JPH01285927A - Exposure controller for camera - Google Patents

Exposure controller for camera

Info

Publication number
JPH01285927A
JPH01285927A JP63116724A JP11672488A JPH01285927A JP H01285927 A JPH01285927 A JP H01285927A JP 63116724 A JP63116724 A JP 63116724A JP 11672488 A JP11672488 A JP 11672488A JP H01285927 A JPH01285927 A JP H01285927A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
center
photometery
photometry
exposure
metering
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63116724A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2535798B2 (en
Inventor
Toshihiro Sato
利弘 佐藤
Tadao Takagi
忠雄 高木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP63116724A priority Critical patent/JP2535798B2/en
Priority to US07/346,403 priority patent/US4972222A/en
Publication of JPH01285927A publication Critical patent/JPH01285927A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2535798B2 publication Critical patent/JP2535798B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure Control For Cameras (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent a finished picture from becoming extremely less exposed by substituting an exposure value for a prescribed value if the exposure value of an object with high brightness exceeds the prescribed one when a camera side automatically switches from divided photometery to center-emphasis photometery. CONSTITUTION:The title device is provided with a selecting means 7 capable of selecting a photometeric means 3 in terms of divided photometery and center- emphasis photometery through external selecting operation, a deciding means 8 deciding whether the divided photometery made by the photometeric means 3 can be possible or not based on at least information on a photographing lens. Even if the divided photometery is selected, operation is automatically switched to the center-emphasis photometery according to said information. When the exposure value obtained by calculating through the center-emphasis photometery exceeds the prescribed value, it is substituted for the prescribed value. Thus, the divided photometery and the center-emphasis photometery can be automatically switched, and the current operation is switched to the center-emphasis photometery. Hence, extremely less exposure can be prevented even if a high brightness object is photographed.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、分割測光と中央重点測光とが選択可能なカメ
ラの露出制御装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an exposure control device for a camera that can select between split metering and center-weighted metering.

(従来の技術) 従来のカメラの露出制御装置は、撮影レンズを介して入
射する光束を測光し、被写界(画面)を少なくとも中央
部と周辺部とに分割して測光する分割測光と、被写界の
中央部を測光する中央重点測光とが可能な測光手段をカ
メラのファインダー内に具備し、分割測光と中央重点測
光とが、任意に撮影者の外部選択操作により選択可能な
ように構成されている。
(Prior Art) A conventional exposure control device for a camera measures the light flux incident through the photographic lens, and divides the field (screen) into at least a central part and a peripheral part. The camera's viewfinder is equipped with a metering device capable of center-weighted metering, which measures the center of the subject, and allows the photographer to select between split metering and center-weighted metering by external selection. It is configured.

(発明の解決しようとする問題点) 上記の如き従来の技術においては、撮影者が任意に分割
測光と中央重点測光とを選択できるので、例えば分割測
光を選択した場合に、撮影レンズ鏡筒が超望遠レンズで
あって、開放F値が大きく暗いレンズであると以下のよ
うな問題が生しる。すなわち、暗いレンズである為に、
測光手段の受光素子受光面の周辺部には、被写界からの
光束がケラレ等の影響により一部入射されずに、分割測
光が適正に行われなす、分割測光による露出値が不適正
な値となってしまう問題点がある。
(Problems to be Solved by the Invention) In the conventional technology as described above, since the photographer can arbitrarily select between split metering and center-weighted metering, for example, when split metering is selected, the shooting lens barrel is When a super-telephoto lens has a large open F value and is dark, the following problems occur. In other words, since it is a dark lens,
Part of the light flux from the subject is not incident on the periphery of the light-receiving surface of the light-receiving element of the photometry means due to the effects of vignetting, etc., making it possible for split photometry to be performed properly or for exposure values resulting from split photometry to be incorrect. There is a problem that it becomes a value.

本発明は、このような問題点に鑑みてなされたもので、
撮影レンズのレンズ情報により分割測光と中央重点測光
とを自動切り換え可能にし、そして中央重点測光に切り
換えられ、高輝度被写体を撮影しても極端にアンダーな
露出とならないカメラの露出制御装置を提供することを
目的としている。
The present invention was made in view of these problems, and
To provide an exposure control device for a camera that can automatically switch between split metering and center-weighted metering based on lens information of a photographing lens, and can be switched to center-weighted metering and prevents extreme underexposure even when photographing a high-brightness subject. The purpose is to

(問題点を解決するための手段) 上記問題点の解決の為に本発明では、分割測光り自動的
に中央重点測光に切り換えられ、該中央重点測光によっ
て演算された露出値が所定値以上となった時には、該露
出値を該所定値に置換するように構成したものである。
(Means for solving the problem) In order to solve the above problem, in the present invention, split metering is automatically switched to center-weighted metering, and when the exposure value calculated by the center-weighted metering is equal to or higher than a predetermined value, When the exposure value reaches the predetermined value, the exposure value is replaced with the predetermined value.

