JPH01293543A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH01293543A
JPH01293543A JP12444488A JP12444488A JPH01293543A JP H01293543 A JPH01293543 A JP H01293543A JP 12444488 A JP12444488 A JP 12444488A JP 12444488 A JP12444488 A JP 12444488A JP H01293543 A JPH01293543 A JP H01293543A
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JP
Japan
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semiconductor element
ring
gate
cathode
electrode
Prior art date
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Pending
Application number
JP12444488A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Niwayama
和彦 庭山
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To effectively prevent a GK short-circuit without increasing its cost by fitting a guide ring for positioning a semiconductor element by fitting on the element, on a gate ring. CONSTITUTION:In a semiconductor device having a semiconductor element 1 including a gate electrode on the outer periphery of its one side face, a cathode electrode on the inner periphery and an anode electrode on the other side face, a cathode conductor 2 so pressed as to be brought into contact only with the cathode electrode, an anode conductor 3 integrated with the conductor 2 through an insulator 6 and so pressed as to be brought into contact with the anode electrode, a gate ring 8 fitted on in a state electrically insulated from the conductor 2 and so pressed as to be brought into contact only with the gate electrode, a control signal transmitting member 13 for transmitting a control signal to the gate electrode through the ring 8, and a guide ring 15 for positioning the element 1 by fitting on the element 1, the ring 15 is fitted on the ring 8.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体エレメントの片面の外周域に形成さ
れたゲート電極にゲートリングを押し当て、ゲートリン
グを介して制御信号をゲート電極に伝達するように構成
された半導体装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention involves pressing a gate ring against a gate electrode formed on the outer periphery of one side of a semiconductor element, and transmitting a control signal to the gate electrode via the gate ring. The present invention relates to a semiconductor device configured to do so.

(従来の技術) 第2図は、この種の半導体装置の従来例の1つを示す縦
断面図である。図において、半導体エレメント1は円板
状をなし、導電材料からなり陽極電極を兼ねる補強板1
aの上に半導体基板1bを適当なろう材で接着して構成
されている。半導体基板1bの上面は、適当な金属によ
って図示しないグー1−電極と陰極電極とを外周域と内
周域に分割して形成した陰極面とされ、補強板1aの下
面は半導体エレメント1の陰極面とされている。この半
導体エレメント1の陰極面側には、導電材料からなり概
形が円板状の陰極導電体2が上記した陰極電極にのみ電
気的に接触するように押し付けられている。また半導体
エレメント1の陽極面側には、導電材料からなり概形が
円板状の陰極導電体3が上記したl!lii極電極に電
気的に接触するように押し付けられている。陰極導電体
2の外周には陰極7ランジ4が設(lられる一方、陽極
導電体3の外周にも陽極7ランジ5が設けられ、この陰
極フランジ4と陽極フランジ5とを絶縁筒体6で結合す
ることによって、陰極導電体2と陽橿導゛電体3とは電
気的な絶縁状態を保った状態で一体に連結されている。
(Prior Art) FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing one of the conventional examples of this type of semiconductor device. In the figure, a semiconductor element 1 has a disk shape, and a reinforcing plate 1 made of a conductive material and also serving as an anode electrode.
It is constructed by bonding a semiconductor substrate 1b onto a with a suitable brazing material. The upper surface of the semiconductor substrate 1b is a cathode surface formed by dividing a goo electrode (not shown) and a cathode electrode into an outer peripheral region and an inner peripheral region using a suitable metal, and the lower surface of the reinforcing plate 1a is a cathode surface of the semiconductor element 1. It is said to be a face. On the cathode surface side of the semiconductor element 1, a cathode conductor 2 made of a conductive material and having a generally circular disk shape is pressed so as to be in electrical contact only with the above cathode electrode. Further, on the anode surface side of the semiconductor element 1, there is a cathode conductor 3 made of a conductive material and having a generally disk shape as described above. lii is pressed into electrical contact with the electrode. A cathode 7 flange 4 is provided on the outer periphery of the cathode conductor 2, and an anode 7 flange 5 is also provided on the outer periphery of the anode conductor 3. By coupling, the cathode conductor 2 and the positive conductor 3 are integrally connected while maintaining an electrically insulated state.

