JPH02186543A - Rotating anode target for x-ray tube - Google Patents
Rotating anode target for x-ray tubeInfo
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- JPH02186543A JPH02186543A JP500889A JP500889A JPH02186543A JP H02186543 A JPH02186543 A JP H02186543A JP 500889 A JP500889 A JP 500889A JP 500889 A JP500889 A JP 500889A JP H02186543 A JPH02186543 A JP H02186543A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はＸ線ＣＴ装’ｌ （Ｘ −ｒａｙ Ｃｏｍｐｕ
ｔｅｄＬｏｍｏｇｒａｐｌ＋ｙ）等に使用されるＸ線管
（Ｘ −ｒａｙＴｕｂｅ）におけるＸ線発生方法と該方
法を実施するＸ線管とに関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an X-ray CT system (X-ray CT system).
The present invention relates to a method for generating X-rays in an X-ray tube (X-rayTube) used in an X-ray tube (X-rayTube) used in a ted Lomograpl+y, etc., and an X-ray tube for implementing the method.
公知例 特開昭４６−３４９６３弼、特開昭５９］、
９ ］、 ２４７号
Ｘ線Ｃ１′装置による診断時間の短縮及び画像の解像度
の向」−を図るためにＸ線管の回転陽極（ｒｏｔａｔ〕
、 ｏｎ ａｎｎｏｄｅ）のＸ線ターゲツｌ＼（Ｘ−ｒ
ａｙｔａｒｇｅｔ、）を大型化して、それの熱容量を大
きくすることか望まれている。例えば、平均温度が約１
２００’Ｃて運転可能なＸ線ターゲツＩ・が望まれてい
る。従来技術においては、Ｘ線管の回転陽極のＸ線ター
ゲットを大型化してその外径を大きくして熱容量を大き
くするとＸ線ターケット内の温度分布に起因して電子線
を受ける側とは反対の側へ人きく熱変形する。その結果
、熱容量を太きくし、た割にはＸ線管から取りだされる
有効Ｘ線量が増加しないという問題がある。また、熱容
量を大きくしたことによってより強力な電子線をＸ線タ
ーゲットに照射し、より強力なＸ線を発生させることが
できるが、そのためには、Ｘ線ターゲッＩ・の被冷却能
力を太きくしなけれはならず、そのために、Ｘ線ターゲ
ツ］・を約］、 ＯＯＯＯｒ、ｐ、ｍ、の高速で回転し
なければならない。従来技術の金属４料を主体としたＸ
線管の回転陽極のＸ線ターゲットにおいては、その重旦
が重いために高速で回転されると、Ｘ線ターゲットを支
える軸受にかかる負荷が増加し、軸受が摩耗してＸ線タ
ーゲッ１へが偏心して回転するようになる。このことも
、前記した熱容量を大きくした割にはＸ線管から取りだ
される有効Ｘ線量が増加しないという問題を引き起こし
、さらには、Ｘ線ターゲットが破壊するという重要な問
題を引き起こす。また、さらに、軸受から摩耗した金属
粉がＸ線管の耐電圧を低下させるという問題もある。Publicly known examples: JP-A-46-34963, JP-A-59],
[9], In order to shorten the diagnosis time and improve the image resolution using the No. 247 X-ray C1' device, a rotating anode (rotat) of the X-ray tube was introduced.
, on annode)
It is desired to increase the size of the aytarget, ) and increase its heat capacity. For example, if the average temperature is about 1
An X-ray target I. that can be operated at 200'C is desired. In the conventional technology, when the X-ray target of the rotating anode of the X-ray tube is enlarged and its outer diameter is increased to increase the heat capacity, the temperature distribution inside the X-ray target causes the temperature distribution on the side opposite to the side receiving the electron beam to increase. Heat deforms to the side. As a result, there is a problem in that the heat capacity increases and the effective amount of X-rays taken out from the X-ray tube does not increase accordingly. In addition, by increasing the heat capacity, it is possible to irradiate the X-ray target with a more powerful electron beam and generate more powerful X-rays, but in order to do so, it is necessary to increase the cooling capacity of the X-ray target I. Therefore, the X-ray target must be rotated at a high speed of approximately ], OOOOr, p, m. X based on conventional technology of four metal materials
Since the X-ray target of the rotating anode of the ray tube is heavy, when it is rotated at high speed, the load on the bearing that supports the X-ray target increases, and the bearing wears out, causing damage to the X-ray target 1. It begins to rotate eccentrically. This also causes the problem that the effective amount of X-rays extracted from the X-ray tube does not increase even though the heat capacity is increased, and furthermore, it causes the important problem of destroying the X-ray target. Furthermore, there is also the problem that metal powder worn from the bearing reduces the withstand voltage of the X-ray tube.
一方、軽量化を図ったＸ線ターケツ［・とじて基盤をグ
ラファイトで作ったＸ線ターゲットがある。On the other hand, there is an X-ray target that is lightweight and has a closed base made of graphite.
例えは、特開昭４６−３４８６３ 弓、特開昭５９−１
９１２４７号によりけるように、クラファイ１−を主体
とした基盤上にタングステンやタングステン合金層を設
けた構造のターケラ）・である。For example, JP-A-46-34863 bow, JP-A-59-1
As shown in No. 91247, it is a terquera having a structure in which a tungsten or tungsten alloy layer is provided on a base mainly made of Krafai 1-.
クラファイＩ−を主体とするＸ線ターゲットは、グラフ
ァイトの比重が約１． 、８ ｇ ／ ｃｕｒ とタン
グステンの比重の約］／１０てあり、回転軸、軸受にか
かる負担か軽減され、大熱容量のＸ線ターゲツ］−とし
て有望である。そして、タラファイｌ〜は金属材料に比
へて、実用負荷時に発生する応力か小さいという利点が
ある。しかし、グラフアイＩ〜は破壊強度が低いために
高速回転時の信頼性を確保することは非常に困難であっ
た３、シかし、従来技術のタラファイ１〜を主体とする
Ｘ線ターゲットは、約３０００ ｒ、ｐ、Ｉｎ、の低速
回転が主な実用回転数であり、約１００００回転の高速
回転に対する考慮がなされていない。このため、高速回
転ではクラック等が発生し、ト分な安全柵をもって運転
する１］−
ことが困難であった。In the X-ray target mainly composed of Graphite I-, the specific gravity of graphite is approximately 1. , 8 g/cur, which is approximately 1/10 of the specific gravity of tungsten, which reduces the burden on rotating shafts and bearings, making it promising as an X-ray target with a large heat capacity. Moreover, compared to metal materials, Taraphie has the advantage that it generates less stress under practical loads. However, it was very difficult to ensure reliability during high-speed rotation due to the low breaking strength of Graphai I~3. However, the X-ray target based on the conventional technology Taraphi 1~ , about 3,000 r, p, In, is the main practical rotation speed, and no consideration has been given to high-speed rotation of about 10,000 rotations. As a result, cracks and the like occur during high-speed rotation, making it difficult to operate the motor with adequate safety fences.