(作用) 本発明では、分割測光から中央重点測光に自動的に切り
換わった時に、高輝度の被写体であっても露出値が所定
値を越える時には露出値を該所定値に置換しているので
、露出が極端にアンダーになることがない。
(Function) In the present invention, when automatically switching from split metering to center-weighted metering, if the exposure value exceeds a predetermined value even for a high-brightness subject, the exposure value is replaced with the predetermined value. , the exposure will not be extremely underexposed.

(実施例) 第1図〜第6図は本発明の実施例である。第1図はカメ
ラのブロック図を示し、第2図はカメラの動作フローチ
ャート図を示し、第3図は中央重点測光を選択した際の
露出値の変化を示し、第4図は分割測光から中央重点測
光に切り換わった時の中央重点測光による露出値の変化
を示し、第5図はカメラの画面の説明図を示し、第6図
は測光素子の分割状態の説明図を示す。
(Example) FIGS. 1 to 6 show examples of the present invention. Figure 1 shows a block diagram of the camera, Figure 2 shows a flowchart of the camera's operation, Figure 3 shows changes in exposure value when center-weighted metering is selected, and Figure 4 shows changes from split metering to center-weighted metering. FIG. 5 shows an explanatory diagram of the camera screen, and FIG. 6 shows an explanatory diagram of the divided state of the photometric elements.

第1図においてカメラの露出制御装置は、マイクロコン
ピュータ(以後、CPUと称する)■と、このcpui
により制御される以下述べる各回路、素子等とから構成
されている。
In Fig. 1, the exposure control device of the camera consists of a microcomputer (hereinafter referred to as CPU) and this CPU.
It is composed of various circuits, elements, etc., which are controlled by the following.

スイッチSwlはカメラのレリーズ釦の半押しに連動し
てオンされ、CPUIに給電を行う。またスイッチSw
2は、レリーズ釦の全押しに連動してオンされ、CPU
Iを作動させ露出制御を行なわせるものである。
The switch Swl is turned on in conjunction with half-pressing the release button of the camera, and supplies power to the CPU. Also switch Sw
2 is turned on when the release button is fully pressed, and the CPU
I is activated to perform exposure control.

フィルム感度読込回路2は、カメラボディに装填された
フィルムのフィルム感度を読み込み、フィルム感度情報
をCPUIに出力する。
The film sensitivity reading circuit 2 reads the film sensitivity of the film loaded in the camera body and outputs the film sensitivity information to the CPUI.

測光用受光素子4は、第6図に示される如く5分割され
、例えばカメラのファインダー内に配置され、撮影レン
ズ及びファインダーを介して入射された被写体光を受光
するものである。測光回路3は、5分割された測光用受
光素子4の各領域毎の輝度データを夫々、測光情報とし
てCPUIに出力する。
The photometric light-receiving element 4 is divided into five parts as shown in FIG. 6, and is arranged, for example, in the finder of a camera to receive the subject light incident through the photographic lens and the finder. The photometric circuit 3 outputs the luminance data for each area of the photometric light-receiving element 4 divided into five areas to the CPUI as photometric information.

レンズ情報出力回路5は、カメラボディに装着された撮
影レンズの開放F値(F6 ) 、焦点距離(f)、射
出瞳路[(Po)またはその逆数(1/P0)をレンズ
情報としてCPUIに出力する。
The lens information output circuit 5 outputs the aperture f-number (F6), focal length (f), exit pupil path [(Po) or its reciprocal (1/P0) of the photographic lens attached to the camera body to the CPUI as lens information. Output.

スクリーン情報出力回路6は、カメラボディに装着され
るスクリーンの拡散性、透過率等のスクリーン情報をC
PUIに出力する。
The screen information output circuit 6 outputs screen information such as the diffusivity and transmittance of the screen attached to the camera body.
Output to PUI.

