JPH01298348A - Photopolymerizable composition - Google Patents

Photopolymerizable composition

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JPH01298348A
JPH01298348A JP12964788A JP12964788A JPH01298348A JP H01298348 A JPH01298348 A JP H01298348A JP 12964788 A JP12964788 A JP 12964788A JP 12964788 A JP12964788 A JP 12964788A JP H01298348 A JPH01298348 A JP H01298348A
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salt
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安男 岡本
Mitsuru Koike
充 小池
Nobuyuki Kita
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur

Abstract

PURPOSE:To improve the sensitivity of the title composition for active rays having a broad wavelength region from a UV ray to a visible ray by incorporating at least 3 kinds of compds. selected from each 3 kinds of specified groups, in a photopolymerization initiator. CONSTITUTION:The photopolymerization initiator contains at least 3 kinds of the compds. selected from each 3 kinds of the group A composed of an org. boron compd. anionic salt of an org. cationic dye or a combination of at least one kind of the org. cationic dye and the org. boron compd. anionic salt, the group B composed of at least one kind selected from a compd. having carbon-halogen binding, an aromatic onium salt or an aromatic halonium salt and an org. peroxide and the group C shown by formula I. In formula I, Ar is an aromatic group shown by for example, formula II, R<1> and R<2> are each hydrogen atom or alkyl group. In formula II, R<3>-R<7> are each hydrogen atom, etc., R<9> is alkyl group, etc., R<8> is hydrogen atom, etc. Thus, the sensitivity of the composition for the active rays having the broad wavelength region from the UV ray to the visible ray is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光重合性組成物に関する。さらに詳しくは、エ
チレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と新規な
組成の光重合開始剤と、必要に応じて線状有機高分子重
合体とを含有する光重合性組成物に関し、たとえば、ア
ルゴンレーザー光源に対しても感応しうる感光性印刷版
の感光層等に有用な光重合性組成物に関するものである
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to photopolymerizable compositions. More specifically, it relates to a photopolymerizable composition containing a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a photopolymerization initiator having a novel composition, and optionally a linear organic polymer, for example, The present invention relates to a photopolymerizable composition useful for a photosensitive layer of a photosensitive printing plate, etc., which is also sensitive to an argon laser light source.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と光重
合開始剤と更に必要に応じて適当な皮膜形成能を有する
結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成物を用い
て、写真的手法により画像の複製を行なう方法は、現在
知られるところである。すなわち、米国特許2,927
,022号、同2,902.356号あるいは同3,8
70,524号に記載されているように、この種の感光
性組成物は光照射により光重合を起こし、硬化し不溶化
することから、該感光性組成物を適当な皮膜となし、所
望の画像の陰画を通して光照射を行ない、適当な溶媒に
より未露光部のみを除去する(以下、単に現像と呼ぶ)
ことにより所望の光重合性組成物の硬化画像を形成する
ことができる。このタイプの感光性組成物は印刷版等を
作成するために使用されるものとして極めて有用である
ことは論をまたない。
A photosensitive composition containing a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a photopolymerization initiator, and, if necessary, a binder having an appropriate film-forming ability and a thermal polymerization inhibitor, is used to produce a photographic effect. Techniques for duplicating images are currently known. i.e. U.S. Patent 2,927
, No. 022, No. 2,902.356 or No. 3,8
As described in No. 70,524, this type of photosensitive composition undergoes photopolymerization, hardens, and becomes insolubilized by irradiation with light. Light is irradiated through the negative image, and only the unexposed areas are removed using an appropriate solvent (hereinafter simply referred to as development).
By this, a cured image of the desired photopolymerizable composition can be formed. It goes without saying that this type of photosensitive composition is extremely useful for making printing plates and the like.

また、従来、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な
化合物のみでは充分な感光性がなく、感光性を高めるた
めに光重合開始剤を添加することが提唱されており、か
かる光重合開始剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベン
ゾインエチルエーテル、ミヒラーケトン、アントラキノ
ン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン、2−エ
チルアントラキノン等が用いられてきた。しかしながら
、これらの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成物
の硬化の感応度が低いので画像形成における像露光に長
時間を要した。このため細密な画像の場合には、操作に
わずかな振動があると良好な画質の画像が再現されず、
さらに露光の光源のエネルギー放射量を増大しなければ
ならないためにそれに伴なう多大な発熱の放散を考慮す
る必要があった。加えて熱による組成物の皮膜の変形お
よび変質も生じ易い等の問題があった。
In addition, conventionally, polymerizable compounds having ethylenically unsaturated bonds alone do not have sufficient photosensitivity, and it has been proposed to add a photopolymerization initiator to increase photosensitivity. Benzyl, benzoin, benzoin ethyl ether, Michler's ketone, anthraquinone, acridine, phenazine, benzophenone, 2-ethylanthraquinone, etc. have been used. However, when these photopolymerization initiators are used, the curing sensitivity of the photopolymerizable composition is low, so that image exposure during image formation requires a long time. For this reason, in the case of detailed images, if there is slight vibration during operation, the image will not be reproduced with good quality.
Furthermore, since the amount of energy emitted by the light source for exposure must be increased, it is necessary to consider the dissipation of a large amount of heat accompanying this increase. In addition, there are problems such as the composition film being easily deformed and deteriorated by heat.

また、これらの光重合開始剤は400nm以下の紫外領
域の光源に対する光重合能力に比較し、400nm以上
の可視光線領域の光源に対する光重合能力が顕著に低い
。従って、従来の光重合開始剤を含む光重合性組成物は
、応用範囲が著しく限定されていた。
Further, these photopolymerization initiators have a significantly lower photopolymerization ability with respect to a light source in the visible light region of 400 nm or more than that with a light source in the ultraviolet region of 400 nm or less. Therefore, the range of application of conventional photopolymerizable compositions containing photopolymerization initiators is extremely limited.

可視光線に感応する光重合系に関して従来いくつかの提
案がなされて来た。かかる提案として、米国特許第28
50445号によればある種の光還元性染料、例えば、
ローズベンガル、エオシン、エリスロシン等が効果的な
可視光感応性を有していると報告されている。また改良
技術として、染料とアミンの複合開始系(特公昭44−
20189号)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジ
カル発生剤および染料の系(特公昭45−37377号
)、ヘキサアリールビイミダゾールとP−ジアルキルア
ミノベンジリデンケトンの系(特公昭47−2528号
、特開昭54−155292号)、3−ケ14換りマリ
ン化合物と活性ハロゲン化合物の系(特開昭58−15
503号)、置換トリアジンとメロシアニン色素の系(
特開昭54−15102号)などの提案がなされて来た
。これらの技術は確かに可視光線に対して有効ではある
Several proposals have been made regarding photopolymerization systems sensitive to visible light. As such a proposal, U.S. Pat.
According to No. 50445, certain photoreducible dyes, e.g.
It has been reported that rose bengal, eosin, erythrosin, etc. have effective visible light sensitivity. In addition, as an improved technology, a composite initiation system of dye and amine (Special Publication No. 44-
20189), a system of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (Japanese Patent Publication No. 45-37377), a system of hexaarylbiimidazole and P-dialkylaminobenzylidene ketone (Japanese Patent Publication No. 47-2528, JP-A-54) -155292), a system of 3-ke14-substituted marine compounds and active halogen compounds (JP-A-58-15
503), substituted triazine and merocyanine dye system (
Proposals such as Japanese Patent Application Laid-open No. 15102/1983 have been made. These techniques are certainly effective for visible light.

しかし、未だその感光速度は充分満足すべきものではな
く、さらに改良技術が望まれていた。
However, the photosensitive speed is still not fully satisfactory, and further improved technology has been desired.

また、近年、紫外線に対する高感度化や、レーザーを用
いて画像を形成する方法が検討され、印刷版作成におけ
るUVプロジェクション露光法、レーザー直接製版、レ
ーザーファクシミリ、ホログラフィ−等が既に実用の段
階であり、これらに対応する高感度な感光材料が開発さ
れているところである。しかし未だ十分な感度を有して
いるとは言えない。
In addition, in recent years, increased sensitivity to ultraviolet rays and methods of forming images using lasers have been studied, and methods such as UV projection exposure for printing plate creation, laser direct plate making, laser facsimile, and holography are already in practical use. , high-sensitivity photosensitive materials corresponding to these are currently being developed. However, it cannot be said that it has sufficient sensitivity yet.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明の目的は、高感度の光重合性組成物を提供するこ
とである。
An object of the present invention is to provide a highly sensitive photopolymerizable composition.

すなわち、本発明の目的は、広く一般にエチレン性不飽
和結合を有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物
の光重合速度を増大させる光重合開始剤を含んだ光重合
性組成物を提供するこ止である。
That is, an object of the present invention is to generally provide a photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator that increases the photopolymerization rate of a photopolymerizable composition containing a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond. It's a stop.

また本発明の他の目的は、400nm以上の可視光線、
特にAr” レーザーの出力に対応する488nm付近
の光に対しても感度の高い光重合開始剤を含んだ光重合
性組成物を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide visible light of 400 nm or more,
In particular, it is an object of the present invention to provide a photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator that is highly sensitive to light around 488 nm, which corresponds to the output of an Ar'' laser.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結
果、ある特定の光重合開始剤系がエチレン性不飽和結合
を有する重合可能な化合物の光重合速度を著しく増大さ
せ、また400nmJ/I上の可視光線に対しても高感
度を示すことを見出し、本発明に到達したものである。
As a result of intensive research aimed at achieving the above object, the present inventors have found that a certain photoinitiator system significantly increases the photopolymerization rate of a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, and also shows that a specific photopolymerization initiator system significantly increases the photopolymerization rate of a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond. The present invention was achieved based on the discovery that it exhibits high sensitivity even to visible light above I.

