JPH02175791A - Organic film, magnetic recording medium, magnetic head, and magnetic recording and reproducing method - Google Patents
Organic film, magnetic recording medium, magnetic head, and magnetic recording and reproducing methodInfo
- Publication number
- JPH02175791A JPH02175791A JP33252688A JP33252688A JPH02175791A JP H02175791 A JPH02175791 A JP H02175791A JP 33252688 A JP33252688 A JP 33252688A JP 33252688 A JP33252688 A JP 33252688A JP H02175791 A JPH02175791 A JP H02175791A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- film
- magnetic head
- organic film
- floating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 66
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims abstract description 60
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 49
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 34
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims abstract description 15
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 137
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 claims description 39
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 35
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 24
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 18
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 11
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 8
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 8
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 8
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 8
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 7
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 abstract description 9
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 81
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 239000002585 base Substances 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 8
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 7
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 3
- -1 Co-Ni Chemical class 0.000 description 3
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 3
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N (9Z)-octadecen-1-ol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCO ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 2
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- LLCSWKVOHICRDD-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diyne Chemical group C#CC#C LLCSWKVOHICRDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 2
- 229940055577 oleyl alcohol Drugs 0.000 description 2
- XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N oleyl alcohol Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCO XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- XFMDETLOLBGJAX-UHFFFAOYSA-N 2-methylideneicosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=C)C(O)=O XFMDETLOLBGJAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004166 Lanolin Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GNKTZDSRQHMHLZ-UHFFFAOYSA-N [Si].[Si].[Si].[Ti].[Ti].[Ti].[Ti].[Ti] Chemical compound [Si].[Si].[Si].[Ti].[Ti].[Ti].[Ti].[Ti] GNKTZDSRQHMHLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940053200 antiepileptics fatty acid derivative Drugs 0.000 description 1
- 229940000488 arsenic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 235000020028 corn beer Nutrition 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N ethenyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC=C AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 229940039717 lanolin Drugs 0.000 description 1
- 235000019388 lanolin Nutrition 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004668 long chain fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- FSAJWMJJORKPKS-UHFFFAOYSA-N octadecyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C FSAJWMJJORKPKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BARWIPMJPCRCTP-UHFFFAOYSA-N oleic acid oleyl ester Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCOC(=O)CCCCCCCC=CCCCCCCCC BARWIPMJPCRCTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BARWIPMJPCRCTP-CLFAGFIQSA-N oleyl oleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC BARWIPMJPCRCTP-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000006058 strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
〈産業上の利用分野〉
本発明は、潤滑作用および保護作用を有する有機膜と、
この有機膜を有する磁気記録媒体および磁気ヘッドと、
これらを用いる磁気記録再生方法とに関する。
〈従来の技術〉
計算機等に用いられる磁気ディスク駆動装置には、剛性
基板上に磁性層を設層したハードタイプの磁気ディスク
と浮上型磁気ヘッドとが用いられている。
このような磁気ディスク駆動装置においては、従来、塗
布型の磁気ディスクが用いられていたが、磁気ディスク
の大容量化に伴い、磁気特性、記録密度等の点で有利な
ことから、スパッタ法等の気相成膜法等により設層され
る連続薄膜型の磁性層を有する薄膜型磁気ディスクが用
いられるようになっている。
薄膜型磁気ディスクとしては１．Ａｒ１．系のディスク
状金属板にＮ１−Ｐ下地層をめっきにより設層するか、
あるいはこの金属板表面を酸化してアルマイトを形成し
たものを基板とし、この基板上にＣｒ層、Ｃｏ−Ｎｉ等
の金属磁性層、さらにＣ等の保護潤滑膜をスパッタ法に
より順次設層して構成されるものが一般的である。
しかし、Ｃｏ−Ｎｉ等の金属磁性層は耐食性が低く、さ
らに硬度が低く、信頼性に問題が生じる。 これに対し
、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されているよう
な酸化鉄を主成分とする磁性薄膜は化学的に安定なため
腐食の心配がな（、また、充分な硬度を有している。
一方、浮上型磁気ヘッドは浮力を発生するスライダを有
する磁気ヘッドであり、コアがスライダと一体化された
コンポジットタイプのもの、あるいはコアがスライダを
兼ねるモノリシックタイプのものが通常用いられる。
さらに、これらの他、高密度記録が可能であることから
、いわゆる薄膜型の浮上型磁気ヘッドが注目されている
。 薄膜型の浮上型磁気ヘッドは、基体上に磁極層、ギ
ャップ層、コイル層などを気相成膜法等により形成した
ものである。 このような薄膜型の浮上型磁気ヘッドで
は、基体がスライダとしてはな・らく。
これらの浮上型磁気ヘッドにおいて、スライダは、各種
フェライト、Ａρ＊ Ｏｓ −ＴｉＣ。
ＺｒＯ□、ＳｉＣ，ＡｌＮ等の各種セラミックスから構
成される。
浮上型磁気ヘッドを用いる磁気ディスク装置では、コン
タクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）時に浮上型磁気
ヘッドの浮揚面（スライダの磁気ディスク側表面）と磁
気ディスクが接触する。 このとき、磁気ディスクおよ
び浮上型磁気ヘッドにキズの発生、破損などが生じたり
、あるいは磁気ディスクへの浮上型磁気ヘッドの吸着が
生じ易い。 このため、磁気ディスクあるいは磁気ヘッ
ド表面に種々の保護膜あるいは潤滑膜を設ける提案がな
されている。
特に、酸化鉄はＣｏ−Ｎｉ等の金属に比べ硬度が高いた
め、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されているよ
うな酸化鉄磁性層を有する磁気ディスクでは、例え磁気
ディスク表面に潤滑膜あるいは保護膜を設けてあっても
Ｃ８Ｓの繰り返しによりヘッド浮揚面がキズつき易く、
また、ヘッドとディスクの間の摩擦が増大し易い。 こ
のため、このような組み合わせにおいては、潤滑膜ある
いは保護膜構成材料の選択には注意を要する。
また、酸化鉄磁性層を有する磁気ディスクとＭｎ−Ｚｎ
フェライト製基体を有する浮上型ヘッドとを組み合わせ
て用いる場合、Ｍｎ−Ｚｎフェライトの硬度が酸化鉄の
硬度よりも低いため、このような問題は一層顕著となる
。
さらに、酸化鉄磁性層を有する薄膜型磁気ディスクに対
し、Ｍ ｎ −Ｚ ｎフェライトより硬度の高いＡ！２
Ｏ３− −Ｔ ｉ Ｃ，Ｚｒ０ｚＳｉＣ，Ａｌ２Ｎなど
の基体を有する浮上型磁気ヘッドを用いる場合、上記の
ような問題はある程度解消するが、このような磁気ディ
スクおよび浮上型磁気ヘッドの組み合わせにおいては、
磁性層およびスライダのいずれもが高い硬度を有するた
め、より高い潤滑および保護効果が必要となる。 特
に、高密度記録を行なうために薄膜型の浮上型磁気ヘッ
ドを用いる場合、上記問題はより顕著となる。
すなわち、薄膜型の浮上型磁気ヘッドを用いる石Ｈ気デ
ィスク駆動装置では、高密度記録を行なうために磁気デ
ィスクと磁気ヘッドとの間隔（フライングバイト）を極
めて小さく設定できるので、磁気ディスクの振動あるい
は駆動装置外部からの衝撃などにより磁気ディスクと浮
上型磁気ヘッドとの接触事故が生じたり、また、フライ
ングハイドが小さい場合、ＣＳＳ時に磁気ヘッドおよび
磁気ディスクが受ける被害がより太き（なるからである
。
特に、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されている
ような酸化鉄を主成分とする磁性薄膜を有する磁気ディ
スクは、表面が鏡面化されたガラス基板を使用しており
、磁性層の表面粗さが非常に小さなものとなっている。
このため、好適な保護膜を選定しないと磁気ディスク
と磁気ヘッドとの間の摩擦が大きくなり、Ｃ８Ｓ等の際
に磁気ヘッドがスティックスリップしたり、吸着したり
するという問題を生じる。 このため、このような組み
合わせにおいても、潤滑膜あるいは保護膜構成材料の選
択には注意を要する。
〈発明が解決しようとする課題〉
以上に挙げたような浮上型磁気ヘッドおよび磁気記録媒
体に設けられる保護潤滑膜には、種々の潤滑剤が用いら
れている。
例えば、本発明者らは昭和６３年１２月１４付の特許出
願（１）において、パーフルオロアルキレンを有するポ
リエーテルおよび／またはその誘導体を含有する保護潤
滑膜を提案している。
この保護潤滑膜は、良好な保護潤滑効果を示すものでは
あるが、比較的高分子量であるため粘度が高（、撥水性
効果が高いため、磁気記録媒体あるいは磁気ヘッド等の
被着体へ成膜したとき均一に成膜することが難しく、不
均一な膜となりやすい。
本発明は、Ｃ８Ｓ時に磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間
の摩擦が小さく、かつ、その変動が少なく、磁気記録媒
体への磁気ヘッドの吸着が発生しに（（、磁気ヘッドお
よび磁気記録媒体にキズあるいは破損が生じにくい磁気
記録媒体および磁気ヘッドと、これらを用いる磁気記録
再生方法と、主として磁気記録媒体の保護潤滑膜あるい
は磁気ヘッドの保護潤滑膜として用いられてこのような
効果を実現する潤滑効果および保護効果が高い有機膜と
を提供することを目的とする。
く課題を解決するための手段〉
このような目的は、下記（１）〜（１７）の本発明によ
り達成される。
（１）パーフルオロアルキレンを有するポリエーテルお
よび／またはその誘導体と、融点３０℃未満の液状もし
くは半液状の低分子化合物とを含有することを特徴とす
