JPH02116184A - Pulse laser power source device - Google Patents

Pulse laser power source device

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JPH02116184A
JPH02116184A JP26806388A JP26806388A JPH02116184A JP H02116184 A JPH02116184 A JP H02116184A JP 26806388 A JP26806388 A JP 26806388A JP 26806388 A JP26806388 A JP 26806388A JP H02116184 A JPH02116184 A JP H02116184A
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JP
Japan
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capacitor
stage
reactor
saturable reactor
pulse
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Application number
JP26806388A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenji Takahashi
賢二 高橋
Eiji Kaneko
英治 金子
Akira Ishii
彰 石井
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0971Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Generation Of Surge Voltage And Current (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve efficiency of energy transfer of each stage by connecting a reactor which can charge a value of inductance between a capacitor at a magnetic pulse compression circuit and a pulse transformer connected to a charge power source. CONSTITUTION:Electric charge stored in capacitors 8, 9, 10 of a charge power source 1 is charged to a capacitor 16 of a first stage of a magnetic compression circuit through a pulse transformer 11 and a reactor 23 equipped with a tap at a specified frequency. A voltage rises to the capacitor 16 at the frequency. When it attains a saturated voltage of a saturable reactor 19 of the first stage, electric charge is transferred to a capacitor 17 of the next stage through a reactor 24 equipped with a tap and the reactor 19. Similarly, electric charge is transferred to a capacitor 18 of a third stage through a reactor 25 equipped with a tap and a saturable reactor 20. Since a saturated voltage thereby becomes a maximum value of an input voltage, efficiency of energy transfer of each stage is improve.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、大電流・パルスレーザ電源を実現するための
、パルスレーザ電源装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a pulsed laser power supply device for realizing a large current pulsed laser power supply.

(従来の技術) 近年、分子法によるウラン分離装置に使用するTEA及
びT E M A CO2レーザを始め、エキシマレー
ザ、銅蒸気レーザ等、各種レーザの産業への使用が検討
されており、同時にこれらのレーザのための、優れた大
電流・繰返しパルスレーザ電源が要求される様になって
いる。また、同様の電源が加速器のFast Pu1s
ed )lagnets用としても求められている。
(Prior art) In recent years, various lasers have been considered for industrial use, including TEA and TEMA CO2 lasers used in uranium separation equipment using molecular methods, excimer lasers, and copper vapor lasers. There is an increasing demand for superior high-current, repetitive-pulse laser power sources for these lasers. In addition, a similar power source is used for the accelerator Fast Pu1s
ed) is also required for lagnets.

この様な大電流・繰返しパルス電源には、早い電流の立
上り(100KA/μ5ec)、高繰返し性(200〜
l0KPPS) 、大電流(〜l0KA) 、高電圧(
〜150KV ) 、低いインピーダンス高リアクタン
ス比を有する可飽和リアクトル(教)1112以上で十
分に応答し、しかも飽和時と非飽和時で大きいインダク
タンスの比を有する特性)、非常に狭いパルス幅(10
0nSeC) 、ジッタ時間(数十n5ec以下)、長
寿命(108〜11程度以上)等の条件が要求されてい
る。
Such a large current/repetitive pulse power supply requires a fast current rise (100 KA/μ5 ec) and high repeatability (200 KA/μ5 ec).
l0KPPS), large current (~l0KA), high voltage (
~150KV), a saturable reactor with a low impedance and high reactance ratio (1112 or higher), which responds satisfactorily with 1112 or more, and has a large inductance ratio between saturation and non-saturation), a very narrow pulse width (10
0nSeC), jitter time (several tens of nanoseconds or less), long life (about 108 to 11 or more), and other conditions are required.

