JPH02115017A - ガスを液体に溶解する改良された方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガスを液体に溶解することに関する。

より詳細には、本発明はこのような溶解に伴うエネルギ
ー所要量を減少させることに関する。

良米Ω且ｌ パイプライン接触装置はガスを液体に溶解する及び／又
はガスと液体とを反応させるよく知られた手段である。

このような接触装置は、水或はプロセス液の溶解酸素含
量を増大させるのに用いられることがしばしばある。プ
ラント廃棄流、例えば製紙工場や化学プラントにおける
有機物質は、このような廃棄流を水域に排出する前に、
このような溶解酸素含量を増大させる必要に至ることが
しばしばある。同様の必要性は、また、重言廃棄物処理
プラントにおいても生じ得る。養魚場で高密度の水中生
物培養（アクアカルチャー）の必要を満足させるために
増大した溶解酸素レベルを要することがしばしばある。

バイブライン接触装置は望ましいサイドストリーム系に
おいて、かかるガス溶解運転用に使用されてきた。サイ
ドストリーム系では、液体流の分別容積をサイドストリ
ームとして取り出し、加圧し、高度にガス化し、次いで
液体の主流に戻して混合する。

代表的には、サイドストリームボンピング系では、この
ようなガス溶解プロセスを高圧で運転してガスを液体に
溶解する速度を増大させる。加えて、かかる高圧運転は
該プロセスにおいて達成し得る溶解したガス含量レベル
を増大させる。ガス溶解プロセスを実施するのが望まし
い高圧を発生させるのに高エネルギーポンプを使用する
のが普通である。

当分針に、産業加工運転の効率を向上させたいとする一
般的な要求があるのはもち論である。主題のガス溶解プ
ロセスに関し、エネルギー要求量を減少させることが望
ましい。このようなエネルギーの減少は、立ち代って、
有用なガス溶解運転の実施を促進する働きをし、さもな
くば、かかる運転は、代表的には該運転に伴うエネルギ
ー費が比較的高いことによって実施を思いとどまらせる
ことになろう。

よって、発明の目的はガスを液体に溶解し及び／又はガ
スと液体とを反応させる改良方法を提供するにある。

発明の別の目的はガスを液体に溶解させるのに伴うエネ
ルギー要求量を低減させることができる方法を提供する
にある。

これらや他の目的を心に留めて、発明を本明細書中以降
で詳細に説明し、発明の新規な特徴を特に特許請求の範
囲に指摘する。

ル豆Ω唱滅 発明はガスの液体流への溶解度を有意に増大させるよう
な液体の圧力類を使用することと、液体流速度、気液接
触装置の直径及び長さ、分散したガスを含有する液体流
の接触装置における滞留時間及びガス分散条件とを組合
わせて、接触装置から回収する液体流中の所望の溶解ガ
ス濃度レベルを得る。発明の実施において、坑井（ｗｅ
ｌｌｂｏｒｅ）内に位置させた垂直バイブライン接触装
置を簡便に採用して、ポンプエネルギー費の有意の節約
を達成する。

日の言細な言日 発明の目的は、所望のガス溶解を望ましい程に低いエネ
ルギー所要量で達成することを可能にし及び総括処理加
工効率を高める処理加工特徴の新規な組合せによって達
成する。相対的に低い初期圧力の分散した気泡を含有す
る液体流を、微細な気泡の均一な分散を保ち、一方ガス
の液体への溶解度及び溶解速度を増大させることを確実
にする条件下で増大する圧力に暴露させる。このような
条件を、所望の溶解ガス濃度レベルを有する液体流を回
収点で支配的な温度及び圧力条件において回収するよう
な所望の流量条件下で十分な滞留時間の間保つ。

発明の実施において、回収する液体流の溶解したガス濃
度が該低い圧力で形成される初期ガス分散体の溶解ガス
濃度よりも大きくなるのはもち論である。このようにし
て処理する液体流は、ガスを有利な処理加工条件下で溶
解させるつもりの液体の主流のサイドストリーム（上述
した通り）であるのが便利である。

