JPH02187437A - Polymer material composition having improved light resistance - Google Patents

Polymer material composition having improved light resistance

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JPH02187437A
JPH02187437A JP829789A JP829789A JPH02187437A JP H02187437 A JPH02187437 A JP H02187437A JP 829789 A JP829789 A JP 829789A JP 829789 A JP829789 A JP 829789A JP H02187437 A JPH02187437 A JP H02187437A
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Abstract

PURPOSE:To provide a polymer material composition having improved light resistance and suitable for agricultural materials, automotive coatings, etc., by compounding a specific light stabilizer with a polymer material in a specified ratio. CONSTITUTION:A benzophenone compound of formula III (R2 is 2-4C alkylene, etc.; R3 and R4 are H, halogen, etc.; X and Y are H, halogen, etc.) is compounded with a polymer material in an amount of 0.001-5 pts.wt., preferably 0.01-3 pts.wt., per 100 pts.wt. of the polymer material to contrive the improvement of the light resistance of the resin. The compound of formula III is prepared, for example, by addition-reacting a compound of formula I (R1 is 1-8C alkyl, alkoxy, etc.; n is 0-3) to 2-(2-hydroxy-3-alkenyl-4-alkoxybenzophenone compound in the presence of a catalyst such as platinic chloride at 30-100 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、耐光性の改善された高分子材料組成物に関し
、詳しくは、特定の2−ヒドロキシベンゾフェノン化合
物を添加することによって、長期間にわたって耐光性の
改善された高分子材料組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a polymer material composition with improved light resistance, and more particularly, the present invention relates to a polymer material composition with improved light resistance over a long period of time by adding a specific 2-hydroxybenzophenone compound. Relating to molecular material compositions.

ポリエチレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ
塩化ビニル等の高分子材料は光の作用により劣化し、変
色あるいは機械的強度の低下等を引き起こし、長期の使
用に耐えないことが知られている。
It is known that polymer materials such as polyethylene, polypropylene, styrene resins, and polyvinyl chloride deteriorate due to the action of light, causing discoloration or a decrease in mechanical strength, and thus cannot withstand long-term use.

そこで、高分子材料の劣化を防止するために、従来から
種々の光安定剤が用いられている。これらの光安定剤と
しては、ヒンダードアミン系の光安定剤、ベンゾフェノ
ン系またはベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤が主と
して用いられており、特に、2−ヒドロキシベンゾフェ
ノン系の紫外線吸収剤はその安定化効果が大きく、広く
用いられている。
Therefore, in order to prevent the deterioration of polymeric materials, various light stabilizers have been conventionally used. As these light stabilizers, hindered amine light stabilizers, benzophenone-based or benzotriazole-based ultraviolet absorbers are mainly used, and 2-hydroxybenzophenone-based ultraviolet absorbers in particular have a large stabilizing effect. , widely used.

しかしながら、従来用いられていたベンゾフェノン系の
化合物はそれ自身の耐熱性に劣り、高分子材料の加工中
あるいは高温下での使用時に揮散したり、あるいは水、
有機溶媒に抽出され易い欠点を有しており、実用上不満
足なものであった。
However, conventionally used benzophenone compounds have poor heat resistance, and may volatilize during processing of polymeric materials or when used at high temperatures, or
It has the disadvantage of being easily extracted by organic solvents, and is unsatisfactory in practical terms.

このため、光安定剤を高分子量化することによって揮散
性を改良しようとする試みもなされており、例えば、ビ
ニル基、アクリル酸エステル結合を有する化合物を重合
させたポリマーを用いることも提案されており、揮散性
はある程度改善されている。しかしながら、このような
高分子量体は合成樹脂等の高分子材料に対する分散性に
劣り、また、樹脂中での移動も殆ど起こらないので、そ
の効果を充分に発揮し難い欠点を有しており、実用的な
ものとはなりえなかった。
For this reason, attempts have been made to improve the volatility of light stabilizers by increasing their molecular weight; for example, it has been proposed to use polymers made by polymerizing compounds having vinyl groups and acrylic ester bonds. The volatility has been improved to some extent. However, such polymers have poor dispersibility in polymer materials such as synthetic resins, and almost no movement occurs in the resin, so they have the disadvantage that they are difficult to fully demonstrate their effects. It couldn't be practical.

また、二分子の2−ヒドロキシフェニルベンゾフェノン
化合物をホルムアルデヒド、オクチルアルデヒド等のア
ルデヒドで結合した二量体化合物も低揮散性の紫外線吸
収剤として提案されているが、これらの化合物は化合物
自体の耐熱性に難点があり、高温加工時等の苛酷な条件
下ではその効果を満足に発揮しえない欠点があった。
In addition, dimeric compounds in which two molecules of 2-hydroxyphenylbenzophenone compounds are bonded with aldehydes such as formaldehyde and octylaldehyde have also been proposed as low-volatility ultraviolet absorbers; However, it has the disadvantage that it cannot satisfactorily demonstrate its effectiveness under harsh conditions such as during high-temperature processing.

