフェニル基が結合
していると共に、更にこの両末端フェニル基のメタ位に
おいてカルボニル結合(−C−)を介してフェニル核と
結合するイミド結合を有する構造を繰返し単位として含
むものであるが、この様に両末端フェニル基の特定の位
置、即ちメタ位にイミド結合を有するシリコンイミド単
位を有するイミド共重合体については先に紹介した刊行
物をはじめ、その他の刊行物に具体的に記載された例は
ない。
That is, the silicon-containing imide copolymer of the present invention has a silicon moiety made of tetraalkyldisiloxane as described above, and has phenyl groups bonded to both ends of this silicon moiety, and further has phenyl groups bonded to both ends of the silicon moiety. It contains as a repeating unit a structure having an imide bond that is bonded to the phenyl nucleus via a carbonyl bond (-C-) at the meta position of the phenyl group, but in this way, it is Regarding imide copolymers having silicon imide units having imide bonds, there are no examples specifically described in the publications introduced above or in other publications.

本発明者等は、先に加工性、特に可撓性に優れた耐熱性
プラスチックを得るためには、■分子鎖にできるだけ屈
曲性をもたせる。■高分子鎖中のイミド成分址を減らす
、■他の熱安定性基を主鎖に導入する等の要件を満たす
変性ポリイミドの開発が重要であり、また、■に対して
は、芳香族分子類では、結合が互いにメタ位の配位をと
るようにすること、また、結合芳香環が互いにクロスし
た而装置を保てるようにすること、■及び■に対しては
珪素部分の導入が有効であろうと推定し、ポリイミド製
造のためのジアミノ成分としてビス(m−アミノフェニ
ル)1,1,3.3−テトラアルキルジシロキサンを使
用し、これに芳香族系テトラカルボン酸・2無水物を反
応させてポリイミドを製造したところ、可撓性及び溶剤
溶解性が良好で、かつ耐熱性に優れたポリイミドが得ら
れることを見いだした。
In order to obtain a heat-resistant plastic with excellent processability, particularly flexibility, the inventors first made the molecular chains as flexible as possible. It is important to develop modified polyimides that satisfy requirements such as ■reducing the amount of imide components in the polymer chain, and ■introducing other thermally stable groups into the main chain. In the case of (1) and (2), it is effective to make sure that the bonds are in meta-coordination with each other, and that the bonded aromatic rings maintain a structure in which they cross each other. We assumed that this would be the case, and used bis(m-aminophenyl)1,1,3.3-tetraalkyldisiloxane as the diamino component for polyimide production, and reacted it with aromatic tetracarboxylic acid dianhydride. When a polyimide was produced using this method, it was found that a polyimide with good flexibility and solvent solubility and excellent heat resistance could be obtained.

そして、更に研究を進めた結果、このジアミン成分を■
二種類以上の芳香族テトラカルボン酸・2無水物と反応
させる。■他種の芳香族ジアミンとともに一種の芳香族
テトラカルボン酸・2無水物と反応させるあるいは■他
種の芳香族ジアミンと共に二種類以上の芳香族テトラカ
ルボン酸・2無水物と反応させるなどの方法により得ら
れる該シリコンイミド単位を含む新しいポリイミド共重
合体を開発し、また、その製造法を確立するに至ったも
のである。
As a result of further research, this diamine component...
React with two or more types of aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides. ■Methods such as reacting with one type of aromatic tetracarboxylic acid/dianhydride together with other types of aromatic diamines, or ■Reacting with two or more types of aromatic tetracarboxylic acids/dianhydrides together with other types of aromatic diamines. We have developed a new polyimide copolymer containing the silicone imide unit obtained by the above method, and have also established a method for producing the same.

二のシリコンイミド単位はポリイミドの鎖の中にあって
分子鎖の屈曲性と運動性の増大をもたらし、可撓性を上
昇させることができる。例えば、ピロメリット酸無水物
とオキシジアニリンの反応により得られるポリイミドの
軟化温度は350℃以上であるのに対して、ジアミン成
分としてビス(m−アミノフェニル)−1,1,3,3
−テトラアルキルジシロキサン モルパーセントを含む混合物とを用い.これをピロメリ
ット酸無水物と反応させることによって得られる特許請
求の範囲第2項のイミド共重合体の軟化温度は218℃
となり、熱重量減少湿度の低下はほとんどみられずに軟
化点の大幅な低下が示された。
The second silicon imide unit is present in the polyimide chain and increases the flexibility and mobility of the molecular chain, thereby increasing flexibility. For example, the softening temperature of polyimide obtained by the reaction of pyromellitic anhydride and oxydianiline is 350°C or higher, whereas the diamine component is bis(m-aminophenyl)-1,1,3,3
- using a mixture containing mole percent of tetraalkyldisiloxane. The softening temperature of the imide copolymer according to claim 2 obtained by reacting this with pyromellitic anhydride is 218°C.
Therefore, there was almost no decrease in thermogravimetric loss or humidity, and a significant decrease in softening point was observed.

