JPH02101657A - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

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JPH02101657A
JPH02101657A JP25356388A JP25356388A JPH02101657A JP H02101657 A JPH02101657 A JP H02101657A JP 25356388 A JP25356388 A JP 25356388A JP 25356388 A JP25356388 A JP 25356388A JP H02101657 A JPH02101657 A JP H02101657A
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recording
alloy film
magnetic alloy
layer
magneto
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Hajime Machida
元 町田
Michiaki Shinozuka
篠塚 通明
Hitoshi Nakamura
均 中村
Yujiro Kaneko
裕治郎 金子
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To allow high-speed density recording while using a low recording laser power by respectively specifying the concn.of rare earth elements of the amorphous magnetic alloy film which consists of the rare earth metals and transition metals and has the axis of easy magnetization in the direction perpendicular to the film plane, the compensation temp. of this magnetic alloy film and the gradient value of the coercive force of the film. CONSTITUTION:The amorphous magnetic alloy film to be used for the recording layer of the magnetic recording medium is constituted of at least >=1 kinds of the rare earth metals and at least >=1 kinds of the transition metals and the compsn. thereof is so regulated that the concn. of the rear earth metals is near the compensation compsn. and rich with respect to the compensation compsn. The compensation temp. of the magnetic alloy film is specified to room temp. or above and the Curie temp. to <=200 deg.C. Further, the gradient value Hc50/50[Oe/ deg.C] is regulated to >=20 when the coercive force of the alloy film at the temp. lower by 50 deg.C than the Curie temp. is designated as Hc50. The recording bit length of the rewritable medium is then short and the shape thereof is sharp and the recording at 22.6m/sec line speed and 10 to 20NHz frequency is possible.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、書き換えが可能な光磁気記録媒体に関し、特
に高速、高密度記録が可能な光磁気記録媒体に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a rewritable magneto-optical recording medium, and particularly to a magneto-optical recording medium capable of high-speed, high-density recording.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

光磁気記録媒体は垂直磁気記録と磁気光学効果(カー効
果等)を利用するもので、従来の光記録媒体と同様にレ
ーザ光を用いて情報の記録、再生を行うため記録容量が
大きく、その上書き換えが可能である。さらにヘッドと
媒体が非接触で記録再生を行うことができ、塵埃の影響
を受けないため安定性にも優れている。このため光磁気
記録媒体は、現在盛んに研究されており、文書情報ファ
イル、ビデオ・静止画ファイル、コンピュータ用メモリ
等への利用あるいはフロッピーディスク、ハードディス
クの代替が期待され、近い将来の商品化段階を迎えるに
至っている。
Magneto-optical recording media utilize perpendicular magnetic recording and magneto-optical effects (Kerr effect, etc.), and like conventional optical recording media, they use laser light to record and reproduce information, so they have a large recording capacity. Can be overwritten. Furthermore, recording and reproduction can be performed without contact between the head and the medium, and it is not affected by dust, so it has excellent stability. For this reason, magneto-optical recording media are currently being actively researched, and are expected to be used for document information files, video/still image files, computer memory, etc., or to replace floppy disks and hard disks, and are expected to be commercialized in the near future. We have reached the point of welcoming

このような光磁気記録媒体の記録層として、遷移金属(
Fe、 Co)と希土類金属(Tb、 Dy、 Gd、
 Ha、Er等)とを組合せた非晶質(アモルファス)
磁性合金膜が提案されている。遷移金属と希土類金属と
をそれぞれ1種以上組み合せ、スパッタ法や蒸着法で基
板上に作製した磁性合金膜は、補償組成付近で非晶質の
垂直磁化膜(膜面と垂直な方向に磁化容易軸を有する磁
化膜)となり、光磁気記録媒体に応用する事が可能とな
る。
A transition metal (
Fe, Co) and rare earth metals (Tb, Dy, Gd,
Amorphous (Ha, Er, etc.)
Magnetic alloy films have been proposed. A magnetic alloy film made by combining one or more transition metals and one or more rare earth metals and fabricated on a substrate by sputtering or vapor deposition is an amorphous perpendicularly magnetized film (easily magnetized in the direction perpendicular to the film surface) near the compensation composition. It becomes a magnetized film with an axis) and can be applied to magneto-optical recording media.

上記のような磁性合金膜を光磁気記録媒体に応用する場
合には少なくとも以下のような条件を満足しなければな
らない事が知られている。
It is known that when applying the above magnetic alloy film to a magneto-optical recording medium, at least the following conditions must be satisfied.

■再生Cハが大きい。■Reproduction C is large.

■記録感度が良い(記録時のレーザパワーが小さい)@ ■記録したメモリが安定である。■Good recording sensitivity (low laser power during recording) @ ■The recorded memory is stable.

■記録した磁区(ビット)が小さく、高密度化できる。■The recorded magnetic domains (bits) are small, allowing for high density recording.

■垂直磁化膜である。■It is a perpendicular magnetization film.

そして上記のような特性と磁性合金膜の物性との間には
一般に以下のような関係があるとされている。
It is generally said that there is the following relationship between the above characteristics and the physical properties of the magnetic alloy film.

■の再生C/Nは磁気光学特性に関係し、カー回転角θ
kが大きいほど良くなる。■の記録感度はキュリー温度
Tcに関係し、キュリー温度Tcが低いほど良くなる。
The reproduction C/N of (2) is related to the magneto-optical characteristics, and the Kerr rotation angle θ
The larger k is, the better it is. The recording sensitivity (2) is related to the Curie temperature Tc, and becomes better as the Curie temperature Tc is lower.

■のメモリ安定性及び■の高密度化は保磁力Heと関係
し、保磁力Heが大きいほど良くなる。■の垂直磁化膜
となるためには保磁力He〉4πMs(Ms:飽和磁化
)となることが必要である。
The memory stability (2) and the high density (2) are related to the coercive force He, and the larger the coercive force He, the better. In order to obtain the perpendicular magnetization film of (2), it is necessary that the coercive force He>4πMs (Ms: saturation magnetization).

上記の条件を満足し、光磁気記録媒体の記録層として最
も有望視されているのはTbFaCoa元系非晶質磁性
合金膜で、特開昭58−73746号公報、特開昭58
−159252号公報等において提案されている。
The film that satisfies the above conditions and is considered the most promising as a recording layer of a magneto-optical recording medium is a TbFaCoa-based amorphous magnetic alloy film, which is disclosed in JP-A-58-73746 and JP-A-58.
This method has been proposed in, for example, Japanese Patent No.-159252.