る有機膜。
（２）さらに融点３０℃以上の固体状の低分子化合物を
含有する上記（１）に記載の有機膜。
（３）前記固体状の低分子化合物が、下記式で表わされ
る化合物を含む上記（２）に記載の有機膜。
式
％式％
（ただし、Ｘは内部にエーテル結合（−０−）および／
またはエステル結合（−Ｃｏｏ−または−〇〇〇−）を
１または２以上有してもよいアルキレン基であって、そ
の総炭素数をｍとしたときｎ＋ｍ≧９である。 また、
Ｚは親水性基を表わす。）
（４）前記式においてｒｎ≧８かつｍ≧ｎである上記（
３）に記載の有機膜。
（５）前記固体状の低分子化合物が、脂肪酸、エステル
およびアルコールの１種以上を含む上記（２）ないしく
４）のいずれかに記載の有機膜。
（６）ラングミュア・ブロジェット法により成膜された
単分子膜または累積膜である上記（１）ないしく５）の
いずれかに記載の有機膜。
（７）剛性基板上に磁性層を有し、この磁性層上に上記
（１）ないしく６）のいずれかに記載の有機膜を保護潤
滑膜として有することを特徴とする磁気記録媒体。
（８）前記磁性層が酸化鉄を主成分とする連続薄膜型の
磁性層である上記（７）に記載の磁気記録媒体。
（９）前記剛性基板がガラスから構成される上記（７）
または（８）に記載の磁気記録媒体。
（１０）上記（１）ないしく６）のいずれかに記載の有
機膜を、少なくともフロント面に有することを特徴とす
る磁気ヘッド。
（１１）浮上型磁気ヘッドである上記
（１０）に記載の磁気ヘッド。
（１２）少なくとも浮揚面がビッカース硬度１０００以
上のセラミックス材料から構成されている上記（１１）
に記載の磁気ヘッド。
（１３）前記セラミックス材料がＡｊ２．Ｏ。
−Ｔｉｃを主成分とするセラミックス、ＺｒＯ□を主成
分とするセラミックス、ＳｉＣを主成分とするセラミッ
クスまたはＡｌ２Ｎを主成分とするセラミックスである
上記（１２）に記載の磁気ヘッド。
（１４）前記セラミックス材料がＡｆ２＋１０３−Ｔｉ
Ｃを主成分とするセラミックス、ＳｉＣを主成分とする
セラミックスまたはＡｆｉＮを主成分とするセラミック
スである上記（１２）または（１３）のいずれかに記載
の磁気ヘッド。
（１５）前記セラミックス材料がＡＡｘＯｓ−ＴｉＣを
主成分とするセラミックスである上記（１２）ないしく
１４）のいずれかに記載の磁気ヘッド。
（１６）薄膜型の浮上型磁気ヘッドである上記（１１）
ないしく１５）のいずれかに記載の磁気ヘッド。
（１７）上記（７）ないしく９）のいずれかに記載の磁
気記録媒体に上記（１１）ないしく１６）のいずれかに
記載の磁気ヘッドにより記録および再生を行なう方法で
あって、前記磁性層表面と前記浮上型磁気ヘッドの浮揚
面との距離が０．１μｍ以下であることを特徴とする磁
気記録再生方法。
く作用〉
本発明の有機膜は、パーフルオロアルキレンを有するポ
リエーテルおよび／またはその誘導体と、融点３０℃未
満の液状もしくは半液状の低分子化合物とを含有する。
パーフルオロアルキレンを有するポリエーテルおよび／
またはその誘導体は、高い潤滑性を示す。
そして、液状もしくは半液状の低分子化合物は、パーフ
ルオロアルキレンを有するポリエーテルおよび／または
その誘導体の粘度を低下させ、被着体とのヌレ性を向上
させる。 このため、均一な成膜を行なうことができる
。
さらに、本発明の有機膜に固体状の低分子化合物が含有
される場合、初期摩擦を減少させることができる。 ま
た、この場合、成膜性がさらに向上し、特に、ラングミ
ュア・ブロジェット（以下、ＬＢと略称する）法により
成膜する場合に顕著な効果を発揮する。
従って、本発明の有機膜を磁気記録媒体あるいは磁気ヘ
ッドの保護潤滑膜に適用した場合、走行中あるいは耐久
走行後の摩擦変動が少なくなり、また、耐久走行中のス
ティックスリップ現象の発生がない。
く具体的構成〉
以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。
本発明の有機膜は、パーフルオロアルキレンを有するポ
リエーテルおよび／またはその誘導体を含有する。
本発明において、パーフルオロアルキレンを有するポリ
エーテルおよび／またはその誘導体に特に制限はないが
、下記式（Ｉ）で表わされるものが好ましい。
式（Ｉ）
ＡＩ −Ｂ１ （−Ｌｆｌ −０＋Ｌｆ２−Ｂ２−Ａ２
上記式（Ｉ）において、Ａ１およびＡ２は、−Ｆ、−Ｈ
，−ＣＯＯＺ、−ＣＯＯＲまたは置換もしくは非置換の
１価の芳香族基を表わす。 ただし、Ｚは−Ｈまたは１
価のカチオンを、Ｒはアルキル基を表わす。
Ａ１とＡ２とは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｚで表わされる１価のカチオンとしては、Ｎａ” Ｋ
” Ｌｉ” 、ＮＨ４などが挙げられるが、Ｚとして
はＨが好ましい。
Ｒとしては、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５などが挙げられる。
芳香族基の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基
等である。
Ｂ１およびＢ２は、−ＣＨ２０−
−ＣＨ，０ＣＨ２−または−ＣＦ、０−−ＣＯＮＨ−あ
るいは単なる結合手を表わす。
Ｂ１とＢ２とは、同一であっても異なっていてもよい。
ｔ、ｔ”ｉおよびＬｉ２は、パーフルオロアルキレン基
を表わす。
ＬｆｌおよびＬｉ２としては、−〇Ｆ２−ＣＦ２ Ｃ
Ｆ２−１−ＣＦ （ＣＦ３ ）−ＣＦ （ＣＦ３
）ＣＦ２−などが挙げられる。
Ｌｆｌ とＬｆ２とは、同一であっても異なっていても
よい。
ｐは正の整数を表わし、好ましくは１〜１００、より好
ましくは２〜８０程度である。
ｐが２以上の場合、各Ｌｆ２は同一であっても異なって
いてもよい。 また、この場合、＋Ｌｆ１−０＋はブロ
ック縮合体であってもよくランダム縮合体であってもよ
い。
なお、Ａ１およびＡ２のいずれにもＺやＲが存在する場
合、それらは互いに同一であっても異なっていてもよい
。
上記式（Ｉ）で表わされる化合物のうち、好ましいもの
を以下に示す。
（Ｉ−１）
田凡−ＣＦｉ−０（−Ｃ，Ｆ、−０＋＋ＣＦ、−０子イ
Ｆ２−０□−０Ｈｎ ｍ
孔（６）−ＣＦｒＯ（−Ｃ２Ｆ４−０＋−＋ＣＦ＊−０
竿Ｆ２−匝Ｈ３（Ｉ−３）
ＨＯＯＣ−ＣＦ２−０ ＋Ｃ，Ｆ、−０−）＋ＣＦ、−
０）ＣＦ、−ＣＯＯＨｎ ｍ
（Ｉ−４）
ＣＦ、−ｏ＋ＣＦ （ＣＦ、） ＣＦ、−ＯＭＣＦ、−
００−ＣＦ。
ｎ ｍ
（Ｉ−５）
Ｆ（−ＣＦ （ＣＦ、）ＣＦ２−０−）−ＣＦ （ＣＦ
ｓ）ＣＯＯＨｎ
（Ｉ−６）
Ｆ−１−ＣＦ（ＣＦＩ）ＣＦ２−０−）−ＣＦ、ＣＦＩ
−ＣＯＯＨｎ
（Ｉ−７）
Ｆ÷ＣｓＦｅ−０＋−ＣＦａ−ＣＦｉ
（Ｉ−８）
しれ３
しｌｉ３
これらの化合物において、ｎは１〜５０であることが好
ましく、ｎ＋ｍは２〜ｌ Ｏ，０程度であることが好ま
しい。
上記各式で表わされる化合物は、分子量１００〜２００
００程度、動粘度１０〜５０００ｃＳＴ （２０℃）程
度であるが、特に、分子量１０００〜１００００、動粘
度１０〜１０００ｃＳＴ （２０℃）であることが好ま
しい。
上記各式で表わされる化合物のうち、さらに好ましいも
のは、式（Ｉ−１） （Ｉ−２）（Ｉ−３）
（Ｉ−５） （Ｉ−６）（１−８）で表わされる化
合物であり、特に好ましいものは、（１−１） （
Ｉ−２）（Ｉ−３）、（Ｉ−８）で表わされる化合物で
ある。
なお、本発明では、上記式（１）で表わされる化合物の
うち、あるいはこれらに加え、欧州特許公開０１６５６
４９号公報、四〇 １．６５６５０号公報、米国特許第
３２７４２３９号明細書、同第４２６７２３８号明細書
、同第４２６８５５６号明細書、特公昭６０−１０３６
８号公報に記載されているようなパーフルオロアルキレ
ンを有するポリエーテルおよび／またはその誘導体も、
好ましく用いることができる。
これらの化合物は公知の方法に従い合成すればよいが、
市販のものを用いることもできる。
具体的に、商品名を挙げると、
デュポン社製ＫＲＹＴＯＸ、モンテフルオス社製Ｆｏｍ
ｂｌｉｎなどがある。
本発明において、上記式（Ｉ）で表わされる化合物は、
有機膜中に２種以上含有されていてもよい。
本発明の有機膜は、パーフルオロアルキレンを有するポ
リエーテルおよび／またはその誘導体に加え、融点３０
℃未満の液状もしくは半液状の低分子化合物の少なくと
も１種以上を含有する。
このような低分子化合物としては、脂肪酸もしくはその
塩、アルコール、エステル、シラノール系化合物、フッ
素系化合物等が挙げられる。
本発明において、「液状もしくは半液状」とは、通常、
常温で液体であるか、または液体と固体とが混合した状
態のものをいい、具体的には融点が３０℃未満の低分子
化合物を指す。
また、「低分子」とは、通常、分子量１００〜２ｏＯＯ
１好ましくは１５０〜１０００程度、より好ましくは１
５０〜９５０程度を意味する。
液状もしくは半液状の低分子化合物の好ましいものとし
ては以下のものが挙げられる。
ｌ胆１
ＣＨｓ （ＣＨｉ）ｔｃＨ；ｃＨ（ＣＨａ）、Ｃｏｏ）
ＩＩＪ
ＣＨｓ （ＣＨａＣＨ＝ＣＨ） ５ｃＨｚ （ＣＨｉ）
ａｃＯＯＨ等。
アルコール
ＣＨｓ （ＣＨｓ）ｅＯＨ
（＋５ＨｓｓＯＨ（オレイルアルコール）Ｃ，、Ｈ，、
ＯＨ
Ｃ，、）１１．０）１ 等。
エステル
Ｃｒ ＋ＨａａＣＯＯＣＨａ
Ｃ、、Ｈ，、Ｃ００ＣＨ１
Ｃ，、Ｈ２，Ｃ００ＣＪ。
Ｃ，３Ｈ，、Ｃ００Ｃ２Ｈ５
Ｃ＋ｓＨａ＋Ｃ００ＣｔＨｓ
Ｃｌ ＋Ｉ（ｔｓｃＯＯｃ４Ｈｅ
Ｃ，５ＨｚｔｃＯＯｃＪ＊
Ｃｌ５Ｈ３１Ｃ００Ｃ４Ｈ９
Ｃ１７Ｈｓ−ＣＯＯＣ４Ｈｅ
ＣｌｍＨｚｖＣＯＯＣ６Ｈ＋ｉ
Ｃ、、Ｈ，、Ｃ００Ｃ，Ｈ、。
ＣＨｓ （（Ｊｌｉ）ｙｃＨ：ｃＨ（ＣＨｚ） 、Ｃｏ
ｏ（ＣＨｚ）ａ−Ｃ）Ｉ＝Ｃ）Ｉ（ＣＨａ）ｅｃＨｓ
ＣＨａ （ＣＨｚ）ｙｃＨ：ｃＨ（ＣＨｚ） ？Ｃ００
（ＣＨ２）９ＣＨ３ＣＨｓ（ＣＨｚ）ｔｃＨ（ＣＨａ）
ｔｃＯＯｃＨｚｃＨ（ＣＨｓ）−ＯＣＯ（ＣＨｉ）ｔｃ
）（＝ＣＨ（ＣＨ２）ｔｃＨｓ 等。
シラノール Ａ 、フッ
Ｃ１゜Ｈ１＋５ｉ（ＯＣＨｓ）ｓ
ＣｌａＨｓｔＳＬ（ＯＣＨｓ）ｓ
ＣａＦ＋ｒ（ＣＨｚ）Ｓｉ（ＯＣＨｓ）ｓＣ，Ｆ、、Ｃ
０ＯＨ等。
なお、液状もしくは半液状の低分子化合物として好まし
いものは、オレイン酸、オレイルアルコール、オレイル
オレエート等が挙げられ、なかでもオレイン酸が特に好
ましい。
本発明には、パーフルオロアルキレンを有するポリエー
テルおよび／またはその誘導体と、液状もしくは半液状
の低分子化合物とに加え、さらに固体状の低分子化合物
を含有する有機膜も含まれる。
本発明において「固体状」とは、常温で固体の状態のも
のをいい、具体的には融点が３０℃以上の低分子化合物
を指す。 また、 「低分子」の意味は、上記と同様で
ある。
固体状の低分子化合物の好ましいものとしては、以下の
ものが挙げられる。
ＣＨｘ ＣＨｉ）＋。Ｃ００Ｈ
ＣＨｓ（ＣＨｉ’）１２ＣＯＯＨ
ＯＨ，ＣＨ，）、、Ｃ００Ｈ
ＣＨｓ Ｃ）Ｉｔ）＋ａＣＯＯ）Ｉ
ＣＨｉ ＣＨａ）＋５ｃＯＯＨ
Ｃ）Ｉｓ ＣＨｓ）ｚ。Ｃｏｏ）Ｉ
Ｃ１，Ｃ１，）、、Ｃ０ＯＨ等。
上記に挙げた化合物の金属塩、
配化合物に対応するスルホン酸、
スルホン酸塩、リン酸塩等。
天然脂肪酸（１，２−ヒ
酸、ラノリン脂肪酸等）
各種合成脂肪酸、
脂肪酸誘導体 等。
ドロキシステアリ
あるいは、
ノン酸および
アルコール
１ の アルコール
ＣＨｓ （ＣＬ） 、１０Ｈ
ＣＨｓ （ＣＨｉ） ＋ ５ＯＨ
ＣＨ，（Ｃ）Ｉ２） 、 、０Ｈ
ＣＨｓ （ＣＨａ） ＋ ＊０Ｈ
ＣＨＩ （Ｃ）ＩＩ） ２１０Ｈ等。
１価ないし多価の天然アルコール、
合成アルコール等。
エステル
ＣＨｓ ＣＨａ）＋４ＣＯＯＣＨｚ
ＣＨｓ ＣＨｉ）＋５ＣＯＯＣＨｓ
ＣＨ，ＣＨ，）、、Ｃ００ＣＲ。
Ｃ）Ｉａ（ＣＨａ）ｚ。Ｃ００Ｃ）！。
Ｃ）Ｉｓ Ｃ）ｌｘ）ｚ４ｃＯＯｃＨ為Ｃｔ（’−（Ｃ
Ｌ） 、−ＣＯＯＣ２ＨｓＣＨｓ （ＣＨＩ＞ｉ、ｃＯ
Ｏｃ、ＨＩ 等。
を するフッ Ａ
特に、式Ｃ，，Ｆ、、、、−Ｘ−Ｚで示されるもの。
上記式において、Ｘは内部にエーテル結合（−０−）お
よび／またはエステル結合（−〇〇〇−または一〇Ｃ０
−） を１＊たは２以上有してもよいアルキレン基であ
って、総炭素数なｍとすると、ｎ＋ｍ≧９、より好まし
くはｍ≧８かつｍｋｎのものである。
この場合ｍの上限に特に制限はないが、通常、３６以下
、特に２４以下であることが好ましい。
またｍ≧８であるが、好ましくはｍ＝１０、またはｍ≧
１２、より好ましくはｍ≧１６である。
前記式において、ｎは１〜１４の整数であることが好ま
しく、より好ましくは１〜１０、さらに好ましくは４〜
１０の整数であることが好ましい、 ｎが１以上である
と、潤滑効果が高（、また、Ｌ Ｂ膜の耐久性が向上す
る。 ｎが１５以上であると、ＬＢ膜化が困難となり累
積膜が得られにくい。
なお、ｎ＋ｍは１１〜５０であることが好ましい。
前記式において、Ｚは親水性基を表わす。
この場合、好適に用いられる親水性基Ｚとしては、−Ｃ
ＯＯＨｌ−ＳＯ３Ｈ，−ＯＨ。
−３ｏ４Ｈ１−ＰＯ４Ｈ２等、あるいはこれらのアルカ
リ金属塩、アンモニウム塩等であり、これらのうち特に
−ＣＯＯＨあるいはその塩が、酸化鉄を主成分とする磁
性層への吸着性の良さの点で好ましい。
このよう、な化合物の好適な具体例としては、Ｃ−Ｆ−
（ＣＨａ ）＋。Ｃ００Ｈ
Ｃ４Ｆｅ （ＣＨ，）、、Ｃ００Ｈ
Ｃ４Ｆ９ （ＣＨＩ ）ｉ４ＣＯＯＨＣｓ Ｆ 、７
（ＣＨｓ ） ＋ｏＣＯＯＨＣｅ Ｆ Ｉ？（ＣＨ＊
） 、＊ ＣＯＯＨＣｓ Ｆ ｌ？（ＣＨｘ ） ＋
６ＣＯＯＨＣ，Ｆ、フ （ＣＨ２） １−Ｃ０ＯＨＣ
ｍ Ｆ ｒ７（ＣＨｉ ） ＊□ＣＣ００）ＩＣＦｌ（
ＣＨｉ ）ｉ４ＣＯＯＨ
Ｃ＋ｏＦ ｚｌ（ＣＨ２） ＋ｏＣＯＯＨＣ，、Ｆ、ｌ
（ＣＨ，） ＋５ｃｏｏ ＨＣ，、Ｆｉ、（ＣＨ
，） 、＊Ｃ００ＨＣ，ＯＦ！１ ＣＣＨ２）！、
Ｃ００ＨＣ，Ｆ、、（ＣＨＩ ）ｓｃＯｏ（ＣＨ２）
６ Ｃ００ＨＣ，Ｆｌ、（ＣＨ，）’ Ｏ（ＣＨ，
） Ｃ００ＨＣ，Ｆ、、（ＣＨ，） Ｃ０ＯＨ
。
Ｃ４Ｆｅ （ＣＨＩ ） Ｃ００Ｈ−Ｃａ
Ｆ ｌ−（ＣＨｉ ） Ｏ（ＣＨ−）４ ＣＯＯ
ＨｌＣ−Ｆｌｔ（ＣＨＩ ） 、Ｃ０ＯＨ。
Ｃｍ Ｆ、、（ＣＨＩ ） Ｃ００Ｈ１Ｃ４Ｆ
−（ＣＨＩ ） １ｉｃＯＯＨ等が挙げられる。
なお、上記化合物の金属塩、あるいは、上記化合物に対
応するスルホン酸、リン酸およびスルホン酸塩、リン酸
塩等も同様に好適に用いることができる。
固体状の低分子化合物として好ましいものは、脂肪酸、
エステル、アルコールおよび上記式で表わされるフッ素
化合物から選択される１種以上の化合物である。 特に
摩擦を低減するためには、フッ素化合物を含むことが好
ましい。
なお、以上挙げた化合物に、放射線感応基として、アク
リロイル基、メタクリロイル基、ジアセチレン基を導入
したり、ビニル型長鎖単量体として、ω−トリコサン酸
、α−オクタデシルアクリル酸、アクリル酸オクタデシ
ル、ステアリン酸ビニル、ジアセチレン基を含む長鎖脂
肪酸等を前記化合物と混合し、放射線により重合を行う
こともできる。
上記した各化合物の有機膜中での好ましい含有量は、モ
ル比で、（パーフルオロアルキレンを有するポリエーテ
ルおよび／またはその誘導体）：（液状もしくは半液状
の低分子化合物）＝９：１〜１：９であり、特に７：３
〜３ニアであることが好ましい。
また、固体状の低分子化合物の含有量は、パーフルオロ
アルキレンを有するポリエーテルおよび／またはその誘
導体と液状もしくは半液状の低分子化合物との合計に対
し、７０％以下であることが好ましい。
これらの化合物の総合有量は、有機膜全体の５０〜１０
０ｗｔ％程度であることが好ましい。
本発明において有機膜の厚さに特に制限はなく、有機膜
の用途によって適当な膜厚を選択すればよい。 例えば
、磁気記録媒体の磁性層上に設ける保護潤滑膜あるいは
磁気ヘッドフロント面に設ける保護潤滑膜として有機膜
を用いる場合、成膜方法および使用化合物によっても異
なるが、４〜３００人程度であることが好ましい。
４人未満では十分な本発明の効果が得られず特に耐久性
が劣り、３００人を超えると吸着が発生し、磁気ヘッド
のクラッシュを起こす場合がある。 なお、より好まし
い膜厚は４〜１００人であり、さらに好ましい膜厚は４
〜８０人である。
有機膜の形成方法に特に制限はな（、ＬＢ法、塗布法等
の種々の成膜方法から適当に選択すればよいが、本発明
では、特にＬＢ法により成膜された場合、均一な有機膜
を得ることができる。
ＬＢ法を用いる場合、被着体基板（例えば、磁気記録媒
体、浮上型磁気ヘッド等）を水相中に浸漬し、次いで上