又,上述した本発明のシリコン含有イミド共重合体は,
ビス(m−アミノフェニル)1,1.3.3−テトラア
ルキルジシロキサンをジアミン成分の一部または全体と
して用い、これに芳香族系テトラカルボン酸・2無水物
と反応させることにより製造される。
Moreover, the silicon-containing imide copolymer of the present invention described above is
Manufactured by using bis(m-aminophenyl) 1,1.3.3-tetraalkyldisiloxane as part or all of the diamine component and reacting it with aromatic tetracarboxylic acid dianhydride. .

尚.この際に使用するビス(m−アミノフェニル)1、
1,3.3−テトラアルキルジシロキサン例えばビス(
m−アミノフェニル)−1.1,3.3−テトラメチル
ジシロキサンは下記反応式に従った方法により製造する
ことができる。
still. Bis(m-aminophenyl) used in this case 1,
1,3,3-tetraalkyldisiloxanes such as bis(
(m-aminophenyl)-1.1,3.3-tetramethyldisiloxane can be produced by a method according to the following reaction formula.

し■。■.

b,p. 162.4℃/11.OmmHg  72.
5%b.P. 166、0℃/10−’mmHg  8
8.0%本発明のシリコンイミド共重合体の製造方法を
より具体的に説明するならば、上記方法等により製造さ
れたビス(m−アミノフェニル)−1 、 l 、 3
 、 3−テトラアルキルジシロキサンと下記式(VI
)で示される芳香族ジアミンの少なくとも1種と共に等
モルの下記式(V)で示される。
b, p. 162.4℃/11. OmmHg 72.
5% b. P. 166, 0℃/10-'mmHg 8
8.0% To explain the method for producing the silicon imide copolymer of the present invention more specifically, bis(m-aminophenyl)-1, l, 3 produced by the above method etc.
, 3-tetraalkyldisiloxane and the following formula (VI
) is represented by the following formula (V) in equimolar amounts together with at least one aromatic diamine represented by (V).

〜す2 b.p.67、0℃10.茄皿胤 54.4%(但し、
R1は前記のとおり。) H, N − R3− N H.          
 (VI)(但し、R3は前記のとおり) 芳香族系テトラカルボン酸・2無水物の少くとも2種の
ジオキサン、ジメチルアセトアミド等の溶液に窒素雰囲
気下で滴下して反応させてポリアミ35、/1% ツク酸を生成した後、このポリアミック酸溶液をガラス
板等の支持体にキャストするなどして塗布した後、加熱
して脱溶媒及びイミド化反応を行うことによりフィルム
状のイミド共重合体を製造することができる。又、前記
ポリアミック酸溶液から、ジエチルエーテル等によりポ
リアミック酸を再沈澱して単離し、次いで加熱すること
により樹脂状のイミド共重合体を製造することもできる
~su2 b. p. 67, 0℃10. Nasaratane 54.4% (however,
R1 is as described above. ) H, N-R3-NH.
(VI) (However, R3 is as above) Polyamide 35, / After producing 1% tsucic acid, this polyamic acid solution is applied by casting onto a support such as a glass plate, and then heated to remove the solvent and perform an imidization reaction to form a film-like imide copolymer. can be manufactured. Further, a resin-like imide copolymer can also be produced by reprecipitating and isolating polyamic acid from the polyamic acid solution using diethyl ether or the like, and then heating it.

更にこの樹脂状のシリコンイミド共重合体はホットプレ
ス法等の方法により、直接、あるいは粉粒状に粉砕した
後所定の形状の成形物に成形することができる。
Furthermore, this resin-like silicone imide copolymer can be molded into a predetermined shape by a method such as a hot press method or the like, either directly or after being pulverized into powder.

尚、この場合に使用する前記式(V)で表わされる芳香
族系テトラカルボン酸・2無水物としては。
The aromatic tetracarboxylic acid dianhydride represented by the formula (V) used in this case is as follows.