また、電気学会研究会資料MR84−37、MR84−
38,MR−39(昭和59年)には、上記TbFeC
o膜をポリカーボネート基板上に形成して作製した光磁
気ディスクの評価データが記載されている。この光磁気
ディスクの仕様の一例を挙げると、ディスク回転数90
Orpm、線速7履/秒、記録レーザパワー5.7aV
、消去レーザパワー7mWとなっている。
In addition, IEEJ study group materials MR84-37, MR84-
38, MR-39 (1982) has the above TbFeC
Evaluation data of a magneto-optical disk manufactured by forming an O film on a polycarbonate substrate is described. To give an example of the specifications of this magneto-optical disk, the disk rotation speed is 90.
Orpm, linear velocity 7/sec, recording laser power 5.7aV
, the erasing laser power is 7 mW.

ところが、TbFeCo膜を用いた上記光磁気記録媒体
はカー回転角θkが約0.35度と比較的大きく、また
保磁力Hcが約2〜10kOeと大きく優れているが、
記録感度については上記の値が限度であった。
However, although the magneto-optical recording medium using the TbFeCo film has a relatively large Kerr rotation angle θk of approximately 0.35 degrees and a significantly superior coercive force Hc of approximately 2 to 10 kOe,
The above value was the limit for recording sensitivity.

これに対し5本発明者らは特開昭59−61011号公
報において、記録感度を改良した光磁気記録媒体を提案
した。同公報の実施例にはプラスチックより熱伝導率が
1桁小さいガラスを基板に用いるとともに、記録層を構
成する組成物としてTbFeCoあるいはGdFeCo
にDyを加えたものを使用し、キュリー温度Tcを下げ
て記録感度を改良した光磁気記録媒体が一例として開示
されている。この記録媒体は(Tbo 、tDyo 、
3)O−22(Fe0e5cOg 、J。、7.(割合
は原子重量比)を磁性R1!(膜厚200人)に用い、
記録パワ2.5mWを得ている。この記録条件は記録周
波数2MH2である。
In response, the present inventors proposed a magneto-optical recording medium with improved recording sensitivity in Japanese Patent Laid-Open No. 59-61011. In the examples of the same publication, glass, which has thermal conductivity one order of magnitude lower than that of plastic, is used for the substrate, and TbFeCo or GdFeCo is used as the composition constituting the recording layer.
An example of a magneto-optical recording medium is disclosed in which the recording sensitivity is improved by lowering the Curie temperature Tc by adding Dy to the above. This recording medium is (Tbo, tDyo,
3) O-22 (Fe0e5cOg, J., 7. (ratio is atomic weight ratio) is used for magnetic R1! (film thickness 200),
A recording power of 2.5 mW is obtained. This recording condition is a recording frequency of 2MH2.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、情報処理の高速化、ハードディスク等の
代替の見地からすると、光磁気記録媒体の記録速度はハ
ードディスクと同等以上であることが期待される。すな
わち、ディスク回転数3600rpm、線速22.6m
/秒以上、記録レーザパワー(媒体面)10Il+W以
下での記録が望まれる。そのためには、さらに高速、高
密度化を図ることが必要である。
However, from the standpoint of increasing the speed of information processing and replacing hard disks, it is expected that the recording speed of magneto-optical recording media will be equal to or higher than that of hard disks. That is, disk rotation speed 3600 rpm, linear speed 22.6 m
It is desirable to perform recording at a recording laser power (medium surface) of 10 Il+W or less. To achieve this, it is necessary to achieve even higher speed and higher density.

本発明は以上の点に鑑み、上記の要望を満足する高速か
つ高密度記録が可能な光磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
In view of the above points, it is an object of the present invention to provide a magneto-optical recording medium that satisfies the above requirements and is capable of high-speed and high-density recording.

〔課題を解決するための手段及び作用〕上記目的を達成
するため、本発明によれば、少なくとも1種以上の希土
類金属と少なくとも1種以上の遷移金属とからなり、膜
面と垂直な方向に磁化容易軸を有する非晶質磁性合金膜
を記録層とする光磁気記録媒体において、前記磁性合金
膜における希土類金属の濃度が補償組成の近傍でかつ該
補償組成に対し高濃度(リッチ)側にあり、前記磁性合
金膜の補償温度が室温以上でかつキュリー温度が200
℃以下であり、さらに、前記キュリー温度より50℃低
い温度における前記磁性合金膜の保磁力をHCi。とす
るとき、勾配値)leg o / 50 (Oe/ 5
0〔Oe/℃〕が20以上であることを特徴とする光磁
気記録媒体が提供される。
[Means and effects for solving the problem] In order to achieve the above object, according to the present invention, the film is made of at least one kind of rare earth metal and at least one kind of transition metal, and In a magneto-optical recording medium whose recording layer is an amorphous magnetic alloy film having an easy axis of magnetization, the concentration of rare earth metal in the magnetic alloy film is near a compensation composition and on the high concentration (rich) side with respect to the compensation composition. Yes, the compensation temperature of the magnetic alloy film is room temperature or higher and the Curie temperature is 200.
The coercive force of the magnetic alloy film at a temperature of 50° C. or below and 50° C. lower than the Curie temperature is HCi. Then, the gradient value) leg o / 50 (Oe / 5
A magneto-optical recording medium characterized in that 0 [Oe/°C] is 20 or more is provided.

前述の情報処理の高速化、ハードディスク等の代替に十
分対応しうるためには、より高速、高密度の記録が可能
であることが要求される。すなわち、ディスク回転数3
60Orpm、 4!速22.6m/秒、記録周波数5
MHz以上、記録レーザパワー(媒体面)10mW以下
であり、しかも記録ビットサイズ1声以下でかつ記録ビ
ットの形状がシャープであることが要求される。
In order to sufficiently respond to the above-mentioned speeding up of information processing and replacement of hard disks, etc., it is required to be able to record at higher speeds and higher density. In other words, the number of disk rotations is 3
60Orpm, 4! Speed 22.6m/sec, recording frequency 5
It is required that the recording laser power (medium surface) is 10 mW or less, the recording bit size is one tone or less, and the shape of the recording bit is sharp.

そこで2本発明者は、鋭意研究を重ねた結果、上記のよ
うに非晶質磁性合金膜(垂直磁化膜)が、(i)希土類
金属の濃度が補償組成(室温における磁性合金膜中の希
土類金属の磁気モーメントを’RE−遷移金属の磁気モ
ーメントをMTMとしたとき。
Therefore, as a result of intensive research, the inventors of the present invention have found that (i) the concentration of rare earth metal is compensated for in the composition (rare earth metal in the magnetic alloy film at room temperature). When the magnetic moment of the metal is 'RE--the magnetic moment of the transition metal is MTM.

MRE−MTMI”0となる組成)の近傍でかつ希土類
金属リッチであること。
The composition must be close to MRE-MTMI (composition that gives 0) and be rich in rare earth metals.