本発明者等は、上記の現状に鑑み、新規なタイプの高分
子量の光安定剤を得るために鋭意検討を重ねた結果、下
記一般式(I)で表される化合物が耐熱性に優れ、苛酷
な加工条件下においても合成樹脂等の高分子材料に長期
の耐候性を付与しえることを見出し本発明に到達した。
In view of the above-mentioned current situation, the present inventors have conducted intensive studies to obtain a new type of high molecular weight light stabilizer, and have found that a compound represented by the following general formula (I) has excellent heat resistance, The present invention was achieved by discovering that long-term weather resistance can be imparted to polymeric materials such as synthetic resins even under severe processing conditions.

即ち、本発明は高分子材料100重量部に対して、下記
−紋穴(I)で表されるシロキサン化合物0.001〜
5重量部を添加してなる、耐光性の改善された高分子材
料組成物を提供するものである。
That is, in the present invention, 0.001 to 0.001 of the siloxane compound represented by the following formula (I) is added to 100 parts by weight of the polymeric material.
The object of the present invention is to provide a polymeric material composition with improved light resistance, which is obtained by adding 5 parts by weight.

〔式中、Rは次の式(n)で表される基を示し、R8は
炭素原子数1〜8のアルキル基、アルコキシ基又はフェ
ニル基を示し、nは0〜3を示す。
[Wherein, R represents a group represented by the following formula (n), R8 represents an alkyl group, an alkoxy group, or a phenyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents 0 to 3.

(XおよびYはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、水酸
基、炭素原子数1〜18のアルキル基又はアルキレ基を
示し、R1は炭素原子数2〜4のアルキレン基、オキシ
アルキレン基 R”は炭素原子数2〜4のアルキレン基を示し、R”は
水素原子又はメチル基を示す。R3およびR4はそれぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1〜1
8のアルキル基又はアルコキシ基を示す。)] 以下、上記要旨をもってなる本発明について詳述する。
(X and Y each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an alkylene group, R1 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and oxyalkylene group R" is a carbon atom number. 2 to 4 alkylene groups, R" represents a hydrogen atom or a methyl group. R3 and R4 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, or a carbon atom number of 1 to 1.
8 shows an alkyl group or an alkoxy group. )] Hereinafter, the present invention having the above-mentioned summary will be described in detail.

上記式中、R,で表されるアルキル基としては、例えば
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
第ニブチル、イソブチル、アミル、オクチル等があげら
れ、アルコキシ基としては上記のアルキル基から誘導さ
れるアルコキシ基があげられる。R2で表されるアルキ
レン基としては、例エバ、エチレン、1.2−プロピレ
ン、1.3−プロピレン、1,2−ブチレン、1.3−
ブチレン、1.4−ブチレン、2−メチル−1,3−プ
ロピレン等があげられる。R1およびR4で示されるア
ルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル
、ブチル、第ニブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル
、オクチル、デシル、ラウリル、パルミチル、ミリスチ
ル、ステアリル、ベンジル等があげられる。またアルコ
キシ基としては、前記アルキル基から誘導されるアルコ
キシ基があげられる、XおよびYで示されるアルキル基
またはアルコキシ基、しては、前記R1およびR4で示
されたアルキル基またはアルコキシ基があげられ、また
ハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子、
弗素原子があげられる。
In the above formula, examples of the alkyl group represented by R include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl,
Examples include nibutyl, isobutyl, amyl, octyl, etc., and examples of the alkoxy group include alkoxy groups derived from the above-mentioned alkyl groups. Examples of the alkylene group represented by R2 include Eva, ethylene, 1,2-propylene, 1,3-propylene, 1,2-butylene, 1,3-
Examples include butylene, 1,4-butylene, 2-methyl-1,3-propylene, and the like. Examples of the alkyl group represented by R1 and R4 include methyl, ethyl, propyl, butyl, nibutyl, isobutyl, amyl, hexyl, octyl, decyl, lauryl, palmityl, myristyl, stearyl, and benzyl. Examples of the alkoxy group include an alkoxy group derived from the alkyl group described above. Examples of the alkyl group or alkoxy group represented by X and Y include the alkyl group or alkoxy group represented by R1 and R4 described above. Examples of halogen atoms include chlorine atoms, bromine atoms,
Examples include fluorine atoms.

上記一般式(I)で表される化合物は、例えば、る方法
等によって容易に製造することができる。
The compound represented by the above general formula (I) can be easily produced by, for example, the method described above.

本発明の上記−紋穴(I)で表される化合物を製造する
ために用いられる2−ヒドロキシ−3−アルケニル−4
−アルコキシベンゾフェノン化合物としては、例えば、
次のような化合物をあげることができる。
2-Hydroxy-3-alkenyl-4 used for producing the compound represented by the above-mentioned Monka (I) of the present invention
-As the alkoxybenzophenone compound, for example,
The following compounds can be mentioned.

