JPH02111914A - Scanning type optical device - Google Patents
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- JPH02111914A JPH02111914A JP63265811A JP26581188A JPH02111914A JP H02111914 A JPH02111914 A JP H02111914A JP 63265811 A JP63265811 A JP 63265811A JP 26581188 A JP26581188 A JP 26581188A JP H02111914 A JPH02111914 A JP H02111914A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、レーザー光により精密なパターンを描画す
るレーザー露光装置等に使用される走査式光学装置に関
し、より詳細には、ビームを走査させるポリゴンミラー
等の偏向器の面倒れ補正機能を有する走査式光学装置に
関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a scanning optical device used in a laser exposure device etc. that draws a precise pattern with a laser beam, and more specifically, relates to a scanning optical device that scans a beam. The present invention relates to a scanning optical device having a surface tilt correction function of a deflector such as a polygon mirror.
[従来の技術及び発明が解決しようとする課題]理想的
なポリゴンミラーは、反射面が回転軸と平行であり、何
れの反射面で反射した際にも、スポットが同一ラインを
走査する。しかし、実際には加工誤差等の問題から反射
面に回転軸に対する傾き、すなわち面倒れ誤差が発生し
、反射面毎に走査ラインがスポットの走査方向(主走査
方向)に対して垂直な方向(副走査方向)にずれること
となる。[Prior Art and Problems to be Solved by the Invention] In an ideal polygon mirror, the reflecting surface is parallel to the rotation axis, and the spot scans the same line when reflected from any reflecting surface. However, in reality, due to problems such as processing errors, the reflective surface is tilted with respect to the rotation axis, that is, surface inclination error occurs, and the scanning line for each reflective surface is aligned in the direction perpendicular to the spot scanning direction (main scanning direction). (sub-scanning direction).
この面倒れ誤差をポリゴンミラーの加工精度の向上によ
って除去することは、技術的にも困難であり、コストア
ップを誘引する。It is technically difficult to eliminate this surface inclination error by improving the processing accuracy of the polygon mirror, and this leads to an increase in costs.
そのため、この面倒れの影響を光学的な補正系を設けて
除去するための手段が従来から提案されている。For this reason, conventional methods have been proposed to remove the influence of this surface tilt by providing an optical correction system.
特開昭59−15216号公報には、ポリゴンミラーの
反射面上に主走査方向の線像を形成するよう光束を収束
させることにより反射面の而倒れによる影響を低減させ
る方法が開示されている。JP-A-59-15216 discloses a method for reducing the influence of the fall of the reflective surface by converging a light beam so as to form a line image in the main scanning direction on the reflective surface of a polygon mirror. .
しかしながら、この方法によっても完全な補正は難しい
。また、この方法による場合には線像を形成するために
主走査面内と副走査面内とで異なるパワーを有するアナ
モフィックなレンズ系が必要となるため、レンズ系の製
造自体が球面レンズと比較して困難を伴い、特に高精度
な描画を要求される装置に適したアナモフィックレンズ
系は製造が困難であった。However, even with this method, complete correction is difficult. In addition, when using this method, an anamorphic lens system with different powers in the main scanning plane and sub-scanning plane is required to form a line image, so the manufacturing of the lens system itself is compared to a spherical lens. In particular, it has been difficult to manufacture anamorphic lens systems suitable for devices that require highly accurate drawing.
レンズ系として球面レンズを利用しつつ而倒れを補正す
る場合には、例えば特開昭56−107212号公報に
示したように光源と偏向器との間にAO変調器(超音波
光学変調器)を設けて副走査方向への入射角度を微小偏
向させる構成がある。When correcting tilt while using a spherical lens as a lens system, an AO modulator (ultrasonic optical modulator) is installed between the light source and the deflector, as shown in Japanese Patent Laid-Open No. 56-107212, for example. There is a configuration in which the angle of incidence in the sub-scanning direction is slightly deflected by providing a.
なお、この公報には開示されていないが、実際には描画
面上でスポットを絞り込むために走査レンズに入射する
光束径を太くする必要からビームエクスパンダ−系が設
けられる。Although not disclosed in this publication, a beam expander system is actually provided because it is necessary to increase the diameter of the beam incident on the scanning lens in order to narrow down the spot on the drawing surface.
また、AO索子はその応答周波数が素子上での光束径に
反比例するため、特に変調機能を持たせるためには光束
径の小さい位置に配置される必要があり、前記のビーム
エクスパンダ−系より光源側で平行光束中に設けられる
こととなる。In addition, since the response frequency of the AO probe is inversely proportional to the diameter of the beam on the element, in order to have a modulation function, it is necessary to place it at a position where the diameter of the beam is small. It will be provided in a parallel light beam closer to the light source side.
第5図(A)(B)は、AO変調器をビームエクスパン
ダ−系より光源側(図中左側)の平行光束中に設けた例
を示すものであり、第5図(A)がガリレオ型、(B)
がケブラー型のビームエクスパンダ−を用いた例を示し
ている。なお、図中の実線はAO変調器による偏向前の
光路、破線は偏向後の光路を示している。Figures 5(A) and 5(B) show an example in which an AO modulator is installed in a parallel beam of light on the light source side (left side in the figure) from the beam expander system. Type, (B)
shows an example using a Kevlar type beam expander. Note that the solid line in the figure shows the optical path before deflection by the AO modulator, and the broken line shows the optical path after deflection.
図中の第ルンズL1の焦I爪距離をfl、第2レンズL
2の焦点距離をfaとすると、ビームエクスパンダ−系
の倍率Hは、
L−f2/f+
となり、而倒れ補正のための光束の傾き角度をθPとす
ると、AO索子の偏向角θ、は■式の通りとなる。The focus distance of the lens L1 in the figure is fl, and the second lens L
When the focal length of 2 is fa, the magnification H of the beam expander system is L-f2/f+, and when the tilt angle of the light beam for tilt correction is θP, the deflection angle θ of the AO probe is ■The formula is as follows.
θ、ニドθP ・・・■
次に、AO素子から第ルンズL1までの距創を9、第2
レンズL2からポリゴンミラーまでの距離をdとすると
、光束のずれfiSは0式で表される。θ, nid θP...■ Next, the distance wound from the AO element to the second lunula L1 is
When the distance from the lens L2 to the polygon mirror is d, the deviation fiS of the light beam is expressed by the following equation.