発明のガス溶解方法では、溶解するガスを当液体の流れ
に注入して液体中の気泡の初期分散液を形成する。この
ガス注入工程は、初期の比較的低い圧力で実施し及び液
体流中にガスをある少量初期溶解して達成することがで
きる。該気泡を含有する生成した液体流を通常下方向の
流路に該ガス注入を行う高いレベルから通す。この下方
向流路の間に液体流にかかる圧力は、静水頭が増大する
ために増大すると考えられる。この液体流の圧力の増大
が、立ち代って液体中のガスの溶解度及び溶解速度を増
大させることになる。

所望のガス溶解は、液体流中に均一に分散させた気泡を
、有利には、比較的大きい寸法の気泡を形成する場合よ
りも認め得る程に大きい表面積を液体に暴露させる非常
に微細な気泡の形で保つことによって高められる。液体
流中の気泡、望ましくは微細な気泡のこのような均一な
分散及び高いガス溶解を確実にするために、液体流を、
該下方向流路に通過させる間、適したガス分散条件に暴
露させる。このようなガス分散条件は、下記に一層詳細
に開示する通りに、流れ制限手段を下方向流路に位置さ
せて成ることができる。別法として、微細なガス小滴の
均一な分散及び液へのガスの溶解を増進するような乱流
状態は、比較的高い液体流速を用いることにより、液体
流路中に流れ制限手段を加入することを必要としないで
、作り出すことができる。

溶解し及び分散させたガスを含有する液体流を該下方向
流路に上述した条件下で流し続けて該液に溶解するガス
の量を増大させる。このために、液体流を該下方向流路
に、該下方向流路の端部で有利なガス濃度レベルを得る
ような、該流路の直径及び長さにより及び該液体流の流
量によって求める通りの滞留時間の間、通す。相対的に
小さい流量では、下方向流路の長さは所定の流路直径に
ついて、相対的に大きい流量で必要とするよりも短くし
得ることは認められよう、何にしても、溶解したガス及
び全ての残留する分散した気泡を含有する液体流を、所
望の回収点の支配的な温度及び圧力において所望の溶解
ガス濃度レベルで回収するこができ、ガス溶解運転は、
該液体流を該全体に下方向流路の中に通すことに関して
上述した処理加工特徴の組合せによって増進された。

発明の一実施態様では、溶解したガスを所望のレベルで
含有する液体流を本質的に下方向流路の下方端の回収点
で回収する。他の実施態様では、溶解したガス及び全て
の残留気泡を含有する液体流を、該下方向流路の下方端
から全体に上方向の追加の流路に所望の回収点まで通す
。このような後者の実施態様では、上方向の追加の流路
における該液体流の滞留時間は、該上方向の追加の流路
からの液体流の回収点において回収する液が該回収点に
おいて支配的な温度及び圧力で所望の溶解したガス濃度
を有するようにする。上方向の追加の流路におけるこの
ような液体の滞留時間は、該上方向の追加の流路の直径
及び長さにより及び該流路内の液体の流速によって求め
る。発明の便利な一実施態様では、下方向流路は外側ケ
ーシングによって囲まれた内部導管を通る。溶解したガ
ス及び全ての残留気泡を含有する液体流を内部導管と外
側ケーシングとの間の環状空間に上方向に通す、特に簡
便かつ好ましい実施態様では、内部導管及び外側ケーシ
ングを坑井内に位置させ、ガスを液体にグラウンドレベ
ルで注入して坑井の内部導管に通す。所望の溶解ガス濃
度を有する液体を環状空間から、また簡便にはグラウン
ドレベルで回収する。液体をまた該環状空間の中に下方
向に通し、所望の溶解ガス濃度を含有する液体の回収を
内部導管から、簡便にはグラウンドレベルで行うことが
できることも理解されよう。

発明の別の実施態様では、下方向流路及び上方向の追加
の流路は入口端及び排出端を上方レベルに、例えばグラ
ウンドレベルに或はそれより上に有する導管ループを含
み、該導管ループは下方の高さに流路の中間部分を有す
る。発明の方法は、入口及び排出端が本質的に坑井のグ
ラウンドレベルにある下方向流路及び上方向の追加の流
路を使用して採用するのが好ましいが、また、下方向流
路を本質的にグラウンドより上に位置させて採用するこ
とも実行可能である。例えば、いくつかの実施態様では
、ビルディング或は他の構造物に対して或はその近くに
位置させた導管内の下方向流路を採用し、液体流に溶解
するガスを簡便に液体流に該導管の上方レベルで注入し
て内部を下方向に一層低い高さに、例えばグラウンドレ
ベルに通すことが簡便になるかもしれない。このような
例では、溶解ガス及び全ての残留気泡を含有する液体流
を、導管と外側ケーシングとの間の環状空間内のように
、上方向の追加の流路内に下方の高さから一層高いレベ
ルに上方向に通すことは理解されよう。