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き、Ｘ線管の
回転陽極のＸ線ターゲットの熱容量を増大できるＸ線管
におけるＸ線発生方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for generating X-rays in an X-ray tube that can increase the heat capacity of the X-ray target of the rotating anode of the X-ray tube, while eliminating the drawbacks of the prior art described above.
本発明の他の目的は、本発明による方法を実施するＸ線
管であって、熱容量の増大に比例して有効Ｘ線量を増加
することが可能で、耐電圧を低−１′：させることのな
いＸ線管を提供することである。Another object of the present invention is to provide an X-ray tube that implements the method according to the present invention, which is capable of increasing the effective X-ray dose in proportion to the increase in heat capacity, and has a low withstand voltage of -1'. The object of the present invention is to provide an X-ray tube without any
本発明のさらに他の目的は、熱容量の増大及びそれに伴
う高速回転を可能にするＸ線管用回転陽極のＸ線ターゲ
ツＩ・を提供することである。Still another object of the present invention is to provide an X-ray target I for a rotating anode for an X-ray tube that enables an increase in heat capacity and correspondingly high speed rotation.
本発明によるＸ線管におけるＸ線発生方法は、金属被覆
層を有したＸ線ターゲットを回転させ、前記金属被覆層
に陰極（ｃａｔｈｏｄｅ）から電子線を照射し、電子線
照射によるＸ線ターゲットの熱変形と、遠心力によるＸ
線ターゲットの変形とを相殺させて、電子線照射方向に
おけるＸ線ターゲットの位置を保持してＸ線を発生させ
、それにより、熱容量の増大が可能となるＸ線管におけ
るＸ線発生方法である。The method for generating X-rays in an X-ray tube according to the present invention is to rotate an X-ray target having a metal coating layer, irradiate the metal coating layer with an electron beam from a cathode, and generate the X-ray target by the electron beam irradiation. X due to thermal deformation and centrifugal force
This is an X-ray generation method in an X-ray tube that generates X-rays while maintaining the position of the X-ray target in the electron beam irradiation direction by offsetting the deformation of the ray target, thereby increasing the heat capacity. .
本発明の一観点によるＸ線管は、密閉容器と該密閉容器
内に内蔵されたｘＨｆｇ管球と該Ｘ線管球内に内蔵され
た陰極と前記Ｘ線管球内に内蔵されたＸ線ターゲッ１〜
と該Ｘ線ターゲットを回転する回転機構とを備えたＸ線
管であって、前記Ｘ線ターゲットが基盤と電子線を受け
たときに発する金属の被覆層とを有しており、前記基盤
が上面と該上面とほぼ平行な下面と中心に形成された中
心孔と同軸に形成された環状傾斜面にして、ターゲット
の厚みを減少させるように前記ターゲットの外周に向か
って傾斜した環状傾斜面と前記下面に前記中心孔と同軸
的に形成された凹所にして、前記環状傾斜面の下側に位
置するターゲラ１一部分の平均厚さに対する前記中心孔
の厚さの比を１．２ から１．６ の値にする深さを有
した凹所とを有している。An X-ray tube according to one aspect of the present invention includes a sealed container, an xHfg tube built into the sealed container, a cathode built into the X-ray tube, and an X-ray tube built into the X-ray tube. Target 1~
and a rotation mechanism for rotating the X-ray target, wherein the X-ray target has a base and a metal coating layer that emits when receiving an electron beam, and the base is an upper surface; a lower surface substantially parallel to the upper surface; and an annular inclined surface formed coaxially with a center hole formed at the center, and inclined toward the outer periphery of the target so as to reduce the thickness of the target. A recess is formed on the lower surface coaxially with the center hole, and the ratio of the thickness of the center hole to the average thickness of a portion of the target layer 1 located below the annular inclined surface is 1.2 to 1. and a recess having a depth of .6.
本発明の他の観点によるＸ線管は、密閉容器と該密閉容
器内に内蔵されたＸ線管球と該Ｘ線管球内に内蔵された
陰極と前記Ｘ線管球内に内蔵されたＸ線ターゲツＩ〜と
該Ｘ線ターゲットを回転する回転機構とを備えたＸ線管
であって、１）ｉｊ記Ｘ線ターケッＩ−か基盤と電子線
を受けたときに発する金属の被覆層とを有しており、前
記基盤が」８面と該上面とほぼ平行なＦ面と中心に形成
された中心孔と同軸に形成された環状傾斜面にして、タ
ーケラ１〜の厚みを減少させるように前記ターゲットの
外周に向かって傾斜した環状傾斜面と前記中心孔と同軸
的に前記下面に固着された環状円盤、にして、前記環状
傾斜面の内径と外径との間に位置する基盤の部分の平均
厚さに対する前記中心孔の厚さの比を１．２から１．６
の値にする厚みを有した環状円盤とを有している。An X-ray tube according to another aspect of the present invention includes a closed container, an X-ray tube built into the sealed container, a cathode built into the X-ray tube, and a cathode built into the X-ray tube. An X-ray tube comprising an X-ray target I~ and a rotation mechanism for rotating the X-ray target, the X-ray tube comprising: 1) a metal coating layer that is emitted when the X-ray target I~ is exposed to an electron beam; and the base has an annular inclined surface formed coaxially with an F plane substantially parallel to the upper surface and a central hole formed in the center to reduce the thickness of the terquera 1. an annular inclined surface inclined toward the outer periphery of the target; and an annular disk fixed to the lower surface coaxially with the center hole, and a base located between the inner diameter and outer diameter of the annular inclined surface. The ratio of the thickness of the center hole to the average thickness of the part is 1.2 to 1.6.
It has an annular disk having a thickness of .