(…)補償温度(フェリ磁性体においてキュリー温度に
達する前に見掛は上磁化が室温で零になる温度)が室温
以上であり、かつ、キュリー温度が200℃以下、好ま
しくは180℃以下であること。
(…) The compensation temperature (temperature at which the apparent upper magnetization becomes zero at room temperature before reaching the Curie temperature in a ferrimagnetic material) is above room temperature, and the Curie temperature is below 200°C, preferably below 180°C. Something.

(iii )キュリー温度より50℃低い温度における
保磁力をHQs oとしたとき、勾配値He、、150
が20 (Oe/℃〕以上であること。
(iii) When the coercive force at a temperature 50°C lower than the Curie temperature is HQso, the slope value He, 150
is 20 (Oe/℃) or more.

を満足するときに、上記の目標値、目標特性を達しうる
事を見いだした。
It has been found that the above target values and characteristics can be achieved when the above conditions are satisfied.

次に1本発明の光磁気記録媒体について図面を参照して
詳述する。
Next, a magneto-optical recording medium of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図(A)に本発明による光磁気記録媒体の非晶質磁
性合金膜Aにおける保磁力He及び4πMs(Msは飽
和磁化)の温度特性を従来技術のものと対比して示す0
図中実線が磁性合金膜Aのデータであり、破線が従来の
光磁気記録媒体における磁性合金膜Bのデータである。
FIG. 1(A) shows the temperature characteristics of the coercive force He and 4πMs (Ms is saturation magnetization) in the amorphous magnetic alloy film A of the magneto-optical recording medium of the present invention in comparison with that of the prior art.
The solid line in the figure is the data for the magnetic alloy film A, and the broken line is the data for the magnetic alloy film B in the conventional magneto-optical recording medium.

先ず、本発明の磁気記録媒体の記録層に使用される非晶
質磁性合金膜は、少なくとも1種以−ヒの希土類金属(
Tb、Dy、 Gd、 t(o、 Er等)と少なくと
も1種以上の遷移金属よりなり、その組成は希土類金属
の濃度が補償組成の近傍でかつ補償組成に対しリッチと
なるように規定される。補償組成に対し希土類金属リッ
チの磁性合金膜Aは遷移金属リッチの磁性合金膜Bに比
べ、一般に室温における保磁力Heが大きく、保磁力H
eの温度特性曲線の勾配が大きく、その保磁力tlcは
キュリー温度Tc付近で直線的に減少し、しかも飽和磁
化Msの値が小さい。このような傾向と上記(iii)
の条件とがあいまって、低い記録レーザパワーでの記録
を可能とし、さらに記録ビット長を1−以下と短くする
とともにビット形状をシャープとする。記録開始の条件
をHc<4πMs+Hex (Hexはバイアス磁界で
第1図(A)では5000sでHe’ =4 πMs+
5000eである)とすると、第1図(A)は外部磁界
5000sが印加されている場合で、磁性合金膜Aの記
録開始温度Ta’は約130℃、一方磁性合金膜Bの記
録開始温度Tb’は約70℃である。記録磁区周辺から
の浮遊磁界4πMs弁0の場合の磁性合金膜のそれぞれ
の記録開始温度はTb”<T al/である。ここで磁
性合金膜に同じレーザパワーでスポット径1.2μlで
照射した場合には第1図(B)に示される様な熱拡散等
混線となり、記録開始温度が低いと記録ビットが大きく
なり、一方記録開始温度が高い(記録可能温度の範囲が
狭い)場合はレーザスポット程に近い小さい記録ビット
が記録出来る。こきて記録可能温度の範囲について説明
する、磁性合金膜Aの場合、a′点はHc=4πにs+
Heス(=5000g)となる、従って記録条件は4 
x Ms + 5000s)Heであるので、直線a’
−Ta’の右の領域Ta’ −TcAが記録可能範囲と
なる。磁性合金膜Bの場合にはTb’−TcBの温度範
囲が記録層となる。記録ビットを小さくシャープにする
には飽和磁化Msが小さく、室温で保磁力Heが大きく
、キュリー温度Tc付近で急激に保磁力Heが減少する
、磁気特性を有した希土類金属リッチの磁性合金膜Aで
なければならない。第2図(a)及び(b)にそれぞれ
光変調法で記録した場合の磁性合金膜A(本発明)と磁
性合金膜B(従来技術)における記録ビット形状を示す
First, the amorphous magnetic alloy film used in the recording layer of the magnetic recording medium of the present invention contains at least one rare earth metal (
It consists of Tb, Dy, Gd, t (o, Er, etc.) and at least one kind of transition metal, and its composition is defined so that the concentration of rare earth metal is near the compensation composition and rich with respect to the compensation composition. . With respect to the compensation composition, the rare earth metal-rich magnetic alloy film A generally has a larger coercive force He at room temperature than the transition metal-rich magnetic alloy film B, and the coercive force H
The slope of the temperature characteristic curve of e is large, the coercive force tlc decreases linearly near the Curie temperature Tc, and the value of the saturation magnetization Ms is small. This trend and the above (iii)
Combined with these conditions, it is possible to record with a low recording laser power, further shorten the recording bit length to 1- or less, and sharpen the bit shape. The conditions for starting recording are Hc<4πMs+Hex (Hex is the bias magnetic field, and in Figure 1 (A), at 5000s, He' = 4πMs+
5000e), FIG. 1A shows the case where an external magnetic field of 5000 seconds is applied, and the recording start temperature Ta' of the magnetic alloy film A is about 130°C, while the recording start temperature Tb of the magnetic alloy film B ' is approximately 70°C. When the stray magnetic field from the periphery of the recording magnetic domain is 4πMs valve 0, the recording start temperature of each magnetic alloy film is Tb''<T al/.Here, the magnetic alloy film was irradiated with the same laser power with a spot diameter of 1.2 μl. If the recording start temperature is high (the range of recordable temperatures is narrow), the recording bits will become larger. Small recording bits close to the size of a spot can be recorded.In the case of magnetic alloy film A, the recordable temperature range will be explained below, point a' is Hc=4π and s+
Therefore, the recording condition is 4.
x Ms + 5000s)He, so the straight line a'
The area Ta' -TcA to the right of -Ta' becomes the recordable range. In the case of magnetic alloy film B, the temperature range of Tb'-TcB becomes the recording layer. To make recording bits small and sharp, a rare earth metal-rich magnetic alloy film A having magnetic properties has a small saturation magnetization Ms, a large coercive force He at room temperature, and a sharp decrease in the coercive force He near the Curie temperature Tc. Must. FIGS. 2(a) and 2(b) show recording bit shapes in magnetic alloy film A (present invention) and magnetic alloy film B (prior art), respectively, when recording is performed by the optical modulation method.