陰極導電体2の下半部外周には絶縁部材7を介して導電
材料からなるゲートリング8が外嵌めされている。この
ゲートリング8は、陰極導電体2の外周に設けられた平
座金9,10で支持されているばね11によって半導体
エレメント1の陰極面に押し付けられ、これによって陰
極面のゲート電極に対してゲートリング8が電気的接触
を保つように構成されている。平座金10とゲートリン
グ8との間には絶縁部材12が介挿されており、この絶
縁部材12と上記した絶縁部材7とによってゲートリン
グ8と陰極導電体2との間が電気的に絶縁されている。
A gate ring 8 made of a conductive material is fitted onto the outer periphery of the lower half of the cathode conductor 2 with an insulating member 7 interposed therebetween. This gate ring 8 is pressed against the cathode surface of the semiconductor element 1 by a spring 11 supported by flat washers 9 and 10 provided on the outer periphery of the cathode conductor 2, so that the gate ring 8 is pressed against the cathode surface of the semiconductor element 1. A ring 8 is configured to maintain electrical contact. An insulating member 12 is inserted between the flat washer 10 and the gate ring 8, and this insulating member 12 and the above-mentioned insulating member 7 provide electrical insulation between the gate ring 8 and the cathode conductor 2. has been done.

またゲートリング8は、ゲートリード線13を介して外
部のゲート端子14に電気的に接続され、ゲート端子1
4に与えられる制御信号を、ゲートリード線13゜ゲー
トリング8を通して半導体エレメント1のゲート電極に
伝達するように構成されている。さらに、陰極導電体2
の外周には絶縁材料からなるガイドリング15が外嵌め
して固定されており、このガイドリング15は同時に半
導体エレメント1に対しても外嵌めされ、これによって
半導体エレメント1を位置決めするように構成されてい
る。
Further, the gate ring 8 is electrically connected to an external gate terminal 14 via a gate lead wire 13.
4 is configured to be transmitted to the gate electrode of the semiconductor element 1 through the gate lead wire 13° and the gate ring 8. Furthermore, the cathode conductor 2
A guide ring 15 made of an insulating material is fitted and fixed on the outer periphery of the semiconductor element 1, and the guide ring 15 is also fitted onto the semiconductor element 1 at the same time, thereby positioning the semiconductor element 1. ing.

従来の半導体装置は上記のように構成され、陰極導電体
2を半導体エレメント1の陰極面に、また陽極導電体3
を半導体エレメント1の陰極面に所定の圧力で押し当て
て半導体エレメント1と電気的接触を保ち、陰極導電体
2と陽極導電体3の間に適当な電圧を印加した状態で、
ゲート端子14からゲートリード線13.ゲートリング
8を介して半導体エレメント1のゲート電極に制御信号
としてftII制御電流を流すことによって、その制w
J電流に応じて陰極導電体2と陽極導電体3の間に流れ
る電流が制御される。この動作が行われるためには、ゲ
ートリング8が半導体エレメント1のゲート電極に正し
く接触していなければならない。
A conventional semiconductor device is constructed as described above, with a cathode conductor 2 on the cathode surface of the semiconductor element 1 and an anode conductor 3 on the cathode surface of the semiconductor element 1.
is pressed against the cathode surface of the semiconductor element 1 with a predetermined pressure to maintain electrical contact with the semiconductor element 1, and with an appropriate voltage applied between the cathode conductor 2 and anode conductor 3,
From the gate terminal 14 to the gate lead wire 13. By flowing an ftII control current as a control signal to the gate electrode of the semiconductor element 1 via the gate ring 8, the control w is performed.
The current flowing between the cathode conductor 2 and the anode conductor 3 is controlled according to the J current. For this operation to occur, the gate ring 8 must be in proper contact with the gate electrode of the semiconductor element 1.

例えばゲートリング8が位置ずれして、半導体エレメン
ト1の陰極電極に接触しているものとすると、ゲート端
子14から与えられる制御11f流はゲートリング8か
ら半導体エレメント1内に伝達されないで、半導体エレ
メント1の陰!fi電権を通して陰極導電体2に伝わり
、ゲート電極・陰極電極間短絡(以下GKショートと呼
ぶ)を引き起し半導体装置は制御不能におちいる。この
半導体装置では、陰極導電体2に対する半導体エレメン
ト1の位H1係はガイドリンク15によって固定される
一方、ゲートリング8は陰極導電体2の外周に絶縁部材
7を介して外嵌めされていることがら、ゲートリング8
とゲート電極の間が正しい位置関係に固定されることに
なる。
For example, if the gate ring 8 is misaligned and comes into contact with the cathode electrode of the semiconductor element 1, the control flow 11f applied from the gate terminal 14 is not transmitted from the gate ring 8 into the semiconductor element 1, The shade of 1! The electric power is transmitted to the cathode conductor 2 through the fi electric power, causing a short circuit between the gate electrode and the cathode electrode (hereinafter referred to as a GK short), and the semiconductor device becomes uncontrollable. In this semiconductor device, the position H1 of the semiconductor element 1 relative to the cathode conductor 2 is fixed by the guide link 15, while the gate ring 8 is fitted around the outer periphery of the cathode conductor 2 via the insulating member 7. Gara, gate ring 8
The correct positional relationship is fixed between the gate electrode and the gate electrode.