S:(M2111+M(f++f2)+d)・θP ・
・・■例えば、f+:lo、fa:200.M=−20
,9+=100で1φのビームを20φに拡大するビー
ムエクスパンダ−系を想定し、ポリゴンミラーの反射面
の面倒れをlO“とすると、光束の補正角θPは20“
となるため、■式からAO素子の偏向角は、θ、=−0
,11”となる。S: (M2111+M(f++f2)+d)・θP・
・・■For example, f+:lo, fa:200. M=-20
, 9+=100 and a beam expander system that expands a 1φ beam to 20φ, and if the surface inclination of the reflecting surface of the polygon mirror is lO", the correction angle θP of the luminous flux is 20".
Therefore, from formula (■), the deflection angle of the AO element is θ, = -0
, 11".
また、ポリゴンミラーの反射面上での光束のずれ虫は、
d二100として0式よりS=3.5となる。In addition, the deviation of the light beam on the reflective surface of the polygon mirror is
Assuming that d2 is 100, S=3.5 from the formula 0.
従って、面倒れによる反射光束の角度ずれは補正できる
が、この補正に伴って反射光束に平行なシフトが発生す
る。そして、このシフトにより描画面上に形成される走
査ラインが理想的な位置から微小にずれることとなり、
精度の高い描画を行う際にはこれが問題となる。Therefore, although the angular shift of the reflected light beam due to the surface tilt can be corrected, this correction causes a parallel shift in the reflected light beam. This shift causes the scanning line formed on the drawing surface to slightly deviate from its ideal position.
This becomes a problem when performing highly accurate drawing.
また、θ、=−0,11°という微小角度を得るために
AO$子の制御が難しいという問題もある。There is also the problem that it is difficult to control AO$$ in order to obtain a minute angle of θ=−0.11°.
第6図は、ビームエクスパンダ−中の集束光内にAO索
子を設けた例を示している。FIG. 6 shows an example in which an AO probe is provided within the focused light in the beam expander.
図中、焦点距AItf+の第2レンズL2の焦点位置が
らAOi子までの距Affを9、 第2レンズの焦点距
離をfa、ビームエクスパンダ−系の倍率をH1而倒れ
補正のための光束の傾き角度をθp、 AO素子の偏
向角をθ、とすると、以下の関係が成り立つ。In the figure, the distance Aff from the focal position of the second lens L2 with focal length AItf+ to the AOi element is 9, the focal length of the second lens is fa, the magnification of the beam expander system is H1, and the light flux for tilt correction is Assuming that the tilt angle is θp and the deflection angle of the AO element is θ, the following relationship holds true.
θsユニーf2/11 )・θP
S”−h・(1+ −)・θp+d・θPここで、例
えば、f+”100.fa:2000.Hニー20.
Q =20でlφのビームを20φに拡大するビームエ
クスパンダ−系を想定し、ポリゴンミラーの反射面の面
倒れをlO″とすると、これを補正するためのAO素子
の偏向角はθ、=−0.56’、5=−19,6となり
、ポリゴンミラー上での光束のずれ量が非常に大きくな
る。θs unit f2/11)・θP S”−h・(1+ −)・θp+d・θP Here, for example, f+”100. fa:2000. H knee 20.
Assuming a beam expander system that expands a beam of lφ to 20φ with Q = 20, and assuming that the surface tilt of the reflective surface of the polygon mirror is lO'', the deflection angle of the AO element to correct this is θ, = -0.56',5=-19,6, and the amount of deviation of the light beam on the polygon mirror becomes very large.
従って、描画の精度を維持するためにはより而倒れが小
さい高精度のポリゴンミラーが必要となる。Therefore, in order to maintain drawing accuracy, a high-precision polygon mirror with less tilting is required.
更に、特開昭62−568918号公報には、AO素子
を2つ設け、一方のAO索子で面倒れの補正を行い、他
方のAO索子で面倒れ補正に伴う光束のシフトを修正す
るようにした構成が開示されている。しかし、この構成
では、2つのAO素子を設けるために光学系の設計の自
由度が小さくなると共に、電気的な制御も複雑となる。Furthermore, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-568918, two AO elements are provided, one AO element corrects the surface inclination, and the other AO element corrects the shift of the luminous flux due to the surface inclination correction. A configuration is disclosed. However, in this configuration, since two AO elements are provided, the degree of freedom in designing the optical system is reduced, and electrical control is also complicated.
[発明の目的]
この発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、
面倒れによる反射光束の角度ずれを補正する際に発生す
る反射光束のシフトを減少させてより精度の高い描画を
可能とする走査式光学装置の提供を目的とする。[Object of the invention] This invention was made in view of the above problems, and
It is an object of the present invention to provide a scanning optical device that enables more accurate drawing by reducing the shift of the reflected light beam that occurs when correcting the angular deviation of the reflected light beam due to surface tilt.
[課題を解決するための手段]
この発明は、上記目的を達成させるため、光源から射出
される光束を副走否方向に微小偏向する補正用偏向素子
と、補正用偏向素子を出射する光束を主走査方向に偏向
させる走査用偏向器とを光学的にほぼ共役な状態とした
ことを特徴とする。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention includes a correction deflection element that minutely deflects the light beam emitted from the light source in the sub-travel direction, and a correction deflection element that slightly deflects the light beam emitted from the correction deflection element. It is characterized in that the scanning deflector for deflecting in the main scanning direction is optically substantially conjugate.
光学的に共役であるとは、必ずしも結像関係にあること
を意味しないが、主光線のみを考えると光束の角度ずれ
があっても位置ずれが生じないことが理解できる。Being optically conjugate does not necessarily mean that there is an imaging relationship, but if only the principal ray is considered, it can be understood that no positional shift occurs even if there is an angular shift in the light beam.
光学的に共役であるとは、AO素子とポリゴンミラーの
反射面との間の光学系の光学特性マトリクスRpが、
で表わされることを意味する。但し、mは、この光学系
の倍率、fは焦点距離である。Being optically conjugate means that the optical characteristic matrix Rp of the optical system between the AO element and the reflective surface of the polygon mirror is expressed as follows. However, m is the magnification of this optical system, and f is the focal length.
ここで光学特性マトリクスは、近軸光線の伝達関数であ
り、下記のように入力平面における高さhlと角度α1
とを出力平面でh2、α2に変換することを意味する。Here, the optical property matrix is the transfer function of the paraxial ray, and the height hl and angle α1 in the input plane are as follows:
This means converting into h2 and α2 on the output plane.