また、第3図(a)及び(b)にそれぞれ磁界変調法で
記録した場合の磁性合金膜Aと磁性合金膜Bにおける記
録ビット形状を示す。磁界変調法は光磁気記録媒体にレ
ーザ光を連続的に又はパルス状に照射するとともに、記
録又は消去信号を磁気ヘッドに人力するもので、オーバ
ライド可能な方法として注目されている。第2図及び第
3図に示すように本発明による磁性合金膜Aの方がいず
れの記録法でも記録ビット長が短く、形状がシャープで
あることがわかる。
Further, FIGS. 3(a) and 3(b) show recording bit shapes in magnetic alloy film A and magnetic alloy film B, respectively, when recording is performed by the magnetic field modulation method. The magnetic field modulation method involves irradiating a magneto-optical recording medium with a laser beam continuously or in a pulsed manner and manually applying a recording or erasing signal to a magnetic head, and is attracting attention as a method that can be overridden. As shown in FIGS. 2 and 3, it can be seen that the magnetic alloy film A according to the present invention has a shorter recording bit length and a sharper shape in all recording methods.

本発明の磁性合金膜における希土類金属の濃度z(at
om%)は、補償組成での希土類金属の濃度をz。
The rare earth metal concentration z (at
om%) is the concentration of rare earth metal in the compensation composition.

(atom%)としたとき、 zo(z(zo÷4であ
るのがより好ましい。2の値が大きくなりすぎると室温
での保磁1月10及びカー回転角Okが急激に低下し、
光磁気記録媒体の記録層に適さなくなる。
(atom%), it is more preferable that zo(z(zo÷4). If the value of 2 becomes too large, the coercivity 1/10 at room temperature and the Kerr rotation angle Ok will decrease rapidly,
It becomes unsuitable for the recording layer of magneto-optical recording media.

また1本発明の磁性合金膜は補償温度Tcompが室温
以上で、キュリー温度Tcが200℃以下、より好まし
くは180℃以下に規定される。補償温度Tcompが
室温より低くなると飽和磁化Msが大きく、保磁力11
cが小さくなり好ましくない。またキュリー温度Tcが
200℃より大きくなると記録感度が悪くなり、高速化
のためには好ましくない。
Further, the magnetic alloy film of the present invention has a compensation temperature Tcomp of room temperature or higher and a Curie temperature Tc of 200°C or lower, preferably 180°C or lower. When the compensation temperature Tcomp is lower than room temperature, the saturation magnetization Ms becomes large and the coercive force becomes 11
c becomes small, which is not preferable. Furthermore, if the Curie temperature Tc is higher than 200° C., recording sensitivity deteriorates, which is not preferable for increasing speed.

また、本発明の磁性合金膜は、キュリー湿度Tcより5
0℃低い温度における保磁力をlIC6゜とじたとき、
勾配値H65゜150が20(Oe/℃)以上に規定さ
れる。
Moreover, the magnetic alloy film of the present invention has a Curie humidity Tc of 5
When the coercive force at a temperature lower than 0°C is reduced by lIC6°,
The gradient value H65°150 is defined as 20 (Oe/°C) or more.

この勾配値が20(Oe/℃)より小さいと記録ビット
長が長くなるとともに記録ビットの形状のシャープさが
失われ、高密度化のために好ましくない。
If this gradient value is smaller than 20 (Oe/° C.), the recording bit length becomes long and the sharpness of the recording bit shape is lost, which is not preferable for achieving high density.

とりわけ第1図(A)の磁性合金膜Bのようにキュリー
温度Tc近傍で緩やかに裾を引くような場合、光変調法
により記録ビットを形成したときには第2図(b)のよ
うに記録ビットの周辺の乱れとなり、磁界変調法により
記録ビットを形成したときには第3図(b)のように尾
を引いたシェブロン形状となり、これら乱れはノイズの
原因となる。
In particular, when the magnetic alloy film B in FIG. 1(A) has a gradual tail near the Curie temperature Tc, when recording bits are formed by the optical modulation method, the recording bits are as shown in FIG. 2(b). When a recording bit is formed by the magnetic field modulation method, it becomes a chevron shape with a tail as shown in FIG. 3(b), and these disturbances cause noise.

さらに、本発明の磁性合金膜は記録したビットのメモリ
の安定性の点より、室温での保磁力Heが2kOeより
大きく、)lc)2X4πMsである事が好ましい。ま
た、記録ビット長をより短くする点より、4πMg≦1
300(Gauss)である事が好ましい。
Furthermore, from the viewpoint of the stability of the memory of recorded bits, it is preferable that the magnetic alloy film of the present invention has a coercive force He at room temperature of greater than 2 kOe, i.e., )lc)2X4πMs. Also, from the point of view of shortening the recording bit length, 4πMg≦1
300 (Gauss) is preferable.

本発明の光磁気記録媒体の記録層に適用出来る非晶質磁
性合金膜としては(Tb1゜o−ZD)’χ)z(Fe
工。。−yCoy)log−2(0<x<10013<
y〈20.望ましくは50<x<100゜3(y<10
であり、Zは補償組成をzoとするどきZo<z<ZO
+4であるm )−(Gd1110−zDyz)z(F
etoo−ycOy)zoo −z(0<x<100、
Qりy<20.望ましくは50<x<100.0<y〈
10であり、Zo<Z<Zo+4である。〕が挙げられ
るが、これに限定されるものではなく上記の条件を満足
するものであれば適用可能である。
As an amorphous magnetic alloy film that can be applied to the recording layer of the magneto-optical recording medium of the present invention, (Tb1゜o-ZD)'χ)z(Fe
Engineering. . -yCoy)log-2(0<x<10013<
y〈20. Desirably 50<x<100°3(y<10
, and when Z is the compensation composition, Zo<z<ZO
+4 m)-(Gd1110-zDyz)z(F
etoo-ycOy) zoo-z(0<x<100,
Qry<20. Preferably 50<x<100.0<y<
10, and Zo<Z<Zo+4. ], but is not limited thereto and can be applied as long as it satisfies the above conditions.

次に本発明の光磁気記録媒体の具体的な層構成例につい
て第4図及び第5図を参照して説明する。
Next, a specific example of the layer structure of the magneto-optical recording medium of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

第4図は基板1の材料としてプラスチックを用いた場合
の層構成例を示す断面図で、2は誘電層、3は記録層(
非晶質磁性合金膜)、4は保護Jげ、5はカバー層又は
接合層である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of the layer structure when plastic is used as the material for the substrate 1, in which 2 is a dielectric layer, 3 is a recording layer (
(amorphous magnetic alloy film), 4 is a protective layer, and 5 is a cover layer or bonding layer.

