JPH0159580B2 - - Google Patents

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JPH0159580B2
JPH0159580B2 JP5106482A JP5106482A JPH0159580B2 JP H0159580 B2 JPH0159580 B2 JP H0159580B2 JP 5106482 A JP5106482 A JP 5106482A JP 5106482 A JP5106482 A JP 5106482A JP H0159580 B2 JPH0159580 B2 JP H0159580B2
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JP
Japan
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layer
photosensitive
negative
photosensitive layer
insulating layer
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Application number
JP5106482A
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Japanese (ja)
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JPS58169154A (en
Inventor
Takao Nakayama
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Priority to GB08305794A priority patent/GB2119942B/en
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Priority to DE19833307613 priority patent/DE3307613A1/en
Publication of JPS58169154A publication Critical patent/JPS58169154A/en
Publication of JPH0159580B2 publication Critical patent/JPH0159580B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G13/00Electrographic processes using a charge pattern
    • G03G13/26Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な平版印刷版の製造方法およびこ
の方法に使用するための新規な平版印刷版用感光
材料に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel method for producing a lithographic printing plate and a novel photosensitive material for a lithographic printing plate for use in this method.

従来、光導電性層を含み電子写真法を利用する
タイプの印刷版用感光材料は知られており、例え
ば、光導電性絶縁層、フオトレシスト層、金属板
層、および支持体からなる印刷版用感光材料が提
案されている。
Conventionally, photosensitive materials for printing plates that include a photoconductive layer and utilize electrophotography are known, for example, photosensitive materials for printing plates that include a photoconductive insulating layer, a photoresist layer, a metal plate layer, and a support. Photosensitive materials have been proposed.

この感光材料を用いて印刷板を製造するには先
づ光導電性層を均一に帯電させ、フオトレジスト
層の感光しない光線を用いて像露光して光導電性
層に静電潜像を形成し、この潜像をトナー現像
し、トナー像を定着しまたは定着しないで、先の
露光条件とは異なる条件下で露光してフオトレジ
スト層の露光部を硬化させ、次いでトナー像と光
導電性層とを除去し、未硬化のフオトレジストを
溶剤で除去した後、金属板層をエツチングし、金
属板上に残存しているフオトレジストを除去する
という複雑な工程を必要とするものであつた。そ
して良質の印刷板の製造には熟練を要するばかり
でなく、光導電性層に形成される静電潜像の現像
が乾式で行われるので解像性にも制限があり、ま
たフオトレジスト層の除去や金属板層のエツチン
グ操作のために最終的に得られる印刷画像の鮮明
度にはなお不満足な点があつた。
To manufacture printing plates using this photosensitive material, the photoconductive layer is first uniformly charged, and an electrostatic latent image is formed on the photoconductive layer by imagewise exposure using a light beam that is not sensitive to the photoresist layer. This latent image is then developed with toner, the toner image is exposed with or without fixation under conditions different from the previous exposure conditions to harden the exposed areas of the photoresist layer, and then the toner image and the photoconductor are exposed. This method required a complicated process of removing the uncured photoresist with a solvent, etching the metal plate layer, and removing the photoresist remaining on the metal plate. . Manufacturing high-quality printing plates not only requires skill, but also limits resolution as the electrostatic latent image formed on the photoconductive layer is developed dryly. Due to the removal and etching operations of the metal plate layer, the sharpness of the final printed image was still unsatisfactory.

このような欠点を解決するために、先に、親水
性表面を有する導電性支持体、ポジ型感光層およ
び光等電性絶縁層を有する感光材料を、 (1) 該感光材料の光導電性層上に静電写真的に潜
像を形成する段階 (2) ポジ型感光層が感光性を有する波長の光に対
して不透明な現像剤粒子を含む液体現像剤で該
潜像を現像する段階、 (3) 該ポジ型感光層を上記段階(2)で得た現像像を
介して露光する段階、 (4) 該ポジ型感光層の現像像を有しない部分を選
択的に除去する段階で処理すること からなり、該ポジ型感光層と該光導電性絶縁層と
は同一の層としてかまたはこの順序で別個に該支
持体上に設けられており、該光導電性絶縁層は実
質的に正負両極性に帯電可能であつて、前記段階
(4)におけるポジ型感光層の選択的除去を阻害しな
い性質を有することを特徴とする平版印刷版の製
造方法及び親水性表面を有する導電性支持体、ポ
ジ型感光層および光導電性絶縁層を有する感光材
料であつて、該ポジ型感光層と該光導電性絶縁層
とは同一の層としてかまたはこの順序で別個に該
支持体上に設けられており、該光導電性絶縁層は
実質的に正負両極性に帯電可能であつてかつ現像
像を有するポジ型感光層の選択的除去を阻害しな
い性質を有することを特徴とする平版印刷版用感
光材料が同一出願人によつて提案された(特開昭
57−90648号公報)。
In order to solve such drawbacks, first, a photosensitive material having a conductive support having a hydrophilic surface, a positive photosensitive layer, and a photoisoelectric insulating layer was prepared by: (1) photoconductivity of the photosensitive material; forming an electrostatographic latent image on the layer (2) developing the latent image with a liquid developer containing developer particles that are opaque to light at wavelengths to which the positive-working photosensitive layer is sensitive; (3) exposing the positive photosensitive layer to light through the developed image obtained in step (2); (4) selectively removing a portion of the positive photosensitive layer that does not have the developed image; the positive-working photosensitive layer and the photoconductive insulating layer are provided on the support either as the same layer or separately in this order, and the photoconductive insulating layer is substantially can be charged to both positive and negative polarities, and the step
(4) A method for producing a lithographic printing plate characterized by having a property that does not inhibit selective removal of a positive-working photosensitive layer, a conductive support having a hydrophilic surface, a positive-working photosensitive layer, and a photoconductive insulating layer. The positive photosensitive layer and the photoconductive insulating layer are provided on the support as the same layer or separately in this order, and the photoconductive insulating layer is A photosensitive material for lithographic printing plates is proposed by the same applicant, which is characterized in that it can be charged to substantially both positive and negative polarities and that it does not inhibit the selective removal of a positive photosensitive layer having a developed image. (Tokkai Sho)
57-90648).

この方法により前記の従来法における欠点を除
くことができ、工程の簡易化と優れた解像力が得
られるという点では一応の目的を達することがで
きたが、感光層としてポジ型感光層を用いている
ので、ポジ原稿からポジ画像を得たり、ネガ原稿
からネガ画像を得る場合には便利であつたが、例
えばネガ原稿からポジ画像を得る場合には光導電
性絶縁層にトナー像を作る場合に反転現像を行わ
なければならず、正現像に較べてやや複雑な現像
工程を必要とした。
Although this method was able to eliminate the drawbacks of the conventional method mentioned above and to some extent achieved the objectives in terms of simplifying the process and obtaining excellent resolution, it was not possible to use a positive photosensitive layer as the photosensitive layer. This was useful when obtaining a positive image from a positive original or a negative image from a negative original. Reverse development had to be performed, which required a slightly more complicated development process than normal development.