また、液体を初めに全体に上方向の流路内に液体の静水
頭の下方部分から通して、続いて下方向の追加の流路な
用い或は用いないで同様の利点を達成し得ることを認め
るものと思う。圧力類は初め流路の下方端における液体
の静水頭によって高い。流路が液体の連続体を含む状況
下では、プロセスのボンピングエネルギー所要量を最少
にすることができる。このようなプロセス変法では、最
も大きい溶解速度及び最も高いガス溶解度は流路の初め
においての、すなわち初期の全体に上方向の流路の開始
において達成し、流路は様々の他のプロセス構成の場合
に比べて望ましいことに一層短かくすることができる。

このようなプロセス変法は、特に液体のカラムをグラウ
ンドより高く位置させる場合に望ましい、ガス分散条件
気液接触装置の直径及び長さ、液体滞留時間等を、上述
した液体流を初めに全体に下方向に通す等の場合のよう
に該プロセス変法において採用する。別の有用なプロセ
ス変法では、溶解させるガスを、水平流れカラム内の液
体に、該ガス分散条件、滞留時間等を上記の通りにして
採用して導入し、再び静水頭を用いて該水平流れカラム
内の液体圧力の増大をもたらして液体へのガス溶解速度
及びガス溶解度を増大させる。この後者の変法では、液
体のサイドストリームを簡便には液体収容容器の下方部
分から抜き出して、望ましくは上述した流路に相当する
水平ループ流路に通すことができる。望むガスを液体に
注入することができ、該容器内の静水頭によって圧力を
課されることになる。本明細書中に記載する通りのガス
分散条件を採用して気泡の均一な分散及び液への高いガ
ス溶解を確実にすることができる。溶解し及び分散した
ガスを含有する液体流を全体に水平の流路の中に通過さ
せることを、所望の溶解ガス濃度レベルを流路の終りに
おいて達成するような、流路の直径及び長さ及び該流体
の流量によって求める通りの滞留時間の間続ける。水平
ループ流路は、所望のガス濃度レベルを含有する液体流
を排出して該容器に戻って終るのが便宜であることを認
めるものと思う。

当業者ならば、本明細書中に記載する通りの方法の細部
において、特許請求の範囲に記載する発明の範囲から逸
脱しないで種々の変更及び変更態様をなし得ることを認
めるものと思う０例えば、様々の液体流量を採用するこ
とができるが、下方向流路の液体流量を液体内の気泡の
呼称上昇速度よりわずかたけ高く保つことが望ましい場
合がしばしばある。このようにして、該下方向流路の長
さを、所定の滞留時間について望ましいことに短く保つ
ことができる。加えて、上方向の追加の流路の長さ及び
直径及び液体流の上方向流量は、該上方向の追加の流路
の上方端におけるガス濃度が流路の上方端の支配的な温
度及び圧力における液体中のガスの飽和濃度を越えない
ようにすることが通常望ましい。この条件下で、プロセ
スの酸素或はその他のガスの利用率を最少にし及び流路
の長さを有利には最小にする。

上述した通りに、液体流を下方向流路において暴露させ
るガス分散条件は流れ制限手段を該流路内に位置させて
成ることができる。当業者ならば、該流れ制限手段はオ
リフィス、該流路のベンチュリセクション、多孔邪魔板
或は当分針で知られた乱流或は該下方向流路に通過させ
る間の気泡の液体流中への均一な分散を確実にするよう
な同様の状態を作る任意の他のかかる機械的形状或は同
等の手段にし得ることを認めるものと思う。また、この
ような流れ制限手段を望ましくは該下方向流路の長さに
沿って便宜な間隔で並べて、微細な気泡の均一な分散及
び高いガス溶解な流路の長さ全体にわたって保つことを
確実にすることを認めるものと思う。