第3図は、上記した半導体装置と基本的な構造が同じの
他の従来例(特開昭62−101072号公報)を示す
縦断面図である。この半導体装置の場合、ゲートリング
8とゲート電極の接触を半導体エレメント1の陰極面の
中心と外周域の中間の領域で行わせている点が上記した
半導体装置と異なるのみで、その他の構成および動作に
ついては同様であるので、その説明は省略する。
FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing another conventional example (Japanese Patent Application Laid-Open No. 101072/1983) which has the same basic structure as the above-described semiconductor device. This semiconductor device differs from the above-described semiconductor device only in that the contact between the gate ring 8 and the gate electrode is made in a region between the center and the outer peripheral region of the cathode surface of the semiconductor element 1, and other configurations and Since the operation is the same, the explanation thereof will be omitted.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしなから、上記した従来の半導体装置では、陰極導
電体2を介して半導体エレメント1とゲートリング8の
位置合せが行われているため、半導体エレメント1とゲ
ートリング8の間に、ガイドリング15.陰極導電体2
.絶縁部材7などの部品が介在し、これら各部品の製作
公差によって半導体エレメント1とゲートリング8の間
の位置関係に相当のずれが生じるおそれがあり、最悪の
場合にはGKショートを引き起すおそれがある。各部品
の製作公差を小さくすることによって、そのような最悪
の事態を回避することは可能であるが、そのためにはコ
ストが増大するという問題点があった。
However, in the conventional semiconductor device described above, since the semiconductor element 1 and the gate ring 8 are aligned through the cathode conductor 2, the guide ring 15 is placed between the semiconductor element 1 and the gate ring 8. .. Cathode conductor 2
.. Parts such as the insulating member 7 are interposed, and there is a risk that a considerable deviation will occur in the positional relationship between the semiconductor element 1 and the gate ring 8 due to the manufacturing tolerance of each of these parts, and in the worst case, there is a risk of causing a GK short circuit. There is. Although it is possible to avoid such a worst case scenario by reducing the manufacturing tolerances of each component, there is a problem in that this increases costs.

この発明は、このような問題点を解消するためになされ
たもので、コストを増大させることなく確実にGKショ
ートを防止することのできる半導体装置を得ることを目
的とする。
The present invention was made to solve these problems, and aims to provide a semiconductor device that can reliably prevent GK short-circuiting without increasing cost.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

この発明に係る半導体装置は、片面がその外周域にゲー
ト電極を有し内周域に陰極電極を有する陰極面とされ、
他の片面が陽極電極を有する陽極面とされた半導体エレ
メントと、この半導体エレメントの陰極面側にその陰F
i電極にのみ接触するように押し当てられる陰極導電体
と、この陰極導電体と絶縁体を介して一体化され、半導
体エレメントの陽極面側にその陽極電極に接触するよう
に押し当てられる陽極導電体と、l!!穫導電導電体し
て電気的に絶縁した状態で外嵌めされ、半導体エレメン
トの陰極面側にそのゲート電極にのみ接触するように押
し当てられるゲートリングと、このゲートリングを介し
て半導体エレメントのゲート電極に制御信号を伝達する
制御信号伝達部材と、半導体エレメントに外嵌めされて
半導体エレメントを位置決めするカードリンクとを備え
た半導体装置であって、ガイドリングをゲートリングに
外嵌め固定している。
The semiconductor device according to the present invention has one side as a cathode surface having a gate electrode in its outer peripheral region and a cathode electrode in its inner peripheral region,
A semiconductor element whose other side is an anode surface having an anode electrode, and a cathode F on the cathode surface side of this semiconductor element.
A cathode conductor that is pressed so as to contact only the i-electrode, and an anode conductor that is integrated with this cathode conductor via an insulator and is pressed against the anode side of the semiconductor element so as to make contact with the anode electrode. Body and l! ! A gate ring is fitted onto the outside of the semiconductor element in an electrically insulated state as a conductive material, and is pressed against the cathode side of the semiconductor element so as to contact only the gate electrode thereof. This semiconductor device includes a control signal transmission member that transmits a control signal to an electrode, and a card link that is fitted onto the outside of a semiconductor element to position the semiconductor element, in which a guide ring is fitted and fixed onto a gate ring.