本発明者は上記の方法において、ポジ型感光層
に代えてネガ型感光層を用いることによりネガ原
稿から優れた解像力のポジ画像を有する平版印刷
を正現像によつて得ることができた。
In the above method, the present inventor was able to obtain a lithographic print having a positive image with excellent resolution from a negative original by normal development by using a negative photosensitive layer in place of the positive photosensitive layer.

従つて、本発明の目的は、電子写真法を利用し
てネガ画像からポジ画像を有する平版印刷版の製
造方法を提供するにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a lithographic printing plate having a positive image from a negative image using electrophotography.

本発明の他の目的は上記の方法に用いる平版印
刷版用感光材料を提供するにある。
Another object of the present invention is to provide a photosensitive material for lithographic printing plates used in the above method.

すなわち、本発明は親水性表面を有する導電性
支持体上にネガ型感光層及び光導電性絶縁層を同
一の層またはネガ型感光層を下層とする二層とし
て有する感光材料を電子写真的に処理して光導電
性絶縁層上に静電潜像を形成し、ネガ型感光層が
感光性を有する波長の光に対して不透明な現像剤
粒子で該潜像を現像し、得られた現像像を介して
該ネガ型感光層を露光し、次いで該ネガ型感光層
の非露光部又は非露光部とその上に設けられてい
る光導電性絶縁層とを特徴とする平版印刷版の製
造方法及び親水性表面を有する導電性支持上に、
ネガ型感光層及び光導電性絶縁層を同一の層また
はネガ型感光層を下層とする二層として有し、該
光導電性絶縁層は電子写真的に現像粒子の像を形
成することができ、該現像剤粒子はネガ型感光層
が感光性を有する波長の光に対して不透明であ
り、且つ該光導電性絶縁層がネガ型感光層の選択
的除去を阻害しない性質を有することを特徴とす
る平版印刷用感光材料。
That is, the present invention provides electrophotographic processing of a photosensitive material having a negative photosensitive layer and a photoconductive insulating layer as the same layer or two layers with a negative photosensitive layer as an underlying layer on a conductive support having a hydrophilic surface. processing to form an electrostatic latent image on the photoconductive insulating layer and developing the latent image with developer particles that are opaque to light at wavelengths to which the negative-working photosensitive layer is sensitive; Production of a lithographic printing plate, characterized in that the negative-working photosensitive layer is imagewise exposed to light, and then the unexposed areas of the negative-working photosensitive layer or the unexposed areas and a photoconductive insulating layer provided thereon. on a conductive support with a method and a hydrophilic surface;
It has a negative-tone photosensitive layer and a photoconductive insulating layer in the same layer or as two layers with a negative-tone photosensitive layer as an underlying layer, and the photoconductive insulating layer is capable of forming an image of developer particles electrophotographically. , the developer particles are opaque to light of a wavelength to which the negative photosensitive layer is photosensitive, and the photoconductive insulating layer has a property that does not inhibit selective removal of the negative photosensitive layer. A photosensitive material for lithographic printing.

本発明方法を図面を参照しながら説明する。第
1図は本発明による平版印刷版の製造工程を順次
図示したものであり、第1図a工程においては接
地された導電性支持体3の上にネガ型感光層2を
介して設けられた光導電性絶縁層1の表面に帯電
器4により帯電させる。帯電器は静電写真技術に
おいて普通に使用されているコロトロン型のもの
が用いられる。次にランプ5により像露光bして
光導電性絶縁層1上の非画像部の電荷を除去す
る。このとき原稿6としてポジ原稿を使用すれば
ポジ潜像が得られ、ネガ原稿を使用すればネガ潜
像が得られる。静電潜像を形成された感光板は次
に液体現像c工程に付されトナー像7が形成され
る。現像時間は感光体の帯電電位、トナーのゼー
タ電位、現像電極、現像方法によつて変化する
が、通常数秒〜1分間の範囲内で次の段階で光パ
ターンマスクとして使用するのに充分な濃度が得
られる。光導電性絶縁層を第1図に示すように正
に帯電する場合には負極性のトナーを用い、負に
帯電する場合には正極性のトナーを用いる。な
お、液体現像を行う場合には一般に現像電極が用
いられる。
The method of the present invention will be explained with reference to the drawings. FIG. 1 sequentially illustrates the manufacturing process of a lithographic printing plate according to the present invention. In step a of FIG. 1, a negative photosensitive layer 2 is provided on a grounded conductive support 3. The surface of the photoconductive insulating layer 1 is charged with a charger 4 . The charger used is of the corotron type commonly used in electrostatic photography. Next, image exposure (b) is performed using the lamp 5 to remove the electric charge on the non-image area on the photoconductive insulating layer 1. At this time, if a positive original is used as the original 6, a positive latent image will be obtained, and if a negative original is used, a negative latent image will be obtained. The photosensitive plate on which the electrostatic latent image has been formed is then subjected to a liquid development step c to form a toner image 7. The development time varies depending on the charging potential of the photoreceptor, the zeta potential of the toner, the development electrode, and the development method, but it usually takes a few seconds to one minute to reach a sufficient density to be used as a photopattern mask in the next step. is obtained. As shown in FIG. 1, when the photoconductive insulating layer is to be charged positively, a toner of negative polarity is used, and when the photoconductive insulating layer is to be charged negatively, a toner of positive polarity is used. Note that when liquid development is performed, a development electrode is generally used.

現像が終つた感光板は現像液をスキージで除去
した後、例えば紫外線ランプ8により全面露光d
工程を行う。この露光により、ネガ型感光層の非
画像部(光導電層にトナー像を有さない部分)は
紫外線照射を受けて非可溶化される。d工程で全
面露光処理を経た感光板を溶解e−1工程または
e−2工程にてアルカリ溶液で処理すると、ネガ
型感光層は非照射部が可溶性で照射部が非可溶化
されるので、画像部(非照射部)が除去され、非
画像部(照射部)が支持体上に残り、ネガ画像に
対してポジ像を有する平版印刷版が得られる。溶
解工程により平版印刷版を作る場合にe−1工程
のように光導電層1を感光層2の上に残しておい
てもよく、またe−2工程のように光導電層を除
き感光層2を支持体3上に残してもよい。
After the development has been completed, the developing solution is removed from the photosensitive plate using a squeegee, and then the entire surface is exposed to light using, for example, an ultraviolet lamp 8.
Perform the process. As a result of this exposure, the non-image area of the negative photosensitive layer (the area where the photoconductive layer does not have a toner image) is irradiated with ultraviolet rays and becomes insoluble. When the photosensitive plate that has been fully exposed in step d is treated with an alkaline solution in the melting step e-1 or e-2, the non-irradiated area of the negative photosensitive layer becomes soluble and the irradiated area becomes insoluble. The image area (non-irradiated area) is removed, the non-image area (irradiated area) remains on the support, and a lithographic printing plate having a positive image as opposed to a negative image is obtained. When making a lithographic printing plate by a dissolving process, the photoconductive layer 1 may be left on the photosensitive layer 2 as in the e-1 process, or the photoconductive layer is removed and the photosensitive layer is removed as in the e-2 process. 2 may remain on the support 3.