すなわち、本発明は活性光線により光重合が可能な少な
くとも1個のエチレン性不飽和結合を有する重合可能な
化合物と、光重合開始剤と、必要に応じて線状有機高分
子重合体とを含む光重合性組成物において、前記光重合
開始剤が、下記A群、B群および0群からそれぞれ選ば
れた少なくとも3種の化合物を含むことを特徴とするも
のである。
That is, the present invention includes a polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond that can be photopolymerized by actinic rays, a photopolymerization initiator, and, if necessary, a linear organic polymer. The photopolymerizable composition is characterized in that the photopolymerization initiator contains at least three compounds selected from the following groups A, B, and 0, respectively.

(A) (i)少なくとも一種の有機カチオン性色素の有機ホウ
素化合物アニオン塩 又は (ii)少なくとも一種の有機カチオン性色素と有機ホ
ウ素化合物アニオン塩の組合せ (B) (i)炭素−ハロゲン結合を有する化合物(ii)芳香
族オニウム塩又は芳香族ハロニウム塩 輸i)有機過酸化物 のうちの少なくとも一種 (C)−儀式 (ただし、式中、Arは下記の一般式の一つから選ばれ
た芳香族基を表し、R1、R2は水素原子又はアルキル
基を表し、又、R1とR2は互いに結合してアルキレン
基を表しても良い。)(ただし式中、R3へR7は互い
に独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基、置換アリール基、水酸基、アル
コキシ基、置換アルコキシ基、〜5−R9基、−3O−
R9基又は−SO□R9基を表すが、但し貨3〜R7基
の少な(とも一つは−3−R’基、−3o−R’基又は
−302R9基を表し、R9はアルキル基、アルケニル
基、R11は水素原子、アルキル基、アシル基を表す。
(A) (i) an organic boron compound anion salt of at least one organic cationic dye; or (ii) a combination of at least one organic cationic dye and an organic boron compound anion salt; (B) (i) having a carbon-halogen bond; Compound (ii) aromatic onium salt or aromatic halonium salt i) At least one organic peroxide (C) - formula (wherein Ar is an aromatic selected from one of the following general formulas) R1 and R2 represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R1 and R2 may combine with each other to represent an alkylene group. (However, in the formula, R3 and R7 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group.) Atom, halogen atom, alkyl group, alkenyl group, aryl group, substituted aryl group, hydroxyl group, alkoxy group, substituted alkoxy group, ~5-R9 group, -3O-
R9 group or -SO□R9 group, provided that a small number of groups 3 to R7 (each one represents a -3-R' group, -3o-R' group or -302R9 group, R9 is an alkyl group, The alkenyl group R11 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an acyl group.

本発明に使用するエチレン性不飽和結合を有する重合可
能な化合物とは、その化学構造中に少なくとも1個の、
より好ましくは少なくとも2個のエチレン性不飽和結合
を有する化合物である。例えばモノマー、プレポリマー
、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、又はそれ
らの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態
をもつものである。七ツマ−およびその共重合体の例と
しては、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合
物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン
化合物とのアミド等があげられる。
The polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond used in the present invention is defined as having at least one compound in its chemical structure.
More preferably, it is a compound having at least two ethylenically unsaturated bonds. For example, it has chemical forms such as monomers, prepolymers, ie, dimers, trimers, and oligomers, or mixtures thereof, and copolymers thereof. Examples of hetamine and copolymers thereof include esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds, amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric amine compounds, and the like.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステ
ルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、1.3−ブタンジオ
ールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアク
リレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
 (アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチ
ロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジア
クリレート、1.4−シクロヘキサンジオールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、ソルビト
ールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレー
ト、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールへ
キサアクリレート、トリ (アクリロイルオキシエチル
)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴ
マー等がある。
Specific examples of monomers of esters of aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol as acrylic esters. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri(acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate,
Examples include dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri(acryloyloxyethyl)isocyanurate, and polyester acrylate oligomers.

メククリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート
、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメ
チロールエタントリメタクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、1.3−ブタンジオールジメタク
リレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールへキサメタクリレート、ソ
ルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメ
タクリレート、ビス(p−(3−メタクリルオキシ−2
−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、
ビス−〔p−(アクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジ
メチルメタン等がある。
Examples of meccrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis(p-(3-methacryloxy) -2
-hydroxypropoxy)phenyl]dimethylmethane,
Examples include bis-[p-(acryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールシイ
タコネート、プロピレングリコールシイタコネート、1
.3−ブタンジオールシイタコネート、1.4−ブタン
ジオールシイタコネート、テトラメチレングリコールシ
イタコネート、ペンタエリスリトールシイタコネート、
ソルビトールテトライタコネート等がある。
As the itaconic acid ester, ethylene glycol shitaconate, propylene glycol shitaconate, 1
.. 3-butanediol shiitaconate, 1,4-butanediol shiitaconate, tetramethylene glycol shiitaconate, pentaerythritol shiitaconate,
Examples include sorbitol tetrataconate.

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジク
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトール
テトラマレートネート等がある。
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetramaleate.

イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロ
トネート、ソルビトールテトライソクロトネート等があ
る。
Isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, sorbitol tetraisocrotonate, and the like.

マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールシマ
レート、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエ
リスリトールシマレート、ソルビトールテトラマレート
等がある。
Examples of maleic esters include ethylene glycol simarate, triethylene glycol simarate, pentaerythritol simarate, and sorbitol tetramaleate.

さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあげること
ができる。
Furthermore, mixtures of the aforementioned ester monomers may also be mentioned.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸との
アミドの七ツマ−の具体例としては、メチレンビス−ア
クリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,
6−へキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−へ
キサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリ
アミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリル
アミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
In addition, specific examples of amide combinations of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,
Examples include 6-hexamethylenebis-acrylamide, 1,6-hexamethylenebis-methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like.

その他の例としては、特公昭48−41708号公報中
に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(
A)で示される水酸基を含有するビニル七ツマ−を付加
せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有す
るビニルウレタン化合物等があげられる。
As another example, the following general formula (
Examples include vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a vinyl hexamer containing a hydroxyl group is added as shown in A).

CH2= C(R) COOCHt CH(R’ ) 
OH(A )(ただし、RおよびR′はHあるいはCH
,を示す。) また、特開昭51−37193号に記載されているよう
なウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号
、特公昭49−43191号、特公昭52−30490
号各公報定記載されているようなポリエステルアクリレ
ート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させ
たエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートや
メタクリレートをあげることができる。さらに日本接着
協会誌Vo1.20、r1kl?、300〜308ペー
ジに光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されて
いるものも使用することができる。なお、これらの使用
量は、全成分に対して5〜50重量%(以下%と略称す
る。)好ましくは、10〜40%である。
CH2= C(R) COOCHt CH(R')
OH(A) (where R and R' are H or CH
, is shown. ) Also, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-A-52-30490
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates prepared by reacting an epoxy resin with (meth)acrylic acid as described in each publication can be mentioned. Furthermore, Japan Adhesive Association Journal Vo1.20, r1kl? , pages 300 to 308 as photocurable monomers and oligomers can also be used. The amount of these used is 5 to 50% by weight (hereinafter abbreviated as %), preferably 10 to 40%, based on the total components.

次に本発明の光重合性組成物において著しい特徴をなす
光重合開始剤について説明する。
Next, the photopolymerization initiator, which is a significant feature in the photopolymerizable composition of the present invention, will be explained.

本発明で有効に用いることのできる有機カチオン性色素
の有機硼素化合物アニオン塩すなわち、成分(A)−(
i)は例えば、下記−儀式(1)%式% ここで、D−は有機カチオン性色素であり;Rlo、R
1、RIZ及びRI′Iは同一でも異ナッテイてもよく
、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリ
ール基、アラルキル基、アルカリール基、アルケニル基
、アルキニル基、アリサイクリック基、複素環基、アリ
ル基及びこれらの誘遵体から選ばれる基であり;R10
、R”% R”及びRI3はその2個以上の基が結合し
ている環状構造であってもよい。
Organic boron compound anion salt of organic cationic dye that can be effectively used in the present invention, that is, component (A)-(
i) is, for example, the following - formula (1) % formula % where D- is an organic cationic dye; Rlo, R
1. RIZ and RI'I may be the same or different, and are an alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, substituted aryl group, aralkyl group, alkaryl group, alkenyl group, alkynyl group, alicyclic group, heterocycle group, allyl group, and derivatives thereof; R10
, R"% R" and RI3 may be a cyclic structure in which two or more of the groups are bonded.

本発明では、有機カチオン性色素として例えば、カチオ
ン性のメチン色素、好ましくはポリメチン色素、シアニ
ン色素、アゾメチン色素、更に好ましくはシアニン、カ
ルボシアニン、ヘミシアニン;カルボニウム色素、好ま
しくはトリアリールメタン色素、キサンチン色素、アク
リジン色素、更に好ましくはローダミン;キノンイミン
色素、好ましくはアジン色素、オキサジン色素、チアジ
ン色素;キノリン色素;チアゾール色素、(チア)ピリ
リウム色素等から選ばれた色素を1種もしくは組み合わ
せて用いることができる。
In the present invention, organic cationic dyes include, for example, cationic methine dyes, preferably polymethine dyes, cyanine dyes, azomethine dyes, more preferably cyanine, carbocyanine, hemicyanine; carbonium dyes, preferably triarylmethane dyes, xanthine dyes. , acridine dyes, more preferably rhodamine; quinoneimine dyes, preferably azine dyes, oxazine dyes, thiazine dyes; quinoline dyes; thiazole dyes, (thia)pyrylium dyes, etc. One or a combination of dyes can be used. .