本発明の・観点によるＸ線管用回転陽極ターゲットは、
基盤と電子線を受けたときにＸ線を発する金属の被覆層
とを有した回転陽極用Ｘ線ターゲットであって、前記基
盤が上面と該−１−面とほぼ平行な下面と中心に形成さ
れた中心孔と前記上面に前記中心孔と同軸に形成された
環状傾斜面にして、基盤の厚みを減少させるように前記
基盤の周囲に向かって傾斜した環状傾斜面前記下面に前
記中心孔と同軸的に形成された凹所にして、前記環状傾
斜面のＦ側に位置する基盤の部分の平均厚さに対する前
記中心孔の厚さの比を］、２から１．６の値にする深さ
を有した凹所とを有している。A rotating anode target for an X-ray tube according to aspects of the present invention includes:
An X-ray target for a rotating anode, comprising a base and a metal coating layer that emits X-rays when receiving an electron beam, the base being formed at the center of an upper surface and a lower surface substantially parallel to the -1- plane. an annular inclined surface formed coaxially with the center hole on the upper surface thereof, and an annular inclined surface inclined toward the periphery of the substrate so as to reduce the thickness of the substrate; A coaxially formed recess with a depth such that the ratio of the thickness of the central hole to the average thickness of the part of the base located on the F side of the annular inclined surface is from 2 to 1.6. It has a recess with a depth.
本発明の他の観点によるＸ線管用回転陽極ターゲットは
、基盤と電子線を受けたときにＸ線を発する金属の被覆
層とを有した回転陽極用Ｘ線タケツトであって、前記基
盤が上面と該上面とほぼ平行な下面と中心に形成された
中心孔と前記上面に前記中心孔と同軸的に形成された環
状傾斜面にして、基盤も厚みを減少させるように前記基
盤の周囲に向かって傾斜した環状傾斜面と前記中心孔と
同軸的に前記下面に固着された環状円盤にして、前記環
状傾斜面の内径と外径との間に位置する基盤の部分の平
均厚さに対する前記中心孔の厚さの比を１．２から１．
６の値にする厚みを有した環状円盤とを有している。A rotating anode target for an X-ray tube according to another aspect of the present invention is an X-ray bracket for a rotating anode, which has a base and a metal coating layer that emits X-rays when receiving an electron beam, the base being an upper surface. and a lower surface substantially parallel to the upper surface, a center hole formed in the center, and an annular slope formed on the upper surface coaxially with the center hole, so that the thickness of the base is also reduced toward the periphery of the base. an annular slanted surface and an annular disk fixed to the lower surface coaxially with the center hole; The hole thickness ratio was changed from 1.2 to 1.
and an annular disk having a thickness of 6.
本発明のさらに他の観点による回転陽極用Ｘ線ターゲッ
トは、Ｘ線発生時、熱応力と遠心応力との合成応力の回
転軸線に沿った分布が合成応力の平均値の±１０％の範
囲にある分布となる形状を有している。In the X-ray target for a rotating anode according to still another aspect of the present invention, when X-rays are generated, the distribution of the composite stress of thermal stress and centrifugal stress along the rotation axis is within ±10% of the average value of the composite stress. It has a shape with a certain distribution.
Ｘ線管１０は、第１図及び第２図に示されるように、密
閉容器１］内にＸ線管球１２を内蔵しており、Ｘ線管球
１２の周囲には冷却媒体］３が充填されている。密閉容
器１１には、Ｘ線放射窓１４が形成されており、諒恕か
らＸ線が放出される。Ｘ線管球１２内には電子線１８を
発する陰極１５と電子線１８の照射を受ける回転陽極１
６とが内蔵されており、回転陽極１６はＸ線ターゲット
１７と該Ｘ線ターゲットを回転するロータ１９とを有し
ている。ロータ１９に対面してＸ線管球１２の周囲には
ステータ２０が設置されている。As shown in FIGS. 1 and 2, the X-ray tube 10 has an X-ray tube 12 built in a closed container 1, and a cooling medium 3 is placed around the X-ray tube 12. Filled. An X-ray emission window 14 is formed in the closed container 11, and X-rays are emitted from the window. Inside the X-ray tube 12 are a cathode 15 that emits an electron beam 18 and a rotating anode 1 that receives the electron beam 18.
The rotating anode 16 has an X-ray target 17 and a rotor 19 that rotates the X-ray target. A stator 20 is installed around the X-ray tube 12 facing the rotor 19.
密閉容器１１の開口部にはゴム製の蓋２１が嵌められて
いる。A rubber lid 21 is fitted into the opening of the closed container 11.
Ｘ線ターゲット１７は基盤２２と電子線１８の照射をう
けた時にＸ線を発生する金属被覆層２３とを有している
。基盤２２は主にグラファイトで作られており、金属被
覆層はタングステンやレニウム・タングステン合金が使
用されている。基盤２２は−１−而２４とそれにほぼ平
行な下面２５とを有しており、中心には中心孔２６が形
成されている。The X-ray target 17 has a base 22 and a metal coating layer 23 that generates X-rays when irradiated with the electron beam 18 . The base 22 is mainly made of graphite, and the metal coating layer is made of tungsten or a rhenium-tungsten alloy. The base 22 has a lower surface 25 substantially parallel to the lower surface 24, and a central hole 26 is formed in the center thereof.
中心孔２６には回転軸２７が挿入されており、基盤２２
はナツト２８等の固定具によって、回転軸２７に固着さ
れている。上面２４には、中心孔２６と同軸的に形成さ
れた環状傾斜面２９が形成されている。その傾斜は基盤
２２の厚みを減少するように基盤２２の外周に向かって
傾斜している。A rotating shaft 27 is inserted into the center hole 26, and the base 22
is fixed to the rotating shaft 27 with a fixing member such as a nut 28. An annular inclined surface 29 is formed on the upper surface 24 and is coaxial with the center hole 26 . The slope slopes toward the outer periphery of the base 22 to reduce the thickness of the base 22.
傾斜角度は８度から１２度の範囲が好適である。The angle of inclination is preferably in the range of 8 degrees to 12 degrees.
該環状傾斜面２９に金属被覆層２３が化学気相成長法（
Ｃｈｅｍｉｃａｌ、 ｖａｐｏｕｒ ｄｅｐｏｓｉｔ］
ｏｎ ｐｒｏｃｅｓｓ）等の方法で被覆される。被覆層
２３の厚さが０．６ｎｌｌ＋以上になるとＸ線ターゲッ
トの破壊回転数が１５０００ ｒ、ｐ、ｍ、以下となり
、実用回転数１０００Ｏｒ 、Ｐ 、 Ｉｌｌ 、に対
して−１−分な安全率が確保できなくなる。A metal coating layer 23 is formed on the annular inclined surface 29 by chemical vapor deposition (
Chemical, vapor deposit]
on process). When the thickness of the coating layer 23 is 0.6 nll+ or more, the destructive rotational speed of the X-ray target becomes 15000 r, p, m or less, and the safety factor is -1 min for the practical rotational speed of 1000 Or, P, Ill. cannot be secured.
