JPH0217205B2 - - Google Patents

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JPH0217205B2
JPH0217205B2 JP60287558A JP28755885A JPH0217205B2 JP H0217205 B2 JPH0217205 B2 JP H0217205B2 JP 60287558 A JP60287558 A JP 60287558A JP 28755885 A JP28755885 A JP 28755885A JP H0217205 B2 JPH0217205 B2 JP H0217205B2
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JP
Japan
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gas
liquid
primary
separated
liquid separation
Prior art date
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Application number
JP60287558A
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Japanese (ja)
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JPS62144716A (en
Inventor
Hideki Nakamura
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Hokusan Co Ltd
Original Assignee
Hokusan Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS62144716A publication Critical patent/JPS62144716A/en
Publication of JPH0217205B2 publication Critical patent/JPH0217205B2/ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E50/00Technologies for the production of fuel of non-fossil origin
    • Y02E50/30Fuel from waste, e.g. synthetic alcohol or diesel

Landscapes

  • Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 《産業上の利用分野》 本発明は、例えば温泉地などで温水と共に自噴
するメタンガス等を水と分離して燃料用に供し得
るようにするための気液分離装置に関し、特に当
該気液分離機能を具有しているだけでなく、上記
自噴によるメタンガスなどのガス圧力が変動して
も、常に供給されるガス圧は一定になるようその
調圧を可能とした気液分離ガス調圧装置に関す
る。
[Detailed Description of the Invention] <<Industrial Application Field>> The present invention relates to a gas-liquid separation device for separating methane gas, etc., which self-produces with hot water at hot spring areas, etc., from water and making it possible to use the gas as fuel. In particular, it is a gas-liquid that not only has the gas-liquid separation function, but also makes it possible to adjust the gas pressure so that the pressure of the gas supplied is always constant even if the pressure of the self-injected gas such as methane gas fluctuates. This invention relates to a separated gas pressure regulator.

《従来の技術》 従来、上記のような目的を達成するためには、
気液分離装置と、これとは全く別体の調圧装置を
組合せるようにしている。
《Prior art》 Conventionally, in order to achieve the above objectives,
The gas-liquid separator is combined with a completely separate pressure regulator.

すなわち、気液分離装置としては、塔内に例え
ばガス含有水をシヤワー状に散水することで一次
分離を行い、必要に応じさらに凝縮処理などによ
る二次分離を施すことで分離ガスを得るように
し、この分離ガスを例えば液封式の湿式ガスホル
ダーに導入して、別体である当該ホルダーで一定
ガス圧力となし、これをガス利用機器である需要
先に供給するようにし、このことによつて噴出さ
れてくるガス圧力が変動しても、常に一定化され
た燃料ガス等を送り得るようにしている。
In other words, the gas-liquid separator performs primary separation by spraying gas-containing water into the column in a shower, and if necessary, performs secondary separation such as condensation treatment to obtain separated gas. For example, this separated gas is introduced into a liquid ring type wet gas holder, and the holder, which is a separate body, maintains a constant gas pressure, which is then supplied to the consumer, which is gas utilization equipment. Even if the pressure of the ejected gas fluctuates, it is possible to always send a constant amount of fuel gas, etc.

このため、上記従来例によるときは気液分離装
置の外に、調圧装置をも入手しなければならない
ため、費用がかさむだけでなく、可成り大きな設
置スペースを要し、しかも両装置の連結工事など
も不可欠となつてくる。
For this reason, when using the above conventional example, it is necessary to obtain a pressure regulating device in addition to the gas-liquid separation device, which not only increases costs but also requires a considerable amount of installation space, and it is necessary to connect both devices. Construction work will also become essential.