本発明の他の態様として光導電性絶縁層1とネ
ガ型感光層2との間に中間層9を設た感光材料を
使用することができる(第4図参照)。この中間
層は光導電性絶縁層の表面に負荷された電荷と逆
極性の電荷が導電性支持体のネガ型感光層側に保
持されるのを促進するために導電性であるが、こ
の中間層を設けることによつて光導電性絶縁層が
ネガ型感光層に浸透、混合するのを防止すること
ができる。この中間層はネガ型感光層に対して不
溶性である適当な導電性を有する水溶性樹脂であ
り、溶解e−2工程により溶解除去されるが同時
にトナー像を有する光導電性絶縁層も脱離される
ので支持体上にポジ型感光層の刷面を有する平版
用印刷版が得られる。
As another embodiment of the present invention, a photosensitive material can be used in which an intermediate layer 9 is provided between the photoconductive insulating layer 1 and the negative photosensitive layer 2 (see FIG. 4). This intermediate layer is conductive in order to promote the retention of charges of opposite polarity to the charges loaded on the surface of the photoconductive insulating layer on the negative photosensitive layer side of the conductive support. By providing the layer, it is possible to prevent the photoconductive insulating layer from penetrating and mixing with the negative photosensitive layer. This intermediate layer is a water-soluble resin with appropriate conductivity that is insoluble with respect to the negative photosensitive layer, and is dissolved and removed in the dissolution e-2 step, but at the same time the photoconductive insulating layer having the toner image is also detached. As a result, a lithographic printing plate having a positive-working photosensitive layer on the support can be obtained.

本発明による平版印刷版用感光材料において光
導電性絶縁層とネガ型感光層とが同一の層として
形成されている場合にこの層は光導電性材料粉
末、絶縁性結着剤樹脂およびネガ型感光剤溶液を
混合して均一な分散液を作り、これを導電性支持
体の砂目立てした面に塗布し、乾燥して形成する
ことができる。
In the photosensitive material for lithographic printing plates according to the present invention, when the photoconductive insulating layer and the negative-tone photosensitive layer are formed as the same layer, this layer consists of the photoconductive material powder, the insulating binder resin and the negative-tone photosensitive layer. The photosensitive agent solution can be mixed to form a uniform dispersion, which can be applied to the grained surface of the conductive support and dried.

一般に光導電性絶縁層の厚さは帯電性、光透過
性、現像時間、解像度に影響を及ぼすが、通常は
0.5〜5μ、好ましくは1〜2μの範囲内で最良の結
果が得られる。
In general, the thickness of the photoconductive insulating layer affects chargeability, optical transparency, development time, and resolution;
Best results are obtained within the range 0.5-5μ, preferably 1-2μ.

中間層の厚さは溶解工程で使用する溶剤の浸透
性、および解像力によつてきまり、通常0.5〜5μ、
好ましくは0.2〜0.5μの範囲内である。
The thickness of the intermediate layer depends on the permeability of the solvent used in the dissolution process and the resolution, and is usually 0.5 to 5 μm.
Preferably it is within the range of 0.2 to 0.5μ.

本発明による光導電性絶縁層に使用される光導
電性材料としては従来一般に電子写真用感光材料
として知られている多くのものが挙げられるが、
絶縁性結着剤樹脂中に分散または溶解した形で使
用することが好ましく、かつ下層にあるポジ型感
光層の吸収波長光を吸収しないものを採用するか
または光導電性絶縁層の厚さをできるだけ薄くし
て透過光量を大きくすることが好ましい。光導電
性絶縁層は正負何れにも帯電させて使用すること
ができるが、正コロナ帯電に適する光導電性材料
としてはSe、Se−Te、PbO等の無機材料、およ
びアントラセン、ペリレン、テトラセン、カルバ
ゾール、テトラベンジル−p−フエニレンジアミ
ン、アシルヒドラゾン誘導体、オキサジアゾール
誘導体、ピラゾリン誘導体、イミダゾロン誘導
体、イミダゾチオン誘導体、ベンズイミダゾール
誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチア
ゾール誘導体等の低分子物質、インジゴ、メタル
フリーフタロシアニン、金属フタロシアニン、ス
クエアリウム、ジメチルペリルイミド、などの有
機顔料、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリア
セナフチレン、ポリビニルアントラセン、ポリビ
ニルピレン、ポリビニルテトラセン、ポリビニル
ペリレン等の有機高分子物質が用いられる。負コ
ロナ帯電に適する光導電性材料としてはZnO、
CdS、TiO等の無機材料、トリニトロフルオレノ
ン、テトラニトロフルオレノン、ジニトロアント
ラセン、テトラシアノピレン等の低分子物質、ク
ロロジアンブルー等の有機願料、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾールと2,4,7−トリニトロフルオ
レノンなどの錯体が用いられる。そして両性帯電
に適する光導電性材料としては前記有機物質と結
着剤樹脂との組合せを使用することができるが、
特に実用に供する高感度を示す材料としてはメタ
ルフリーフタロシアニン、金属フタロシアニン、
オキサジアゾール誘導体、ビラゾリン誘導体が挙
げられる。又、さらに、電荷発生剤と電荷輸送剤
とを含む感光材料、アルカリ可溶性樹脂とカルバ
ゾール等の光導電物質との共重合体等も使用する
ことができる。
Examples of the photoconductive material used in the photoconductive insulating layer of the present invention include many conventionally known photosensitive materials for electrophotography.
It is preferable to use an insulating binder dispersed or dissolved in a resin, and to use one that does not absorb the absorption wavelength light of the underlying positive photosensitive layer, or to reduce the thickness of the photoconductive insulating layer. It is preferable to make it as thin as possible to increase the amount of transmitted light. The photoconductive insulating layer can be used by being charged either positively or negatively, but photoconductive materials suitable for positive corona charging include inorganic materials such as Se, Se-Te, and PbO, as well as anthracene, perylene, tetracene, Low molecular weight substances such as carbazole, tetrabenzyl-p-phenylenediamine, acylhydrazone derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoline derivatives, imidazolone derivatives, imidazothion derivatives, benzimidazole derivatives, benzoxazole derivatives, benzthiazole derivatives, indigo, metal-free Organic pigments such as phthalocyanine, metal phthalocyanine, squarium, and dimethylperylimide, and organic polymer substances such as poly-N-vinylcarbazole, polyacenaphthylene, polyvinylanthracene, polyvinylpyrene, polyvinyltetracene, and polyvinylperylene are used. Photoconductive materials suitable for negative corona charging include ZnO,
Inorganic materials such as CdS and TiO, low molecular weight substances such as trinitrofluorenone, tetranitrofluorenone, dinitroanthracene, and tetracyanopyrene, organic materials such as chlorodiane blue, poly-N-vinylcarbazole and 2,4,7- Complexes such as trinitrofluorenone are used. As a photoconductive material suitable for amphoteric charging, a combination of the organic substance and a binder resin can be used.
In particular, materials that exhibit high sensitivity for practical use include metal-free phthalocyanine, metal phthalocyanine,
Examples include oxadiazole derivatives and virazoline derivatives. Furthermore, photosensitive materials containing a charge generating agent and a charge transporting agent, copolymers of alkali-soluble resins and photoconductive substances such as carbazole, etc. can also be used.