記化合物を含有する展開溶液を所定量水相に均一に落と
し、単分子膜を展開する。
なお、有機膜に固体状の低分子化合物、特に上記式で表
わされるフッ素化合物を含有させる場合、安定なＬＢ膜
を得るために水相中に２価あるいは３価の金属イオンを
含有させてよい。
用いる金属は、２価金属としてはＣａ、Ｂａ、Ｐｂ、Ｃ
ｄ等、３価金属としてはへβ等が好ましい。 なお、上
記式で表わされるフッ素化合物において、ｍ≧１０であ
る場合、水相が金属イオンを含有していなくとも安定な
ＬＢ膜を形成することができる。
次に、表面圧が所定の張力となるまで気液界面を圧縮し
た後、一定圧を保つように界面を圧縮しながら被着体基
板を所定の速度で水相中からほぼ垂直に上昇させて、被
着体基板上に単分子膜を移し取る。 次いで、付着した
水を必要に応じ乾燥させる。 さらに、必要に応じ、同
じ操作を繰り返すことによって累積膜を得る。
累積数は１〜２０程度であることが好ましい。
なお、被着体基板表面に疎水性、あるいは親水性の処理
を行い、この上にＬＢ法により有機膜を形成してもよい
。
疎水処理はＬＢ法や気相法等により行なうことができ、
この場合、上記の脂肪酸、エステル、アルコール等の１
種以上を用いることが好ましい。
また、親木処理はプラズマ法、スパッタ法、溶剤、イオ
ンボンバード、逆スパツタリング等により行なえばよい
。
ＬＢ法において展開する溶液の溶媒としては、炭化水素
系（キシレン、ベンゼン等）、ハロゲン化炭化水素系（
クロロホルム等の塩素化物溶剤、フロン等のフッ素化物
溶剤等）、ニトロ化炭化水素系にトロベンゼン等） ア
ルコール類系（エチルアルコール、メチルアルコール、
プロピルアルコール等） ケトン類系（アセトン等）
複素環化合物系（キノリン等） アミン類系、エーテル
類系、エステル類系、酸類系などが挙げられる。
本発明の有機膜はこのようなＬＢ法の他、塗布法などに
よって成膜することもできる。
塗布法を用いる場合、塗布溶液としては上記ＬＢ法にお
ける展開溶液を用いることができる。 また、塗布方法
は、スピンコード、ディッピング、スプレーコート等を
適宜選択すればよい。
有機膜を塗布により形成する場合、その好ましい膜厚範
囲は上記ＬＢ法によるものと同様である。
このような有機膜は、潤滑性を要求されるものであれば
特に制限な（種々の被着体に対して適用することができ
るが、本発明の有機膜の効果が顕著に実現する被着体は
、磁気記録媒体および磁気ヘッドである。
磁気記録媒体に適用する場合、その磁性層に特に制限は
なく、公知の塗布型磁性層、連続薄膜型磁性層のいずれ
に対しても本発明は効果を発揮するが、特に、酸化鉄を
主成分とする連続薄膜型の磁性層に対し、本発明は高い
効果を示す。
以下、酸化鉄を主成分とする連続薄膜型の磁性層を有す
る磁気記録媒体について説明する。
剛性基板の材質に特に制限はないが、下地層などを設層
する必要がなく製造工程が簡素になること、また、研磨
が容易で表面粗さの制御が簡単であることから、本発明
ではガラスを用いることが好ましい。
ガラスとしては、強化ガラスを用いることが好ましい。
このようなガラスとしては、特開昭６２−４３８１９
号公報に記載されているような表面強化ガラスが挙げら
れる。
剛性基板の表面粗さ（Ｒｍａｘ）は、１００Å以下であ
ることが好ましい。 このような表面粗さは、例えば、
特開昭６２−４３８１９号公報に記載されているような
メカノケミカルポリッシングなどにより得ることができ
る。 なお、Ｒｍａｘは５０Å以下であることがさらに
好ましい。 連続薄膜型の磁性層はこの基板上に直接設
層されるため、磁性層の表面粗さは基板の表面粗さとほ
ぼ等しくなる。 基板の表面粗さを上記範囲内とすれば
、磁性層表面と浮上型磁気ヘッドの浮揚面との距離を０
．１μｍ以下に保って記録および再生を行なうことがで
き、高密度記録が可能となる。
ガラス基板の材質に特に制限はなく、ホウケイ酸ガラス
、アルミノケイ酸ガラス、石英ガラス、チタンケイ酸ガ
ラス等のガラスから適当に選択することができる。 た
だし、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されている
ようなメカノケミカルポリッシングにより表面平滑化を
行なう場合、結晶質を含まないガラスを用いることが好
ましい。 これは、メカノケミカルポリッシングにより
結晶粒界が比較的早（研磨されてしまい、上記のような
Ｒｍａｘが達成できないからである。
剛性基板の形状および寸法に特に制限はないが、通常、
ディスク状とされ、厚さは０．５〜５ｍｍ程度、直径は
２５〜３００ｍｍ程度である。
剛性基板上には、酸化鉄を主成分とする磁性薄膜が成膜
され、磁性層とされる。
磁性層の層厚は、生産性、磁気特性等を考慮して、５０
０〜３０００人程度とすることが好ましい。
磁性層の成膜は公知の気相成膜法等により行なえばよい
が、スパッタ法、特に反応性スパッタ法を用いることが
好ましい。
なお、磁性層中には、成膜雰囲気中に含まれるＡｒ等が
含有されていてもよい。
このようにして得られる磁性層の表面粗さは、剛性基板
の表面粗さとほぼ等しいものである。
なお、このようにして設層される磁性層は、特開昭６２
−４３８１９号公報に記載されている。
気相成膜法の他、本発明では、蒸着法、めっき法により
酸化鉄を主成分とする薄膜を形成する方法、あるいは薄
膜形成後に熱処理を施す方法等によって磁性層を設層し
てもよい。
このような磁性層上に、前述した有機膜が保護潤滑膜と
して形成される。
なお、磁性層上に保護潤滑膜を成膜した後、保護潤滑膜
上を研磨してもよい。
本発明の有機膜は、酸化鉄を主成分とするこのような連
続薄膜型の磁気記録媒体の他、Ｃｏ−Ｎｉ等の金属気相
成長膜磁性層や金属めっき膜磁性層を有する連続薄膜型
の磁気記録媒体、あるいは酸化鉄を用いた公知の塗布型
磁気記録媒体などの保護潤滑膜としても好適である。
次に、本発明の磁気ヘッドについて説明する。
本発明の磁気ヘッドは、そのフロント面（浮揚面）に前
述した有機膜を保護潤滑膜として有する。
本発明の磁気ヘッドは、ハードタイプの磁気記録媒体と
組み合わされて使用される浮上型磁気ヘッドに適用され
た場合、高い効果を発揮する。
本発明は、公知のコンポジット型の浮上型磁気ヘッド、
モノリシック型の浮上型磁気ヘッド等に適用された場合
でも高い効果を発揮するが、特に、薄膜型の浮上型磁気
ヘッドに適用された場合に、極めて高い効果を示す。
以下、薄膜型の浮上型磁気ヘッドについて説明する。
第１図に、本発明の磁気ヘッドの好適実施例である薄膜
型の浮上型磁気ヘッドを示す。
第１図に示される浮上型磁気ヘッドｌは、基体２上に、
絶縁層３１．下部磁極層４１、ギャップ層５、絶縁層３
３、コイル層６、絶縁層３５、上部磁極層４５および保
護層７を順次有する。
本発明では、このような浮上型磁気ヘッド１の少なくと
もフロント面、すなわち浮揚面に、前述した有機膜を保
護潤滑膜１１として有する。
コイル層６の材質には特に制限はなく、通常用いられる
Ａ２、Ｃｕ等の金属を用いればよい。
コイルの巻回パターンや巻回密度についても制限はなく
、公知のものを適宜選択使用すればよい。 例えば巻回
パターンについては図示のスパイラル型の他、積層型、
ジグザグ型等いずれであってもよい。
また、コイル層６の形成にはスパッタ法等の各種気相被
着法を用いればよい。
基体２はＭｎ−Ｚｎフェライト等の公知の材料から構成
される。
本発明の磁気ヘッドを、酸化鉄を主成分とする連続薄膜
型の磁性層を有する磁気記録媒体に対して用いる場合、
基体２は、ビッカース硬度１０００以上のセラミックス
材料から構成されることが好ましい。 このように構成
することにより、本発明の磁気ヘッドの効果はさらに顕
著となる。
ビッカース硬度１０００以上のセラミックス材料として
は、Ａ Ｑ ａ Ｏ３−Ｔ ｉ Ｃを主成分とするセラ
ミックス、Ｚｒ０ｚを主成分とするセラミックス、Ｓｉ
Ｃを主成分とするセラミックスまたはＡｊ２Ｎが好適で
ある。 また、これらには、添加物としてＭ ｇ 、
Ｙ 、 Ｚ ｒ Ｏ２Ｔ ｉ Ｏａ等が含有されていて
もよい。
これらのうち、本発明に特に好適なものは、Ａβｘ Ｏ
ａ −Ｔｉｃを主成分とするセラミックス、ＳｉＣを主
成分とするセラミックスまたはＡ４２Ｎを主成分とする
セラミックスであり、これらのうち最も好適なものは、
酸化鉄を主成分とする薄膜磁性層の硬度との関係が最適
であることから、Ａβｇｏｚ−ＴｉＣを主成分とするセ
ラミックスである。
下部および上部磁極層４１．４５の材料としては、従来
公知のものはいずれも使用可能であり、例えばパーマロ
イ、センダスト、ＣＯ系非晶質磁性合金等を用いること
ができる。
磁極は通常、図示のように下部磁極層４１および上部磁
極層４５として設けられ、下部磁極層４１および上部磁
極層４５の間にはギャップ層５が形成される。
ギャップ層５は、Ａρ、Ｏ＝、Ｓ３．０□等公知の材料
であってよい。
これら磁極層４１．４５およびギャップ層５のパターン
、膜厚等は公知のいずれのものであってもよい。
さらに、図示例ではコイル層６はいわゆるスパイラル型
としてスパイラル状に上部および下部磁極層４１．４５
間に配設されており、コイル層６と上部および下部磁極
層４１．４５間には絶縁層３３．３５が設層されている
。
また下部磁極層４１と基体２間には絶縁層３１が設層さ
れている。
絶縁層の材料としては従来公知のものはいずれも使用可
能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ法により行なう
ときには、５１０２、ガラス１．Ａ９２０．等を用いる
ことができる。
また、上部磁極４５上には保護層７が設層されている。
保護層の材料としては従来公知のものはいずれも使用
可能であり、例えばＡＱ２０ｓ等を用いることができる
。 また、これらに各種樹脂コート層等を積層してもよ
い。
このような薄膜型の浮上型磁気ヘッドの製造工程は、通
常、薄膜作成とパターン形成とから構成される。
上記各層を構成する薄膜の作成には、上記したように、
従来公知の技術である気相被着法、例えば真空蒸着法、
スパッタ法、あるいはメツキ法等を用いればよい。
浮上型磁気ヘッドの各層のパターン形成は、従来公知の
技術である選択エツチングあるいは選択デポジションに
より行なうことができる。
エツチングとしてはウェットエツチングやドライエツチ
ングを用いることができる。
また、保護潤滑膜１１は、前述したＬＢ法、塗布法等に
より成膜すればよい。
このような浮上型磁気ヘッドは、アーム等の従来公知の
アセンブリーと組み合わせて使用される。
〈実施例〉
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。
［実施例１］
く磁気ヘッドの形成〉
スパッタ法により／’Ｉ２ａ ｔｌ −Ｔ ｉ Ｃ基体
上に薄膜を形成し、ドライエツチングによってパターン
を形成した後、スライダ構造として磁気ヘッドを得た。
なお、Ａ Ｉ２２０ ａ −Ｔ ｉ Ｃ基体のビッカ
ース硬度は２２００であった。
〈磁気ヘッドへの保護潤滑膜形成〉
上記磁気ヘッドに保護潤滑膜を形成するに際しては、以
下の通りとした。
ドライエツチングによるパターン形成後に、少な（とも
浮揚面（フロント面）に保護潤滑膜を成膜した。
保護潤滑膜を構成する化合物およびそれらの量比（モル
比）ならびに保護潤滑膜の成膜方法および膜厚を、表１
に示す。 なお、保護潤滑膜をＬＢ法により成膜した場
合は、ＬＢ膜の累積数を併記した。 また、膜厚の測定
は、ＥＳＣＡにより行なった。
表１に示される化合物は、前記式（Ｉ−１）〜（Ｉ−８
）で表わされる化合物工と、下記に示す化合物■および
■とから選択したものであり、表１にはその番号を示し
た。<Industrial Application Field> The present invention provides an organic film having a lubricating effect and a protective effect;
A magnetic recording medium and a magnetic head having this organic film,
The present invention relates to a magnetic recording and reproducing method using these. <Prior Art> A hard type magnetic disk in which a magnetic layer is formed on a rigid substrate and a floating magnetic head are used in magnetic disk drives used in computers and the like. Conventionally, coated magnetic disks have been used in such magnetic disk drive devices, but as the capacity of magnetic disks has increased, sputtering methods have been used because they are advantageous in terms of magnetic properties, recording density, etc. Thin-film magnetic disks having a continuous thin-film magnetic layer formed by a vapor phase deposition method or the like have come to be used. As a thin film magnetic disk, 1. Ar1. Either apply an N1-P base layer to the disc-shaped metal plate of the system by plating, or
Alternatively, the surface of this metal plate is oxidized to form alumite, and a Cr layer, a metal magnetic layer such as Co-Ni, and a protective lubricant film such as C are successively deposited on this substrate by sputtering. It is common that it consists of: However, a metal magnetic layer such as Co--Ni has low corrosion resistance and low hardness, causing problems in reliability. On the other hand, magnetic thin films mainly composed of iron oxide, such as those described in JP-A No. 62-43819, are chemically stable, so there is no fear of corrosion (and they also have sufficient hardness). On the other hand, a floating magnetic head is a magnetic head that has a slider that generates buoyancy, and is usually a composite type in which the core is integrated with the slider, or a monolithic type in which the core also serves as the slider. Furthermore, in addition to these, so-called thin-film floating magnetic heads are attracting attention because they are capable of high-density recording. Thin-film floating magnetic heads have a magnetic pole layer, a gap layer, and