また、厚さが０．２ｍｍ未満では基盤に熱が伝わり過ぎ
、回転軸２７の耐用寿命が短くなる。従って、厚さ０．
２胴から０ 、６ ｍｍの範囲が好適である。Furthermore, if the thickness is less than 0.2 mm, too much heat will be transferred to the base, and the useful life of the rotating shaft 27 will be shortened. Therefore, the thickness is 0.
A range of 0.6 mm from the second cylinder is suitable.
本発明によるＸ線発生方法を第３図を用いて説明する。The X-ray generation method according to the present invention will be explained using FIG.
Ｘ線ターゲット１７が平均温度約１２００℃で運転され
ると、第３図の破線で示されるように電子線］８を受け
る側とは反対側（第３図において下方）に熱変形する。When the X-ray target 17 is operated at an average temperature of about 1200° C., it is thermally deformed to the side opposite to the side receiving the electron beam 8 (downward in FIG. 3), as shown by the broken line in FIG.
その結果、金属被覆層２３の角度が変化し、Ｘ線放射窓
」４から放出される有効Ｘ線量が減少する。このとき、
本発明においては、高速回転による遠心力を積極的に利
用して、Ｘ線ターゲット１７を第３図の−・点鎖線で示
されるように電子線］８を受ける側（第３図において上
層）に変形させ、前記熱変形を相殺させ、電子線の照射
方向におけるＸ線ターゲット１７の常温での位置を保持
させる。これにより、金属被覆層２３の角度が保持され
るので、有効Ｘ線量をＸ線ターゲットの熱容量の増大に
比例して多くすることができる。As a result, the angle of the metallization layer 23 changes and the effective X-ray dose emitted from the X-ray emission window 4 is reduced. At this time,
In the present invention, the centrifugal force caused by high-speed rotation is actively used to move the X-ray target 17 to the side receiving the electron beam 8 (the upper layer in FIG. 3) as shown by the dashed line in FIG. The X-ray target 17 is deformed to offset the thermal deformation, and the position of the X-ray target 17 at room temperature in the electron beam irradiation direction is maintained. As a result, the angle of the metal coating layer 23 is maintained, so that the effective X-ray dose can be increased in proportion to the increase in the heat capacity of the X-ray target.
Ｘ線ターゲット１７の熱変形と遠心力による変形との相
殺は、Ｘ線ターゲット１７の回転速度を調節することに
よって行っても良いし、また、金属被覆層２３に対する
電子線の照射条件を調節することで行われても良い。The thermal deformation of the X-ray target 17 and the deformation due to centrifugal force may be offset by adjusting the rotational speed of the X-ray target 17, or by adjusting the conditions for irradiating the metal coating layer 23 with the electron beam. It may also be done by
次に、前記した方法を実施するためのＸ線ターゲットを
説明する。Ｘ線ターゲット１７を遠心力を利用して電子
線を受ける側に変形させるには、基盤２２の下面２５に
中心孔２６と同軸的に凹所３０を形成すれば良い。第４
図は凹所３０の深さを決めるために、ｌ Ｏ０００ｒ、
ｐ、＋＋＋、の回転数でＸ線ターゲット１７を回転した
時の基盤２２の円周方向の熱応力と遠心応力との合成応
力の中心孔２６に沿った分布を環状傾斜面２９の内径と
外径との間に位置する基盤部分、言い換えると環状傾斜
面２９の下に位置する基盤部分２２ａの平均厚さゴｍに
対する中心孔２６の厚さ′１゛の比Ｔ ｍ ／ Ｔをパ
ラメータとしてΔ１！Ｉ定した結果を示している。Next, an X-ray target for carrying out the above method will be explained. In order to deform the X-ray target 17 to the side that receives the electron beam using centrifugal force, a recess 30 may be formed in the lower surface 25 of the base 22 coaxially with the center hole 26. Fourth
The figure shows that in order to determine the depth of the recess 30, l O000r,
The distribution of the composite stress of the thermal stress in the circumferential direction and the centrifugal stress of the base 22 along the center hole 26 when the X-ray target 17 is rotated at a rotation speed of In other words, the ratio T m / T of the thickness of the center hole 26 to the average thickness of the base portion 22a located below the annular inclined surface 29 is Δ1. ! The results are shown below.
図中、−点鎖線は比Ｔ ｍ ／ Ｔが１．２ の場合、
実線は比Ｔ ｍ ／ Ｔが１，４ の場合、破線は比Ｔ
ｍ／Ｔが１．６の場合をそれぞれ示している。合成応力
の大きさは中心孔２６に沿ってほぼ−・様に分布してい
ることが好ましいが、本発明者等は合成塔力の平均値の
±１０％の範囲内に合成応力の大きさが分布しているこ
とを許容範囲とした。図から明らかなように、中心孔２
６の厚さ、言い換えると凹所の深さは、比Ｔ ｍ ／
Ｔを１．２から１．６の値とする深さにすれば、中心孔
２６に沿う合成応力の大きさの分布を許容範囲内にする
ことができる。In the figure, the - dotted line indicates when the ratio T m / T is 1.2,
The solid line represents the ratio T m / T when it is 1,4, and the dashed line represents the ratio T
The case where m/T is 1.6 is shown in each case. Although it is preferable that the magnitude of the resultant stress is distributed in a substantially --like manner along the center hole 26, the inventors have determined that the magnitude of the resultant stress is distributed within a range of ±10% of the average value of the resultant tower force. The acceptable range was that the distribution of As is clear from the figure, the center hole 2
The thickness of 6, in other words the depth of the recess, is the ratio T m /
By setting T to a depth of 1.2 to 1.6, the distribution of the magnitude of the resultant stress along the central hole 26 can be kept within an acceptable range.
以下、本発明を実施例に従って説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained according to examples.