光導電性絶縁層は、溶解e−1,e−2工程に
おいてポジ型感光層の選択的除去を阻害しないた
め、すなわちその非画像部がネガ型感光層の非画
像部と共に溶解除去されるために、アルカリ可溶
性樹脂を含有していることが好ましい。このよう
なアルカリ可溶性樹脂としては高分子有機光導電
性物質の結着剤としてあるいは低分子有機光導電
性物質の溶媒として役立つフイルム形成性のある
絶縁性樹脂が好ましく、このような樹脂としては
例えばフエノール−ホルムアルデヒド樹脂、メタ
クレゾールホルムアルデヒド樹脂、スチレン−無
水マレイン酸共重合体、ポリアクリル酸−ポリア
クリル酸アミド共重合体、フマル酸エチレングリ
コール共重合体、メチルビニルエーテル−無水マ
レイン酸共重合体、アクリロイルグリシン−酢酸
ビニル共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリビ
ニルアルコール、ポリアミド、アルカリ可溶アジ
ド樹脂、ハロゲン化ポリスチレン等の合成樹脂お
よびシエラツク、プロテイン、グルー等の天然樹
脂が挙げられる。
The photoconductive insulating layer does not inhibit selective removal of the positive photosensitive layer in the dissolution e-1 and e-2 steps, that is, its non-image area is dissolved and removed together with the non-image area of the negative photosensitive layer. Preferably, it contains an alkali-soluble resin. Such alkali-soluble resins are preferably insulating resins with film-forming properties that serve as binders for high-molecular organic photoconductive substances or as solvents for low-molecular organic photoconductive substances. Examples of such resins include, for example. Phenol-formaldehyde resin, metacresol formaldehyde resin, styrene-maleic anhydride copolymer, polyacrylic acid-polyacrylamide copolymer, ethylene glycol fumarate copolymer, methyl vinyl ether-maleic anhydride copolymer, acryloyl Examples include synthetic resins such as glycine-vinyl acetate copolymer, polyvinylpyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyamide, alkali-soluble azide resin, and halogenated polystyrene, and natural resins such as silica, protein, and glue.

光導電性絶縁層に使用される光導電性材料粒子
の結着剤としては該層の帯電性を向上させるため
に絶縁性の樹脂、例えばポリエチレンテレフタレ
ート、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアク
リレート、ポリメチルメタクリレート、ポリビニ
ルフルオライド、ポリビニルクロライド、ポリビ
ニルアセテート、ポリスチレン、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、ポリメタクリレート、シリコン
樹脂、塩化ゴム、エポキシ樹脂、純および変性ア
ルキツド樹脂、ポリエチルメタクリレート、ポリ
−n−ブチルメタクリレート、酢酸セルロース、
ケトン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リアクリロニトリル、ロジン誘導体、ポリ塩化ビ
ニリデン、ニトロセルロースが挙げられる。
As a binder for the photoconductive material particles used in the photoconductive insulating layer, insulating resins such as polyethylene terephthalate, polyimide, polycarbonate, polyacrylate, polymethyl methacrylate, etc. can be used to improve the chargeability of the layer. Polyvinyl fluoride, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polystyrene, styrene-butadiene copolymer, polymethacrylate, silicone resin, chlorinated rubber, epoxy resin, pure and modified alkyd resin, polyethyl methacrylate, poly-n-butyl methacrylate, cellulose acetate. ,
Examples include ketone resin, polyethylene, polypropylene, polyacrylonitrile, rosin derivatives, polyvinylidene chloride, and nitrocellulose.

光導電性絶縁層とポジ型感光層との間に場合に
より設けられる中間層としては適当な導電性を有
する水溶性樹脂、例えばポリビニルアルコール、
アルキルヒドロキシアルキルセルロース、ポリア
クリル酸およびその誘導体、ポリアクリルアミ
ド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメチルエ
ーテル、無水マレイン酸とビニルあるいはアクリ
ル化合物との反応体などが用いられる。
As an optional intermediate layer between the photoconductive insulating layer and the positive photosensitive layer, a water-soluble resin having suitable conductivity, such as polyvinyl alcohol,
Alkylhydroxyalkylcellulose, polyacrylic acid and its derivatives, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyvinylmethyl ether, a reaction product of maleic anhydride and a vinyl or acrylic compound, and the like are used.

本発明に用いられるネガ型感光層の組成物は、
例えば、米国特許第2714066号明細書に記載され
ているジアゾ化合物又はジアゾ樹脂単独のもの
や、例えば米国特許第2826501号や英国特許第
1074392号明細書に記載されているようなジアゾ
化合物又はジアゾ樹脂と担体との混合物がある。
The composition of the negative photosensitive layer used in the present invention is:
For example, diazo compounds or diazo resins alone as described in US Pat. No. 2,714,066, US Pat.
There are mixtures of diazo compounds or diazo resins and carriers as described in US Pat. No. 1,074,392.

ジアゾ化合物にはジアゾニウム塩およびP−ジ
アゾフエニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合
物に代表されるジアゾ樹脂が含まれる。
Diazo compounds include diazonium salts and diazo resins typified by condensates of P-diazophenylamine and formaldehyde.

