JPH01279498A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH01279498A
JPH01279498A JP63109398A JP10939888A JPH01279498A JP H01279498 A JPH01279498 A JP H01279498A JP 63109398 A JP63109398 A JP 63109398A JP 10939888 A JP10939888 A JP 10939888A JP H01279498 A JPH01279498 A JP H01279498A
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Abstract

PURPOSE:To separate the parasitic capacitor of a common data line and a data line, to relieve the load of a sense amplifier and to quicken the readout by providing a readout amplifier connected directly to the data line. CONSTITUTION:A memory array consists of arrays UM, LM. Signals L, R to select right/left series circuits and a selection signal US for the array UM are supplied to gate circuits G1, G2 and a left series storage circuit is coupled with a data line DO through MOSFETs Q2, Q1. With the signals US, R at an H level, the right series storage circuit is coupled with the line DO. Then the storage information of the storage MOSFET is read by readout amplifier circuits DA0, DA1 as sub sense amplifiers and its amplified output is outputted through a sense amplifier SA and a data output buffer DOB through a common data line CD.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関し、例えば大記憶容量
のマスク型ROM (リード・オンリー・メモリ)やE
PROM (イレーザブル&プログラマブル・ROM)
に利用して有効な技術に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to semiconductor storage devices, such as large storage capacity mask-type ROMs (read-only memories) and E-ROMs.
PROM (Erasable & Programmable ROM)
It is related to effective technology that can be used for.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体技術の進展に伴い、マスク型ROMやEPROM
等の半導体記+!!装置においては、その記憶容量の増
大が図られている。このような大記憶容量化に適したマ
スク型ROMの例として、例えば特開昭59−1169
93号公報がある。
With the advancement of semiconductor technology, mask type ROM and EPROM
Semiconductor records such as +! ! Efforts are being made to increase the storage capacity of devices. As an example of a mask type ROM suitable for such a large storage capacity, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-1169
There is a publication No. 93.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記記憶容量の増大に浬い、素子の微細化が図られ1つ
のデータ線(ビット線又はデイジット線)には、多数の
メモリセルを構成する記憶素子が結合される。それ故、
データ線の寄生容¥が増大し、それに対応して寄生容量
の充放電に時間がかかるため、メモリセルの読み出しに
要する時間が長くされてしまう。
In order to meet the above-mentioned increase in storage capacity, elements have been miniaturized, and storage elements constituting a large number of memory cells are coupled to one data line (bit line or digit line). Therefore,
The parasitic capacitance of the data line increases and correspondingly it takes time to charge and discharge the parasitic capacitance, so the time required to read the memory cell becomes longer.

この発明の目的は、高速S:にみ出しを実現した半与体
記憶装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semi-donor storage device that realizes high-speed S: overflow.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は
、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なもののa要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief explanation of typical aspects of the invention disclosed in this application is as follows.

ずなわち、メモリセルが結合されるデータ線に、YJ択
倍信号より動作状態にされる読み出しアンプを設ける。
That is, a read amplifier that is activated by the YJ multiplier signal is provided on the data line to which the memory cell is coupled.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、データ線に直結された読み出し
アンプを設けることにより、データ線と共通データ線の
寄生容量が分離されるから、読み出しアンプ及び共通デ
ータ線に設けられるセンスアンプの負荷が軽減されるこ
と、及び共通データ線には上記読み出しアンプにより増
幅された信号が伝えらることによって読み出しの高速化
を図ることができる。
According to the above means, by providing a read amplifier directly connected to the data line, the parasitic capacitance between the data line and the common data line is separated, so the load on the read amplifier and the sense amplifier provided on the common data line is reduced. By transmitting the signal amplified by the read amplifier to the common data line, the reading speed can be increased.

〔実施例〕 第1図には、この発明が適用された縦型ROM(”7ス
クROM)の一実施例の回路図が示されている。回目の
;i回路素子は、公知の半導体集積回路の?3造技術に
よって、特に制限されないが、単結晶シリニ・ンのよう
な1つの半導体基板上において形成される。特に制限さ
れないが、この実施例の′fi皇R,OMは、Nチャン
ネル部分 S F ETにより構成される。それ故、集
積回路は、単結晶P型シリコンからなる半導体基板上に
形成される。NチャンネルMO3FETは、かかる半導
体基板表面に形成されたソース領域、ドレイン領域及び
ソース領域とドレイン領域との間の:i導体基板表面に
薄いj¥さのゲー)8Q縁膜を介して形成されたポリシ
リコンからなるようなデー1−電極から構成される。
[Embodiment] FIG. 1 shows a circuit diagram of an embodiment of a vertical ROM ("7-screen ROM") to which the present invention is applied. The circuit is formed on a single semiconductor substrate such as, but not limited to, single-crystalline silicon using a circuit fabrication technology. Although not particularly limited, the 'fi' R, OM of this embodiment is an N-channel The integrated circuit is therefore formed on a semiconductor substrate made of single-crystal P-type silicon.The N-channel MO3FET consists of a source region, a drain region and Between the source region and the drain region, it is composed of an electrode made of polysilicon formed on the surface of the conductor substrate via a thin 8Q film.