流れ制限手段を下方向流路に加入することの代りとして
、液体流を暴露させるガス分散状態は液体流を流路に速
度少くとも約８フイート／秒（２，４ｍ　７秒）で、好
ましくは速度少なくとも約】０フィート／秒（３，０ｍ
　７秒）で通過させて乱流状態を作らせて成ることがで
きる。このような乱流状態は、同様に、液体流中の気泡
を均一に分散させ、有利には微細な気泡として分散させ
てガス溶解を高めることを確実にする。このような乱流
状態を保つための液体流の速度は、任意の所定のガス溶
解運転に関する全体の条件に応じて上述した速度より大
きい任意の適当な速度にし得ることを認めるものと思う
。速度が大きい条件では、通常、必要とする流路の長さ
及び／又は直径を速度の小さい運転に比べて認め得る程
に大きくさせることは理解されるものと思う。

下方向流路及び上方向の追加の流路の両方を採用する実
施態様では、下方向流路の下方端における溶解ガス濃度
は、ガス分散条件を上方向の追加の流路において採用す
る必要がないものであるが、かかるガス分散条件を該上
方向追加流路において、並びに下方向流路において採用
するのが普通になるものと思う。上方向の追加の流路に
おいて採用するガス分散条件は、下方向流路に関して上
で検討した通りの流れ制限状態か或は乱流状態のいずれ
かにすることができる。全流路の別々の部分において同
一か或は異なるいずれかのガス分散条件を採用すること
は発明の範囲内である。

つの望ましい実施態様では、例えば、流れ制限を下方向
流路及び上方向の追加の流路に便宜に開けた間隔で、例
えば３０〜４０フイート（９〜１２ｍ）の間隔で位置さ
せることができる。この実施態様では、全流路の別々の
部分における流速及び下方向及び上方向の追加の流路の
寸法、すなわち流路の長さ及び直径或は横断面積を望ま
しいことに小さく保つことができる。更に、上方向の追
加の流路における液体速度は下方向流路における液体速
度と同じにする或は異ならせることができる。下方向流
路が坑井内に位置させた内部導管内である好ましい実施
態様では、該内部導管と外側ケーシングとの間の環状空
間の横断面積は、該内部導管の横断面積と同じにするか
、或はそれより大きく或は小さくのいずれかにすること
ができる。

以上より、発明は、ガスの液体流への溶解度及び溶解速
度を有意に増大させるような液体の圧力類を用いること
と、液体流速、気−液接触装置の直径或は横断面積及び
長さ、分散したガスを含有する液体流の接触装置におけ
る滞留時間及びガス分散手段とを組合せてプロセスにお
いて回収する液体流中の溶解ガス濃度の所望のレベルを
得ることがわかるものと思う０発明の実施においてポン
プエネルギー費の相当の節約を達成し、発明の利点は、
特に坑井内に位置させた垂直のパイプライン接触装置を
用いて増進される。

ガスの液への、例えば酸素の水への溶解速度は、所望の
溶解についての推進力に及び特定のガス溶解運転におけ
る気泡の特定の界面面積に比例する。溶解についての推
進力は（Ｃｓ−Ｃ）なる用語によって定義され、ここで
、Ｃｓは液体の温度及び圧力におけるガス溶解度或はガ
ス飽和であり、Ｃは流路の任意の所定点における溶解し
たガス濃度である。ガス溶解度は液体が下方向に通るに
つれて増大し及び下方向流路の下方端で最大になるので
、ガス飽和と該流路を通って落ちる液体の溶解したガス
濃度との間の差は、該下方向流路において全体に増大す
る溶解速度を確立することがわかるものと思う、他方、
上方向の追加の流路では、液体を上方向の追加の流路に
上方向に通す際に、静水圧類が減少するにつれて液体の
ガス溶解度が低下される。その結果、ガス飽和と該上方
向の追加の流路を通過する液体の溶解したガス濃度との
間の差は、該上方向の追加の流路における全体に減少す
る溶解速度を確立する。

ガスの液体への溶解速度はまた気泡の特定の界面面積に
比例する。これより、表面積の大きい非常に微細な気泡
を形成し及び表面積が比較的小さい寸法の大きい気泡の
生長を排除することをもたらす上述したガス分散条件は
、気泡の界面面積がガスの液体への所望の溶解速度に寄
与するのを確実にする。実際の系において気泡の実際の
寸法を測定することが困難なことから、界面面積を所定
の気−液系の物質移動特性の尺度としての物質移動係数
と結合するのが簡便である。この結合した係数は実際上
かなり容易に求めることができる。