特に好ましいジアゾ化合物としては、P−ジア
ゾジフエニルアミンの塩、例えばフエノール塩、
フルオロカプリン酸塩、及びトリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸、4.4′−ビフエニルジスルホ
ン酸、5−ニトロオルト−トルエンスルホン酸、
5−スルホサルチル酸、2.5−ジメチルベンゼン
スルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3
−クロロベンゼンスルホン酸、3−プロモベンゼ
ンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベンゼン
スルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンス
ルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2
−メトキシ−4−ヒドロオキシ−5−ベンゾイル
−ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン
酸などのスルホン酸の塩などとホルムアルデヒド
との縮合物のように一分子中に2個以上のジアゾ
基を有する化合物である。この他望ましいジアゾ
化合物としては上記の塩を含む2.5−ジメトキシ
−4−P−トリルメルカプトンベンゼンジアゾニ
ウムとホルムアルデヒドの縮合物、2.5−ジメト
キシ−4−モルホリノベンゼンジアゾニウムとホ
ルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合
物、および特開昭48−33907号公報に記載されて
いる化合物がある。
Particularly preferred diazo compounds include salts of P-diazodiphenylamine, such as phenol salts,
fluorocaprate, and triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 4,4′-biphenyldisulfonic acid, 5-nitroortho-toluenesulfonic acid,
5-sulfosalicylic acid, 2.5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3
-Chlorobenzenesulfonic acid, 3-promobenzenesulfonic acid, 2-chloro-5-nitrobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2
-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl - A compound having two or more diazo groups in one molecule, such as a condensate of formaldehyde and a salt of a sulfonic acid such as benzenesulfonic acid or para-toluenesulfonic acid. . Other desirable diazo compounds include condensates of 2.5-dimethoxy-4-P-tolylmercaptonebenzenediazonium and formaldehyde, including the above salts, condensates of 2.5-dimethoxy-4-morpholinobenzenediazonium and formaldehyde or acetaldehyde, and There is a compound described in JP-A-48-33907.

更に他の有用なジアゾ化合物、米国特許第
2649373号明細書に記載されているような化合物
を含む。
Still other useful diazo compounds, U.S. Pat.
2649373.

もつとも好適なるジアゾ化合物はP−ジアゾジ
フエニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物の
2−メトキシ−4−ヒドロオキシ−5−ベンゾイ
ルベンゼンスルホン酸塩である。ジアゾ化合物と
共に用いられる担体としては、例えば特公昭52−
7364号公報や特開昭50−118802号公報に記載され
ているような2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト共重合体、特開昭54−9861号公報に記載の芳香
族性水酸基を有する単量体の共重合体、特開昭50
−30604号公報に記載のβ−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレートの重合体及びβ−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレートを50%以上含む共
重合体、及び特開昭56−9697号公報に記載の上記
(メタ)アクリレートの重合体又は共重合体の一
部を親水性のエーテル基を有する低分子量のポリ
ウレタン樹脂で置き換えたもの等が用いられる。
A particularly preferred diazo compound is 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate, a condensate of P-diazodiphenylamine and formaldehyde. Examples of carriers used with diazo compounds include
2-hydroxyethyl methacrylate copolymers as described in JP-A No. 7364 and JP-A-50-118802; copolymers of monomers having aromatic hydroxyl groups as described in JP-A-54-9861; Polymer, Japanese Unexamined Patent Publication 1973
The polymer of β-hydroxyethyl (meth)acrylate and the copolymer containing 50% or more of β-hydroxyethyl (meth)acrylate described in JP-A-30604, and the above (described in JP-A-56-9697) A meth)acrylate polymer or copolymer in which part of it is replaced with a low molecular weight polyurethane resin having a hydrophilic ether group is used.

又、その他のネガ作用を有する光重合性組成物
について説明する。光重合性組成物はバインダ
ー、付加重合性不飽和モノマー、および光重合開
始剤からなる。光重合性組成物のバインダーは、
メチル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル
酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体
のハーフエステル及びハーフアマイド、ベンジル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重
合体、ベンジル(メタ)アクリレート/イタコン
酸共重合体、スチレン/イタコン酸共重合体、酢
酸ビニル/クロトン酸共重合体、酸性フタル酸セ
ルロース、(メタ)アクリル酸/スチレン/アル
キル(メタ)アクリレート共重合体、等が使用で
きる。
Further, other photopolymerizable compositions having negative effects will be explained. The photopolymerizable composition consists of a binder, an addition polymerizable unsaturated monomer, and a photopolymerization initiator. The binder of the photopolymerizable composition is
Methyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid copolymer, half ester and half amide of styrene/maleic anhydride copolymer, benzyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid copolymer, benzyl (meth)acrylate /itaconic acid copolymer, styrene/itaconic acid copolymer, vinyl acetate/crotonic acid copolymer, acidic cellulose phthalate, (meth)acrylic acid/styrene/alkyl (meth)acrylate copolymer, etc. can be used. .

不飽和モノマーは、少なくとも1つの付加重合
性不飽和基を有する化合物が有用であるが、特に
望ましいものは、エチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールエタントリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ール及びジペンタエリスリトールのトリ−、テト
ラ−もしくはヘキサ(メタ)アクリレート、エポ
キシジ(メタ)クリレート、特公昭52−7361号公
報に開示されているようなオリゴアクリレート、
特公昭48−41708号公報に開示されているような
アクリルウレタン樹脂またはアクリルウレタンの
オリゴマー等である。
As the unsaturated monomer, compounds having at least one addition-polymerizable unsaturated group are useful, and particularly preferred are ethylene glycol di(meth)
Acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, trimethylolethane tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, neopentylglycol di(meth)acrylate, pentaerythritol and dipentaerythritol tri-, tetra- or Hexa(meth)acrylate, epoxy di(meth)acrylate, oligoacrylate as disclosed in Japanese Patent Publication No. 52-7361,
Examples include acrylic urethane resins and acrylic urethane oligomers as disclosed in Japanese Patent Publication No. 48-41708.

光重合開始剤としては、米国特許第2367660号
明細書に開示されているビシナールポリケタルド
ニル化合物、米国特許第2367661号及び第2367670
号明細書に開示されているα−カルボニル化合
物、米国特許第2448828号明細書に開示されてい
るアシロインエーテル、米国特許第2722512号明
細書に開示されているα−炭化水素で置換された
芳香族アシロイン化合物、米国特許第3046127号
及び第2951758号明細書に開示されている多核キ
ノン化合物、米国特許第3549367号明細書に開示
されているトリアリルイミダゾールダイマー/p
−アミノフエニルケトンの組合せ、特公昭51−
48516号公報に開示されているベンゾチアゾール
系化合物、特開昭54−74887号公報に開示されて
いるベンゾチアゾール系化合物/トリハロメチル
−s−トリアジン系化合物及び米国特許第
3751259号明細書に開示されているアクリジン及
びフエナジン化合物等がある。
As photopolymerization initiators, vicinal polyketaldonyl compounds disclosed in US Pat. No. 2,367,660, US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670 are used.
α-carbonyl compounds disclosed in US Pat. No. 2,448,828, acyloin ethers disclosed in US Pat. No. 2,722,512; acyloin compounds, polynuclear quinone compounds disclosed in U.S. Pat. No. 3,046,127 and No. 2,951,758, triallylimidazole dimer/p as disclosed in U.S. Pat.
- Combination of aminophenyl ketones, Special Publication 1977-
Benzothiazole compounds disclosed in Japanese Patent Publication No. 48516, benzothiazole compounds/trihalomethyl-s-triazine compounds disclosed in JP-A-54-74887, and U.S. Pat.
Examples include acridine and phenazine compounds disclosed in No. 3751259.