また、ビームエクスバンダー系は、全系として倍率Hの
アフォーカル系となるので、
なるマトリクスを有する。ここでKは光源から第ルンズ
L1までの距離9°に対応する定数である。Furthermore, since the beam expander system is an afocal system with a magnification H as a whole, it has a matrix as follows. Here, K is a constant corresponding to a distance of 9° from the light source to the second lens L1.
第5図(A)(B)に示すビームエクスパンダ−系全系
の光学特性マトリクスは、
となる解があり、共役となり得る。The optical characteristic matrix of the entire beam expander system shown in FIGS. 5(A) and 5(B) has a solution as follows, and can be conjugate.
また、面倒れ補正のための光束の傾き角度θPとAO索
子の偏向角θ、どの関係は、
で表わされる。Further, the relationship between the inclination angle θP of the light beam for surface tilt correction and the deflection angle θ of the AO strand is expressed as follows.
また、同図におけるAOi子とポリゴンミラーとの関係
は、AO素子がビームエクスパンダ−系の前方に位置す
るため、倍率Mニーf2μ!として、なるマトリクスで
表わされ、AO素子とポリゴンミラーとが共役となる条
件は、
f++h+Mll +(d/M)=0となる。この系
では11 )0.d>Oがi可提となるため、第5図(
A)のfl (Oの場合には共役とはなり得ない。Furthermore, the relationship between the AO element and the polygon mirror in the figure is such that the AO element is located in front of the beam expander system, so the magnification M knee f2μ! The condition for the AO element and the polygon mirror to be conjugated is f++h+Mll+(d/M)=0. In this system, 11)0. Since d>O is i-possible, Fig. 5 (
A) fl (O) cannot be conjugated.
第5図(B)のfl)0の場合には、 11 (−(1/M)・(f1+h) を満たすときにのみ、 d=−M” 9−M・([1+h) より、θP:(1/M)・θ、で与えられる。In the case of fl)0 in FIG. 5(B), 11 (-(1/M)・(f1+h) Only when the d=-M” 9-M・([1+h) Therefore, θP is given by (1/M)·θ.
第5図(B)に示した系においては、上述したように9
に関する条件が入るため、f2を大きくとらないと共役
条件を確保することができない。In the system shown in FIG. 5(B), as described above, 9
Therefore, the conjugate condition cannot be ensured unless f2 is set large.
次に第6図のビームエクスパンダ−系全系としての光学
特性マトリクスは、
であり、傾き角度θPと偏向角θ、との関係は、θρエ
ニー黛/f2)・θ。Next, the optical characteristic matrix for the entire beam expander system in FIG. 6 is as follows, and the relationship between the inclination angle θP and the deflection angle θ is θρanyyyuzumi/f2)·θ.
で与えられる。このようにビームエクスパンダ−系の内
部にAOi子を設けた場合には、AO素子とポリゴンミ
ラーとの関係が、
なるマトリクスで表現され、共役条件は、g +f2−
(II d/f2)=0
.’、 d=f、+(f、27Q )を満たす場合で
あり、このとき
1−(d/f2);−f2/II =lllなる関係が
成り立つ、なお、mはAO変調器とポリゴンミラーとの
間の倍率である。is given by When an AO element is provided inside the beam expander system in this way, the relationship between the AO element and the polygon mirror is expressed by the following matrix, and the conjugate condition is g + f2 -
(II d/f2)=0. ', d=f, + (f, 27Q), and in this case, the relationship 1-(d/f2);-f2/II =lll holds true, where m is the relationship between the AO modulator and the polygon mirror. The magnification is between .
この系では、共役条件を満たすためにはdを非常に大き
くとる必要がある。In this system, d must be very large in order to satisfy the conjugation condition.
ところで、第5図(B)及び第6図に示した系において
は共役条件を満たすために9及びdの値に制限を受ける
という問題があるが、この問題は、第7図あるいは第8
図に示したようにレーザービームの集光点にリレーレン
ズLRを配置することによって一応解決することができ
る。By the way, in the systems shown in FIG. 5(B) and FIG. 6, there is a problem that the values of 9 and d are limited in order to satisfy the conjugate condition.
As shown in the figure, the problem can be solved by arranging a relay lens LR at the focal point of the laser beam.
第7図は、第5図(B)の構成に焦点路iff、のリレ
ーレンズLRを設けた例を示しており、AO素子とポリ
ゴンミラーとの関係は、
f++f2+Mff +(d/M)−(f+fp/f
o);0となる。 −f+ h/f−なる項の付加に
より、9に関する条件がなくなる。FIG. 7 shows an example in which a relay lens LR of focal path if is provided in the configuration of FIG. f+fp/f
o); becomes 0. By adding the term -f+h/f-, the condition regarding 9 disappears.
また、リレーレンズLRはビームエクスパンダ−系とし
ての機能には作用せず、その全系の光学特性マトリクス
は、
で表わされ、傾き角度θPと偏向角θ、どの関係は、θ
P;θ、/M で与えられる。In addition, the relay lens LR does not function as a beam expander system, and the optical characteristic matrix of the entire system is expressed as follows.What is the relationship between the tilt angle θP and the deflection angle θ?
P; θ, given by /M.
次に、第8図は、第6図の光学系にリレーレンズLRを
設けた例であり、AO素子とポリゴンミラーとの関係は
、
で表わすことができる。Next, FIG. 8 shows an example in which a relay lens LR is provided in the optical system of FIG. 6, and the relationship between the AO element and the polygon mirror can be expressed as follows.
共役条件は、
となる、また、このときの共役条件は、で表わされ、設
計の自由度が増加する。また、全系のマトリクスは、
であり、傾き角度θPと偏向角θ、との関係は、θP=
−9・θ、/f2 で与えられる。The conjugate condition is as follows, and the conjugate condition at this time is expressed by , which increases the degree of freedom in design. In addition, the matrix of the entire system is as follows, and the relationship between the tilt angle θP and the deflection angle θ is θP=
−9・θ, given by /f2.
なお、第7図及び第8図のリレーレンズLRは、レンズ
表面のゴミ、傷による影つを考慮すると、実際にはレー
ザー光の集光点に配置されない方が好ましい、そこで、
第9図に示すようにリレーレンズの主点位置をずらした
場合には、上記不具合を避けると共に、設計の自由度を
向上させている。Note that it is preferable that the relay lens LR in FIGS. 7 and 8 not be placed at the convergence point of the laser beam, considering shadows caused by dust and scratches on the lens surface.
When the principal point position of the relay lens is shifted as shown in FIG. 9, the above-mentioned problems are avoided and the degree of freedom in design is improved.