〔作用〕[Effect]

この発明においては、半導体エレメントを位置決めする
ガイドリングがゲートリングに直接固定されているので
、半導体エレメントとゲートリングの中間に介在する部
品はガイドリンクだけとなり、中間に介在する部品が少
ない分だけ部品の製作公差に起因してゲートリングと半
導体エレメントの間の位置関係に生じるずれが小さく抑
えられる。
In this invention, since the guide ring for positioning the semiconductor element is directly fixed to the gate ring, the only part interposed between the semiconductor element and the gate ring is the guide link, and the number of parts interposed between the semiconductor element and the gate ring is reduced. Misalignment in the positional relationship between the gate ring and the semiconductor element due to manufacturing tolerances can be kept small.

〔実施例〕〔Example〕

第1図はこの発明による半導体装置の一実施例を示す縦
断面図であり、1〜14は上記従来装置と全く同一のも
のである。この半導体装置では、ガイドリング15がゲ
ートリング8の外周に直接固定されている。ガイドリン
グ15は同時に半導体エレメント1に外嵌めされて、半
導体エレメント1を位置決めする構成およびその他の部
品の構成も従来装置の場合と同じである。
FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view showing one embodiment of a semiconductor device according to the present invention, and numerals 1 to 14 are completely the same as the conventional device described above. In this semiconductor device, the guide ring 15 is directly fixed to the outer periphery of the gate ring 8. The guide ring 15 is fitted onto the semiconductor element 1 at the same time, and the structure for positioning the semiconductor element 1 and the structure of other parts are also the same as in the conventional device.

この半導体装置では、半導体エレメント1を位置決めす
るガイドリング15がゲートリング8に直接固定されて
いるので、半導体エレメント1とゲートリング8の間の
位置関係を固定するためにこれらの中間に介在する部品
はガイドリング15だけとなり、したがって部品の製作
公差による半導体エレメント1とゲートリング8の間の
位置関係のずれはそれだけ小さく抑えられることになる
In this semiconductor device, since the guide ring 15 for positioning the semiconductor element 1 is directly fixed to the gate ring 8, parts intervening between the semiconductor element 1 and the gate ring 8 are used to fix the positional relationship between the semiconductor element 1 and the gate ring 8. There is only the guide ring 15, and therefore, the deviation in the positional relationship between the semiconductor element 1 and the gate ring 8 due to manufacturing tolerances of the parts can be suppressed to that extent.

例えば、半導体エレメント1の外径公差を0.1、ゲー
トリング8の内径公差を0,1、ガイドリング15の内
径公差を0.1とすると、半導体エレメント1とゲート
リング8の間の位置関係のずれは0.1+  0.1+
0.1=  0.3となる。これに対し、先述した従来
装置において、半導体エレメント1の外径公差を0.1
、ガイドリンク15の内径公差を0.1、陰極導電体2
の外径公差を0.1、絶縁部材7の厚み公差を0.トゲ
ートリング8の内径公差を0.1とすると、半導体エレ
メント1とゲートリング8の間の位置関係のずれは 0.1+ 0.1+ 0.1+、 0.1+  0.1
= 0.5となり、従来装置の場合に比べてこの実施例
の半導体装置の方が位置ずれが小さくなることがわかる
。すなわち、この実施例の半導体装置では、従来装置と
同じ加工精度で各部品を加工しても、従来装置の場合よ
り高精度な位置合せができることになる。
For example, if the outer diameter tolerance of the semiconductor element 1 is 0.1, the inner diameter tolerance of the gate ring 8 is 0.1, and the inner diameter tolerance of the guide ring 15 is 0.1, then the positional relationship between the semiconductor element 1 and the gate ring 8 is The deviation is 0.1+ 0.1+
0.1=0.3. On the other hand, in the conventional device described above, the outer diameter tolerance of the semiconductor element 1 is set to 0.1
, the inner diameter tolerance of the guide link 15 is 0.1, and the cathode conductor 2
The outer diameter tolerance of the insulating member 7 is 0.1, and the thickness tolerance of the insulating member 7 is 0.1. Assuming that the inner diameter tolerance of gate ring 8 is 0.1, the positional deviation between semiconductor element 1 and gate ring 8 is 0.1+ 0.1+ 0.1+, 0.1+ 0.1
= 0.5, and it can be seen that the positional deviation is smaller in the semiconductor device of this embodiment than in the case of the conventional device. That is, in the semiconductor device of this embodiment, even if each component is processed with the same processing accuracy as in the conventional device, alignment can be performed with higher precision than in the conventional device.

