JPH0140970B2 - - Google Patents

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JPH0140970B2
JPH0140970B2 JP7466482A JP7466482A JPH0140970B2 JP H0140970 B2 JPH0140970 B2 JP H0140970B2 JP 7466482 A JP7466482 A JP 7466482A JP 7466482 A JP7466482 A JP 7466482A JP H0140970 B2 JPH0140970 B2 JP H0140970B2
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JP
Japan
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butadiene
layer
photosensitive
polymer
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Application number
JP7466482A
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Japanese (ja)
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JPS57186754A (en
Inventor
Rarufu Guruutsumaakaa Robaato
Haiaramu Mangaa Sutanree
Fuosutaa Uoofuiirudo Piitaa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS57186754A publication Critical patent/JPS57186754A/en
Publication of JPH0140970B2 publication Critical patent/JPH0140970B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40Treatment after imagewise removal, e.g. baking
    • G03F7/405Treatment with inorganic or organometallic reagents after imagewise removal

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は光感受性フレキ゜グラフむヌ印刷プレ
ヌトの衚面凊理方法に関する。曎に特定的には、
本発明はその光感受性局が共圹ゞオレフむン炭化
氎玠の重合䜓を含有しおいるフレキ゜グラフむヌ
印刷プレヌトの衚面凊理に関する。曎により特定
的には、本発明は共圹ゞオレフむン炭化氎玠の重
合䜓を含有する光感受性匟性局を臭玠で衚面凊理
するこずに関する。 光感受性フレキ゜グラフむヌ印刷プレヌトは印
刷産業においおより重芁ずな぀おきおいる。その
ようなフレキ゜グラフむヌ印刷プレヌトの補造の
ために特に有甚な組成物ずしおは付加重合性゚チ
レン性䞍飜和化合物、光開始剀、および重合䜓結
合剀ずしおのブロツク共重合䜓䟋えばスチレン−
ブタゞ゚ン−スチレンおよびスチレン−む゜プレ
ン−スチレン重合䜓たたは堎合によりカルボキシ
ル基を含有するブタゞ゚ンアクリロニトリル重
合䜓のいずれかを含有する組成物があげられる。
工業的に䜿甚されおいる前者の組成物はアルコヌ
ルたたはアルコヌル−アセテヌトをベヌスずした
むンクに察しお特に有甚である。商品ずしお新し
い埌者の組成物は炭化氎玠をベヌスずしたむンク
に特に有甚である。 前蚘フレキ゜グラフむヌ印刷プレヌトはその他
の倩然たたは合成共圹ゞオレフむン炭化氎玠重合
䜓から補造されたものず同様に䞀般に像様露光お
よび珟像埌にレリヌフ印刷衚面の粘着性䜎䞋のた
めの凊理を必芁ずする。局粘着性枛少のためには
塩玠および臭玠䞡凊理が知られおいる。臭玠凊理
はフレキ゜グラフむヌ印刷プレヌトそしお特に堎
合によりカルボキシル基含有ブタゞ゚ンアクリ
ロニトリル重合䜓を含有するフレキ゜グラフむヌ
印刷プレヌトに関しお有効であるこずが芋出され
おいる。䞀般に臭玠凊理溶液はそれらの補造のあ
る時点においお酞、酞蒞気およびたたは液䜓た
たは気䜓状態の遊離元玠状臭玠の取扱いを必芁ず
する。操䜜者の安党のために、そのような攻撃的
で危険な詊薬の取扱いを陀倖するこずが望たし
い。 本発明の目的は別個の酞たたは遊離臭玠成分の
䜿甚を陀倖したフレキ゜グラフむヌ印刷プレヌト
の凊理法を提䟛するこずである。その他の目的は
䞭性付近ないし酞条件䞋のPH範囲にわた぀お操䜜
可胜なそのような方法を提䟛するこずである。曎
にその他の目的は凊理溶液の也燥固䜓成分が安定
であり、容易に入手可胜でありそしお䜵合させた
堎合に也燥状態で保存しそしおその埌で氎ず混合
しそしお次いで臭玠凊理剀ずしお䜿甚できる安定
な混合物を生成しうるような方法を提䟛するこず
である。 本発明によれば共圹ゞオレフむン炭化氎玠およ
び少くずも個の末端゚チレン基を含有する非気
䜓状゚チレン性䞍飜和化合物を包含する光感受性
匟性䜓状組成物の局を掻性線照射に露光させ、そ
しおその未露光郚分を液䜓珟像するこずによりレ
リヌフが補造された堎合のレリヌフフレキ゜グラ
フむヌ印刷プレヌトの衚面を修正する方法の改良
が提䟛されるものであり、而しおその改善は也燥
埌に珟像された衚面にいずれかの順序で (1) 掻性線照射源に埌露光させるこず、および (2) 箄15秒〜40分の間、アルカリモノパヌサルフ
゚ヌトずブロミド塩の氎性凊理溶液に接觊させ
るこず を実斜するこずである。 本発明の方法に䜿甚される光感受性匟性組成物
は共圹ゞオレフむン炭化氎玠の重合䜓、非気䜓状
゚チレン性䞍飜和化合物、有機攟射感受性遊離ラ
ゞカル生成性光開始剀たたは系ならびに以䞋
に論じられるその他の添加剀を包含する。この組
成物は局の圢で䜿甚するこずができる。あるいは
たた局を可撓性支持䜓に接着させるこずができる
したたは䞀時的支持䜓を䜿甚するこずができる。
その他の構造䜓は光感受性局の各面䞊にカバヌシ
ヌトおよび重合䜓局を有しうる。有甚な可撓性支
持䜓ずしおはプラスチツクフむルムおよび金属シ
ヌト、開攟たたは閉鎖セルフオヌム圧瞮成圢可胜
なゎム局、たたはプラスチツクフむルムのフオヌ
ムおよびゎム局の組合せ物があげられる。組合せ
支持䜓が䜿甚される堎合には、そのプラスチツク
フむルムが䞀般に光感受性局に隣接しおいる。ポ
リアミドコヌテむングしたフむルム䟋えばポリ゚
ステル䟋えばポリ゚チレンテレフタレヌトは適圓
な䞀時的支持䜓を䞎える。そのような支持䜓の䟋
ずしおは重合䜓フむルム支持䜓䟋えばポリ゚チレ
ンテレフタレヌト、火炎凊理ポリ゚チレンテレフ
タレヌト、電子攟電凊理ポリ゚チレンテレフタレ
ヌト、ポリむミド䟋えばここに参照ずしお包含
されおいる米囜特蚱第3179634号明现曞開瀺のフ
むルムその他および薄い金属支持䜓䟋えばアル
ミニりム、錫め぀きスチヌル艷消したたは光沢
性があげられるがしかしこれに限定されるもの
ではない。重合䜓支持䜓は䞀般に0.001むンチ〜
0.007むンチ0.025〜0.18mm範囲の厚さを有し
おいる。金属支持䜓は䞀般にアルミニりムに察し
おは0.010〜0.0115むンチ0.25〜0.29mm、そし
お錫め぀きスチヌルに察しおは0.008〜0.010むン
チ0.20〜0.25mmの範囲の厚さを有しおいる。
フオヌム支持䜓の䟋ずしおは開攟たたは閉鎖セル
フオヌム䟋えばポリ塩化ビニル、ポリりレタン、
゚チレンポリレンゞ゚ンゎム、ネオプレンその他
があげられる。圧瞮成圢可胜なゎムの䟋ずしおは
スチレンむ゜プレンブロツク共重合䜓、ブタゞ
゚ンアクリロニトリル共重合䜓、倩然ゎムその
他があげられる。 本明现曞に開瀺の光感受性組成物はそれらの未
露光状態においおはその光感受性組成物䞭に存圚
する特定の重合䜓結合剀によ぀お氎性、半氎性塩
基性たたは溶媒溶液䞭で珟像可胜である。光感受
性局は0.0005〜0.250むンチ玄0.013〜6.35mm
たたはそれ以䞊の厚さ範囲にある。 光感受性匟性䜓状組成物の䞀぀の本質的成分は
匟性䜓状重合䜓結合剀である。適圓な結合剀ずし
おは共圹ゞオレフむン炭化氎玠の倩然たたは合成
重合䜓があげられる。結合剀の䟋ずしおは
−ポリブタゞ゚ン、−ポリブタゞ゚ン、ブ
タゞ゚ンアクリロニトリル、ブタゞ゚ンスチ
レン、−−タむプのブロツク共重合䜓䟋え
ばスチレン−ブタゞ゚ン−スチレンブロツク共重
合䜓、スチレン−む゜プレン−スチレンブロツク
共重合䜓その他および結合剀の共重合䜓があげら
れる。ブロツク共重合䜓は線状、攟射圢たたは連
続sequentialタむプのものでありうる。奜た
しい結合剀はスチレン−む゜プレン−スチレンた
たはスチレン−ブタゞ゚ン−スチレンブロツク共
重合䜓であり、そしおブタゞ゚ンアクリロニト
リル共重合䜓で堎合によりカルボキシル含量を有
するものである。 本発明の有甚な線状ブロツク共重合䜓は䞀般匏
−−〔匏䞭は独立しお2000〜100000の数
平均分子量および25℃以䞊のガラス転移
枩床を有する非匟性䜓状重合䜓ブロツクから遞ば
れ、そしおは玄25000〜1000000の間の平均分子
量および玄10℃以䞋のガラス転移枩床を有する匟
性䜓状重合䜓ブロツクである〕の少くずも個の
ナニツトを有しおいる。その間に匟性䜓状重合䜓
ブロツクを有する非匟性䜓状重合䜓ブロツク
は䞀緒にな぀おナニツト−−を圢成しおい
るがこれは本発明の組成物䞭の光重合性成分ず組
合わせお䜿甚するため特別に適圓な共重合䜓を衚
わしおいる。このナニツトは共重合䜓の䞀般匏党
郚を構成しうる。それは他の重合䜓鎖に結合した
ものであ぀おもよく、たたはそれは反埩䜓であり
うる。勿論䟋えばこの異぀た非匟性䜓状末端ブロ
ツクを䜿甚するこずによ぀お、たたはブロツク
および䞭にブロツクたたはグラフト重合䜓眮
換分を生成させるこずによ぀お本発明の範囲内で
ナニツトの正確な性質を倉化させるこずが可胜で
ある。奜たしくは匟性䜓䞭倮郚ブロツクは脂肪
族共圹ゞオレフむンの重合䜓であり、䞀方非匟性
䜓状ブロツクはアルケニル芳銙族炭化氎玠、奜
たしくはビニル眮換芳銙族炭化氎玠そしお曎によ
り奜たしくはビニル単環性芳銙族炭化氎玠を重合
させるこずにより圢成されるものである。ブロツ
ク共重合䜓はここに参照ずしお包含されおいる米
囜特蚱第3265765号および察応する英囜特蚱第
1000090号各明现曞に開瀺されおいる。この共重
合䜓の特に奜たしい皮類のものはポリむ゜プレン
たたはポリブタゞ゚ンの䞭倮郚分により接続され
おいるポリスチレン末端基を有するブロツク共重
合䜓、䟋えばポリスチレン−ポリむ゜プレン−ポ
リスチレンたたはポリスチレン−ポリブタゞ゚ン
−ポリスチレンを包含するがそのポリゞ゚ンブロ
ツクはブロツク共重合䜓の70〜90重量である。
本発明に有甚なその他の兞型的ブロツク共重合䜓
はポリスチレン−ポリブタゞ゚ン−ポリスチレン
およびポリスチレン−ポリむ゜プレン−ポリスチ
レンブロツク共重合䜓で米囜特蚱第3431323号お
よび同第3333024号明现曞の教瀺に埓぀お氎玠化
されたものである。この氎玠化ブロツク共重合䜓
は改善された熱抵抗性および酞化抵抗性のその他
の利点を有しおいる。しかしながら氎玠化ブロツ
ク共重合䜓䞭でいくらかの残存䞍飜和のあるこず
が望たしい。その理由はその堎合には掻性線攟射
ぞの露光時の溶媒溶解性の枛少のためには非垞に
わずかな濃床の単量䜓しか光感受性組成物䞭に必
芁ずされないからである。本発明に有甚な曎にそ
の他の兞型的ブロツク共重合䜓は末端ブロツクが
ポリアルキルスチレンのもの䟋えばポリα−メ
チルスチレン−ポリむ゜プレン−ポリα−メ
チルスチレン、および耇数個の重合䜓ブロツク
よりなるもの䟋えばポリむ゜プレン−ポリスチレ
ン−ポリブタゞ゚ン−ポリスチレン−ポリむ゜プ
レンである。 ブロツク共重合䜓に察する数平均分子量は
Arro Laboratories瀟補造のゲルセロフアン
600W膜および溶媒ずしおトル゚ンを䜿甚しお29
℃においお膜浞透により枬定するこずができる。
非匟性䜓状重合䜓ブロツクおよび匟性䜓状重合䜓
ブロツクに察するは奜たしくは次のようにし
お枬定される。  第ブロツクポリスチレンの分子量は、
重合盎埌に陀去された末端停止された詊料のゲ
ル透過クロマトグラフむヌGPCにより枬
定するこずができる。クロマトグラフは垂堎的
に入手可胜なポリスチレン分子量暙準を䜿甚し
お范正される。  第ブロツクポリむ゜プレンたたはポリブ
タゞ゚ンのは次の方法で枬定するこずが
できる。 (1) 適圓に范正したGPCによ぀お、その重合
埌末端停止されそしお盎ちに陀去されたポリ
スチレン−ポリむ゜プレンたたはポリブタ
ゞ゚ンの−ブロツクdi−block重合
䜓詊料のを枬定し、そしお (2) この倀から前蚘(A)で枬定された第ブロツ
クのを枛ずるこず。  第ブロツクポリスチレンのは同様
の䞀般法で枬定するこずができる。 (1) 適圓に范正したGPCによ぀お、ポリスチ
レン−ポリむ゜プレンたたはポリブタゞ゚
ン−ポリスチレンのブロツク重合䜓の詊
料のを枬定しそしお (2) この倀から前蚘(B)で埗られた−ブロツク
重合䜓のを枛ずる。 これらのブロツク共重合䜓はシ゚ル・ケミカ
ル・コンパニヌにより補造されそしお「クラトン
Kraton 」の商品名で発売されおいる。 有甚なブタゞ゚ンアクリロニトリル共重合䜓
は玄20000〜玄75000の範囲奜たしくは玄25000〜
箄50000の範囲の数平均分子量を有する
高分子量ブタゞ゚ンアクリロニトリル共重合䜓
(a)である。本明现曞蚘茉の重合䜓に察するは
ブタゞ゚ン暙準を䜿甚しおゲル透過クロマトグラ
フむヌにより枬定するこずができる。重合䜓のア
クリロニトリル含量は玄10〜玄50重量、奜たし
くは玄15〜玄40で倉動する。堎合によりこの共
重合䜓はたた〜15重量のカルボキシル含量を
有しおいる。この共重合䜓がカルボキシル基を含
有しおいる堎合には、このカルボキシル含量は奜
たしくは重量基準で玄〜玄15の範囲、最も奜
たしくは玄〜玄10の範囲である。共重合䜓は
組成物の党重量基準で玄55〜90重量の量そしお
奜たしくは玄60〜玄75重量の量で存圚する。特
にフレキ゜グラフむヌプレヌト甚の光感受性゚レ
メントに充分な可撓性ず物理的䞀䜓性ずを䞎える
ためには少くずも玄55重量の共重合䜓が必芁で
ある。 カルボキシル含量単量䜓䟋えばアクリルたたは
メタクリル酞たたはカルボキシル含有単量䜓に倉
換可胜な単量䜓䟋えばマレむン酞無氎物たたはメ
チルメタクリレヌトを重合過皋に添加するこずに
よ぀お高分子量共重合䜓䞭にカルボキシル基を包
含させるこずができる。そのような重合䜓はいく
぀かの䟛絊源から、䟋えばハむカ− の商品名で
B.F.Goodrich Chemical瀟から垂堎的に入手可
胜である。 本発明の光感受性組成物の他の本質的成分は少
くずも個の末端゚チレン基を含有する非気䜓状
゚チレン性䞍飜和化合物(b)である。この化合物は
遊離ラゞカル開始連鎖延長付加重合により高分子
重合䜓を圢成しうるものでありか぀前蚘高分子量
重合䜓(a)ず盞容性であるべきである。前蚘−
−タむプブロツク共重合䜓ず盞容性の゚チレン
性䞍飜和化合物は、ここに参照ずしお包含されお
いる英囜特蚱第1366769号明现曞䞭に開瀺されお
いる。これら単量䜓の倚くのものが以䞋に具䜓的
に開瀺されおいる。適圓な゚チレン性䞍飜和化合
物の矀ずしおはアルコヌルの䞍飜和゚ステル、特
にα−メチレンカルボン酞および眮換α−メチレ
ンカルボン酞のそのような゚ステル、より特別に
はアルキレンポリオヌルおよびポリアルキレンポ
リオヌルのそのような゚ステル、そしお最も特別
には〜15個の炭玠原子のアルキレンポリオヌル
たたは〜10個の゚ヌテル結合のポリアルキレン
゚ヌテルポリオヌルたたはグリコヌルから補造さ
れるアルキレンポリオヌルゞおよびトリアクリレ
ヌトおよびポリアルキレンポリオヌルゞおよびト
リアクリレヌトがあげられる。 次の具䜓的化合物はこの矀のその他の䟋であ
る。゚チレングリコヌルゞアクリレヌト、ゞ゚チ
レングリコヌルゞアクリレヌト、グリセロヌルゞ
アクリレヌト、グリセロヌルトリアクリレヌト、
トリメチロヌルプロパントリアクリレヌト、゚チ
レングリコヌルゞメタクリレヌト、−プロ
パンゞオヌルゞメタクリレヌト、−ブ
タントリオヌルトリメタクリレヌト、−シ
クロヘキサンゞオヌルゞアクリレヌト、−
ベンれンゞオヌルゞメタクリレヌト、−ベ
ンれンゞメタノヌルゞアクリレヌト、ペンタ゚リ
スリトヌルトリアクリレヌト、ペンタ゚リスリト
ヌルテトラメタクリレヌト、−プロパンゞ
オヌルゞアクリレヌト、−ペンタンゞオヌ
ルゞメタクリレヌト、−αα−ゞメチルベン
ゞルプニルアクリレヌト、第䞉玚ブチルアクリ
レヌト、−ゞ゚チルアミノ゚チルアクリレ
ヌト、ゞ゚チルアミノ゚チルメタクリレヌト、
−ブタンゞオヌルゞアクリレヌト、ヘキサ
メチレングリコヌルゞアクリレヌト、デカメチレ
ングリコヌルゞアクリレヌト、−ゞメチロ
ヌルプロパンゞアクリレヌト、トリプロピレング
リコヌルゞアクリレヌト、−ゞ−ヒド
ロキシ−プニルプロパンゞアクリレヌト、
−ゞ−ヒドロキシプニルプロパン
ゞメタクリレヌト、ポリオキシ゚チル−−
ゞ−ヒドロキシプニルプロパントリアク
リレヌト分子量462、−ブタンゞオヌル
ゞメタクリレヌト、ヘキサメチレングリコヌルゞ
メタクリレヌト、−トリメチル−
−ペンタンゞオヌルゞメタクリレヌト、−フ
゚ニル゚チレン−−ゞメタクリレヌト、ト
リメチロヌルプロパントリメタクリレヌト、トリ
゚チレングリコヌルゞアクリレヌト、゚チレング
リコヌルアクリレヌトフタレヌト、ポリオキシ゚
チルトリメチロヌルプロパントリアクリレヌト、
芳銙族ポリヒドロキシ化合物䟋えばビスプノヌ
ルノボラツクおよび同様の化合物䟋えばここに参
照ずしお包含されおいる米囜特蚱第3661576号明
现曞蚘茉のものから導かれたゞ゚ポキシポリ゚ヌ
テルのゞアクリレヌトおよびゞメタクリレヌト゚
ステル、分子量200〜500のポリ゚チレングリコヌ
ルのビスアクリレヌトおよびメタクリレヌトその
他。 適圓な゚チレン性䞍飜和化合物のその他の矀ず
しおは、ここに参照ずしお包含されおいる米囜特
蚱第2927022号明现曞に開瀺の化合物䟋えば耇数
個の特に末端結合ずしお存圚する付加重合性゚チ
レン結合を有するもの、そしお特にそのような結
合の少くずも個、そしお奜たしくはほずんどが
炭玠−炭玠二重結合および炭玠−ヘテロ原子䟋
えば窒玠、酞玠および硫黄二重結合を含む二重
結合炭玠に共圹しおいるものがあげられる。奜た
しいものぱチレン性䞍飜和基特にビニリデン基
が゚ステルたたはアミド構造ず共圹しおいる堎合
のそのような物質である。特定のそのような化合
物の䟋ずしおは䞍飜和アミド、特にα−メチレン
カルボン酞ず特にα−ω−ゞアミンおよび酞玠䞭
断ω−ゞアミンずの䞍飜和アミド、䟋えばメチレ
ンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリル
アミド、゚チレンビスメタクリルアミド、
−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ゞ゚チレ
ントリアミントリスメタクリルアミド、ビスメ
タクリルアミドプロポキシ゚タン、β−メタク
リルアミド゚チルメタクリレヌト、−β−ヒ
ドロキシ゚チル−β−メタクリルアミド゚チ
ルアクリレヌト、および−ビスβ−メタ
クリルオキシ゚チルアクリルアミド、ビニル゚
ステル䟋えばゞビニルサクシネヌト、ゞビニルア
ゞペヌト、ゞビニルフタレヌト、ゞビニルテレフ
タレヌト、ゞビニルベンれン−−ゞスルホ
ネヌトおよびゞビニルブタン−−ゞスルホ
ネヌト、ゞアリルフマレヌトその他があげられ
る。 䜿甚しうるその他の゚チレン性䞍飜和化合物ず
しおは、スチレンおよびその誘導䜓、−ゞ
む゜プロペニルベンれン、−トリむ゜
プロペニルベンれン、むタコン酞無氎物のヒドロ
キシ゚チルアクリレヌトの付加物、む
タコン酞無氎物の末端アミノ基含有の液䜓ブタゞ
゚ンアクリロニトリル重合䜓ずの付加物、およ
びむタコン酞無氎物ずゞ゚ポキシポリ゚ヌテルの
ゞアクリレヌトおよびゞメタクリレヌト゚ステル
ずの米囜特蚱第3661576号明现曞蚘茉の付加物、
末端および懞垂ビニル基を含有するポリブタゞ゚
ンおよびブタゞ゚ンアクリロニトリル共重合
䜓、および䞍飜和アルデヒド䟋えば゜ルブアルデ
ヒド−ヘキサゞ゚ナヌルがあげられ
る。 氎溶性であるかたたはカルボキシルたたはその
他のアルカリ反応性基を含有しおいる゚チレン性
䞍飜和化合物は氎性塩基珟像系が䜿甚される堎合
に特に適圓である。曎に米囜特蚱第3043805号お
よび同第2929710号各明现曞蚘茉の重合可胜な゚
チレン性䞍飜和重合䜓および同様の物質は単独で
かたたはその他の物質ず混合しお䜿甚するこずが
できる。䟋えば米囜特蚱第3380831号明现曞蚘茉
のもののような゚チレンオキシドおよびポリヒド
ロキシ化合物の付加物アダクトのアクリルお
よびメタクル゚ステルもたた有甚である。米囜特
蚱第3418295号および同第3448089号各明现曞に開
瀺の光亀叉結合性重合䜓もたた䜿甚できる。これ
らすべおの特蚱明现曞はここに参照ずしお包含さ
れおいる。 䜿甚されるブロツク共重合䜓の䜿甚される付加
重合性゚チレン性䞍飜和化合物に察する重量比は
99〜玄である。 ブタゞ゚ンアクリロニトリル共重合䜓を含有
する光感受性組成物䞭に存圚させる䞍飜和化合物
の量は組成物の党重量基準で玄〜玄40重量の
範囲にあるべきである。最適結果を埗るために特
定の量は䜿甚される特定の重合䜓により倉動す
る。奜たしくは䞍飜和化合物の量は玄〜玄25
の範囲にある。 ゚チレン性䞍飜和化合物は奜たしくは垞圧䞋で
箄100℃以䞊の沞点を有しおいる。最も奜たしい
゚チレン性䞍飜和化合物はトリ゚チレングリコヌ
ルゞアクリレヌト、トリ゚チレングリコヌルゞメ
タクリレヌト、ヘキサメチレングリコヌルゞメタ
クリレヌトおよびヘキサメチレングリコヌルゞア
クリレヌトである。 本発明の光感受性組成物は前蚘のような薄い局
の圢態の堎合には掻性線照射を実質的には散乱し
ない。実質的に透明な混合物すなわち非攟射散乱
性混合物を確実ならしめるためには、重合䜓結合
剀成分は䜿甚される比率においお゚チレン性䞍飜
和化合物ず盞容性であるべきであり、そしお奜た
しくはそれに可溶性であるべきである。 「盞容性」ずは皮たたはそれ以䞊の成分が掻
性線攟射の有意量の散乱を党く生ぜしめるこずな
しに盞互に分散状態に留たる胜力を意味しおい
る。盞容性は埀々にしお成分の盞察比により限定
され、そしお非盞容性は光感受性組成物䞭のくも
りヘむズの圢成により蚌明される。印刷レリ
ヌフの補造においおは露光前たたは露光間のいく
らかのわずかなくもりはそのような組成物で蚱容
されうる。しかしながら埮现なデむテヌル詳
现が所望される堎合には、くもりは完党に陀倖
されるべきである。埓぀お゚チレン性䞍飜和化合
物たたは䜿甚される任意のその他の成分の量は望
たしくない光散乱たたはくもりを生成させない濃
床に限定される。 本発明の光感受性組成物の別の本質的成分は有
機攟射感受性遊離ラゞカル生成系(c)である。実際
的には䞍飜和化合物の重合を開始させそしお重合
を過床に停止しないすべおの有機攟射感受性遊離
ラゞカル生成系を本発明の光感受性組成物䞭に䜿
甚できる。「有機」なる衚珟は、本明现曞䞭では、
炭玠、および酞玠、氎玠、窒玠硫黄およびハロゲ
ンの皮たたは数皮を含有するがしかし金属を含
有しない化合物を意味しお䜿甚されおいる。プロ
セス透明画は通垞の掻性線攟射源から生ずる熱を
䌝達しそしお光感受性組成物は通垞高枩を生成さ
せるような条件䞋に補造されるのであるから、遊
離ラゞカル生成性化合物は85℃以䞋そしおより奜
たしくは185℃以䞋では熱的に䞍掻性であるのが
奜たしい。それらは比范的短時間の露光においお
吞収される攟射量の圱響䞋に所望の重合たたは亀
叉結合を開始させるに必芁な皋床に組成物䞭に分
散性であるべきである。これら開始剀は溶媒䞍含
光感受性組成物の党重量基準で玄0.001〜玄10重
量そしお奜たしくは玄0.1〜玄重量の量で
有甚である。 遊離ラゞカル生成系は玄2000〜玄800Åの範囲
内の攟射を吞収しそしおこれは玄2500〜玄8000
Å、そしお奜たしくは玄2500〜玄5000Åの範囲内
に少くずも玄50の分子吞光係数を有する掻性線攟
射吞収バンドを有する少くずも皮の成分を含有
しおいる。「掻性線攟射吞収バンド」なる衚珟は
䞍飜和物質の重合たたは亀叉結合を開始させるに
必芁な遊離ラゞカルを生成させるべく掻性な攟射
バンドを意味しおいる。 遊離ラゞカル生成系は攟射により掻性化された
堎合に遊離ラゞカルを盎接生成する皮たたはそ
れ以䞊の化合物を包含しうる。それはたたその䞀
぀が攟射により掻性化された増感剀によりそうす
るようにされた埌で遊離ラゞカルを生成するもの
であるような耇数皮の化合物を包含しうる。 倚数のそのような遊離ラゞカル生成性化合物を
本発明の実斜に䜿甚でき、そしおこれらずしおは
芳銙族ケトン䟋えばベンゟプノン、ミヒラヌの
ケトン、〔4′−ビスゞメチルアミノベン
ゟプノン〕、4′−ビスゞ゚チルアミノ
ベンゟプノン、−アクリルオキシ−4′−ゞメ
チルアミノベンゟプノン、−アクリルオキシ
−4′−ゞ゚チルアミノベンゟプノン、−メト
キシ−4′−ゞメチルアミノベンゟプノン、−
プニル−−ゞメトキシアセトプノン
−ゞメトキシ−−ゞプニル゚タ
ン、−゚チルアントラキノン、プナントラ
キノン、−第玚ブチルアントラキノン、
−ベンズアントラキノン、−ベンズアン
トラキノン、−ゞクロロナフトキノン、ベ
ンゞルゞメチルアセタヌルおよびその他の芳銙族
ケトン、ベンゟむン、ベンゟむン゚ヌテル䟋えば
ベンゟむンメチル゚ヌテル、ベンゟむン゚チル゚
ヌテル、ベンゟむンブチル゚ヌテルおよびベンゟ
むンプニル゚ヌテル、メチルベンゟむン、゚チ
ルベンゟむンおよびその他のベンゟむン、および
4.5−トリアリヌルむミダゟリル二量䜓䟋え
ば−−クロロプニル−−ゞプニ
ルむミダゟリル二量䜓、−−クロロプニ
ル−−ゞ−メトキシプニルむミダ
ゟリル二量䜓、−−フルオロプニル−
−ゞプニルむミダゟリル二量䜓、−
−メトキシプニル−−ゞプニルむ
ミダゟリル二量䜓、−−メトキシプニル
−−ゞプニルむミダゟリル二量䜓、
−ゞ−メトキシプニル−−プニル
むミダゟリル二量䜓、−−ゞメトキシ
プニル−−ゞプニルむミダゟリル二
量䜓、−−メチルメルカプトプニル−
−ゞプニルむミダゟリル二量䜓その他の
米囜特蚱第3479185号および同第3784557号各明现
曞および英囜特蚱第997396号および同第1047569
号各明现曞に開瀺のものがあげられる。これら特
蚱明现曞はここに参照ずしお包含されおいる。 むミダゟリル二量䜓は遊離ラゞカル生成性゚レ
クトロンドナヌ、䟋えば−メルカプトベンゟキ
サゟヌル、ロむコクリスタルバむオレツトたたは
トリス−ゞ゚チルアミノ−−メチルプニ
ルメタンず共に䜿甚するこずができる。ミヒラ
ヌのケトンのような増感剀を添加するこずができ
る。皮々の゚ネルギヌ䌝達染料䟋えばロヌズベン
ガルおよび゚オゞンもたた䜿甚できる。適圓な
開始剀のその他の䟋はここに参照ずしお包含され
おいる米囜特蚱第2760863号明现曞䞭に開瀺され
おいる。 光感受性組成物はたた、少量の、䟋えば党溶媒
䞍含光感受性組成物の重量基準で0.001〜2.0の
熱付加重合阻害剀を含有しうる。適圓なかかる重
合阻害剀ずしおは、ハむドロキノンおよびアルキ
ルおよびアリヌル眮換ハむドロキノン、−
ゞ第玚ブチル−−メチルプノヌル、−メ
トキシプノヌル、第玚ブチルピロカテコヌ
ル、ピロガロヌル、β−ナフトヌル、−ゞ
第玚ブチル−−クレゟヌル、プノチアゞ
ン、ピリゞン、ニトロベンれン、ゞニトロベンれ
ン、およびここに参照ずしお包含されおいる米囜
特蚱第4168982号明现曞蚘茉のニトロ゜二量䜓阻
害剀系があげられる。その他の有甚な阻害剀ずし
おは−トルキノン、クロラニルおよびチアゞン
染料䟋えばチオニンブルヌC.I.52025、メチ
レンブルヌC.I.52015およびトルむゞンブル
ヌC.I.52040があげられる。そのような組成
物は阻害剀を陀去するこずなく光重合たたは光亀
叉結合させるこずができる。奜たしい阻害剀は
−ゞ第ブチル−−メチルプノヌルお
よび−メトキシプノヌルである。 印刷レリヌフの酞玠およびオゟン耐性はその光
感受性組成物䞭に適圓量の盞容性ある呚知の酞化
防止剀およびたたはオゟン化防止剀を包含させ
るこずによ぀お改善するこずができる。本発明に
有甚な酞化防止剀ずしおはアルキル化プノヌ
ル、䟋えば−ゞ第玚ブチル−−メチル
プノヌル、アルキル化ビスプノヌル䟋えば
−メチレンビス−−メチル−−第
玚ブチルプノヌル、3.5−トリメチル−
−トリス−ゞ第玚ブチル−
−ヒドロキシベンゞルベンれン、−−
ヒドロキシ−−ゞ第玚ブチルアニリノ
−−ビス−−オクチルチオ−
−トリアゞン、重合トリメチルゞヒドロキノン
およびゞラりリルチオプロピオネヌトがあげられ
る。 本発明に有甚なアゟン化防止剀ずしおは埮晶性
ワツクスおよびパラフむンワツクス、ゞブチルチ
オ尿玠、−テトラメチル−−チ
オ尿玠、アンチオゟナントAFDナフトン瀟補
品、ノルボルネン䟋えばゞ−−ノルボルネン
−−メチルアゞペヌト、ゞ−−ノルボルネン
−−メチルテレフタレヌト、オゟンプロテクタ
−80ラむヒホヌルド・ケミカルズ瀟補品、−
プニル−−ナフチルアミン、䞍飜和怍物油䟋
えば菜皮油、亜麻仁油、サフラワヌ油、重合䜓お
よび暹脂䟋えば゚チレンビニルアセテヌト共重
合䜓暹脂、塩玠化ポリ゚チレン、クロロスルホン
化ポリ゚チレン、塩玠化゚チレンメタクリル酞
共重合䜓、ポリりレタン、ポリペンタゞ゚ン、ポ
リブタゞ゚ン、フルフラヌル誘導暹脂、゚チレ
ンプロピレンゞ゚ンゎム、ロゞンのゞ゚チレ
ングリコヌル゚ステル、およびα−メチルスチレ
ンビニルトル゚ン共重合䜓があげられる。補造
された印刷レリヌフのオゟン耐性はたた䜿甚前の
その高枩でのやきなたしによ぀おも改善するこず
ができる。 所望によりこの光感受性組成物にはたた光感受
性組成物の露光に察しお䜿甚される波長においお
本質的に透明でそしお掻性線攟射を散乱しない非
混和性の重合䜓状たたは非重合䜓状有機たたは無
機充填剀たたは補匷剀䟋えばポリスチレン、芪有
機性シリカ、ベントナむト、シリカ、粉末ガラ
ス、コロむドカヌボンならびに皮々のタむプの染
料および顔料を含有させるこずができる。そのよ
うな物質は匟性䜓状組成物の所望の性質に応じお
倉動する量で䜿甚される。充填剀は匟性䜓局の匷
床を改善させ、タツク粘着性を枛少しそしお
曎に着色剀ずしお有甚である。 この光感受性局は奜たしくは結合剀のガラス転
移枩床を䜎䞋させそしお遞択的珟像を容易ならし
めるために盞容性に可塑剀を含有しおいる。この
可塑剀は重合䜓結合剀ず盞容性の䞀般的可塑剀の
いずれかでありうる。䞀般的可塑剀の䞭にはゞア
ルキルフタレヌト、アルキルホスプヌト、ポリ
゚チレングリコヌル、ポリ゚チレングリコヌル゚
ステルおよびポリ゚チレングリコヌル゚ヌテルが
あげられる。その他の有甚な可塑剀ずしおはオレ
むン酞、ラりリン酞その他があげられる。ポリ゚
ステル䟋えばポリ゚チレンセバケヌトその他は奜
たしい可塑剀である。可塑剀は䞀般に光感受性組
成物の党固䜓分重量基準で〜15重量量で存圚
する。 本発明の光感受性組成物は任意の適圓な方法で
各成分すなわち(a)重合䜓結合剀、(b)盞容性゚チレ
ン性䞍飜和化合物、および(c)遊離ラゞカル生成系
を混合するこずにより補造できる。䟋えば流動性
組成物は任意の順序でこれらの成分およびその他
の所望の添加剀そしお所望により溶媒䟋えば塩玠
化炭化氎玠䟋えばメチレンクロリド、クロロホル
ム、メチルクロロホルム、クロロベンれン、トリ
クロロ゚チレン、テトラクロロ゚チレンおよびク
ロロトル゚ン、ケトン䟋えばメチル゚チルケト
ン、ゞ゚チルケトンおよびメチルむ゜ブチルケト
ン、芳銙族炭化氎玠䟋えばベンれン、トル゚ンお
よびキシレン、およびテトラヒドロフランの助け
を借りお混合するこずにより補造できる。前蚘溶
媒は垌釈剀ずしおアセトン、䜎分子量アルコヌル
䟋えばメチル、゚チルおよびプロピルアルコヌル
および゚ステル䟋えばメチル、゚チルおよびブチ
ルアセテヌトを含有しうる。溶媒は埌に混合物た
たは抌出された局を加熱するこずによ぀お陀去で
きる。 これら組成物の補造においおは通垞のミル凊
理、混合および溶液技術を䜿甚するこずができ
る。特定の技術はそれぞれの成分の性質の差によ
り倉動する。均質の実質的に攟射を散乱しない組
成物を任意の所望の方法でシヌトに成圢する。䟋
えば溶媒流延キダスチング、熱圧瞮成圢、カ
レンダヌ凊理たたは抌出成圢が所望の厚さの局の
補造に察しお適圓な方法である。 本発明の光感受性゚レメントは光感受性組成物
を溶媒流延たたは抌出成圢、カレンダヌ凊理たた
は高枩におけるプレスによ぀お適圓な成圢ホむヌ
ル、ベルトたたはプラテン䞊の局たたは自己支持
性シヌトの圢態ずするこずによ぀お補造できる。
局たたはシヌトは前蚘の可撓性支持䜓の衚面に積
局させるこずができる。あるいはたたこれは以䞋
に蚘茉のように接着剀ブレンドによ぀お接着させ
るこずができる。溶液が䜿甚される堎合には接着
剀含有支持䜓䞊にコヌテむングを生成させるこず
ができる。 この光感受性局の厚さはレリヌフ画像䞭に所望
される厚さの盎接の凜数でありそしおこれは再生
される䞻題およびレリヌフの最終的䜿甚に䟝存す
る。䟋えば厚い゜フトレリヌフはフレキ゜グラフ
むヌ印刷においお有甚でありそしお薄い硬質レリ
ヌフは平版印刷に有甚である。䞀般に重合性局の
厚さは玄0.250むンチ以䞋である。䟋えばそれは
箄0.0005〜玄0.250むンチ0.00127〜0.635cmに
倉動しそしおこの厚さ範囲内の局が倧郚分の印刷
プレヌトに察しお䜿甚される。 光感受性局ブタゞ゚ンアクリロニトリル印刷
プレヌトず可撓性支持䜓ずの間には奜たしくは接
着剀ブレンドの局を䜍眮させるがこれは次の皮
の重合䜓矀から遞択された少くずも皮の重合䜓
を包含しおいる。 (1) モル比玄の゚チレングリコヌ
ル、テレフタル酞、む゜フタル酞およびアれラ
むン酞の瞮合重合䜓のポリ゚ステル暹脂、
19000の、および37000のを有しおい
る。 (2) メチル゚チルケトン䞭で15重量固䜓分およ
び12rpmでブルツクフむヌルドスピンドル
を䜿甚した堎合に、100〜1200センチポアズの
ブルツクフむヌルド粘床および54〜63℃の範囲
の接着剀掻性化枩床を有する結晶性熱可塑性暹
脂のポリ゚ヌテルポリりレタン暹脂。このポリ
゚ヌテルポリりレタンは15の降䌏点䌞長、
615の砎断点䌞長、600psi42.18Kgcm2の
400䌞長モゞナラス、玄49℃の結晶性消倱
decrystallization枩床を有しおいる。 (3) ポリアミド暹脂、半透明の明るいコハク色、
ボヌル−リング軟化点132〜145℃、210℃での
溶融粘床40〜60ポアズ、299℃以䞊の発火点、
日の氎吞収は0.7、日では1.6、降䌏点匕
匵り匷床460psi32.34Kgcm2、砎断点匕匵り
匷床450psi31.64Kgcm2および䌞長560。
降䌏点匕匵り匷床、砎断点匕匵り匷床および
䌞長は24℃でASTM法−1708により枬定さ
れる。 (4) ポリアミド暹脂。半透明の明るいコハク色。
ボヌルアンドリング軟化点150〜160℃、218℃
の粘床28〜38ポアズ、日の氎吞収1.5、
日では2.8。
The present invention relates to a method for surface treatment of photosensitive flexographic printing plates. More specifically,
