JPH01292737A - Secondary electron multiplying device - Google Patents

Secondary electron multiplying device

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JPH01292737A
JPH01292737A JP63122443A JP12244388A JPH01292737A JP H01292737 A JPH01292737 A JP H01292737A JP 63122443 A JP63122443 A JP 63122443A JP 12244388 A JP12244388 A JP 12244388A JP H01292737 A JPH01292737 A JP H01292737A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
secondary electron
channel
output end
electron multiplier
sectional area
Prior art date
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Application number
JP63122443A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Yamamoto
宏 山本
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH01292737A publication Critical patent/JPH01292737A/en
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Abstract

PURPOSE:To make a channel wall obtain a broad linearity and a high multiplication gain by making the cross sectional area near an output end of a multiplied secondary electron smaller than the cross sectional area near an input end which emits a secondary electron against an incidence of a charged particle. CONSTITUTION:In a secondary electron multiplying device equipped with a secondary multiplier 2 having a cylindrical channel 2b made up of semiconductor material which can emit a secondary electron, the channel 2b of the secondary electron multiplier 2 is formed such that the cross sectional area near an output end 2c which outputs a multiplied secondary electron is made smaller than that near an input end which emits a secondary electron against incidence of a charged particle. Thereby, the wall of the channel 2b functions as a secondary electron multiplied face, and also as a kind of bleeder resistance with the result that the resistance of the channel 2b become greater at the output end 2c side and a field strength becomes greater than that of any other portion so that an increase in the space charge density of a secondary electron can be controlled. Accordingly, a linearity can be obtained until a high output region in case of application to current amplification and a large gain can be obtained until a high counting rate in case of application to pulse count.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は2次電子増倍装置に関し、より詳しくは、2次
電子放出能を有する半導体材料で形成されてなる筒状の
チャンネルを有する2次電子増倍管から出力する2次電
子を検出して空間中のイオンや電子を検出する2次電子
増倍装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a secondary electron multiplier, and more particularly, to a secondary electron multiplier having a cylindrical channel made of a semiconductor material having a secondary electron emitting ability. The present invention relates to a secondary electron multiplier that detects ions and electrons in space by detecting secondary electrons output from a secondary electron multiplier.

[従来の技術] 近年、宇宙空間に存在するイオンや電子を検出する装置
、あるいは各種のイオンや原子の質量を分析する質量分
析計等においては、2次電子放出能を有する半導体材料
を筒状に形成した2次電子増倍管を使用し、イオンや電
子を検出する装置等に直接、取り付けて使用することが
できる、いわゆるチャンネルエレクトロンマルチプライ
ヤと呼ばれる2次電子増倍装置が使用されている。
[Prior Art] In recent years, devices for detecting ions and electrons existing in outer space, or mass spectrometers for analyzing the mass of various ions and atoms, have been using semiconductor materials with secondary electron emitting ability in a cylindrical shape. A secondary electron multiplier device called a channel electron multiplier is used, which uses a secondary electron multiplier tube formed in .

この種の2次電子増倍装置は、2次電子増倍管内で発生
した2次電子を電界をかけて引っ張りながら増倍するも
のであるから、2次電子増倍管のイオンや電子等が入射
する入射端が陰極に、出力端が陽極になる。そして、2
次電子増倍装置では、2次電子増倍管の陽極を接地して
使用するか、陰極を接地して使用するかにより、陽極接
地方式と陰極接地方式の2つの接地方式がある。
This type of secondary electron multiplier multiplies the secondary electrons generated in the secondary electron multiplier by applying an electric field and pulling them, so the ions, electrons, etc. in the secondary electron multiplier are The input end becomes the cathode, and the output end becomes the anode. And 2
In secondary electron multipliers, there are two grounding methods: an anode grounding method and a cathode grounding method, depending on whether the anode of the secondary electron multiplier tube is grounded or the cathode is grounded.

正(プラス)の電荷を持った正(プラス)イオンの検出
には、第5図に示すような陽極接地方式が使用される。
To detect positively charged ions, an anode grounding method as shown in FIG. 5 is used.