その値は、実質的に各々の特定の系のガス分散特性及び
ガスの使用量に応じて変わり得ることを認めるものと思
う、バイブライン接触装置では、フリーガスの量は、ガ
スが液体に溶解していくことにより、入口から排出端に
向かって減少する。従って、測定した物質移動特性は特
定の系のデザインについての平均から成る。それから求
めた溶解容量は良好な近似と考えるべきであり、必ずし
も正確ではない、このため、１０〜２０％のオーバデザ
イン係数を採用するのが望ましい。所望の溶解ガス濃度
を達成するのに要する滞留時間は（Ｃｓ−Ｃｏ）及び（
Ｃｓ−Ｃｆ）なる量（ここで、ＣＯは接触装置に入る液
体流のガス濃度であり、Ｃｆは該接触装置を出る該液体
の濃度であり、Ｃｓは上述した通りである）に関係し及
び上述した気−液表面積及び物質移動特性に関係する０
発明の実施において、Ｃｓを下方向流路の下方端におい
て、下方向流路の上端におけるＣｓ値よりも増大され、
それで滞留時間を短くして、液体流における所望の溶解
ガス濃度を達成し及びプロセスのエネルギー所要量を低
減させる。

発明の実施の具体例では、養魚場で利用可能な水を酸素
化することが望ましく、この目的で水の主流を養魚池か
ら抜き出す、サイドストリーム、すなわち主流の約１０
％を１６″　（４０ｃｍ）の坑井ケーシング内に位置さ
せた１２”　（３０ｃｍ）の中央導管に注入する。井戸
は深さ約１８０フイート（５５ｍ）を有する。水中の酸
素の初期濃度はおよそゼロであり、酸素ガスを水の該サ
イドストリームに周囲温度条件下、初期圧的３０ｐｓ　
ｉ　ａ　（１，４ｋｇ／ｃｍ”　Ａ）で注入する。初期
条件における酸素の溶解度、すなわち酸素飽和濃度は約
８０ｐｐｍである。該初期の、比較的低い圧力で注入し
た酸素は液中で酸素気泡の分散体を形成する。該サイド
ストリームにおける酸素気泡を含有する水を中央導管の
中に下方向に通すにつれて、液体にかかる圧力は重力に
よって増加し、それで水における酸素溶解度及び酸素気
泡の溶解速度を増大させる。液体の流速は中央内部導管
中及び該導管と外側ケーシングとの間の環状空間中、約
２．５フィート／秒（０，７６ｍ／秒）である、オリフ
ィス板をグランドレベルに及び井戸の深さ約６０フイー
）（１８ｍ）及び約１２０フイート（３７ｍ）の該内部
導管内に位置させて所望のガス分散状態を生じる。この
例では、環状空間における上方向流路内に、かかる流れ
制限手段を位置させない、該上方向流路は内部導管の横
断面積にほぼ等しい横断面積を有する。下方向流路の底
部における圧力は１２０ｐｓｉａ（８，４ｋｇ／ｃｍ”
　Ａ）であり、この点における酸素ガス飽和レベルは３
２０ｐｐｍである。該環状空間内の上方向の追加の流路
の排出端で回収する処理した水は溶解酸素濃度５０ｐｐ
ｍを有し、該水の圧力は約２４ｐｓ　ｉ　ａ　（１，７
ｋｇ／ａｍ”　Ａ）であり、支配的な圧力及び周囲温度
条件におけるガス溶解度は８０ｐｐｍに近い、このよう
な望ましい酸素溶解度を達成するのに要するボンピング
エネルギー所要量は、代表的な水平の表面サイドストリ
ームプロセスにおいてかかる酸素溶解を達成する際に要
する該エネルギー所要量の約２５％にまで認め得る程に
低減されることがわかる。

発明の有利なダウンホール酸素溶解装置の実施態様に関
して上述した通りの酸素の水への溶解は、ガスを液体に
溶解する発明の改良された方法の具体的実施態様として
認められるものと思う。