測光方式選択スイッチ7は、カメラボディに外部操作可
能に設けられ、撮影者が任意に分割測光(ここでは、公
知のマルチパターン測光)あるいは中央重点測光を選択
できる。この分割測光方式を選択すると、測光用受光素
子4の5つの領域(第6図の受光面4a〜4e)の輝度
データが夫々、所定のアルゴリズムに従ってCPLll
を介して露出値演算回路9で演算され露出値を得る。
A photometry method selection switch 7 is provided on the camera body so as to be operable from the outside, and allows the photographer to arbitrarily select split photometry (here, known multi-pattern photometry) or center-weighted photometry. When this divisional photometry method is selected, the luminance data of the five areas (light-receiving surfaces 4a to 4e in FIG. 6) of the photometry photoreceptor 4 are divided into CPLll and CPLll according to a predetermined algorithm.
The exposure value calculation circuit 9 calculates the exposure value through the exposure value calculation circuit 9.

また、中央重点測光方式を選択すると、受光素子4の中
央部領域(第6図の受光面4e)の輝度データに基づき
CPUIを介して露出値演算回路9で演算され露出値を
得る。
When the center-weighted metering method is selected, an exposure value is calculated by the exposure value calculation circuit 9 via the CPUI based on the luminance data of the central region of the light receiving element 4 (light receiving surface 4e in FIG. 6).

マルチパターン測光可否判定回路8は、レンズ情報出力
回路5から出力される撮影レンズの開放F値によりマル
チパターン測光が可能か否か判定する。すなわち、開放
F値が太き(、撮影レンズが暗いレンズである時には受
光素子4の受光面の周辺部がケラレの影響により一部の
光束がケラしてしまい、各受光面43〜4eから出力さ
れる輝度データが不正確なものとなり、マルチパターン
測光が不可能となる。逆に、開放F値が小さ(、撮影レ
ンズが明るいレンズである時にはマルチパターン測光が
可能である。
A multi-pattern photometry determination circuit 8 determines whether multi-pattern photometry is possible based on the aperture F value of the photographing lens output from the lens information output circuit 5. In other words, when the aperture F value is large (and the photographic lens is a dark lens, some of the light flux is vignetted due to the effect of vignetting on the periphery of the light-receiving surface of the light-receiving element 4, and the output from each light-receiving surface 43 to 4e is The brightness data obtained becomes inaccurate, making multi-pattern photometry impossible.On the other hand, multi-pattern photometry is possible when the aperture F-number is small (and the photographing lens is a bright lens).

測光方式切換え回路13は、測光方式選択スイッチ7に
よりマルチパターン測光が選択され、それにより測光し
ていた際に、マルチパターン測光可否判定回路8がマル
チパターン測光不可能であると判定した場合には、マル
チパターン測光から中央重点測光に自動的に切換える切
換信号をCPUIに出力する。
The photometry method switching circuit 13 selects multi-pattern photometry by the photometry method selection switch 7 and performs photometry when the multi-pattern photometry determination circuit 8 determines that multi-pattern photometry is not possible. , outputs a switching signal for automatically switching from multi-pattern photometry to center-weighted photometry to the CPUI.

高輝度置換回路10は、マルチパターン測光可否判定回
路8及び測光方式切換え回路13によりマルチパターン
測光から中央重点測光に切り換わ所定値を越えて出力さ
れた時には、後述するように露出値を該所定値に置換し
てCPUIに出力する。そして、シャッタ制御装置11
及び絞り制御装置12は、前記高輝度置換回路10から
出力された露出値に基づき作動し、シャッタ及び絞りを
制御する。
When the multi-pattern photometry is switched from multi-pattern photometry to center-weighted photometry by the multi-pattern photometry enable/disable determination circuit 8 and the photometry method switching circuit 13 and the output exceeds a predetermined value, the high-brightness replacement circuit 10 changes the exposure value to the appropriate value as described later. Replace it with a predetermined value and output it to the CPUI. And the shutter control device 11
The aperture control device 12 operates based on the exposure value output from the high brightness replacement circuit 10, and controls the shutter and the aperture.

次に、第2図のフローチャート図に基づき、CPUIの
動作を説明する。
Next, the operation of the CPUI will be explained based on the flowchart shown in FIG.

レリーズ釦の半押しスイッチSWIのオンにより、CP
UIに給電が行われ、作動を開始する。
When the release button is pressed halfway and the switch SWI is turned on, the CP
Power is supplied to the UI and it starts operating.

ステップS1にて、測光回路3から測光情報を人力し、
受光素子4の各受光面4a〜4eの輝度データを入力す
る。
In step S1, photometric information is manually input from the photometric circuit 3,
Brightness data of each light receiving surface 4a to 4e of the light receiving element 4 is input.