《発明が解決しようとする問題点》 本発明は上記の難点に鑑み、一つの器体内に一
次、二次の気液分離室と、一次分離液を滞留可能
とした液滞留室とを画設すると共に、液滞留室に
は適切に、一次分離液のオーバーフロー通道と、
一次分離ガス放出通道とを設けると共に、同液滞
留室と二次気液分離室とを一次分離ガスの通気
と、二次分離液の流下とが可能となるよう適切に
連結して、一次、二次の気液分離が可能であると
共に導入されてくるガス圧力の変動に伴つて、液
滞留室内に滞留されている水等の液面位が変化す
ることを活用して、器体内のガス圧を定常化でき
るようにし、これにより一つの当該装置に気液分
離だけでなく調圧機能をも兼備させ、従来の欠陥
を解消しようとするのが、その目的である。
<<Problems to be Solved by the Invention>> In view of the above-mentioned difficulties, the present invention provides primary and secondary gas-liquid separation chambers and a liquid retention chamber capable of retaining the primary separated liquid in one container. At the same time, the liquid retention chamber is appropriately provided with an overflow passage for the primary separated liquid,
In addition to providing a primary separation gas discharge passageway, the liquid retention chamber and the secondary gas-liquid separation chamber are appropriately connected to allow ventilation of the primary separation gas and flow of the secondary separation liquid. Secondary gas-liquid separation is possible, and the gas inside the vessel is The purpose is to make it possible to stabilize the pressure, thereby allowing one device to have not only a gas-liquid separation function but also a pressure regulation function, thereby solving the deficiencies of the conventional method.

《問題点を解決するための手段》 本発明は、上記の目的を達成するために、器体
内には、気体含有液が導入される一次気液分離室
と、この一次気液分離室にて得られた一次分離液
が流下滞留、一次分離ガスは通過する液滞留室
と、この液滞留室に上記一次分離ガスがガス連結
管を介して流入され、当該分離ガス気液分離によ
り得た二次分離液は液戻り管により上記液滞留室
に流下させ、二次分離ガスを供給出口よりガス需
要先へ供給するようにした二次気液分離室とを画
設し、前記液滞留室には、同室滞留の一次分離液
を溢液可能なオーバーフロー通道と、当該通道の
オーバーフローレベルよりも高レベルに放出端口
を有する一次分離ガスのガス放出通道とを設け、
上記の放出端口よりも順次前記ガス連絡管、ガス
放出通道の下端導入口を夫々低位レベルに開口さ
せ、前記オーバーフロー通道と液戻り管の夫々下
端導入口、下端放出口を何れも、上記ガス放出通
道の下端導入口よりも低位レベルに開口させたこ
とを特徴とする気液分離ガス調圧装置を提供しよ
うとするものである。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present invention includes a primary gas-liquid separation chamber into which a gas-containing liquid is introduced into the container body, and a primary gas-liquid separation chamber in which the gas-containing liquid is introduced. There is a liquid retention chamber through which the obtained primary separated liquid flows down and is retained, and the primary separated gas passes through. The secondary separated liquid is allowed to flow down into the liquid retention chamber through a liquid return pipe, and a secondary gas-liquid separation chamber is provided in which the secondary separated gas is supplied from the supply outlet to the gas demand destination. is provided with an overflow passageway through which the primary separated liquid staying in the same room can overflow, and a primary separation gas discharge passageway having a discharge end at a level higher than the overflow level of the passageway,
The gas communication pipe and the lower end inlet of the gas discharge passage are sequentially opened to a lower level than the discharge end, and the lower end inlet and the lower end discharge port of the overflow passage and the liquid return pipe are both opened to release the gas. It is an object of the present invention to provide a gas-liquid separation gas pressure regulating device characterized by opening at a lower level than the lower end inlet of the passage.

《作用》 水とメタンガス等の気体含有液が器体内の一次
気液分離室内に放出されると、ここで第一次の気
液分離が行われて一次分離液は、次段の液滞留室
に滞留され、メタンガス等一次分離ガスは当該滞
留液面上である液滞留室の気相部を経て、ガス連
結管から二次気液分離室内に進入し、ここで第二
次の気液分離が行われ、これにより得た二次分離
ガスが需要先に供給され、二次分離液は液戻し管
から前記液滞留室内に流下される。
<<Operation>> When water and a liquid containing gas such as methane gas are released into the primary gas-liquid separation chamber inside the vessel, the primary gas-liquid separation is performed here, and the primary separated liquid is transferred to the next stage liquid retention chamber. The primary separated gas such as methane gas passes through the gas phase of the liquid retention chamber above the surface of the retained liquid and enters the secondary gas-liquid separation chamber from the gas connecting pipe, where it undergoes the secondary gas-liquid separation. The secondary separated gas obtained thereby is supplied to the consumer, and the secondary separated liquid is flowed down from the liquid return pipe into the liquid retention chamber.