a coil layer on a base. etc. are formed by a vapor phase deposition method, etc. In such thin-film type floating magnetic heads, the base does not function as a slider. In these floating magnetic heads, the slider is made of various types of ferrite, Aρ* Os -TiC. Composed of various ceramics such as ZrO□, SiC, AlN, etc. In a magnetic disk device using a floating magnetic head, the floating surface (slider (surface on the magnetic disk side) comes into contact with the magnetic disk. At this time, the magnetic disk and floating magnetic head are likely to be scratched or damaged, or the floating magnetic head is likely to be attracted to the magnetic disk. Therefore, proposals have been made to provide various protective films or lubricant films on the surface of magnetic disks or magnetic heads.In particular, since iron oxide has higher hardness than metals such as Co-Ni, Japanese Patent Laid-Open No. 62-43819 In a magnetic disk having an iron oxide magnetic layer as described in 2003, even if a lubricating film or a protective film is provided on the surface of the magnetic disk, the head flying surface is likely to be damaged by repeated C8S.
Furthermore, friction between the head and the disk tends to increase. Therefore, in such a combination, care must be taken in selecting the materials constituting the lubricating film or the protective film. In addition, magnetic disks with iron oxide magnetic layers and Mn-Zn
When used in combination with a floating head having a ferrite base, such problems become even more pronounced because the hardness of Mn--Zn ferrite is lower than that of iron oxide. Furthermore, for thin-film magnetic disks having an iron oxide magnetic layer, A! which has higher hardness than M n -Z n ferrite! 2
When using a floating magnetic head having a substrate of O3--T i C, Zr0zSiC, Al2N, etc., the above problems are solved to some extent, but in the combination of such a magnetic disk and floating magnetic head,
Due to the high hardness of both the magnetic layer and the slider, higher lubrication and protection effects are required. In particular, when a thin-film floating magnetic head is used for high-density recording, the above problem becomes more pronounced. In other words, in a magnetic disk drive device that uses a thin-film floating magnetic head, the distance between the magnetic disk and the magnetic head (flying bite) can be set extremely small in order to perform high-density recording. This is because contact accidents between the magnetic disk and floating magnetic head may occur due to shocks from outside the drive device, and if the flying hide is small, the damage to the magnetic head and magnetic disk during CSS may be greater. In particular, a magnetic disk having a magnetic thin film mainly composed of iron oxide, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-43819, uses a glass substrate with a mirror-finished surface, and the magnetic layer is The surface roughness is extremely small. Therefore, unless a suitable protective film is selected, the friction between the magnetic disk and the magnetic head will increase, causing the magnetic head to stick-slip during C8S etc. Therefore, even in such a combination, care must be taken in selecting the materials constituting the lubricating film or protective film. <Problems to be solved by the invention> Various lubricants are used in the protective lubricant film provided on floating magnetic heads and magnetic recording media.For example, the present inventors have disclosed that We have proposed a protective lubricant film containing polyether containing fluoroalkylene and/or its derivatives. Although this protective lubricant film exhibits a good protective lubricant effect, its viscosity is low due to its relatively high molecular weight. High water repellency (high water repellency) makes it difficult to form a uniform film on adherends such as magnetic recording media or magnetic heads, and tends to result in non-uniform films. The friction between the medium and the magnetic head is small and its fluctuations are small, and the magnetic head is not attracted to the magnetic recording medium. Media and magnetic heads, magnetic recording and reproducing methods using these, and organic films with high lubrication and protection effects that are used primarily as protective lubricant films for magnetic recording media or magnetic heads to achieve these effects. Means for Solving the Problems These objects are achieved by the present invention as described in (1) to (17) below. An organic film characterized by containing an ether and/or a derivative thereof and a liquid or semi-liquid low molecular weight compound having a melting point of less than 30°C. (2) The organic film according to (1) above, further containing a solid low-molecular compound having a melting point of 30° C. or higher. (3) The organic film according to (2) above, wherein the solid low-molecular compound includes a compound represented by the following formula. Formula % Formula % (However, X has an ether bond (-0-) and /
Alternatively, it is an alkylene group which may have one or more ester bonds (-Coo- or -〇〇〇-), and where n+m≧9, where m is the total number of carbon atoms. Also,
Z represents a hydrophilic group. ) (4) The above (where rn≧8 and m≧n in the above formula)
The organic film described in 3). (5) The organic film according to any one of (2) to 4) above, wherein the solid low-molecular compound contains one or more of fatty acids, esters, and alcohols. (6) The organic film according to any one of (1) to 5) above, which is a monomolecular film or a cumulative film formed by the Langmuir-Blodgett method. (7) A magnetic recording medium comprising a magnetic layer on a rigid substrate, and an organic film according to any one of (1) to 6) above as a protective lubricant film on the magnetic layer. (8) The magnetic recording medium according to (7) above, wherein the magnetic layer is a continuous thin film type magnetic layer containing iron oxide as a main component. (9) The above (7) in which the rigid substrate is made of glass.
Or the magnetic recording medium according to (8). (10) A magnetic head comprising the organic film according to any one of (1) to 6) above at least on the front surface. (11) The magnetic head according to (10) above, which is a floating magnetic head. (12) The above (11) in which at least the floating surface is made of a ceramic material with a Vickers hardness of 1000 or more.
The magnetic head described in . (13) The ceramic material is Aj2. O. - The magnetic head according to (12) above, which is a ceramic whose main component is Tic, a ceramic whose main component is ZrO□, a ceramic whose main component is SiC, or a ceramic whose main component is Al2N. (14) The ceramic material is Af2+103-Ti
The magnetic head according to any one of (12) and (13) above, which is a ceramic whose main component is C, a ceramic whose main component is SiC, or a ceramic whose main component is AfiN. (15) The magnetic head according to any one of (12) to 14), wherein the ceramic material is a ceramic whose main component is AAxOs-TiC. (16) The above (11) is a thin film floating type magnetic head.