The present invention relates to the surface treatment of flexographic printing plates whose photosensitive layer contains a polymer of conjugated diolefin hydrocarbons. Even more particularly, the present invention relates to the surface treatment of photosensitive elastic layers containing polymers of conjugated diolefin hydrocarbons with bromine. Light-sensitive flexographic printing plates are becoming more important in the printing industry. Particularly useful compositions for the production of such flexographic printing plates include an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound, a photoinitiator, and a block copolymer such as styrene as a polymeric binder.
Mention may be made of compositions containing either butadiene-styrene and styrene-isoprene-styrene polymers or butadiene/acrylonitrile polymers optionally containing carboxyl groups.
The former compositions used industrially are particularly useful for alcohol or alcohol-acetate based inks. The latter commercially new compositions are particularly useful in hydrocarbon-based inks. The flexographic printing plates, like those made from other natural or synthetic conjugated diolefin hydrocarbon polymers, generally require treatment to reduce the tackiness of the relief printing surface after imagewise exposure and development. Both chlorine and bromine treatments are known for reducing layer tack. Bromine treatment has been found to be effective with respect to flexographic printing plates and particularly those containing optionally carboxyl-containing butadiene/acrylonitrile polymers. Generally, bromination solutions require the handling of acid, acid vapor, and/or free elemental bromine in liquid or gaseous state at some point in their manufacture. For operator safety, it is desirable to exclude handling of such aggressive and dangerous reagents. It is an object of the present invention to provide a process for processing flexographic printing plates that excludes the use of a separate acid or free bromine component. Another object is to provide such a method that can be operated over a pH range from near neutral to acidic conditions. Yet another object is that the dry solid component of the processing solution is stable, readily available and, when combined, a stable material that can be stored dry and subsequently mixed with water and then used as a brominating agent. The object of the present invention is to provide a method by which a mixture can be produced. According to the present invention, a layer of a photosensitive elastomeric composition comprising a conjugated diolefin hydrocarbon and a non-gaseous ethylenically unsaturated compound containing at least one terminal ethylene group is exposed to actinic radiation; An improvement is provided in the method of modifying the surface of a relief flexographic printing plate where the relief is produced by liquid developing the unexposed areas thereof, and the improvement is then developed after drying. The surface is subjected to either (1) post-exposure to a source of actinic radiation, and (2) contact with an aqueous treatment solution of alkali monopersulfate and bromide salt for a period of approximately 15 seconds to 40 minutes. It is a matter of implementation. The photosensitive elastic compositions used in the method of the present invention include polymers of conjugated diolefin hydrocarbons, non-gaseous ethylenically unsaturated compounds, organic radiation-sensitive free radical-generating photoinitiators (or systems) and as discussed below. Includes other additives. This composition can be used in layered form. Alternatively, the layer can be adhered to a flexible support or a temporary support can be used.
Other structures may have a cover sheet and a polymer layer on each side of the photosensitive layer. Useful flexible supports include plastic film and metal sheets, open or closed self-ohmic compression moldable rubber layers, or combinations of plastic film foam and rubber layers. When a combination support is used, the plastic film is generally adjacent to the photosensitive layer. Polyamide coated films such as polyesters such as polyethylene terephthalate provide suitable temporary supports. Examples of such supports include polymeric film supports such as polyethylene terephthalate, flame treated polyethylene terephthalate, electron discharge treated polyethylene terephthalate, polyimide (e.g. the films disclosed in U.S. Pat. No. 3,179,634, which is hereby incorporated by reference). etc.) and thin metal supports such as, but not limited to, aluminum, tinned steel (brushed or polished). Polymeric supports typically range from 0.001 inch
It has a thickness in the 0.007 inch (0.025-0.18 mm) range. The metal support generally has a thickness in the range of 0.010 to 0.0115 inches (0.25 to 0.29 mm) for aluminum and 0.008 to 0.010 inches (0.20 to 0.25 mm) for tinned steel. .
Examples of foam supports include open or closed cell foams such as polyvinyl chloride, polyurethane,
Examples include ethylene polydiene rubber, neoprene, and others. Examples of compression moldable rubbers include styrene/isoprene block copolymers, butadiene/acrylonitrile copolymers, natural rubber, and others. The photosensitive compositions disclosed herein are developable in their unexposed state in an aqueous, semi-aqueous basic or solvent solution due to the particular polymer binder present in the photosensitive composition. be. Photosensitive layer is 0.0005~0.250 inch (approximately 0.013~6.35mm)
or larger thickness range. One essential component of the photosensitive elastomer composition is an elastomer polymeric binder. Suitable binders include natural or synthetic polymers of conjugated diolefin hydrocarbons. Examples of binders are 1,2
- polybutadiene, 1,4-polybutadiene, butadiene/acrylonitrile, butadiene/styrene, block copolymers of the A-B-A type, such as styrene-butadiene-styrene block copolymers, styrene-isoprene-styrene block copolymers, etc. Examples include copolymers of binders. Block copolymers can be of linear, radial or sequential type. Preferred binders are styrene-isoprene-styrene or styrene-butadiene-styrene block copolymers, and butadiene/acrylonitrile copolymers optionally with carboxyl content. The linear block copolymers useful in the present invention have the general formula A-B-A, where A is independently an inelastic material having a number average molecular weight (n) of 2,000 to 100,000 and a glass transition temperature of 25°C or higher. and B is an elastomeric polymer block having an average molecular weight between about 25,000 and 1,000,000 and a glass transition temperature of about 10° C. or less. ing. Inelastic polymer block A with elastic polymer block B between them
taken together to form unit A-B-A represents a particularly suitable copolymer for use in combination with the photopolymerizable component in the compositions of this invention. This unit can constitute the entire general formula of the copolymer. It may be attached to other polymer chains, or it may be a repeat. Of course, the precision of the unit can be improved within the scope of the invention, for example by using this different inelastic terminal block A, or by creating block or graft polymer substitutions in blocks A and B. It is possible to change the properties of Preferably, the elastomer central block B is a polymer of aliphatic conjugated diolefin, while the inelastic body block A is an alkenyl aromatic hydrocarbon, preferably a vinyl substituted aromatic hydrocarbon, and even more preferably a vinyl monocyclic hydrocarbon. It is formed by polymerizing aromatic hydrocarbons. Block copolymers are described in US Pat. No. 3,265,765 and corresponding British Patent No.
No. 1000090 disclosed in each specification. Particularly preferred classes of copolymers include block copolymers having polystyrene end groups connected by a central portion of polyisoprene or polybutadiene, such as polystyrene-polyisoprene-polystyrene or polystyrene-polybutadiene-polystyrene. The polydiene block is 70-90% by weight of the block copolymer.
Other typical block copolymers useful in the present invention are polystyrene-polybutadiene-polystyrene and polystyrene-polyisoprene-polystyrene block copolymers which are hydrogenated according to the teachings of U.S. Pat. Nos. 3,431,323 and 3,333,024. It is what was done. This hydrogenated block copolymer has the additional advantage of improved heat resistance and oxidation resistance. However, it is desirable to have some residual unsaturation in the hydrogenated block copolymer. The reason for this is that only very small concentrations of monomer are then required in the photosensitive composition to reduce the solvent solubility upon exposure to actinic radiation. Still other typical block copolymers useful in this invention are those in which the end blocks are polyalkylstyrenes, such as poly(α-methylstyrene)-polyisoprene-poly(α-methylstyrene), and those having multiple polymer blocks. For example, polyisoprene-polystyrene-polybutadiene-polystyrene-polyisoprene. The number average molecular weight for block copolymers is
Gelserophane manufactured by Arro Laboratories
29 using 600W membrane and toluene as solvent
It can be measured by membrane permeation at °C.
For inelastic polymer blocks and elastomeric polymer blocks, n is preferably determined as follows. A The molecular weight of the first block (polystyrene) is
It can be determined by gel permeation chromatography (GPC) of end-stopped samples removed immediately after polymerization. The chromatograph is calibrated using commercially available polystyrene molecular weight standards. B The n of the second block (polyisoprene or polybutadiene) can be measured by the following method. (1) Measure n of a polystyrene-polyisoprene (or polybutadiene) di-block polymer sample end-capped and immediately removed after its polymerization by appropriately calibrated GPC, and (2) Subtract n of the first block measured in (A) above from this value. C The n of the third block (polystyrene) can be measured using the same general method. (1) Measure n of a sample of a polystyrene-polyisoprene (or polybutadiene)-polystyrene three-block polymer by appropriately calibrated GPC, and (2) From this value, the 2 obtained in (B) above is determined. -Reducing n of the block polymer. These block copolymers are manufactured by Shell Chemical Company and sold under the trade name "Kraton." Useful butadiene/acrylonitrile copolymers range from about 20,000 to about 75,000, preferably from about 25,000 to about 75,000.
High molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer having a number average molecular weight (n) in the range of about 50,000
(a). n for the polymers described herein can be determined by gel permeation chromatography using a butadiene standard. The acrylonitrile content of the polymer varies from about 10 to about 50% by weight, preferably from about 15 to about 40%. Optionally, the copolymer also has a carboxyl content of 0 to 15% by weight. If the copolymer contains carboxyl groups, the carboxyl content preferably ranges from about 1 to about 15% by weight, most preferably from about 2 to about 10%. The copolymer is present in an amount of about 55 to 90% and preferably about 60 to about 75% by weight, based on the total weight of the composition. At least about 55% by weight copolymer is required to provide sufficient flexibility and physical integrity to the photosensitive element, particularly for flexographic plates. Carboxyl groups are introduced into the high molecular weight copolymer by adding to the polymerization process a carboxyl-containing monomer such as acrylic or methacrylic acid or a monomer convertible to a carboxyl-containing monomer such as maleic anhydride or methyl methacrylate. can be included. Such polymers are available from several sources, e.g. under the trade name Hyker.
It is commercially available from BFGoodrich Chemical. Another essential component of the photosensitive compositions of the invention is a non-gaseous ethylenically unsaturated compound (b) containing at least one terminal ethylene group. The compound should be capable of forming a high molecular weight polymer by free radical initiated chain extension addition polymerization and be compatible with the high molecular weight polymer (a). Said A-B
Ethylenically unsaturated compounds compatible with -A type block copolymers are disclosed in GB 1366769, which is incorporated herein by reference. Many of these monomers are specifically disclosed below. A group of suitable ethylenically unsaturated compounds includes unsaturated esters of alcohols, in particular such esters of α-methylenecarboxylic acids and substituted α-methylenecarboxylic acids, more particularly such esters of alkylene polyols and polyalkylene polyols. esters, and most especially alkylene polyol di- and triacrylates and polyalkylene polyol di- and triacrylates prepared from alkylene polyols of 2 to 15 carbon atoms or polyalkylene ether polyols or glycols of 1 to 10 ether linkages. can be given. The following specific compounds are other examples of this group. Ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, glycerol diacrylate, glycerol triacrylate,
Trimethylolpropane triacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-propanediol dimethacrylate, 1,2,4-butanetriol trimethacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 1,4-
Benzenediol dimethacrylate, 1,2-benzenedimethanol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, 1,3-propanediol diacrylate, 1,3-pentanediol dimethacrylate, p-α,α-dimethyl Benzyl phenyl acrylate, tertiary butyl acrylate, N,N-diethylaminoethyl acrylate, diethylaminoethyl methacrylate,
1,4-butanediol diacrylate, hexamethylene glycol diacrylate, decamethylene glycol diacrylate, 2,2-dimethylolpropane diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, 2,2-di(p-hydroxy-phenyl)propane diacrylate,
2,2-di(p-hydroxyphenyl)propane dimethacrylate, polyoxyethyl-2,2-
Di(p-hydroxyphenyl)propane triacrylate (molecular weight 462), 1,4-butanediol dimethacrylate, hexamethylene glycol dimethacrylate, 2,2,4-trimethyl-1,
3-pentanediol dimethacrylate, 1-phenylethylene-1,2-dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, ethylene glycol acrylate phthalate, polyoxyethyltrimethylolpropane triacrylate,
Diacrylate and dimethacrylate esters of diepoxy polyethers derived from aromatic polyhydroxy compounds such as bisphenol novolaks and similar compounds such as those described in U.S. Pat. No. 3,661,576, incorporated herein by reference, molecular weight 200-500 polyethylene glycol bisacrylates and methacrylates and more. Other groups of suitable ethylenically unsaturated compounds include, for example, the compounds disclosed in U.S. Pat. No. 2,927,022, which is incorporated herein by reference; and in particular at least one and preferably most of such bonds are conjugated to double bonded carbons, including carbon-carbon double bonds and carbon-heteroatom (e.g. nitrogen, oxygen and sulfur) double bonds. I can give you what I have. Preferred are such materials when ethylenically unsaturated groups, especially vinylidene groups, are conjugated with ester or amide structures. Examples of certain such compounds include unsaturated amides, especially unsaturated amides of α-methylenecarboxylic acid and especially α-ω-diamines and oxygen-interrupted ω-diamines, such as methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, ethylene. Bismethacrylamide, 1,6