上記の目的で考え出されたのが第2図に示す電気回路で
ある。第2図の電気回路において、パルス変圧器11の
低圧側が、繰返しパルス電流を発生するためのスイッチ
回路であり、高圧側は磁気パスル圧縮回路(Magne
tic Pu1se Compression=MPC
回路)と呼ばれる電気回路である。
The electric circuit shown in FIG. 2 was devised for the above purpose. In the electric circuit shown in FIG. 2, the low voltage side of the pulse transformer 11 is a switch circuit for generating a repetitive pulse current, and the high voltage side is a magnetic pulse compression circuit (Magnetic pulse compression circuit).
tic Pulse Compression=MPC
It is an electrical circuit called a circuit.

第2図のパルス変圧器11の低圧側に形成されたスイッ
チ回路において、充電電源1には、充電用リアクトル2
,3.4及び整流器5,6.7を介してコンデンサ8,
9.10が接続され、パルス変圧器11の低圧側に3並
列に接続されている。また、スイッチ素子であるサイリ
スタ12.13.14はドライバ15により点弧される
ようになっている。
In the switch circuit formed on the low voltage side of the pulse transformer 11 shown in FIG.
, 3.4 and the capacitor 8, via the rectifier 5, 6.7.
9 and 10 are connected, and three are connected in parallel to the low voltage side of the pulse transformer 11. Further, the thyristors 12, 13, and 14, which are switch elements, are turned on by the driver 15.

この様なスイッチ回路の動作としては、まず充電電源1
によって、充電用リアクトル2,3.4及び整流器5,
6.7を介して、コンデンサ8゜9.10を常時一定の
電圧に充電しておく。ここでドライバ15により、電源
全体として必要とされる周波数になるように、サイリス
タ12.13.14を次々と点弧することよにり、パル
ス変圧器11の低圧側には必要な繰返し数でパルス電流
が発生する。
The operation of such a switch circuit is as follows: First, the charging power supply 1
Accordingly, the charging reactor 2, 3.4 and the rectifier 5,
6.7, the capacitor 8°9.10 is always charged to a constant voltage. Here, the driver 15 fires the thyristors 12, 13, 14 one after another so that the frequency required for the entire power supply is reached, and the low voltage side of the pulse transformer 11 is activated at the required number of repetitions. A pulse current is generated.

なお、第2図の例ではサイリスタの数は3個(即ち、パ
ルス変圧器の低圧側に接続する回路は3並列)としであ
るが、これは電源として要求される繰返しのパルス数と
サイリスタの能力に応じて、適当な数を選ぶことになる
。例えば、一般のサイリスタは、数百Hz、l kll
z程度の繰返し周波数で使用するのが限界である。従っ
て、例えば繰り返し周波数が5 kHzの場合にはサイ
リスタの並列数は7〜10以上となる。
In the example shown in Figure 2, the number of thyristors is three (that is, the circuit connected to the low voltage side of the pulse transformer is three in parallel), but this is due to the number of repeated pulses required as a power source and the number of thyristors. Choose an appropriate number depending on your ability. For example, a general thyristor has a frequency of several hundred Hz, l kll
The limit is that it can be used at a repetition frequency of about z. Therefore, for example, when the repetition frequency is 5 kHz, the number of thyristors in parallel is 7 to 10 or more.

なお、第2図では繰返しパルス電流を発生するためのス
イッチ素子としては、特にサイリスタに限定されるもの
ではないが、上記のように厳しい条件に対して、そのス
イッチ素子として機械的スイッチを使用することは寿命
ヤシツタの点で問題があり、結局サイリスタが最も適し
ている。
In addition, in Fig. 2, the switching element for generating a repetitive pulse current is not limited to a thyristor, but a mechanical switch is used as the switching element under the severe conditions described above. However, there is a problem in terms of lifespan, and in the end, thyristors are the most suitable.