(2−ヒドロキシ−3−アルケニル−4−アルコキシベ
ンゾフェノン化合物とを、塩化白金酸あるいはシロキサ
ン系の触媒の存在下に、必要に応じて、トルエン、ヘキ
サン、オクタン、イソプロパツール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の反応に不活性な溶媒中または無溶媒
で付加反応させt ■ R+ ヒドロキシ−3−アルケニル−4−アルコキシベンゾフ
ェノン化合物とを反応させた後加水分解すCHt 反応は、室温〜約200°Cまでの範囲から適宜選択さ
れるが、好ましくは、約30°C〜約100°Cで行わ
れる。
(2-Hydroxy-3-alkenyl-4-alkoxybenzophenone compound is mixed with toluene, hexane, octane, isopropanol, tetrahydrofuran, dioxane, etc. as necessary in the presence of chloroplatinic acid or a siloxane-based catalyst. Addition reaction is carried out in a solvent inert to the reaction or in the absence of a solvent t ■ Hydrolysis is carried out after reacting with R+ hydroxy-3-alkenyl-4-alkoxybenzophenone compound CHt The reaction is carried out in the range from room temperature to about 200°C. The temperature is preferably selected from 30°C to 100°C.

次に、本発明で用いられる前記−紋穴(III)で表さ
れる化合物の具体的な合成例をあげるが、本発明は下記
の合成例によって制限を受けるものではない。
Next, a specific synthesis example of the compound represented by the above-mentioned Monna (III) used in the present invention will be given, but the present invention is not limited by the following synthesis example.

合成例−1 吻ユJと釦戊 〜97°Cの淡黄色固体を得た。Synthesis example-1 Nasuyu J and Kanagi A pale yellow solid was obtained at ~97°C.

赤外分光分析の結果、1625cm−’に吸収があり、
またNMR分析の結果、0.12 ppm 5t−CH
t 12 H,3,39ppm −0−CHt−48、
12,53ppmφ−O■2Hにピークがあり、目的物
であることを確認した。
As a result of infrared spectroscopy, there is an absorption at 1625 cm-'.
In addition, as a result of NMR analysis, 0.12 ppm 5t-CH
t 12 H, 3,39 ppm -0-CHt-48,
There was a peak at 12.53 ppmφ-O2H, confirming that it was the target product.

合成例−1 2−ヒドロキシ−4−アリルオキシベンゾフェノン17
.8gをキシレン17gに溶解し、テトラメチルジシロ
キサン4.7g及びダウコーニング社製シロキサン系白
金触媒110■を加え、95〜100°Cで7時間攪拌
した。
Synthesis example-1 2-hydroxy-4-allyloxybenzophenone 17
.. 8 g of xylene was dissolved in 17 g of xylene, 4.7 g of tetramethyldisiloxane and 110 cm of a siloxane-based platinum catalyst manufactured by Dow Corning were added, and the mixture was stirred at 95 to 100°C for 7 hours.

高速液体クロマトグラフィーにより、反応の完結を確認
した後、減圧で脱溶媒した。得られた粗生成物をメタノ
ールにより結晶化して、融点932−ヒドロキシ−3−
アリル−4オクチルオキシベンゾフエノン11.0gお
よびテトラメチルジシロキサン2.1gを用いる他は、
実施例1と同様の操作で粘稠の淡黄色液体を得た。
After confirming the completion of the reaction by high performance liquid chromatography, the solvent was removed under reduced pressure. The obtained crude product was crystallized from methanol to give a melting point of 932-hydroxy-3-
Besides using 11.0 g of allyl-4octyloxybenzophenone and 2.1 g of tetramethyldisiloxane,
A viscous pale yellow liquid was obtained in the same manner as in Example 1.

赤外分光分析の結果、1620cm−’に吸収があり、
またNMR分析の結果、0.07 ppn+ 5t−C
Hs 12  H、2,73ppm  φ−CL−4H
,4,0ppm  −0−CHz−4H、12,62p
pm φ−OH2Hにピークがあり、目的物であること
を確認した。
As a result of infrared spectroscopy, there is an absorption at 1620 cm-'.
Also, as a result of NMR analysis, 0.07 ppn+ 5t-C
Hs 12 H, 2,73 ppm φ-CL-4H
,4,0ppm -0-CHz-4H,12,62p
There was a peak at pm φ-OH2H, confirming that it was the target product.

上記合成例と同様の操作により、下記の化合物を合成し
た。
The following compound was synthesized by the same operation as in the above synthesis example.

本発明は、上記の特定の2−ヒドロキシベンゾフェノン
化合物を高分子材料用の光安定剤として用いるものであ
り、その添加量は特に制限を受けないが、高分子材料1
00重量部に対して、通常0.001〜5重量部、好ま
しくは0.01〜3重量部である。
The present invention uses the above-mentioned specific 2-hydroxybenzophenone compound as a light stabilizer for polymeric materials, and the amount added is not particularly limited.
The amount is usually 0.001 to 5 parts by weight, preferably 0.01 to 3 parts by weight.