たとえば、ジフェニルスルホン−3,3’ 、4.4’
−テトラカルボン酸・2無水物、ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸・2無水物、ビフェニルテトラカルボン酸・
2無水物、ピロメリット酸・2無水物から選ばれる1種
又は2種以上の混合物が挙げられる。
For example, diphenylsulfone-3,3', 4,4'
-Tetracarboxylic acid dianhydride, benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride, biphenyltetracarboxylic acid dianhydride,
Examples include one or a mixture of two or more selected from dianhydride and pyromellitic acid dianhydride.

また、前記式(VI)で表わされる芳香族ジアミンとし
では、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミ
ンの他、下記式で示されるような化合物が挙げられ、こ
れらは1種又は2種以上の混合物として用いることもで
きる。
In addition, examples of the aromatic diamine represented by the above formula (VI) include para-phenylene diamine, meta-phenylene diamine, and compounds represented by the following formula, which may be used alone or as a mixture of two or more. You can also do that.

(式中、Yは−0−、−CH,−1−CO−、−5−1
−SO,−1−C(CH,)、−1−C(CF3)z−
又は−5i(C1(3)a−である。)また1本発明に
おいては、二種以上の芳香族ジアミンもしくは二種以上
の芳香族テトラカルボン酸・2無水物を用いる時は、二
種を混ぜて同時に反応させても、二種を別々に分けて反
応させてもよい。前者の場合にはランダムな単位配列を
有する、後者の場合にはブロック状の単位配列を有する
イミド共重合体となるが、特異な物性変化は両者の間に
はみられない。
(In the formula, Y is -0-, -CH, -1-CO-, -5-1
-SO, -1-C(CH,), -1-C(CF3)z-
or -5i (C1(3)a-). In the present invention, when two or more aromatic diamines or two or more aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides are used, two or more aromatic dianhydrides are used. They may be mixed and reacted at the same time, or the two types may be reacted separately. In the former case, the imide copolymer has a random unit arrangement, and in the latter case, the imide copolymer has a block-like unit arrangement, but no specific change in physical properties is observed between the two.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明してきたように、本発明のシリコン成分を有す
るイミド共重合体は熱安定性の高い珪素部分が導入され
、且つ珪素部分の両末端フェニル基のメタ位にイミド結
合を有する屈曲性に優れたシリコンイミド単位が導入さ
れたことから、耐熱性を有すると共に軟化温度ならびに
可撓性等の性質の調節が容易なものとなる。
As explained above, the imide copolymer having a silicon component of the present invention has a highly thermally stable silicon moiety introduced therein, and has an imide bond at the meta position of both terminal phenyl groups of the silicon moiety, and has excellent flexibility. Since silicon imide units have been introduced, it has heat resistance and can easily adjust properties such as softening temperature and flexibility.

従って、所望性能にあわせてフレキシブルプリント配線
基板用フィルム、重電機器用絶縁材料、キャリヤーテー
プ、航空機用耐熱電線被覆材をはじめとしてワニス、テ
ープ、繊維強化複合材料のマトリックス樹脂等にも好適
に使用することができる。
Therefore, depending on the desired performance, it can be suitably used for films for flexible printed wiring boards, insulating materials for heavy electrical equipment, carrier tapes, heat-resistant wire coating materials for aircraft, as well as varnishes, tapes, matrix resins for fiber-reinforced composite materials, etc. be able to.

又1本発明の製造方法によれば1本発明のイミド共重合
体を容易且つ効率良く製造することできる。
Furthermore, according to the production method of the present invention, the imide copolymer of the present invention can be produced easily and efficiently.

〔実施例〕〔Example〕

以下に実施例を示し、本発明を更に詳しく説明するが、
本発明はこれらの実施例によって制限されるものではな
い。
Examples will be shown below to explain the present invention in more detail.
The invention is not limited to these examples.