以上の他に更に熱重合防止剤を加えておくこと
が好ましく、例えばハイドロキノン、p−メトキ
シフエノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベン
ゾキノン、4.4′−チオビス(3−メチル−6−t
−ブチルフエノール)、2.2′−メチレンビス(4
−メチル−6−t−ブチルフエノール)、2−メ
ルカプトベンゾイミダゾール等が有用であり、ま
た場合によつては感光層の着色を目的として染料
もしくは顔料や焼出剤としてPH指示薬等を添加す
ることもできる。
In addition to the above, it is preferable to add a thermal polymerization inhibitor, such as hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4.4'-thiobis(3 -methyl-6-t
-butylphenol), 2,2'-methylenebis(4
-Methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, etc. are useful, and in some cases, dyes or pigments, and PH indicators etc. as printing agents may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. You can also do it.

感光層を紫外線で露光後、光導電層にトナーが
存在していた未露部を現像液で選択的に溶出除去
する。現像液の組成は、用いられるジアゾ化合物
や担体の種類によつて異なるが、一般にラウリル
アルコールサルフエートのナトリウム塩(モノゲ
ンY−100、第一工業製薬K.K.製、商品名)、ア
ルキルラウリル硫酸ナトリウム、硫酸ナトリウム
オクチル、硫酸ラウリルのアンモニウム塩、スル
ホン酸ナトリウムキシレン、N,N−ジヒドロキ
シエチレングリシンのモノナトリウム塩等の湿潤
剤又は無機アルカリ剤や有機アミン化合物等のア
ルカリを含む水溶液が用いられる。この場合、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、ペンシル
アルコール等の如きアルコール類、酢酸エチル、
酢酸ブチル等のカルボン酸エステル;メチルイソ
ブチルケトン等の如きケトン類;キシレンの如き
アルキル置換芳香族炭化水素などのような水混和
性有機溶剤を少量加えることが望ましい。
After exposing the photosensitive layer to ultraviolet light, the unexposed areas of the photoconductive layer where toner was present are selectively eluted and removed using a developer. The composition of the developer varies depending on the type of diazo compound and carrier used, but generally contains sodium salt of lauryl alcohol sulfate (Monogen Y-100, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku KK, trade name), sodium alkyl lauryl sulfate, Wetting agents such as sodium octyl sulfate, ammonium salt of lauryl sulfate, sodium xylene sulfonate, monosodium salt of N,N-dihydroxyethyleneglycine, or an aqueous solution containing an alkali such as an inorganic alkaline agent or an organic amine compound are used. In this case, alcohols such as ethylene glycol monobutyl ether, pencil alcohol, ethyl acetate,
It is desirable to add a small amount of a water-miscible organic solvent such as a carboxylic acid ester such as butyl acetate; a ketone such as methyl isobutyl ketone; or an alkyl-substituted aromatic hydrocarbon such as xylene.

このような組成のネガ型感光層は導電性支持体
上に通常約0.5〜7g/m2の量で塗布される。
A negative photosensitive layer having such a composition is usually coated on a conductive support in an amount of about 0.5 to 7 g/m 2 .

本発明による平版印刷版用感光材料の光導電性
絶縁層における光導電性材料、絶縁性樹脂、アル
カリ可溶性樹脂の混合比は光導電性、帯電性、光
透過性、現像液の溶解および浸透速度によつて決
定される。光導電性材料5〜30重量%、絶縁性樹
脂0〜30重量%、アルカリ可溶性樹脂50〜85重量
%の比率において良効な特性が得られる。低抵抗
のアルカリ可溶性樹脂を用いるときは絶縁性樹脂
より帯電性を向上させ、高抵抗のアルカリ可溶性
樹脂を用いるときは絶縁性樹脂を混合しなくても
よい。光導電性絶縁層とネガ型感光層とを同一の
層として形成するときには光導電性材料5〜30重
量%、絶縁性樹脂0〜30重量%、光可溶性物質50
〜85重量%を混合割合を用いることができる。
The mixing ratio of the photoconductive material, insulating resin, and alkali-soluble resin in the photoconductive insulating layer of the photosensitive material for lithographic printing plates according to the present invention includes photoconductivity, chargeability, light transmittance, developer dissolution and permeation speed. determined by. Good properties can be obtained at a ratio of 5 to 30% by weight of the photoconductive material, 0 to 30% by weight of the insulating resin, and 50 to 85% by weight of the alkali-soluble resin. When a low resistance alkali soluble resin is used, the charging property is improved compared to an insulating resin, and when a high resistance alkali soluble resin is used, it is not necessary to mix the insulating resin. When forming the photoconductive insulating layer and the negative photosensitive layer as the same layer, 5 to 30% by weight of the photoconductive material, 0 to 30% by weight of the insulating resin, and 50% by weight of the photosoluble substance.
A mixing ratio of ~85% by weight can be used.

本発明による平版印刷版用感光材料の最下層に
ある導電性支持体は例えば表面処理されたアルミ
ニウム板からなり、この表面処理した面上にポジ
型感光層を有している。好ましいアルミニウム板
としては、純アルミニウム板およびアルミニウム
合金板があり、更にアルミニウムがラミネートも
しくは蒸着されたプラスチツクフイルムも挙げら
れる。アルミニウム板の表面は砂目立て処理、珪
酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩
等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理
などの表面処理がなされていることが好ましい。
これらの表面処理、すなわち親水化処理は支持体
表面を親水性にするために行われるが、同時に支
持体上に設けられるポジ型感光層との有害な反応
を防ぎかつ該感光層との密着性を向上させること
ができる。
The conductive support in the lowermost layer of the photosensitive material for lithographic printing plates according to the present invention is made of, for example, a surface-treated aluminum plate, and has a positive-working photosensitive layer on the surface-treated surface. Preferred aluminum plates include pure aluminum plates and aluminum alloy plates, as well as plastic films laminated or vapor-deposited with aluminum. The surface of the aluminum plate is preferably subjected to a surface treatment such as graining treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate, or the like, or anodization treatment.
These surface treatments, that is, hydrophilization treatments, are performed to make the support surface hydrophilic, but at the same time prevent harmful reactions with the positive photosensitive layer provided on the support and improve adhesion with the photosensitive layer. can be improved.