-hexamethylenebisacrylamide, diethylenetriamine trismethacrylamide, bis(methacrylamidopropoxy)ethane, β-methacrylamidoethyl methacrylate, N-(β-hydroxyethyl)-β-(methacrylamido)ethyl acrylate, and N,N-bis (β-methacryloxyethyl)acrylamide, vinyl esters such as divinyl succinate, divinyl adipate, divinyl phthalate, divinyl terephthalate, divinylbenzene-1,3-disulfonate and divinylbutane-1,4-disulfonate, diallyl fumarate, etc. can give. Other ethylenically unsaturated compounds that may be used include styrene and its derivatives, 1,4-diisopropenylbenzene, 1,3,5-triisopropenylbenzene, adducts of itaconic anhydride with hydroxyethyl acrylate ( 1:1), adducts of itaconic anhydride with liquid butadiene/acrylonitrile polymers containing terminal amino groups, and U.S. Pat. No. 3,661,576 of itaconic anhydride with diacrylate and dimethacrylate esters of diepoxy polyethers. Additives mentioned in the specification,
Mention may be made of polybutadiene and butadiene/acrylonitrile copolymers containing terminal and pendant vinyl groups, and unsaturated aldehydes such as sorbaldehyde (2,4-hexadienal). Ethylenically unsaturated compounds that are water-soluble or contain carboxyl or other alkali-reactive groups are particularly suitable when aqueous base development systems are used. Additionally, the polymerizable ethylenically unsaturated polymers and similar materials described in US Pat. Nos. 3,043,805 and 2,929,710 can be used alone or in admixture with other materials. Acrylic and methacryl esters of ethylene oxide and polyhydroxy compound adducts, such as those described in US Pat. No. 3,380,831, are also useful. Optical crosslinking polymers disclosed in US Pat. Nos. 3,418,295 and 3,448,089 can also be used. All of these patent specifications are incorporated herein by reference. The weight ratio of the block copolymer used to the addition polymerizable ethylenically unsaturated compound used is
99:1 to about 1:1. The amount of unsaturated compound present in the photosensitive composition containing the butadiene/acrylonitrile copolymer should range from about 2 to about 40 percent by weight, based on the total weight of the composition. Specific amounts will vary depending on the particular polymer used to obtain optimal results. Preferably the amount of unsaturated compounds is about 5% to about 25%
within the range of The ethylenically unsaturated compound preferably has a boiling point of about 100° C. or higher at normal pressure. The most preferred ethylenically unsaturated compounds are triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, hexamethylene glycol dimethacrylate and hexamethylene glycol diacrylate. The photosensitive composition of the present invention does not substantially scatter actinic radiation when in the form of a thin layer as described above. To ensure a substantially transparent mixture, i.e. a non-radiative scattering mixture, the polymeric binder component should be compatible with the ethylenically unsaturated compound in the proportions used, and preferably be compatible with the ethylenically unsaturated compound. Should be soluble. "Compatibility" refers to the ability of two or more components to remain dispersed with each other without causing any significant scattering of actinic radiation. Compatibility is often limited by the relative proportions of the components, and incompatibility is evidenced by the formation of haze in the photosensitive composition. Some slight haze before or between exposures can be tolerated with such compositions in the production of printed reliefs. However, if fine detail is desired, haze should be completely excluded. The amount of ethylenically unsaturated compound or any other ingredient used is therefore limited to a concentration that does not produce undesirable light scattering or clouding. Another essential component of the photosensitive compositions of the invention is an organic radiation-sensitive free radical-generating system (c). Practically any organic radiation-sensitive free radical-generating system that initiates and does not unduly terminate the polymerization of unsaturated compounds can be used in the photosensitive compositions of the present invention. In this specification, the expression "organic" means:
It is used to refer to compounds containing carbon and one or more of oxygen, hydrogen, nitrogen sulfur and halogens, but no metals. Because process transparencies transfer heat generated from conventional sources of actinic radiation, and since photosensitive compositions are typically produced under conditions that produce high temperatures, free radical-generating compounds must be present at temperatures below 85°C and above. Preferably, it is thermally inactive at temperatures below 185°C. They should be dispersible in the composition to the extent necessary to initiate the desired polymerization or cross-linking under the influence of the amount of radiation absorbed in relatively short exposures. These initiators are useful in amounts of from about 0.001 to about 10% by weight, and preferably from about 0.1 to about 5% by weight, based on the total weight of the solvent-free photosensitive composition. Free radical generating systems absorb radiation in the range of about 2000 to about 800 Å, which is about 2500 to about 8000 Å.
Å, and preferably has an actinic radiation absorption band with a molecular extinction coefficient of at least about 50 in the range of about 2500 to about 5000 Å. The expression "actinic radiation absorption band" refers to a radiation band active to generate the free radicals necessary to initiate polymerization or cross-linking of unsaturated materials. A free radical generating system may include one or more compounds that directly generate free radicals when activated by radiation. It may also include multiple compounds, one of which generates free radicals after being made to do so by a radiation-activated sensitizer. A large number of such free radical-generating compounds can be used in the practice of this invention, and include aromatic ketones such as benzophenone, Michler's ketone, [4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone], 4,4 ′-bis(diethylamino)
Benzophenone, 4-acryloxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 4-acryloxy-4'-diethylaminobenzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 2-
Phenyl-2,2-dimethoxyacetophenone (2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane), 2-ethylanthraquinone, phenanthraquinone, 2-tertiary butylanthraquinone, 1,
2-benzanthraquinone, 2,3-benzanthraquinone, 2,3-dichloronaphthoquinone, benzyl dimethyl acetal and other aromatic ketones, benzoin, benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin butyl ether and benzoin phenyl ether, Methylbenzoin, ethylbenzoin and other benzoins, and 2,4.5-triarylimidazolyl dimers such as 2-(o-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-(o-chlorophenyl-4, 5-di(m-methoxyphenyl)imidazolyl dimer, 2-(o-fluorophenyl)-
4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-
(o-methoxyphenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-(p-methoxyphenyl)
-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2,
4-di(p-methoxyphenyl)-5-phenylimidazolyl dimer, 2-(2,4-dimethoxyphenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-(p-methylmercapto phenyl)−
4,5-Diphenylimidazolyl dimer and other US Patent Nos. 3479185 and 3784557, and British Patent Nos. 997396 and 1047569
Disclosed in each specification of the issue. These patent specifications are incorporated herein by reference. The imidazolyl dimer can be used with free radical-generating electron donors such as 2-mercaptobenzoxazole, leuco crystal violet or tris(4-diethylamino-2-methylphenyl)methane. Sensitizers such as Michler's ketones can be added. Various energy transfer dyes such as Rose Bengal and Eosin Y can also be used. Other examples of suitable initiators are disclosed in US Pat. No. 2,760,863, which is incorporated herein by reference. The photosensitive composition may also contain a small amount of a thermal addition polymerization inhibitor, for example from 0.001 to 2.0%, based on the weight of the total solvent-free photosensitive composition. Suitable such polymerization inhibitors include hydroquinone and alkyl and aryl substituted hydroquinones, 2,6-
Di-tert-butyl-4-methylphenol, p-methoxyphenol, tertiary-butylpyrocatechol, pyrogallol, β-naphthol, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, phenothiazine, pyridine, nitrobenzene, di Nitrobenzene and the nitrosodimer inhibitor system described in US Pat. No. 4,168,982, incorporated herein by reference. Other useful inhibitors include p-toluquinone, chloranil and thiazine dyes such as thionine blue G (CI52025), methylene blue B (CI52015) and toluidine blue (CI52040). Such compositions can be photopolymerized or photocrosslinked without removing the inhibitor. Preferred inhibitors are 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol and p-methoxyphenol. The oxygen and ozone resistance of printed reliefs can be improved by including in the photosensitive composition appropriate amounts of compatible, well-known antioxidants and/or antiozonants. Antioxidants useful in this invention include alkylated phenols such as 2,6-ditertiary-butyl-4-methylphenol, alkylated bisphenols such as 2,2-methylenebis-(4-methyl-6-tertiary-butylphenol),
butylphenol), 1,3.5-trimethyl-
2,4,6-tris(3,5-di-tert-butyl-
4-hydroxybenzyl)benzene, 2-(4-
Hydroxy-3,5-ditertiary-butylanilino)
-4,6-bis-(n-octylthio)-1,3,
Mention may be made of 5-triazine, polymerized trimethyldihydroquinone and dilaurylthiopropionate. Azonation inhibitors useful in the present invention include microcrystalline wax and paraffin wax, dibutylthiourea, 1,1,3,3-tetramethyl-2-thiourea, antiozonant AFD (product of Nafton), norbornene. For example, di-5-norbornene-2-methyl adipate, di-5-norbornene-2-methyl terephthalate, Ozone Protector 80 (product of Reichhold Chemicals), N-
Phenyl-2-naphthylamine, unsaturated vegetable oils such as rapeseed oil, linseed oil, safflower oil, polymers and resins such as ethylene/vinyl acetate copolymer resins, chlorinated polyethylene, chlorosulfonated polyethylene, chlorinated ethylene/methacrylic acid copolymers Polyurethanes, polyurethanes, polypentadiene, polybutadiene, furfural-derived resins, ethylene/propylene/diene rubbers, diethylene glycol esters of rosin, and alpha-methylstyrene/vinyltoluene copolymers. The ozone resistance of the printed relief produced can also be improved by annealing it at high temperatures before use. Optionally, the photosensitive composition also includes an immiscible polymeric or non-polymeric organic or Inorganic fillers or reinforcing agents such as polystyrene, organophilic silica, bentonite, silica, powdered glass, colloidal carbon and various types of dyes and pigments can be included. Such materials are used in varying amounts depending on the desired properties of the elastomeric composition. Fillers improve the strength of the elastomer layer, reduce tack, and are also useful as colorants. The photosensitive layer preferably contains a compatible plasticizer to lower the glass transition temperature of the binder and to facilitate selective development. The plasticizer can be any common plasticizer that is compatible with the polymeric binder. Some common plasticizers include dialkyl phthalates, alkyl phosphates, polyethylene glycols, polyethylene glycol esters and polyethylene glycol ethers. Other useful plasticizers include oleic acid, lauric acid, and others. Polyesters such as polyethylene sebacate and others are preferred plasticizers. Plasticizers are generally present in an amount of 1 to 15% by weight, based on the total solids weight of the photosensitive composition. The photosensitive compositions of the present invention can be prepared by combining the components (a) the polymeric binder, (b) the compatible ethylenically unsaturated compound, and (c) the free radical generating system in any suitable manner. Can be manufactured. For example, the flowable composition may contain, in any order, these components and other desired additives and optionally solvents such as chlorinated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, methyl chloroform, chlorobenzene, trichloroethylene, tetrachloroethylene and chlorotoluene, ketones such as methyl ethyl ketone. , diethyl ketone and methyl isobutyl ketone, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and tetrahydrofuran. The solvent may contain as diluent acetone, low molecular weight alcohols such as methyl, ethyl and propyl alcohol and esters such as methyl, ethyl and butyl acetate. The solvent can later be removed by heating the mixture or extruded layer. Conventional milling, mixing and solution techniques can be used in the manufacture of these compositions. Specific techniques will vary due to differences in the properties of each component. The homogeneous, substantially non-radiation scattering composition is formed into a sheet in any desired manner. For example, solvent casting, hot compression molding, calendering or extrusion are suitable methods for producing layers of the desired thickness. The photosensitive elements of the present invention are prepared by forming a photosensitive composition into a layer or self-supporting sheet on a suitable forming wheel, belt or platen by solvent casting or extrusion, calendering or pressing at elevated temperatures. It can be manufactured by folding.
Layers or sheets can be laminated to the surface of the flexible support. Alternatively, it can be adhered by an adhesive blend as described below. If a solution is used, a coating can be produced on the adhesive-containing support. The thickness of this photosensitive layer is a direct function of the thickness desired in the relief image and this depends on the subject matter to be reproduced and the final use of the relief. For example, thick soft relief is useful in flexographic printing and thin hard relief is useful in lithographic printing. Generally, the thickness of the polymerizable layer is about 0.250 inch or less. For example, it varies from about 0.0005 to about 0.250 inches (0.00127 to 0.635 cm) and layers within this thickness range are used for most printing plates. Between the photosensitive layer butadiene/acrylonitrile printing plate and the flexible support is preferably a layer of an adhesive blend comprising at least two polymers selected from the following four polymer groups: Includes merging. (1) a polyester resin of a condensation polymer of ethylene glycol, terephthalic acid, isophthalic acid and azelaic acid in a molar ratio of about 6:2:1:3;
It has an n of 19,000 and a w of 37,000. (2) Have a Bruckfield viscosity of 100 to 1200 centipoise and an adhesive activation temperature in the range of 54 to 63 °C when using a #3 Bruckfield spindle at 15% solids by weight and 12 rpm in methyl ethyl ketone. Crystalline thermoplastic polyether polyurethane resin. This polyether polyurethane has a yield point elongation of 15%,
615% elongation at break, 600psi (42.18Kg/cm 2 )
It has a 400% elongation modulus and a decrystallization temperature of about 49°C. (3) Polyamide resin, translucent light amber color;
Ball-ring softening point 132-145℃, melt viscosity 40-60 poise at 210℃, ignition point above 299℃,
% water absorption at 1 day is 0.7, at 7 days is 1.6, tensile strength at yield 460 psi (32.34 Kg/cm 2 ), tensile strength at break 450 psi (31.64 Kg/cm 2 ) and elongation 560%.
(Tensile strength at yield, tensile strength at break and elongation are measured by ASTM method D-1708 at 24°C). (4) Polyamide resin. Translucent bright amber color.
Ball and ring softening point 150~160℃, 218℃
Viscosity of 28-38 poise, daily water absorption% 1.5, 7
2.8 in days.