プラスチック基板1の具体的材料としてはポリカーボネ
ート、エポキシレジン、メチルメタクリレート、ポリオ
レフィン等の樹脂が使用可能である。基板1にはあらか
じめガイドトラック、プリフォーマットを形成してもよ
い。また、基板1のレーザ光入射面をH,O10□の侵
入を防止するために誘電層、疎水性、耐ガス性層(例え
ばフッ素樹脂層)等で被覆してもよい。
As specific materials for the plastic substrate 1, resins such as polycarbonate, epoxy resin, methyl methacrylate, and polyolefin can be used. Guide tracks and preformats may be formed on the substrate 1 in advance. Further, the laser beam incident surface of the substrate 1 may be coated with a dielectric layer, a hydrophobic, gas-resistant layer (for example, a fluororesin layer), etc. to prevent the intrusion of H and O10□.

誘電層2は基板外部からH,0,02が侵入して記録層
3の磁気特性が劣化するのを防止するとともに、光の多
重反射により磁気光学効果(カー回転角Ok)をエンハ
ンスメントする役割を行う。このため、なるべく屈折率
nが大きい材料を用い、しかも多重反射によってみかけ
の磁気光学効果がなるべく大きくなるようにその膜厚を
設定する。したがって、誘電N2の屈折率nは1.7よ
り大きいことが好ましく、その膜厚は600〜1500
人が適当である。また誘電層2に使用される具体的な材
料としては、5izNy、5izOy、 AQ、 O,
、Ta2O,、Tie、 、ZnS 、 ZnO,Mg
O,AQN 。
The dielectric layer 2 prevents H,0,02 from entering from outside the substrate and deteriorating the magnetic properties of the recording layer 3, and also plays the role of enhancing the magneto-optic effect (Kerr rotation angle Ok) through multiple reflections of light. conduct. For this reason, a material with a refractive index n as large as possible is used, and its film thickness is set so that the apparent magneto-optic effect is as large as possible due to multiple reflections. Therefore, the refractive index n of the dielectric N2 is preferably larger than 1.7, and the film thickness is 600 to 1500.
The person is appropriate. Further, specific materials used for the dielectric layer 2 include 5izNy, 5izOy, AQ, O,
, Ta2O, , Tie, , ZnS , ZnO, Mg
O,AQN.

AQON、 ZrAQSi、ZrAQON 、 AQS
iN 、 AfiSiNO,Y、O,、In、 0. 
、Zro、 、 Cr2O,等の少なくとも1種以上が
用いられる。
AQON, ZrAQSi, ZrAQON, AQS
iN, AfiSiNO,Y,O,,In,0.
, Zro, , Cr2O, etc. are used.

これらのうち基板外部からのH,0,0,の侵入に対す
る防止効果という観点からAflON、ZrA[Si、
5izNy。
Among these, AflON, ZrA[Si,
5izNy.

5izOy、AQzO,、Ta、Os等を少なくとも1
種以上用いたものがより好ましい。誘電層2はスパッタ
法、蒸着法、イオンブレーティング法等により成膜され
る。
At least 1 of 5izOy, AQzO, Ta, Os, etc.
It is more preferable to use more than one species. The dielectric layer 2 is formed by sputtering, vapor deposition, ion blating, or the like.

記録層3は上記の条件を満足する非晶質磁性合金膜より
構成される。ここで記録層3の膜厚について考案してみ
る。第6図に一般的な光磁気ディスクの磁性層の膜厚t
と記録レーザパワーPwとの関係をグラフに示す。同図
かられかるように、記録レーザパワーPwは膜厚200
人付近で最小となる。
The recording layer 3 is composed of an amorphous magnetic alloy film that satisfies the above conditions. Here, let us consider the thickness of the recording layer 3. Figure 6 shows the film thickness t of the magnetic layer of a typical magneto-optical disk.
The relationship between P and recording laser power Pw is shown in a graph. As can be seen from the figure, the recording laser power Pw is
Minimum near humans.

200人より小さいとレーザ光が透過してレーザ光の蓄
熱が不十分となり、逆に200人より大きいと記録レー
ザパワーPwはPwαFの関係式に従い磁性層の厚さが
大きくなるにつれて増大する。また本例の場合、基板1
がプラスチックであるため、誘電層2を設けても多少の
1120.02は基板1.誘電層2を通して記録層3に
侵入し、多少の表面N(約100人程度)の酸化は避け
られない。以上のことより記録N3の膜厚は400〜1
000人が好ましく、400〜800人がより好ましい
。記録層3はスパッタ法、蒸着法等により成膜される。
If the number of people is less than 200, the laser light will pass through and the heat storage of the laser light will be insufficient.If the number of people is more than 200, the recording laser power Pw will increase as the thickness of the magnetic layer increases according to the relational expression PwαF. In addition, in this example, the substrate 1
Since the substrate 1. is made of plastic, even if the dielectric layer 2 is provided, some 1120.02 will remain on the substrate 1. It invades the recording layer 3 through the dielectric layer 2, and some oxidation of the surface N (approximately 100 layers) is unavoidable. From the above, the film thickness of recording N3 is 400~1
000 people is preferable, and 400 to 800 people is more preferable. The recording layer 3 is formed by sputtering, vapor deposition, or the like.

保護層4は記録層3へのH2O,02の侵入を防止する
目的で設けられる。また保護層4は記録レーザ光の蓄熱
効果を高めるために熱伝導率は出来るだけ小さい方が良
く、5 X 10””caQ/cm−s・”C(室温)
以下であるのが好ましく、3 X 10””caQ/c
m−s・”C(室温)以下であるのがより好ましい。こ
の保護層4は誘電層2と同様の材料を使用し、同様の方
法で同様の膜厚に成膜されるが、異なっていてもよい。
The protective layer 4 is provided for the purpose of preventing H2O, 02 from entering the recording layer 3. In addition, in order to enhance the heat storage effect of the recording laser beam, the protective layer 4 should have a thermal conductivity as low as possible, and should have a thermal conductivity of 5 x 10"caQ/cm-s・"C (room temperature).
It is preferably less than or equal to 3 X 10””caQ/c
It is more preferable that the temperature is below m-s・"C (room temperature). This protective layer 4 is formed using the same material as the dielectric layer 2, and is formed to the same thickness by the same method, but it is different. It's okay.

保護層4の上にはカバー層あるいは接合層5が設けられ
るが、カバー層は保護層4を保護し、接合層は両面記録
タイプの媒体における接合を行う。
A cover layer or bonding layer 5 is provided on the protective layer 4. The cover layer protects the protective layer 4, and the bonding layer performs bonding in a double-sided recording type medium.

これらカバー層あるいは接合層5は紫外線硬化樹脂(U
Vレジン)、熱可塑性樹脂、プラズマ重合樹脂等を用い
て1μffi〜100μlの膜厚に成膜される。
These cover layers or bonding layers 5 are made of ultraviolet curing resin (U
V resin), thermoplastic resin, plasma polymerized resin, etc., to a film thickness of 1 μffi to 100 μl.