この様なスイッチ回路に使用するスイッチ素子は、一定
のパルス幅でエネルギーを充電電源1からMPC回路側
に送る役割を果たすものであり、このスイッチ素子とし
てサイラトロン或は半導体が最適と考えられるが、前記
のような高電圧の電源回路ではスイッチの責務か大きく
、それだけ大型のスイッチを使用せざるを得ない。
The switch element used in such a switch circuit plays the role of transmitting energy from the charging power source 1 to the MPC circuit side with a constant pulse width, and a thyratron or a semiconductor is considered to be optimal for this switch element. In the above-mentioned high voltage power supply circuit, the responsibility of the switch is large, and a correspondingly large switch must be used.

一方、パルス変圧器11の高圧側のMPC回路は適当な
値のコンデンサ1B、 17.18と可飽和リアクトル
19.20.21が3段に組み合わせられており、この
各段の回路によって、パルス変圧器11の低圧側から入
力された電流の時間幅が順次圧縮されるように構成され
ている。この様な構成から、パルス変圧器の低圧側から
入力された電流の時間幅を百分の一程度にすることによ
り、電流の上昇率を前記した100kA /μsec以
上とするものである。
On the other hand, the MPC circuit on the high voltage side of the pulse transformer 11 is composed of capacitors 1B and 17.18 of appropriate values and saturable reactors 19, 20, and 21 in three stages. The time width of the current input from the low voltage side of the device 11 is sequentially compressed. With this configuration, by reducing the time width of the current input from the low voltage side of the pulse transformer to about 1/100, the rate of increase in current can be increased to the above-mentioned 100 kA/μsec or more.

この様なパルス変圧器11の高圧側の動作を詳細に述べ
れば、パルス変圧器11の高圧側に電圧が発生すると、
この電圧に比例して第一段のコンデンサ16の極間電圧
が上昇する。この結果、コンデンサ16の極間電圧に比
例して、第1段の可飽和リアクトル19には僅かな電流
が流れ出すがこの電流がある値に達すると可飽和リアク
トル19の鉄心内の磁束数は飽和磁束密度以上にいたり
、可飽和リアクトル19は飽和状態となり、急激にイン
ダクタンスが低下し、コンデンサ16に蓄えられたエネ
ルギーは可飽和リアクトル19を介して第二段のコンデ
ンサ17に転移する。この場合、各段の可飽和リアクl
ヘル19.20.21の非飽和時及び飽和時のインダク
タンスを順次小ざくすることにより、各段をながれる電
流の周波数を順次高周波にすることが出来る。
To describe the operation of the high voltage side of the pulse transformer 11 in detail, when voltage is generated on the high voltage side of the pulse transformer 11,
The interelectrode voltage of the first stage capacitor 16 increases in proportion to this voltage. As a result, a small amount of current flows into the first stage saturable reactor 19 in proportion to the voltage between the poles of the capacitor 16, but when this current reaches a certain value, the number of magnetic fluxes in the iron core of the saturable reactor 19 becomes saturated. When the magnetic flux density exceeds the saturable reactor 19, the saturable reactor 19 becomes saturated, the inductance rapidly decreases, and the energy stored in the capacitor 16 is transferred to the second stage capacitor 17 via the saturable reactor 19. In this case, the saturable reactor l of each stage
By successively reducing the inductance of the Hell 19, 20, 21 during non-saturation and saturation, the frequency of the current flowing through each stage can be made higher in sequence.

ところで、第一段のコンデンサ16と、第一段の可飽和
リアクトル19と、第二段のコンデンサ17との関係は
、可飽和リアク1〜ル19が非飽和のとぎ、このループ
にながれる電流の周波数における第一段のコンデンサ1
6とインピーダンスと、第一段の可飽和リアクl〜ル1
9の非飽和時のインピーダンスを適正な値にすることに
より、第一段のコンデンサ16から第二段のコンデンサ
17ヘエネルギーが転移する時期を調整することが出来
、可飽和リアクトル19が飽和のときになかれる電流周
波数における第二段のコンデンサ17のインピーダンス
より可飽和リアクトル19の飽和時のインピーダンスを
十分に大きくすることにより、第一段のコンデンサ16
のほぼ全エネルギーをコンデンサ17に転移させること
ができる。
By the way, the relationship between the first-stage capacitor 16, the first-stage saturable reactor 19, and the second-stage capacitor 17 is such that when the saturable reactors 1 to 19 are non-saturated, the current flowing through this loop is First stage capacitor 1 at frequency
6, impedance, and first stage saturable reactor 1
By setting the impedance of 9 to an appropriate value when unsaturated, the timing at which energy is transferred from the first stage capacitor 16 to the second stage capacitor 17 can be adjusted, and when the saturable reactor 19 is saturated, By making the impedance of the saturable reactor 19 at saturation sufficiently larger than the impedance of the second stage capacitor 17 at the current frequency at which the saturable reactor 19 is saturated, the first stage capacitor 16
Almost all of the energy can be transferred to the capacitor 17.