上記2次電子増倍装置は、2次電子放出能を有するチタ
ン酸亜鉛系のセラミックからなる半導体材料を筒状に形
成してなるチャンネル2bを有し、一端側に正(プラス
)イオンiが入射する入射端を構成しているコーン状部
2aの外周面に陰極1を形成してなる2次電子増倍管2
を備えている。そして、この2次電子増倍管2のチャン
ネル2bの出力端から0.51IIないし1 、 OL
llmのギャップgをおいて円形の金属板からなるコレ
クタ3を配置し、上記陰極1にアースに対して一3KV
ないし一4KVの高電圧EHを印加する一方、2次電子
増倍管2の他端側に形成された陽極4にアースに対して
一+00Vないし一200Vの加速電圧ELを印加し、
この加速電圧ELで増倍電流を上記コレクタ3に集める
ようにしている。陽極4に印加される加速電圧ELは、
上記陽極4とアースとの間に接続された金属皮膜もしく
はカーボン等の抵抗Rによる電圧降下により得ている。
The secondary electron multiplier has a channel 2b made of a cylindrical semiconductor material made of zinc titanate ceramic having secondary electron emission ability, and has a channel 2b in which positive (plus) ions i are formed on one end side. A secondary electron multiplier tube 2 in which a cathode 1 is formed on the outer peripheral surface of a cone-shaped portion 2a constituting an input end.
It is equipped with Then, from the output end of channel 2b of this secondary electron multiplier tube 2, 0.51II to 1, OL
A collector 3 made of a circular metal plate is arranged with a gap g of 1.1 m, and a voltage of -3 KV is applied to the cathode 1 with respect to the ground.
While applying a high voltage EH of 1 to 14 KV, an accelerating voltage EL of 1+00 V to 1200 V relative to the ground is applied to the anode 4 formed on the other end side of the secondary electron multiplier tube 2.
The multiplication current is collected in the collector 3 using this acceleration voltage EL. The accelerating voltage EL applied to the anode 4 is
The voltage is obtained by a voltage drop caused by a resistor R such as a metal film or carbon connected between the anode 4 and the ground.

コレクタ3にて集められる出力2次電子流は上記コレク
タ3とアースの間に生じる浮遊容量Csにチャージされ
、チャージされた電荷は負荷抵抗R1を通して放電され
、このとき負荷抵抗町の両端に生じる電圧は前置増幅器
5にて増幅される。
The output secondary electron current collected by the collector 3 is charged to the stray capacitance Cs generated between the collector 3 and the ground, and the charged charge is discharged through the load resistor R1, and at this time, a voltage is generated across the load resistor. is amplified by the preamplifier 5.

上記では、陽極4に印加される加速電圧E、は、陽極4
とアースとの間に接続された抵抗Rによる電圧降下によ
り得ているが、上記加速電圧Et、は、第6図に示すよ
うに、陽極4とアースとの間に加速電圧Et、の印加用
の直流電源Eaが接続されることもある。
In the above, the acceleration voltage E applied to the anode 4 is
The accelerating voltage Et is obtained by the voltage drop caused by the resistor R connected between the anode 4 and the ground, but the acceleration voltage Et is applied between the anode 4 and the ground as shown in FIG. A DC power source Ea may be connected.

一方、負(マイナス)の電荷を持っている電子の検出に
は、第7図に示すような陰極接地方式が使用される。
On the other hand, to detect negatively charged electrons, a cathode grounding method as shown in FIG. 7 is used.

陰極接地方式では、陰極1が直接、接地されるが、直流
電源Ebにより、比較的低い正(プラス)の直流電圧が
印加される。この陰極接地方式では、コレクタ3はアー
スに対して正(プラス)の高電位になるので、コレクタ
3と前置増幅器5との間には、直流阻止用のカップリン
グコンデンサCが挿入される。この陰極接地方式でも、
加速電圧Ebの印加用の直流電源Eaに代えて、抵抗(
図示せず。
In the cathode grounding type, the cathode 1 is directly grounded, but a relatively low positive DC voltage is applied by the DC power supply Eb. In this cathode grounding type, the collector 3 has a positive (plus) high potential with respect to the ground, so a coupling capacitor C for DC blocking is inserted between the collector 3 and the preamplifier 5. Even with this cathode grounding method,
Instead of the DC power supply Ea for applying the acceleration voltage Eb, a resistor (
Not shown.

)が接続されることもある。) may also be connected.