実施例1 ビス(m−アミノフェニル)−1,1,3,3−テトラ
メチルジシロキサン(+m−APMSi)0.17g(
0,56mmoQ)を0℃で撹拌しながら、ピロメリッ
ト酸・2無水物(PMOA)0.12g(0,28m+
moQ)とジフェニルスルホンテトラカルボン酸・2無
水物(DSTA)0.2g(0,28mmoQ)を含む
N、N−ジメチルアセトアミド(DMAc)l−の溶液
を窒素気流中10分間で滴下した。′a下終了後、この
溶液を室温で6時間撹拌し、その後、減圧(1mmHg
)にして2時間撹拌を続けて粘稠な溶液を得た。この溶
液をガラス板上にキャストして、窒素気流中150℃で
2時間、200℃で2時間加熱して脱溶媒、イミド化を
行ない黄色透明フィルム(厚さ30〜50/411)を
得た。このフィルムについてIRスペクトルをaIす定
したとこ;’3.1780cm−1,1720c+a−
1にイミド基の、1350c+a−’にスルホン基の、
 105105O’に5i−0結合の吸収が11察され
た。更に6個の水素を重水素化したジメチルホルムアミ
ド(以下り、−DMFという)を用いて”IINMRス
ペクトルを測定したところ、δfrjio、3ppmに
5i−Cf13に基く一重線、δ値7.8〜9 、0p
pmに芳香族水素に基く多重線が観察され、両者の積分
比は1:1であった。
Example 1 0.17 g of bis(m-aminophenyl)-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane (+m-APMSi) (
While stirring 0.56mmoQ) at 0°C, add 0.12g of pyromellitic dianhydride (PMOA) (0.28m+
A solution of N,N-dimethylacetamide (DMAc) l- containing 0.2 g (0.28 mmoQ) of diphenylsulfone tetracarboxylic acid dianhydride (DSTA) was added dropwise in a nitrogen stream over 10 minutes. After completion of 'a', the solution was stirred at room temperature for 6 hours and then heated under reduced pressure (1 mmHg).
) and continued stirring for 2 hours to obtain a viscous solution. This solution was cast onto a glass plate and heated in a nitrogen stream at 150°C for 2 hours and at 200°C for 2 hours to remove the solvent and imidize it to obtain a yellow transparent film (thickness 30-50/411). . The IR spectrum of this film was determined by aI; '3.1780cm-1,1720c+a-
1 has an imide group, 1350c+a-' has a sulfone group,
Eleven absorptions of 5i-0 bonds were observed at 105105O'. Furthermore, when an IINMR spectrum was measured using dimethylformamide (hereinafter referred to as -DMF) in which six hydrogen atoms were deuterated, a singlet based on 5i-Cf13 was found at δfrjio of 3 ppm, and a δ value of 7.8 to 9. ,0p
A multiplet based on aromatic hydrogen was observed at pm, and the integral ratio of the two was 1:1.

以上の結果より、生成ポリマーの構造は、下記式(■a
)と式(■b)の繰返し単位が1=1に共重合したイミ
ド共重合体であることが確認された。またこのポリマー
の0MAc中における相対粘度(濃度=0.5g/dQ
)は0.35dQ/gであった。
From the above results, the structure of the produced polymer is determined by the following formula (■a
) and formula (■b) were copolymerized in a ratio of 1=1 to an imide copolymer. Also, the relative viscosity of this polymer in 0MAc (concentration = 0.5 g/dQ
) was 0.35 dQ/g.

す、耐熱性に大きな影響を与えることなく、220〜1
40℃の間で任意に調節可能であることがわかる。
220-1 without significantly affecting heat resistance.
It can be seen that the temperature can be adjusted arbitrarily between 40°C.

表−1 同様に、PMDAとDSTAの仕込比をかえて式(■a
)と式(■b)の共重合組成の異なるイミド共重合体を
合成した。これらの性質を(■a)および(■b)の繰
返し単位からだけなるポリイミドの性質と比較した。結
果を表−1に示す。この結果から、共重合体の流動開始
温度はDSTAの組成をかえることによ実施例2 ピロメリット酸・2無水物(PMDA)Ig(4,58
mmoQ)を0℃で撹拌しながらビス(m−アミノフェ
ニル)−1,1,。
Table-1 Similarly, by changing the mixing ratio of PMDA and DSTA, the formula (■a
) and formula (■b) with different copolymerization compositions were synthesized. These properties were compared with those of polyimides consisting only of repeating units (■a) and (■b). The results are shown in Table-1. From this result, the flow initiation temperature of the copolymer can be adjusted by changing the composition of DSTA.
bis(m-aminophenyl)-1,1, while stirring mmoQ) at 0°C.