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、高密度、低密度または直鎖状低密度ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−1、ポリ−3
−メチルペンテン等のα−オレフィン重合体またはエチ
レン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重
合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合体、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、
塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、塩化ゴ
ム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エ
チレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体
、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合
体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−シク
ロへキシルマレイミド共重合体、塩化ビニル−シクロへ
キシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン樹脂、石油樹
脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ア
クリル樹脂、スチレン及び/又はα−メチルスチレンと
他の単量体(例えば、無水マレイン酸、フェニルマレイ
ミド、メタクリル酸メチル、ブタジェン、アクリロニト
リル等)との共重合体(例えば、As樹脂、ABS樹脂
、MBS樹脂、耐熱ABS樹脂等)、ポリメチルメタク
リレート、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルブチラール、ポリエチレンテレフタレー
ト及びポリテトラメチレンテレフタレート等の直鎖ポリ
エステル、ポリフェニレンオキサイド、ポリカプロラク
タム及びポリへキサメチレンアジボアミド等のポリアミ
ド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレ
ンサルファイド、ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可
塑性合成樹脂及びこれらのブレンド物あるいはフェノー
ル樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂をあげることが
できる。更に、イソプレンゴム、ブタジェンゴム、アク
リロニトリル−ブタジェン共重合ゴム、スチレン−ブタ
ジェン共重合ゴム等のエラストマーであっても良い。
Examples of polymeric materials whose stability is to be improved in the present invention include high-density, low-density, or linear low-density polyethylene, polypropylene, polybutene-1, poly-3
- α-olefin polymers such as methylpentene or polyolefins such as ethylene-vinyl acetate copolymers and ethylene-propylene copolymers, and copolymers thereof, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, chlorinated polyethylene,
Chlorinated polypropylene, polyvinylidene fluoride, rubber chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-ethylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride-vinyl acetate terpolymer , halogen-containing resins such as vinyl chloride-acrylic acid ester copolymer, vinyl chloride-maleic acid ester copolymer, vinyl chloride-cyclohexylmaleimide copolymer, vinyl chloride-cyclohexylmaleimide copolymer, petroleum resin , copolymerization of coumaron resin, polystyrene, polyvinyl acetate, acrylic resin, styrene and/or α-methylstyrene with other monomers (e.g., maleic anhydride, phenylmaleimide, methyl methacrylate, butadiene, acrylonitrile, etc.) coalescence (for example, As resin, ABS resin, MBS resin, heat-resistant ABS resin, etc.), polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, linear polyesters such as polyethylene terephthalate and polytetramethylene terephthalate, polyphenylene oxide, polycaprolactam and thermoplastic synthetic resins such as polyamides such as polyhexamethylene aziboamide, polycarbonates, polyacetals, polyphenylene sulfides, polyurethanes, cellulose resins, and blends thereof, phenolic resins, urea resins, melamine resins, epoxy resins, Examples include thermosetting resins such as saturated polyester resins. Furthermore, elastomers such as isoprene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, and styrene-butadiene copolymer rubber may be used.

本発明の組成物には、前記−紋穴(I)で表される化合
物と共に、他の汎用の抗酸化剤、安定剤等の添加剤を併
用することができる。
In the composition of the present invention, other general-purpose additives such as antioxidants and stabilizers can be used together with the compound represented by the above-mentioned formula (I).

これらの添加剤として特に好ましいものとしては、フェ
ノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗酸化剤、ヒン
ダードアミン系の光安定剤があげられる。
Particularly preferable examples of these additives include phenol-based, sulfur-based, phosphite-based antioxidants, and hindered amine-based light stabilizers.