上記のごとき気液分離が行われている際、器体
内に導入されてくるメタンガスなどのガス圧力
が、設定最大圧力値よりも上昇したような場合
は、滞留の第1分離液が当該ガス圧力で押下され
ることで、同液がオーバーフロー通道から外部へ
放出され、当該液面位が降下し、遂に液面位がガ
ス放出通道の下端導入口以下となつたとき、器体
内のガスが同通道より外部に放出されて、ガス圧
は上記設定最大圧力値にて平衡状態を保つことに
なる。
When the above gas-liquid separation is being performed, if the pressure of gas such as methane gas introduced into the vessel rises above the set maximum pressure value, the first separated liquid that remains will be When the liquid is pressed down, the liquid is released from the overflow passage to the outside, the liquid level falls, and when the liquid level finally falls below the lower end inlet of the gas release passage, the gas inside the vessel is The gas pressure is released from the passage to the outside, and the gas pressure is kept in equilibrium at the set maximum pressure value.

そして、ガス圧力が設定最小圧力値よりも降下
してしまうようなことがあれば、オーバーフロー
通道からの溢水は止み、一次分離液の液面位が上
昇して、同液がガス連結管の下端導入口を閉塞す
るに至り、これで一次分離ガスは二次気液分離室
内に流入しなくなるから、器体内の当該ガス圧力
が上昇してオーバーフロー通道からの溢水が再び
開始されるようになり、この設定最小圧力値で平
衡が保たれる。
If the gas pressure drops below the set minimum pressure value, water will stop overflowing from the overflow passage, the liquid level of the primary separation liquid will rise, and the liquid will flow to the lower end of the gas connecting pipe. The inlet is blocked, and the primary separation gas no longer flows into the secondary gas-liquid separation chamber, so the pressure of the gas inside the vessel increases and water starts overflowing from the overflow passage again. Equilibrium is maintained at this set minimum pressure value.

さらに、ガス圧力が上記最大値と最小値の間に
あるときは、液滞留室へ流入してくる一次分離液
の量だけ、オーバーフロー通道から同液が放出さ
れて平衡状態となるから、当該ガス圧値は不変に
保持されたままガス供給となる。
Furthermore, when the gas pressure is between the maximum value and the minimum value, the same amount of primary separated liquid flowing into the liquid retention chamber is released from the overflow passage and an equilibrium state is reached. Gas is supplied while the pressure value remains unchanged.

《実施例》 本発明を図示の実施例によつて詳記すると、器
体1には、その左側上位に一次気液分離室2が、
そして同室に隣接の底部全域にわたつて液滞留室
3が、さらに一次気液分離室2に隔壁4を介し器
体1の右側上位に隣接の二次気液分離室5が夫々
画設されている。
<<Example>> To describe the present invention in detail with reference to an illustrated example, a vessel body 1 includes a primary gas-liquid separation chamber 2 on the upper left side thereof.
A liquid retention chamber 3 is provided across the entire bottom area adjacent to the same chamber, and a secondary gas-liquid separation chamber 5 is further provided adjacent to the primary gas-liquid separation chamber 2 at the upper right side of the vessel body 1 via a partition wall 4. There is.

ここで上記一次気液分離液2には、メタンガス
含有の水といつた器体含有液Aが導入放出される
気液導入管2aを貫設し、この際その先端は先細
りのノズル2bとしてあり、同室2の底部に配設
して液滞留室とを区画する気液分離板2cにはパ
ンチングプレート、網板などを用いて、多数の小
さな通口2d,2d…が設けられ、後述のように
水など分離液の分離効果が充分あげられるように
してある。
Here, a gas-liquid introduction pipe 2a is provided through the primary gas-liquid separation liquid 2 through which the liquid A containing water containing methane gas is introduced and discharged, and the tip thereof is a tapered nozzle 2b. The gas-liquid separation plate 2c, which is arranged at the bottom of the chamber 2 and partitions it from the liquid retention chamber, is provided with a large number of small holes 2d, 2d, etc. using punching plates, mesh plates, etc., as described later. It is designed to have a sufficient separation effect for separating liquids such as water.