本発明方法の液体現像c工程において使用する
電子写真用液体現像剤としては、すでによく知ら
れた現像剤としてのカーボンブラツクその他をガ
ソリン、ケロセン、4塩化炭素に分散したもの
で、電気的特性を均一にするためにアルキツド樹
脂、アマニ油などの制御剤を用いて改良したもの
が使用できる(特公昭35−13424参照)。負帯電お
よび正帯電トナーの両者が使用可能で、負帯電ト
ナーとしてはカーボンブラツク、クロム酸鉛、チ
ヤコールなどを脂肪族炭化水素、ガソリン、シク
ロヘキサン、ペンタン、CCl4などの中に分散し、
制御剤としてアマニ油、ポリエチレン、シエラツ
クなどを加えたものがあり、正帯電トナーとして
はカーボンブラツク、フタロシアニンブルー、チ
ヤコール、ベルミリオンレツドなどを脂肪族炭化
水素、ケロセン、シクロヘキサン、ペンタン、
CCl4などの中に分散し、制御剤としてアルキツ
ド樹脂、ベルサミド、テルギトールなどを加えた
ものがある。現像剤粒子の大きさは1μ以下のも
のを使用するがこれは高解像度画像を得るのに適
している。
The liquid developer for electrophotography used in the liquid development step c of the method of the present invention is a well-known developer such as carbon black dispersed in gasoline, kerosene, or carbon tetrachloride, and has electrical properties. For uniformity, it is possible to use a product improved by using a control agent such as alkyd resin or linseed oil (see Japanese Patent Publication No. 13424/1983). Both negatively charged and positively charged toners can be used.Negatively charged toners include carbon black, lead chromate, charcoal, etc., dispersed in aliphatic hydrocarbons, gasoline, cyclohexane, pentane, CCl 4 , etc.
There are toners containing linseed oil, polyethylene, silica, etc. as control agents, and positively charged toners such as carbon black, phthalocyanine blue, charcoal, vermilion red, etc., and aliphatic hydrocarbons, kerosene, cyclohexane, pentane, etc.
Some are dispersed in CCl 4 , etc., with addition of alkyd resin, versamide, tergitol, etc. as control agents. Developer particles with a size of 1 μm or less are used, which is suitable for obtaining high-resolution images.

以上、本発明を液体現像する場合について説明
したが、本発明はこれのみに限られずカスケード
現像、磁気ブラシ現像等も用いることができる。
Although the present invention has been described above regarding the case of liquid development, the present invention is not limited to this, and cascade development, magnetic brush development, etc. can also be used.

以下、本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。
Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.

実施例 1 厚さ0.24mmの砂目立てされたアルミニウム板を
硫酸浴中で陽極酸化し、約2.7g/m2の酸化皮膜
をつくりよく洗浄した後、乾燥しその上に下記の
処方※で調整した感光液をホイラーにより塗布し
乾燥時塗布量1.2g/m2の感光層を得た。
Example 1 A grained aluminum plate with a thickness of 0.24 mm was anodized in a sulfuric acid bath to form an oxide film of approximately 2.7 g/m 2 , thoroughly washed, dried, and adjusted with the following formulation*. The resulting photosensitive solution was coated using a wheeler to obtain a photosensitive layer having a dry coating weight of 1.2 g/m 2 .

※(感光液処方) 2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合
体(米国特許第1505739号明細書実施例1に
記載されたもの) 0.87g P−ジアゾジフエニルアミンとパラホルムア
ルデヒドの縮合物の2−メトキシ−4−ヒド
ロオキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン
酸塩 0.1g 2−メトキシエタノール 6g メタノール 6g エチレンジクロライド 6g この上に、さらに光半導体層を次の感光液※※
から、超音波分散液により5分間分散処理してか
ら、ワイヤーバーにより塗布し、70℃で1分間乾
燥した。光半導体層の固形分塗布量は2.5g/m2
である。
*(Photosensitive liquid formulation) 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (described in Example 1 of US Pat. No. 1,505,739) 0.87g 2-methoxy-, a condensate of P-diazodiphenylamine and paraformaldehyde 4-Hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate 0.1g 2-methoxyethanol 6g Methanol 6g Ethylene dichloride 6g On top of this, a photosemiconductor layer is added to the next photosensitive solution※※
After dispersing with an ultrasonic dispersion liquid for 5 minutes, it was coated with a wire bar and dried at 70°C for 1 minute. The solid content coating amount of the optical semiconductor layer is 2.5g/m 2
It is.

※※ ノボラツク型フエノール樹脂(イソプロピル
アルコール中33%) 12g −(エチルアクリレート62−メチルメタクリレ
ート25−メタアクリル酸13−)(エチルアルコ
ール中25%) 4g フタロシアニン顔料(スミカプリントGN−
O、住友化学(株)製) 1g トルエン 25g この感光板に、コロナ帯電々圧+6000Vに設定
したコロナ帯電器により正コロナ帯電を行ない、
次にタングステン電球による60ルクスの照射光を
ネガ透過原稿を通して2秒間露光した。次に暗中
で負極性トナーを有する液体現像液(リコー製
MRP−610)を満たしたステンレス中に下向きに
して10秒間トナー現像して感光板上にトナーによ
るネガ画像を得た。次にフジフイルム社製A3プ
リンター(PS版用露光材)で60秒間全面露光し
て、フジフイルム社製PS版用原像液DN−3Cを
水で1/2に希釈した液中で1分間現像を行なつた
ところ、ポジ画像を有する平版印刷版が得られ
た。この平版印刷版を用いてオフセツト印刷を行
なつたところ、鮮明な印刷物が4万枚以上得られ
た。
※※ Novolac type phenolic resin (33% in isopropyl alcohol) 12g - (ethyl acrylate 62 - methyl methacrylate 25 - methacrylic acid 13 -) (25% in ethyl alcohol) 4g Phthalocyanine pigment (Sumikaprint GN-
O, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 1g Toluene 25g This photosensitive plate was positively charged with a corona using a corona charger set to a corona charging voltage of +6000V.
Next, the negative transmission original was exposed to irradiation light of 60 lux from a tungsten bulb for 2 seconds. Next, in the dark, use a liquid developer containing negative polarity toner (manufactured by Ricoh).
The sample was placed face down in a stainless steel plate filled with MRP-610) and developed with toner for 10 seconds to obtain a negative toner image on the photosensitive plate. Next, the entire surface was exposed for 60 seconds using a Fujifilm A3 printer (exposure material for PS plates), and then for 1 minute in a solution prepared by diluting Fujifilm's stock image solution DN-3C for PS plates to 1/2 with water. Upon development, a lithographic printing plate having a positive image was obtained. When offset printing was performed using this lithographic printing plate, more than 40,000 clear prints were obtained.