[発明が解決しようとする課題] ところで、上記第5図、第6図および第7図の2次電子
増倍装置において、2次電子増倍管2のチャンネル2b
の壁は2次電子増倍面として働くとともに、多段型2次
電子増倍装置におけるブリーダ抵抗のように働き、−様
な抵抗値分布を持っている。このような2次電子増倍装
置において、上記第5図、第6図および第7図のものと
異なり、チャンネル2bの形状が直線状の場合には、大
きな増倍利得を得るために動作電圧を大きくすると、イ
オンフィードバック現象が発生して動作が不安定になる
という欠点が見られた。また、この現象は動作真空圧力
を高くすればするほど、つまり低真空になればなるほど
顕著になって現れることが確認されている。
[Problems to be Solved by the Invention] By the way, in the secondary electron multiplier shown in FIGS. 5, 6, and 7, the channel 2b of the secondary electron multiplier 2
The wall functions as a secondary electron multiplier surface and also acts like a bleeder resistor in a multistage secondary electron multiplier, and has a -like resistance value distribution. In such a secondary electron multiplier, unlike those shown in FIGS. 5, 6, and 7 above, when the channel 2b has a linear shape, the operating voltage is increased to obtain a large multiplication gain. A disadvantage was found that when increasing the value, an ion feedback phenomenon occurred and the operation became unstable. It has also been confirmed that this phenomenon becomes more pronounced as the operating vacuum pressure becomes higher, that is, as the vacuum becomes lower.

このため、チャンネル2bの外形形状を第5図。For this reason, the external shape of the channel 2b is shown in FIG.

第6図および第7図のような波形、スパイラル形、円弧
形などとし、イオンフィードバック現象を抑えることが
行なわれている。このような形状にしても真空圧力をよ
り高くして動作させたり、増倍利得を高める目的で動作
電圧を大きくしたりすると、2次電子増倍管2のチャン
ネル2bの出力端付近では、チャンネル2bで増倍され
た2次電子か集中して高い空間電荷密度となり、一部の
2次電子がチャンネル2bの入力端側にもどってやはり
イオンフィードバック現象が発生したり、上記の高い密
度の空間電荷に上り増倍利得が低下するという問題があ
った。
The ion feedback phenomenon is suppressed by using a waveform as shown in FIGS. 6 and 7, a spiral shape, an arc shape, etc. Even with this shape, when operating at a higher vacuum pressure or increasing the operating voltage for the purpose of increasing the multiplication gain, the channel near the output end of channel 2b of the secondary electron multiplier 2 The secondary electrons multiplied in channel 2b concentrate and become high space charge density, and some of the secondary electrons return to the input end side of channel 2b, resulting in an ion feedback phenomenon, or the above-mentioned high density space There is a problem in that the multiplication gain decreases due to the increase in charge.

本発明の目的は、電流増幅用のものでは広い直線性を有
し、また、パルスカウント用のものでは高計数率まで高
い増倍利得を有するとともに、イオンフィードバックが
発生しにくい2次電子増倍装置を提供することである。
The purpose of the present invention is to provide a secondary electron multiplication system that has wide linearity in current amplification devices, high multiplication gain up to high counting rates in pulse count devices, and secondary electron multiplication that prevents ion feedback from occurring. The purpose is to provide equipment.

[課題を解決するための手段] このため、本発明は、2次電子放出能を有する半導体材
料よりなる筒状のチャンネルを有する2次電子増倍管を
備えてなる2次電子増倍装置において、上記チャンネル
の壁は増倍された2次電子を出力する出力端付近の断面
積が荷電粒子の入射に対して2次電子を放出する入力端
付近の断面積よりも小さくなっていることを特徴として
いる。
[Means for Solving the Problems] Therefore, the present invention provides a secondary electron multiplier comprising a secondary electron multiplier having a cylindrical channel made of a semiconductor material having secondary electron emission ability. , the cross-sectional area of the wall of the channel near the output end where multiplied secondary electrons are output is smaller than the cross-sectional area near the input end where secondary electrons are emitted in response to the incidence of charged particles. It is a feature.

[作用] 上記2次電子増倍管のチャンネルの壁は、2次電子増倍
面として機能するとともに、一種のブリーダ抵抗として
機能している。そしてその断面積に応じた抵抗値分布を
有している。また、上記チャンネルの出力端側の断面積
が入力端側の断面積よりも小さくなっているので、チャ
ンネルが有している抵抗は、チャンネルの入力端側より
も出力端側で大きくなる。これにより、チャンネルの出
力端側での電界強度が他の部分よりも大きくなり、チャ
ンネルの出力端側での2次電子の空間電荷密度の増加が
抑えられる。
[Function] The wall of the channel of the secondary electron multiplier tube functions as a secondary electron multiplier surface and also functions as a kind of bleeder resistance. It has a resistance value distribution according to its cross-sectional area. Further, since the cross-sectional area of the channel on the output end side is smaller than the cross-sectional area on the input end side, the resistance of the channel is larger on the output end side than on the input end side of the channel. As a result, the electric field strength on the output end side of the channel becomes larger than on other parts, and an increase in the space charge density of secondary electrons on the output end side of the channel is suppressed.