上記フェノール系抗酸化剤としては、例えば、2.6−
ジ第三ブチル−p−クレゾール、2.6−ジフェニル−
4−オクタデシロキシフェノール、ステアリル(3,5
−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)−プロピオ
ネート、ジステアリル(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒ
ドロキシベンジル)ホスホネート、チオジエチレングリ
コールビス((3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオネートL  1,6−へキサメチレ
ンビス((3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオネート)、1.6−へキサメチレンビス
((3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)
プロピオン酸アミド〕、4゜4°−チオビス(6−第三
ブチル−m−クレゾール)、2.2’−メチレンビス(
4−メチル−6=第三ブチルフェノールL2,2°−メ
チレンビス(4−エチル−6−第三ブチルフェノール)
、ビス〔3,3−ビス(4−ヒドロキシ−3−第三ブチ
ルフェニル)ブチリックアシッドコグリコールエステル
、4.4’−ブチリデンビス(6−第三ブチル−m−ク
レゾール)、2.2’ −エチリデンビス(4,6−ジ
第三ブチルフエノール)、2.2′−エチリデンビス(
4−第二ブチル−6−第三ブチルフェノール)  、1
.1.3−)リス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−
第三ブチルフェニル)ブタン、ビス(2−第三ブチル−
4−メチル−6−(2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−
5−メチルベンジル)フェニル〕テレフタレート、1,
3.5−)リス(2,6−シメチルー3−ヒドロキシ−
4−第三ブチルベンジル)イソシアヌレート、1,3.
5−)リス(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドルキシベ
ンジル)イソシアヌレート、1.3.5−トリス(3,
5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシベンジル)−2,4
,6−トリメチルベンゼン、1,3.5−)リス〔(3
゜5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テトラキス〔
メチレン−3−(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネートコメタン、2−第三ブチル
−4−メチル−6−(2−アクリロイルオキシ−3−第
三ブチル−5−メチルベンジル)フェノール、3,9−
ビス〔1゜1−ジメチル−2−((3−第三ブチル−4
−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキ
シ)エチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
(5,5)ウンデカン、トリエチレングリコールビス〔
(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニ
ル)プロピオネート〕等が挙げられる。
As the above-mentioned phenolic antioxidant, for example, 2.6-
di-tert-butyl-p-cresol, 2,6-diphenyl-
4-octadecyloxyphenol, stearyl (3,5
-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)-propionate, distearyl (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) phosphonate, thiodiethylene glycol bis((3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate) L 1,6-hexamethylenebis((3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate), 1,6-hexamethylenebis((3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)
propionic acid amide], 4°4°-thiobis(6-tert-butyl-m-cresol), 2,2'-methylenebis(
4-Methyl-6=tert-butylphenol L2,2°-methylenebis(4-ethyl-6-tert-butylphenol)
, bis[3,3-bis(4-hydroxy-3-tert-butylphenyl)butyric acid coglycol ester, 4.4'-butylidene bis(6-tert-butyl-m-cresol), 2.2'- Ethylidene bis(4,6-ditert-butylphenol), 2,2'-ethylidene bis(
4-Sec-butyl-6-tert-butylphenol), 1
.. 1.3-) Lis(2-methyl-4-hydroxy-5-
tert-butylphenyl)butane, bis(2-tert-butyl-
4-methyl-6-(2-hydroxy-3-tert-butyl-
5-Methylbenzyl)phenyl]terephthalate, 1,
3.5-)Lis(2,6-dimethyl-3-hydroxy-
4-tert-butylbenzyl) isocyanurate, 1,3.
5-) Lis(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)isocyanurate, 1.3.5-Tris(3,
5-ditert-butyl-4-hydroxybenzyl)-2,4
, 6-trimethylbenzene, 1,3.5-)lith[(3
゜5-Ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyloxyethyl]isocyanurate, tetrakis[
Methylene-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate comethane, 2-tert-butyl-4-methyl-6-(2-acryloyloxy-3-tert-butyl-5-methyl benzyl)phenol, 3,9-
Bis[1゜1-dimethyl-2-((3-tert-butyl-4
-hydroxy-5-methylphenyl)propionyloxy)ethyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro(5,5)undecane, triethylene glycol bis[
(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionate] and the like.

また、上記硫黄系抗酸化剤としては例えば、チオジプロ
ピオン酸ジラウリル、シミリスチル、ジステアリル等の
ジアルキルチオジプロピオネート類及びペンタエリスリ
トールテトラ(β−ドデシルメルカプトプロピオネート
)等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオン
酸エステル類があげられる。
Examples of the sulfur-based antioxidants include dialkyl thiodipropionates such as dilauryl thiodipropionate, simiristyl, and distearyl, and β-alkyl thiodipropionates of polyols such as pentaerythritol tetra (β-dodecylmercaptopropionate). Examples include mercaptopropionate esters.

また、上記ホスファイト系抗酸化剤としては、例えば、
トリスノニルフェニルホスファイト、トリス(2,4−
ジ第三ブチルフェニル)ホスファイト、トリス〔2−第
三ブチル−4−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニルチオ)−5−メチルフェニル〕ホスフ
ァイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニル
ホスファイト、ジ(デシル)モノフェニルホスファイト
、ジ(トリデシル)ペンタエリスリトールジホスファイ
ト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト
、ジ(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ビス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ第三
ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジ
ホスファイト、テトラ(トリデシル)イソプロピリデン
ジフェノールジホスファイト、テトラ(トリデシル)−
4,4”−n−ブチリデンビス(2−第三ブチル−5−
メチルフェノール)ジホスファイト、ヘキサ(トリデシ
ル)−1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキ
シ−5−第三ブチルフェニル)ブタントリホスファイト
、テトラキス(2゜4−ジ第三ブチルフェニル)ビフェ
ニレンジホスホナイト、9.10−シバイドロー9−オ
キサー10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイ
ド等があげられる。
In addition, examples of the phosphite-based antioxidants include:
Trisnonylphenyl phosphite, tris(2,4-
di-tert-butylphenyl) phosphite, tris[2-tert-butyl-4-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5
-methylphenylthio)-5-methylphenyl] phosphite, tridecyl phosphite, octyl diphenyl phosphite, di(decyl) monophenyl phosphite, di(tridecyl) pentaerythritol diphosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite , di(nonylphenyl)pentaerythritol diphosphite, bis(2,4-ditert-butylphenyl)pentaerythritol diphosphite, bis(2,6-ditert-butyl-4-methylphenyl)pentaerythritol diphosphite phyto, tetra(tridecyl)isopropylidenediphenol diphosphite, tetra(tridecyl)-
4,4”-n-butylidene bis(2-tert-butyl-5-
methylphenol) diphosphite, hexa(tridecyl)-1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)butane triphosphite, tetrakis(2゜4-di-tert-butylphenyl)biphenylene Examples include range phosphonite, 9.10-cybide-rho-9-oxer-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, and the like.