本発明では市販品もしくは業界で公知の上述の有機カチ
オン性色素を用いることができる。これらの色素の例と
しては、例えば有機化学協会編の染料便覧の塩基性塗料
の項やティー・エイチ・ジェームズ(T、H,Jame
s)著「写真過程の理論(TheTheory of 
the Photographic Process)
 Jマクミラン出版社(Maca+1llan Pub
lishing Co、、 Inc)1977年の19
4〜290頁や「機能性色素の化学」シー・エム・シー
(CMC)出版社の1〜32頁や189〜206頁や4
01〜413頁や特開昭59−189340号公報等を
参考にすることができる。
In the present invention, the above-mentioned organic cationic dyes that are commercially available or known in the industry can be used. Examples of these dyes include the section on basic paints in the Dye Handbook edited by the Organic Chemistry Society, and the book by T.H.
``The Theory of Photographic Process'' by
the Photographic Process)
Maca+1llan Pub
lishing Co., Inc.) 19 of 1977
Pages 4-290 and "Chemistry of Functional Dyes" published by CMC Publishing Co., Ltd., pages 1-32, pages 189-206, and 4.
Reference may be made to pages 01 to 413, Japanese Patent Application Laid-open No. 189340/1983, and the like.

上記の色素の中で本発明にとくに有用な色素はシアニン
色素とキサンチン色素である。本発明に有用なシアニン
色素の具体例として、次の一般式(I[)で表わされる
色素があげられる。
Among the above dyes, particularly useful in the present invention are cyanine dyes and xanthine dyes. Specific examples of cyanine dyes useful in the present invention include dyes represented by the following general formula (I[).

−儀式(II) 式中Zl、2gはシアニン色素に通常用いられるヘテロ
環核、特にチアゾール核、チアゾリン核、ベンゾチアゾ
ール核、ナフトチアゾール核、オキサゾール核、オキサ
ゾリン核、ペイジオキサゾール核、ナフトオキサゾール
核、テトラゾール核、ピリジン核、キノリン核、イミダ
シリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、ナ
フトイミダゾール核、セレナゾリン核、セレナゾール核
、ベンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核又はイ
ンドレニン核などを完成するのに必要な原子群を表わす
。これらの核は、メチル基などの低級アルキル基、ハロ
ゲン原子、フェニル基、ヒドロキシル基、炭素数1〜4
のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニ
ル基、アルキルスルファモイル基、アルキルカルバモイ
ル基、アセチル基、アセトキシ基、シアノ基、トリクロ
ロメチル基、トリフルオロメチル基、ニトロ基などによ
って置換されていてもよい。
- Ritual (II) In the formula, Zl, 2g is a heterocyclic nucleus commonly used in cyanine dyes, especially a thiazole nucleus, a thiazoline nucleus, a benzothiazole nucleus, a naphthothiazole nucleus, an oxazole nucleus, an oxazoline nucleus, a paidioxazole nucleus, a naphthoxazole nucleus, Necessary to complete the tetrazole nucleus, pyridine nucleus, quinoline nucleus, imidacilline nucleus, imidazole nucleus, benzimidazole nucleus, naphthoimidazole nucleus, selenazoline nucleus, selenazole nucleus, benzoselenazole nucleus, naphthoselenazole nucleus, or indolenine nucleus, etc. Represents a group of atoms. These nuclei include lower alkyl groups such as methyl groups, halogen atoms, phenyl groups, hydroxyl groups, and carbon atoms of 1 to 4.
may be substituted with an alkoxy group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, alkylsulfamoyl group, alkylcarbamoyl group, acetyl group, acetoxy group, cyano group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, nitro group, etc.

Ll、L2またはL3はメチン基、置換メチン基を表わ
す。置換メチン基としては、メチル基、エチル基、等の
低級アルキル基、フェニル基、置換フェニル基、メトキ
シ基、エトキシ基、フェネチル基等のアラルキル基等に
よって置換されたメチン基などがある。
Ll, L2 or L3 represents a methine group or a substituted methine group. Examples of the substituted methine group include methine groups substituted with lower alkyl groups such as methyl group and ethyl group, phenyl group, substituted phenyl group, aralkyl group such as methoxy group, ethoxy group, and phenethyl group.

LlとRI4、L3とRls及びω=3の時ハL2とL
2でアルキレン架橋し5または6員環を形成してもよい
When Ll and RI4, L3 and Rls and ω=3, L2 and L
2 may be alkylene bridged to form a 5- or 6-membered ring.

RI4とRIBは低級アルキル基(より好ましくは炭素
数が1〜8のアルキル基)、カルボキシ基、スルホ基、
ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素数が1〜4のアルコ
キシ基、フェニル基、置換フェニル基等の置換基を有し
たアルキル基(好ましくはアルキレン部分がC5〜C5
である)、例えば、β−スルホエチル、γ−スルホプロ
ピル、T−スルホブチル、δ−スルホブチル、2− (
2−(3−スルホプロポキシ)エトキシ〕エチル、2−
ヒドロキシスルホプロピル、2−クロロスルホプロピル
、2−メトキシエチル、2−ヒドロキシエチル、カルボ
キシメチル、2−カルボキシエチル、2.2゜3.3−
テトラフルオロプロピル、3゜3.3−1−リフルオロ
エチル;アリル(allyl )基やその他の通常シア
ニン色素のN−置換基に用いられている置換アルキル基
を表わす。ωは122または3を表わす。X−は前記構
造式(I)の硼素化合物アニオンを表わす。
RI4 and RIB are a lower alkyl group (more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), a carboxy group, a sulfo group,
An alkyl group having a substituent such as a hydroxy group, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or a substituted phenyl group (preferably, the alkylene portion is a C5 to C5
), for example, β-sulfoethyl, γ-sulfopropyl, T-sulfobutyl, δ-sulfobutyl, 2- (
2-(3-sulfopropoxy)ethoxy]ethyl, 2-
Hydroxysulfopropyl, 2-chlorosulfopropyl, 2-methoxyethyl, 2-hydroxyethyl, carboxymethyl, 2-carboxyethyl, 2.2°3.3-
Tetrafluoropropyl, 3.3-1-lifluoroethyl; represents an allyl group and other substituted alkyl groups commonly used as N-substituents of cyanine dyes. ω represents 122 or 3. X- represents the boron compound anion of the above structural formula (I).

本発明に有用なキサンチン色素の具体例としては、例え
ば次の一般式(1)で表わされる色素があげられる。
Specific examples of xanthine dyes useful in the present invention include dyes represented by the following general formula (1).

R16、R1?、R11,R19はおのおの独立に水素
原子、炭素数1〜6のアルキル基または炭素数6〜14
のアリール基を表わし、Xは前記構造式(1)の硼素化
合物アニオンを表わし、Yはアルキル基又はアリール基
又は水素原子またはアルカリ金属を表わす。
R16, R1? , R11 and R19 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a C 6 to 14
represents an aryl group, X represents a boron compound anion of the above structural formula (1), and Y represents an alkyl group, an aryl group, a hydrogen atom, or an alkali metal.

本発明で用いることのできる好ましい有機カチオン性色
素化合物の有機硼素化合物アニオン塩の例を以下に挙げ
る。ただし、本発明は以下の化合物に限定されるもので
はない。
Examples of preferred organic boron compound anion salts of organic cationic dye compounds that can be used in the present invention are listed below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

−へ             の <<< <<< <<< <<〈 l              1         
1<<< また、本発明に使用する成分(A)としては、■有機カ
チオン性色素の有機硼素化合物アニオン以外のアニオン
塩、例えばC1−、Br−、I−などのハロゲンアニオ
ン塩や、BF4− 、PF6−1などのアニオン塩など
、と;■有機硼素化合物ア□ニオンの有機色素カチオン
以外のカチオン塩、例えばN”(CH3)4、N”(C
tH5)4、N”(nC4H9)4などの四級アンモニ
ウムカチオン塩やNa” 、K”などのアルカリ金属カ
チオン塩など、との混合物であってもよい。
-to <<<<<<<<<<<< l 1
1<<< In addition, as the component (A) used in the present invention, anion salts other than organic boron compound anions of organic cationic dyes, such as halogen anion salts such as C1-, Br-, and I-, and BF4 -, anion salts such as PF6-1, and cation salts other than organic dye cations of organic boron compound anions, such as N"(CH3)4, N"(C
It may also be a mixture with a quaternary ammonium cation salt such as tH5)4, N''(nC4H9)4, or an alkali metal cation salt such as Na'' or K''.

上記化合物■としては、前記の一般式(n)又は(II
[)におけるXがハロゲンイオン(例えばC1−、Br
−%  I−など)、 であるものを挙げることができる。また、上記化合物■
の有機ホウ素化合物アニオン塩の他の例としては具体的
には米国特許3,567.453号、同4,343.8
91号、ヨーロッパ特許109.772号、同109.
773号に記載されている化合物および以下に示すもの
、が挙げられる。
The above-mentioned compound (2) may be of the general formula (n) or (II
[) in which X is a halogen ion (e.g. C1-, Br
-% I-, etc.). In addition, the above compound■
Other examples of organic boron compound anion salts include U.S. Pat. Nos. 3,567.453 and 4,343.8.
91, European Patent No. 109.772, European Patent No. 109.772.
Examples include the compounds described in No. 773 and those shown below.

A −20(nc4H1+B −N (nc4ttJ4
本発明で用いられる、炭素−ハロゲン結合を有する化合
物としては、たとえば、若林ら著、Bull。
A -20 (nc4H1+B -N (nc4ttJ4
Examples of the compound having a carbon-halogen bond used in the present invention include Wakabayashi et al., Bull.