実施例１
本発明のＸ線管用回転陽極ターゲットを第５図に例示す
る。基盤２２はグラファイトで作られており、凹所の深
さは８何であり、比Ｔ ｍ ／ Ｔ”は１．２ である
。前記グラファイトは強度を高めるために密度を高めた
高密度グラフアイ１〜材料や炭素繊維を用いた複合材料
であっても良い。基盤２２の上面にある金属被覆層２３
は化学気相成長法によって、レニウム・タングステン合
金膜を形成した。基盤２２の円周方向の合成応力の中心
孔２６に沿った分布は第６図に示すとおりであり、その
分布は合成応力の平均値の±５％の範囲内であって、は
ぼ−様な分布といえる。応力が一様であるということは
、基盤２２の変形が半径方向の変形のみて、金属被覆層
２３の角度か常温のままであるということであり、Ｘ線
が有効にＸ線管から放射されることを意味する。Example 1 A rotating anode target for an X-ray tube according to the present invention is illustrated in FIG. The base 22 is made of graphite, the depth of the recess is 8 and the ratio T m / T'' is 1.2. ~ material or a composite material using carbon fiber.Metal coating layer 23 on the top surface of the base 22
formed a rhenium-tungsten alloy film by chemical vapor deposition. The distribution of the combined stress in the circumferential direction of the base 22 along the center hole 26 is as shown in FIG. This can be said to be a distribution. The fact that the stress is uniform means that the deformation of the base 22 is only in the radial direction, and the angle of the metal coating layer 23 remains at room temperature, so that X-rays are effectively emitted from the X-ray tube. It means to do something.
実施例２
第７図に本発明によるＸ線管用回転陽極ターゲットの別
の実施例を示ず。基盤２２はグラファイトて作られてお
り、凹所３０の深さは２０画であり、比’Ｔ” ｍ ／
Ｔは約１．５である。基盤２２の円周方向の合成応力
の中心孔２６に沿った分布は第８図に示すとおりであり
、その分布は合成応力の平均値±１０％以内の範囲内に
あって本発明者等の範囲内にある。Embodiment 2 FIG. 7 does not show another embodiment of the rotating anode target for an X-ray tube according to the present invention. The base 22 is made of graphite, the depth of the recess 30 is 20 strokes, and the ratio 'T'' m/
T is approximately 1.5. The distribution of the composite stress in the circumferential direction of the base 22 along the center hole 26 is as shown in FIG. within range.
実施例３
第９図は本発明によるＸ線管用回転陽極ターゲット・の
他の実施例を示す。基盤２２はグラフアイ１〜３１と炭
化珪素のセラミックス３２との複合材で作られた上層と
その平面に固着されたグラファイＩ−製の環状円盤３３
とからなる。前記セラミックスは、高熱伝心性を示す窒
化アルミニラｂ 、窒化硼素、酸化／＼リリウム等を用
いても良い。また、前記セラミックスは、窒化珪素、酸
化ジルコニウム等の高強度４料を用いても良い３、環状
円盤３３：３は環状傾斜面２９の内径と外径との間にあ
る基盤部分２２ａの平均厚さＴ 、ｒ、に対する中心孔
２Ｇの厚さＴの比−Ｊ” ｍ ／ Ｔを１．２から１．
６の値にする厚さを有している。本実施例はＪＩＩ、ｇ
Ｉ２２に前記複合材を使用したことにより基盤の強度を
タラファイ１〜製のそれよりも大きくすることができる
。Embodiment 3 FIG. 9 shows another embodiment of the rotating anode target for an X-ray tube according to the present invention. The base 22 has an upper layer made of a composite material of Grapheye 1 to 31 and silicon carbide ceramic 32, and an annular disk 33 made of Graphite I fixed to the plane of the upper layer.
It consists of As the ceramic, aluminum nitride, boron nitride, lylium oxide, etc., which exhibit high thermal conductivity, may be used. Further, the ceramic may be made of high-strength materials such as silicon nitride and zirconium oxide. The ratio of the thickness T of the central hole 2G to the thickness T, r - J'' m/T is from 1.2 to 1.
It has a thickness of 6. This example is JII, g
By using the composite material for I22, the strength of the base can be made greater than that of Taraphi 1~.
実施例４
第１０図は本発明によるＸ線管用回転陽極タゲツ１−の
他の実施例を示しており、基盤２２はグラフアイ１〜製
の下層３５とモリブデン製の薄い−Ｌ。Embodiment 4 FIG. 10 shows another embodiment of the rotary anode target 1- for an X-ray tube according to the present invention, in which the base 22 has a lower layer 35 made of Grapheye 1- and a thin layer 35 made of molybdenum.
層３４からなっている。前記−１−層は、タングステン
等の高融点材料を用いても良い。本実施例は、薄いモリ
ブデン製の」−層を設けたことにより重址が僅かに増加
するか、その強度をグラフアイ１〜製のそれよりも更に
犬きくすることができる。It consists of layer 34. The -1- layer may be made of a high melting point material such as tungsten. In this example, by providing a thin layer of molybdenum, the weight can be slightly increased, or the strength can be made even stronger than that of Graphai 1~.
本発明によれば熱による変形と遠心力による変形とを相
殺させることかできるので、熱容量の増大及びそれに伴
う高速回転を可能にするＸ線管用回転陽極のＸ線ターゲ
シトが得られる。According to the present invention, since deformation due to heat and deformation due to centrifugal force can be offset, it is possible to obtain an X-ray target for a rotating anode for an X-ray tube that has an increased heat capacity and is capable of high-speed rotation.
第１図は本発明によるＸ線管の概略断面図、第２図は第
１図のＸ線管に使用される回転陽極の概略断面図、第３
図は本発明によるＸ線発生方法を説明するためのＸ線タ
ーゲットの右半分断面図、第４図は本発明によるＸ線タ
ーゲットの中心孔の厚さの環状傾斜部分の平均ノブさに
対する比とＸ線ターゲットの中心孔に沿った応力分布と
の関係を示す図、第５図は本発明によるＸ線ターゲット
の実施例を示す断面図、第６図は第５図に示されたＸ線
ターゲットの中心孔に沿った応力の分布を示す図、第７
図は本発明によるＸ線ターゲットの別の実施例を示す断
面図、第８図は第７図に示されたＸ線ターゲットの中心
孔に沿った応力の分布を示す図、第９図は本発明による
Ｘ線ターゲットのさらに他の実施例を示す断面図、第１
０図は本発明によるＸ線ターゲットのさらに他の実施例
を示す断面図である。
１０・・Ｘ線管、１１・密閉容器、１２・Ｘ線管球、１
３・冷却媒体、１４・・Ｘ線放射窓、１−５・陰極、コ
ロ・回転陽極、１７・・・Ｘ線ターゲット、１８・・電
子線、１９・・・ロータ、２０・・ステータ、２］蓋、
２２・基盤、２３・・金属被覆層、２４・上面。
２５ ・下面、２６・中心孔、２７・・回転軸、２８・
ナツト、２９・・・環状傾斜面、３０・・・凹所、３１
グラフアイト、３２・炭化珪素、３３・環状円盤、３４
・・・上層、３５・・下層。
（恥）瑯現”’ｊ−’−［Ｎ±］（−味と１′）春ゴ」
○θ・Ｕ惧土１モ）１車′ｌｙ：）
娘FIG. 1 is a schematic sectional view of an X-ray tube according to the present invention, FIG. 2 is a schematic sectional view of a rotating anode used in the X-ray tube of FIG.