The magnetic head according to any one of items 1 to 15). (17) A method for recording and reproducing information on a magnetic recording medium according to any one of (7) to 9) above using the magnetic head according to any one of (11) to 16), the method comprising: A magnetic recording and reproducing method characterized in that the distance between the layer surface and the floating surface of the floating magnetic head is 0.1 μm or less. Effect> The organic film of the present invention contains a polyether having perfluoroalkylene and/or a derivative thereof, and a liquid or semi-liquid low molecular weight compound having a melting point of less than 30°C. Polyether with perfluoroalkylene and/or
or a derivative thereof exhibits high lubricity. The liquid or semi-liquid low-molecular compound reduces the viscosity of the perfluoroalkylene-containing polyether and/or its derivative and improves its wettability with the adherend. Therefore, uniform film formation can be performed. Furthermore, when the organic film of the present invention contains a solid low-molecular compound, initial friction can be reduced. In addition, in this case, the film-forming property is further improved, and a remarkable effect is exhibited particularly when the film is formed by the Langmuir-Blodgett (hereinafter abbreviated as LB) method. Therefore, when the organic film of the present invention is applied to a protective lubricant film for a magnetic recording medium or a magnetic head, frictional fluctuations during running or after endurance running are reduced, and stick-slip phenomena do not occur during endurance running. Specific Configuration> Hereinafter, the specific configuration of the present invention will be described in detail. The organic film of the present invention contains a polyether having perfluoroalkylene and/or a derivative thereof. In the present invention, the polyether having perfluoroalkylene and/or its derivatives are not particularly limited, but those represented by the following formula (I) are preferred. Formula (I) AI -B1 (-Lfl -0+Lf2-B2-A2
In the above formula (I), A1 and A2 are -F, -H
, -COOZ, -COOR or a substituted or unsubstituted monovalent aromatic group. However, Z is -H or 1
R represents an alkyl group. A1 and A2 may be the same or different. The monovalent cation represented by Z is Na”K
"Li", NH4, etc. may be mentioned, but as Z, H is preferable. Examples of R include -CH3, -C2H5, and the like. Examples of substituents for aromatic groups include alkyl groups and alkoxy groups. B1 and B2 represent -CH20- -CH, 0CH2- or -CF, 0--CONH- or a simple bond. B1 and B2 may be the same or different. t, t”i and Li2 represent a perfluoroalkylene group. As Lfl and Li2, -〇F2-CF2C
F2-1-CF (CF3)-CF (CF3
) CF2- and the like. Lfl and Lf2 may be the same or different. p represents a positive integer, preferably about 1 to 100, more preferably about 2 to 80. When p is 2 or more, each Lf2 may be the same or different. Moreover, in this case, +Lf1-0+ may be a block condensate or a random condensate. In addition, when Z or R is present in both A1 and A2, they may be the same or different. Among the compounds represented by the above formula (I), preferred ones are shown below. (I-1) Tianfan-CFi-0(-C,F,-0++CF,-0子IF2-0□-0Hn m Hole (6)-CFrO(-C2F4-0+-+CF*-0
Rod F2-匝H3(I-3) HOOC-CF2-0 +C,F,-0-)+CF,-
0) CF, -COOHn m (I-4) CF, -o+CF (CF,) CF, -OMCF, -
00-CF. nm (I-5) F(-CF (CF,)CF2-0-)-CF (CF
s) COOHn (I-6) F-1-CF (CFI) CF2-0-)-CF, CFI
-COOHn (I-7) F÷CsFe-0+-CFa-CFi (I-8) Shire3 Shili3 In these compounds, n is preferably 1 to 50, and n+m is about 2 to 1 O,0 It is preferable that The compounds represented by the above formulas have a molecular weight of 100 to 200.
00 and a kinematic viscosity of about 10 to 5,000 cST (20°C), but particularly preferably a molecular weight of 1,000 to 10,000 and a kinematic viscosity of 10 to 1,000 cST (20°C). Among the compounds represented by the above formulas, more preferred are formulas (I-1) (I-2) (I-3)
(I-5) (I-6) Compounds represented by (1-8) are particularly preferred, (1-1) (
These are compounds represented by I-2) (I-3) and (I-8). In addition, in the present invention, among the compounds represented by the above formula (1), or in addition to these, European Patent Publication No. 01656
No. 49, No. 401.65650, US Pat. No. 3,274,239, US Pat. No. 4,267,238, US Pat.
Polyethers having perfluoroalkylene and/or derivatives thereof as described in Publication No. 8,
It can be preferably used. These compounds may be synthesized according to known methods, but
Commercially available ones can also be used. Specifically, the product names are KRYTOX manufactured by DuPont, Fom manufactured by Montefluos.
There are blin, etc. In the present invention, the compound represented by the above formula (I) is
Two or more types may be contained in the organic film. The organic film of the present invention has a melting point of 30
Contains at least one kind of liquid or semi-liquid low molecular weight compound having a temperature below ℃. Examples of such low-molecular compounds include fatty acids or salts thereof, alcohols, esters, silanol compounds, fluorine compounds, and the like. In the present invention, "liquid or semi-liquid" usually means
It refers to a compound that is liquid at room temperature or a mixture of liquid and solid, and specifically refers to a low-molecular compound with a melting point of less than 30°C. In addition, "low molecule" usually refers to a molecular weight of 100 to 2oOO.
1 preferably about 150 to 1000, more preferably 1
It means about 50 to 950. Preferred liquid or semi-liquid low molecular weight compounds include the following. 1 CHs (CHi)tcH; cH (CHa), Coo)
IIJ CHs (CHaCH=CH) 5cHz (CHi)
acOOH et al. Alcohol CHs (CHs)eOH (+5HssOH (oleyl alcohol) C,,H,,
OH C,,)11.0)1 etc. Ester Cr +HaaCOOCHa C,,H,,C00CH1 C,,H2,C00CJ. CH s ((Jli)ycH:cH(CHz), Co
o(CHz)a-C)I=C)I(CHa)ecHs CHa (CHz)ycH:cH(CHz)? C00
(CH2)9CH3CHs(CHz)tcH(CHa)
tcOOcHzcH(CHs)-OCO(CHi)tc
) (=CH(CH2)tcHs etc. Silanol A, FluoroC1°H1+5i(OCHs)s ClaHstSL(OCHs)s CaF+r(CHz)Si(OCHs)sC,F,,C
0OH etc. Preferable liquid or semi-liquid low molecular weight compounds include oleic acid, oleyl alcohol, and oleyl oleate, with oleic acid being particularly preferred. The present invention also includes an organic film containing a solid low-molecular compound in addition to a polyether having perfluoroalkylene and/or a derivative thereof and a liquid or semi-liquid low-molecular compound. In the present invention, "solid state" refers to a substance that is solid at room temperature, and specifically refers to a low molecular weight compound having a melting point of 30° C. or higher. Moreover, the meaning of "low molecule" is the same as above. Preferred solid low-molecular compounds include the following. CHx CHi)+. C00H CHs(CHi')12COOH OH,CH,),,C00H CHs C)It)+aCOO)I CHi CHa)+5cOOH C)Is CHs)z. Coo) I C1, C1,), C0OH, etc. Sulfonic acids, sulfonates, phosphates, etc. corresponding to metal salts and coordination compounds of the compounds listed above. Natural fatty acids (1,2-arsenic acid, lanolin fatty acids, etc.), various synthetic fatty acids, fatty acid derivatives, etc. Droxysteary or alcohol CHs (CL), 10H CHs (CHi) + 5OH CH, (C)I2), , 0H CHs (CHa) + *0H CHI (C)II) 210H etc. of non-acid and alcohol 1. Monohydric or polyhydric natural alcohols, synthetic alcohols, etc. Ester CHs CHa)+4COOCHz CHs CHi)+5COOCHs CH,CH,),,C00CR. C) Ia(CHa)z. C00C)! . C) Is C) lx) z4cOOcH so Ct('-(C
L), -COOC2HsCHs (CHI>i, cO
Oc, HI etc. In particular, those represented by the formulas C, , F, , -X-Z. In the above formula, X has an ether bond (-0-) and/or an ester bond (-〇〇〇- or 10C0
-) is an alkylene group which may have 1* or 2 or more, and where m is the total number of carbon atoms, n+m≧9, more preferably m≧8 and mkn. In this case, there is no particular restriction on the upper limit of m, but it is usually preferably 36 or less, particularly 24 or less. Also, m≧8, preferably m=10, or m≧
12, more preferably m≧16. In the above formula, n is preferably an integer of 1 to 14, more preferably 1 to 10, even more preferably 4 to 14.
An integer of 10 is preferable. When n is 1 or more, the lubricating effect is high (and the durability of the LB film is improved. When n is 15 or more, it becomes difficult to form an LB film and the cumulative It is difficult to obtain a film. Note that n+m is preferably 11 to 50. In the above formula, Z represents a hydrophilic group. In this case, the hydrophilic group Z preferably used is -C
OOHl-SO3H, -OH. -3o4H1-PO4H2, etc., or their alkali metal salts, ammonium salts, etc. Among these, -COOH or its salts are particularly preferred in terms of good adsorption to the magnetic layer containing iron oxide as a main component. As a preferable specific example of such a compound, C-F-
(CHa)+. C00H C4Fe (CH,),, C00H C4F9 (CHI)i4COOHCs F, 7
(CHs) +oCOOHCe F I? (CH*
), * COOHCs F l? (CHx) +
6COOHC, F, F (CH2) 1-C0OHC
m F r7(CHi ) *□CC00) ICFl(
CHi )i4COOH C+oF zl(CH2) +oCOOHC,,F,l
(CH,) +5coo HC,, Fi, (CH
, ) , *C00HC,OF! 1 CCH2)! ,
C00HC,F,, (CHI)scOo(CH2)
6 C00HC,Fl, (CH,)' O(CH,
) C00HC,F,, (CH,) C0OH
. C4Fe (CHI) C00H-Ca
Fl-(CHi)O(CH-)4COO
HIC-Flt(CHI), COOH. Cm F,, (CHI) C00H1C4F
-(CHI) 1icOOH and the like. Note that metal salts of the above compounds, or sulfonic acids, phosphoric acids, sulfonates, phosphates, etc. corresponding to the above compounds can be suitably used as well. Preferred solid low-molecular compounds are fatty acids,
It is one or more compounds selected from esters, alcohols, and fluorine compounds represented by the above formula. In particular, in order to reduce friction, it is preferable to include a fluorine compound. In addition, an acryloyl group, a methacryloyl group, or a diacetylene group may be introduced as a radiation-sensitive group into the above-mentioned compounds, or ω-tricosanoic acid, α-octadecyl acrylic acid, or octadecyl acrylate may be introduced as a vinyl type long chain monomer. , vinyl stearate, a long chain fatty acid containing a diacetylene group, etc. can be mixed with the above compound and polymerization can be carried out by radiation. The preferable content of each of the above compounds in the organic film is as follows: (polyether having perfluoroalkylene and/or its derivative): (liquid or semi-liquid low molecular weight compound) = 9:1 to 1 :9, especially 7:3
-3 near is preferable. Further, the content of the solid low-molecular compound is preferably 70% or less based on the total of the perfluoroalkylene-containing polyether and/or its derivative and the liquid or semi-liquid low-molecular compound. The total amount of these compounds is 50 to 10 in the entire organic film.
It is preferably about 0 wt%. In the present invention, there is no particular restriction on the thickness of the organic film, and an appropriate film thickness may be selected depending on the use of the organic film. For example, when using an organic film as a protective lubricant film provided on the magnetic layer of a magnetic recording medium or a protective lubricant film provided on the front surface of a magnetic head, the number of people required is approximately 4 to 300, depending on the film formation method and the compound used. is preferred. If there are fewer than 4 people, sufficient effects of the present invention cannot be obtained and the durability is especially poor, and if more than 300 people, attraction may occur and the magnetic head may crash. In addition, a more preferable film thickness is 4 to 100 people, and an even more preferable film thickness is 4 to 100 people.
~80 people. There is no particular restriction on the method of forming the organic film (it may be selected appropriately from various film forming methods such as the LB method and the coating method, but in the present invention, when the film is formed by the LB method, a uniform organic film can be formed. When using the LB method, an adherend substrate (for example, a magnetic recording medium, a floating magnetic head, etc.) is immersed in an aqueous phase, and then a predetermined amount of a developing solution containing the above compound is poured into water. When the organic film contains a solid low-molecular compound, especially a fluorine compound represented by the above formula, it is added to the aqueous phase to obtain a stable LB film. Divalent or trivalent metal ions may be contained. The metals used include Ca, Ba, Pb, and C as divalent metals.