なお、この実施例の半導体装置の動作は従来装置と同様
であるので、ここではその説明は省略する。
Incidentally, since the operation of the semiconductor device of this embodiment is similar to that of the conventional device, the explanation thereof will be omitted here.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明によれば、半導体エレメントを
位置決めするガイドリングをゲートリングに直接固定し
たので、半導体エレメントとゲートリングの中間に介在
する部品がガイドリングだけとなり、中間に介在する部
品が少ない分だけ部品の製作公差に起因してゲートリン
グと半導体エレメントの間の位置関係に生じるずれが小
さくなって、位置合せの精度が高<GKショートを確実
に防止できる半導体装置を安価に製作できる。
As described above, according to the present invention, since the guide ring for positioning the semiconductor element is directly fixed to the gate ring, the guide ring is the only component interposed between the semiconductor element and the gate ring, and the intermediate component is As a result, the deviation that occurs in the positional relationship between the gate ring and the semiconductor element due to the manufacturing tolerance of the parts is reduced, and it is possible to manufacture semiconductor devices at low cost with high alignment accuracy and reliably preventing GK shorts. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明による半導体装置の一実施例を示す縦
断面図、第2図は従来の半導体装置の一例を示す縦断面
図、第3図は従来の半導体装置の他の例を示す縦断面図
である。 図において、1は半導体エレメント、2は陰極導電体、
3は陽極導電体、6は絶縁筒体、7は絶縁部材、8はゲ
ートリング、13はゲートリード線、15はガイドリン
グである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人   大  岩  増  雄 第1図 1 °手11下エレメ〉ト 2:鵡纂電坏 3:輌真電傑 7:列間 8:ケ°−トリ〉ゲ 13:ケ“−トリード機 15:fイドリシゲ
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing an embodiment of a semiconductor device according to the present invention, FIG. 2 is a vertical cross-sectional view showing an example of a conventional semiconductor device, and FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing another example of a conventional semiconductor device. It is a front view. In the figure, 1 is a semiconductor element, 2 is a cathode conductor,
3 is an anode conductor, 6 is an insulating cylinder, 7 is an insulating member, 8 is a gate ring, 13 is a gate lead wire, and 15 is a guide ring. Note that the same reference numerals in each figure indicate the same or corresponding parts. Agent Masuo Oiwa 1st figure 1 ° hand 11 lower element〉to 2: 絡纂 睏3: 輌shin denketsu 7: inter-row 8: kettoli〉ge 13: ke“-toread machine 15: f Idrishige

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)片面がその外周域にゲート電極を有し内周域に陰
極電極を有する陰極面とされ、他の片面が陽極電極を有
する陽極面とされた半導体エレメントと、この半導体エ
レメントの陰極面側にその陰極電極にのみ接触するよう
に押し当てられる陰極導電体と、この陰極導電体と絶縁
体を介して一体化され、前記半導体エレメントの陽極面
側にその陽極電極に接触するように押し当てられる陽極
導電体と、前記陰極導電体に対して電気的に絶縁した状
態で外嵌めされ、前記半導体エレメントの陰極面側にそ
のゲート電極にのみ接触するように押し当てられるゲー
トリングと、このゲートリングを介して前記半導体エレ
メントのゲート電極に制御信号を伝達する制御信号伝達
部材と、前記半導体エレメントに外嵌めされて半導体エ
レメントを位置決めするカードリンクとを備えた半導体
装置において、 前記ガイドリングを前記ゲートリングに外嵌め固定した
ことを特徴とする半導体装置。
(1) A semiconductor element in which one side is a cathode surface having a gate electrode in its outer peripheral area and a cathode electrode in its inner peripheral area, and the other side is an anode surface having an anode electrode, and the cathode surface of this semiconductor element. A cathode conductor is pressed to the side so as to contact only the cathode electrode, and a cathode conductor is integrated with the cathode conductor via an insulator, and is pressed to the anode side of the semiconductor element so as to contact the anode electrode. a gate ring which is fitted onto the cathode conductor in an electrically insulated state and which is pressed against the cathode surface side of the semiconductor element so as to contact only the gate electrode thereof; A semiconductor device comprising: a control signal transmission member that transmits a control signal to a gate electrode of the semiconductor element via a gate ring; and a card link that is fitted onto the semiconductor element to position the semiconductor element; A semiconductor device, characterized in that the semiconductor device is externally fitted and fixed to the gate ring.
JP12444488A 1988-05-20 1988-05-20 Semiconductor device Pending JPH01293543A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5543363A (en) * 1992-04-28 1996-08-06 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Process for adhesively attaching a semiconductor device to an electrode plate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5543363A (en) * 1992-04-28 1996-08-06 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Process for adhesively attaching a semiconductor device to an electrode plate

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