以上のように、インピーダンス関係によりエネルギー転
移の時期を調整し、エネルギー転移の効率を向上するた
めの、具体的なコンデンサと可飽和リアクトルとの組合
せは多数考えられるが、もつとも−殻内なのはコンデン
サの値を一定にしておき、可飽和リアクトルの値を変化
させていく方法である。
As mentioned above, there are many specific combinations of capacitors and saturable reactors that can be considered to adjust the timing of energy transfer through impedance relationships and improve the efficiency of energy transfer. This is a method of keeping the value constant and changing the value of the saturable reactor.

可飽和リアクトルの特性式を示せば、 可飽和リアクトルの 飽和電圧oc(入力周波数XLt線の2乗X鉄心の飽和
磁束密度×鉄心の断面積) となる。上記のように、エネルギー転移の時期を調整し
、■キルギー転移の効率を向上するために鉄心や巻線の
巻数を変えて、可飽和リアクトルの値を変えることは容
易に出来ず、簡単に操作できるものではない。
The characteristic equation of the saturable reactor is: The saturation voltage oc of the saturable reactor (square of the input frequency XLt line x saturation magnetic flux density of the iron core x cross-sectional area of the iron core). As mentioned above, it is not easy to adjust the timing of energy transfer and change the value of the saturable reactor by changing the number of turns of the iron core or winding in order to improve the efficiency of the Kirgyi transfer. It's not something that can be done.

(発明が解決しようとする課題) 上記のような従来のパルスレーザ電源については、磁気
圧縮回路が動作する電圧値(可飽和リアクトルか飽和電
圧に達したときの値を言う)は可飽和リアクトルの構成
で決まってしまうため、エネルギー転移の効率を向上出
来なかった。また、飽和電圧値は負荷となるレーザ放電
部の構成によって変化していかなければいけないが、可
飽和リアクトルの飽和電圧を変化させるのは容易でなか
ったため、飽和電圧値を変えられなかった。また、同じ
放電部を使用して動作電圧を一定にして入力を調整した
い場合にも同様なことが言えた。
(Problem to be solved by the invention) Regarding the conventional pulsed laser power supply as described above, the voltage value at which the magnetic compression circuit operates (referring to the saturable reactor or the value when the saturation voltage is reached) is the same as that of the saturable reactor. Because it was determined by the configuration, it was not possible to improve the efficiency of energy transfer. Furthermore, the saturation voltage value must be changed depending on the configuration of the laser discharge section serving as the load, but it was not easy to change the saturation voltage of the saturable reactor, so the saturation voltage value could not be changed. Furthermore, the same thing can be said when it is desired to adjust the input while keeping the operating voltage constant using the same discharge section.