また、上記ヒンダードアミン系光安定剤としては、例え
ば、2.2,6.6−テトラメチル−4−ピペリジルベ
ンゾエート、N−(2,2,6゜6−テトラメチル−4
−ピペリジル)ドデシルコハク酸イミド、1−((3,
5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオ
ニルオキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル−(3,5−ジ第三ブチルー4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオネート、ビス(2,2゜6.6
−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(
1,2,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペリジル)
セバケート、ビス(1,2゜2.6.6−ベンタメチル
ー4−ピペリジル)−2−ブチル−2−(3,5−ジ第
三ブチルー4−ヒドロキシベンジル)マロネート、N、
N”−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)へキサメチレンジアミン、テトラ(2,2゜6
.6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブタンテトラカ
ルボキシレート、テトラ(1,2,2゜6.6−ベンタ
メチルー4−ピペリジル)ブタンテトラカルボキシレー
ト、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)・ジ(トリデシル)ブタンテトラカルボキシレー
ト、ビス(1゜2.2.6.6−ベンタメチルー4−ピ
ペリジル)・ジ(トリデシル)ブタンテトラカルボキシ
レート、3.9−ビス〔1,1−ジメチル−2−(トリ
ス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオ
キシカルボニルオキシ)ブチルカルボニルオキシ)エチ
ル]−2.4,8.10−テトラオキサスピロ(5,5
)ウンデカン、3,9−ビス〔1,1−ジメチル−2−
(トリス(1,2゜2.6.6−ベンタメチルー4−ピ
ペリジルオキシカルボニルオキシ)ブチルカルボニルオ
キシ)エチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピ
ロ(5,5)ウンデカン、1,5,8.12−テトラキ
ス〔4,6−ビス(N−(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)ブチルアミノ)−1,3,5−)
リアジン−2−イル)−1,5゜8.12−テトラアザ
ドデカン、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジツール/コハク酸ジ
メチル縮金物、2−第三オクチルアミノ−4,6−ジク
ロロ−8−トリアジン/N、N’−ビス(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)へキサメチレンジ
アミン縮合物、N、N’−ビス(2,2,6゜6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)へキサメチレンジアミン/
ジブロモエタン縮金物等があげられる。
Examples of the hindered amine light stabilizers include 2.2,6.6-tetramethyl-4-piperidylbenzoate, N-(2,2,6°6-tetramethyl-4
-piperidyl)dodecylsuccinimide, 1-((3,
5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyloxyethyl)-2,2,6,6-tetramethyl-
4-piperidyl-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate, bis(2,2°6.6
-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis(
1,2,2,6,6-bentamethyl-4-piperidyl)
Sebacate, bis(1,2゜2.6.6-bentamethyl-4-piperidyl)-2-butyl-2-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)malonate, N,
N''-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)hexamethylenediamine, tetra(2,2゜6
.. 6-tetramethyl-4-piperidyl)butane tetracarboxylate, tetra(1,2,2゜6.6-bentamethyl-4-piperidyl)butane tetracarboxylate, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4 -piperidyl) di(tridecyl)butanetetracarboxylate, bis(1゜2.2.6.6-bentamethyl-4-piperidyl)di(tridecyl)butanetetracarboxylate, 3.9-bis[1,1- Dimethyl-2-(tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyloxycarbonyloxy)butylcarbonyloxy)ethyl]-2.4,8.10-tetraoxaspiro(5,5
) undecane, 3,9-bis[1,1-dimethyl-2-
(tris(1,2゜2.6.6-bentamethyl-4-piperidyloxycarbonyloxy)butylcarbonyloxy)ethyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro(5,5)undecane, 1,5, 8.12-tetrakis[4,6-bis(N-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)butylamino)-1,3,5-)
riazin-2-yl)-1,5゜8.12-tetraazadodecane, 1-(2-hydroxyethyl)-2,2,6
, 6-tetramethyl-4-piperiditul/dimethyl succinate, 2-tertiary octylamino-4,6-dichloro-8-triazine/N,N'-bis(2,2,6,
6-tetramethyl-4-piperidyl)hexamethylenediamine condensate, N,N'-bis(2,2,6゜6-tetramethyl-4-piperidyl)hexamethylenediamine/
Examples include dibromoethane condensates.