As trivalent metals such as d, β and the like are preferred. In addition, in the fluorine compound represented by the above formula, when m≧10, a stable LB film can be formed even if the aqueous phase does not contain metal ions. Next, after compressing the gas-liquid interface until the surface pressure reaches a predetermined tension, the adherend substrate is lifted almost vertically out of the aqueous phase at a predetermined speed while compressing the interface to maintain a constant pressure. , transfer the monolayer onto the adherend substrate. Next, the attached water is dried as necessary. Furthermore, if necessary, a cumulative film is obtained by repeating the same operation. The cumulative number is preferably about 1 to 20. Note that the surface of the adherend substrate may be treated to make it hydrophobic or hydrophilic, and an organic film may be formed thereon by the LB method. Hydrophobic treatment can be carried out by the LB method, gas phase method, etc.
In this case, one of the above fatty acids, esters, alcohols, etc.
It is preferable to use more than one species. Further, the parent tree treatment may be performed by a plasma method, a sputtering method, a solvent, ion bombardment, reverse sputtering, or the like. The solvent for the solution developed in the LB method includes hydrocarbons (xylene, benzene, etc.) and halogenated hydrocarbons (
Chlorinated solvents such as chloroform, fluorinated solvents such as CFCs, etc.), nitrated hydrocarbons and trobenzene, etc.) Alcohols (ethyl alcohol, methyl alcohol,
Propyl alcohol, etc.) Ketones (acetone, etc.)
Heterocyclic compounds (quinoline, etc.) Examples include amines, ethers, esters, and acids. In addition to the LB method, the organic film of the present invention can also be formed by a coating method. When using the coating method, the developing solution used in the LB method described above can be used as the coating solution. Further, as the coating method, spin cord, dipping, spray coating, etc. may be selected as appropriate. When forming an organic film by coating, the preferred film thickness range is the same as that by the LB method described above. Such an organic film is not particularly limited as long as lubricity is required (it can be applied to various adherends, but the organic film of the present invention can be applied to a variety of adherends where the effect is significantly achieved). The body is a magnetic recording medium and a magnetic head.When applied to a magnetic recording medium, there is no particular restriction on the magnetic layer, and the present invention is applicable to both known coated magnetic layers and continuous thin film magnetic layers. The present invention is particularly effective for a continuous thin film type magnetic layer containing iron oxide as the main component. Let's talk about the recording medium. There are no particular restrictions on the material of the rigid substrate, but it simplifies the manufacturing process because it does not require the formation of an underlayer, and it is easy to polish and control the surface roughness. Therefore, it is preferable to use glass in the present invention. As the glass, it is preferable to use tempered glass. As such glass, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-43819
Examples include surface-strengthened glass as described in Japanese Patent Publication No. The surface roughness (Rmax) of the rigid substrate is preferably 100 Å or less. Such surface roughness is, for example,
It can be obtained by mechanochemical polishing as described in JP-A-62-43819. Note that Rmax is more preferably 50 Å or less. Since the continuous thin film type magnetic layer is deposited directly on this substrate, the surface roughness of the magnetic layer is approximately equal to that of the substrate. If the surface roughness of the substrate is within the above range, the distance between the magnetic layer surface and the floating surface of the floating magnetic head is 0.
．． Recording and reproduction can be performed while keeping the thickness at 1 μm or less, making high-density recording possible. The material of the glass substrate is not particularly limited and can be appropriately selected from glasses such as borosilicate glass, aluminosilicate glass, quartz glass, and titanium silicate glass. However, when smoothing the surface by mechanochemical polishing as described in JP-A-62-43819, it is preferable to use glass that does not contain crystalline materials. This is because the grain boundaries are polished relatively quickly by mechanochemical polishing, making it impossible to achieve the above Rmax. There are no particular restrictions on the shape and dimensions of the rigid substrate, but usually,
It is disk-shaped, and has a thickness of about 0.5 to 5 mm and a diameter of about 25 to 300 mm. A magnetic thin film containing iron oxide as a main component is formed on the rigid substrate to form a magnetic layer. The thickness of the magnetic layer is set at 50 mm in consideration of productivity, magnetic properties, etc.
It is preferable to set the number to about 0 to 3000 people. Although the magnetic layer may be formed by a known vapor phase deposition method, it is preferable to use a sputtering method, particularly a reactive sputtering method. Note that the magnetic layer may contain Ar or the like contained in the film-forming atmosphere. The surface roughness of the magnetic layer thus obtained is approximately equal to that of the rigid substrate. The magnetic layer formed in this way is described in Japanese Patent Application Laid-open No. 62
It is described in the publication No.-43819. In addition to the vapor phase film formation method, in the present invention, the magnetic layer may be formed by a method of forming a thin film mainly composed of iron oxide by a vapor deposition method or a plating method, or a method of performing heat treatment after forming the thin film. . The above-mentioned organic film is formed as a protective lubricant film on such a magnetic layer. Note that after forming a protective lubricant film on the magnetic layer, the protective lubricant film may be polished. The organic film of the present invention is applicable to continuous thin film magnetic recording media having iron oxide as a main component, as well as continuous thin film magnetic recording media having a metal vapor phase growth film magnetic layer such as Co-Ni or a metal plating film magnetic layer. It is also suitable as a protective lubricant film for magnetic recording media, or known coated magnetic recording media using iron oxide. Next, the magnetic head of the present invention will be explained. The magnetic head of the present invention has the above-mentioned organic film as a protective lubricant film on its front surface (floating surface). The magnetic head of the present invention exhibits high effects when applied to a floating magnetic head used in combination with a hard type magnetic recording medium. The present invention provides a known composite type floating magnetic head,
Although it is highly effective even when applied to a monolithic floating magnetic head, it is particularly effective when applied to a thin film floating magnetic head. The thin film type floating magnetic head will be explained below. FIG. 1 shows a thin film floating type magnetic head which is a preferred embodiment of the magnetic head of the present invention. The floating magnetic head l shown in FIG.
Insulating layer 31. Lower magnetic pole layer 41, gap layer 5, insulating layer 3
3. It has a coil layer 6, an insulating layer 35, an upper magnetic pole layer 45, and a protective layer 7 in this order. In the present invention, the above-mentioned organic film is provided as a protective lubricant film 11 on at least the front surface, that is, the floating surface, of such a floating magnetic head 1. The material of the coil layer 6 is not particularly limited, and a commonly used metal such as A2 or Cu may be used. There are no restrictions on the winding pattern or winding density of the coil, and known patterns may be appropriately selected and used. For example, in addition to the spiral type shown in the figure, the winding pattern is a laminated type,
It may be of any type, such as a zigzag shape. Further, the coil layer 6 may be formed using various vapor deposition methods such as sputtering. The base body 2 is made of a known material such as Mn-Zn ferrite. When the magnetic head of the present invention is used for a magnetic recording medium having a continuous thin film type magnetic layer mainly composed of iron oxide,
The base body 2 is preferably made of a ceramic material having a Vickers hardness of 1000 or more. With this configuration, the effect of the magnetic head of the present invention becomes even more remarkable. Ceramic materials with a Vickers hardness of 1000 or higher include ceramics containing AQaO3-T i C as a main component, ceramics containing ZrOz as a main component, and Si
Ceramics containing C as a main component or Aj2N are suitable. These also contain M g as additives,
Y , Z r O2T i Oa, etc. may be contained. Among these, those particularly suitable for the present invention are Aβx O
Ceramics containing a-Tic as a main component, ceramics containing SiC as a main component, or ceramics containing A42N as a main component, and the most preferred among these are:
It is a ceramic mainly composed of Aβgoz-TiC because its relationship with the hardness of the thin film magnetic layer mainly composed of iron oxide is optimal. Any conventionally known material can be used for the lower and upper magnetic pole layers 41, 45, such as permalloy, sendust, CO-based amorphous magnetic alloy, and the like. The magnetic poles are usually provided as a lower magnetic pole layer 41 and an upper magnetic pole layer 45 as shown in the figure, and a gap layer 5 is formed between the lower magnetic pole layer 41 and the upper magnetic pole layer 45. The gap layer 5 may be made of a known material such as Aρ, O=, S3.0□. The patterns, film thicknesses, etc. of the pole layers 41, 45 and the gap layer 5 may be any known ones. Furthermore, in the illustrated example, the coil layer 6 is of a so-called spiral type, with upper and lower magnetic pole layers 41 and 45 spirally arranged.
An insulating layer 33.35 is provided between the coil layer 6 and the upper and lower magnetic pole layers 41.45. Further, an insulating layer 31 is provided between the lower magnetic pole layer 41 and the base body 2. As the material for the insulating layer, any conventionally known material can be used. For example, when forming a thin film by sputtering, 5102, glass 1. A920. etc. can be used. Further, a protective layer 7 is provided on the upper magnetic pole 45 . As the material for the protective layer, any conventionally known material can be used, such as AQ20s. Further, various resin coat layers or the like may be laminated thereon. The manufacturing process of such a thin film type floating magnetic head usually consists of thin film formation and pattern formation. As mentioned above, to create the thin films constituting each of the above layers,
Vapor phase deposition method, which is a conventionally known technique, such as vacuum evaporation method,
A sputtering method, a plating method, or the like may be used. Pattern formation of each layer of the floating magnetic head can be performed by selective etching or selective deposition, which are conventionally known techniques. Wet etching or dry etching can be used as the etching. Further, the protective lubricant film 11 may be formed by the above-mentioned LB method, coating method, or the like. Such a floating magnetic head is used in combination with a conventionally known assembly such as an arm. <Examples> Hereinafter, the present invention will be specifically explained using examples. [Example 1] Formation of magnetic head> A thin film was formed on an I2atl-T i C substrate by sputtering, and a pattern was formed by dry etching to obtain a magnetic head as a slider structure. The Vickers hardness of the AI220 a -T i C substrate was 2200. <Formation of a protective lubricant film on the magnetic head> The protective lubricant film was formed on the magnetic head as follows. After pattern formation by dry etching, a protective lubricant film was formed on the floating surface (front surface). The film thickness is shown in Table 1.
Shown below. In addition, when the protective lubricant film was formed by the LB method, the cumulative number of LB films is also shown. Further, the film thickness was measured by ESCA. The compounds shown in Table 1 have the formulas (I-1) to (I-8
), and compounds (1) and (2) shown below, and their numbers are shown in Table 1.