3.3−テトラメチルジシロキサン(m−APMSi)
0.15g(0、46mmoUと4,4′−ジアミノジ
フェニルエーテル(ODA)0.83g(4,12mm
oQ)を含むN、N−ジメチルアセトアミド(DMAc
) 10mQの溶液を窒素気流中、30分間で滴下した
。滴下終了後、この溶液を室温で6時間撹拌し、粘稠な
黄色均一溶液を得た。次いでこの溶液を大量のジエチル
エーテル中に投入し、再沈殿法により淡黄色の樹脂状生
成物を単離した。その乾燥後の収景は1.95gであり
、また0MAc中におケル相対粘度(a度二0.5g/
dQ)は0.69d12/gテあった。
3.3-Tetramethyldisiloxane (m-APMSi)
0.15 g (0,46 mmoU and 0.83 g (4,12 mmoU) of 4,4'-diaminodiphenyl ether (ODA)
oQ) containing N,N-dimethylacetamide (DMAc)
) 10 mQ of the solution was added dropwise in a nitrogen stream over 30 minutes. After completion of the dropwise addition, this solution was stirred at room temperature for 6 hours to obtain a viscous yellow homogeneous solution. This solution was then poured into a large amount of diethyl ether, and a pale yellow resinous product was isolated by reprecipitation. The weight after drying is 1.95g, and the relative viscosity of the liquid in 0MAc (0.5g/2 degrees Fahrenheit)
dQ) was 0.69 d12/gte.

また上記樹脂状生成物のIRスペクトルをKBr錠剤法
にて測定したところ3400−2500cm−1及び1
710cm−1にカルボキシル基の、1670cm−”
にアミド基の、1050cn+−1にSiO結合の吸収
が観察された。更にDG−DMFを溶媒に用いて” )
INMRをall定したところδ値0.3ppmに5i
−C1l、に基く一重線、δ値7.5−8.7ppmに
芳香族水素に基く多車線が観察され、両者の積分比は1
.2:11であった。以上の結果よりこの生成物は下記
式(■a)、式(■b)を繰返し単位としその比が1=
9であるアミック酸共重合体であることが確認された。
Furthermore, the IR spectrum of the above resinous product was measured using the KBr tablet method and was found to be 3400-2500 cm-1 and 1
carboxyl group at 710 cm-1, 1670 cm-”
Absorption of an amide group was observed at 1050cn+-1, and absorption of a SiO bond was observed at 1050cn+-1. Furthermore, using DG-DMF as a solvent")
When all INMR values were determined, the δ value was 0.3 ppm.
A single line based on -C1l, and a multi-lane line based on aromatic hydrogen at a δ value of 7.5-8.7 ppm are observed, and the integral ratio of both is 1.
.. It was 2:11. From the above results, this product has the following formula (■a) and formula (■b) as repeating units and the ratio is 1=
It was confirmed that it was an amic acid copolymer of No. 9.

他方、上記反応で得られたポリアミック酸の0MAc溶
液をガラス板上にキャストして窒素気流中、150℃で
2時間、200℃で3時間加熱して、脱溶媒、イミド化
を行なったところ、黄色透明なフィルム(厚さ約30〜
50μl)ρ得られた。このフィルムは溶媒に不溶であ
ったが、IRスペクトルを測定したところ、1780c
m−1,1720cm−1にイミド基の、1050C1
ll−1に81−0結合の吸収が観察された。この結果
より、このフィルムにおいては式(■a)、式(■b)
の繰返し単位のイミドがほぼ完了し、下記式(IXa)
、式(■b)に繰返し単位とし、その比が1:9である
イミド共重合体となっていることが判明した。
On the other hand, the 0 MAc solution of polyamic acid obtained in the above reaction was cast on a glass plate and heated in a nitrogen stream at 150°C for 2 hours and 200°C for 3 hours to remove the solvent and imidize. Yellow transparent film (thickness approx. 30~
50 μl) ρ was obtained. This film was insoluble in the solvent, but when its IR spectrum was measured, it was found to be 1780c
1050C1 with imide group at m-1, 1720 cm-1
Absorption of 81-0 binding to ll-1 was observed. From this result, in this film, formula (■a) and formula (■b)
The imide of the repeating unit is almost completed, and the following formula (IXa)
It was found that this is an imide copolymer in which the formula (■b) is used as a repeating unit and the ratio thereof is 1:9.