次に前記の液滞留室3には、その器体側壁にあ
つてオーバーフロー通道6とガス放出通道7とが
器体1の内外を連通するよう固設され、図示例で
は何れの通道6,7もパイプの貫設により形成さ
れているが、特にオーバーフロー通道6は仕切壁
構造によつて構成するようにしてもよく、この際
オーバーフロー通道6の溢水端口6aの位置で決
るオーバーフローレベルL0よりも、ガス放出通
道7の放出端口7aを上記に配し、しかも同通道
7の下端導入口7bよりも、オーバーフロー通道
6の下端導入口6bのレベルを低くなるように、
液滞留室3の底部近傍にあつて開口させてある。
Next, in the liquid retention chamber 3, an overflow passage 6 and a gas discharge passage 7 are fixedly provided on the side wall of the vessel body so as to communicate between the inside and outside of the vessel body 1, and in the illustrated example, either passage 6, 7 The overflow passage 6 is also formed by penetrating a pipe, but in particular, the overflow passage 6 may be constructed with a partition wall structure, and in this case, the overflow level L , the discharge end 7a of the gas discharge passage 7 is disposed above, and the level of the lower end inlet 6b of the overflow passage 6 is lower than the lower end inlet 7b of the same passage 7,
It is located near the bottom of the liquid retention chamber 3 and is open.

次に前記の二次気液分離室5につき説示する
と、同室5は、そのロート状に形成した底壁5a
の全周にわたつて所望複数本のガス連結管8,8
…が縦向きに貫設されており、その下端導入口8
aが液滞留室3に開口していると共に、同底壁5
aの最下端である軸心位置には液戻り管9が縦向
きに同液滞留室3へ延出されている。
Next, to explain the secondary gas-liquid separation chamber 5, the chamber 5 has a bottom wall 5a formed in the shape of a funnel.
A desired plurality of gas connecting pipes 8, 8 are provided around the entire circumference of the
... is installed vertically, and its lower end inlet 8
a opens into the liquid retention chamber 3, and the bottom wall 5 of the same
A liquid return pipe 9 extends vertically to the liquid retention chamber 3 at the axial center position which is the lowermost end of a.

そして、この際上記ガス連結管8,8…の下端
導入口8aは、前記のガス放出通道7における下
端導入口7bよりも高レベルに配設されていると
共に、当該導入口7bよりも、上記した液戻り管
9の下端導入口9aと前記オーバーフロー通道6
の下端導入口6bが低レベルに開口されている。
さらに二次気液分離室5の上位側レベルには斜板
10a,10a…を平行に列設してなるセパレー
タ10が横向きに隔設されているが、当該セパレ
ータ10としては斜板10a,10a…にかえて
ハニカム体を採択するようにしてもよく、同室5
の最上位には器体1に開口したガスの供給出口1
1が開口され、これが図示されていないガス燃料
機器へ連結されており、第1図にあつて実線矢印
で示したのが後述する一次分離ガスg1、破線で示
したのが一次分離液ガスr1、Bが分離液ガスr1
液滞留室3に貯留された滞留液を示し、一点鎖線
の矢印が二次分離ガスg2、二点鎖線による矢印が
二次分離液ガスr2を示している。
At this time, the lower end inlet 8a of the gas connecting pipes 8, 8, . The lower end inlet 9a of the liquid return pipe 9 and the overflow passage 6
The lower end inlet 6b is opened at a low level.
Furthermore, at the upper level of the secondary gas-liquid separation chamber 5, a separator 10 formed by swash plates 10a, 10a, . . . ...Instead, a honeycomb body may be adopted, and the same room 5
At the top of the box is a gas supply outlet 1 that opens into the vessel body 1.
1 is opened and connected to a gas fuel device (not shown), and in FIG. 1, the solid arrow indicates the primary separated gas g 1 , which will be described later, and the broken line indicates the primary separated liquid gas. r 1 , B indicates the retained liquid stored in the liquid retention chamber 3 of the separated liquid gas r 1 , the one-dot chain arrow indicates the secondary separated gas g 2 , and the two-dot chain arrow indicates the secondary separated liquid gas r 2 It shows.

次に第2図のa,bに示したのが第1図におけ
る夫々ガス連結管8、ガス放出通道7の異種実施
例を示し、何れも夫々の下端導入口8a、7bの
レベルを高低自在に調高可能としてある。
Next, FIGS. 2a and 2b show different embodiments of the gas connecting pipe 8 and the gas discharge passage 7 shown in FIG. It is possible to adjust the pitch.