The figure is a right half sectional view of the X-ray target for explaining the X-ray generation method according to the present invention, and FIG. A diagram showing the relationship with the stress distribution along the center hole of the X-ray target, FIG. 5 is a cross-sectional view showing an embodiment of the X-ray target according to the present invention, and FIG. 6 is the X-ray target shown in FIG. 5. Figure 7 showing the stress distribution along the central hole of
8 is a cross-sectional view showing another embodiment of the X-ray target according to the present invention, FIG. 8 is a diagram showing the stress distribution along the center hole of the X-ray target shown in FIG. 7, and FIG. Cross-sectional view showing still another embodiment of the X-ray target according to the invention, 1st
FIG. 0 is a sectional view showing still another embodiment of the X-ray target according to the present invention. 10.X-ray tube, 11.Airtight container, 12.X-ray tube, 1
3. Cooling medium, 14.. X-ray emission window, 1-5. Cathode, roller, rotating anode, 17.. X-ray target, 18.. Electron beam, 19.. Rotor, 20.. Stator, 2 ]lid,
22. Base, 23. Metal coating layer, 24. Top surface. 25・Bottom surface, 26・Center hole, 27・Rotation shaft, 28・
Nut, 29... Annular inclined surface, 30... Recess, 31
Graphite, 32, silicon carbide, 33, annular disk, 34
...upper layer, 35...lower layer. (Embarrassing) Erogen "'j-'-[N±] (-taste and 1') Harugo"
○θ・U 1mo) 1 car'ly:) Daughter
Claims (1)
トを回転させ、前記金属被覆層に陰極から電子線を照射
し、電子線照射によるＸ線ターゲットの熱変形を遠心力
によるＸ線ターゲットの変形とで相殺させて、電子線照
射方向におけるＸ線ターゲットの常温での位置を保持し
てＸ線を発生させるＸ線管におけるＸ線発生方法。 ２、特許請求の範囲第１項において、前記Ｘ線ターゲッ
トの熱変形と遠心力による変形との相殺はＸ線ターゲッ
トの回転速度を調節することによつて行われることを特
徴とするＸ線発生方法。 ３、特許請求の範囲第１項において、前記Ｘ線ターゲッ
トの熱変形と遠心力による変形との相殺は電子線の照射
条件を調節することによつて行われることを特徴とする
Ｘ線発生方法。 ４、特許請求の範囲第１項において、前記Ｘ線ターゲッ
トの熱変形と遠心力による変形との相殺は前記Ｘ線ター
ゲットを電子線を受ける側へ遠心力によつて変形させる
ことによつて行われることを特徴とするＸ線発生方法。 ５、密閉容器と該密閉容器内に内蔵されたＸ線管球と該
Ｘ線管球内に内蔵された陰極と前記Ｘ線管球内に内蔵さ
れたＸ線ターゲットと該Ｘ線ターゲットを回転する回転
機構とを備えたＸ線管であつて、前記Ｘ線ターゲットが
基盤と電子線を受けたときに発する金属の被覆層とを有
しており、前記基盤が上面と該上面とほぼ平行な下面と
中心に形成された中心孔と同軸に形成された環状傾斜面
にして、ターゲットの厚みを減少させるように前記ター
ゲットの外周に向かつて傾斜した環状傾斜面と前記下面
に前記中心孔と同軸的に形成された凹所にして、前記環
状傾斜面の下側に位置するターゲット部分の平均厚さに
対する前記中心孔の厚さの比を１．２から１．６の値に
する深さを有した凹所とを有しているＸ線管。 ６、特許請求の範囲第５項において、前記Ｘ線ターゲッ
トの前記環状傾斜面の傾斜角度は８度から１２度の範囲
にあることを特徴とするＸ線管。 ７、特許請求の範囲第５項において、前記Ｘ線ターゲッ
トの前記金属被覆層が０．２ｍｍから０．６ｍｍの範囲
の厚さを有していることを特徴とするＸ線管。 ８、特許請求の範囲第５項において、前記Ｘ線ターゲッ
トの前記基盤はグラファイトで形成されていることを特
徴とするＸ線管。 ９、特許請求の範囲第５項において、前記Ｘ線ターゲッ
トの前記基盤は炭化珪素、窒化アルミニウム、窒化珪素
、窒化硼素、酸化ベリリウム等のセラミックスとグラフ
ァイトとの複合材で形成されていることを特徴とするＸ
線管。 １０、特許請求の範囲第５項において、前記Ｘ線ターゲ
ットの前記基盤は上層がモリブデン、タングステン等の
高融点金属材料で下層がグラファイトの２層構造を主体
として形成されていることを特徴とするＸ線管。 １１、密閉容器と該密閉容器内に内蔵されたＸ線管球と
該Ｘ線管球内に内蔵された陰極と前記Ｘ線管球内に内蔵
されたＸ線ターゲットと該Ｘ線ターゲットを回転する回
転機構とを備えたＸ線管であつて、前記Ｘ線ターゲット
が基盤と電子線を受けたときに発する金属の被覆層とを
有しており、前記基盤が上面と該上面とほぼ平行な下面
と中心に形成された中心孔と同軸に形成された環状傾斜
面にして、ターゲットの厚みを減少させるように前記タ
ーゲットの外周に向かつて傾斜した環状傾斜面と前記中
心孔と同軸的に前記下面に固着された環状円盤にして、
前記環状傾斜面の内径と外径との間に位置する基盤の部
分の平均厚さに対する前記中心孔の厚さの比を１．２か
ら１．６の値にする厚みを有した環状円盤とを有してい
ることを特徴とするＸ線管。 １２、特許請求の範囲第１１項において、前記Ｘ線ター
ゲットの前記環状傾斜面の傾斜角度は８度から１２度の
範囲にあることを特徴とするＸ線管。 １３、特許請求の範囲第１１項において、前記Ｘ線ター
ゲットの前記金属被覆層が０．２ｍｍから０．６ｍｍの
範囲の厚さを有していることを特徴とするＸ線管。 １４、特許請求の範囲第１１項において、前記Ｘ線ター
ゲットの前記基盤はグラファイトで形成されていること
を特徴とするＸ線管。 １５、特許請求の範囲第１１項において、前記Ｘ線ター
ゲットの前記基盤は炭化珪素、窒化アルミニウム、窒化
珪素、窒化硼素、酸化ベリリウム等のセラミックスとグ
ラファイトとの複合材で形成されていることを特徴とす
るＸ線管。 １６、特許請求の範囲第１１項において、前記Ｘ線ター
ゲットの前記基盤は上層がモリブデン、タングステン等
の高融点金属材料で下層がグラファイトの２層構造を主
体として形成されていることを特徴とするＸ線管。 １７、特許請求の範囲第１１項において、前記Ｘ線ター
ゲットの前記環状円盤はグラファイト製であることを特
徴とするＸ線管。 １８、基盤と電子線を受けたときにＸ線を発する金属の
被覆層とを有した回転陽極用Ｘ線ターゲットであつて、
前記基盤が上面と該上面とほぼ平行な下面と中心に形成
された中心孔と前記上面に前記中心孔と同軸に形成され
た環状傾斜面にして、基盤の厚みを減少させるように前
記基盤の周囲に向かつて傾斜した環状傾斜面前記下面に
前記中心孔と同軸的に形成された凹所にして、前記環状
傾斜面の下側に位置する基盤の部分の平均厚さに対する
前記中心孔の厚さの比を１．２から１．６の値にする深
さを有した凹所とを有していることを特徴とする回転陽
極用Ｘ線ターゲット。 １９、特許請求の範囲第１８項の前記Ｘ線ターゲットに
おいて、前記環状傾斜面の傾斜角度は８度から１２度の
範囲にあることを特徴とする回転陽極用Ｘ線ターゲット
。 ２０、特許請求の範囲第１８項の前記Ｘ線ターゲットに
おいて、前記金属被覆層が０．２ｍｍから０．６ｍｍの
範囲の厚さを有していることを特徴とする回転陽極用Ｘ
線ターゲット。 ２１、特許請求の範囲第１８項の前記Ｘ線ターゲットに
おいて、前記基盤はグラファイトで形成されていること
を特徴とする回転陽極用Ｘ線ターゲット。 ２２、特許請求の範囲第１８項において、前記Ｘ線ター
ゲットの前記基盤は炭化珪素、窒化アルミニウム、窒化
珪素、窒化硼素、酸化ベリリウム等のセラミックスとグ
ラファイトとの複合材で形成されていることを特徴とす
る回転陽極用Ｘ線ターゲット。 ２３、特許請求の範囲第１８項において、前記Ｘ線ター
ゲットの前記基盤は上層がモリブデン、タングステン等
の高融点金属材料で下層がグラフアイトの２層構造を主
体として形成されていることを特徴とする回転陽極用Ｘ
線ターゲット。 ２４、基盤と電子線を受けたときにＸ線を発する金属の
被覆層とを有した回転陽極用Ｘ線ターゲットであつて、
前記基盤が上面と該上面とほぼ平行な下面と中心に形成
された中心孔と前記上面に前記中心孔と同軸的に形成さ
れた環状傾斜面にして、基盤も厚みを減少させるように
前記基盤の周囲に向かつて傾斜した環状傾斜面と前記中
心孔と同軸的に前記下面に固着された環状円盤にして、
前記環状傾斜面の内径と外径との間に位置する基盤の部
分の平均厚さに対する前記中心孔の厚さの比を１．２か
ら１．６の値にする厚みを有した環状円盤とを有してい
る回転陽極用Ｘ線ターゲット。 ２５、特許請求の範囲第２４項の前記Ｘ線ターゲットに
おいて、前記環状傾斜面の傾斜角度は８度から１２度の
範囲にあることを特徴とする回転陽極用Ｘ線ターゲット
。 ２６、特許請求の範囲第２４項の前記Ｘ線ターゲットに
おいて、前記金属被覆層が０．２ｍｍから０．６ｍｍの
範囲の厚さを有していることを特徴とする回転陽極用Ｘ
線ターゲット。 ２７、特許請求の範囲第２４項の前記Ｘ線ターゲットに
おいて、前記基盤はグラファイトで形成されていること