そこで、本発明は以上の欠点を除去するために提案され
たもので、その目的は可飽和リアクトルの飽和電圧値を
容易に変化でき、各段のエネルギー転移の効率の向上と
、入力調整が可能なパルスレーザ電源装置を提供すると
ころにある。
Therefore, the present invention was proposed to eliminate the above-mentioned drawbacks, and its purpose is to easily change the saturation voltage value of the saturable reactor, improve the efficiency of energy transfer in each stage, and enable input adjustment. The purpose of the present invention is to provide a pulsed laser power supply device.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(課題を解決するための手段) 本発明のパルスレーザ電源装置は、充電電源のコンデン
サと磁気圧縮回路の一段目のコンデンサの間に回路周波
数調整用リアクトルを設けると共に、各段の可飽和リア
クトルに直列に回路周波数調整用リアクトルを設けたこ
とにより、磁気圧縮回路入力周波数を調整し、また、可
飽和リアクトルの飽和電圧値を調整するように構成した
もので必る。
(Means for Solving the Problems) The pulse laser power supply device of the present invention includes a reactor for adjusting the circuit frequency between the capacitor of the charging power supply and the capacitor of the first stage of the magnetic compression circuit, and a saturable reactor of each stage. By providing a circuit frequency adjusting reactor in series, the input frequency of the magnetic compression circuit can be adjusted, and the saturation voltage value of the saturable reactor can also be adjusted.

(作 用) 上のような構成を有する本発明によれば、磁気圧縮回路
の各可飽和リアクトルの飽和電圧値を最適値に調整する
ことが出来、各段のエネルギー転移の効率を向上するこ
とが可能となる。
(Function) According to the present invention having the above configuration, the saturation voltage value of each saturable reactor of the magnetic compression circuit can be adjusted to an optimal value, and the efficiency of energy transfer in each stage can be improved. becomes possible.

(実施例) 以下本発明の一実施例を第1図に基づいて具体7的に説
明する。なお、第2図に示した従来型と同一の部分は説
明を省略する。
(Example) An example of the present invention will be described below in detail based on FIG. Note that the description of the same parts as the conventional type shown in FIG. 2 will be omitted.

本実施例においては、第1図の回路図に示したにうに、
パルス変圧器11と磁気圧縮回路の一段目のコンデンサ
16との間にタップ付きのりアクドル23が設けられて
る。充電電源1のコンデンサ8゜9.10に貯められた
電荷はある周波数でパルス変圧器11とタップ付きりア
クドル23を介して磁気圧縮回路の一段目のコンデンサ
16に充電される。その周波数で磁気圧縮回路の一段目
のコンデンサ16に電圧が立ち上がり一段目の可飽和リ
アクトル19の飽和電圧に達したときに、タップ付きり
アクドル24と可飽和リアクトル19を介して次の段の
コンデンサ17に電荷を移動する。同じ様に、タップ付
きりアクドル25と可飽和リアクトル20を介して三段
目のコンデンサ18に電荷を移動する。そして、最後に
可飽和リアクトル21を介して放電部22へと電荷を入
力する。
In this embodiment, as shown in the circuit diagram of FIG.
A tapped glue handle 23 is provided between the pulse transformer 11 and the first stage capacitor 16 of the magnetic compression circuit. The charge stored in the capacitor 8°9.10 of the charging power source 1 is charged at a certain frequency to the first stage capacitor 16 of the magnetic compression circuit via the pulse transformer 11 and the tapped handle 23. When the voltage rises in the first stage capacitor 16 of the magnetic compression circuit at that frequency and reaches the saturation voltage of the first stage saturable reactor 19, it passes through the tapped axle 24 and the saturable reactor 19 to the next stage capacitor. Transfer the charge to 17. Similarly, charge is transferred to the third stage capacitor 18 via the tapped axle 25 and the saturable reactor 20. Finally, charges are input to the discharge section 22 via the saturable reactor 21.