実施例 2 実施例と同じアルミニウム支持体上に次の感光
液処方※で調整した感光液を、ホイラーにより塗
布し乾燥時塗布量1.7g/m2の感光層を得た。
Example 2 A photosensitive solution prepared according to the following photosensitive solution formulation* was applied onto the same aluminum support as in Example using a wheeler to obtain a photosensitive layer with a dry coating weight of 1.7 g/m 2 .

※ ポリ−p−ビニルフエノールケイ皮酸エステ
ル 25g 5−ニトロアセナフテン 3g 2,6−ジ(4′−アジドベンザル)−4−メ
チフレシクロヘキサノン 1.5g メチルエチルケトン 200g トルエン 30g この上に、さらに下記の処方※※で実施例1と
同様な手断で乾燥塗布量1.9g/m2の光半導体層
を設けた。
*Poly-p-vinylphenol cinnamate ester 25g 5-nitroacenaphthene 3g 2,6-di(4'-azidobenzal)-4-methifrecyclohexanone 1.5g Methyl ethyl ketone 200g Toluene 30g On top of this, the following formulation* *An optical semiconductor layer with a dry coating amount of 1.9 g/m 2 was provided by manual cutting in the same manner as in Example 1.

※※ −(エチルアクリレート62−メチルメタクリレ
ート25−メチルアクリル酸13−)(25%エチル
アルコール中) 12g ミクロリス4G−T(チバガイギー製フタロシ
アニン顔料) 1.5g トルエン 25g この感光板を実施例1と同じ手段で処理し、感
光板上にトナーによるネガ画像を得た。次に、フ
ジフイルム社製A3プリンター(PS版用露光機)
で90秒間全面露光した後、Na2SiO3・9H2O20重
量部、ベンジルアルコール20重量部、水酸化ナト
リウム2重量部、界面活性剤ミグノール802(30%
水溶液)3重量部及び955重量部よりなる現像液
に約40秒間浸漬後水洗し乾燥してポジ画像を有す
る平版印刷版を得た。この平版印刷版を用いてオ
フセツト印刷を行なつたところ、鮮明な印刷物が
8万枚以上得られた。
※※ -(Ethyl acrylate 62 - Methyl methacrylate 25 - Methyl acrylic acid 13 -) (in 25% ethyl alcohol) 12 g Microlis 4G-T (phthalocyanine pigment manufactured by Ciba Geigy) 1.5 g Toluene 25 g This photosensitive plate was prepared using the same method as in Example 1. A negative image with toner was obtained on a photosensitive plate. Next, Fujifilm A3 printer (PS plate exposure machine)
After exposing the entire surface to light for 90 seconds at
A lithographic printing plate having a positive image was obtained by immersing it in a developer containing 3 parts by weight (aqueous solution) and 955 parts by weight for about 40 seconds, washing with water, and drying. When offset printing was performed using this lithographic printing plate, more than 80,000 clear prints were obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図a〜e−2は本発明方法の工程を説明す
るための図であり、第2図、3図および4図は本
発明の平版印刷版用感光材料の構造の概要を示す
図である。 図中符号:1,1′……光導電性絶縁層、2……
ネガ型感光層、3……導電性支持体、4……帯電
器、5……ランプ、6……原稿、7……トナー
像、8……紫外線ランプ、9……中間層。
Figures 1 a to e-2 are diagrams for explaining the steps of the method of the present invention, and Figures 2, 3, and 4 are diagrams showing the outline of the structure of the photosensitive material for lithographic printing plates of the present invention. be. Codes in the figure: 1, 1'...photoconductive insulating layer, 2...
Negative photosensitive layer, 3... Conductive support, 4... Charger, 5... Lamp, 6... Original, 7... Toner image, 8... Ultraviolet lamp, 9... Intermediate layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 親水性表面を有する導電性支持体上にネガ型
感光層及び光導電性絶縁層を同一の層またはネガ
型感光層を下層とする二層として有する感光材料
を電子写真的に処理して光導電性絶縁層上に静電
潜像を形成し、ネガ型感光層が感光性を有する波
長の光に対して不透明な現像剤粒子で該潜像を現
像し、得られた現像像を介して該ネガ型感光層を
露光し、次いで該ネガ型感光層の非露光部又は非
露光部とその上に設けられている光導電性絶縁層
とを特徴とする平版印刷版の製造方法。 2 ネガ型感光層と光導電性絶縁層とが二層より
なり、両層の間に中間層が設けられている特許請
求の範囲第1項記載の平版印刷版の製造方法。 3 親水性表面を有する導電性支持上に、ネガ型
感光層及び光導電性絶縁層を同一の層またはネガ
型感光層を下層とする二層として有し、該光導電
性絶縁層は電子写真的に現像粒子の像を形成する
ことができ、該現像剤粒子はネガ型感光層が感光
性を有する波長の光に対して不透明であり、且つ
該光導電性絶縁層がネガ型感光層の選択的除去を
阻害しない性質を有することを特徴とする平版印
刷用感光材料。 4 ネガ型感光層と光導電性絶縁層とが二層より
なり、両層の間に中間層が設けられている特許請
求の範囲第3項記載の平版印刷版用感光材料。
[Scope of Claims] 1. A photosensitive material having a negative photosensitive layer and a photoconductive insulating layer as the same layer or two layers with a negative photosensitive layer as the lower layer on a conductive support having a hydrophilic surface is electrophotographically prepared. to form an electrostatic latent image on the photoconductive insulating layer, and develop the latent image with developer particles that are opaque to light at a wavelength to which the negative photosensitive layer is sensitive. A lithographic printing plate characterized in that the negative photosensitive layer is exposed to light through a developed image, and then a non-exposed area of the negative photosensitive layer or a photoconductive insulating layer provided on the non-exposed area and the non-exposed area. manufacturing method. 2. The method for producing a lithographic printing plate according to claim 1, wherein the negative photosensitive layer and the photoconductive insulating layer are composed of two layers, and an intermediate layer is provided between the two layers. 3. On a conductive support having a hydrophilic surface, a negative-tone photosensitive layer and a photoconductive insulating layer are provided in the same layer or as two layers with a negative-tone photosensitive layer as an underlying layer, and the photoconductive insulating layer is an electrophotographic The developer particles are opaque to light at a wavelength to which the negative photosensitive layer is photosensitive, and the photoconductive insulating layer is opaque to light at a wavelength to which the negative photosensitive layer is photosensitive. A photosensitive material for planographic printing characterized by having a property that does not inhibit selective removal. 4. The photosensitive material for lithographic printing plates according to claim 3, comprising two layers: a negative photosensitive layer and a photoconductive insulating layer, and an intermediate layer is provided between the two layers.
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