を特徴とする回転陽極用Ｘ線ターゲット。 ２８、特許請求の範囲第２４項において、前記Ｘ線ター
ゲットの前記基盤は炭化珪素、窒化アルミニウム、窒化
珪素、窒化硼素、酸化ベリリウム等のセラミックスとグ
ラファイトとの複合材で形成されていることを特徴とす
る回転陽極用Ｘ線ターゲット。 ２９、特許請求の範囲第２４項において、前記Ｘ線ター
ゲットの前記基盤は上層がモリブデン、タングステン等
の高融点金属材料で下層がグラファイトの２層構造を主
体として形成されていることを特徴とする回転陽極用Ｘ
線ターゲット。 ３０、特許請求の範囲第２４項において、前記Ｘ線ター
ゲットの前記環状基盤はグラファイト製であることを特
徴とする回転陽極用Ｘ線ターゲット。 ３１、Ｘ線発生時、熱応力と遠心応力との合成応力の回
転軸線に沿つた分布が合成応力の平均値の±１０％の範
囲にある分布となる形状を有したことを特徴とする回転
陽極用Ｘ線ターゲット。[Claims] 1. An X-ray target having a metal coating layer on a rotating anode is rotated, and the metal coating layer is irradiated with an electron beam from the cathode, and thermal deformation of the X-ray target due to electron beam irradiation is caused by centrifugal force. An X-ray generation method in an X-ray tube that generates X-rays while maintaining the position of the X-ray target at room temperature in the electron beam irradiation direction by offsetting the deformation of the X-ray target due to 2. The X-ray generator according to claim 1, wherein the thermal deformation of the X-ray target and the deformation due to centrifugal force are offset by adjusting the rotational speed of the X-ray target. Method. 3. The X-ray generation method according to claim 1, wherein the thermal deformation of the X-ray target and the deformation due to centrifugal force are offset by adjusting electron beam irradiation conditions. . 4. In claim 1, the thermal deformation of the X-ray target and the deformation caused by centrifugal force are offset by deforming the X-ray target toward the side receiving the electron beam by centrifugal force. An X-ray generation method characterized by: 5. A closed container, an X-ray tube built into the sealed container, a cathode built into the X-ray tube, an X-ray target built into the X-ray tube, and rotating the X-ray target. The X-ray target has a base and a metal coating layer that emits when it receives an electron beam, and the base has an upper surface and a rotation mechanism that is substantially parallel to the upper surface. an annular inclined surface formed coaxially with a lower surface and a center hole formed in the center, and an annular inclined surface inclined toward the outer periphery of the target and the center hole formed in the lower surface to reduce the thickness of the target. A coaxially formed recess having a depth such that the ratio of the thickness of the central hole to the average thickness of the target portion located below the annular inclined surface is between 1.2 and 1.6. An X-ray tube having a recess. 6. The X-ray tube according to claim 5, wherein the annular inclined surface of the X-ray target has an inclination angle in a range of 8 degrees to 12 degrees. 7. An X-ray tube according to claim 5, characterized in that the metal coating layer of the X-ray target has a thickness in the range of 0.2 mm to 0.6 mm. 8. The X-ray tube according to claim 5, wherein the base of the X-ray target is made of graphite. 9. Claim 5 is characterized in that the base of the X-ray target is formed of a composite material of graphite and ceramics such as silicon carbide, aluminum nitride, silicon nitride, boron nitride, and beryllium oxide. X to be
wire tube. 10. In claim 5, the base of the X-ray target is mainly formed of a two-layer structure in which the upper layer is a high melting point metal material such as molybdenum or tungsten and the lower layer is graphite. X-ray tube. 11. An airtight container, an X-ray tube built into the airtight container, a cathode built into the X-ray tube, an X-ray target built into the X-ray tube, and rotating the X-ray target. The X-ray target has a base and a metal coating layer that emits when it receives an electron beam, and the base has an upper surface and a rotation mechanism that is substantially parallel to the upper surface. an annular inclined surface formed coaxially with the lower surface and a central hole formed in the center, and an annular inclined surface inclined toward the outer periphery of the target and coaxial with the central hole so as to reduce the thickness of the target. an annular disk fixed to the lower surface;