当業者ならば、発明の方法を広範囲の他の商業上望まし
いガス溶解運転用に採用し得ることを認めるものと思う
、酸素を廃棄流或はそれのサイドストリームに溶解する
こと、或は塩素或は二酸化炭素を水或はその他の液体に
溶解することは、発明の有用な応用の他の具体例である
。

当分野における極めて有意の利点を挙げると、ガス溶解
運転を有利な程に低いボンピングエネルギー所要量及び
総括加工効率で実施することを可能にすることである。

こうして、発明は広範囲の望ましいガス溶解運転を実際
の商業用途において実施することの技術的及び経済的実
施可能性を高める。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）溶解させるガスを液体流に比較的低い初期圧
   力で注入して液中の気泡の分散を形成し、（ｂ）気泡を
   含有する該液体流を全体的に下方向の流路に通し、それ
   で該液にかかる圧力を増大し、それでガスの液体への溶
   解度及び溶解速度を増大させ、 （ｃ）液体流を該下方向流路に通過させる間に該液体流
   中の気泡の均一な分散及び高いガス溶解を確実にするガ
   ス分散条件に該液体流を暴露させ、 （ｄ）溶解し及び分散したガスを含有する該液体流を該
   下方向流路に、該下方向流路の直径及び長さ及び該流れ
   の流量により求める通りの、該下方向流路の終りにおい
   て有利な溶解ガス濃度レベルを得るような滞留時間の間
   通すことを続け、（ｅ）溶解ガス及び全ての残留分散気
   泡を、回収する点で支配的な温度及び圧力において所望
   の溶解ガス濃度レベルで回収することを含み、回収した
   液体流の該ガス濃度は該下方向流路の初めの溶解ガス濃
   度レベルより大きく、それで所望のガス溶解を望ましい
   程に小さいポンプエネルギー所要量及び高い総括プロセ
   ス効率で達成することができるガスを液体に溶解する改
   良された方法。 ２、溶解したガスを含有する前記液体流を本質的に下方
   向流路の下方端における回収点で回収する特許請求の範
   囲第１項記載の方法。 ３、溶解したガス及び全ての残留気泡を含有する前記液
   体流を前記下方向流路の下方端から全体に上方向の追加
   流路に回収点まで通し、該上方向の追加の流路の直径及
   び長さ及び該液体流の流量によって求める通りの該液体
   の該上方向追加流路における滞留時間は、該上方向追加
   流路からの回収点における液体流が回収の点で支配的な
   温度及び圧力において記述した溶解ガス濃度を有するも
   のである特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４、前記下方向流路が外側ケーシングによって囲まれた
   内部導管を通り、溶解したガス及び全ての残留気泡を含
   有する液体流が該内部導管と該外側ケーシングとの間の
   環状空間を上方向に通る特許請求の範囲第３項記載の方
   法。 ５、前記下方向流路及び前記上方向の追加の流路が、入
   口及び排出端部を上方の高さに、該流路の中間部分を下
   方の高さに有する導管ループを含む特許請求の範囲第３
   項記載の方法。 ６、前記内側導管及び外側ケーシングを坑井内に位置さ
   せ、前記ガスを液体にグラウンドレベルで注入して坑井
   の該内側導管の中に通す特許請求の範囲第４項記載の方
   法。 ７、前記内側導管及び外側導管を本質的にグラウンドよ
   り上に位置させる特許請求の範囲第４項記載の方法。 ８、前記下方向流路内の液体流量を該液体内の気泡の呼
   称上昇速度よりわずかにのみ大きく保ち、それで該下方
   向流路の長さを望ましくは所定の滞留時間について短く
   することができる特許請求の範囲第１項記載の方法。 ９、前記上方向の追加の流路の長さ及び直径及び前記液
   体流の上方向流量は、該上方向の追加の流路の上方端に
   おける溶解ガス濃度が流路の該上方端の支配的な温度及
   び圧力における液体中のガスの飽和濃度を越えないもの
   である特許請求の範囲第３項記載の方法。 １０、液体流を下方向流路において暴露させる前記ガス