【衚】 降䌏点匕匵り匷床、砎断点匕匵り匷床および䌞
長はASTM法−1708によ぀お蚘茉の枩床で枬
定。 暹脂の数平均分子量はゲル透過クロマ
トグラフむヌGPCによ぀お既知の暙準䟋え
ばブタゞ゚ンを䜿甚しお圓業者には既知のように
しお枬定するこずができる。暹脂の重量平均分子
量は圓業者には既知のようにしお既知の
暙準詊料䟋えばポリスチレン、ポリメタクリル
酞、ポリメチルメタクリレヌトその他を䜿甚しお
光散乱技術を䜿甚しお枬定するこずができる。 接着剀組成物䞭の暹脂の党重量基準で(1)〜78
重量、(2)〜78重量、(3)〜94重量そしお
(4)〜97重量の範囲で特定の重合䜓を接着剀ブ
レンド䞭に存圚させるこずができる。皮、皮
および皮の暹脂成分を含有する奜たしい接着剀
ブレンドが以䞋に蚘茉されおいるが、ここには
党暹脂成分の重量基準である。 成分接着剀ブレンドに察する範囲は以䞋の
ずおりである。 (1) 25〜31、奜たしくは25、 (2) 25〜31、奜たしくは25、 (3) 25〜19、奜たしくは25、そしお (4) 25〜19、奜たしくは25。 皮の成分接着剀ブレンドおよびに察す
る範囲は以䞋のずおりである。 (1) 〜78、奜たしくは〜65、 (2) 〜78、奜たしくは〜65、そしお (3) 〜94、奜たしくは〜90。 (1) 〜63、奜たしくは〜45、 (3) 〜93、奜たしくは〜85、そしお (4) 〜97、奜たしくは〜90。 皮の成分接着剀ブレンド〜に察する
範囲は以䞋のずおりである。の接着剀ブレンド
は特に奜たしい。 (1) 〜77、奜たしくは15〜50、最も奜た
しくは30および (3) 93〜23、奜たしくは85〜50、最も奜た
しくは70。 (1) 〜60、より奜たしくは〜30、およ
び (4) 97〜40、より奜たしくは95〜70。 (1) 23〜77より奜たしくは35〜45および (2) 77〜23、より奜たしくは65〜55。 (2) 10〜16、奜たしくは25〜30および (4) 90〜40、奜たしくは75〜70。 (2) 〜72、奜たしくは15〜50、および (3) 93〜28、奜たしくは85〜50。 本発明の接着剀ブレンドは少くずもポンド
むンチ53.7Kgcmそしお䞀般にははるかによ
り倧なる接着力䟋えばポンドむンチ142.86
Kgたたはそれ以䞊の範囲の光感受性局支持
䜓の接着倀を䞎える。これら接着倀は、本発明の
゚レメントが印刷プレヌト特にフレキ゜グラフむ
ヌ印刷プレヌトずしお䜿甚される堎合には充分で
ある。 接着剀ブレンドは奜たしくは添加剀䟋えばブロ
ツク圢成防止剀、着色剀䟋えば染料その他を含有
しおいる。有甚なブロツク圢成防止剀ずしおは奜
たしくはポリオレフむン粒子たたはビヌズである
がしかしたたその他の硬質粒子たたはビヌズ䟋え
ば二酞化珪玠その他があげられる衚面掻性剀たる
ゞオクチルナトリりムスルホサクシネヌトを䜿甚
するこずができる。奜たしきポリオレフむン物質
は実斜䟋䞭に蚘茉されおいる。ブロツク圢成防止
剀のビヌズサむズは接着剀局の厚さよりも倧であ
りうる。その結果、接着剀ブレンドの局の倖にビ
ヌズが䞀郚突出しおいる。そのような構造は接着
の皋床にはほずんどかたたは党く圱響しないよう
である倚くのタむプの着色剀たたは染料もたた接
着剀局䞭で有甚である。奜たしい染料はデナポン
シリングブルヌBLC.I.アシツドブルヌ59であ
る。他の有甚な染料ずしおはメチレンバむオレツ
トC.I.ベヌシツクバむオレツト、「ラク゜
ル」フアストブルヌMBSNC.I.゜ルベントブル
ヌ38、「ポンタシル」りヌルブルヌBLC.I.アシ
ツドブルヌ59たたはC.I.50315、「ポンタシル」
りヌルブルヌGLC.I.アシツドブルヌ102たたはC.
I.50320、ビクトリアピナアブルヌBOC.I.ベヌ
シツクブルヌたたはC.I.42595、C.I.109レツド
ダむ、ロヌダミン3GOC.I.ベヌシツクレツド
、ロヌダミン6GDNC.I.ベヌシツクレツド
たたはC.I.45160、フクシン染料C.I.42510、
カルコレツドグリヌンC.I.44090、およびア
ントラキノンブルヌ2GAC.I.アシツドブルヌ58
があげられる。 接着剀溶液は䞀般に次の順序で連続的に撹拌し
぀぀溶媒に各成分すなわち重合䜓、ポリオレフむ
ンブロツク圢成防止剀、着色剀を加えるこずによ
぀お補造される。有甚な溶媒ずしおは、混合物䟋
えばメチレンクロリド酢酞゚チル、メチレンク
ロリド−ブチルアセテヌト、メチレンクロリ
ドシクロヘキサノン、メチレンクロリドメタ
ノヌルセロ゜ルブ その他がありそしお奜たし
くはメチレンクロリドセロ゜ルブ9010混
合物があげられる。远加の溶媒を加えおすべおの
重量損倱を補償させるこずができる。溶媒の遞択
は、コヌテむングにブリスタヌふくれを圢成
させるこずなくそしお少量の溶媒を残留させるこ
ずなしに最も早い実甚的也燥速床を䞎えるずいう
必芁性により支配される。溶媒はたた存圚しうる
染料に察しお可溶化䜜甚を有しおいるべきであ
る。 次いで接着剀溶液を既知の手段によ぀お䟋えば
ドクタヌブレヌドの䜿甚によ぀おかたたは垂堎的
に入手可胜な連続り゚ブコヌタヌドラむダヌ䞭で
コヌテむングしお可撓性支持䜓に適甚しお、玄80
〜500mgdm2奜たしくは玄260〜300mgdm2の
範囲の也燥コヌテむング重量を生成せしめる。最
も奜たしい接着剀局のコヌテむング重量は玄260
mgdm2である。䞀般に接着剀局は0.0008〜0.001
むンチ0.020〜0.025mmの也燥厚さを有しおい
る。連続コヌテむングにおいおは、り゚ブ速床は
䟋えば15〜150フむヌト分4.57〜45.72m分
に倉動させるこずができる。也燥枩床は60〜130
℃、奜たしくは80〜90℃の範囲である。 奜たしい可撓性支持䜓は0.001〜0.007むンチ
0.025〜0.18mm厚さの、奜たしくは0.005むンチ
0.13mm厚さの火炎凊理ポリ゚チレンテレフタ
レヌトである。重合䜓フむルムの火炎凊理は既知
である。ここに参照ずしお包含されおいる米囜特
蚱第3145242号、同第3360029号および同第
3391912号各明现曞は重合䜓フむルムの火炎凊理
のための有甚な方法および装眮を蚘茉しおいる。
燃焌性ガス混合物の燃料盞圓比φは1.4であり、
これはプロパン流速〔酞玠流速0.21
空気流速〕に等しい。すべおの流速は暙準立方
フむヌトたたは分である。り゚ブ速床は175
盎線フむヌト分53.34m分である。 也燥された接着剀塗垃支持䜓は盎ちに光感受性
局に接着させおもよいしたたは以埌の接着のため
に保存しおおくこずができる。接着剀コヌテむン
グした支持䜓をプレス䞭で、䟋えば140〜160℃で
20000〜30000psi1406〜2109Kgcm2の圧で玄
分たでの間光感受性局に積局させ、次いでプレス
䞭で60℃以䞋たで冷华させるこずができる。奜た
しくはこの光感受性゚レメントはカレンダヌ凊理
により補造される。奜たしくはダむを通しお抌出
すこずにより成圢されたこの光感受性局は接着剀
局に隣接する偎から離れおいる偎に0.005むンチ
0.13mm厚さのポリ゚チレンテレフタレヌトフ
むルムを存圚せしめおおり、そしおこのフむルム
はその埌は保護カバヌシヌトずしお働く。その他
のフむルム䟋えばポリスチレン、ポリ゚チレン、
ポリプロピレンたたはその他の剥離可胜な物質を
䜿甚するこずができる。光感受性局ずフむルムカ
バヌシヌトずの間に薄い硬質で可撓性の溶媒可溶
性局䟋えば可撓性重合䜓フむルムたたは局䟋えば
ポリアミドたたぱチレンビニルアセテヌト共
重合䜓を存圚させるのが奜たしい。この可撓性重
合䜓フむルムは前蚘フむルムカバヌシヌトの陀去
埌に光感受性局䞊に残る。可撓性重合䜓フむルム
はその䞊に重ねた像含有陰画たたは透明画を再䜿
甚のために保護したたは光感受性衚面ずの接觊た
たは敎合を改善する。以䞋に蚘茉の光源を䜿甚し
お像様露光する前に、゚レメントを支持䜓を通し
お露光させお接着支持䜓に隣接する光感受性局の
予め定められた厚さを重合せしめる。光感受性局
のこの重合された郚分はフロアfloorず称さ
れる。このフロア厚さは露光時間、露光源その他
により倉動する。露光は䞀般に〜30分である。 本発明によれば印刷レリヌフは前蚘゚レメント
の光感受性局の遞ばれた郚分を䟋えばプロセス透
明画すなわち実質的に掻性線攟射に透明でそしお
実質的に均䞀な光孊濃床の郚分を掻性線攟射に䞍
透明でそしお実質的に均䞀な光孊濃床の郚分を有
する像含有透明画たたはステンシルを通しお実質
的付加重合たたは光亀叉結合が行われるたで掻性
線攟射に露光させるこずによ぀お、補造するこず
ができる。付加重合たたは亀叉結合圢成の間、重
合䜓結合剀゚チレン性䞍飜和化合物組成物は局
の攟射露光郚分では䞍溶状態に倉換され、そしお
局の未露光郚分では有意の重合たたは亀叉結合は
起こらない。局の未露光郚分は重合䜓結合剀に察
する液䜓珟像剀によ぀お陀去される。プロセス透
明画はセルロヌスアセテヌトフむルムおよび配向
ポリ゚ステルフむルムを含めお任意の適圓な物質
から構成されうる。 任意の源からのそしお任意のタむプの掻性線攟
射を光重合過皋䞭に䜿甚するこずができる。攟射
は点光源から発生させたものでありうるしたたは
平行光線たたは発散ビヌムの圢でありうる。像含
有透明画に比范的近いずころで広域攟射系を䜿甚
するこずによ぀お透明画の透明郚分を通る攟射は
発散ビヌムずしお入りそしお埓぀お透明画の透明
郚分の䞋にある光感受性局䞭の連続的に発散する
郚分を照射する。これは光感受性局の底郚に最倧
幅を有するすなわち台圢の重合䜓レリヌフを
䞎える結果ずなる。その際レリヌフの䞊偎衚面は
透明郚分の寞法である。 掻性線攟射により掻性化可胜な遊離ラゞカル生
成系は䞀般に玫倖線範囲にその最倧掻性を瀺すの
であるから、この攟射源は玄2500Å〜5000Åの間
の波長範囲を有する有効量のこの攟射を䞎えるべ
きである。適圓なそのような攟射源ずしおは、倪
陜光線の他にカヌボンアヌク、氎銀蒞気アヌク、
玫倖線攟射発生性螢光䜓を有する螢光ランプ、ア
ルゎングロヌランプ、電子フラツシナナニツト、
および写真甚フラツドランプがあげられる。適圓
なマスクを通しおの電子加速機および電子ビヌム
源もたた䜿甚できる。これらの䞭で氎銀蒞気ラン
プ特に倪陜燈たたは「ブラツクラむト」タむプお
よび螢光倪陜燈が最も適圓である。 攟射露光時間は攟射の匷床およびスペクトル゚
ネルギヌ分垃、その組成物からの距離および利甚
可胜な組成物の性質および量によ぀お数分の秒
ないし数分に倉動しうる。通垞、光感受性組成物
から玄1.5〜玄60むンチ3.8〜152cmの距離で
氎銀蒞気アヌク、倪陜燈たたは高玫倖線発生性螢
光管が䜿甚される。露光枩床は特に臚界的ではな
い。しかしながら倧玄垞枩たたはそれよりわずか
により高い枩床すなわち玄20゜〜玄35℃で操
䜜するこずが奜たしい。 露光埌、像を適圓な珟像液で掗うこずによ぀お
珟像させるこずができる。珟像剀液䜓は重合䜓結
合剀゚チレン性䞍飜和化合物組成物に察しお良
奜な溶媒䜜甚たたは膚最䜜甚を有し䞔぀非重合た
たは非亀叉結合郚分の陀去に芁求される期間では
䞍溶化画像たたは支持䜓たたは接着剀局にはほず
んど䜜甚を有しないものでなければならない。適
圓な珟像液ずしおは有機溶媒䟋えば−ブタノ
ン、ベンれン、トル゚ン、キシレン、トリクロロ
゚タン、トリクロロ゚チレン、メチレンクロロホ
ルム、テトラクロロ゚チレンおよび溶媒混合物䟋
えばテトラクロロ゚チレン−ブタノヌルその
他があげられる。高分子量ブタゞ゚ン重合䜓成分
がカルボキシル基を含有しおいる堎合には、適圓
な珟像剀ずしおは氎溶性有機溶媒を添加したもの
でありうる氎性塩基があげられる。適圓な具䜓的
珟像剀混合物ずしおは氎酞化ナトリりムむ゜プ
ロピルアルコヌル氎、炭酞ナトリりム氎、炭
酞ナトリりム−ブトキシ゚タノヌル氎、硌
酞ナトリりム−ブトキシ゚タノヌル氎、珪
酞ナトリりム−ブトキシ゚タノヌルグリセ
ロヌル氎、炭酞ナトリりム−−ブトキ
シ゚トキシ゚タノヌル氎、および氎䞭の16.6
容量−−ブトキシ゚トキシ゚タノヌル
䞭の氎酞化ナトリりム0.5重量があげられ
るがこの前埌のものが奜たしい。遞ばれる特定の
珟像剀組合せは光感受性組成物のカルボキシル含
量および䜿甚される結合剀の性質および量に䟝存
する。䜿甚しうるその他の氎性珟像剀組合せはこ
こに参照ずしお包含されおいる米囜特蚱第
3796602号明现曞䞭に蚘茉されおいる。これら氎
性塩基氎溶性有機溶媒組合せはある堎合にはそ
れらの䜎コスト、䞍燃性および䜎毒性の故に奜た
しいものでありうる。 珟像は玄25℃で実斜しうるが、しかし時には最
良の結果は溶媒が枩時䟋えば30゜〜60℃の堎合に
埗られる。珟像時間は〜120分、奜たしくは
〜25分の範囲でありうる。 レリヌフが圢成された珟像段階においおは、珟
像液は任意の䟿利な方法䟋えば泚加、浞挬、スプ
レヌたたはロヌラヌ適甚によ぀お適甚するこずが
できる。ブラツシングは組成物の非重合たたは非
亀叉結合郚分の陀去を助ける。印刷プレヌトが氎
性珟像を受ける堎合には、次いで䟋えば玄〜
300秒間この珟像プレヌトに氎掗を適甚しおプレ
ヌト衚面から珟像液の痕跡量を陀去させる。「氎
性珟像液」の衚珟は氎掗をも包含する。 溶媒珟像埌、この印刷プレヌトを宀枩ないし玄
125℃の範囲の枩床、奜たしくは60℃で時間也
燥させる。氎性珟像埌、印刷プレヌトを也燥させ
るこずができるが、しかし濡れおいるうちにこの
掗浄氎性珟像プレヌトを氎性臭玠含有溶液に接觊
させうるこずが芋出されおいる。熱颚也燥は匷制
熱颚ドラむダヌたたはその他の適圓なドラむダヌ
の䜿甚によ぀お達成するこずができる。 次いでこのプレヌトを以䞋に蚘茉のようにしお
調補された氎性凊理溶液に接觊させる。プレヌト
をこの氎性凊理溶液でフラツドさせるこずができ
るしたたはこの凊理溶液䞭に浞挬させるこずがで
きる。埌者が奜たしい。15秒〜40分、より奜たし
くは分〜10分の間この凊理溶液を印刷プレヌト
に接觊させお保持するこずが奜たしい。凊理溶液
は奜たしくは垞枩で䜿甚されるが、しかしこれは
箄35℃たで加熱しうる。この凊理溶液は、アルカ
リモノパヌサルプヌト䟋えばカリりムモノパヌ
サルプヌト䞉重塩2KHSO5・KHSO4・
K2SO4およびブロミド塩䟋えば臭化カリりムを
氎性溶液䞭に溶解させるこずによ぀お補造され
る。䞡成分は固䜓でありか぀氎分の䞍存圚䞋には
盞互に非反応性なのであるから、それらを也匏混
合しそしお氎分プルヌフ容噚䞭で䜿甚前に長期間
保存するこずができる。混合物䞭の也燥成分の比
はアルカリモノパヌサルプヌト98〜10およびブ
ロミド塩〜90である。カリりム塩は特に奜たし
い。その理由はそれらの氎分感受性が有意により
䜎いからである。しかしながらその他のアルカリ
塩䟋えばナトリりム、リチりムその他は溶解たで
盞互に別々に保存される堎には有甚である。凊理
溶液に酞を加える必芁はなくこのこずは利点であ
る。この凊理溶液は既知の臭玠たたは塩玠凊理溶
液よりも高い䞭性域およびそれ以䞊䟋えば〜
8.5たたはそれ以䞊のPH倀を含むPH範囲で操䜜
可胜である。党䜓的PH範囲は0.7〜8.5たたはそれ
以䞊である。 この印刷プレヌトは、珟像埌前蚘臭玠凊理の前
たたはその埌で、掻性線攟射源に埌露光させるこ
ずができる。この埌露光は奜たしくは像様露光に
䜿甚された掻性線攟射源に察しお䞀般に〜15分
間である。䞡方の凊理の埌、この印刷プレヌトは
䜿甚できる状態である。 最良の様匏は䟋に説明されおいるが、ここに
凊理溶液は䞭性倧玄のPH6.8および䜎いPH
倧玄2.0である。より高いPHにおいおは、凊理
時間は奜たしくは〜10分である。より䜎いPHに
おいおは奜たしい凊理時間範囲は〜分であ
る。 本発明の光感受性フレキ゜グラフむヌ゚レメン
トから補造された印刷レリヌフはすべおの印刷に
䜿甚するこずができるが、しかしそれらは印刷お
よび非印刷郚分の間の高さの明癜な差が芁求され
る印刷に適甚可胜であり、そしお特に䟋えば倉圢
可胜な印刷衚面䞊での印刷のために匟性印刷郚分
が芁求されるフレキ゜グラフむヌ印刷に察しお最
も適甚可胜である。これらの皮類の印刷ずしおは
䟋えばドラむオフセツト印刷、印刷郚分および非
印刷郚分の間により倧なる高さの差を芁求する通
垞の凞版印刷におけるように、むンクがレリヌフ
の扛起郚分により運ばれるもの、および䟋えば凹
版印刷䟋えばラむンおよび反転ハヌフトヌンにお
けるようにむンクがレリヌフの凹郚により運ばれ
るものがあげられる。このプレヌトは倚色印刷に
察しお特に有甚である。 埗られるレリヌフおよび印刷画像ぱレメント
を円筒圢支持䜓䞊に像様露光させた堎合においお
さえも小デむテヌルおよび党䜓的ゞメンシペンの
䞡方においお原画透明画に察しお忠実性を瀺す。
このレリヌフは高い衝撃匷床を有し、匷靭䞔぀摩
耗抵抗性であり、そしお広範囲のむンク盞容性を
有しそしお、アクリロニトリルブタゞ゚ン結合
剀をベヌスずしたプレヌトのレリヌフは、本発明
の教瀺により凊理された堎合、特にアルコヌルベ
ヌスむンクのアルコヌル溶媒に察しお改善された
溶媒耐性を有しおいる。 次の実斜䟋は本発明を説明するためのものであ
るがここに郚およびは重量基準である。 むンク溶媒盞容性詊隓 本明现曞蚘茉の光感受性匟性䜓状組成物の局を
有するフレキ゜グラフむヌ印刷プレヌトに関しお
の印刷むンクおよび溶媒の盞容性および有甚性を
決定するために次の操䜜が䜿甚される。厚さ、シ
ペア 硬床ANSIASTM D2240−75お
よび重量を枬定した埌、露光され珟像された印刷
プレヌトを24時間特定の溶媒たたはむンクに含浞
させる。溶媒たたはむンクから陀去し、そしおた
たいお也かした埌、その厚さ、シペア硬床およ
び重量を再枬定する。むンチmmで衚わした厚
さ倉化△、シペア 硬床倉化△お
よび重量倉化△が次の基準を満足させる
堎合には、その印刷プレヌトはその溶媒および
たたはむンクに関しお盞容性であるかたたは優れ
おいるものず考えられる。 △0.003むンチ0.076mm △−シペア 単䜍 △3.5 次の基準が達成された堎合たたはこれを越えた
堎合、その印刷プレヌトは、その溶媒およびた
たはむンクに関しお非盞容性であるかたたは満足
できないものであるず考えられる。 △0.012むンチ0.305mm △−20シペア 単䜍 △7.0 前蚘の二぀の基準の䞭間の範囲にある堎合に
は、その凊理印刷プレヌトはその溶媒およびた
たはむンクに関しお倉動的たたは䞭間的有甚性
のものである。党䜓的評䟡は以䞋の実斜䟋
䞭に別蚘されおいる。 タツク粘着性詊隓 本発明の露光され珟像された印刷プレヌトの粘
着性は次のようにしお詊隓するこずができる。 (1) 衚面をむ゜プロパノヌルできれいにぬぐう。 (2) スコツト ブランド510トむレツトテむツシ
ナのようなテむツシナを500gの錘を䜿甚しお
30秒間プレヌト衚面むンチ×むンチ、
2.54cm×5.08cmに抌し付ける。 (3) テむツシナを陀去しそしおその結果を蚘録す
る。 (A) タツクなし−粘着なし (B) わずかなタツク−粘着するがしかし衚面か
ら剥離される (C) 粘着性−剥離するがしかしプレヌト䞊にい
く぀かの繊維を残す (D) 非垞に粘着性−粘着しそしお剥離するずテ
むツシナは裂ける 圓業者は指觊すなわち指先で觊るこずによ぀お
非粘着性すなわち等玚(A)の印刷プレヌト衚面で同
定するこずができる。䞡方の方法が䜿甚されおい
る。以䞋のすべおの凊理詊料はタツクなしであ
る。 䟋  次の成分から接着剀溶液を補造する。 成 分 量郚 ポリアミド暹脂(3)ロツドNo.OF5237 63.1 ポリ゚ステル暹脂(1) 27.0 ポリオレフむン 9.8 デナポンミリングブルヌBLダむC.I.アシツ
ドブルヌ59 0.1 䞊蚘のポリアミド暹脂(3)はヘンケル・アドヒシ
ブ・コンパニヌの補品「マクロメルト
Macromelt 」6238であり、これは半透明で
明るいコハク色であり、そしお132〜145℃のボヌ
ル・アンド・リング軟化点、210℃で40〜60ポア
ズの溶融粘床、299℃以䞊の発火点、日で0.7
、日で1.6の氎吞収、460psiの匕匵り降䌏
匷床32.34Kgcm2、450psi31.64Kgcm2の匕
匵り砎断匷床および560の䌞長匕匵り降䌏匷
床、匕匵り砎断匷床および䌞長は24℃でASTM
法−1708により枬定されるを有しおいる。 䞊蚘のポリ゚ステル暹脂ぱチレングリコヌ
ル、テレフタル酞、む゜フタル酞およびアれラむ
ン酞モル比の反応生成物であ
぀おn19000およびw37000を有する。 䞊蚘のポリオレフむンはドりラ・コモデむテむ
ヌズ瀟の補品たる「ベストフアむンVestofine
SF−616であ぀お、雪癜色、玄1600の分子量、
20℃で玄0.96の密床、25℃で0.5〜1.0の針入硬床、
箄118〜128℃の融点、そしおその玄85が10Όた
たはそれ以䞋でそしお15が10〜20Όの粒子サむ
ズを有しおいる。 メチレンクロリドセロ゜ルブ 溶媒90
10の混合物に前蚘成分を順序に加えお玄16固
䜓分の溶液を生成させる。ポリオレフむンビヌズ
は溶解しない。この混合物を成分添加の間および
その埌に連続的に撹拌しお溶液を生成させる。混
合の間のすべおの重量損倱をメチレンクロリドの
添加によ぀お補なう。 この接着剀溶液を連続り゚ブコヌタヌ−ドラむ
ダヌを䜿甚しお厚さ0.005むンチ〜0.13mmの
ポリ゚チレンテレフタレヌトフむルム支持䜓の火
炎凊理衚面に適甚しお玄260mgm2の也燥コヌ
テむング重量を生成させる。り゚ブ速床は45フむ
ヌト分〜13.72m分でありそしお也燥枩
床は86℃205〓である。 接着剀コヌテむングしたポリ゚チレンテレフタ
レヌト支持䜓を完成印刷プレヌトの厚さである
0.080むンチ2.03mmの厚さにダム圢成したス
チヌルプラテン䞭に接着剀偎を䞊にしお眮く。接
着剀コヌテむングした支持䜓およびプラテンをプ
レス䞊に眮き、そしお0.005むンチ0.13mm厚
さのポリ゚チレンテレフタレヌト支持䜓䞊の光感
受性組成物の抌出しシヌト〔0.090むンチ玄
2.29mm厚さ〕をその䞊に支持䜓偎を䞊にしお眮
き、そしおこれをスチヌルプレヌトで芆う。 ポリアミド局を担持するこのカバヌシヌトはポ
リ゚チレンテレフタレヌトフむルムを抌出しダむ
コヌタヌを甚いお䞋蚘の溶液で被芆するこずによ
り補造される。 成 分 量 メチレンクロリド 81.0 メタノヌル 2.0 −メチルピロリドン 10.0 ポリアミド暹脂 7.0 䞊蚘のポリアミド暹脂はヘンケル・アドヒシ
ブ・カンパニヌの補品「マクロメルト
Macromelt 」6900であり、これは実質䞊無
色であり、266〜302〓の環球軟化点、347〓にお
いお〜15g10分の溶融指数、570〓の発火点、
日では0.2そしお日では0.5の氎吞収、
1200psiの匕匵り降䌏点および3500psiの匕匵り砎
壊点これらはASTM −1708の操䜜により24
℃においお枬定を有するものである。 光重合性組成物の抌出しシヌトは次の成分をブ
レンドしそしおそのブレンドを170℃でダむを通
しお抌出すこずにより補造される。
TABLE (Tensile strength at yield, tensile strength at break and elongation determined by ASTM method D-1708 at the stated temperatures). The number average molecular weight (n) of the resin can be determined by gel permeation chromatography (GPC) using known standards such as butadiene, as is known to those skilled in the art. The weight average molecular weight (w) of a resin can be determined using light scattering techniques using known standards such as polystyrene, polymethacrylic acid, polymethyl methacrylate, etc., as is known to those skilled in the art. Based on the total weight of resin in the adhesive composition (1) 0 to 78
% by weight, (2) 0-78% by weight, (3) 0-94% by weight, and
(4) Certain polymers can be present in the adhesive blend in the range of 0 to 97% by weight. Preferred adhesive blends containing four, three and two resin components are described below, where percentages are based on the weight of total resin components. The percentage ranges for the four-component adhesive blend are as follows: (1) 25-31%, preferably 25%, (2) 25-31%, preferably 25%, (3) 25-19%, preferably 25%, and (4) 25-19%, preferably twenty five%. The percentage ranges for the two three-component adhesive blends A and B are as follows: A(1) 1-78%, preferably 1-65%, (2) 1-78%, preferably 1-65%, and (3) 1-94%, preferably 1-90%. B(1) 1-63%, preferably 1-45%, (3) 1-93%, preferably 1-85%, and (4) 1-97%, preferably 1-90%. % of 5 two-component adhesive blends C-G
The range is as follows. Adhesive blends of C are particularly preferred. C(1) 7-77%, preferably 15-50%, most preferably 30% and (3) 93-23%, preferably 85-50%, most preferably 70%. D(1) 3-60%, more preferably 5-30%, and (4) 97-40%, more preferably 95-70%. E(1) 23-77%, more preferably 35-45% and (2) 77-23%, more preferably 65-55%. F(2) 10-16%, preferably 25-30% and (4) 90-40%, preferably 75-70%. G(2) 7-72%, preferably 15-50%, and (3) 93-28%, preferably 85-50%. The adhesive blend of the present invention has at least 3 lbs.
(53.7 Kg/cm) and typically much greater adhesion force e.g. 8 lb/in (142.86 Kg/cm)
give adhesion values of the photosensitive layer support in the range Kg/m) or higher. These adhesion values are sufficient if the elements of the invention are used as printing plates, especially flexographic printing plates. The adhesive blend preferably contains additives such as antiblocking agents, colorants such as dyes, and the like. Useful anti-blocking agents are preferably polyolefin particles or beads, but also other hard particles or beads such as silicon dioxide, etc. The surfactant dioctyl sodium sulfosuccinate can be used. Preferred polyolefin materials are described in the Examples. The bead size of the antiblocking agent can be larger than the thickness of the adhesive layer. As a result, some of the beads protrude outside the layer of adhesive blend. Many types of colorants or dyes are also useful in the adhesive layer such that such structures are likely to have little or no effect on the degree of adhesion. A preferred dye is Dupont Schilling Blue BL (CI Acid Blue 59). Other useful dyes include methylene violet (CI Basic Violet 5), ``Laxol'' Fast Blue MBSN (CI Solvent Blue 38), ``Pontasil'' Wool Blue BL (CI Acid Blue 59 or CI 50315), ``Pontasil''
Wool Blue GL (CI Acid Blue 102 or C.
I.50320), Victoria Pure Blue BO (CI Basic Blue 7 or CI42595), CI109 Red Die, Rhodamine 3GO (CI Basic Cred 4), Rhodamine 6GDN (CI Basic Cred 1)
or CI45160), fuchsin dye (CI42510),
Calcolet Green S (CI44090), and Anthraquinone Blue 2GA (CI Acid Blue 58)
can be given. The adhesive solution is generally prepared by adding the components, polymer, polyolefin blocking agent, and colorant, to a solvent with continuous stirring in the following order. Useful solvents include mixtures such as methylene chloride/ethyl acetate, methylene chloride/n-butyl acetate, methylene chloride/cyclohexanone, methylene chloride/methanol/cellosolve, etc. and preferably methylene chloride/cellosolve (90/10) mixtures. can give. Additional solvent can be added to compensate for any weight loss. Solvent selection is governed by the need to provide the fastest practical drying rate without forming blisters in the coating and without leaving small amounts of solvent behind. The solvent should also have a solubilizing effect on the dyes that may be present. The adhesive solution is then applied to the flexible support by known means, such as by use of a doctor blade or by coating in a commercially available continuous web coater dryer, to give a coating of about 80%
A dry coating weight in the range of ~500 mg/ dm2 , preferably about 260-300 mg/ dm2 is produced. The most preferred adhesive layer coating weight is approximately 260
mg/ dm2 . Generally adhesive layer is 0.0008~0.001
It has a dry thickness of inches (0.020-0.025mm). For continuous coating, web speeds may range from 15 to 150 ft/min (4.57 to 45.72 m/min), for example.
can be varied to. Drying temperature is 60-130
℃, preferably in the range of 80 to 90℃. A preferred flexible support is flame treated polyethylene terephthalate 0.001 to 0.007 inches (0.025 to 0.18 mm) thick, preferably 0.005 inches (0.13 mm) thick. Flame treatment of polymeric films is known. No. 3,145,242, US Pat. No. 3,360,029, and US Pat. No. 3,360,029, incorporated herein by reference.
No. 3,391,912 describes useful methods and apparatus for flame treatment of polymeric films.
The fuel equivalent ratio φ of the combustible gas mixture is 1.4,
This is 5 (propane flow rate) / [(oxygen flow rate) + (0.21
air velocity)]. All flow rates are standard cubic feet or l/min. Web speed is 175
linear feet per minute (53.34 m/min). The dried adhesive-coated support may be immediately adhered to the photosensitive layer or may be saved for subsequent adhesion. The adhesive-coated support is heated in a press at e.g. 140-160°C.
Approximately 3 at a pressure of 20000~30000psi (1406~2109Kg/ cm2 )