[発明の効果] 本発明によれば、2次電子増倍管のチャンネルの出力端
側での電界強度が他の部分よりも大きくなり、チャンネ
ルの出力端側での2次電子の空間電荷密度の増加が抑え
られるので、電流増幅用の2次電子増倍装置では、高出
力域まで直線性を、また、パルスカウント用の2次電子
増倍装置では高計数率まで高い利得を夫々得ることがで
きる一方、チャンネルの出力端側から入力端側にイオン
が戻るのが抑えられ、イオンフィードバックも抑えられ
る。
[Effects of the Invention] According to the present invention, the electric field strength at the output end side of the channel of the secondary electron multiplier becomes larger than other parts, and the space charge density of secondary electrons at the output end side of the channel decreases. This suppresses the increase in current amplification, so secondary electron multipliers for current amplification can achieve linearity up to a high output range, and secondary electron multipliers for pulse counting can achieve high gain up to high counting rates. At the same time, ions are prevented from returning from the output end of the channel to the input end, and ion feedback is also suppressed.

[実施例] 以下、添付の図面を参照して本発明の詳細な説明する。[Example] Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

本発明は、たとえば第5図、第6図および第7図におい
て説明した2次電子増倍装置において、増倍された2次
電子を出力する出力端付近の断面積が荷電粒子の入射に
対して2次電子を放出する入力端付近の断面積よりも小
さくなるように、2次電子増倍管2のチャンネル2bを
形成したものである。
The present invention provides, for example, in the secondary electron multiplier explained in FIGS. 5, 6, and 7, the cross-sectional area near the output end that outputs multiplied secondary electrons is The channel 2b of the secondary electron multiplier 2 is formed so as to be smaller than the cross-sectional area near the input end where the secondary electrons are emitted.

本発明に係る2次電子増倍装置の2次電子増倍管2の具
体的な構成を第1図および第2図に示す。
A specific configuration of the secondary electron multiplier tube 2 of the secondary electron multiplier according to the present invention is shown in FIGS. 1 and 2.

第1図の2次電子増倍管2は、そのチャンネル2bの壁
の厚さは一定であるが、チャンネル2bの出力端の近く
から出力端にかけての出力端部分2Cの径が他の部分の
径よりも小さくなるようにしたものである。
In the secondary electron multiplier 2 shown in FIG. 1, the thickness of the wall of the channel 2b is constant, but the diameter of the output end portion 2C from near the output end of the channel 2b to the output end is larger than that of the other portions. It is designed to be smaller than the diameter.

第2図の2次電子増倍管2は、また、そのチャンネル2
bはその壁の厚さは一定であるが、入力端側から出力端
側に向かって、その径が漸減するようにしたものである
The secondary electron multiplier 2 in FIG.
b has a constant wall thickness, but its diameter gradually decreases from the input end to the output end.

上記2次電子増倍管2のチャンネル2bの壁は、2次電
子増倍而として機能するとともに、その断面積に応じた
抵抗値分布を有している。そして、上記チャンネル2b
の出力端側の断面積が入力端側の断面積よりも小さくな
っているので、出力端側の単位長さ当たりの抵抗値は他
の部分の単位長さ当たりの抵抗値よりも大きくなる。こ
れにより、2次電子増倍管2のチャンネル2bの入力端
側の電界強度E1に比較して、出力端側の電界強度E。
The wall of the channel 2b of the secondary electron multiplier 2 functions as a secondary electron multiplier and has a resistance value distribution according to its cross-sectional area. And the above channel 2b
Since the cross-sectional area on the output end side is smaller than the cross-sectional area on the input end side, the resistance value per unit length on the output end side is larger than the resistance value per unit length on the other parts. As a result, the electric field strength E on the output end side of the channel 2b of the secondary electron multiplier 2 is higher than the electric field strength E1 on the input end side.

が強くなり、チャンネルの出力端側での2次電子の空間
電荷密度の増加が抑えられる。よって、イオンフィード
バックが抑えられる一方、高出力まで直線性が保たれ、
かつ、高計数率まで高い利得が維持される。なお、上記
実施例において、チャンネル2bの壁の厚みが出力端側
で他の部分よりも小さくなっていてもよい。
becomes stronger, and an increase in the space charge density of secondary electrons on the output end side of the channel is suppressed. Therefore, while ion feedback is suppressed, linearity is maintained up to high output,
Moreover, a high gain is maintained up to a high counting rate. In the above embodiment, the thickness of the wall of the channel 2b may be smaller on the output end side than on other parts.