また、上記において2枚のディスクを貼合せた両面記録
タイプの光磁気ディスクとするときには、そのディスク
の端部を誘電材あるいはプラスチックで接合するのが好
ましい。
Further, when a double-sided recording type magneto-optical disk is prepared by bonding two disks together, it is preferable to join the ends of the disks with a dielectric material or plastic.

第5図は基板11の材料としてガラスを用いた場合の層
構成を示す断面図で、12は誘電層、13は記録層(非
晶質磁性合金層)、14は断熱層、15は反射層、16
はカバー層である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the layer structure when glass is used as the material for the substrate 11, in which 12 is a dielectric layer, 13 is a recording layer (amorphous magnetic alloy layer), 14 is a heat insulating layer, and 15 is a reflective layer. , 16
is the cover layer.

ガラス基板11は熱伝導率が2 X 10−3−4 X
 1O−3caQ/cIl−3・℃とプラスチック基板
1の熱伝導率3.5 X 10−’〜6×1O−4ca
Q/cIIl−8・℃に比べ1桁良い。また、ガラス基
板11の場合、基板外部からの820,02の侵入がな
い。
The glass substrate 11 has a thermal conductivity of 2 x 10-3-4 x
1O-3caQ/cIl-3・℃ and the thermal conductivity of the plastic substrate 1 3.5 x 10-' ~ 6 x 1O-4ca
One order of magnitude better than Q/cIIl-8・℃. Furthermore, in the case of the glass substrate 11, there is no intrusion of 820, 02 from outside the substrate.

誘電N12は光の多重反射により磁気光学効果(カー回
転角θk)をエンハンスメントするために設けられる。
The dielectric N12 is provided to enhance the magneto-optic effect (Kerr rotation angle θk) by multiple reflection of light.

したがって、なるべく屈折率nが大きい(n>1.7)
材料を用い、しかも多重反射によってみかけの磁気光学
効果がなるべく大きくなるようにその膜厚を設定する。
Therefore, the refractive index n is as large as possible (n>1.7)
The material is used, and its film thickness is set so that the apparent magneto-optic effect is as large as possible due to multiple reflections.

誘電M12の成膜には第4図の構成例における誘電M2
と同様な材料、同様な方法を用いることができる。膜厚
も同様に600〜1500人が適当である。
For forming the dielectric M12, the dielectric M2 in the configuration example shown in FIG.
Similar materials and methods can be used. Similarly, the appropriate film thickness is 600 to 1,500 people.

記録M13は前述の条件を満足する非晶質磁性合金膜が
使用されるが、ガラス基板11の上記性質を考慮してそ
の膜厚は出来るだけ薄層化するのが望ましい。すなわち
膜厚は100〜400人が好ましく、100人〜300
人がより好ましい。
An amorphous magnetic alloy film that satisfies the above-mentioned conditions is used for the recording M13, but in consideration of the above-mentioned properties of the glass substrate 11, it is desirable to make the film as thin as possible. That is, the film thickness is preferably 100 to 400, and 100 to 300.
People are more preferred.

断熱層14は記録層13、熱伝導率の良い反射層15へ
の熱拡散を小さくし、断熱層の膜面方向の熱拡散を防止
する熱吸収層の目的で設けられる。このため断熱層14
には熱伝導率が5 X 10−”can/cm−s・’
C以下のプラスチック樹脂(例えばポリスチレン−ブタ
ジェン、メチルメタクリレート−ブタジェン、ポリウレ
タン等の熱可塑性樹脂、ホットヌル1−レジン、プラズ
マ重合樹脂等)、あるいはSun、5in2(非晶質)
、 ZrO,、Nd、03、Mn2o、l Gd203
 + DY2 o31Fe、 04. AQ、 O,−
3in、 、 Tie□、 HfO2、ガラス等が50
0−1500人の膜厚で用いられる。断熱層14は無機
材料の場合にはスパッタ法、蒸着法等により、有機材料
の場合にはスピン塗布法、ローラ塗布法等の方法により
成膜される。
The heat insulating layer 14 is provided for the purpose of being a heat absorbing layer that reduces heat diffusion to the recording layer 13 and the reflective layer 15 having good thermal conductivity and prevents heat diffusion in the film surface direction of the heat insulating layer. Therefore, the insulation layer 14
has a thermal conductivity of 5 x 10-"can/cm-s・'
Plastic resin of C or below (e.g. thermoplastic resin such as polystyrene-butadiene, methyl methacrylate-butadiene, polyurethane, hot null 1-resin, plasma polymerized resin, etc.), or Sun, 5in2 (amorphous)
, ZrO,, Nd, 03, Mn2o, l Gd203
+ DY2 o31Fe, 04. AQ, O, -
3in, , Tie□, HfO2, glass, etc. 50
Used in film thicknesses of 0-1500. The heat insulating layer 14 is formed by a sputtering method, a vapor deposition method, etc. in the case of an inorganic material, and by a spin coating method, a roller coating method, etc. in the case of an organic material.

反射層16は磁気光学効果のエンハンスメントのために
設けられる。この反射層16はAQ、 Cr、 Cu、
Nd、Rh、Pt、Au、Cr、Ni等の材料を用いて
スパッタ法、蒸着法等の方法により200〜1000人
の膜厚に成膜される。
The reflective layer 16 is provided for enhancement of the magneto-optic effect. This reflective layer 16 is made of AQ, Cr, Cu,
The film is formed using a material such as Nd, Rh, Pt, Au, Cr, Ni, etc. to a thickness of 200 to 1000 layers by a method such as a sputtering method or a vapor deposition method.

カバー層17は反射層16の酸化腐食の防止と損傷防止
のために設けられる。このカバー層17は断熱層14で
使用したと同様の材料を用いて同様の方法により1〜1
00μmの膜厚に成膜される。
The cover layer 17 is provided to prevent oxidation corrosion and damage to the reflective layer 16. This cover layer 17 is made of the same material as that used for the heat insulating layer 14 and made by the same method.
The film is formed to a thickness of 00 μm.

〔実施例〕〔Example〕

以下に本発明の実施例をあげるが1本発明はこれら実施
例に限定されるものではない。
Examples of the present invention are listed below, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1 直径130nm、厚さ1.2m11のポリカーボネート
板を基板として用い、RFスパッタリング装置において
該基板上に誘電層として5izNy(屈折率n=2.1
)をスパッタ法により700人の膜厚に形成した。この
ときのスパッタリング条件は、背圧1.OX 10−’
Torr以下、キャリアガス:Ar+N2混合ガス、ガ
ス圧PAr/PN、 =10mmTorr、基板回転速
度15rpm、作製時間25分間であり、製膜する前に
RFパワー300v、30分間プレスパツタリングした
。また基板は水冷し。
Example 1 A polycarbonate plate with a diameter of 130 nm and a thickness of 1.2 m was used as a substrate, and a dielectric layer of 5izNy (refractive index n = 2.1
) was formed to a thickness of 700 mm by sputtering. The sputtering conditions at this time were back pressure 1. OX 10-'
Torr or less, carrier gas: Ar+N2 mixed gas, gas pressure PAr/PN = 10 mm Torr, substrate rotation speed 15 rpm, preparation time 25 minutes, and before film formation, press sputtering was performed at RF power 300 V for 30 minutes. The board is also water cooled.