It can be laminated to the photosensitive layer for up to minutes and then cooled in a press to below 60°C. Preferably, the photosensitive element is produced by calendering. The photosensitive layer, preferably formed by extrusion through a die, has a 0.005 inch (0.13 mm) thick polyethylene terephthalate film on the side remote from the side adjacent to the adhesive layer; then acts as a protective cover sheet. Other films such as polystyrene, polyethylene,
Polypropylene or other releasable materials can be used. Preferably, between the photosensitive layer and the film cover sheet there is a thin, rigid, flexible, solvent-soluble layer, such as a flexible polymeric film or layer, such as polyamide or ethylene/vinyl acetate copolymer. This flexible polymeric film remains on the photosensitive layer after removal of the film cover sheet. The flexible polymeric film protects the image-containing negative or transparency overlaid thereon for reuse or improves contact or registration with the light-sensitive surface. The element is exposed through the support to polymerize a predetermined thickness of the photosensitive layer adjacent to the adhesive support prior to imagewise exposure using the light source described below. This polymerized portion of the photosensitive layer is referred to as the floor. This floor thickness varies depending on exposure time, exposure source, etc. Exposure is generally 1 to 30 minutes. According to the present invention, the printed relief makes selected portions of the photosensitive layer of said element e.g. process transparent, i.e. substantially transparent to actinic radiation, and portions of substantially uniform optical density opaque to actinic radiation. and by exposure to actinic radiation through an image-containing transparency or stencil having areas of substantially uniform optical density until substantial addition polymerization or optical cross-linking occurs. During addition polymerization or cross-linking formation, the polymeric binder/ethylenically unsaturated compound composition is converted to an insoluble state in the radiation-exposed portions of the layer, and no significant polymerization or cross-linking occurs in the unexposed portions of the layer. . The unexposed portions of the layer are removed by a liquid developer to the polymeric binder. Process transparencies may be constructed from any suitable material, including cellulose acetate film and oriented polyester film. Actinic radiation from any source and of any type can be used during the photopolymerization process. The radiation may originate from a point source or may be in the form of parallel or diverging beams. By using a broad-field radiation system relatively close to the image-containing transparency, the radiation passing through the transparent portion of the transparency enters as a diverging beam and is therefore continuous in the light-sensitive layer underlying the transparent portion of the transparency. Irradiate the areas that diverge. This results in a polymer relief with the widest width (ie trapezoidal) at the bottom of the photosensitive layer. The upper surface of the relief is then the dimension of the transparent part. Since free radical generating systems that can be activated by actinic radiation generally exhibit their maximum activity in the ultraviolet range, this radiation source should provide an effective amount of this radiation having a wavelength range between about 2500 Å and 5000 Å. be. Suitable such radiation sources include, in addition to sunlight, carbon arcs, mercury vapor arcs,
Fluorescent lamps with ultraviolet radiation emitting phosphors, argon glow lamps, electronic flash units,
and photographic flat lamps. Electron accelerators and electron beam sources through appropriate masks can also be used. Among these, mercury vapor lamps, especially the sunlamp or "blacklight" type, and fluorescent sunlamps are most suitable. Radiation exposure times can vary from fractions of a second to minutes depending on the intensity and spectral energy distribution of the radiation, its distance from the composition and the nature and amount of composition available. Typically, a mercury vapor arc, a solar lamp, or a high ultraviolet emitting fluorescent tube is used at a distance of about 1.5 to about 60 inches (3.8 to 152 cm) from the photosensitive composition. The exposure temperature is not particularly critical. However, it is preferred to operate at about room temperature or slightly above (i.e., from about 20 DEG to about 35 DEG C.). After exposure, the image can be developed by washing with a suitable developer. The developer liquid has good solvent or swelling action on the polymeric binder/ethylenically unsaturated compound composition and does not insolubilize the image or support for the period of time required to remove unpolymerized or non-crosslinked portions. Or it must have little effect on the adhesive layer. Suitable developers include organic solvents such as 2-butanone, benzene, toluene, xylene, trichloroethane, trichloroethylene, methylene chloroform, tetrachloroethylene and solvent mixtures such as tetrachloroethylene/n-butanol and others. When the high molecular weight butadiene polymer component contains carboxyl groups, suitable developers include aqueous bases, which may be supplemented with water-soluble organic solvents. Specific suitable developer mixtures include sodium hydroxide/isopropyl alcohol/water, sodium carbonate/water, sodium carbonate/2-butoxyethanol/water, sodium borate/2-butoxyethanol/water, sodium silicate/2-butoxyethanol. /glycerol/water, sodium carbonate/2-(2-butoxyethoxy)ethanol/water, and 16.6 in water.
Examples include sodium hydroxide (0.5% by weight) in 2-(2-butoxyethoxy)ethanol by volume, but those around this range are preferred. The particular developer combination selected will depend on the carboxyl content of the photosensitive composition and the nature and amount of binder used. Other aqueous developer combinations that may be used are described in U.S. Pat.
It is described in the specification of No. 3796602. These aqueous base/water-soluble organic solvent combinations may be preferred in some cases because of their low cost, nonflammability, and low toxicity. Development may be carried out at about 25°C, but sometimes the best results are obtained when the solvent is at a temperature of, for example, 30° to 60°C. Development time is 1 to 120 minutes, preferably 1
It can range from ~25 minutes. In the development step where the relief has been formed, the developer can be applied by any convenient method such as pouring, dipping, spraying or roller application. Brushing helps remove non-polymerized or non-crosslinked portions of the composition. If the printing plate is subjected to aqueous development, then e.g.
A water wash is applied to the developer plate for 300 seconds to remove traces of developer from the plate surface. The expression "aqueous developer" also includes washing with water. After solvent development, the printing plate is kept at room temperature to approx.
Drying for 1 hour at a temperature in the range of 125°C, preferably 60°C. After aqueous development, the printing plate can be dried, but it has been found that the washed aqueous developer plate can be contacted with an aqueous bromine-containing solution while still wet. Hot air drying can be accomplished through the use of a forced hot air dryer or other suitable dryer. The plate is then contacted with an aqueous treatment solution prepared as described below. The plate can be flooded or immersed in the aqueous treatment solution. The latter is preferred. Preferably, the processing solution is held in contact with the printing plate for a period of 15 seconds to 40 minutes, more preferably 1 minute to 10 minutes. The processing solution is preferably used at ambient temperature, but it can be heated up to about 35°C. This treatment solution consists of an alkali monopersulfate such as potassium monopersulfate triple salt (2KHSO 5 KHSO 4
K 2 SO 4 ) and bromide salts such as potassium bromide in an aqueous solution. Since both components are solid and non-reactive with each other in the absence of moisture, they can be dry mixed and stored in moisture-proof containers for long periods of time before use. The ratio of dry components in the mixture is 98-10 parts alkali monopersulfate and 2-90 parts bromide salt. Potassium salts are particularly preferred. The reason is that their moisture sensitivity is significantly lower. However, other alkali salts such as sodium, lithium, etc. are useful where they are stored separately from each other until dissolution. There is no need to add acid to the processing solution, which is an advantage. This treatment solution is in the higher neutral range and higher than known bromine or chlorine treatment solutions (e.g.
Operable over a PH range including PH values of 8.5 or higher). The overall PH range is 0.7-8.5 or higher. The printing plate can be post-exposed to a source of actinic radiation after development, before or after said bromine treatment. This post-exposure is preferably generally 5 to 15 minutes for the actinic radiation source used for the imagewise exposure. After both treatments, the printing plate is ready for use. The best mode is described in Example 7, where the processing solution is neutral (approximately PH 6.8) and low PH.
(approximately 2.0). At higher PH, the treatment time is preferably 2-10 minutes. At lower PH the preferred treatment time range is 1-2 minutes. Printed reliefs produced from the photosensitive flexographic elements of the invention can be used in all printings, but they are suitable for printings where a clear difference in height between printed and non-printed parts is required. It is applicable and most applicable in particular to flexographic printing where elastic printing parts are required, for example for printing on deformable printing surfaces. These types of printing include, for example, dry offset printing, where the ink is carried by raised parts of the relief, as in conventional letterpress printing, which requires a greater height difference between printed and non-printed areas. , and intaglio printing in which the ink is carried by depressions in the relief, such as in line and inverted halftones. This plate is particularly useful for multicolor printing. The resulting relief and printed images exhibit fidelity to the original transparency in both small detail and overall dimension even when the element is imagewise exposed on a cylindrical support.
This relief has high impact strength, is tough and abrasion resistant, and has a wide range of ink compatibility, and the relief of plates based on acrylonitrile/butadiene binders can be treated according to the teachings of the present invention. When used, it has improved solvent resistance, especially for alcohol solvents in alcohol-based inks. The following examples are illustrative of the invention, in which parts and percentages are by weight. Ink/Solvent Compatibility Testing The following operations were performed to determine the compatibility and usefulness of printing inks and solvents for flexographic printing plates having layers of the photosensitive elastomeric compositions described herein. used. After measuring the thickness, Shore A hardness (ANSI/ASTM D2240-75) and weight, the exposed and developed printing plate is soaked in a specific solvent or ink for 24 hours. After removal from solvent or ink and pat dry, remeasure its thickness, Shore A hardness and weight. If the thickness change (△T), shore A hardness change (△H) and weight change (△%W) in inches (mm) satisfy the following criteria, the printing plate is
Or it is considered to be compatible or excellent with respect to ink (E). △T: 0.003 inch (0.076 mm) △H: -5 shore A unit △%W: 3.5% The printing plate is certified with respect to its solvents and/or inks if the following criteria are met or exceeded: considered to be incompatible or unsatisfactory (U). △T: 0.012 inches (0.305 mm) △H: -20 shore A units △%W: 7.0% If in the range intermediate between the above two criteria, the treated printing plate will be treated with respect to its solvent and/or ink. of variable or intermediate utility (I). The overall evaluation is provided separately in the Examples below. Tack Test The tack of exposed and developed printing plates of the present invention can be tested as follows. (1) Wipe the surface clean with isopropanol. (2) Use a toilet such as Scotto Brand 510 toilet toilet with a 500g weight.
Plate surface (1 inch x 2 inch,
2.54cm x 5.08cm). (3) Remove stains and record the results. (A) No tack - no tack (B) slight tack - sticks but peels off from the surface (C) tack - peels off but leaves some fibers on the plate (D) very tacky - Sticking and tearing of the tissue when peeled off. A person skilled in the art can identify non-stick or grade (A) printing plate surfaces by touch or touch with a fingertip. Both methods have been used. All treated samples below are untacked. Example 1 An adhesive solution is prepared from the following ingredients. Component amount (parts) Polyamide resin (3) Rod No.OF5237 63.1 Polyester resin (1) 27.0 Polyolefin 9.8 Dupont Milling Blue BL dye (CI acid blue 59) 0.1 The above polyamide resin (3) is a product of Henkel Adhesive Company. "Macromelt" 6238, which is translucent, light amber in color, and has a ball-and-ring softening point of 132-145°C, a melt viscosity of 40-60 poise at 210°C, over 299°C The ignition point of 0.7 per day
%, 1.6% water absorption in 7 days, tensile yield strength of 460psi (32.34Kg/ cm2 ), tensile strength at break of 450psi (31.64Kg/ cm2 ) and elongation of 560% (tensile yield strength, tensile strength at break and ASTM extension at 24°C
(measured by method D-1708). The above polyester resin is a reaction product of ethylene glycol, terephthalic acid, isophthalic acid and azelaic acid (molar ratio 6:2:1:3) and has n19000 and w37000. The polyolefin mentioned above is Vestofine, a product of Doula Commodities.
SF-616, snow white, molecular weight about 1600,
Density of about 0.96 at 20℃, penetration hardness of 0.5-1.0 at 25℃,
It has a melting point of about 118-128°C, and about 85% of it has a particle size of 10Ό or less and 15% of it has a particle size of 10-20Ό. Methylene chloride/cellosolve solvent (90/
10) Add the above ingredients in order to the mixture to form a solution of about 16% solids. Polyolefin beads do not dissolve. The mixture is continuously stirred during and after addition of the ingredients to form a solution. Any weight loss during mixing is compensated by the addition of methylene chloride. This adhesive solution is applied to the flame treated surface of a 0.005 inch (~0.13 mm) thick polyethylene terephthalate film support using a continuous web coater-dryer to produce a dry coating weight of about 260 mg/dm 2 . The web speed is 45 ft/min (~13.72 m/min) and the drying temperature is 86°C (205°C). The adhesive coated polyethylene terephthalate support is the thickness of the finished printing plate.
Place adhesive side up in a dammed steel platen to 0.080 inch (2.03 mm) thickness. Place the adhesive coated support and platen on a press and extrude a sheet of the photosensitive composition on a 0.005 inch (0.13 mm) thick polyethylene terephthalate support [0.090 inch (approx.
2.29 mm) thick] on top of it, support side up, and cover this with a steel plate. This cover sheet carrying a polyamide layer is produced by coating a polyethylene terephthalate film with the solution described below using an extrusion die coater. Ingredients (%) Methylene chloride 81.0 Methanol 2.0 N-methylpyrrolidone 10.0 Polyamide resin 7.0 The above polyamide resin is Henkel Adhesive Company's product "Macromelt" 6900, which is virtually colorless. Ring and ball softening point of 266-302〓, melting index of 5-15g/10 min at 347〓, ignition point of 570〓,
Water absorption of 0.2% in 1 day and 0.5% in 7 days,
Tensile yield point of 1200 psi and tensile failure point of 3500 psi (these are 24
(measured at °C). Extruded sheets of photopolymerizable compositions are made by blending the following ingredients and extruding the blend through a die at 170°C.