その他必要に応じて、本発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加
工助剤等を包含させることができる。
In addition, if necessary, the composition of the present invention may contain heavy metal deactivators, nucleating agents, metal soaps, organotin compounds, plasticizers, epoxy compounds, blowing agents, antistatic agents, flame retardants, lubricants, processing aids, etc. Agents, etc. can be included.

本発明によって安定化された高分子材料は、例えば、農
業用資材、自動車用塗料等の高度の耐光性が要求される
分野に特に有用であり、例えば、フィルム、繊維、テー
プ、シート、各種成型材料、塗料、ラッカー用結合剤、
接着剤、パテ及び写真材料における基材等に用いること
ができる。
The polymeric material stabilized by the present invention is particularly useful in fields that require a high degree of light resistance, such as agricultural materials and automotive paints. Binders for materials, paints and lacquers,
It can be used for adhesives, putty, base materials in photographic materials, etc.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。 Next, the present invention will be specifically explained using examples.

実施例1 下記の配合により、250°Cで押し出し加工してベレ
ットを作成した。次いで、250°Cで射出成型して、
厚さ1mmの試験片を作成した。この試験片について、
高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行った。また、8
0゛Cの熱水に48時間浸漬後の試験片についても同様
に試験を行った。
Example 1 A pellet was produced by extrusion processing at 250°C using the following formulation. Then injection molded at 250°C,
A test piece with a thickness of 1 mm was prepared. Regarding this test piece,
A light resistance test was conducted using a high-pressure mercury lamp. Also, 8
A similar test was conducted on the test piece after immersing it in hot water at 0°C for 48 hours.

その結果を次の表−1に示す。The results are shown in Table 1 below.

く配合〉 ポリプロピレン(Profax 6501)   10
0重量部ステアリン酸カルシウム       0. 
1試料化合物   (表−1参照)    0.25表
−1 註二上記表−1中、比較化合物1及び比較化合物2は下
記の通りである。(下記表−2〜表−6でも同様) 比較化合物1 2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン 比較化合物2 1.4−ビス(4−ベンゾイル−3−ヒドロキシフェノ
キシ)ブタン 実施例2 本実施例では、押し出し加工を繰り返すことにより高温
加工による安定化効果の変化をみた。
Blend> Polypropylene (Profax 6501) 10
0 parts by weight Calcium stearate 0.
1 Sample Compound (See Table-1) 0.25 Table-1 Note 2 In Table-1 above, Comparative Compound 1 and Comparative Compound 2 are as follows. (The same applies to Tables 2 to 6 below) Comparative compound 1 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone Comparative compound 2 1.4-bis(4-benzoyl-3-hydroxyphenoxy)butane Example 2 This implementation In this example, we looked at changes in the stabilizing effect of high-temperature processing by repeating extrusion processing.

下記の配合により、樹脂と添加剤をミキサーで5分間混
合した後、250°Cで押し出し加工してコンパウンド
を作成した。押し出しを10回繰り返した後、250°
Cで射出成型して試験片を作成した。得られた試験片を
用いて、高圧水銀ランプで耐光性試験を行った。また、
押し出し1回及び5回のコンパウンドについても同様に
試験を行った。その結果を表−2に示す。
A compound was prepared by mixing the resin and additives in a mixer for 5 minutes and then extruding at 250°C according to the following formulation. After repeating extrusion 10 times, 250°
A test piece was prepared by injection molding. Using the obtained test piece, a light resistance test was conducted using a high-pressure mercury lamp. Also,
Compounds extruded once and extruded five times were similarly tested. The results are shown in Table-2.

〈配合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂 100重量部ステア
リン酸カルシウム       0. 2ジラウリルチ
オジプロピオネート   0.2試料化合物(表−2参
照)0.2 表−2 ポリエチレン 100重量部 ステアリン酸カルシウム 1.5 試料化合物(表−3参照) 表−3 0,1 実施例 3 下記の配合物を用い、混練後プレス加工して、厚さ0.
5園の試験片を作成した。この試験片を用いて、ウェザ
ロメーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間を
測定した。
<Formulation> Ethylene-propylene copolymer resin 100 parts by weight Calcium stearate 0. 2 Dilauryl thiodipropionate 0.2 Sample compound (see Table-2) 0.2 Table-2 Polyethylene 100 parts by weight Calcium stearate 1.5 Sample compound (see Table-3) Table-3 0,1 Example 3 Using the following formulation, the mixture was kneaded and then pressed to a thickness of 0.
Test specimens were prepared for five gardens. Using this test piece, the light resistance was measured in a weatherometer, and the time until embrittlement was measured.

その結果を表−3に示した。The results are shown in Table 3.