基板温度は100℃以下とした。次に、RFスパッタリ
ング装置においてFe、g−scOsTbto +5D
14の組成を持つ合金ターゲットを使用し、誘電層上に
記録層として非晶質磁性合金膜(垂直磁化膜)を700
人の膜厚に形成した。このときのスパッタリング条件は
、背圧1.OX 10’″’ Torr以下、Arガス
圧3.0+m+Torr。
The substrate temperature was 100° C. or lower. Next, in an RF sputtering device, Fe, g-scOsTbto +5D
Using an alloy target with a composition of 14, an amorphous magnetic alloy film (perpendicular magnetization film) was formed as a recording layer on the dielectric layer.
Formed to the thickness of a human. The sputtering conditions at this time were back pressure 1. OX 10'''' Torr or less, Ar gas pressure 3.0+m+Torr.

RFパワー200111、基板回転速度15rpm、作
製時間20分であった。次に、記録層上に保護層を誘電
層と同様の材料、同様の作製方法で同様の膜厚に形成し
、さらにその上にUvレジン(大日精化@製のUDAl
、−39(K))をIO癖の膜厚にスピン塗布した後、
紫外線を照射することによりカバー層を形成して、第4
図に示す層構成の光磁気ディスクを得た。
The RF power was 200111, the substrate rotation speed was 15 rpm, and the manufacturing time was 20 minutes. Next, a protective layer is formed on the recording layer using the same material as the dielectric layer, using the same manufacturing method, and having the same thickness.
, -39(K)) to a film thickness of IO habit,
A cover layer is formed by irradiating ultraviolet rays, and a fourth layer is formed.
A magneto-optical disk having the layer structure shown in the figure was obtained.

実施例2〜6及び比較例1,3 プラスチック基板、記録層、誘電層、保護層及びカバー
層(接合層)として表−1に示す材料を使用し1表−2
に示す膜厚で各層を作製し、第4図に示す層構成の光磁
気ディスクを得た。各基板の方法は実施例1と同様であ
る。記録層、誘電層及び保護層はスパッタ法又は蒸着法
により作製し、カバー層又は接合層はUvレジンの場合
には実施例1と同様にスピン塗布した後に紫外線照射を
行い、熱可塑性ホットメルトレジンの場合は熱ローラで
塗布して作製した。
Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 and 3 The materials shown in Table 1 were used as the plastic substrate, recording layer, dielectric layer, protective layer, and cover layer (bonding layer).
Each layer was fabricated with the thickness shown in Figure 4 to obtain a magneto-optical disk having the layer structure shown in Figure 4. The method for each substrate is the same as in Example 1. The recording layer, dielectric layer and protective layer are prepared by sputtering or vapor deposition, and in the case of a cover layer or bonding layer made of UV resin, spin coating is performed in the same manner as in Example 1, followed by ultraviolet irradiation, and thermoplastic hot melt resin is prepared. In the case of , it was made by applying with a heated roller.

実施例7〜10及び比較例2,4 ガラス基板、記録層、誘電層、断熱層、反射層及びカバ
ー層としてそれぞれ表−1に示す材料を使用し1表−2
に示す膜厚で各層を作製し、第5図に示す層構成の光磁
気ディスクを得た。ガラス基板の直径は130mm、厚
さは1.2+mとした。記録層、誘電層、カバー層の作
製方法は上述の場合と同様とし、断熱層は誘電層と同様
の作製方法を使用し。
Examples 7 to 10 and Comparative Examples 2 and 4 The materials shown in Table 1 were used as the glass substrate, recording layer, dielectric layer, heat insulating layer, reflective layer and cover layer, respectively.
Each layer was fabricated with the film thickness shown in Figure 5 to obtain a magneto-optical disk having the layer structure shown in Figure 5. The diameter of the glass substrate was 130 mm, and the thickness was 1.2+m. The recording layer, dielectric layer, and cover layer were manufactured in the same manner as described above, and the heat insulating layer was manufactured using the same method as the dielectric layer.

反射層はスパッタ法又は蒸着法により作製した。The reflective layer was produced by sputtering or vapor deposition.

以上のようにして作製した各光磁気ディスクの特性(キ
ュリー温度Tc(50〔Oe/℃〕、保磁力(koe)
 、 4 πMs(Gauss) 、 He、、150
(Oa/”C)、記録速度(rplll)、記録レーザ
パワー(mす)、C/へ(dB))を表−3に比較して
示す。
Characteristics of each magneto-optical disk produced as described above (Curie temperature Tc (50 [Oe/℃], coercive force (koe))
, 4 πMs (Gauss) , He, , 150
(Oa/"C), recording speed (rpllll), recording laser power (msu), and C/" (dB)) are shown in Table 3 for comparison.

表−3においてHcs o / 50 (Os/ ”C
)はキュリー温度Tcより50℃低い温度における保磁
力He、。を温度50″で割った値である。また記録速
度はその右欄における記録レーザパワー(C/へが飽和
するパワー)で記録可能なディスク回転数を表わす。記
録はCAVでディスク(直径130a++)の半径60
mmの位置に行った。
In Table 3, Hcs o / 50 (Os/”C
) is the coercive force He at a temperature 50°C lower than the Curie temperature Tc. is the value divided by the temperature 50''.The recording speed also indicates the number of disk rotations that can be recorded with the recording laser power (power at which C/to is saturated) in the right column.Recording is performed using a CAV disk (diameter 130a++). radius of 60
I went to the mm position.

表−3かられかるように、実施例1〜10の光磁気ディ
スクはいずれもキュリー温度Tcが180℃以下、補償
温度が室温以上、Hc、。150(Os/℃)が20以
−ヒの特性を有し、10mW以下(λ=770−850
nm)の記録レーザパワー(媒体面)、ディスク回転数
360Orpm、線速22.6m/秒、デユーティ50
%、記録周波数10〜20MH2での高速記録が出来、
その記録ビットは第2図(a)の様に形状はシャープで
長さも1μm以下、さらにCハも53以上と高密度記録
が可能であった。なお実施例2の記録層は第1図の磁性
合金膜に対応している。
As can be seen from Table 3, all of the magneto-optical disks of Examples 1 to 10 had a Curie temperature Tc of 180° C. or lower, and a compensation temperature Hc of room temperature or higher. 150 (Os/℃) has characteristics of 20 or more, and 10mW or less (λ = 770-850
nm) recording laser power (medium surface), disk rotation speed 360 Orpm, linear velocity 22.6 m/s, duty 50
%, high-speed recording is possible at a recording frequency of 10 to 20 MH2,
As shown in FIG. 2(a), the recording bits had a sharp shape, a length of 1 μm or less, and a C of 53 or more, allowing high-density recording. Note that the recording layer of Example 2 corresponds to the magnetic alloy film shown in FIG.