【化合物■：融点３０”Ｃ未満の液状ないし半液状の低
分子化合物】
（ｎ −１）
ＣＨｓ （ＣＨｘ）ｙｃＨ＝ｃＨ（ＣＨ２）ｙｃＯＯＨ
（ＩＩ−２）
Ｃ１，Ｈ３１ＩＯＨ
（ｎ−３）
ＣＨ，（ＣＨ，） 、ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ，） 、ＣＯＯ
（ＯＨ，）。
−ＣＨ＝Ｃ）Ｉ（ＣＨ２）ｒＣ）］。
（ＩＩ−４）
ＣニーＨｚ７ＣＯＯＣ−Ｈ１１
（ＩＩ−５）
ＣＨｓ（ＣＨ２）、０）１[Compound ■: Liquid or semi-liquid low-molecular compound with a melting point of less than 30"C] (n -1) CHs (CHx)ycH=cH(CH2)ycOOH
(II-2) C1,H31IOH (n-3) CH, (CH,) , CH=CH(CH,) , COO
(OH,). -CH=C)I(CH2)rC)]. (II-4) C knee Hz7 COOC-H11 (II-5) CHs (CH2), 0) 1
【化合物■：融点３０℃以上の固形状の低分子化合物】
（ＩＩＩ−１）
Ｃ，Ｆ、、（ＣＭ、）ｌ。Ｃ００Ｈ
（ＩＩＩ−２）
Ｃ，Ｆ、、（ＣＨＩ ）１６ｃｏＯＨ＜ｌｌｌ−３）
Ｃ，Ｆ、、（ＣＨ，）２２ＣＯＯＨ
（ＩＩＩ−４）
Ｃ４ＦＱ （ＣＨ，）、、Ｃ００Ｈ
（Ｉ−５）
ＣＨａ（ＣＨ，）、、ＧＯＯＨ
（ＩＩＩ−６）
ＣＨｓ（Ｃ）ｌｘ）ａ。Ｃ００）！
（ＩＩＩ−７）
Ｃｍ Ｆｌ＝ （ＣＨ２’） １２ＧＯＯＨ（ＩＩ
Ｉ−８）
Ｃ４Ｆｅ （ＣＨ２）＋６ｃｏＯＨ
（ＩＩＩ−９）
ＣＨ，（Ｃ）Ｉ２） 、 、ＯＨ
（ｌｌｌ−１０）
Ｃ）Ｉｓ（ＣＨａ）２ｏｃＯＯｃＨｓ
表１に示す保護潤滑膜成膜方法の詳細は、下記の通りで
ある。
（ＬＢ法）
表１に示す化合物の１０”’モル／Ｉ２フロン溶液を調
製し、展開溶液とした。
まず、水相中に被処理基板（磁気へ・ソド）を浸漬した
後、展開溶液を水相表面に均一に落し、単分子膜を展開
した。
次に、表面圧が所定圧となるまで界面を圧縮し、被処理
基板を一定の速度でほぼ垂直に上昇させて被処理基板上
に単分子膜を移し取り、さらに被処理基板の下降および
上昇を繰り返して単分子膜を累積し、保護潤滑膜とした
。
（塗布法）
表１に示す化合物のフロン溶液を塗布溶液とした。 濃
度は、デイ・νピングの場合Ｑ、１ｗｔ％とし、スピン
コードの場合Ｑ、５ｖｔ％とした。
このようにして作製された磁気へ・ソドをアームと組合
わせて、空気ベアリング型の浮上型ＭＡ気ヘッドを作製
した。
〈磁気ディスクの形成〉
外径１３０ｍｍ、内径４Ｑｍｍ、厚さｌ、９ｍｍのアル
ミノケイ酸ガラス板に化学強化処理を施した。 化学強
化処理は、４５０”Ｃの溶融硝酸カリウムに１０時間浸
漬すること番こより行なった。
次いで、このガラス板表面をメカノケミカルポリッシン
グにより平滑化し、磁気ディスク基板とした。 メカノ
ケミカルポリ・ソシングには、コロイダルシリカを含む
研磨液を用ｌ／）た。 磁気ディスク基板の表面粗さ（
Ｒｍａｘ）は９０人であった。
次いで、Ｆｅをターゲットとし、Ａｒ：０２＝５０ ：
５０のｌ Ｏ−”Ｔｏｒｒの雰囲気中において反応性
スパッタを行ない、２０００人のα−Ｆｅ２０ｘ膜を成
膜した。 次に、水素気流中で３６０℃にて２時間還元
処理を行なってＦｅ５Ｏａ膜とした後、空気中で３１０
℃にて１時間酸化を行ない、γ−Ｆ ｅ ２０ ｓの磁
性層とした。 この磁性層のＲｍａｘは１００人であっ
た。
＜磁気ディスクへの保護潤滑膜形成〉
上記磁気ディスクの磁性層上に保護潤滑膜を成膜した磁
気ディスクを作製した。
保護潤滑膜を構成する化合物ならびに保護潤滑膜の成膜
方法および膜厚を、表１に示す。
表１に示す成膜方法は、上記磁気ヘッドの場合と同様で
ある。
以上のようにして得られた浮上型磁気ヘッドおよび磁気
ディスクの保護潤滑膜の成膜の均一性を、１００倍の光
学顕微鏡により観察した。
成膜の均一性は、保護潤滑膜面の波状模様発生の有無に
より評価した。
結果を表１に示す。
次に、浮上型磁気ヘッドと磁気ディスクとを表１に示す
ように組み合わせて、浮上型磁気ヘッドと磁気ディスク
間の初期および耐久走行後の摩擦ならびに吸着を測定し
た。 耐久走行は２０℃、６０％ＲＨの条件下で、１１
００ｒｐにて３０分間接接触杆させることにより行ない
、摩擦はｌｒｐｍ回転時の動摩擦係数で表わした。
結果を表１に示す。
［比較例１］
上記式（Ｉ）で表わされる化合物のみを含有する保護潤
滑膜を形成した浮上型磁気ヘッドおよび磁気ディスクを
、実施例１と同様にして作製した。
これらについて、実施例１と同様な測定を行なった。
結果を表１に示す。
上記表１において、パーフルオロアルキレンを有するポ
リエーテルおよび／またはその誘導体（化合物Ｉ）のみ
を含有する保護潤滑膜（組合せＮｏ、１０）には、縞状
および波状の模様がみられた。 このため、耐久走行後
の摩擦変動が大きいものであった。
これに対し、融点３０℃未満の液状なｌ／）シ半液状の
低分子化合物（化合物■）をさらζこ含む保護潤滑膜は
、このような模様の発生力Ｓ認められないかあるいは発
生しても微少であり、問題とはならない程度であった。
このため、摩擦変動が少な（、安定した潤滑効果力Ｓ
得られた。
なお、波状模様は、ＬＢ法およびディッピングでは被処
理基板の引き上げ方向に、スピンコード法では磁気ディ
スクの円周方同番こ発生した。
また、これらの化合物に加え、融点３０℃以上の固形状
の低分子化合物（化合物■）をさらに含有する保護潤滑
膜は、より均一な成膜カニできており、特にＬＢ法を用
いたものでは、表面圧も高くなり、安定な膜が形成され
た。
なお、磁気ディスクと浮上型磁気ヘッドとの吸着は、上
記すべての組合せにおいて発生しなかった。
また、化合物Ｉ、■および■として挙げた上記化合物の
うち表１に示される以外の化合物においても、上記と同
様な結果を示した。
［実施例２］
実施例１で作製したビッカース硬度２２００のＡｌ２１
ｏｌ −Ｔｉｅ基体を有する浮上型磁気ヘッドおよび
γ−ＦｅｚＯｓ磁性層を有する磁気ディスクを用い、フ
ライングハイド０． １μｍ以下で３６０Ｏｒｐｍにて
５分間高速摺動試験を行なった。
高速摺動試験後の磁気ディスク表面および浮上型磁気ヘ
ッド浮揚面のキズな、１００倍の光学顕微鏡を用いて観
察した。
結果を表２に示す。
［実施例３］
ディスク状のＡ９板上にＮ１−Ｐ下地層をめっきにより
設層し、この下地層上にＣｒ層、Ｃｏ−Ｃｒ磁性層、Ｃ
からなる保護膜および上記実施例１で用いた保護潤滑膜
を順次成膜してハードタイプの磁気ディスクを作製した
。
また、実施例１で用いたビッカース硬度２２００のＡ、
忍−Ｏｎ −Ｔ ｉ Ｃ基体に換え、ビッカース硬度７
００のＭ ｎ −Ｚ ｎフェライト製基体を用い、この
上に実施例１で用５”ｔた保護潤滑膜を成膜して薄膜型
の浮上型磁気ヘッドを作製した。
このようにして得られた磁気ディスクおよび浮上型磁気
ヘッドを組み合わせ、実施例２と同様な観察を行なった
。 また、この磁気ディスクおよび浮上型磁気ヘッドを
、それぞれ実施例２に記載の浮上型磁気ヘッドおよび磁
気ディスクと組み合わせ、同様な観察を行なった。
結果を表２に示す。
組合せ
Ｎｏ。
表 ２
浮上型磁気ヘッド 磁気ディスク基体
キズ 磁性層 キズＡｊ２ｉ ０ａ −
Ｔ ｉ Ｃ無 γ ＦｅｚＯ３無Ａｌ２ｔ Ｏｓ −
ＴｔＣ無 Ｃ：、ｏ−Ｃｒ ｆｒＭｎ−Ｚｎ
フェライト 有 ｙ−Ｆｅ２０ｓ 無Ｍｎ−Ｚｎ
フェライト 有 Ｇｏ−Ｃｒ 有なお、これら
の組み合わせの他、ビッカース硬度２２００以上のＡｌ
Ｎ製基体および同様な硬度を有するＳｉＣ製基体を有す
る浮上型磁気ヘッドを用いて上記と同様な高速摺動試験
を行なったところ、キズの発生は認められなかった。
さらに、ビッカース硬度１３００のＺ ｒ Ｏｚ製基体
を有する浮上型磁気ヘッドを用いて同様な測定を行なっ
たところ、磁気ヘッド浮揚面にわずかにキズの発生が認
められたが、実用上は問題とならない程度であった。
［実施例４］
実施例１で作製した浮上型磁気ヘッドおよび磁気ディス
クを用いてＣ６Ｓ試験を行なったところ、摩擦変動、吸
着などに関して極めて良好な結果が得られた。
以上の実施例の結果から、本発明の効果が明らかである
。
〈発明の効果〉
本発明の有機膜は、パーフルオロアルキレンを有するポ
リエーテルおよび／またはその誘導体に加え、液状ない
し半液状の低分子化合物を含有することにより、膜の粘
度が低下して被着体とのヌレ性が向上する。 このため
、均一に成膜することができる。
また、さらに固体状の低分子化合物が含有される場合、
ＬＢ膜化を良好に行なうことができる。 また、ＬＢ法
によらず、塗布法等の他の成膜法を用いた場合でも、成
膜性が向上し、均一で強固な膜が得られる。 さらに、
初期摩擦をより低減することができる。
従って、本発明の有機膜を磁気記録媒体あるいは磁気ヘ
ッドに適用した場合、磁気記録媒体および磁気ヘッド間
の摩擦が小さ（、かつ、その変動が小さく、また、磁気
記録媒体への磁気ヘッドの吸着が発生しに（い。
このため、Ｃ８Ｓ時あるいは磁気ヘッドと磁気記録媒体
との接触時にも双方にキズが発生しにくくなる。
また、本発明を、酸化鉄を主成分とする磁性層を有する
連続薄膜型の磁気記録媒体と、ビッカース硬度１０００
以上のセラミックス材料から構成される基体を有する薄
膜型の浮上型磁気ヘッドに適用し、これらを組合わせて
用いた場合、上記効果は特に優れたものとなる。[Compound ■: Solid low-molecular compound with melting point of 30°C or higher] (III-1) C, F,, (CM,)l. C00H (III-2) C,F,, (CHI)16coOH<lll-3) C,F,, (CH,)22COOH (III-4) C4FQ (CH,),,C00H (I-5) CHa( CH,),, GOOH (III-6) CHs(C)lx)a. C00)! (III-7) Cm Fl= (CH2') 12GOOH(II
I-8) C4Fe (CH2)+6coOH (III-9) CH, (C)I2) , , OH (lll-10) C)Is(CHa)2ocOOcHs The details of the protective lubricant film forming method shown in Table 1 are as follows. It is as follows. (LB method) A 10"'mol/I2 Freon solution of the compounds shown in Table 1 was prepared and used as a developing solution. First, the substrate to be processed (magnetic/sodo) was immersed in the aqueous phase, and then the developing solution was The monomolecular film was spread by uniformly dropping it onto the surface of the aqueous phase.Next, the interface was compressed until the surface pressure reached a predetermined pressure, and the substrate to be treated was raised almost vertically at a constant speed to form a monomolecular film on the substrate. The monomolecular film was transferred, and the substrate to be processed was lowered and raised repeatedly to accumulate a monomolecular film to form a protective lubricant film. (Coating method) A fluorocarbon solution containing the compounds shown in Table 1 was used as the coating solution. Concentration Q is 1wt% for the day ν ping, and Q is 5vt% for the spin code.The magnetic force produced in this way is combined with an arm to create an air-bearing floating type MA. An aluminosilicate glass plate with an outer diameter of 130 mm, an inner diameter of 4 Q mm, and a thickness of 1 and 9 mm was chemically strengthened. The chemical strengthening treatment was performed by adding 10% of the strength to molten potassium nitrate at 450"C. Soaking for an hour was done. Next, the surface of this glass plate was smoothed by mechanochemical polishing to obtain a magnetic disk substrate. A polishing liquid containing colloidal silica was used for mechanochemical polysocing. Surface roughness of magnetic disk substrate (
Rmax) was 90 people. Next, with Fe as the target, Ar:02=50:
A 2000 α-Fe20x film was formed by reactive sputtering in an atmosphere of 50 l O-” Torr. Next, reduction treatment was performed at 360°C for 2 hours in a hydrogen stream to form a Fe5Oa film. After that, 310 in the air
Oxidation was carried out at a temperature of 1 hour to obtain a γ-Fe 20 s magnetic layer. The Rmax of this magnetic layer was 100 people. <Formation of protective lubricant film on magnetic disk> A magnetic disk was prepared by forming a protective lubricant film on the magnetic layer of the magnetic disk. Table 1 shows the compounds constituting the protective lubricant film, the method of forming the protective lubricant film, and the film thickness. The film forming method shown in Table 1 is the same as that for the magnetic head described above. The uniformity of the film formation of the protective lubricant film of the flying magnetic head and magnetic disk obtained as described above was observed using an optical microscope with a magnification of 100 times. The uniformity of film formation was evaluated by the presence or absence of wavy patterns on the surface of the protective lubricant film. The results are shown in Table 1. Next, the floating magnetic head and the magnetic disk were combined as shown in Table 1, and the friction and adhesion between the floating magnetic head and the magnetic disk at the initial stage and after running for a long time were measured. Durability running was carried out under conditions of 20℃ and 60% RH.