すなわち二次気液分離室5の底壁には、連絡基
管8bを貫設し、同管8bに昇降自在なるようO
リング8cを介して内嵌した昇降調整管8dが、
締着螺子8eにより所望レベルにて固定できるよ
うにしてあり、同様にしてガス放出通道7は前記
の放出端口7aをもつた曲管7cに、昇降調整管
7dを内嵌し、Oリング7e、締着螺子7fによ
り所望レベルに可変としてある。
That is, a connecting base pipe 8b is provided through the bottom wall of the secondary gas-liquid separation chamber 5, and an O2 pipe is installed in the bottom wall of the secondary gas-liquid separation chamber 5 so that it can be raised and lowered freely.
The elevation adjustment tube 8d fitted through the ring 8c is
It can be fixed at a desired level with a tightening screw 8e, and in the same way, the gas discharge passage 7 is formed by fitting an elevation adjustment pipe 7d into a curved pipe 7c having the discharge end 7a, an O-ring 7e, It is variable to a desired level using a tightening screw 7f.

そこで前記のごとくオーバーフロー通道6によ
るオーバーフローレベルL0を基準として、ガス
放出通道7の前記下端導入口7bはLoよりも下
位のLmaxなる高さに位置させ、一方ガス連結管
8の下端導入口8aは上記のLoとLmaxとの中間
位置であるLminに位置させるのであり、これに
よつて後述のごとく器体1内のガス圧力Pを、設
定最大圧力値であるLo−Lmax=Pmaxなる水頭
圧から、設定最小圧力値であるLo−Lmax=
Pminなる水頭圧までの範囲内にて調圧制御でき
ることとなるのである。
Therefore, as described above, the lower end inlet 7b of the gas discharge passage 7 is located at a height Lmax lower than Lo, with the overflow level L 0 from the overflow passage 6 as a reference, while the lower end inlet 8a of the gas connecting pipe 8 is located at Lmin, which is the intermediate position between Lo and Lmax above, and thereby, as described later, the gas pressure P in the vessel 1 becomes the water head pressure, which is the set maximum pressure value, Lo - Lmax = Pmax. From this, the set minimum pressure value Lo−Lmax=
This means that pressure regulation can be controlled within a range up to the head pressure of Pmin.

そこで、一次気液分離室2内に気体含有液を気
液導入管2aにより圧送してノズル2bより噴出
すれば、当該室内空間への放出により減圧され
て、遊離ガスはもちろん溶解ガスも脱気分離さ
れ、一次分離ガスg1と一次分離液ガスr1とが得ら
れるから、水などの同液r1は気液分離板2cの通
口2d,2d…から流下して液滞留室3の底部に
落ちて貯留される。
Therefore, if the gas-containing liquid is force-fed into the primary gas-liquid separation chamber 2 through the gas-liquid introduction pipe 2a and ejected from the nozzle 2b, the pressure will be reduced by the discharge into the indoor space, and not only the free gas but also the dissolved gas will be degassed. Since the primary separated gas g 1 and the primary separated liquid gas r 1 are obtained, the liquid r 1 such as water flows down from the ports 2 d, 2 d, etc. of the gas-liquid separation plate 2 c and enters the liquid retention chamber 3. It falls to the bottom and is stored.

一方、上記の一次分離ガスg1は、これまた通口
2d,2d…を通過して液滞留室3を通り、さら
にガス連結管8の下端導入口8aから二次気液分
離室5に上昇進入し、これがセパレータ10の斜
板10aに衝当することで、気液の二次分離が行
われた後、当該二次分離ガスg2が供給出口から需
要先へ送られることとなり、セパレータ11によ
る二次分離液r2は滴下して、液戻り管9から液滞
留室3に戻されることとなる。
On the other hand, the primary separation gas g 1 also passes through the ports 2d, 2d, . When the gas g2 enters and hits the swash plate 10a of the separator 10, secondary separation of gas and liquid is performed, and then the secondary separated gas g2 is sent from the supply outlet to the consumer, and the separator 11 The secondary separated liquid r 2 is dropped and returned to the liquid retention chamber 3 from the liquid return pipe 9.

ここで前記の通口2d,2d…を有する気液分
離板2cの役割であるが、それは当該通口2d,
2d…を適度な小孔としておくことで細かい水滴
が、ガスと一緒に同伴され、そのまま二次気液分
離室5に進入してしまうのを阻止するためで、当
該通口通過時に、かかる水滴を口縁に付着させ、
これを成長させて大きな水滴となし、これを液滞
留室3へ流下させて、気液分離の作用を果すこと
となる。
Here, the role of the gas-liquid separation plate 2c having the above-mentioned ports 2d, 2d, etc. is to
This is to prevent small water droplets from being entrained with the gas and entering the secondary gas-liquid separation chamber 5 by making the holes 2d... into appropriate small holes. Attach it to the rim of the mouth,
This is allowed to grow into large water droplets, which flow down into the liquid retention chamber 3 to perform the function of gas-liquid separation.