一方、比較例1,2の光磁気ディスクはキュリー温度T
cは比較的低いものの、Has 。/ 50 (Oe/
 50〔Oe/℃〕の値が小さく、ガラス基板を用いた
比較例2の場合には記録速度は1800rpmが限度で
あり、またその記録ビットの形状も少し乱れていた。比
較例3,4はキュリー温度Tcが高く、しかもHca 
。/ 50 (Oe/ ℃)の値が小さく、プラスチッ
ク基板を用いた比較例3の場合でも記録速度は1800
rpmが限度であり、その記録ビットの形状は大きく乱
れ、Cハが低く、高密度記録は困難であった。なお、比
較例3の記録層は第1図の磁性合金膜に対応している。
On the other hand, the magneto-optical disks of Comparative Examples 1 and 2 have a Curie temperature of T
Although c is relatively low, Has. / 50 (Oe/
In the case of Comparative Example 2 in which the value of 50 [Oe/° C.] was small and a glass substrate was used, the recording speed was limited to 1800 rpm, and the shape of the recorded bits was also slightly disordered. Comparative Examples 3 and 4 have a high Curie temperature Tc, and Hca
. /50 (Oe/℃) is small, and even in the case of Comparative Example 3 using a plastic substrate, the recording speed was 1800
rpm was the limit, the shape of the recorded bits was greatly disordered, C was low, and high-density recording was difficult. Note that the recording layer of Comparative Example 3 corresponds to the magnetic alloy film shown in FIG.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳細に説明したように、本発明の光磁気記録媒体に
よれば、磁性合金膜の組成を補償組成に対し希土類金属
リッチとし、補償温度が室温以上かつキュリー温度が2
00℃以下、かつキュリー温度より50℃低い温度にお
ける保磁力の勾配値Hc、。
As explained in detail above, according to the magneto-optical recording medium of the present invention, the composition of the magnetic alloy film is rich in rare earth metals relative to the compensation composition, and the compensation temperature is equal to or higher than room temperature and the Curie temperature is 2.
Gradient value Hc of coercive force at a temperature of 00°C or lower and 50°C lower than the Curie temperature.

150を20以上と規定したので、記録感度が向上する
とともに記録ビット長が短かくかつその形状がシャープ
となり、10mW以下の低記録レーザパワーで、ディス
ク回転数360Orpm、 l;l速22.6m/秒、
記録周波数10〜20MHzの高速高密度記録が可能と
なる。
Since 150 is defined as 20 or more, the recording sensitivity is improved, the recording bit length is short and the shape is sharp, and with a low recording laser power of 10 mW or less, the disc rotation speed is 360 Orpm, and the speed is 22.6 m/l. seconds,
High-speed, high-density recording at a recording frequency of 10 to 20 MHz becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(A)は本発明による光磁気記録媒体の保磁力1
1cと4πMsの温度特性を従来例と比較して示すグラ
フ、第1図(B)は磁性合金膜上の熱拡散等混線を示す
図、第2図は光変調法により記録したビット形状を示す
図、第3図は磁界変調法により記録したビット形状を示
す図、第4図はプラスチック基板を用いた本発明による
光磁気記録媒体の層構成例を示す断面図、第5図はガラ
ス基板を用いた本発明による光磁気記録媒体の層構成例
を示す断面図、第6図は光磁気ディスクにおける磁性J
〜膜厚と記録レーザパワーとの関係を示す図である。 1.11・・・基板        2,12・・・誘
電層3.13・・・記録層         4・・・
保護1〜5・・・カバー層又は接合11  14・・・
断熱層15・・・反射ffi         16・
・・カバー層特許出願人 株式会社 リ  コ 代理人弁理士 池 浦敏明(ばか1名)第2図 第3図 第4 図 箋1図CB) 第5図 第6図
FIG. 1(A) shows the coercive force 1 of the magneto-optical recording medium according to the present invention.
A graph showing the temperature characteristics of 1c and 4πMs in comparison with a conventional example. Figure 1 (B) is a diagram showing heat diffusion and crosstalk on a magnetic alloy film. Figure 2 shows the bit shape recorded by the optical modulation method. 3 is a diagram showing a bit shape recorded by the magnetic field modulation method, FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of the layer structure of a magneto-optical recording medium according to the present invention using a plastic substrate, and FIG. FIG. 6 is a sectional view showing an example of the layer structure of the magneto-optical recording medium according to the present invention used.
- It is a diagram showing the relationship between film thickness and recording laser power. 1.11...Substrate 2,12...Dielectric layer 3.13...Recording layer 4...
Protection 1 to 5...Cover layer or bonding 11 14...
Heat insulation layer 15...Reflection ffi 16.
...Cover layer patent applicant Rico Co., Ltd. Patent attorney Toshiaki Ikeura (one idiot) Figure 2 Figure 3 Figure 4 Notebook 1 CB) Figure 5 Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)少なくとも1種以上の希土類金属と少なくとも1
種以上の遷移金属とからなり、膜面と垂直な方向に磁化
容易軸を有する非晶質磁性合金膜を記録層とする光磁気
記録媒体において、 前記磁性合金膜における希土類金属の濃度が補償組成の
近傍でかつ該補償組成に対し高濃度(リッチ)側にあり
、 前記磁性合金膜の補償温度が室温以上でかつキュリー温
度が200℃以下であり、さらに、前記キュリー温度よ
り50℃低い温度における前記磁性合金膜の保磁力をH
_c_5_0とするとき、勾配値H_c_5_0/50
〔Oe/℃〕が20以上であることを特徴とする光磁気
記録媒体。
(1) At least one rare earth metal and at least one
In a magneto-optical recording medium having as a recording layer an amorphous magnetic alloy film comprising at least one transition metal and having an axis of easy magnetization in a direction perpendicular to the film surface, the concentration of the rare earth metal in the magnetic alloy film has a compensation composition. and is on the high concentration (rich) side with respect to the compensation composition, the compensation temperature of the magnetic alloy film is at least room temperature and the Curie temperature is 200 °C or less, and further at a temperature 50 °C lower than the Curie temperature. The coercive force of the magnetic alloy film is H
When _c_5_0, the gradient value H_c_5_0/50
A magneto-optical recording medium characterized in that [Oe/°C] is 20 or more.
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