ところで、ビームエクスパンダーの倍率を向上させるた
めには、第5図から第8図の光学系の後方に更にビーム
エクスパンダ−系を重ねて配置する場合がある。この場
合には後段のビームエクスパンダ−系の光学特性マトリ
クスをR1・・・RNとして、RP゛=RII−RN−
ビ・・・・R1・Rpにより全体としての光学特性マト
リクスRρ°を求め、これにより共役条件を求めればよ
い。Incidentally, in order to improve the magnification of the beam expander, a beam expander system may be further placed behind the optical system shown in FIGS. 5 to 8. In this case, the optical characteristic matrix of the beam expander system in the subsequent stage is R1...RN, and RP'=RII-RN-
Bi...The optical property matrix Rρ° as a whole is obtained from R1·Rp, and the conjugate condition is obtained from this.
ビームエクスパンダ−系を重ねる構成は、物理的には後
段のビームエクスパンダ−系によって形成されるポリゴ
ンミラーの反射面の共役点と、最初のビームエクスパン
ダ−系によって形成されるAO変調器の共役点とを一致
させることに等しい。The configuration in which the beam expander systems are stacked is physically based on the conjugate point of the reflective surface of the polygon mirror formed by the subsequent beam expander system and the AO modulator formed by the first beam expander system. It is equivalent to matching the conjugate point.
このような場合には、第5図〜第8図に示したような1
段のビームエクスパンダ−系によって共役関係を形成す
るより自由度が増え、上記のリレーレンズは必ずしも必
要ではなくなる。In such a case, 1 as shown in Figures 5 to 8
The degree of freedom is increased by the stage beam expander system compared to forming a conjugate relationship, and the above-mentioned relay lens is not necessarily required.
第10図は、ビームエクスパンダ−系を2段とした+R
成を示したものである。それぞれ焦点路tuft f+
、f2の第1、第2レンズL+、L2から成る第1のビ
ームエクスパンダ−系によって形成されるAO変調器の
共役点と第2レンズL2との距離をaとすると、AO変
調器とこの共役点との間の光学特性マトリクスは、で表
現され、共役条件から、
f++f2+?L19 +(a/MI):0aニ−M+
(f++fa+M+ 11 )が与えられる。Figure 10 shows +R with a two-stage beam expander system.
This shows the results. Focal path tuft f+
, f2, and the distance between the conjugate point of the AO modulator formed by the first beam expander system consisting of the first and second lenses L+ and L2 and the second lens L2 is a. The optical property matrix between the conjugate points is expressed as, and from the conjugate condition, f++f2+? L19 + (a/MI): 0a Knee-M+
(f++fa+M+ 11 ) is given.
一方、焦点孔^ぎfs、faの第3、第4レンズL3.
L4からなる第2のビームエクスパンダ−系によって形
成されるポリゴンミラーの共役点と第3レンズL!どの
距離をbとすると、この共役点とポリゴンミラーとの間
の光学特性マトリクスは、
で与えられる。On the other hand, the third and fourth lenses L3. with focal apertures fs and fa.
The conjugate point of the polygon mirror formed by the second beam expander system consisting of L4 and the third lens L! Assuming that the distance is b, the optical property matrix between this conjugate point and the polygon mirror is given by:
更に、第11図は、第8図の光学系の後方にビームエク
スパンダ−系を重ねた例を示している。Furthermore, FIG. 11 shows an example in which a beam expander system is superimposed on the rear of the optical system of FIG. 8.
第8図の光学系によって形成されるAO変調器の共役点
と第2レンズL2との距離をaとすると、^0変調器と
この共役点との間の光学特性マトリクスは、で表わされ
る。そして、共役条件から、fs+f4+Mab+(d
2/M2)=Ob=−(1/M2)・(fa+f4+(
d2/H2))がtjえられる。If the distance between the conjugate point of the AO modulator formed by the optical system of FIG. 8 and the second lens L2 is a, then the optical characteristic matrix between the ^0 modulator and this conjugate point is expressed as follows. Then, from the conjugate condition, fs+f4+Mab+(d
2/M2)=Ob=-(1/M2)・(fa+f4+(
d2/H2)) is calculated by tj.
ここで、f3り0であれば、M2〉0よりb(Oとなり
、ビームエクスパンダーの内部に共役点ができる。Here, if f3 is 0, then b(O) since M2>0, and a conjugate point is created inside the beam expander.
更に、第2レンズL2と第3レンズL3との間隔d1を
、dにa+bとすればAO変調器とポリゴンミラーとが
共役となり、これらの間のマトリクスは、で表現され、
共役条件から次の関係が成り立つ。Furthermore, if the distance d1 between the second lens L2 and the third lens L3 is set to d as a+b, the AO modulator and the polygon mirror become conjugate, and the matrix between them is expressed as,
The following relationship holds from the conjugate condition.
一方、焦点孔!!!ff f 3. f 4の第3、第
4レンズL3+L4からなる第2のビームエクスバンダ
ー系によって形成されるポリゴンミラーの共役点と第3
レンズL参との距離をbとすると、この共役点とポリゴ
ンミラーとの間の光学特性マトリクスは、
でkわされる。そして、共役条件から、f3土fa+M
2b+(da/H2)=Ob=−(1/M2 )・(f
s+f4+(d2/M2))がtjえられる。On the other hand, the focal hole! ! ! ff f 3. The conjugate point of the polygon mirror formed by the second beam expander system consisting of the third and fourth lenses L3+L4 of f4 and the third
Assuming that the distance to the lens L is b, the optical characteristic matrix between this conjugate point and the polygon mirror is divided by k. Then, from the conjugate condition, f3 sat fa+M
2b+(da/H2)=Ob=-(1/M2)・(f
s+f4+(d2/M2)) is obtained.
ここで、第2レンズL2と第3レンズL3との間隔d。Here, the distance d between the second lens L2 and the third lens L3.
を、dl =a+bとすればAO変調器とポリゴンミラ
ーとが共役となり、これらの閤のマトリクスは、Rp:
Rp2HRp+
M+;−b/f+として、
で表わされる。従って、第1、第2のビームエクスパン
ダ−系の全体の光学特性マトリクスは。If dl = a + b, the AO modulator and the polygon mirror become conjugate, and the matrix of these columns is Rp:
Rp2HRp+ M+; -b/f+, expressed as follows. Therefore, the overall optical characteristic matrix of the first and second beam expander systems is:
Rp:RP2°Rr+
であり、傾き角度θρと偏向角θ、どの関係は、θ、ニ
ーM2・θp−b/IIで与えられる。Rp: RP2°Rr+, and the relationship between the tilt angle θρ and the deflection angle θ is given by θ, knee M2·θp−b/II.