ステップS2にて、撮影者が測光方式選択スイッチ7に
よりマルチパターン測光を選択しているか否か判定する
。マルチパターン測光を選択していなければ、ステップ
SIOに進み。ステップ310にて高輝度置換回路10
の作動を禁止すると共に中央重点測光を行う指令を出力
し、露出値演算回路9に受光素子4の中央受光面4eの
輝度データを送り演算を行い露出値BV、を求める。
In step S2, it is determined whether the photographer has selected multi-pattern photometry using the photometry method selection switch 7. If multi-pattern photometry is not selected, proceed to step SIO. In step 310, the high brightness replacement circuit 10
It outputs a command to perform center-weighted photometry, and sends the brightness data of the central light-receiving surface 4e of the light-receiving element 4 to the exposure value calculation circuit 9, which performs calculations to determine the exposure value BV.

そして、ステップS6にて全押しスイッチSw2がオン
すれば、ステップS7にてCPUIはこの露出値BV、
に基づき露出制御を行い撮影を終了する。このように、
測光方式選択スイッチ7により中央重点測光が選択され
た場合には、第3図の如く、露出値演算回路9により求
められた露出値BV、と制御に用いる露出値BVc (
CPUIがシャフタ制御装置11及び絞り制御装置12
を制御する際の値)とが等しく、露出値演算回路9によ
り求められた露出値BV、のそのままの値により露出制
御される。その為に、第5図に示すような太陽光が直接
入射するような状態においては、山やヨツト等が極端に
露出アンダーになる恐れがあるが、撮影者は自身で中央
重点測光を選択していることから、制御に用いる露出値
BVcの高輝度側を規制して、主要被写体(山やヨツト
)が極端に露出アンダーとならないような露出制御を行
っていない。
Then, if the full-press switch Sw2 is turned on in step S6, the CPUI will set this exposure value BV,
Exposure control is performed based on this and the shooting ends. in this way,
When center-weighted metering is selected by the metering method selection switch 7, as shown in FIG. 3, the exposure value BV calculated by the exposure value calculation circuit 9 and the exposure value BVc (
The CPU controls the shutter control device 11 and the aperture control device 12.
The value used to control the exposure value BV is equal to the value used for controlling the exposure value BV, and the exposure is controlled using the unchanged value of the exposure value BV determined by the exposure value calculation circuit 9. For this reason, in conditions where sunlight is directly incident as shown in Figure 5, there is a risk that mountains, yachts, etc. will be extremely underexposed, but the photographer should choose center-weighted metering himself. Therefore, exposure control is not performed to prevent the main subject (mountain or yacht) from being extremely underexposed by regulating the high brightness side of the exposure value BVc used for control.

また、ステップS2にて、マルチパターン測光を選択し
ていれば、ステップS3に進む。ステップS3にて、ス
テップS9によりレンズ情報出力回路5から入力された
レンズ情報に基づき、マルチパターン測光が可能な状態
であるか否か判定される。
Further, if multi-pattern photometry is selected in step S2, the process advances to step S3. In step S3, it is determined whether multi-pattern photometry is possible based on the lens information input from the lens information output circuit 5 in step S9.

ステップS3にて、撮影レンズが明るいレンズであれば
、ステップSllに進み。ステップS11にて、測光回
路3からの5つの輝度データを露出値演算回路9に送り
、露出値演算回路9によりマルチパターン測光による露
出演算を行い、ステップS6及びステップS7にて全押
しスイッチSw2のオンに伴って露出制御を行い撮影を
終了する。
If the photographing lens is a bright lens in step S3, the process advances to step Sll. In step S11, the five luminance data from the photometry circuit 3 are sent to the exposure value calculation circuit 9, and the exposure value calculation circuit 9 performs exposure calculation by multi-pattern photometry, and in steps S6 and S7, the fully pressed switch Sw2 is When turned on, exposure control is performed and shooting ends.

また、ステップS3にて、撮影レンズが暗いレンズであ
れば、ステップS4に進む。ステップS4にて、測光方
式切換え回路13が作動して自動的にマルチパターン測
光から中央重点測光に切換え、中央重点測光による露出
演算を露出値演算回路9に行わせ、露出値BV、を求め
る。そして、ステップS5に進む。
Furthermore, if the photographing lens is a dark lens in step S3, the process advances to step S4. In step S4, the photometry mode switching circuit 13 operates to automatically switch from multi-pattern photometry to center-weighted photometry, causes the exposure value calculation circuit 9 to perform exposure calculation by center-weighted photometry, and obtains an exposure value BV. Then, the process advances to step S5.