Chem、 Soc、 Japan、■叢、2924 
(1969)記載の化合物、たとえば、2−フェニル4
.6−ビス(トリクロルメチル)−3−トリアジン、2
− <p−クロルフェニル)−4,6−ビス(トリクロ
ルメチル)−3−トリアジン、2−(p−トリル)−4
,6−ビス(トリクロルメチル)−3−トリアジン、2
−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロ
ルメチル)−3−トリアジン、2−(2’、4’−ジク
ロルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−
3−)リアジン、2,4.6−)リス(トリクロルメチ
ル)−8−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(ト
リクロルメチル)−3−トリアジン、2−n−ノニル−
4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、
2− (α、α、β−トリクロルエチル)−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−3−)リアジン等が挙げられ
る。その他、英国特許1388492号明細書記載の化
合物、たとえば、2−スチリル−4,6−ビス(トリク
ロルメチル)−3−1リアジン、2−(p−メチルスチ
リル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−3−トリ
アジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−3−1−リアジン、2−(p−
メトキシスチリル)−4−アミノ−6−トリクロルメチ
ル−S−トリアジン等、特開昭53−133428号記
載の化合物、たとえば、2−(4−メトキシ−ナフト−
1−イル)=4.6−ビス−トリクロルメチル−S−+
−リアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)
−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−+−リアジン
、2−(4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−)リアジ
ン、2− (4,7−ジメトキシ−ナフトー1−イル)
−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、
2−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビス−トリク
ロルメチル−S −トIJアジン等、独国特許3337
024号明細書記載の化合物、たとえば CCI!。
Chem, Soc, Japan, ■Cluster, 2924
(1969), for example, 2-phenyl 4
.. 6-bis(trichloromethyl)-3-triazine, 2
- <p-chlorophenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-3-triazine, 2-(p-tolyl)-4
, 6-bis(trichloromethyl)-3-triazine, 2
-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-3-triazine, 2-(2',4'-dichlorophenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-
3-) riazine, 2,4.6-)lis(trichloromethyl)-8-triazine, 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-3-triazine, 2-n-nonyl-
4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine,
Examples include 2-(α,α,β-trichloroethyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-3-)riazine. Other compounds described in British Patent No. 1388492, such as 2-styryl-4,6-bis(trichloromethyl)-3-1 riazine, 2-(p-methylstyryl)-4,6-bis(trichloromethyl) )-3-triazine, 2-(p-methoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-3-1-riazine, 2-(p-
Compounds described in JP-A-53-133428, such as 2-(4-methoxystyryl)-4-amino-6-trichloromethyl-S-triazine;
1-yl) = 4.6-bis-trichloromethyl-S-+
-Riazine, 2-(4-ethoxy-naphth-1-yl)
-4,6-bis-trichloromethyl-S-+-lyazine, 2-(4-(2-ethoxyethyl)-naphth-1-yl)-4,6-bis-trichloromethyl-S-)lyazine, 2 - (4,7-dimethoxy-naphthol-1-yl)
-4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine,
2-(acenaphth-5-yl)-4,6-bis-trichloromethyl-S-toIJ azine, etc., German Patent No. 3337
Compounds described in No. 024, such as CCI! .

CB C13 等やその他 CCI!3 CCZ。C.B. C13 etc. and others CCI! 3 C.C.Z.

CCZ。C.C.Z.

等を挙げることができる。etc. can be mentioned.

また、P、C,5chaefer等によるJ、OrB 
Chem、:29.1527  (1964)記載の化
合物、たとえば2−メチル−4,6−ビス(トリブロム
メチル)−3−トリアジン、2,4.6−)リス(トリ
ブロムメチル)−S−トリアジン、2,4.6−トリス
(ジブロムメチル)−3−トリアジン、2−アミノ−4
−メチル−6−ドリプロムメチルーS−トリアジン、2
−メトキシ−4−メチル−6−トリクロルメチル−S−
トリアジン等を挙げることができる。
Also, J, OrB by P, C, 5chaefer et al.
Chem. , 2,4.6-tris(dibromomethyl)-3-triazine, 2-amino-4
-Methyl-6-dolipromemethyl-S-triazine, 2
-Methoxy-4-methyl-6-trichloromethyl-S-
Triazines and the like can be mentioned.

さらに特開昭62−58241号記載の化合物、たとえ
ば C(13 CC13 tlff CC!!2 C13 等を挙げることができる。
Furthermore, compounds described in JP-A No. 62-58241, such as C(13 CC13 tlff CC!!2 C13) can be mentioned.

あるいはさらにM、P、)Iutt 、 E、F、El
slagerおよびり、M、Werbel著Journ
al of HeterocyclicChemist
ry第7巻(iih3)、第511頁以降(1970年
)に記載されている合成方法に準して、当業者が容易に
合成することができる次のような化合物群 CH3 C1130 あるいは、次のような化合物群 B −68 B−69 あるいは、ドイツ特許第2641100号に記載されて
いるような化合物、例えば、4−(4−メトキソースチ
リル)−6−(3・3・3−トリクロルプロペニル)−
2−ピロン及び4−(3・4・5−トリメトキソースチ
リル)−6−ドリクロルメチルー2−ピロン、あるいは
ドイツ特許第3333450号に記載されている化合物
、例えば、 あるいはドイツ特許第3021590号に記載の化合物
群、 あるいはドイツ特許第3021599号に記載の化合物
群例えば、 を挙げることができる。
or even M, P,) Iutt, E, F, El
Jour by Slager and Ori, M. Werbel
al of Heterocyclic Chemist
ry volume 7 (iih3), pages 511 et seq. (1970), the following compound group CH3 C1130 or the following compound group can be easily synthesized by those skilled in the art. Group B-68 B-69 or compounds as described in German Patent No. 2641100, for example 4-(4-methoxostyryl)-6-(3,3,3-trichloropropenyl) −
2-pyrone and 4-(3,4,5-trimethoxosetyryl)-6-dolychloromethyl-2-pyrone, or the compounds described in German Patent No. 3333450, for example, or German Patent No. 3021590 For example, the group of compounds described in , or the group of compounds described in German Patent No. 3021599 can be mentioned.

本発明で用いられる芳香族オニウム塩としてるよ特公昭
52−14278号、特公昭52−14279号に示さ
れている化合物をあげることができる。
Examples of the aromatic onium salts used in the present invention include compounds shown in Japanese Patent Publication No. 14278/1982 and Japanese Patent Publication No. 14279/1982.

具体的には、 などをあげることができる。in particular, etc. can be given.

さらに、芳香族ハロニウム塩としては特公昭52−14
277号に示される化合物をあげることができる。具体
的には をあげることができる。これらの中で好ましいものは、
BF、塩、又はPF、塩の化合物さらに好ましくは芳香
族ヨードニウム塩のBF、塩、又はPF、塩である。
Furthermore, as an aromatic halonium salt,
Examples include the compounds shown in No. 277. Specifically, I can give you the following. Among these, the preferred one is
Compounds of BF, salts, or PF, salts More preferably, BF, salts, or PF, salts of aromatic iodonium salts.

本発明に使用される「有機過酸化物」としては分子中に
酸素−酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど
全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケト
ンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、
3,3.5−1リメチルシクロヘキサノンパーオキサイ
ド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチル
アセトンパーオキサイド、1.1−ビス(ターシャリイ
ブチルパーオキシ)−3,3,5−1−リメチルシクロ
ヘキサン、1.1−ビス(ターシャリイブチルパーオキ
シ)シクロヘキサン、2,2−ビス(ターシャリイブチ
ルパーオキシ)ブタン、ターシャリイブチルハイドロパ
ーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソ
プロビルヘンゼンハイドロパーオキサイド、パラメンタ
ンハイドロパーオキサイド、2.5−ジメチルヘキサン
−2,5−シバイドロバ−オキサイド、1,1.3.3
−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジター
シャリイブチルパーオキサイド、ターシャリイブチルク
ミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス(
ターシャリイブチルパーオキシイソプロビル)ベンゼン
、2.5−ジメチル−2,5−ジ(ターシャリイブチル
パーオキシ)ヘキサン、2.5−ジメチル−2,5−ジ
(ターシャリイブチルパーオキシ)ヘキシン−3、アセ
チルパーオキサイド、イソブチリルパーオキサイド、オ
クタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド
、ラウロイルパーオキサイド、3゜5.5−)リメチル
ヘキサノイルバーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化
ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイ
ド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピル
パーオキシジカーボネート、ジー2−エチルヘキシルパ
ーオキシジカーボネート、ジー2−エトキシエチルパー
オキシジカーボネート、ジメトキシイソプロビルバーオ
キシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチ
ル)パーオキシジカーボネート、ターシャリイブチルパ
ーオキシアセテート、ターシャリイブチルパーオキシピ
バレート、ターシャリイブチルパーオキシネオデカノエ
ート、ターシャリイブチルパーオキシオクタノエート、
ターシャリイブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチ
ルヘキサノエート、ターシャリイブチルパーオキシラウ
レート、ターシャリイブチルパーオキシアセテ−ト、ジ
ターシャリイブチルシバ−オキシイソフタレート、2.
5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘ
キサン、ターシャリイブチル過酸化マレイン酸、ターシ
ャリイブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、3
.3’。
The "organic peroxide" used in the present invention includes almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule, examples of which include methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide,
3,3.5-1-limethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1.1-bis(tert-butylperoxy)-3,3,5-1-limethylcyclohexane, 1.1 -Bis(tert-butylperoxy)cyclohexane, 2,2-bis(tert-butylperoxy)butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisoprobylhensen hydroperoxide, paramenthane hydroperoxide oxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-cybidrobar oxide, 1,1.3.3
-Tetramethylbutyl hydroperoxide, ditertiary butyl peroxide, tertiary butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide, bis(
tert-butylperoxyisopropyl)benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di(tert-butylperoxy)hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di(tert-butylperoxy)hexane- 3. Acetyl peroxide, isobutyryl peroxide, octanoyl peroxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide, 3゜5.5-)limethylhexanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2. 4-dichlorobenzoyl peroxide, meta-toluoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di(3- Methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxy acetate, tert-butyl peroxy pivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert-butyl peroxy octanoate,
tert-butyl peroxy-3,5,5-trimethylhexanoate, tert-butyl peroxylaurate, tert-butyl peroxy acetate, di-tert-butyl civa-oxyisophthalate, 2.
5-dimethyl-2,5-di(benzoylperoxy)hexane, tert-butyl peroxide maleic acid, tert-butyl peroxyisopropyl carbonate, 3
.. 3'.