く配合〉 実施例4 下記の配合により、260℃で押し出し加工してペレッ
トを作成し、次いで、260°Cで射出成型して、厚さ
1m1nの試験片を作成した。この試験片を用いて、8
3゛Cのサンシャインウエザオメーター(雨なし)によ
る耐候性試験行い、400時間照射後の色差を測定した
Blend> Example 4 The following blend was extruded at 260°C to create pellets, and then injection molded at 260°C to create a test piece with a thickness of 1 ml. Using this test piece, 8
A weather resistance test was conducted using a 3°C sunshine weatherometer (no rain), and the color difference after 400 hours of irradiation was measured.

その結果を次の表−4に示した。The results are shown in Table 4 below.

表−4 カルシウムステアレート 0.4 二酸化チタン 試料化合物(表−4参照) 0.5 0.5 実施例5 下記配合物を70°Cで5分間ロール上で混練し、12
0°Cで5分間プレスして厚さ0.5鵬の試験片を作成
した。この試験片を用いて、フェードメーターで50時
間及び100時間照射後の伸び残率を測定した。
Table 4 Calcium stearate 0.4 Titanium dioxide sample compound (see Table 4) 0.5 0.5 Example 5 The following formulation was kneaded on a roll at 70°C for 5 minutes, and 12
A test piece with a thickness of 0.5 mm was prepared by pressing at 0°C for 5 minutes. Using this test piece, the residual elongation rate after irradiation for 50 hours and 100 hours was measured using a fade meter.

その結果を表−5に示す。The results are shown in Table-5.

く配合〉 ポリウレタン樹脂        100重量部(旭電
化製tJ−100) バリウムステアレート 亜鉛ステアレート 試料化合物(表−5参照) 表−5 0、65 0、35 0゜ 厚さ0.1+nnのフィルムを作成した。このフィルム
から試験片を切取い、ウェザロメーターによる耐候性試
験を行った。
Blend> Polyurethane resin 100 parts by weight (Asahi Denka tJ-100) Barium stearate zinc stearate sample compound (see Table-5) Table-5 0, 65 0, 35 0° thickness 0.1+nn film was prepared did. A test piece was cut from this film and subjected to a weather resistance test using a weatherometer.

その結果を表−6に示す。The results are shown in Table-6.

く配合〉 塩化ビニル樹脂(重合度1,000)   100重量
部ジオクチルフタレート        47エポキシ
化大豆油          3亜鉛ステアレート  
         0. 8エーテル ソルビタンモノパルミテート 試料化合物(表−6参照) 0゜ 実施例6 下記の配合物を用い、 混練ロールにより混練し 表−6 〔発明の効果〕 上記各実施例の結果から、本発明の特定のベンゾフェノ
ン化合物を用いた場合は、従来知られていた単量体型あ
るいは二量体型の化合物を用いた場合よりも、安定化効
果が著しく大きいことは明らかである。
Blend> Vinyl chloride resin (degree of polymerization 1,000) 100 parts by weight Dioctyl phthalate 47 Epoxidized soybean oil 3 Zinc stearate
0. 8 ether sorbitan monopalmitate sample compound (see Table 6) 0゜Example 6 Using the following formulation, the mixture was kneaded using a kneading roll. It is clear that when a specific benzophenone compound is used, the stabilizing effect is significantly greater than when the previously known monomeric or dimeric compounds are used.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 高分子材料100重量部に対して、下記一般式( I )
で表されるベンゾフェノン化合物0.001〜5重量部
を添加してなる、耐光性の改善された高分子材料組成物
。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Rは次の式(II)で表される基を示し、R_1
は炭素原子数1〜8のアルキル基、アルコキシ基又はフ
ェニル基を示し、nは0〜3を示す。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (XおよびYはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、水酸
基、炭素原子数1〜18のアルキル基又はアアルコキシ
基を示し、R_2は炭素原子数2〜4のアルキレン基、
オキシアルキレン基 式▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学
式、表等があります▼を示し、 R′は炭素原子数2〜4のアルキレン基を示し、R″は
水素原子又はメチル基を示す。R_3およびR_4はそ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1
〜18のアルキル基又はアルコキシ基を示す。)〕
[Claims] The following general formula (I) is applied to 100 parts by weight of the polymeric material.
A polymer material composition with improved light resistance, which contains 0.001 to 5 parts by weight of a benzophenone compound represented by: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) [In the formula, R represents a group represented by the following formula (II), and R_1
represents an alkyl group, an alkoxy group, or a phenyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents 0 to 3. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (II) (X and Y each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an alkoxy group, and R_2 represents a group having 2 to 18 carbon atoms. 4 alkylene group,
Oxyalkylene group formula ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available ▼ or ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available ▼, R' represents an alkylene group with 2 to 4 carbon atoms, and R'' is a hydrogen atom or methyl represents a group. R_3 and R_4 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, and a carbon atom number of 1.
~18 alkyl group or alkoxy group. )〕
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