この様な構成を有する本実施例のパルスレーザ電源装置
においては、第1図に示す可飽和リアク]・ル19.2
0.21の飽和電圧が入力電圧の最大値でない場合に、
回路周波数調整リアクトル23.24゜25の値を変化
させることにより、各段に入力する回路周波数の値を変
化させて、可飽和リアクトル19、20.21の飽和電
圧値を調整し入力電圧波形の最大値で飽和電圧に達する
ようにすることが出来る。飽和電圧が入力電圧の最大値
になるため各段のエネルギー転移の効率が向上すること
になる。
In the pulse laser power supply device of this embodiment having such a configuration, the saturable reactor shown in FIG. 19.2
If the saturation voltage of 0.21 is not the maximum value of the input voltage,
By changing the value of the circuit frequency adjustment reactor 23.24゜25, the value of the circuit frequency input to each stage is changed, the saturation voltage value of the saturable reactor 19, 20.21 is adjusted, and the input voltage waveform is changed. It is possible to reach the saturation voltage at the maximum value. Since the saturation voltage becomes the maximum value of the input voltage, the efficiency of energy transfer in each stage is improved.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

この様に、本実施例のパルスレーザ電源装置を用いると
、磁気圧縮回路の各段の可飽和リアクトルについて飽和
電圧値を入力電圧値の最大値に微調整できることで各段
のエネルギー転移の効率を向上することができる。以上
により、磁気圧縮回路の動作を最適状態で行えることが
出来、総合効率のいいパルスレーザ電源装置を得ること
が出来る。
In this way, when the pulse laser power supply device of this embodiment is used, the saturation voltage value of the saturable reactor at each stage of the magnetic compression circuit can be finely adjusted to the maximum value of the input voltage value, thereby increasing the efficiency of energy transfer at each stage. can be improved. As described above, the operation of the magnetic compression circuit can be performed in an optimal state, and a pulse laser power supply device with good overall efficiency can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のパルスレーザ電源装置の1実施例を示
す回路図、第2図は、従来のパルスレーザ電源装置の一
例を示す回路図である。 1・・・充電電源、  8.9.10・・・コンデンサ
、12、13.14・・・スイッチ素子(サイリスタ)
、15・・・ドライバ、  11・・・パルストランス
、1B、 17.18・・・コンデンサ、19、20.
21・・・可飽和リアクトル、22・・・レーザ放電部
、 23、24.25・・・タップ付きりアクドル。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同  第子丸 健
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of a pulse laser power supply device of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a conventional pulse laser power supply device. 1... Charging power supply, 8.9.10... Capacitor, 12, 13.14... Switch element (thyristor)
, 15... Driver, 11... Pulse transformer, 1B, 17.18... Capacitor, 19, 20.
21...Saturable reactor, 22...Laser discharge section, 23, 24.25...Tapped axle. Agent Patent Attorney Noriyuki Chika Yudo Ken Daishimaru

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 充電電源に接続されたコンデンサにスイッチ素子を接続
したスイッチ回路と可飽和リアクトルとコンデンサをレ
ーザ放電部に接続してなる磁気パルス圧縮回路とを有す
るパルスレーザ電源装置において、磁気パルス圧縮回路
におけるコンデンサと充電電源に接続されたパルス変圧
器の間にインダクタンスの値を可変できるリアクトルを
接続したことを特徴とするパルスレーザ電源装置。
In a pulse laser power supply device having a switch circuit in which a switch element is connected to a capacitor connected to a charging power supply, and a magnetic pulse compression circuit in which a saturable reactor and a capacitor are connected to a laser discharge section, the capacitor in the magnetic pulse compression circuit and A pulse laser power supply device characterized in that a reactor capable of varying the value of inductance is connected between a pulse transformer connected to a charging power source.
JP26806388A 1988-10-26 1988-10-26 Pulse laser power source device Pending JPH02116184A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014204460A (en) * 2013-04-01 2014-10-27 住友電気工業株式会社 Current-limiting/current flow controller
US10218170B2 (en) 2013-04-01 2019-02-26 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Current-limiting device utilizing a superconductor for a current-limiting operation

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014204460A (en) * 2013-04-01 2014-10-27 住友電気工業株式会社 Current-limiting/current flow controller
US9762051B2 (en) 2013-04-01 2017-09-12 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Current-limiting and power-flow control device
US10218170B2 (en) 2013-04-01 2019-02-26 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Current-limiting device utilizing a superconductor for a current-limiting operation

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