4.4′−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル
)ベンゾフェノン、3.3’、4.4’−テトラ−(t
−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.
3’、4.4’−テトラ(を−へキシルバーオキシカル
ボニル)ベンゾフェノン、3.3’、4.4’−テトラ
(t−オクチルパーオキシカルボニル)ヘンシフエノン
、3.3 ’。
4.4'-tetra-(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3.3',4.4'-tetra-(t
-amylperoxycarbonyl)benzophenone, 3.
3',4.4'-tetra(hexyloxycarbonyl)benzophenone, 3.3',4.4'-tetra(t-octylperoxycarbonyl)hensiphenone, 3.3'.

4.4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベン
ゾフェノン、3.3’、4.4’−テトラ(p−イソプ
ロピルクミルパーオキシカルボニル)ヘンシフエノン、
カルボニルジ(t−ブチルバーオキシ二水素二フタレー
ト)、カルボニルジ(t−ヘキシルバーオキシ二水素二
フタレート)等がある。
4.4'-tetra(cumylperoxycarbonyl)benzophenone, 3.3',4.4'-tetra(p-isopropylcumylperoxycarbonyl)hensiphenone,
Examples include carbonyl di(t-butyl baroxydihydrogen diphthalate) and carbonyl di(t-hexyl baroxy dihydrogen diphthalate).

これらの中で、3.3’、4.4’−テトラ−(t−ブ
チルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3’
、4.4’−テトラ−(t−アミルパーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、3゜3’、4.4’−テトラ(t
−へキシルバーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3
.3’、4゜4′−テトラ(t−オクチルパーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン、3.3’、4.4’−テト
ラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3
.3’、4.4’−テトラ (p−イソプロピルクミル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチ
ルシバ−オキシイソフタレート等の過酸化エステル系が
好ましい。
Among these, 3.3', 4.4'-tetra-(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3.3'
, 4.4'-tetra-(t-amylperoxycarbonyl)benzophenone, 3°3', 4.4'-tetra(t
-hexyloxycarbonyl)benzophenone, 3
.. 3',4゜4'-tetra(t-octylperoxycarbonyl)benzophenone, 3.3',4.4'-tetra(cumylperoxycarbonyl)benzophenone, 3
.. Peroxide esters such as 3',4,4'-tetra(p-isopropylcumylperoxycarbonyl)benzophenone and di-t-butylciba-oxyisophthalate are preferred.

−儀式 (ただし、Arは下記の一般式のいずれかである。-ceremony (However, Ar is one of the following general formulas.

で表わされる化合物において、R1、R2で表されるア
ルキル基としてはメチル、エチル、プロピル等の炭素数
1〜20個のものがあげられる。また、R1とR2が結
合して形成するアルキレン基としでは、テトラメチレン
、ペンタメチレン等があげられる。八rにおけるR3−
R7のアJレキル基としては炭素数1〜4個のものがあ
げられる。また、アルケニル基としては炭素数3〜12
のものがあげられる。さらに、R3−R7のアリール基
としてはフェニル基があげられる。さらにアルコキシ基
としては炭素数1〜4のものがあげられる。
In the compound represented by the above, examples of the alkyl group represented by R1 and R2 include those having 1 to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl, and propyl. Examples of the alkylene group formed by combining R1 and R2 include tetramethylene and pentamethylene. R3- in 8r
Examples of the alexyl group for R7 include those having 1 to 4 carbon atoms. In addition, the alkenyl group has 3 to 12 carbon atoms.
I can give you something. Further, as the aryl group for R3-R7, a phenyl group can be mentioned. Furthermore, examples of the alkoxy group include those having 1 to 4 carbon atoms.

またR3−R7の置換アリール基および置換アルコキシ
基の置換基としては、炭素数1〜4個のアルキル基、炭
素数2〜4個のアルケニル基、炭素数1〜4個のアルコ
キシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基などを挙げ
ることができる。R8のアシル基としてはアセチル、プ
ロピオニル、アクリロイル等があげられる。さらにまた
R9のアルキル基としては炭素数1〜8個のものがあげ
られ、R9のアルケニル基としては炭素数2〜8個のも
のがあげられる。
In addition, the substituents for the substituted aryl group and substituted alkoxy group of R3-R7 include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a cyano group. , a halogen atom, a nitro group, etc. Examples of the acyl group for R8 include acetyl, propionyl, and acryloyl. Furthermore, examples of the alkyl group for R9 include those having 1 to 8 carbon atoms, and examples of the alkenyl group for R9 include those having 2 to 8 carbon atoms.

このような化合物の具体例としては、 caLt などがあげられる。Specific examples of such compounds include: caLt etc.

この中で好ましいものはC−1、C−2、C−8および
C−9である。
Among these, preferred are C-1, C-2, C-8 and C-9.

本発明の組成物中のこれらの光重合開始剤系の含有濃度
は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合に
は有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる。本発明
における光重合開始剤系の量は、光重合可能なエチレン
性不飽和化合物と必要に応じて添加される線状有機高分
子重合体との合計に対して0.01%から60%の範囲
で使用するのが好ましい。より好ましくは、1%から3
0%で良好な結果を得る。また本発明に使用される成分
(A):成分(B):成分(C)の重量比は1:0.0
01〜10:0.001〜10が適当であり、好ましく
は1:0.005〜5:0.005〜5であり、最も好
ましくは1:0.01〜3:0.01〜3である。なお
成分(B)を(ii)の態様で使用する場合、成分■の
色素:成分■の硼素化合物の重量比は1:0.05〜1
00が適当であり、好ましくは1:0.1〜10、最も
好ましくは1:0.2〜5である。
The concentration of these photopolymerization initiator systems in the composition of the invention is usually small. In addition, if the amount is inappropriately high, undesirable results such as blocking of effective light rays will occur. The amount of the photopolymerization initiator system in the present invention is from 0.01% to 60% based on the total of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the linear organic polymer added as necessary. It is preferable to use within the range. More preferably from 1% to 3
Good results are obtained with 0%. Furthermore, the weight ratio of component (A):component (B):component (C) used in the present invention is 1:0.0.
01-10:0.001-10 is suitable, preferably 1:0.005-5:0.005-5, most preferably 1:0.01-3:0.01-3. . In addition, when component (B) is used in the embodiment (ii), the weight ratio of the pigment of component (■) to the boron compound of component (2) is 1:0.05 to 1.
00 is suitable, preferably 1:0.1-10, most preferably 1:0.2-5.

また、本発明の光重合性組成物では、必要により種々の
有機アミン化合物を併用することにより更に光重合開始
能を増大せしめることができる。
Furthermore, in the photopolymerizable composition of the present invention, the ability to initiate photopolymerization can be further increased by using various organic amine compounds in combination, if necessary.

これらの有機アミン化合物としては、例えば、トリエタ
ノールアミン、ジメチルアミン、ジェタノールアニリン
、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ミヒラ
ーズケトン等があげられる。
Examples of these organic amine compounds include triethanolamine, dimethylamine, jetanolaniline, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, and Michler's ketone.

有機アミン化合物の添加量は、全光重合開始剤量の50
%〜200%程度が好ましい。
The amount of organic amine compound added is 50% of the total amount of photopolymerization initiator.
% to about 200% is preferable.

更に本発明で用いる光重合開始剤に必要に応じてN−フ
ェニルグリシン、2−メルカプトベンゾチアゾール、N
、N−ジアルキル安息香酸アルキルエステル等の水素供
与性化合物を加えることによって更に光重合開始能力を
高めることができる。
Furthermore, N-phenylglycine, 2-mercaptobenzothiazole, N
The ability to initiate photopolymerization can be further enhanced by adding a hydrogen-donating compound such as N-dialkylbenzoic acid alkyl ester.

このような水素供与性化合物は、本発明の光重合性組成
物の総重量に対して1〜30%添加することが好ましい
Such a hydrogen donating compound is preferably added in an amount of 1 to 30% based on the total weight of the photopolymerizable composition of the present invention.

本発明に使用することのできる「線状有機高分子重合体
」としては、当然光重合可能なエチレン性不飽和化合物
と相溶性を有している線状有機高分子重合体である限り
、どれを使用しても構わない。望ましくは水現像或は弱
アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アルカリ水可
溶性又は膨潤性である線状有機高分子重合体を選択すべ
きである。線状有機高分子重合体は、該組成物の皮膜形
成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水成は有機溶剤
現像剤としての用途に応じて使用される。
As the "linear organic polymer" that can be used in the present invention, any linear organic polymer can be used as long as it is naturally compatible with photopolymerizable ethylenically unsaturated compounds. You may use . Preferably, a linear organic polymer that is soluble or swellable in water or weak alkaline water should be selected so that it can be developed in water or weakly alkaline water. The linear organic high molecular weight polymer is used not only as a film forming agent of the composition, but also water, a weak alkaline aqueous solution, and an organic solvent developer depending on the purpose.