なお、M2は後段のビームエクスバンダー系の倍トであ
り、M2ニーfa/f3である。Note that M2 is a double beam expander system in the latter stage, and M2 knee fa/f3.
また、第1、第2レンズL + * L 2からなる第
1のビームエクスパンダーの全系の光学特性マトリクス
は、第1のビームエクスパンダ−系の倍率H1をで表わ
され、ビームエクスパンダ−全系の倍率はMI82とな
る。In addition, the optical characteristic matrix of the entire system of the first beam expander consisting of the first and second lenses L + * L 2 is expressed by the magnification H1 of the first beam expander system, and the beam expander -The magnification of the entire system is MI82.
なお、第5図〜第11図の説明では、薄肉レンズで光学
特性マトリクスを用いることにより近軸的な解析を行っ
たが、実際のレンズ系はそれぞれ複数の厚肉レンズから
構成され、収差による影響も受けるため、近軸的に解析
した位置からややずらして配置する場合がある。In addition, in the explanation of Figs. 5 to 11, paraxial analysis was performed by using an optical characteristic matrix with a thin lens, but the actual lens system is composed of multiple thick lenses, and the Because it is also affected by this, it may be placed slightly offset from the paraxially analyzed position.
[実施例]
以下、この発明の実施例を第1図〜第4図に基づいて説
明する。[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described based on FIGS. 1 to 4.
第1図は、実施例に係るフォトプロッターの光学系の配
置説明図であり、第2図及び第3図はこれの一部を光軸
に沿って展開した概略説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of the arrangement of an optical system of a photoplotter according to an embodiment, and FIGS. 2 and 3 are schematic explanatory diagrams of a part thereof developed along the optical axis.
このフォトプロッターは、光源としてのアルゴンレーザ
ー10から出射するレーザー光を3本に分割し、その内
の2本によって描画面上に2つのスポットを形成し、残
りの1本をスポットの正確な位置を検出するためのモニ
ター光として用いている。描画面上のスポットは、ポリ
ゴンミラーPMの回転によって隣接する走査ライン上を
主走査方向に所定間隔をおいて同時に走査する。This photoplotter splits the laser beam emitted from the argon laser 10 as a light source into three beams, two of which form two spots on the drawing surface, and the remaining one to accurately position the spot. It is used as a monitor light to detect. The spots on the drawing surface simultaneously scan adjacent scanning lines at predetermined intervals in the main scanning direction by rotation of the polygon mirror PM.
主走査方向の間隔を設けた理由は、隣接する走査ライン
の間隔が精密描画を行うためにスポット径より小さく設
定されており、間隔を設けないと2つのスポットが一部
オーバーラップして干渉により描画性能を不安定なもの
とする虞があるからである。The reason for providing the interval in the main scanning direction is that the interval between adjacent scanning lines is set smaller than the spot diameter in order to perform precision drawing, and if the interval is not provided, the two spots will partially overlap and cause interference. This is because there is a possibility that the drawing performance may become unstable.
なお、2つの光束を同一光路に合成するためには、2本
の光束の偏向方向を互いに直交させ、偏向ビームスプリ
ッタ−を用いて合成する構成が一般的であるが、上記の
ように1つの光源から発する光束を3つに分割し、再び
合成して同一の偏向器によって走査させるためには偏向
方向による調整のみでは実現できない。In order to combine two light beams into the same optical path, it is common to make the polarization directions of the two light beams orthogonal to each other and to combine them using a polarizing beam splitter. In order to divide the light beam emitted from the light source into three parts, combine them again, and scan them by the same deflector, it cannot be achieved by adjusting only the deflection direction.
そこで、この光学系においては、描画用の光束とモニタ
ー用光束とを偏向を利用して区別し、2本の描画用光束
とおしは同一のレンズに対して異なる方向から入射させ
ることによって同一光路上に合成している。このような
合成方法が許容させるのは、前述したように描画用のス
ポットを主走査方向にずらして形成する構成を採用して
いるからである。Therefore, in this optical system, the light beam for drawing and the light beam for monitoring are distinguished using deflection, and the two light beams for drawing and the monitor are incident on the same lens from different directions, so that they are on the same optical path. It is synthesized into This combination method is permissible because, as described above, the drawing spot is formed by shifting it in the main scanning direction.
次に、この装置の各部の構成を作用と共に説明する。Next, the configuration of each part of this device will be explained along with its operation.
アルゴンレーザーlOから発したレーザー光は、ピンホ
ール11を介して5%反1(のハーフミラ−12により
二分される。このハーフミラ−12で反射されたレーザ
ー光はモニタ用光束9自として利用される。The laser beam emitted from the argon laser 10 is split into two by a 5% half mirror 12 through a pinhole 11. The laser beam reflected by this half mirror 12 is used as a monitor light beam 9. .
一方、ハーフミラ−12を透過したレーザー光は第1の
1/2波長板13で偏光方向を90°回転され、バリア
プルフィルター14で光ffi調節されて50%反射、
50%透過の第1のビームスプリッタ−15で更に二分
される。On the other hand, the laser beam that has passed through the half mirror 12 has its polarization direction rotated by 90 degrees by the first 1/2 wavelength plate 13, and the light ffi is adjusted by the barrier pull filter 14 so that 50% of the laser beam is reflected.
The beam is further divided into two by a first beam splitter 15 with 50% transmission.
分割された2本の光束は、描4.Iii面上でM間する
2つのスポットを形成する描画用光束として用いられる
。The two divided beams are shown in Figure 4. It is used as a drawing light beam that forms two spots spaced apart by M on the III plane.
第1のビームスプリッタ−15を透過した第1描画用光
束g1は、レンズ16を介して第1描画用AO変調器1
7の位置に集光する。The first drawing light beam g1 transmitted through the first beam splitter 15 passes through the lens 16 to the first drawing AO modulator 1.
Focus the light on position 7.
このAO変調器17は、ブラッグ条件を満たす方向から
入射するレーザー光をトランスデユーサ−への超音波の
入力により回折させるもので、人力される超音波を0N
10FFすることにより、レーザー光を0次光と1次光
とに切り換えることができ、1次光を描画光束として利
用する。AO変調器17は、描画面に対するドツト単位
の露光情報である書き込み信号により制御される。This AO modulator 17 diffracts laser light incident from a direction that satisfies the Bragg condition by inputting ultrasonic waves to a transducer.