【衚】 䞊蚘のポリ゚チレンセバケヌトはパラプレツク
ス −30䜎分子量ポリ゚ステル暹脂Rohm
Haas瀟補品である。 枩床を䞊昇させそしお圧力を埐々に適甚する。
これは光重合性シヌトをプラテンのダムで囲たれ
た郚分党䜓に拡げる。シヌトが均䞀に分散した
埌、枩床を160℃に䞊昇させ、そしお20000〜
30000psi1406〜2109Kgcm2範囲の圧力を適甚
しそしおそこに分間保持する。プレスプラテン
に氎を流すこずによ぀おこの集成䜓をプレス䞭で
60℃以䞋に冷华する。圢成された積局゚レメント
をプレスから陀去しそしお支持䜓䟋を䞊にしお以
䞋に蚘茉の露光ナニツト䞭に眮く。支持䜓を通し
お分間倧気圧䞋に空気䞭で党䜓的露光をこの゚
レメントに䞎えお接着した支持䜓に隣接する光重
合性局を前以぀お定められた厚さを重合させる。
この゚レメントの重合郚分は「フロア」ず称され
る。 次いでこの゚レメントをシルバニアBL−VHO
螢光ランプを付した「シレルCyrel 」3040
゚クスポヌゞダナニツトデナポン瀟商品名䞭
に眮く。光重合性衚面を像含有透明画陰画で
芆い、そしおこの゚レメントを15分間真空䞋に露
光させる。露光の持続時間は光重合䜓シヌトの厚
さ、重合フロアの厚さおよび䜿甚される像含有透
明画のタむプの凜数である。 露光埌、透明画を陀去しそしおこの露光゚レメ
ントを回転ドラム−ブラツシナタむプ「シレル
」3040プロセツサヌ䞭に眮く。パヌクロロ゚チ
レン75容量−ブタノヌル25容量
溶媒で15分間掗うこずによ぀お゚レメントの非重
合郚分をプロセツサヌで陀去する。0.035むンチ
0.89mmレリヌフ画像が埗られる。珟像゚レメ
ント印刷プレヌトを匷制熱颚ドラむダヌ䞭か
たたはその他の適圓なドラむダヌ䞭に眮きそしお
60℃で時間也燥させる。也燥プレヌトを前蚘像
様露光に察しお䜿甚されたず同䞀の露光源を䜿甚
しお空気䞭で10分間、埌露光させる。このプレヌ
トは56〜60の範囲のシペア A2硬床を有しおい
る。 この也燥印刷プレヌトを以䞋の衚に蚘茉のよ
うにしお宀枩でモノパヌサルプヌト−ブロミド
凊理溶液たたは塩玠溶液のどちらかに浞す。露
光、珟像および也燥された印刷プレヌトの皮皮の
溶媒混合物およびたたはその他の䞀般的印刷む
ンク成分に察するプレヌト厚さ、硬床および重量
の倉化を枬定する。衚に蚘茉の倀は前蚘むン
ク溶媒盞容性詊隓を䜿甚しお枬定される。各詊
料に察しお評䟡が蚘茉されおいる。
[Table] The above polyethylene sebacate is Paraplex G-30 low molecular weight polyester resin (Rohm &
Haas product). Increase temperature and apply pressure gradually.
This spreads the photopolymerizable sheet over the dammed portion of the platen. After the sheet is evenly distributed, increase the temperature to 160℃, and then 20000~
A pressure in the range of 30000 psi (1406-2109 Kg/cm 2 ) is applied and held there for 3 minutes. This assemblage is pressed during pressing by running water through the press platen.
Cool to below 60℃. The formed laminated element is removed from the press and placed, support example side up, in the exposure unit described below. A general exposure of the element in air at atmospheric pressure for 4 minutes through the support is applied to polymerize the photopolymerizable layer adjacent to the adhered support to a predetermined thickness.
This overlapping portion of the element is referred to as the "floor." Next, add this element to Sylvania BL-VHO.
"Cyrel" 3040 with fluorescent lamp
Place it in the exposure unit (DuPont product name). The photopolymerizable surface is covered with an image-containing transparency (negative) and the element is exposed under vacuum for 15 minutes. The duration of exposure is a function of the thickness of the photopolymer sheet, the thickness of the polymeric floor, and the type of image-containing transparency used. After exposure, the transparency is removed and the exposed element is placed in a rotating drum-brush type "Shillel" 3040 processor. Perchlorethylene (75% by volume)/n-butanol (25% by volume)
The unpolymerized portion of the element is removed in the processor by washing with solvent for 15 minutes. A 0.035 inch (0.89 mm) relief image is obtained. Place the developer element (printing plate) in a forced hot air dryer or other suitable dryer and
Dry at 60℃ for 1 hour. The dried plate is post-exposed for 10 minutes in air using the same exposure source used for the imagewise exposure. This plate has a shore A2 hardness in the range 56-60. The dry printing plate is immersed in either the monopersulfate-bromide treatment solution or the chlorine solution at room temperature as described in Table 1 below. The changes in plate thickness, hardness and weight percent for various solvent mixtures and/or other common printing ink components of exposed, developed and dried printing plates are measured. The values listed in Table 1 are determined using the ink/solvent compatibility test described above. An evaluation is listed for each sample.