このようにして器体1内に送られた気体含有液
Aは気液分離により、ガスを燃料等としては需要
先へ送り得ることとなるが、本発明ではこの際器
体1内のガスが、前記のPmaxとPminとの間に
あつて以下のごとく調圧制御されるのである。
The gas-containing liquid A sent into the container body 1 in this way can be sent to the consumer as fuel etc. by gas-liquid separation, but in this case, in the present invention, the gas in the container body 1 , between Pmax and Pmin mentioned above, the pressure is controlled as follows.

すなわち、今仮に器体1内に導入されてくる器
体含有液Aにより、同器体1内のガス圧力Pが、
前記のPmaxよりも大きくなつたときには、ここ
で液滞留室3における滞留液Bの液面位をLwと
すれば、P>Pmax>Lo−Lwという圧力関係と
なるのであるから、滞留液Bは当該ガス圧力Pに
より下圧されてオーバーフロー通道6の溢水端口
6aから溢水し、これより液面位が低下してい
き、それがLmaxにまで達した際、ガス放出通道
7の下端導入口7bが気相に開放されることとな
るから、当該通道7からガスが放出されてガス圧
力Pは低下し、ガス圧力PがPmaxなる水頭差に
よつて決定される設定最大圧力値において、平衡
状態を保ち得るのである。
That is, if the liquid A contained in the container body 1 is introduced into the container body 1, the gas pressure P in the container body 1 becomes
When it becomes larger than the above-mentioned Pmax, if the level of the retained liquid B in the liquid retention chamber 3 is Lw, the pressure relationship becomes P>Pmax>Lo-Lw, so the retained liquid B becomes Water is lowered by the gas pressure P and overflows from the overflow end port 6a of the overflow passage 6, and the liquid level decreases from this, and when it reaches Lmax, the lower end inlet 7b of the gas discharge passage 7 opens. Since it is opened to the gas phase, gas is released from the passage 7 and the gas pressure P decreases, and the gas pressure P reaches an equilibrium state at the set maximum pressure value determined by the water head difference Pmax. It can be maintained.

次に上記とは遂に、器体1内のガス圧力Pが前
記Pminよりも低い場合には、P<Pmin<Lo−
Lwとなり、滞留水Bの溢水は止んで、液面位Lw
が上昇し、Lminにまで達することで、滞留液B
によりガス連結管8の下端導入口8aが閉塞され
一次分離ガスg1の移送が停止され、P<Pminで
あるから、さらに液面位Lwが上昇し、PがLo−
Lwに至つて再び溢水が開始され、Pminにて平衡
状態が保たれる。
Next, when the gas pressure P in the container body 1 is lower than the above Pmin, P<Pmin<Lo−
Lw, the overflow of accumulated water B stops, and the liquid level becomes Lw.
increases and reaches Lmin, the retained liquid B
As a result, the lower end inlet 8a of the gas connecting pipe 8 is closed and the transfer of the primary separation gas g1 is stopped, and since P<Pmin, the liquid level Lw further rises and P becomes Lo-
When reaching Lw, flooding starts again, and an equilibrium state is maintained at Pmin.

さらにガス圧力がPmaxとPminとの間にある
場合はP=Lo−Lwであるから、器体1の液滞留
室3に流入して来る液量分だけがオーバーフロー
として溢水することにより、ガス圧力Pは当該圧
力値のままで平衡状態に保持されることとなる。
Furthermore, when the gas pressure is between Pmax and Pmin, P=Lo-Lw, so only the amount of liquid flowing into the liquid retention chamber 3 of the vessel body 1 overflows as an overflow, which reduces the gas pressure. P will be maintained at the pressure value in equilibrium.

このようにして変動するガス圧力Pを、Pmax
とPminとの間にて調整可能となり、この調整圧
によりガスを需要先に供給できるのであるから、
所望のLo−Lmax=Pmax、Lo−Lmin=Pminを
夫々前記のように設定してやればよく、これら
Pmax、Pminにつき各種の設定値を得たいとき
は、前記第2図のごとくガス放出管7、ガス連結
管8の長さを加減して夫々の下端導入口7b,8
aにつき、その高さを調整できるようにしておく
のがよい。
The gas pressure P that fluctuates in this way is expressed as Pmax
It is possible to adjust the pressure between
All you have to do is set the desired Lo−Lmax=Pmax and Lo−Lmin=Pmin as described above, and these
When you want to obtain various set values for Pmax and Pmin, adjust the lengths of the gas discharge pipe 7 and the gas connecting pipe 8 as shown in Fig.
It is better to be able to adjust the height of a.