例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が
可能になる。この様な線状有機高分子重合体としては、
側鎖にカルボン酸を有する付加重合体、例えば特開昭5
9−44615号、特公昭54−34327号、特公昭
58−12577号、特公開54−25957号、特開
昭54−92723号、特開昭59−53836号、特
開昭59−71048号に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。
For example, water development becomes possible when a water-soluble organic high molecular weight polymer is used. As such linear organic polymers,
Addition polymers having carboxylic acid in the side chain, such as JP-A-5
9-44615, JP 54-34327, JP 58-12577, JP 54-25957, JP 54-92723, JP 59-53836, JP 59-71048 Those listed include methacrylic acid copolymers, acrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, and the like.

また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘
導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に環状
酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれ
らの中で〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)ア
クリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノ
マー〕共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート/(
メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビ
ニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性
線状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエ
チレンオキサイド等が有用である。
Similarly, there are acidic cellulose derivatives having carboxylic acid in their side chains. In addition to these, addition polymers having hydroxyl groups to which a cyclic acid anhydride is added are useful. In particular, among these, [benzyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid/other addition-polymerizable vinyl monomers as required] copolymer and [allyl (meth)acrylate/(
A copolymer of meth)acrylic acid/other addition-polymerizable vinyl monomer if necessary is suitable. Other useful water-soluble linear organic polymers include polyvinylpyrrolidone and polyethylene oxide.

また硬化皮膜の強度をあげるためにアルコール可溶性ナ
イロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−
プロパンとエビクロロヒドリンのポリエーテル等も有用
である。これらの線状有機高分子重合体は全組成中に任
意な量を混和させることができる。しかし90重量%を
越える場合は形成される画像強度等の点で好ましい結果
を与えない。好ましくは30〜85%である。また光重
合可能なエチレン性不飽和化合物と線状有機高分子重合
体は、重量比で1/9〜7/3の範囲とするのが好まし
い。より好ましい範囲は3/7〜515である。
In addition, to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon and 2,2-bis-(4-hydroxyphenyl)-
Also useful are polyethers of propane and shrimp chlorohydrin. Any amount of these linear organic high molecular weight polymers can be mixed into the entire composition. However, if it exceeds 90% by weight, favorable results will not be obtained in terms of the strength of the formed image. Preferably it is 30-85%. Further, the weight ratio of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the linear organic polymer is preferably in the range of 1/9 to 7/3. A more preferable range is 3/7 to 515.

また、本発明においては以上の基本成分の他に感光性組
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少量
の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重
合防止剤としてはノ1イドロキノン、p−メトキシフェ
ノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロー
ル、1−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4.4′−
チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
2.2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール、N
−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等
があげられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重
量に対して約0.01%〜1%〜約5ましい。また必要
に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン
酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加
して感光層の表面に浮かせてもよい。高級脂肪酸誘導体
の添加量は、全組成物の約0.5%〜約10%が好まし
い、さらに、感光層の着色を目的として染料もしくは顔
料を添加してもよい。染料および顔料の添加量は全組成
物の約0.5%〜約5%が好ましい。加えて、硬化皮膜
の物性を改良するために無機充填剤や、その他の公知の
添加剤を加えてもよい。
In addition to the above-mentioned basic ingredients, in the present invention, a small amount of a thermal polymerization inhibitor is added to prevent unnecessary thermal polymerization of polymerizable ethylenically unsaturated compounds during the production or storage of the photosensitive composition. It is desirable to do so. Suitable thermal polymerization inhibitors include noihydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, 1-butylcatechol, benzoquinone, 4.4'-
Thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol),
2.2'-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, N
- Nitrosophenylhydroxyamine cerous salt, etc. The amount of the thermal polymerization inhibitor added is preferably about 0.01% to 1% to about 5% by weight of the total composition. Further, if necessary, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide may be added and floated on the surface of the photosensitive layer in order to prevent polymerization inhibition by oxygen. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5% to about 10% of the total composition.Furthermore, dyes or pigments may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. The amount of dyes and pigments added is preferably about 0.5% to about 5% of the total composition. In addition, inorganic fillers and other known additives may be added to improve the physical properties of the cured film.

本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布する際には種
々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
When applying the photopolymerizable composition of the present invention onto a support, it can be used after being dissolved in various organic solvents.

ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモツプチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモツプチ
ルエーテルアセテート、3−メトキシプロパツール、メ
トキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノ
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピ
ルアセテート、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、γ−プチロラクトン、乳酸メチル、乳
酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混
合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固
形分の4度は、2〜50重量%が適当である。
The solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether,
Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol motsubutyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol motsubutyl ether acetate, 3-methoxypropanol , methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide , γ-butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate, etc. These solvents can be used alone or in combination. The appropriate solid content in the coating solution is 2 to 50% by weight.

その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/r+(〜約1
0g/mの範囲が適当である。より好ましくは0.5〜
5 g / mである。
The coating amount is about 0.1 g/r+ (~about 1
A range of 0 g/m is suitable. More preferably 0.5~
5 g/m.

上記支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いられ
る。該寸度的に安定な板状物としては、紙、プラスチッ
ク(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ンなど)がラミネートされた1氏、また、例えばアルミ
ニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、鋼などの
ような金属の板、さらに、例えば二酢酸セルロース、三
酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロ
ース、i’flElf酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニル
アセタールなどのようなプラスチックのフィルム、上記
の如き金属がラミネートもしくは蒸着された祇もしくは
プラスチックフィルムなどがあげられる。これらの支持
体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり
、しかも安価であるので特に好ましい。更に、特公昭4
8−18327号に記載されているようなポリエチレン
テレフタレートフィルム上にアルミニラ、?、シートが
結合された複合体シートも好ましい。
As the support, a dimensionally stable plate-like material is used. Examples of the dimensionally stable plate-like material include paper, plastic (e.g., polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated materials, aluminum (including aluminum alloys), zinc, steel, etc. Further, for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose i'flElf acid, cellulose nitrate,
Examples include plastic films such as polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc., and plastic films laminated or vapor-deposited with the above metals. Among these supports, aluminum plates are particularly preferred because they are extremely dimensionally stable and inexpensive. In addition, the special public
8-18327 on a polyethylene terephthalate film, as described in No. 8-18327. Also preferred are composite sheets in which the sheets are bonded together.

また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
In addition, in the case of a support having a metal surface, especially aluminum, surface treatments such as graining treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate, etc., or anodization treatment are performed. Preferably.

さらに、砂目立てしたのちに珪酸ナトリウム水溶液に浸
漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用できる。特
公昭47−5125号に記載されているようにアルミニ
ウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪酸塩
の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用される。上記
陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸
等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸
またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種
以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極と
して電流を流すことにより実施される。
Furthermore, an aluminum plate that has been grained and then immersed in an aqueous sodium silicate solution can be preferably used. As described in Japanese Patent Publication No. 47-5125, an aluminum plate which is anodized and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used. The above anodizing treatment can be carried out using an electrolytic solution, for example, of an aqueous or non-aqueous solution of an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, or boric acid, or an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid, or a salt thereof, or a combination of two or more thereof. This is carried out by passing an electric current through the aluminum plate as an anode.

また、米国特許第3,658,662号に記載されてい
るようなシリケート電着も有効である。
Also effective is silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662.

更に、特公昭46−27481号、特開昭52−586
02号、特開昭52−30503号に開示されているよ
うな電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理
および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である
Furthermore, Japanese Patent Publication No. 46-27481, Japanese Patent Publication No. 52-586
Also useful is a surface treatment that combines a support coated with electrolytic grains with the above-mentioned anodic oxidation treatment and sodium silicate treatment as disclosed in No. 02 and JP-A-52-30503.

また、特開昭56−28893号に開示されているよう
な機械的粗面化、化学的エツチング、電解グレイン、陽
極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好
適である。
Also suitable are those which have been subjected to mechanical roughening, chemical etching, electrolytic graining, anodic oxidation, and sodium silicate treatment in this order as disclosed in JP-A No. 56-28893.

更に、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、たと
えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属
塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等
を下塗りしたものも好適である。
Furthermore, after these treatments, water-soluble resins such as polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having sulfonic acid groups in their side chains, polyacrylic acid, water-soluble metal salts (e.g. zinc borate), or Undercoating with yellow dye, amine salt, etc. is also suitable.

これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる光重合性組成
物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の密着性の向上
環のために施されるものである。
These hydrophilic treatments are performed not only to make the surface of the support hydrophilic, but also to prevent harmful reactions of the photopolymerizable composition provided thereon, and to improve the adhesion of the photosensitive layer. It is done for the ring.

支持体上に設けられた光重合性組成物の層の上には、空
気中の酸素による重合禁止作用を防止するため、例えば
ポリビニルアルコール特にケン化度99%以上のポリビ
ニルアルコール、酸性セルロース類などのような酸素遮
断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けてもよい。
On the layer of the photopolymerizable composition provided on the support, for example, polyvinyl alcohol, particularly polyvinyl alcohol with a degree of saponification of 99% or more, acidic cellulose, etc., is added to prevent the polymerization inhibiting effect caused by oxygen in the air. A protective layer made of a polymer with excellent oxygen barrier properties such as .

この様な保護層の塗布方法については、例えば米国特許
第3,458,311号、特公昭55−49729号に
詳しく記載されている。
A method for applying such a protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

また本発明の光重合性組成物は通常の光重合反応に使用
できる。さらに、印刷版、プリント基板等作成の際のフ
ォトレジスト等多方面に適用することが可能である。特
に本発明の光重合性組成物の特徴である高感度性と可視
光領域までの幅広い分光感度特性により、Ar” レー
ザー等の可視光レーザー用の感光材料に適用すると良好
な効果が得られる。
Furthermore, the photopolymerizable composition of the present invention can be used in ordinary photopolymerization reactions. Furthermore, it can be applied in many ways, such as as a photoresist in the production of printing plates, printed circuit boards, and the like. In particular, the photopolymerizable composition of the present invention has high sensitivity and a wide range of spectral sensitivity characteristics up to the visible light region, so that good effects can be obtained when applied to photosensitive materials for visible light lasers such as Ar'' lasers.