ちなみに、2次電子増倍管として第3図のような直線状
のものを用い、管の内径は全長にわたり1.0mg+、
外径はA点、B点とも4.0膳lのもの(従来例)、お
よびA点を4.Oes、B点を3.0allとしたもの
(本発明)を用いて利得特性とイオンフィードバックに
ついて調べた。
By the way, we used a linear secondary electron multiplier tube as shown in Figure 3, and the inner diameter of the tube was 1.0 mg + over the entire length.
The outer diameter of both points A and B is 4.0 mm (conventional example), and the outer diameter of point A is 4.0 mm. The gain characteristics and ion feedback were investigated using a device with Oes and point B set to 3.0all (the present invention).

第4図は利得特性を示したものであり、10”cpsの
ときの利得をGoとし、それ以上のカウント数での利得
をGとしたときの利得をG / G oで表し、カウン
ト数を変化させたときの傾向を示している。この第4図
から明らかなように、本発明によるものの方が従来例に
比べて直線性が良く、入力−出力のダイナミックレンジ
の広いことがわかる。また、電流増幅時での計測におい
て、l1n−E out特性を調べた場合においても、
本発明の方が直線性が良好であった。
Figure 4 shows the gain characteristics, where the gain at 10" cps is Go, the gain at higher counts is G, the gain is expressed as G / Go, and the count is expressed as The graph shows the tendency when the output voltage is changed.As is clear from FIG. 4, the linearity of the device according to the present invention is better than that of the conventional example, and the input-output dynamic range is wider. , even when examining the l1n-E out characteristics in measurements during current amplification,
The linearity of the present invention was better.

第1表は電圧を変化させたときのイオンフィードバック
の頻度を示したものであり、本発明の方が従来例に比べ
てイオンフィードバックの抑制効果が大きく、それも高
電圧になるほど効果の大きいことがわかる。
Table 1 shows the frequency of ion feedback when changing the voltage, and the present invention has a greater effect of suppressing ion feedback than the conventional example, and the higher the voltage, the greater the effect. I understand.

第1表Table 1

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は夫々本発明に係る2次電子増倍装
置の2次電子増倍管の一部破断正面図、第3図は2次電
子増倍管の具体例の説明図である。 第4図は増倍利得特性図である。 第5図、第6図および第7図は夫々従来の2次電子増倍
装置の説明図である。 2・・・2次電子増倍管、2a・・・コーン部、2b・
・・チャンネル、2C・・・出力端部分。 特許出願人 株式会社村田製作所
1 and 2 are partially cutaway front views of a secondary electron multiplier of a secondary electron multiplier according to the present invention, and FIG. 3 is an explanatory diagram of a specific example of the secondary electron multiplier. be. FIG. 4 is a multiplication gain characteristic diagram. FIG. 5, FIG. 6, and FIG. 7 are explanatory diagrams of conventional secondary electron multipliers, respectively. 2... Secondary electron multiplier tube, 2a... Cone part, 2b...
...Channel, 2C...Output end part. Patent applicant Murata Manufacturing Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)2次電子放出能を有する半導体材料よりなる筒状
のチャンネルを有する2次電子増倍管を備えてなる2次
電子増倍装置において、上記チャンネルの壁は増倍され
た2次電子を出力する出力端付近の断面積が荷電粒子の
入射に対して2次電子を放出する入力端付近の断面積よ
りも小さくなつていることを特徴とする2次電子増倍装
置。
(1) In a secondary electron multiplier comprising a secondary electron multiplier tube having a cylindrical channel made of a semiconductor material having secondary electron emitting ability, the wall of the channel is formed by the multiplied secondary electrons. 1. A secondary electron multiplier characterized in that a cross-sectional area near an output end that outputs secondary electrons is smaller than a cross-sectional area near an input end that emits secondary electrons in response to incidence of charged particles.
JP63122443A 1988-05-19 1988-05-19 Secondary electron multiplying device Pending JPH01292737A (en)

Priority Applications (1)

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JP63122443A JPH01292737A (en) 1988-05-19 1988-05-19 Secondary electron multiplying device

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0794139A (en) * 1991-07-01 1995-04-07 Intevac Inc Microchannel plate for limiting feedback
JP2002520798A (en) * 1998-07-16 2002-07-09 パーキンエルマー オプトエレクトロニクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Photodetector and manufacturing method thereof
JP2007520048A (en) * 2004-02-02 2007-07-19 アイティティ マニュファクチュアリング エンタープライジズ インコーポレイテッド Parallel plate electron multiplier with suppressed ion feedback

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