尚ここで、前記のごとくガス圧力PがPminよ
りも小さいときには、ガス連結管8の下端導入口
8aが水封状態となりガスの送出が停止されてし
まい需要先での燃料が跡絶えてしまうという問題
が生ずる。
Here, as mentioned above, when the gas pressure P is smaller than Pmin, the lower end inlet 8a of the gas connecting pipe 8 is in a water-sealed state, and the gas delivery is stopped, resulting in no trace of fuel at the demand end. A problem arises.

しかし、このようなことは別途跡絶えることの
ない手段を採択して、これを解決するか、極端に
ガス圧力が低下するのは、ガス欠、ガス枯れか器
体1まで送られてくる途中でガス漏れなどの異常
事態が発生していることを意味しているのであ
り、またこのような低いガス圧で需要先に供給し
てみてもガス利用機器は正常に機能しないのが普
通であるから、このようにガスの供給が停止され
てしまうのが、むしろ望ましい場合もある。
However, this problem can be resolved by adopting a separate method that will never leave a trace, or if the gas pressure drops extremely, it is due to a lack of gas, gas exhaustion, or while being sent to the vessel body 1. This means that an abnormal situation such as a gas leak has occurred, and gas equipment usually does not function properly even if gas is supplied to customers at such low pressure. Therefore, in some cases, it may be desirable to stop the gas supply in this way.

しかし、これを嫌うときは、前記の解決手段と
して、二次気液分離室5内とか、ガスの供給系路
に圧力センサーを配設しておき、異常低圧を感知
したとき警報を発して放置し、手動、自動にて予
備のガス貯蔵設備を稼動させるようにしたり、ま
た第1図に示す通り二次気液分離室5に通ずるガ
ス供給別系路12の開閉弁12aを自動または手
動にて開成し、必要に応じ低い圧力のガスをその
まま送出するようにしてもよい。
However, if you do not like this, as a solution to the above problem, install a pressure sensor in the secondary gas-liquid separation chamber 5 or in the gas supply line, and when abnormally low pressure is detected, an alarm will be issued and the device will be left unattended. The spare gas storage equipment may be operated manually or automatically, or the on-off valve 12a of the separate gas supply line 12 leading to the secondary gas-liquid separation chamber 5 may be operated automatically or manually as shown in FIG. Alternatively, the gas may be opened and the low pressure gas may be directly delivered as required.