an annular disk having a thickness such that the ratio of the thickness of the central hole to the average thickness of the portion of the base located between the inner diameter and the outer diameter of the annular inclined surface is from 1.2 to 1.6; An X-ray tube characterized by having: 12. The X-ray tube according to claim 11, wherein the annular inclined surface of the X-ray target has an inclination angle in a range of 8 degrees to 12 degrees. 13. An X-ray tube according to claim 11, characterized in that the metal coating layer of the X-ray target has a thickness in the range of 0.2 mm to 0.6 mm. 14. The X-ray tube according to claim 11, wherein the base of the X-ray target is made of graphite. 15. Claim 11, characterized in that the base of the X-ray target is formed of a composite material of graphite and ceramics such as silicon carbide, aluminum nitride, silicon nitride, boron nitride, and beryllium oxide. X-ray tube. 16. In claim 11, the base of the X-ray target is mainly formed of a two-layer structure in which the upper layer is a high melting point metal material such as molybdenum or tungsten and the lower layer is graphite. X-ray tube. 17. The X-ray tube according to claim 11, wherein the annular disk of the X-ray target is made of graphite. 18. An X-ray target for a rotating anode, comprising a base and a metal coating layer that emits X-rays when receiving an electron beam,
The base has an upper surface, a lower surface substantially parallel to the upper surface, a center hole formed in the center, and an annular slope formed on the upper surface coaxially with the center hole, so that the thickness of the base is reduced. A recess formed coaxially with the center hole on the lower surface of the annular inclined surface inclined toward the periphery, and the thickness of the center hole relative to the average thickness of the portion of the base located below the annular inclined surface. An X-ray target for a rotating anode, characterized in that the X-ray target has a recess having a depth that makes the ratio of the angles between the two sides a value of 1.2 to 1.6. 19. The X-ray target for a rotating anode according to claim 18, wherein the annular inclined surface has an inclination angle in a range of 8 degrees to 12 degrees. 20. The X-ray target for a rotating anode according to claim 18, wherein the metal coating layer has a thickness in the range of 0.2 mm to 0.6 mm.
line target. 21. The X-ray target for a rotating anode according to claim 18, wherein the base is made of graphite. 22. Claim 18, characterized in that the base of the X-ray target is formed of a composite material of graphite and ceramics such as silicon carbide, aluminum nitride, silicon nitride, boron nitride, and beryllium oxide. X-ray target for rotating anode. 23. Claim 18, characterized in that the base of the X-ray target is formed mainly of a two-layer structure in which the upper layer is a high melting point metal material such as molybdenum or tungsten and the lower layer is graphite. X for rotating anode
line target. 24. An X-ray target for a rotating anode, comprising a base and a metal coating layer that emits X-rays when receiving an electron beam,
The base has an upper surface, a lower surface substantially parallel to the upper surface, a center hole formed at the center, and an annular slope formed on the upper surface coaxially with the center hole, so that the base also has a reduced thickness. and an annular disk fixed to the lower surface coaxially with the center hole;
an annular disk having a thickness such that the ratio of the thickness of the central hole to the average thickness of the portion of the base located between the inner diameter and the outer diameter of the annular inclined surface is from 1.2 to 1.6; An X-ray target for rotating anodes. 25. The X-ray target for a rotating anode according to claim 24, wherein the annular inclined surface has an inclination angle in a range of 8 degrees to 12 degrees. 26. The X-ray target according to claim 24, wherein the metal coating layer has a thickness in the range of 0.2 mm to 0.6 mm.
line target. 27. The X-ray target for a rotating anode according to claim 24, wherein the base is made of graphite. 28. Claim 24, characterized in that the base of the X-ray target is formed of a composite material of graphite and ceramics such as silicon carbide, aluminum nitride, silicon nitride, boron nitride, and beryllium oxide. X-ray target for rotating anode. 29. Claim 24, characterized in that the base of the X-ray target is formed mainly of a two-layer structure in which the upper layer is a high melting point metal material such as molybdenum or tungsten and the lower layer is graphite. For rotating anode
line target. 30. The X-ray target for a rotating anode according to claim 24, wherein the annular base of the X-ray target is made of graphite. 31. A rotation characterized by having a shape in which, when X-rays are generated, the distribution of the composite stress of thermal stress and centrifugal stress along the axis of rotation is within ±10% of the average value of the composite stress. X-ray target for anode.
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- 1989-01-13 JP JP1005008A patent/JP2810074B2/en not_active Expired - Lifetime
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