   分散条件が流れ制限手段を該流路内に位置させて成る特
   許請求の範囲第１項記載の方法。 １１、液体流を下方向流路において暴露させる前記ガス
   分散条件が、液体流を該下方向流路に速度少くとも８フ
   ィート／秒（２．４ｍ／秒）で通過させて乱流状態を作
   らせて成る特許請求の範囲第１項記載の方法。 １２、前記液体速度が少くとも１０フィート／秒（３．
   ０ｍ／秒）である特許請求の範囲第１１項記載の方法。 １３、前記流れ制限手段を前記下方向流路の長さに沿っ
   て一定の間隔を置いて位置させる特許請求の範囲第１０
   項記載の方法。 １４、液体流を下方向流路において暴露させる前記ガス
   分散条件が該下方向流路内に流れ制限手段を位置させて
   成る特許請求の範囲第３項記載の方法。 １５、液体流を下方向流路において暴露させる前記ガス
   分散条件が、液体流を該下方向流路に速度少なくとも８
   フィート／秒（２．４ｍ／秒）で通過させて乱流状態を
   作らせて成る特許請求の範囲第３項記載の方法。 １６、液体流を前記上方向の追加の流路に通過させる間
   にガス分散条件に暴露させることを含む特許請求の範囲
   第３項記載の方法。 １７、液体流を前記上方向の追加の流路の中に通過させ
   る間に暴露させるガス分散条件が流れ制限手段を該流路
   内に位置させて成る特許請求の範囲第１６項記載の方法
   。 １８、液体流を前記上方向の追加の流路において暴露さ
   せる前記ガス分散条件が、液体流を該上方向の追加の流
   路に速度少くとも８フィート／秒（２．４ｍ／秒）で通
   過させて乱流状態を作らせて成る特許請求の範囲第１６
   項記載の方法。 １９、前記液体流速が少くとも１０フィート／秒（３．
   ０ｍ／秒）である特許請求の範囲第１８項記載の方法。 ２０、前記流れ制限手段を前記上方向の追加の流路の長
   さに沿って間隔を置いて並べる特許請求の範囲第１７項
   記載の方法。 ２１、液体流を下方向流路において暴露させる前記ガス
   分散条件が該下方向流路内に流れ制限手段を位置させて
   成る特許請求の範囲第１６項記載の方法。 ２２、液体流を下方向流路において暴露させる前記ガス
   分散条件が、液体流を該下方向流路に速度少なくとも８
   フィート／秒（２．４ｍ／秒）で通過させて乱流状態を
   作らせて成る特許請求の範囲第１６項記載の方法。 ２３、前記液体流速が少なくとも１０フィート／秒（３
   ．０ｍ／秒）である特許請求の範囲第２２項記載の方法
   。 ２４、液体流を前記上方向の追加の流路において暴露さ
   せる前記ガス分散条件が、液体流を該上方向の追加の流
   路に速度少なくとも８フィート／秒（２．４ｍ／秒）で
   通過させて乱流状態を作らせて成る特許請求の範囲第２
   １項記載の方法。 ２５、前記液体流速が少くとも１０フィート／秒（３．
   ０ｍ／秒）である特許請求の範囲第２３項記載の方法。 ２６、前記液体流を上方向の追加の流路において暴露さ
   せる前記ガス分散条件が流れ制限手段を該流路内に位置
   させて成る特許請求の範囲第２１項記載の方法。 ２７、前記下方向流路及び前記上方向の追加の流路に位
   置させた前記流れ制限手段を前記流路に間を開けた間隔
   で位置させる特許請求の範囲第２６項記載の方法。 ２８、前記ガスが酸素を含み及び前記液体が水を含む特
   許請求の範囲第１項記載の方法。 ２９、前記液体流が、ガスを溶解させるつもりの液体の
   本体のサイドストリームである特許請求の範囲第１項記
   載の方法。 ３０、前記ガスが酸素を含み及び液体の前記本体が、追
   加の酸素リッチな液を要求する廃棄流を含む特許請求の
   範囲第２９項記載の方法。 ３１、前記ガスが酸素を含み及び液体の前記本体が、追
   加の酸素の供給を要求する養魚池を含む特許請求の範囲
   第２９項記載の方法。 ３２、前記ガスが塩素を含み及び前記液体が水を含む特
   許請求の範囲第１項記載の方法。 ３３、前記ガスが二酸化炭素を含み及び前記液体が水を
   含む特許請求の範囲第１項記載の方法。