《発明の効果》 本発明は上記の通り、一つの器体内で気液の分
離ができるだけでなく、滞留液が流入されてくる
ガス圧力の変動により、その液面位に変化の生ず
る現象を利用して、当該器体内におけるガスの圧
力調整をも行う得るようにしたから、この種の装
置を小形化できると共に設備投資をも削減できる
ことになり、また、設備が占める床面積を大幅に
小さくできると共に可動部分がないので故障の心
配がなく、もちろん分離液としての温水その他の
液体について、その利用上何ら支障を来すことも
ない。
<<Effects of the Invention>> As described above, the present invention not only enables separation of gas and liquid within a single container, but also utilizes the phenomenon in which the level of the liquid changes due to fluctuations in the gas pressure at which the retained liquid flows. Since the pressure of the gas inside the vessel can also be adjusted, this type of equipment can be made smaller and equipment investment can be reduced, and the floor space occupied by the equipment can be significantly reduced. Since there are no moving parts, there is no need to worry about breakdowns, and of course there is no problem in using hot water or other liquids as a separating liquid.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係る気液分離ガス調圧装置の
一実施例を示す縦断正面図、第2図のa,bは同
装置の夫々ガス連結管、ガス放出通道を示す異種
実施例の縦断正面図である。 1……器体、2……一次気液分離室、2c……
気液分離板、2d……通口、3……液滞留室、5
……二次気液分離室、6……オーバーフロー通
道、6a……下端導入口、7……ガス放出通道、
7a……放出端口、7b……下端導入口、8……
ガス連結管、8a……下端導入口、9……液戻り
管、9a……下端放出口、10……セパレータ、
10a……斜板、11……供給出口、A……気体
含有液、Lo……オーバーフローレベル、g1……
一次分離ガス、g2……二次分離ガス、r1……一次
分離液、r2……二次分離液。
FIG. 1 is a longitudinal sectional front view showing one embodiment of the gas-liquid separation gas pressure regulating device according to the present invention, and FIG. FIG. 1... Vessel body, 2... Primary gas-liquid separation chamber, 2c...
Gas-liquid separation plate, 2d...Port, 3...Liquid retention chamber, 5
...Secondary gas-liquid separation chamber, 6...Overflow passage, 6a...Lower end inlet, 7...Gas discharge passage,
7a...discharge end port, 7b...lower end inlet port, 8...
Gas connecting pipe, 8a...lower end inlet, 9...liquid return pipe, 9a...lower end outlet, 10...separator,
10a... Swash plate, 11... Supply outlet, A... Gas-containing liquid, Lo... Overflow level, g 1 ...
Primary separation gas, g 2 ...Secondary separation gas, r 1 ...Primary separation liquid, r 2 ...Secondary separation liquid.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 器体内には、気体含有液が導入される一次気
液分離室と、この一次気液分離室にて得られた一
次分離液が流下滞留、一次分離ガスは通過する液
滞留室と、この液滞留室に上記一次分離ガスがガ
ス連結管を介して流入され、当該分離ガスの気液
分離により得た二次分離液は液戻り管により上記
液滞留室に流下させ、二次分離ガスを供給出口よ
りガス需要先へ供給するようにした二次気液分離
室とを画設し、前記液滞留室には、同室滞留の一
次分離液を溢液可能なオーバーフロー通道と、当
該通道のオーバーフローレベルよりも高レベルに
放出端口を有する一次分離ガスのガス放出通道と
を設け、上記の放出端口よりも順次前記ガス連絡
管、ガス放出通道の下端導入口を夫々低位レベル
に開口させ、前記オーバーフロー通道と液戻り管
の夫々下端導入口、下端放出口を何れも、上記ガ
ス放出通道の下端導入口よりも低位レベルに開口
させたことを特徴とする気液分離ガス調圧装置。 2 一次気液分離室と液滞留室との画成が、多数
の通口を有する気液分離板により、二次気液分離
室の気液分離が、斜板またはハニカム体によるセ
パレータにより夫々または格別に行われている特
許請求の範囲第1項記載の気液分離ガス調圧装
置。 3 ガス放出通道とガス連絡管の一方または双方
が、その下端導入口につき調高自在である特許請
求の範囲第1項記載の気液分離ガス調圧装置。
[Claims] 1. Inside the vessel, there is a primary gas-liquid separation chamber into which a gas-containing liquid is introduced, a primary separated liquid obtained in this primary gas-liquid separation chamber flows down and remains, and the primary separated gas passes through. a liquid retention chamber, into which the primary separated gas flows through a gas connection pipe, and a secondary separated liquid obtained by gas-liquid separation of the separated gas flows down into the liquid retention chamber through a liquid return pipe; , a secondary gas-liquid separation chamber is provided in which the secondary separated gas is supplied from the supply outlet to the gas demand destination, and the liquid retention chamber is provided with an overflow passage through which the primary separated liquid remaining in the same chamber can overflow. and a gas discharge passage for primary separated gas having a discharge end at a level higher than the overflow level of the passage, and the gas communication pipe and the lower end inlet of the gas discharge passage are sequentially connected to a lower level than the discharge end. and a lower end inlet and a lower end outlet of the overflow passage and the liquid return pipe, respectively, are opened at a lower level than the lower end inlet of the gas discharge passage. Pressure device. 2. The primary gas-liquid separation chamber and the liquid retention chamber are separated by a gas-liquid separation plate having a large number of ports, and the gas-liquid separation in the secondary gas-liquid separation chamber is separated by a swash plate or a honeycomb separator, respectively. A gas-liquid separation gas pressure regulating device according to claim 1, which is specially implemented. 3. The gas-liquid separation gas pressure regulating device according to claim 1, wherein one or both of the gas discharge passage and the gas communication pipe can be adjusted in height at the lower end inlet.
JP60287558A 1985-12-20 1985-12-20 Vapor-liquid separation adjusting device Granted JPS62144716A (en)

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