【衚】【table】

【衚】 衚に蚘茉の結果から、臭玠凊理は塩玠溶液で
凊理された印刷プレヌトに比べお改善された印刷
プレヌトを䞎えるこずが瀺される。臭玠凊理埌に
生ずる䞭間的および満足できない評䟡は圓業者に
よ぀お有甚であるこずが知られおいる通垞の溶媒
濃床範囲の倖にある溶媒たたは溶媒混合物に察し
お芳察される。 䟋  未露光像郚分を氎䞭16.6容量−−ブト
キシ゚トキシ゚タノヌル䞭0.5重量氎酞化ナ
トリりムで15分掗うこずによりプロセツサヌ䞭で
陀去し次いで分間氎掗するこずを陀いた䟋蚘
茉の臭玠および塩玠凊理光感受性フレキ゜グラフ
むヌ印刷プレヌトのむンク溶媒盞容性を本䟋に
おいお比范する。以䞋の衚には䟋蚘茉の番号
で同定されおいる皮々の溶媒混合物およびたた
はその他の䞀般的印刷むンク成分が△、△、
△に関しお比范されおおり、そしお評䟡は各
䟋に察しお蚘茉されおいる。
TABLE The results listed in Table 1 show that bromine treatment provides improved printing plates compared to printing plates treated with chlorine solutions. Intermediate and unsatisfactory ratings resulting after bromine treatment are observed for solvents or solvent mixtures that are outside the normal solvent concentration range known to be useful by those skilled in the art. Example 2 As described in Example 1 except that the unexposed image areas were removed in the processor by washing with 16.6% by volume in water and 0.5% by weight sodium hydroxide in 2-(2-butoxyethoxy)ethanol for 15 minutes followed by a 2-minute water wash. The ink/solvent compatibility of bromine- and chlorine-treated light-sensitive flexographic printing plates is compared in this example. Table 2 below lists various solvent mixtures and/or other common printing ink components identified by the numbers given in Example 1, including ΔT, ΔH,
Comparisons are made with respect to Δ%W and ratings are listed for each example.

【衚】【table】

【衚】【table】

【衚】 び(h)はクロロクス 凊理さ
れなか぀た察照詊料である。
衚に蚘茉の結果から、塩玠凊理はむンク溶媒
に関しおは実質的に効果を有しないこずが認めら
れる。臭玠凊理によ぀お改善された結果が達成さ
れる。その溶媒混合物が既知の有甚な濃床範囲倖
にあるが故に詊料〜は満足できない結果を瀺
す。 䟋  本䟋は埌露光および氎性凊理段階の盞互亀換性
を説明する。 皮のタむプの光感受性フレキ゜グラフむヌ印
刷プレヌトを補造する。「プレヌト」ず称され
る第のプレヌトは䟋に蚘茉のように補造され
る。「プレヌト」ず称される第のプレヌトは
䟋に蚘茉のようにしお補造される。「プレヌト
」ず称される第のプレヌトは䟋えばシレル
フレキ゜グラフむヌ印刷プレヌト0.112むンチ
〜2.85mm厚さのスチレン−む゜プレン−スチ
レンブロツク共重合䜓を含有しおいるフレキ゜グ
ラフむヌ印刷プレヌトである。 プレヌト、およびをシルバニアBL−
VHO螢光ランプを付したシレル 3040゚クスポ
ヌゞダナニツトデナポン瀟の登録商品名䞭に
支持䜓偎を䞊にしお眮きそしお空気䞭で倧気圧䞋
に240秒間露光させる。次いでこのプレヌトを䟋
蚘茉のようにしお10分間像様露光させプレヌ
トはカバヌシヌト陀去そしお次いでパヌクロ
ロ゚チレン75容量−ブタノヌル25容
量溶媒の16分掗浄プレヌトおよびた
たは氎䞭16容量−−ブトキシ−゚トキシ
゚タノヌル䞭の0.5重量氎酞化ナトリりムの15
分掗浄プレヌトを行う。各珟像プレヌトを
䟋蚘茉のようにしお䟋蚘茉の分氎性凊理の
埌かたたはその前に埌露光させる。各プレヌトを
蚘茉の溶媒溶媒の名称に関しおは䟋参照䞭
に24時間浞し、そしお也燥プレヌトの△を枬
定する。この結果は衚に瀺されおいる。ここに
「前」は埌露光の前の氎性凊理を瀺す。
[Table] (h) is a control sample that was not treated with Clorox.
From the results listed in Table 2, it can be seen that chlorine treatment has virtually no effect on the ink solvent. Improved results are achieved by bromine treatment. Samples 5-8 show unsatisfactory results because their solvent mixtures are outside the known useful concentration range. Example 3 This example illustrates the interchangeability of post-exposure and aqueous processing steps. Three types of photosensitive flexographic printing plates are manufactured. The first plate, designated "Plate A", is manufactured as described in Example 2. A second plate, designated "Plate B", is manufactured as described in Example 1. The third plate, designated "Plate C", is for example Schiller
Flexographic Printing Plate A flexographic printing plate containing a 0.112 inch (~2.85 mm) thick styrene-isoprene-styrene block copolymer. Plates A, B and C in Sylvania BL-
It is placed support side up in a Schiller 3040 exposure unit (registered trade name of DuPont) equipped with a VHO fluorescent lamp and exposed in air at atmospheric pressure for 240 seconds. The plate was then imagewise exposed for 10 minutes as described in Example 1 (cover sheet removed for plate C) and then washed for 16 minutes in perchloroethylene (75% by volume)/n-butanol (25% by volume) solvent ( Plates B and C) or 16% by volume 2-(2-butoxy-ethoxy) in water
15 of 0.5 wt% sodium hydroxide in ethanol
Perform a minute wash (plate A). Each developer plate is post-exposed as described in Example 1, either after or before the bipartite aqueous treatment described in Example 1. Each plate is soaked for 24 hours in the indicated solvent (see Example 1 for solvent name) and the Δ%W of the dried plate is determined. The results are shown in Table 3. "Pre" here refers to aqueous processing before post-exposure.