このフィルムの軟化点を針入法によるTMA法で分析し
たところ、328℃であった。また、引張り試験による
破断強度は7.5Kg/mm2、破断伸度は10%であ
り1弾性率は100Kg/mm”であり、式(■a)を
含まない商標名K a p t o n’に対応する式
(■b)の繰返し単位だけからなるポリイミドフィルム
より軟化点が約21℃低下した。またその重量減少開始
温度は460℃であった。その他の組成のものについて
も同様に合成を行ない諸物性を求めた。その結果を表−
2に示した。この結果からも式(IX a )のシロキ
サン単位の含有からアミド共重合体の軟化点を急激に低
下させることがわかる。
When the softening point of this film was analyzed by the TMA method using the needle penetration method, it was found to be 328°C. In addition, the breaking strength in the tensile test is 7.5 Kg/mm2, the breaking elongation is 10%, and the 1 elastic modulus is 100 Kg/mm'', and the trade name K a p t o n' that does not include formula (■a) The softening point was about 21°C lower than that of a polyimide film consisting only of repeating units of formula (■b) corresponding to .The temperature at which weight loss started was 460°C.Those with other compositions were synthesized in the same way. and obtained various physical properties.The results are shown in the table.
Shown in 2. This result also shows that the inclusion of the siloxane unit of formula (IX a ) sharply lowers the softening point of the amide copolymer.

実施例3 ピロメリット酸・2無水物(PMDA)0.43g(2
,34a+moQ)およびジフェニルスルホンテトラカ
ルボン酸°2無水物0.53g(2,34mmoQ)を
ジメチルアセトアミド(DMAc)10dに溶解し、窒
素気流中O℃で撹拌しながらビス(11−7ミノフエニ
ル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン(m
−APMSi)O,11g(0,47mmoQ)と、4
.4′−ジアミノフェニルエーテル(ODA)0.65
g(4,23a+moff)を加えた。その後この溶液
を室温で3時間撹拌したところ、粘稠な黄色溶液が得ら
れた。
Example 3 Pyromellitic acid dianhydride (PMDA) 0.43 g (2
, 34a + moQ) and diphenylsulfone tetracarboxylic acid °2 anhydride (0.53 g (2,34 mmoQ)) were dissolved in 10 d of dimethylacetamide (DMAc), and bis(11-7 minophenyl)-1 was dissolved in dimethylacetamide (DMAc) with stirring at 0°C in a nitrogen stream. , 1,3,3-tetramethyldisiloxane (m
-APMSi)O, 11 g (0,47 mmoQ), and 4
.. 4'-diaminophenyl ether (ODA) 0.65
g (4,23a+moff) was added. This solution was then stirred at room temperature for 3 hours, resulting in a viscous yellow solution.

この溶液をガラス板上にキャストし150℃で2時間、
200℃で3時間加熱し、脱溶媒、イミド化を行なった
ところ、黄色透明なフィルム(厚さ約35pm)が得ら
れた。このフィルムはDMAc等の溶媒に膨潤する挙動
を示したが、完全には溶解しなかった。
This solution was cast on a glass plate and heated at 150°C for 2 hours.
When the mixture was heated at 200° C. for 3 hours to remove the solvent and imidize, a transparent yellow film (about 35 pm thick) was obtained. This film exhibited swelling behavior in solvents such as DMAc, but did not completely dissolve.

そのIRスペクトルを測定したところ、1780cm−
’1720cm−1にイミド基の、1350cm−1に
スルホン基の、1050cm−”に5i−0結合の吸収
が観ii1すされた。この結果より、このフィルムは上
記式(■a)、(■b)、([a )、(■b)の4つ
を繰返し単位とするイミド共重合体からなると考えられ
る(比率は1:9:1:9)。
When we measured its IR spectrum, we found that it was 1780 cm-
Absorption of an imide group at '1720 cm-1, a sulfone group at 1350 cm-1, and a 5i-0 bond at 1050 cm-1 was observed.From these results, this film was found to have the above formula (■a), (■ It is thought to consist of an imide copolymer having four repeating units: b), ([a), and (■b) (ratio: 1:9:1:9).

このフィルムの軟化点を上記針入法で測定したところ2
93℃であり、実施例2に記載された式(IX a )
と式(■b)を1:9に含むイミド共重合体(実験NQ
3)に比較すると軟化点は30℃低下していることがわ
かる。
The softening point of this film was measured using the needle penetration method described above.
93° C. and the formula (IX a ) described in Example 2
Imide copolymer containing formula (■b) in a ratio of 1:9 (experiment NQ
It can be seen that the softening point is lowered by 30°C compared to 3).