本発明の光重合性組成物を用いた感光材料は画像露光し
、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を得る。こ
れらの光重合性組成物を平版印刷版としう使用する際の
好ましい現像液としては、特公昭57−7427号に記
載されているような現像液があげられ、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウムン第ニリン
酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン酸ア
ンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム
、アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノエタ
ノールアミン又はジェタノールアミンなどのような有機
アルカリ剤の水溶液が適当である。該アルカリ溶液の濃
度が0.1〜10重量%、好ましくは0.5−.5重量
%になるように添加される。
A photosensitive material using the photopolymerizable composition of the present invention is imagewise exposed, and unexposed areas of the photosensitive layer are removed with a developer to obtain an image. Preferred developing solutions when using these photopolymerizable compositions as lithographic printing plates include those described in Japanese Patent Publication No. 57-7427, which contain sodium silicate, potassium silicate, Inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium triphosphate, sodium diphosphate, ammonium triphosphate, ammonium diphosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia, etc. Aqueous solutions of organic alkaline agents such as monoethanolamine or jetanolamine are suitable. The concentration of the alkaline solution is 0.1-10% by weight, preferably 0.5-. It is added in an amount of 5% by weight.

また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ海面活性剤
やベンジルアルコール、2−フェノキシエタノール、2
−ブトキシェタノールのような有機溶媒を少量含むこと
ができる。例えば、米国特許筒3.375,171号お
よび同第3,615,480号に記載されているものを
挙げることができる。
In addition, the alkaline aqueous solution may contain a surfactant, benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol, 2
- Small amounts of organic solvents such as butoxetanol may be included. For example, those described in US Pat. No. 3,375,171 and US Pat. No. 3,615,480 can be mentioned.

更に、特開昭50−26601号、同58−54341
号、特公昭56−39464号、同56−42860号
の各公報に記載されている現像液も優れている。
Furthermore, JP-A-50-26601 and JP-A-58-54341
The developing solutions described in Japanese Patent Publication No. 56-39464 and Japanese Patent Publication No. 56-42860 are also excellent.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の光重合性組成物は紫外光から可視光の幅広い領
域の活性光線に対して高感度を有する。
The photopolymerizable composition of the present invention has high sensitivity to active light in a wide range from ultraviolet light to visible light.

従って光源としては超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀
灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、
メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーランプ
、蛍光灯、タングステン灯、及び太陽光等が使用できる
Therefore, light sources include ultra-high pressure, high pressure, medium pressure, and low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps,
Metal halide lamps, various visible and ultraviolet laser lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, sunlight, etc. can be used.

〔実施例〕〔Example〕

以下実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれ
らの実施例に限定されるものではない。
The present invention will be explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

実施例1〜9、比較例1〜5 厚さ0.30mのアルミニウム板をナイロンブラシと4
00メツシユのパミストンの水懸濁液とを用いその表面
を砂目室てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナ
トリウムに70℃で60秒間浸漬してエツチングした後
、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗し
た。これを■^= 12.7 Vの条件下で正弦波の交
番波形電流を用いて1−%硝酸水溶液中で160ク一ロ
ン/dm”の陽極特電気量で電解粗面化処理を行った。
Examples 1 to 9, Comparative Examples 1 to 5 An aluminum plate with a thickness of 0.30 m was used with a nylon brush.
The surface was gritted using a water suspension of 00 mesh pumice stone, and then thoroughly washed with water. After etching by immersing in 10% sodium hydroxide at 70° C. for 60 seconds, washing with running water, neutralizing with 20% nitric acid, and then washing with water. This was subjected to electrolytic surface roughening treatment using an alternating sinusoidal waveform current under the condition of ■^ = 12.7 V in a 1-% nitric acid aqueous solution with an anode special electricity amount of 160 coron/dm''. .

その表面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra表示)
であった、引き続いて30%の硫酸水溶液中に浸漬し5
5℃で2分間デスマットした後、20%硫酸水溶液中、
電流密度2A/dm”において陽極酸化皮膜の厚さが2
.7 g / rdになるように2分間陽極酸化処理し
た。
When the surface roughness was measured, it was 0.6μ (Ra display)
It was then immersed in a 30% aqueous sulfuric acid solution.
After desmutting at 5°C for 2 minutes, in a 20% sulfuric acid aqueous solution,
At a current density of 2 A/dm, the thickness of the anodized film is 2
.. It was anodized for 2 minutes to give a weight of 7 g/rd.

このように処理されたアルミニウム板上に、下記組成の
感光性組成物を乾燥塗布重量が1.4g/dとなるよう
に塗布し、80℃2分間乾燥させ感光層を形成させた。
On the thus treated aluminum plate, a photosensitive composition having the following composition was coated so that the dry coating weight was 1.4 g/d, and dried at 80° C. for 2 minutes to form a photosensitive layer.

トリメチロールプロパントリ (ア クリロイルオキシプロピル)エ ーチル            2.0gアリルメタア
クリレート/メタク リル酸共重合体 (共重合モル比80/20)    2.0  g光重
合開始剤           Xgフッ素茶系ノニオ
ン界面活性剤  0.03 gメチルエチルケトン  
    20   gプロピレングリコールモノメチ ルエーテルアセテート    20   gこの感光層
上にポリビニルアルコール(ケン化度86.5〜89モ
ル%、重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥塗布
重量が2 g / rdとなるように塗布し、100℃
/2分間乾燥させた。
Trimethylolpropane tri(acryloyloxypropyl)ethyl 2.0g Allyl methacrylate/methacrylic acid copolymer (copolymerization molar ratio 80/20) 2.0g Photopolymerization initiator Xg Fluorine tea-based nonionic surfactant 0.03 g methyl ethyl ketone
20 g Propylene glycol monomethyl ether acetate 20 g A 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (degree of saponification 86.5-89 mol%, degree of polymerization 1000) was applied onto this photosensitive layer so that the dry coating weight was 2 g/rd. 100℃
/ Dry for 2 minutes.

感光性試験は、可視光、及びAr” レーザー光(波長
=488011)の各単色光を用いた。可視光はタング
ステンランプを光源としケンコー光学フィルター(Ke
nko optical filter)  B P 
−49を通して得た。感光測定には富士PSステップガ
イド(富士写真フィルム株式会社製、初段の透過光学濃
度が0.05で順次0.15増えていき15段まである
ステップタブレット)を使用して行った。
The photosensitivity test used monochromatic light of visible light and Ar'' laser light (wavelength = 488011).For visible light, a tungsten lamp was used as the light source, and a Kenko optical filter (Keiko) was used as the light source.
nko optical filter) B P
-49. Photosensitivity measurements were carried out using a Fuji PS Step Guide (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., a step tablet with a transmission optical density of 0.05 at the first stage and increasing successively by 0.15 up to 15 stages).

感材膜面部での照度が25LUXで120秒露光した時
のPSステップガイドのクリアー段数で示した。
It is indicated by the number of clear steps of the PS step guide when exposed for 120 seconds at an illuminance of 25 LUX on the surface of the photosensitive material film.

レーザー光はAr” レーザー(レフセル製モデル95
−3)の波長488nmのシングルラインをビーム径2
5μで使用しAr” レーザーの強度を変え、スキャン
した(NDフィルター使用)。
The laser beam is Ar” laser (Refcell model 95
-3) single line with a wavelength of 488 nm and a beam diameter of 2
Scanning was performed by changing the intensity of the Ar'' laser used at 5μ (ND filter was used).

現像後に得られた線巾を測定し25μの線巾が再現され
た時のAr” レーザーの強度を感度とした。
The line width obtained after development was measured, and the intensity of the Ar'' laser when a line width of 25 μm was reproduced was defined as the sensitivity.

現像は、下記の現像液に25℃、1分間浸漬して行った
Development was performed by immersing the film in the following developer at 25° C. for 1 minute.

光重合開始剤を変えた時の感度の結果を表1に示す。Table 1 shows the sensitivity results when the photopolymerization initiator was changed.

かせJ− +l?Vト マへZ (+VC+          o         
へ褌                桃   靴; 、〈−一一一]  、、、   。
Kase J- +l? V Toma Z (+VC+ o
He loincloth peach shoes; ,〈-111〉 ,,,.

)穀− ベト Δ5 マへ藺 、        f   型−j!d@      
 劇   4!   々ズ       −−− e        旺   2   旺米 −m− ν         ロ    ロ    ロ÷   
伽   Φ L)00 UソU ♀jQ ’3 Q :5 ど 回 と I と 匝          円   
−寸G’−’JQ−’J Q  褐         
   −−−挑   健   eiK    田 実施例10〜15 感光層の上に、上記保護層の代りに、ケン化度99.3
〜99.9%、重合度1000のポリビニルアルコール
を用い、さらにこのポリビニルアルコール100重量部
に対して1.4重量部のフッ素系界面活性剤W1104
(旭硝子■製)を用いた以外は、実施例1.8.9と同
様にして得られた感光性平版印刷版を同実施例と同様に
して感光測定を行なった。結果を表2に示す。
) Grain - Viet Δ5 Mahe straw, f type - j! d@
Drama 4! zuzu --- e Want 2 Want rice -m- ν Ro Ro Ro ÷
佽 Φ L)00 UsoU ♀jQ '3 Q: 5 times and I and 匝 EN
-Size G'-'JQ-'J Q Brown
---Ken Challenge Examples 10 to 15 On the photosensitive layer, instead of the above protective layer, saponification degree of 99.3
~99.9%, using polyvinyl alcohol with a degree of polymerization of 1000, and further adding 1.4 parts by weight of fluorosurfactant W1104 to 100 parts by weight of this polyvinyl alcohol.
Photosensitive lithographic printing plates obtained in the same manner as in Example 1, 8, and 9 were subjected to photosensitivity measurements in the same manner as in Example 1, except that 1.8.9 (manufactured by Asahi Glass ■) was used. The results are shown in Table 2.