By performing 10FF, the laser beam can be switched to zero-order light and first-order light, and the first-order light is used as a drawing light beam. The AO modulator 17 is controlled by a write signal which is dot-by-dot exposure information for the drawing surface.
変調されたON光である1次光は、AO変調器17の後
方に設けられたレンズ18によって再び平行光束とされ
、ミラー19を介して4個のプリズムからなる第1の光
束方向調整装置40により所定角度偏向され、ミラー2
0により第ルンズ系50に入射する。The primary light, which is the modulated ON light, is made into a parallel light beam again by a lens 18 provided behind the AO modulator 17, and then passed through a mirror 19 to a first light beam direction adjusting device 40 consisting of four prisms. is deflected at a predetermined angle by mirror 2.
0, the light enters the lun system 50.
他方、第1のビームスプリッタ−15で反射された第2
描画用光束22は、レンズ16′を介して収束光とされ
、ミラー21で反射されて第2描画用AO変調器17’
に入qイする。 AO変調i1j;17°の8N能は
、前記の第1描画用AO変調器17と同様である。但し
、この第2描画川AO変調器17’を駆動する信号は、
前記の第1描画川AO変調器17に入力される信号とは
lライン分ずれたラインを走査するための信号である。On the other hand, the second beam reflected by the first beam splitter 15
The drawing light beam 22 is made into a convergent light via the lens 16', is reflected by the mirror 21, and is transmitted to the second drawing AO modulator 17'.
Enter the room. AO modulation i1j; 8N capability of 17° is similar to the first drawing AO modulator 17 described above. However, the signal that drives this second drawing river AO modulator 17' is as follows:
The signal input to the first drawing AO modulator 17 is a signal for scanning a line shifted by l line.
第2描画用AO変調器17゛を出射した1次光は、レン
ズ18゛を通して4個のプリズムからなる第2の光束方
向調整装置40°により所定角度偏向され、第ルンズ系
50に入Q4する。The primary light emitted from the second drawing AO modulator 17' passes through a lens 18' and is deflected at a predetermined angle by a second beam direction adjusting device 40° made up of four prisms, and enters the lens system 50 Q4. .
なお、レンズ16.18’は24ページの第1表に示し
たような構成であり、レンズ18.18’は第2表に示
した構成である。以下、人中のCは全系の、焦点孔A1
、rlはレンズ系の第1面の曲率半径、diは第1面と
第i+1面間の距離(レンズ厚及び空気間隔)、niは
第1面と第i+1面間の媒質の屈折率をそれぞれ表わし
ている。The lens 16.18' has a configuration as shown in Table 1 on page 24, and the lens 18.18' has a configuration as shown in Table 2. Hereinafter, C of the philtrum is the focal hole A1 of the entire system.
, rl is the radius of curvature of the first surface of the lens system, di is the distance between the first surface and the i+1th surface (lens thickness and air gap), and ni is the refractive index of the medium between the first surface and the i+1th surface, respectively. It represents.
第1、第2の光束方向調整装置は、第4図に示したよう
にそれぞれ2つのプリズムを有する第1のプリズム群P
I及び第2のプリズム群P2から構成されている。これ
らのプリズムの構成は次ページの第3表に示した通りで
ある。The first and second beam direction adjusting devices each include a first prism group P having two prisms as shown in FIG.
1 and a second prism group P2. The configurations of these prisms are shown in Table 3 on the next page.
ここで第4図中に、光束の入射方向と平行なX軸と、こ
れに直交するy、z軸とを設定する。第4図(A)のx
−y平面は、主走査方向の断面、第4図(B)のx−2
平面は、副走査方向の断面を示している。Here, in FIG. 4, an X axis parallel to the direction of incidence of the light beam and y and z axes perpendicular to this are set. x in Figure 4 (A)
-y plane is a cross section in the main scanning direction, x-2 in FIG. 4(B)
The plane shows a cross section in the sub-scanning direction.
第1プリズム群P+は、第1、第2プリズム41.42
が各人出射端部がy軸と平行となるよう配置され、第1
プリズム41がこのy軸と平行な回動軸回りに回動調整
自在とされている。The first prism group P+ includes first and second prisms 41.42
are arranged so that each person's output end is parallel to the y-axis, and the first
The prism 41 is rotatably adjustable around a rotation axis parallel to the y-axis.
そして、第2プリズム群P2の第3、 第4プリズム4
3.44も、これらの相対的な関係においては第1ブノ
ズム1!¥PLと同様に配置されているが、各人出射端
部はZ軸と平行とされており、第3プリズム43がこの
Z軸と平行な回動軸回りに回動調整可能とされている。Then, the third and fourth prisms 4 of the second prism group P2
3.44 is also the first Bunozum 1 in these relative relationships! They are arranged in the same way as PL, but the output end of each person is parallel to the Z-axis, and the third prism 43 can be rotated around the rotation axis parallel to the Z-axis. .
第1表
第2表
第3表
この装置では、第1プリズム41、第3プリズム43を
回動調整することによって出射光束の方向を入射角と偏
角との関係に従って微調整することができる。そしてこ
の例では、第1、第2の描画用光束9蔦・g2は、その
中心軸が互いに主走査方向に0.27°、副走査方向に
0.034”の角度をもち、主走査方向に3.8mm、
副走査方向に0.48mmfiれた位置から第2レンズ
系70に入射するよう構成されている。Table 1 Table 2 Table 3 In this device, by rotating and adjusting the first prism 41 and the third prism 43, the direction of the emitted light beam can be finely adjusted according to the relationship between the incident angle and the declination angle. In this example, the first and second drawing light beams 9g2 have their central axes at an angle of 0.27° in the main scanning direction and 0.034" in the sub-scanning direction, and 3.8mm,
The light is configured to enter the second lens system 70 from a position separated by 0.48 mm in the sub-scanning direction.
また、第1プリズム群P+及び第2プリズム群P2は、
それぞれ光束のx−z乎面内での方向微調整、x−y平
面円での方向微調整にのみ関与し、他の方向調整には干
渉しないため、各方向への調整を独立して行うことがで
きる。Moreover, the first prism group P+ and the second prism group P2 are
They are only involved in fine-tuning the direction of the light beam in the x-z plane and in the circle on the x-y plane, and do not interfere with other directional adjustments, so adjustments in each direction are performed independently. be able to.