特許出願人 東亜燃料工業株式会社Patent applicant: Toa Fuel Industries Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)下記繰返し単位( I )及び繰返し単位(II)を
有するシリコンイミド共重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^1、R^2;▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼ X;直接結合、−O−、−CO−、−S−、−SO_2
−但しR^1とR^2は相異なる基を表わす。 R^0;アルキル基 )
(1) A silicone imide copolymer having the following repeating unit (I) and repeating unit (II). ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) (In the formula, R^1, R^2; ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼,▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ X; Direct bond, -O-, -CO-, -S-, -SO_2
-However, R^1 and R^2 represent different groups. R^0; alkyl group)
(2)下記繰返し単位( I )及び繰返し単位(III)を
有するシリコンイミド共重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1;▲数式、化学式、表等があります▼、
▲数式、化学式、表等があります▼ X;直接結合、−O−、−CO−、−S−、−SO_2
−R^0;アルキル基 ) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、R^1;▲数式、化学式、表等があります▼、
▲数式、化学式、表等があります▼ X;直接結合、−O−、−C−、−S−、−SO_2−
R^2;▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
ります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ Y;−O−、−CO−、−S、−SO_2−、−CH_
2−、−C(CH_3)_2−、−C(CF_3)_2
−、−Si(CH_3)_2−〕
(2) A silicone imide copolymer having the following repeating unit (I) and repeating unit (III). ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) (In the formula, R^1; ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼,
▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ X: Direct bond, -O-, -CO-, -S-, -SO_2
-R^0; Alkyl group) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(III) [In the formula, R^1; ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼,
▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ X: Direct bond, -O-, -C-, -S-, -SO_2-
R^2; ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ Mathematical formulas,
There are chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ Y; -O-, -CO-, -S, -SO_2-, -CH_
2-, -C(CH_3)_2-, -C(CF_3)_2
−, −Si(CH_3)_2−]
(3)下記繰返し単位( I )、繰返し単位(II)、繰
返し単位(III)及び繰返し単位(IV)を有するシリコ
ンイミド共重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^1、R^2;▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼ X;直接結合、−O−、−CO−、−S−、−SO_2
−但しR^1とR^2は相異なる基を表わす。 R^0;アルキル基) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 〔式中、R^1、R^2;▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼ X;直接結合、−O−、−C−、−S−、−SO_2−
但しR^1とR^2は相異なる基を表わす。 R^3;▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
ります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ Y;−O−、−CO−、−S−、−SO_2−、−CH
_2−、−C(CH_3)_2−、−C(CF_3)_
2−、−Si(CH_3)_2−〕
(3) A silicone imide copolymer having the following repeating units (I), repeating units (II), repeating units (III) and repeating units (IV). ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) (In the formula, R^1, R^2; ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼,▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ X; Direct bond, -O-, -CO-, -S-, -SO_2
-However, R^1 and R^2 represent different groups. R^0; alkyl group) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (III) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (IV) [In the formula, R^1, R^2; ▲ Mathematical formulas, chemical formulas, There are tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ X: Direct bond, -O-, -C-, -S-, -SO_2-
However, R^1 and R^2 represent different groups. R^3; ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ Mathematical formulas,
There are chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ Y; -O-, -CO-, -S-, -SO_2-, -CH
_2-, -C(CH_3)_2-, -C(CF_3)_
2-, -Si(CH_3)_2-]
(4)ビス(m−アミノフェニル)1,1,3,3−テ
トラアルキルジシロキサンと複数の芳香族カルボン酸・
2無水物とを反応させて特許請求の範囲第1項に示され
るシリコンイミド共重合体を製造する方法。
(4) Bis(m-aminophenyl)1,1,3,3-tetraalkyldisiloxane and multiple aromatic carboxylic acids.
A method for producing a silicon imide copolymer as set forth in claim 1 by reacting with dianhydride.
(5)芳香族テトラカルボン酸・2無水物と芳香族ジア
ミン及びビス(m−アミノフェニル)1,1,3,3−
テトラアルキルジシロキサンとを反応させて特許請求の
範囲第2項及び/又は特許請求の範囲第3項に示される
シリコンイミド共重合体を製造する方法。
(5) Aromatic tetracarboxylic acid dianhydride, aromatic diamine and bis(m-aminophenyl) 1,1,3,3-
A method for producing a silicone imide copolymer as set forth in claim 2 and/or claim 3 by reacting with tetraalkyldisiloxane.
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