【衚】 衚に瀺した結果から、個の䞀連の実隓によ
り埗られる結果の間には有意の差はない。 䟋  本䟋は本発明の溶液および塩玠溶液による氎性
凊理時間の倉動の効果を説明する。 光重合性゚レメントを䟋プレヌト、お
よびに蚘茉のようにしお補造するがただし次
の倉動を加える。 バツク露光は150秒ずする。 像様露光はカバヌシヌトを保持したたたで党䜓
的に10分間像含有透明画なしずする。 氎性珟像は15分ずする。 匷制熱颚也燥は30分ずする。 本発明の氎性凊理は察照、および分
ず衚瀺ずする。 塩玠凊理時間ず衚瀺は0.5および分ず
する。 むンク溶媒盞容性詊隓によ぀お蚘茉の凊理時間
分に察する各゚レメントのプレヌト厚さ、硬
床および重量の倉化を枬定する。その結果は衚
に瀺されおいる。溶媒混合物の番号は䟋に
蚘茉したものず同䞀である。プレヌト厚さ△
における倉化に察する倀はmmで衚わされおい
る。
[Table] From the results shown in Table 3, there is no significant difference between the results obtained by the two series of experiments. Example 4 This example illustrates the effect of varying aqueous treatment times with solutions of the invention and chlorine solutions. Photopolymerizable elements are prepared as described in Example 3 (plates A, B and C) with the following variations. Back exposure is 150 seconds. Imagewise exposure is for a total of 10 minutes (no image-containing transparencies) with the cover sheet in place. Aqueous development takes 15 minutes. Forced hot air drying is for 30 minutes. The aqueous treatments of the invention are 0 (control), 2 and 8 minutes (labeled 1). Chlorination times (labeled 2) are 0.5 and 2 minutes. The change in plate thickness, hardness, and weight percent of each element is determined over the stated processing time (minutes) by an ink solvent compatibility test. The results are shown in Table 4. Solvent/mixture numbers are the same as described in Example 1. Plate thickness (△
The values for the change in T) are expressed in mm.

【衚】【table】

【衚】【table】

【衚】【table】

【衚】 衚に蚘茉の結果から、塩玠凊理(2)に察しおは
0.5分から2.0分、そしお本発明の凊理(1)によれば
分から分の凊理時間の䞊昇に関しおはプレヌ
ト評䟡に有意の倉化は存圚しない。 䟋  本䟋は氎性凊理溶液の補造に䜿甚されるカリり
ムモノパヌサルプヌト䞉重塩ず臭化カリりムず
の混合物の安定性を説明する。 20.0gの2KHSO5・KHSO4・K2SO4および2.0g
の臭化カリりム也燥粉末を䞀緒に混合しそしお
ケ月間空気および湿気を遮断したプラスチツクび
ん䞭に保存する。保存した堎合、粉末の様子に明
癜な倉化は芳察されない。この期間の終りに
11.0gのこの混合物を100mlの氎を溶解させそしお
この溶液PH1.7を䜿甚しおそれぞれ䟋およ
び䟋に蚘茉の印刷プレヌトおよび印刷プレヌ
トを凊理する。印刷プレヌトの評䟡はであ
る。凊理溶液の補造においおカリりム塩を䞀緒に
保存するこずなしに氎に加えお本䟋をくりかえ
す。これら印刷プレヌトはず評䟡される。 本䟋の結果から本発明の凊理溶液の補造に䜿甚
される也燥粉末混合物を長期間保存した堎合、プ
レヌト評䟡はその䜿甚盎前に個々に塩成分を混合
する堎合に比べお倉化しない。 䟋  本䟋は塩玠凊理に比した堎合の本発明の氎性凊
理溶液を䜿甚しお埗られる改善を説明しおいる。 光感受性フレキ゜グラフむヌ印刷プレヌトを䟋
蚘茉のようにしお補造する。䞋蚘の衚には䟋
蚘茉の数字で同定される皮々の溶媒混合物およ
びたたはその他の䞀般的むンク成分がその△
、△および△に぀いお比范されおいる。
評䟡は各䟋に察しお蚘茉されおいる。
[Table] From the results listed in Table 4, for chlorine treatment (2)
There is no significant change in plate evaluation for increasing treatment times from 0.5 minutes to 2.0 minutes and according to process (1) of the invention from 2 minutes to 8 minutes. Example 5 This example illustrates the stability of a mixture of potassium monopersulfate triple salt and potassium bromide used in the preparation of an aqueous processing solution. 20.0g of 2KHSO 5・KHSO 4・K 2 SO 4 and 2.0g
of potassium bromide dry powder and 9
Store in a plastic bottle protected from air and moisture for several months. No obvious changes in the appearance of the powder are observed upon storage. at the end of this period
11.0 g of this mixture are dissolved in 100 ml of water and this solution (PH 1.7) is used to treat printing plate A and printing plate C as described in example 2 and example 3, respectively. The printing plate is rated E. The example is repeated by adding the potassium salt to the water without storing it together in the preparation of the treatment solution. These printing plates are rated E. The results of this example show that when the dry powder mixture used to prepare the processing solution of the invention is stored for an extended period of time, the plate rating does not change compared to when the salt components are mixed individually just before their use. Example 6 This example illustrates the improvement obtained using the aqueous treatment solution of the present invention as compared to chlorination. A photosensitive flexographic printing plate is prepared as described in Example 1. Table 5 below lists various solvent mixtures and/or other common ink components identified by the numbers in Example 1.
T, ΔH and Δ%W are compared.
Ratings are listed for each example.

【衚】【table】

【衚】 䟋  本䟋はいく぀かの溶媒たたは溶媒混合物䞭にお
ける本発明による奜たしい氎性凊理溶液䞀぀は
PH箄6.8であり、そしお他方はPH箄2.0であるの
䜿甚を説明する。 光感受性フレキ゜グラフむヌ印刷プレヌトは䟋
プレヌト、䟋プレヌトおよび䟋
プレヌトに蚘茉されおいるものである。䟋
に蚘茉の方法を䜿甚しおこれら印刷プレヌトを
露光および珟像する。埌露光は䟋蚘茉のように
しお氎性凊理の前に行われ、そしお氎性凊理は
分である。奜たしい凊理溶液を䜿甚しおプレヌト
、およびを凊理し、そしお次いでそのプレ
ヌトを䟋蚘茉の数字で同定される溶媒たたは溶
媒混合物䞭で詊隓する。枬定された厚さ、硬床お
よび重量倉化および各凊理プレヌトの評䟡は以
䞋の衚に蚘茉されおいる。 凊理溶液PH1.8±0.2 この溶液は次のようにしお補造される。の
氎䞭に完党に撹拌し぀぀100gの2KHSO5・
KHSO4・K2SO4を加える。次いで5gのKBrを加
え次いで完党に撹拌する。凊理溶液は〜分
の凊理時間においお特に有甚である。 凊理溶液PH6.6±0.2 この溶液は次のようにしお補造される。の
氎䞭に10gの2KHSO5・KHSO4・K2SO4を完党に
撹拌し぀぀加える。次いで10gのKBrを加え次い
で完党に撹拌する。凊理溶液は〜10分の凊理
時間で特に有甚である。
EXAMPLE 7 This example shows preferred aqueous processing solutions according to the invention in several solvents or solvent mixtures (one of which is
PH is approximately 6.8, and the other is PH approximately 2.0). Photosensitive flexographic printing plates are Example 2 (Plate A), Example 1 (Plate B) and Example 3.
(Plate C). The printing plates are exposed and developed using the method described in Example 3. The post-exposure is carried out before the aqueous processing as described in Example 1, and the aqueous processing is carried out as described in Example 1.
It's a minute. The preferred treatment solution is used to treat plates A, B and C, and the plates are then tested in the solvent or solvent mixture identified by the numbers in Example 1. The measured thickness, hardness and weight percent changes and ratings for each treated plate are listed in Table 6 below. Treatment solution A (PH1.8±0.2) This solution is produced as follows. 100g of 2KHSO 5 .
Add KHSO 4・K 2 SO 4 . Then add 5 g of KBr and stir thoroughly. Processing Solution A is particularly useful for processing times of 1-2 minutes. Treatment solution B (PH6.6±0.2) This solution is produced as follows. Add 10g of 2KHSO 5 / KHSO 4 / K 2 SO 4 to the water in Step 1 while stirring thoroughly. Then add 10 g of KBr and stir thoroughly. Processing Solution B is particularly useful with processing times of 2 to 10 minutes.

【衚】【table】

【衚】 衚に蚘茉の結果から、個のタむプのプレヌ
トに関しお䜿甚される凊理溶液のPHを玄2.0から
箄6.8に倉化させた堎合にプレヌト評䟡は有意に
は倉化しないこずが瀺される。 䟋  氎性アルカリ性珟像および氎掗埌に印刷プレヌ
トを䟋蚘茉の凊理溶液に浞す以倖は䟋に蚘茉
のようにしお光感受性印刷プレヌトを補造する。
次いでこの印刷プレヌトを也燥させ、そしお䟋
蚘茉のように埌露光させる。溶媒ずしお−プロ
パノヌルを䜿甚した堎合にこの印刷プレヌトは
ず評䟡される。
TABLE The results set forth in Table 6 show that plate evaluation does not change significantly when changing the PH of the processing solution used for the three types of plates from about 2.0 to about 6.8. Example 8 A photosensitive printing plate is prepared as described in Example 2, except that after aqueous alkaline development and water washing the printing plate is immersed in the processing solution described in Example 1.
The printing plate was then dried and Example 1
Post-expose as described. When using 2-propanol as the solvent, this printing plate
It is evaluated as.

Claims (1)

【特蚱請求の範囲】  共圹ゞオレフむン炭化氎玠重合䜓、および少
くずも個の末端゚チレン基を含有する、非気䜓
状゚チレン性䞍飜和化合物を包含する光感受性匟
性䜓状組成物の局を掻性線攟射に像様露光させ、
その未露光郚分を液䜓珟像するこずによりレリヌ
フを補造するにあたり、也燥埌に珟像された衚面
にいずれかの順序で、 (1) 掻性線攟射源ぞの埌露光および (2) 箄15秒〜40分間のアルカリモノパヌサルプ
ヌトおよび臭化物塩の氎性凊理溶液ずの接觊 を実斜するこずを特城ずする、レリヌフフレク゜
グラフむヌ印刷プレヌトの衚面を修正する方法。  印刷プレヌトを氎性凊理溶液に浞す前蚘特蚱
請求の範囲第項蚘茉の方法。  共圹ゞオレフむン炭化氎玠重合䜓がブタゞ゚
ンアクリロニトリル、ブタゞ゚ンアクリロニ
トリルアクリル酞、ブタゞ゚ンスチレン、ス
チレン−ブタゞ゚ン−スチレンブロツク共重合䜓
およびスチレン−む゜プレン−スチレンブロツク
共重合䜓から遞ばれた重合䜓である、前蚘特蚱請
求の範囲第たたは項のいずれか䞀぀に蚘茉の
方法。  フレキ゜グラフむヌ印刷プレヌトが、 (A) 可撓性支持䜓および (B) 組成物の党重量基準で (a) 20000〜75000の数平均分子量、10〜50重量
のアクリロニトリル含量および〜15重量
のカルボキシル含量を有する高分子量ブタ
ゞ゚ンアクリロニトリル共重合䜓55〜90重
量、 (b) 少くずも個の末端゚チレン基を含有する
遊離ラゞカル開始連鎖延長付加重合により高
床重合䜓を圢成できしかも(a)の重合䜓ず盞容
性の非気䜓状゚チレン性䞍飜和化合物〜40
重量、 (c) 䞍飜和化合物の重合を開始させる掻性線攟
射により掻性化可胜な有機攟射感受性遊離ラ
ゞカル生成系0.001〜10重量および、 (d) 盞容性可塑剀〜15重量 を包含する光感受性匟性䜓状組成物の局、お
よび 堎合により局(A)および(B)の間に接着剀組成物の
å±€ を包含する光感受性匟性䜓状゚レメントを像様露
光させそしおこれを液䜓珟像させるこずによ぀お
補造される、前蚘特蚱請求の範囲第たたは項
のいずれか䞀぀に蚘茉の方法。  (A) シヌト支持䜓、 (B)(1) 25℃以䞊のガラス転移枩床および2000〜
100000の数平均分子量を有する少くずも皮
の熱可塑性非匟性䜓状重合䜓ブロツク、およ
び前蚘熱可塑性非匟性䜓状重合䜓ブロツクの
間の、10℃以䞋のガラス転移枩床および玄
25000〜1000000の数平均分子量を有する匟性
䜓状重合䜓ブロツクを含有する少くずも皮
の溶媒可溶性熱可塑性匟性䜓状ブロツク共重
合䜓少くずも30重量、 (2) 少くずも個の末端゚チレン性基を含有す
る付加重合性゚チレン性䞍飜和化合物少くず
も重量、および (3) 掻性線攟射により掻性化可胜な重合開始剀
の重合䜜甚量 を包含する前蚘支持䜓䞊にコヌテむングされ
た光感受性匟性䜓状組成物の局 可撓性カバヌシヌト、および前蚘カバヌシヌト
ず前蚘局の衚面ずの間に挿入された可撓性の重
合䜓フむルム を包含する光感受性匟性䜓状゚レメントの像様露
光および液䜓珟像によ぀おレリヌフフレキ゜グラ
フむヌ印刷プレヌトが補造される、前蚘特蚱請求
の範囲第たたは項のいずれか䞀぀に蚘茉の方
法。  凊理溶液が倧玄䞭性であり、そしお本質的に
〜20重量郚のアルカリモノパヌサルプヌト、
〜20重量郚のアルカリブロミドおよび1000重量
郚の氎よりな぀おいる、前蚘特蚱請求の範囲第
たたは項のいずれか䞀぀に蚘茉の方法。  凊理溶液が酞性であり、そしお本質的に50〜
100重量郚のアルカリモノパヌサルプヌト、
重量郚のアルカリブロミドおよび1000重量郚の氎
よりな぀おいる、前蚘特蚱請求の範囲第たたは
項のいずれか䞀぀に蚘茉の方法。  凊理溶液がアルカリモノパヌサルプヌト
塩、ブロミド塩也燥混合物および氎を䞀緒にする
こずにより補造される、前蚘特蚱請求の範囲第
項蚘茉の方法。  モノパヌサルプヌト塩およびブロミド塩が
2KHSO5・KHSO4・K2SO4および臭化カリりム
である、前蚘特蚱請求の範囲第項蚘茉の方法。  混合物䞭の也燥成分の比がアルカリモノパ
ヌサルプヌト98〜10および塩〜90である、前
蚘特蚱請求の範囲第項蚘茉の方法。  凊理溶液が倧玄0.7〜8.5のPHである、前蚘
特蚱請求の範囲第項蚘茉の方法。
[Scope of Claims] 1. A layer of a photosensitive elastomeric composition comprising a conjugated diolefin hydrocarbon polymer and a non-gaseous ethylenically unsaturated compound containing at least one terminal ethylene group is exposed to actinic radiation. imagewise exposed to radiation;
To produce a relief by liquid developing its unexposed areas, after drying the developed surface is subjected to either (1) post-exposure to a source of actinic radiation and (2) approximately 15 seconds to 40 minutes. A method for modifying the surface of a relief flexographic printing plate, characterized in that contact with an aqueous treatment solution of an alkali monopersulfate and bromide salt of 2. A method according to claim 1, wherein the printing plate is immersed in an aqueous processing solution. 3. The conjugated diolefin hydrocarbon polymer is a polymer selected from butadiene/acrylonitrile, butadiene/acrylonitrile/acrylic acid, butadiene/styrene, styrene-butadiene-styrene block copolymer, and styrene-isoprene-styrene block copolymer. , a method according to any one of claims 1 or 2. 4. The flexographic printing plate comprises (a) a number average molecular weight of from 20,000 to 75,000, an acrylonitrile content of from 10 to 50% by weight, and an acrylonitrile content of from 0 to 15, based on the total weight of (A) the flexible support and (B) the composition. (b) a high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer having a carboxyl content of 55 to 90% by weight; (b) containing at least one terminal ethylene group; 2 to 40 non-gaseous ethylenically unsaturated compounds compatible with the polymer of (a)
(c) 0.001-10% by weight of an organic radiation-sensitive free radical-generating system activatable by actinic radiation to initiate polymerization of unsaturated compounds; and (d) 0-15% by weight of a compatible plasticizer. imagewise exposing the photosensitive elastomeric element comprising a layer of a photosensitive elastomeric composition and optionally a layer of an adhesive composition between layers (A) and (B) and applying it to a liquid. 3. A method according to claim 1, wherein the method is produced by developing. 5 (A) Sheet support, (B)(1) Glass transition temperature of 25°C or higher and 2000~
at least two thermoplastic non-elastic polymer blocks having a number average molecular weight of 100,000, and a glass transition temperature between said thermoplastic non-elastic polymer blocks of less than or equal to 10°C;
at least 30% by weight of at least one solvent-soluble thermoplastic elastomeric block copolymer containing an elastomeric polymer block having a number average molecular weight of 25,000 to 1,000,000; (2) at least one terminal ethylene at least 1% by weight of an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound containing functional groups; and (3) a polymerizing amount of a polymerization initiator activatable by actinic radiation. Imagewise exposure of a photosensitive elastomeric element comprising a layer of a sensitive elastomer composition, a flexible cover sheet, and a flexible polymeric film interposed between said cover sheet and the surface of said layer. 3. A method according to claim 1, wherein the relief flexographic printing plate is produced by and liquid development. 6 the processing solution is approximately neutral and contains essentially 5 to 20 parts by weight of an alkali monopersulfate;
Claim 4 consisting of 5 to 20 parts by weight of alkali bromide and 1000 parts by weight of water.
or the method described in any one of Section 5. 7 The processing solution is acidic and essentially
100 parts by weight of alkali monopersulfate, 5
6. A process as claimed in claim 4 or 5, comprising parts by weight of alkali bromide and 1000 parts by weight of water. 8. Claim 1, wherein the treatment solution is prepared by combining alkali monopersulfate salt, bromide salt dry mixture and water.
The method described in section. 9 Monopersulfate salt and bromide salt are
9. The method of claim 8, wherein 2KHSO 5 .KHSO 4 .K 2 SO 4 and potassium bromide. 10. The method of claim 8, wherein the ratio of dry ingredients in the mixture is from 98 to 10 of the alkali monopersulfate and from 2 to 90 of the salt. 11. The method of claim 9, wherein the treatment solution has a pH of about 0.7 to 8.5.
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