表     2 実施例10  実施例4と同じ 12.6   0.3
0実施例11  実施例5と同じ 13.2   0.
25実施例12  実施例6と同じ 13.0   0
.27実施例13  実施例7と同じ 10.2   
0.72実施例14  実施例8と同じ 10.4  
 0.65実施例15  実施例9と同じ 10.4 
  0.65手続補補正 時許庁長官  吉 1)文 毅  殿 ■、事件の表示   昭和63年特許願第129647
号2、発明の名称   光重合性組成物 3、補正をする者 事件との関係  出願人 名 称  (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人 5、補正命令の日付   自  発 6、補正の対象     明細書の発明の詳細な説明の
欄(1)  明細書第17頁第1行の“D−は”をrD
−は」と訂正する。
Table 2 Example 10 Same as Example 4 12.6 0.3
0 Example 11 Same as Example 5 13.2 0.
25 Example 12 Same as Example 6 13.0 0
.. 27 Example 13 Same as Example 7 10.2
0.72 Example 14 Same as Example 8 10.4
0.65 Example 15 Same as Example 9 10.4
0.65 Procedural Supplementary Amendment Commissioner Yoshi 1) Mr. Moon Tsuyoshi■, Indication of the case Patent Application No. 129647 of 1988
No. 2, Title of the invention Photopolymerizable composition 3, Relationship with the person making the amendment Applicant name (520) Fuji Photo Film Co., Ltd. 4, Agent 5, Date of amendment order Initiator 6, Subject of amendment Details Detailed description of the invention in the book (1) Replace “D-wa” in the first line of page 17 of the specification with rD
-ha” and correct it.

(2)同書第27頁の構造式へ−13を以下の通り訂正
する。
(2) Structural formula-13 on page 27 of the same book is corrected as follows.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 活性光線により光重合が可能な少なくとも1個のエチレ
ン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と、光重合開
始剤と、必要に応じて線状有機高分子重合体とを含む光
重合性組成物において、前記光重合開始剤が、下記A群
、B群およびC群からそれぞれ選ばれた少なくとも3種
の化合物を含むことを特徴とする光重合性組成物。 (A) (i)少なくとも一種の有機カチオン性色素の有機ホウ
素化合物アニオン塩 又は (ii)少なくとも一種の有機カチオン性色素と有機ホ
ウ素化合物アニオン塩の組合せ (B) (i)炭素−ハロゲン結合を有する化合物 (ii)芳香族オニウム塩又は芳香族ハロニウム塩 (iii)有機過酸化物 のうちの少なくとも一種 (C)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、式中、Arは下記の一般式の一つから選ばれ
た芳香族基を表し、R^1、R^2は水素原子又はアル
キル基を表し、又、R^1とR^2は互いに結合してア
ルキレン基を表しても良い。)▲数式、化学式、表等が
あります▼ (ただし式中、R^3〜R^7は互いに独立して水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換ア
ルコキシ基、−S−R^9基、−SO−R^9基又は−
SO_2R^9基を表すが、但しR^3〜R^7基の少
なくとも一つは−S−R^9基、−SO−R^9基又は
−SO_2R^9基を表し、R^9はアルキル基、アル
ケニル基、R^8は水素原子、アルキル基又はアシル基
を表す。Y^1は水素原子又は▲数式、化学式、表等が
あります▼を表す。
[Scope of Claims] A polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond that can be photopolymerized by actinic rays, a photopolymerization initiator, and optionally a linear organic polymer. A photopolymerizable composition comprising: the photopolymerization initiator containing at least three compounds selected from Group A, Group B, and Group C below. (A) (i) an organic boron compound anion salt of at least one organic cationic dye; or (ii) a combination of at least one organic cationic dye and an organic boron compound anion salt; (B) (i) having a carbon-halogen bond; Compound (ii) At least one type of aromatic onium salt or aromatic halonium salt (iii) Organic peroxide (C) General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (However, in the formula, Ar is the following It represents an aromatic group selected from one of the general formulas, R^1 and R^2 represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R^1 and R^2 combine with each other to represent an alkylene group. ) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (However, in the formula, R^3 to R^7 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a substituted aryl group, Hydroxyl group, alkoxy group, substituted alkoxy group, -S-R^9 group, -SO-R^9 group, or -
SO_2R^9 group, provided that at least one of R^3 to R^7 groups represents -S-R^9 group, -SO-R^9 group, or -SO_2R^9 group, and R^9 is The alkyl group, alkenyl group, and R^8 represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an acyl group. Y^1 represents a hydrogen atom or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼.
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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH055988A (en) * 1991-06-24 1993-01-14 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
US5368973A (en) * 1990-10-31 1994-11-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive element and process for preparation thereof
EP0695971A1 (en) 1994-08-03 1996-02-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
US6033829A (en) * 1997-06-30 2000-03-07 Showa Denko K.K. Photopolymerizable composition and dry film resist
WO2005064402A1 (en) * 2003-12-25 2005-07-14 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd. Negative photosensitive composition and negative photosensitive lithographic printing plate
EP1635219A1 (en) 2004-08-27 2006-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP1757984A1 (en) 2005-08-22 2007-02-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP2042532A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound
WO2009119610A1 (en) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 Process for producing lithographic printing plate
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP2128704A2 (en) 2008-05-29 2009-12-02 Fujifilm Corporation Processing Liquid for Lithographic Printing Plate Development and Method of Producing Lithographic Printing Plates
EP2131239A1 (en) 2008-05-29 2009-12-09 Fujifilm Corporation Processing liquid for lithographic printing plate development and method of producing lithographic printing plates
EP2157478A2 (en) 2008-08-22 2010-02-24 Fujifilm Corporation Method of producing lithographic printing plate
WO2010021364A1 (en) 2008-08-22 2010-02-25 富士フイルム株式会社 Process for producing lithographic printing plate
EP2159640A1 (en) 2008-08-29 2010-03-03 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
WO2013039235A1 (en) 2011-09-15 2013-03-21 富士フイルム株式会社 Method for recycling wastewater produced by plate-making process
WO2013065853A1 (en) 2011-11-04 2013-05-10 富士フイルム株式会社 Method for recycling plate-making processing waste solution

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5214277A (en) * 1975-07-25 1977-02-03 Nippon Steel Corp Panel positioning apparatus
JPS59211036A (en) * 1983-05-16 1984-11-29 Sekisui Chem Co Ltd Photopolymerizable image forming composition
JPS6210642A (en) * 1985-07-09 1987-01-19 Sony Corp Photosensitive resin composition
JPS62143044A (en) * 1985-11-20 1987-06-26 サイカラー・インコーポレーテッド Photosetting composition containing dye borate complex and photosensitive material using the same
JPS62150242A (en) * 1985-11-20 1987-07-04 サイカラー・インコーポレーテッド Photosensitive material containing ion dye compound as initiator
JPS6332540A (en) * 1986-07-25 1988-02-12 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPH01138204A (en) * 1987-07-06 1989-05-31 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5214277A (en) * 1975-07-25 1977-02-03 Nippon Steel Corp Panel positioning apparatus
JPS59211036A (en) * 1983-05-16 1984-11-29 Sekisui Chem Co Ltd Photopolymerizable image forming composition
JPS6210642A (en) * 1985-07-09 1987-01-19 Sony Corp Photosensitive resin composition
JPS62143044A (en) * 1985-11-20 1987-06-26 サイカラー・インコーポレーテッド Photosetting composition containing dye borate complex and photosensitive material using the same
JPS62150242A (en) * 1985-11-20 1987-07-04 サイカラー・インコーポレーテッド Photosensitive material containing ion dye compound as initiator
JPS6332540A (en) * 1986-07-25 1988-02-12 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPH01138204A (en) * 1987-07-06 1989-05-31 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5368973A (en) * 1990-10-31 1994-11-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive element and process for preparation thereof
JPH055988A (en) * 1991-06-24 1993-01-14 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
EP0695971A1 (en) 1994-08-03 1996-02-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
US6033829A (en) * 1997-06-30 2000-03-07 Showa Denko K.K. Photopolymerizable composition and dry film resist
WO2005064402A1 (en) * 2003-12-25 2005-07-14 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd. Negative photosensitive composition and negative photosensitive lithographic printing plate
EP1635219A1 (en) 2004-08-27 2006-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP3182204A1 (en) 2004-09-10 2017-06-21 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP1757984A1 (en) 2005-08-22 2007-02-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP2042532A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound
WO2009119610A1 (en) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 Process for producing lithographic printing plate
EP2131239A1 (en) 2008-05-29 2009-12-09 Fujifilm Corporation Processing liquid for lithographic printing plate development and method of producing lithographic printing plates
EP2128704A2 (en) 2008-05-29 2009-12-02 Fujifilm Corporation Processing Liquid for Lithographic Printing Plate Development and Method of Producing Lithographic Printing Plates
EP2157478A2 (en) 2008-08-22 2010-02-24 Fujifilm Corporation Method of producing lithographic printing plate
WO2010021364A1 (en) 2008-08-22 2010-02-25 富士フイルム株式会社 Process for producing lithographic printing plate
EP2159640A1 (en) 2008-08-29 2010-03-03 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
WO2013039235A1 (en) 2011-09-15 2013-03-21 富士フイルム株式会社 Method for recycling wastewater produced by plate-making process
WO2013065853A1 (en) 2011-11-04 2013-05-10 富士フイルム株式会社 Method for recycling plate-making processing waste solution

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