さて、上記の光束方向調整装W140,40’を出射し
た光束が入射する第ルンズ系50は、第3図及び第4図
に展開して示したように「+−+」の3枚構成による正
レンズであり、入射するレーザー光を収束させる。そし
て、この第ルンズ系50による集光点より62mm手前
側に、ポリゴンミラーPMの面倒れによる彩管を補正す
るための補正用AO変調器22が設けられている。Now, the lens system 50 into which the light beam emitted from the light beam direction adjustment device W140, 40' is incident has a three-piece configuration of "+-+" as shown in FIGS. 3 and 4. It is a positive lens and converges the incident laser light. A correction AO modulator 22 for correcting the chromatic tube due to the surface tilt of the polygon mirror PM is provided 62 mm in front of the light condensing point of the first lens system 50.
補正用AO変調器22を出射してミラー23で反射され
た描画用のレーザー光は、 「十−」の2枚構成のリレ
ーレンズ系60を透過し、 「−十」の2枚構成の第2
レンズ系70に入射する。The drawing laser beam emitted from the correction AO modulator 22 and reflected by the mirror 23 passes through the two-lens relay lens system 60 labeled "-10", and passes through the two-lens relay lens system 60 labeled "-10". 2
The light enters the lens system 70.
第2レンズ系70により平行光束とされた描画用のレー
ザー光は、ミラー24で反射されると共に、第1の偏光
ビームスプリッタ−25においてモニタ光と合成される
。すなわち、ハーフミラ−12で分割されたモニタ光g
Iは、ミラー26及びミラー27で反射されて第1の偏
光ビームスプリッタ−25にS偏光として入射し、反射
される。The laser beam for drawing, which is made into a parallel beam by the second lens system 70, is reflected by the mirror 24 and combined with the monitor light by the first polarizing beam splitter 25. In other words, the monitor light g divided by the half mirror 12
I is reflected by the mirrors 26 and 27, enters the first polarizing beam splitter 25 as S-polarized light, and is reflected.
一方、2本の描画用光束は第1の1/2波長板13によ
りモニタ光とは偏光方向が異なるものとされ、P偏光と
して入射するためそのまま透過することとなる。On the other hand, the two drawing light beams are made to have a polarization direction different from that of the monitor light by the first half-wave plate 13, and are incident as P-polarized light, so that they are transmitted as they are.
2本の描画用光束とモニター用光束とは、第2の1/2
波長板28によりそれぞれ偏光方向が90°回転させさ
れ、 r −+−+ Jの4枚構成による第3レンズ系
80、ミラー29を介して「++」の2枚構成の第4レ
ンズ系90に入射する。The two drawing light fluxes and the monitor light flux are the second 1/2
The polarization directions are each rotated by 90 degrees by the wave plate 28, and are transmitted to a third lens system 80 consisting of four lenses r -+-+ J and a fourth lens system 90 consisting of two lenses "++" via the mirror 29. incident.
第ルンズ系50と第2レンズ系70とは、倍率1.67
倍の第1のビームエクスパンダ−系を構成しており、0
.7φのビームを1.17φに拡大する。そして、第3
レンズ系80と第4レンズ系90とは、倍率21.4倍
の第2のビームエクスパンダ−系を構成しており、2本
の描画用光束は1.17φから25φに拡大される。The first lens system 50 and the second lens system 70 have a magnification of 1.67.
It constitutes the first beam expander system of 0.0
.. Expand the 7φ beam to 1.17φ. And the third
The lens system 80 and the fourth lens system 90 constitute a second beam expander system with a magnification of 21.4 times, and the two drawing light beams are expanded from 1.17φ to 25φ.
2本の描画用光束とモニター用光束とは、2つのミラー
30.31を介してポリゴンミラーPMに向けられ、こ
のポリゴンミラーPMによって反射偏向される。The two drawing light beams and the monitoring light beam are directed to a polygon mirror PM via two mirrors 30 and 31, and are reflected and deflected by this polygon mirror PM.
リレーレンズ系60は、これらのビームエクスパンダ−
系の作用に関与せずに、補正用AO変調器22とポリゴ
ンミラーPMとを共役とし、面倒れ補正に伴うポリゴン
ミラー上での光束のずれを補正する機能を有している。The relay lens system 60 connects these beam expanders.
It has a function of making the correction AO modulator 22 and the polygon mirror PM conjugate without being involved in the operation of the system, and correcting the deviation of the light beam on the polygon mirror due to surface tilt correction.
上記の第ルンズ系から第4レンズ系の構成は、第28
、29ページの第4〜8表に示した通りである。The configuration of the fourth to fourth lens systems described above is the 28th lens system.
, as shown in Tables 4 to 8 on page 29.
(以下余白)
第4表
第ルンズ系50(3群3枚)
f=179.99
換算距離は、54.67であり、第ルンズ系による集光
点とAO変調面との空気換算距離は61.95である。(Leaving space below) Table 4 Luns system 50 (3 groups, 3 elements) f = 179.99 Converted distance is 54.67, air equivalent distance between the focal point and AO modulation surface by the Luns system is 61 It is .95.
第5表
リレーレンズ系60(2群2枚) f=56.18の
距Mは140.38である。Table 5 Relay lens system 60 (2 groups, 2 lenses) The distance M when f=56.18 is 140.38.
第6表 第2レンズ系70(2群2枚) f=299.99 76.55である。Table 6 Second lens system 70 (2 elements in 2 groups) f=299.99 It is 76.55.
第7表
第8表
298.94であり、第4レンズ系90の第4面からポ
リゴンミラーPMまでの距離は1261.00である。It is 298.94 in Table 7 and Table 8, and the distance from the fourth surface of the fourth lens system 90 to the polygon mirror PM is 1261.00.
そして、ポリゴンミラーPMによる反射光束は、焦点距
5151mmのfθレンズ100によって収束され、描
画光束は第2の偏光ビームスプリッタ−32を透過して
1111画面に直径5μmの2つのスポットを形成する
。The light beam reflected by the polygon mirror PM is converged by the fθ lens 100 with a focal length of 5151 mm, and the drawing light beam passes through the second polarizing beam splitter 32 to form two spots with a diameter of 5 μm on the 1111 screen.
他方、モニター光はこのビームスプリッタ−32で反’
]−1され、走査方向に直交する縞状のパターンを有す
る走査補正用スケール33を介して受光光学系34に入
射する。この受光光学系34は、スケール33上を走査
するビームの透過光量の変化から走査速度に比例する周
波数のパルスを出力する。On the other hand, the monitor light is reflected by this beam splitter 32.