The friction was expressed by the coefficient of dynamic friction when rotating at 1 rpm. The results are shown in Table 1. [Comparative Example 1] A floating magnetic head and a magnetic disk on which a protective lubricant film containing only the compound represented by the above formula (I) was formed were manufactured in the same manner as in Example 1. Regarding these, measurements similar to those in Example 1 were performed. The results are shown in Table 1. In Table 1 above, striped and wavy patterns were observed in the protective lubricant film (Combination No. 10) containing only the polyether having perfluoroalkylene and/or its derivative (Compound I). For this reason, friction fluctuations after endurance running were large. On the other hand, with a protective lubricant film containing a liquid l/) and a semi-liquid low-molecular compound (compound ■) with a melting point of less than 30°C, such a pattern of force S is not observed or does not occur. However, it was so small that it did not pose a problem. Therefore, friction fluctuation is small (and stable lubrication effect force S
Obtained. Note that the wavy pattern was generated in the direction in which the substrate to be processed was pulled up in the LB method and dipping, and in the same number in the circumferential direction of the magnetic disk in the spin code method. In addition to these compounds, a protective lubricant film that further contains a solid low-molecular compound (compound ■) with a melting point of 30°C or higher has a more uniform film formation, and is particularly difficult to form when using the LB method. , the surface pressure also increased and a stable film was formed. Note that adsorption between the magnetic disk and the floating magnetic head did not occur in any of the above combinations. Further, among the above-mentioned compounds listed as Compound I, ■ and ■, compounds other than those shown in Table 1 also showed the same results as above. [Example 2] Al21 with Vickers hardness of 2200 produced in Example 1
Using a flying magnetic head having an ol-Tie substrate and a magnetic disk having a γ-FezOs magnetic layer, a flying hide 0. A high-speed sliding test was conducted at 360 rpm for 5 minutes at a thickness of 1 μm or less. After the high-speed sliding test, scratches on the magnetic disk surface and floating surface of the floating magnetic head were observed using a 100x optical microscope. The results are shown in Table 2. [Example 3] An N1-P underlayer was formed on a disk-shaped A9 plate by plating, and a Cr layer, a Co-Cr magnetic layer, a C
A hard type magnetic disk was manufactured by sequentially depositing a protective film consisting of the above and a protective lubricant film used in Example 1 above. In addition, A with a Vickers hardness of 2200 used in Example 1,
Changed to Shinobi-On-T i C base, Vickers hardness 7
A thin-film flying type magnetic head was fabricated by using a Mn-Zn ferrite substrate of No. 00 and depositing the protective lubricant film of 5"t used in Example 1 on the substrate. The magnetic disk and floating magnetic head described in Example 2 were combined, and the same observations as in Example 2 were made. Similar observations were made. The results are shown in Table 2. Combination No. Table 2 Floating magnetic head Magnetic disk substrate
Scratch Magnetic layer Scratch Aj2i 0a -
No T i C γ No FezO3 No Al2t Os −
No TtC C:, o-Cr frMn-Zn
Ferrite Yes y-Fe20s No Mn-Zn
Ferrite Yes Go-Cr Yes In addition to these combinations, Al with a Vickers hardness of 2200 or more
When a high-speed sliding test similar to the above was conducted using a floating magnetic head having a N base and a SiC base having similar hardness, no scratches were observed.
Furthermore, when we conducted similar measurements using a floating magnetic head with a ZrOz substrate with a Vickers hardness of 1300, we found slight scratches on the flying surface of the magnetic head, but this was not a problem in practice. It was about. [Example 4] When a C6S test was conducted using the floating magnetic head and magnetic disk produced in Example 1, very good results were obtained regarding friction fluctuations, adsorption, etc. From the results of the above examples, the effects of the present invention are clear. <Effects of the Invention> The organic film of the present invention contains a liquid or semi-liquid low-molecular compound in addition to a polyether having perfluoroalkylene and/or its derivative, thereby reducing the viscosity of the film and improving adhesion. Improves wettability with the body. Therefore, a uniform film can be formed. In addition, if a solid low-molecular compound is further contained,
LB film formation can be performed satisfactorily. Further, even when other film forming methods such as a coating method are used instead of the LB method, the film formability is improved and a uniform and strong film can be obtained. moreover,
Initial friction can be further reduced. Therefore, when the organic film of the present invention is applied to a magnetic recording medium or a magnetic head, the friction between the magnetic recording medium and the magnetic head is small (and its fluctuation is small, and the magnetic head is not attracted to the magnetic recording medium. Therefore, scratches are less likely to occur on both the magnetic head and the magnetic recording medium during C8S or when the magnetic head and the magnetic recording medium come into contact. Continuous thin film magnetic recording medium and Vickers hardness of 1000
When applied to a thin-film floating magnetic head having a base made of the above ceramic materials and used in combination, the above effects are particularly excellent.
第１図は、本発明の磁気ヘッドの好適実施例である薄膜
型の浮上型磁気ヘッドを示す部分断面図である。
符号の説明
１・・・浮上型磁気ヘッド
２・・・基体
３１．３３．３５・・・絶縁層
４１・・・下部磁極Ｍ
４５・・・上部磁極層
５・・・ギャップ層
６・・・コイル層
７・・・保護層
１１・・・保護潤滑膜
Ｆ Ｉ Ｇ、 １FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a thin film floating type magnetic head which is a preferred embodiment of the magnetic head of the present invention. Explanation of symbols 1...Floating magnetic head 2...Base 31, 33, 35...Insulating layer 41...Lower magnetic pole M45...Upper magnetic pole layer 5...Gap layer 6... Coil layer 7...Protective layer 11...Protective lubricant film F I G, 1
Claims (17)
よび／またはその誘導体と、融点３０℃未満の液状もし
くは半液状の低分子化合物とを含有することを特徴とす
る有機膜。(1) An organic film characterized by containing a polyether having perfluoroalkylene and/or a derivative thereof, and a liquid or semi-liquid low-molecular compound having a melting point of less than 30°C.
含有する請求項１に記載の有機膜。(2) The organic film according to claim 1, further comprising a solid low-molecular compound having a melting point of 30° C. or higher.
る化合物を含む請求項２に記載の有機膜。 式 Ｃ＿ｎＦ＿２＿ｎ＿＋＿１−Ｘ−Ｚ （ただし、Ｘは内部にエーテル結合（−Ｏ−）および／
またはエステル結合（−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−）を
１または２以上有してもよいアルキレン基であって、そ
の総炭素数をｍとしたときｎ＋ｍ≧９である。また、Ｚ
は親水性基を表わす。）(3) The organic film according to claim 2, wherein the solid low-molecular compound includes a compound represented by the following formula. Formula C_nF_2_n_+_1-X-Z (However, X has an ether bond (-O-) and /
Alternatively, it is an alkylene group which may have one or more ester bonds (-COO- or -OCO-), and where n+m≧9, where m is the total number of carbon atoms. Also, Z
represents a hydrophilic group. )
に記載の有機膜。(4) Claim 3, wherein m≧8 and m≧n in the above formula.
The organic film described in .
およびアルコールの１種以上を含む請求項２ないし４の
いずれかに記載の有機膜。(5) The organic film according to any one of claims 2 to 4, wherein the solid low-molecular compound contains one or more of fatty acids, esters, and alcohols.
単分子膜または累積膜である請求項１ないし５のいずれ
かに記載の有機膜。(6) The organic film according to any one of claims 1 to 5, which is a monomolecular film or a cumulative film formed by the Langmuir-Blodgett method.
項１ないし６のいずれかに記載の有機膜を保護潤滑膜と
して有することを特徴とする磁気記録媒体。(7) A magnetic recording medium having a magnetic layer on a rigid substrate, and having the organic film according to any one of claims 1 to 6 as a protective lubricant film on the magnetic layer.
磁性層である請求項７に記載の磁気記録媒体。(8) The magnetic recording medium according to claim 7, wherein the magnetic layer is a continuous thin film type magnetic layer containing iron oxide as a main component.
たは８に記載の磁気記録媒体。(9) The magnetic recording medium according to claim 7 or 8, wherein the rigid substrate is made of glass.
、少なくともフロント面に有することを特徴とする磁気
ヘッド。(10) A magnetic head comprising the organic film according to any one of claims 1 to 6 on at least a front surface.
気ヘッド。(11) The magnetic head according to claim 10, which is a floating magnetic head.
上のセラミックス材料から構成されている請求項１１に
記載の磁気ヘッド。(12) The magnetic head according to claim 11, wherein at least the floating surface is made of a ceramic material having a Vickers hardness of 1000 or more.
Ｃを主成分とするセラミックス、ＺｒＯ＿２を主成分と
するセラミックス、ＳｉＣを主成分とするセラミックス
またはＡｌＮを主成分とするセラミックスである請求項
１２に記載の磁気ヘッド。(13) The ceramic material is Al_2O_3-Ti
The magnetic head according to claim 12, which is a ceramic mainly composed of C, a ceramic mainly composed of ZrO_2, a ceramic mainly composed of SiC, or a ceramic mainly composed of AlN.
Ｃを主成分とするセラミックス、ＳｉＣを主成分とする
セラミックスまたはＡｌＮを主成分とするセラミックス
である請求項１２または１３に記載の磁気ヘッド。(14) The ceramic material is Al_2O_3-Ti
14. The magnetic head according to claim 12, wherein the magnetic head is a ceramic mainly composed of C, a ceramic mainly composed of SiC, or a ceramic mainly composed of AlN.
Ｃを主成分とするセラミックスである請求項１２ないし
１４のいずれかに記載の磁気ヘッド。(15) The ceramic material is Al_2O_3-Ti
15. The magnetic head according to claim 12, wherein the magnetic head is made of ceramic containing C as a main component.
いし１５のいずれかに記載の磁気ヘッド。(16) The magnetic head according to any one of claims 11 to 15, which is a thin-film floating type magnetic head.
媒体に請求項１１ないし１６のいずれかに記載の磁気ヘ
ッドにより記録および再生を行なう方法であって、 前記磁性層表面と前記浮上型磁気ヘッドの浮揚面との距
離が０．１μｍ以下であることを特徴とする磁気記録再
生方法。(17) A method for performing recording and reproducing on a magnetic recording medium according to any one of claims 7 to 9 using the magnetic head according to any one of claims 11 to 16, comprising: the magnetic layer surface and the floating type. A magnetic recording and reproducing method characterized in that the distance between the magnetic head and the floating surface is 0.1 μm or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33252688A JPH02175791A (en) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | Organic film, magnetic recording medium, magnetic head, and magnetic recording and reproducing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33252688A JPH02175791A (en) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | Organic film, magnetic recording medium, magnetic head, and magnetic recording and reproducing method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02175791A true JPH02175791A (en) | 1990-07-09 |
Family
ID=18255907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33252688A Pending JPH02175791A (en) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | Organic film, magnetic recording medium, magnetic head, and magnetic recording and reproducing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02175791A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03153645A (en) * | 1989-11-01 | 1991-07-01 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | Lubricating film for thin membrane disk |
| WO1994019433A1 (en) * | 1993-02-24 | 1994-09-01 | Hitachi Maxell, Ltd. | Lubricant |
-
1988
- 1988-12-28 JP JP33252688A patent/JPH02175791A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03153645A (en) * | 1989-11-01 | 1991-07-01 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | Lubricating film for thin membrane disk |
| WO1994019433A1 (en) * | 1993-02-24 | 1994-09-01 | Hitachi Maxell, Ltd. | Lubricant |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH02175791A (en) | Organic film, magnetic recording medium, magnetic head, and magnetic recording and reproducing method | |
| JPH02163194A (en) | Lubricating film, magnetic head and magnetic recording medium | |
| JPH02163195A (en) | Organic film, magnetic recording medium, magnetic head and method for magnetic recording and reproducing | |
| JPH02198001A (en) | Magnetic recording and reproducing method, magnetic recording medium and floating type magnetic head | |
| JPH02223001A (en) | Magnetic recording and reproducing method, magnetic recording medium and magnetic head | |
| JPH02201701A (en) | Magnetic recording and reproducing method, magnetic recording medium and floating type magnetic head | |
| JPH02170832A (en) | Organic film, magnetic recording medium, magnetic head and magnetic recording and reproduction process | |
| JPH02206001A (en) | Magnetic recording and reproducing method, magnetic recording medium and floating type magnetic head | |
| JPH02161601A (en) | Magnetic recording and reproducing method | |
| JPH02162518A (en) | Magnetic recording medium and method for magnetic recording/reproduction | |
| JPH04134621A (en) | Magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing method | |
| JPH02206002A (en) | Magnetic recording and reproducing method, magnetic recording medium and floating type magnetic head | |
| JPS5829147A (en) | Magnetic recording medium | |
| JP2005120146A (en) | Lubricant and recording medium | |
| JPH04341922A (en) | Magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing method | |
| JPH0447523A (en) | Magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing method | |
| JP2005263746A (en) | Fluorine-containing ester compound, lubricant and recording medium | |
| JPH02177009A (en) | Magnetic recording and reproducing method | |
| JPH09316474A (en) | Lubricating substance and magnetic recording medium using the same | |
| JP2005263747A (en) | Fluorine-containing ester compound, lubricant and recording medium | |
| JPH08315354A (en) | Magnetic recorder | |
| JPH0354722A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPH0358302A (en) | Method of magnetic recording/reproducing and magnetic recording medium | |
| JPS63281220A (en) | Magnetic disk | |
| JPH04168620A (en) | Magnetic recording medium and magnetic recording/ reproducing method |