ステップS5では、露出制御のための露出値BVcを求
める。すなわち、第4図に示すように、露出値演算回路
9により演算された露出値BV。
In step S5, an exposure value BVc for exposure control is determined. That is, as shown in FIG. 4, the exposure value BV calculated by the exposure value calculation circuit 9.

に対して、制御に用いる露出値BVcを求め、ここでは
、露出値BV、の11’/iBVを境いに1対1対応の
露出値BVcから、高輝度側が規制された露出制御のた
めの露出値BVcを設定している。
, the exposure value BVc used for control is calculated, and here, from the exposure value BVc, which has a one-to-one correspondence with 11'/iBV of the exposure value BV, the exposure value BVc for the exposure control where the high brightness side is regulated is calculated. Exposure value BVc is set.

このことは、前述したような撮影者が再測光方式を任意
に選択した状態とは異なり、撮影者がマルチパターン測
光を行っているものとして撮影している状態で自動的に
中央重点測光に切り替わった際に、出来上がった写真が
極端に露出が狂わないように構成している。その為に、
マルチパターン測光から、カメラ側で自動的に中央重点
測光に切換えてしまっているような場合には、例えば第
5図に示すような太陽光が直接入射するような状態でも
、出来上がってきた写真が山やヨツトで極端に露出アン
ダーになるのを防止する為に、第4図の如く高輝度側(
n出値BVB≧11’/38V)では制御に用いる露出
値BVcをII’/3BVと固定している。
This is different from the situation where the photographer arbitrarily selects the re-metering method as described above, in which case the photographer automatically switches to center-weighted metering when shooting using multi-pattern metering. The composition is configured so that the resulting photo will not be extremely exposed. For that reason,
If the camera automatically switches from multi-pattern metering to center-weighted metering, the resulting photo will not be accurate even under direct sunlight as shown in Figure 5. In order to prevent extreme underexposure on mountains and yachts, set the high-brightness side (as shown in Figure 4).
n output value BVB≧11'/38V), the exposure value BVc used for control is fixed at II'/3BV.

ステップS6及びステップS7にて、ステップS5で設
定された露出(aBVcに基づき、全押しスイッチSw
2のオンに伴って露出制御を行い撮影を終了する。
In steps S6 and S7, based on the exposure (aBVc) set in step S5, the fully pressed switch Sw
2 is turned on, exposure control is performed and photographing is completed.

(発明の効果) 以上のように本発明によれば、カメラ側で自動的に分割
測光から中央重点測光に切換えられた時には、高輝度の
被写体であっても露出値が所定値を越える時には露出値
を該所定値に置換しているので、出来上がった写真が極
端に露出アンダーになることがなく、適正露出をより高
い確率で得ることができる。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, when the camera side automatically switches from split metering to center-weighted metering, even if the subject is of high brightness, if the exposure value exceeds a predetermined value, the exposure value is Since the value is replaced with the predetermined value, the resulting photograph will not be extremely underexposed, and proper exposure can be obtained with a higher probability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第6図は本発明の実施例である。第1図はカメ
ラのプロ、り図を示し、第2図はカメラの動作フローチ
ャート図を示し、第3図は中央型点測光を選択した際の
露出値BV、とBVcとの関係を示す説明図を示し、第
4図は分割測光から中央重点測光に切り換わった時の中
央重点測光による露出値BV、とBVCとの関係を示す
説明図を示し、第5図はカメラの画面(受光素子面)の
説明図を示し、第6図は受光素子の分割状態の説明図を
示す。 (主要部分の符号の説明) 1・・・マイクロコンピュータ、 5・・・レンズ情報出力回路、 7・・・測光方式選択スイッチ、 8・・・マルチパターン測光可否判定回路、10・・・
高輝度置換回路、 13・・・測光方式切換え回路
1 to 6 show embodiments of the present invention. Figure 1 shows a professional diagram of the camera, Figure 2 shows a flowchart of the camera's operation, and Figure 3 shows the relationship between exposure value BV and BVc when central point metering is selected. Figure 4 is an explanatory diagram showing the relationship between the exposure value BV and BVC when switching from split metering to center-weighted metering, and Figure 5 is an explanatory diagram showing the relationship between the exposure value BV and BVC when switching from split metering to center-weighted metering. FIG. 6 shows an explanatory diagram of the divided state of the light-receiving element. (Explanation of symbols of main parts) 1...Microcomputer, 5...Lens information output circuit, 7...Photometering method selection switch, 8...Multi-pattern photometry availability determination circuit, 10...
High brightness replacement circuit, 13...Photometry method switching circuit