]-1 and enters the light receiving optical system 34 via the scanning correction scale 33 having a striped pattern perpendicular to the scanning direction. The light receiving optical system 34 outputs a pulse having a frequency proportional to the scanning speed based on a change in the amount of transmitted light of the beam scanning the scale 33.
描画面上に形成される2つのスポットは、主走査方向に
対しては20μm、副走査方向に対しては1ライン間隔
分の2.5μmAL間して形成される。The two spots formed on the drawing surface are spaced apart by 20 μm AL in the main scanning direction and 2.5 μm AL, which is one line interval, in the sub-scanning direction.
なお、面倒れの検出は、例えば特開昭57−84440
号公報に示したように、描画面近傍の描画範囲外に設け
た複数の充電変換素子の出力から行うことができる。Incidentally, the detection of surface inclination is described, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-84440.
As shown in the publication, this can be done from the outputs of a plurality of charging conversion elements provided outside the drawing range near the drawing surface.
[効果]
以上説明したように、この発明によれば、偏向器の反射
面の面倒れ誤差を補正するために光束の角度を変化させ
た場合にも、反射面上での光束の位置ずれを補正するこ
とができ、より正確な描画を行うことができる。[Effect] As explained above, according to the present invention, even when the angle of the light beam is changed to correct the surface tilt error of the reflection surface of the deflector, the positional deviation of the light beam on the reflection surface can be corrected. It can be corrected and more accurate drawing can be performed.
第1図は、この発明に係る走査式光学装置の一実施例を
示す光学系の配置説明図、第2図は第1図の光学系の一
部を示す主走査方向の断面図、第3図は第2図と同様の
副走査方向の断面図、第4図(A)(B)は光束方向調
整装置の断面を示す説明図である。
第5図〜第10図はビームエクスパンダ−系とAO変調
器とポリゴンミラーとの関係を示す説明図であり、第5
図(A)(B)は平行光束中にAO変調器を設けたビー
ムエクスパンダ−系、第6図は収束光中にAO変調器を
設けたビームエクスパンダ−系、第7図は第5図(B)
の集光点に〆リレーレンズを設けた系、第8図は第6図
の集光点にリレーレンズを設けた系、第9図は第7図に
示したリレーレンズの変形例、第10図はビームエクス
パンダ−系を2段設けた例、第11図は第8図の系の後
方に史にビームエクスパンダ−を設けた例を示している
。
10・・・アルゴンレーザー(光源)
22・・・補正用AO変調器(補正用偏向素子)50.
60,70,80.90・・・レンズ系P ト・ポリゴ
ンミラー(走査用偏向器)1L匝」
第
図
ポリゴンミラー
第
図
ポリゴンミラー
ムーー g
f、÷f2 、 d→
1〜
図
ボリゴ〕ミプー
第
図
ポリ1ンミラー
2146図
第7図
ポリゴンミラー
チー Q :l 、−□f、 O→
図
ポリゴンミラー
第
!
!
図
ポリゴンミラー
−fl−−−f2FIG. 1 is an explanatory diagram of the arrangement of an optical system showing one embodiment of the scanning optical device according to the present invention, FIG. 2 is a sectional view in the main scanning direction showing a part of the optical system of FIG. 1, and FIG. This figure is a cross-sectional view in the sub-scanning direction similar to FIG. 2, and FIGS. 4(A) and 4(B) are explanatory views showing cross-sections of the light beam direction adjusting device. 5 to 10 are explanatory diagrams showing the relationship between the beam expander system, the AO modulator, and the polygon mirror.
Figures (A) and (B) show a beam expander system with an AO modulator installed in the parallel beam, Figure 6 shows a beam expander system with an AO modulator installed in the convergent beam, and Figure 7 shows a beam expander system with an AO modulator installed in the convergent beam. Diagram (B)
8 is a system in which a relay lens is provided at the condensing point of FIG. 6, FIG. 9 is a modification of the relay lens shown in FIG. 7, and 10th The figure shows an example in which two stages of beam expander systems are provided, and FIG. 11 shows an example in which a beam expander is provided at the rear of the system in FIG. 8. 10... Argon laser (light source) 22... AO modulator for correction (deflection element for correction) 50.
60,70,80.90...Lens system P polygon mirror (scanning deflector) 1L" Figure Polygon mirror 2146 Figure 7 Polygon mirror Q:l, -□f, O→
Figure polygon mirror number! ! Figure polygon mirror-fl---f2
Claims (1)
補正用偏向素子と、 該補正用偏向素子を出射する光束を前記副走査方向と垂
直な主走査方向に偏向させる走査用偏向器と、 前記補正用偏向素子と前記走査用偏向器との間に設けら
れて両者を光学的にほぼ共役な状態とするレンズ系と、 前記走査用偏向器により偏向された光束を描画面上に集
光させる走査レンズと、 前記走査用偏向器の偏向面の副走査方向への傾きに対応
して該走査用偏向器による光束の偏向方向を一定に保つ
よう前記補正用偏向素子による光束の偏向角度を制御す
る制御手段とを有することを特徴とする走査式光学装置
。(1) A light source, a correction deflection element that minutely deflects a light beam emitted from the light source in a sub-scanning direction, and a correction deflection element that deflects a light beam emitted from the correction deflection element in a main-scanning direction perpendicular to the sub-scanning direction. a scanning deflector; a lens system that is provided between the correction deflection element and the scanning deflector to make them almost optically conjugate; and a lens system that deflects the light beam deflected by the scanning deflector. a scanning lens for condensing light onto a drawing surface; and a correction deflection element for keeping the direction of deflection of the light beam by the scanning deflector constant in accordance with the inclination of the deflection surface of the scanning deflector in the sub-scanning direction. 1. A scanning optical device comprising: a control means for controlling a deflection angle of a light beam.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63265811A JPH02111914A (en) | 1988-10-21 | 1988-10-21 | Scanning type optical device |
US07/424,942 US5194981A (en) | 1988-10-21 | 1989-10-23 | Light scanning apparatus |
DE3935239A DE3935239A1 (en) | 1988-10-21 | 1989-10-23 | SCANNER |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63265811A JPH02111914A (en) | 1988-10-21 | 1988-10-21 | Scanning type optical device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02111914A true JPH02111914A (en) | 1990-04-24 |
Family
ID=17422381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63265811A Pending JPH02111914A (en) | 1988-10-21 | 1988-10-21 | Scanning type optical device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02111914A (en) |
-
1988
- 1988-10-21 JP JP63265811A patent/JPH02111914A/en active Pending
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