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)撮影レンズを介して入射する光束を測光し、画面
(被写界)を少なくとも中央部と周辺部とに分割して測
光する分割測光と、該画面の中央部を測光する中央重点
測光とが可能な測光手段と、前記測光手段の分割測光と
中央重点測光とを外部選択操作により選択可能な選択手
段と、 少なくとも前記撮影レンズのレンズ情報に基づき、前記
測光手段による分割測光が可能か否か判定する判定手段
と、 前記選択手段により前記分割測光が選択されている時に
、前記判定手段により前記分割測光が不可能であると判
定された際には、自動的に前記中央重点測光に切り換え
る切換手段と、 前記切換手段により前記中央重点測光に切り換えられ、
該中央重点測光によって演算された露出値が所定値以上
となった時には、該露出値を該所定値に置換する置換手
段とを具備したことを特徴とするカメラの露出制御装置
(1) Split metering, which measures the light flux that enters through the photographic lens and divides the screen (field) into at least the center and the periphery, and center-weighted metering, which measures the center of the screen. a selection means capable of selecting between split photometry and center-weighted photometry of the photometry means by an external selection operation; a determining means for determining whether or not the dividing photometry is selected by the selecting means; and when the determining means determines that the dividing photometry is not possible, automatically switching to the center-weighted metering; a switching means for switching, the switching means switching to the center-weighted photometry;
1. An exposure control device for a camera, comprising: replacement means for replacing the exposure value with the predetermined value when the exposure value calculated by the center-weighted photometry exceeds a predetermined value.
(2)前記選択手段により前記中央重点測光が選択され
た際には、前記置換手段の作動を禁止する禁止手段を有
することを特徴とする請求項(1)のカメラの露出制御
装置。
(2) The exposure control device for a camera according to claim 1, further comprising prohibition means for prohibiting operation of the replacement means when the center-weighted metering is selected by the selection means.
JP63116724A 1988-05-13 1988-05-13 Camera exposure controller Expired - Lifetime JP2535798B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63116724A JP2535798B2 (en) 1988-05-13 1988-05-13 Camera exposure controller
US07/346,403 US4972222A (en) 1988-05-13 1989-05-02 Exposure controlling apparatus for camera

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63116724A JP2535798B2 (en) 1988-05-13 1988-05-13 Camera exposure controller

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01285927A true JPH01285927A (en) 1989-11-16
JP2535798B2 JP2535798B2 (en) 1996-09-18

Family

ID=14694232

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63116724A Expired - Lifetime JP2535798B2 (en) 1988-05-13 1988-05-13 Camera exposure controller

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2535798B2 (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5638026A (en) * 1980-07-16 1981-04-13 Canon Inc Camera
JPS6138939A (en) * 1984-07-31 1986-02-25 Canon Inc Camera

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5638026A (en) * 1980-07-16 1981-04-13 Canon Inc Camera
JPS6138939A (en) * 1984-07-31 1986-02-25 Canon Inc Camera

Also Published As

Publication number Publication date
JP2535798B2 (en) 1996-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6031026A (en) Multiple photometric device
JPH01285925A (en) Camera
US5311238A (en) Zoom lens bearing camera
JPH0466303B2 (en)
JPH01285927A (en) Exposure controller for camera
US5266983A (en) Camera having the plural photograph function
JPS62203140A (en) Photometer for camera with automatic focus function
JP3456215B2 (en) Camera photometer
JPH09113953A (en) Apparatus and method for measurement of luminance of camera with variable photometric region
JP2892008B2 (en) Camera exposure control device
JP2005115023A (en) Camera capable of photometric mode bracketing
JPH01235928A (en) Exposure control device for camera
JP4419284B2 (en) Flash-capable camera
GB2227850A (en) Automatic exposure camera
JPH1195278A (en) Image pickup device
JP3087084B2 (en) camera
JPH0136087B2 (en)
JP3026032B2 (en) Camera system
JP2884691B2 (en) TTL automatic light control camera
JPH05307207A (en) Device for setting photographing control function of camera
JP2930238B2 (en) Exposure control device for electronic camera using solid-state image sensor
JP2969741B2 (en) Camera with learning function
JPH0457034A (en) Camera shake limit shutter speed controller
JPH02161417A (en) Camera
JPH0876169A (en) Camera

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term