メモリアレ・イは、時に制限されないが、同図に破線で
示すように上側に配置されるメモリアレイU Mと下側
に配置されるメモリアレイLMから構成されろ。各メモ
リアレイUM及びLMは、それぞチb?i数の記憶用M
O3FETQmが直列形態に接続されてなる。上記各記
憶用MOSFETQ、mは、記憶情報に従ってデイプレ
ッション型かエンハンスメント型かに形成さ机る。背に
制限されないが、例えば1、上記エンハンスメント型M
O3FETのチャンネル領域表面に、その基板ゲートと
同町電型の不宝屯物を導入することによって、負のしき
い値電田を持つようなデイプレッション型の記憶MO3
FETを形成するという書き込みを行う。同図において
、上記デイプレッション型のMOSFETは、ぞのチャ
ンネル部分に直線が付加されることにより、エンハンス
メント型のMOSFETと区別される。
The memory array may include, but is not limited to, a memory array UM located on the upper side and a memory array LM located on the lower side, as shown by the broken line in the figure. Each memory array UM and LM has a chip b? M for storing i number
It consists of O3FETQm connected in series. Each of the storage MOSFETs Q and m is formed as a depletion type or an enhancement type depending on the storage information. Although not limited to the back, for example, 1, the above enhancement type M
A depletion type memory MO3 having a negative threshold voltage is created by introducing a tram-shaped material similar to that of the substrate gate onto the surface of the channel region of the O3FET.
Writing is performed to form a FET. In the figure, the depletion type MOSFET is distinguished from the enhancement type MOSFET by adding straight lines to each channel portion.

この実施例では、メモリアレイの高集積化のために、上
記各メモリアし・イIIM及びL Mにおいてそれぞれ
一対の直列形態の記憶用MO3FETが、1つのデータ
線Do、DI等に共通に配置される。
In this embodiment, in order to achieve high integration of the memory array, a pair of series-type storage MO3FETs in each of the above-mentioned memory arrays IIM and LM are commonly arranged on one data line Do, DI, etc. Ru.

1つのデータ810に設けられろJ−(%lのメモリア
レイTJMの一対の直列回路の上記データ線DOに接続
されるべき一端は、それぞれ後述するプレデコーダを構
成するアンド(AND)ゲート回Hc1及びG2により
形成される選択信号を受ける直列形態のスイッチMO3
FETQI、Q2及びG3、G4がそれぞれ直列に接続
され、上記データ線DOに共通に接続される。上記ゲー
ト回路Gl。
One end of a pair of series circuits of the memory array TJM provided for one data 810 to be connected to the data line DO is connected to an AND gate circuit Hc1 constituting a predecoder to be described later. and a switch MO3 in series form receiving a selection signal formed by G2.
FETs QI, Q2 and G3, G4 are each connected in series and commonly connected to the data line DO. The gate circuit Gl.

G2により形成される選択信号により、上記データ線D
oに対して左右に配置される一対の直列形態の記憶用M
OS F ETの一方を選択するために、例えばMO3
FETQIとG4はデイプレッション型Mo S F 
ETに、G2とG3はエンハンスメント型MO5FET
によりそれぞれ構成される。
By the selection signal formed by G2, the data line D
A pair of serial storage M arranged on the left and right with respect to o
To select one of the OS FETs, for example MO3
FETQI and G4 are depletion type Mo SF
ET, G2 and G3 are enhancement type MO5FETs
Each is composed of:

上記ゲート回路Gl、G2の入力には、左右の直列回路
を選択するための選択信号り、R及び上側のメモリアレ
イUMの選択信号USが供給される。例えば、信号US
とLがハイレベルのときには、ゲート回路G2の出力信
号がハイレベルにされ、MO3FETQ2がオン状態に
される。これによって、上記オン状態にされたエンハン
スメント型MO5FETQ2とデイプレッション型MO
3F ETQ lを通して上記左側の直列記憶回路がデ
ータ線DOに結合される。また、信号USとRがハイレ
ベルのときには、ゲート回路G1の出力信号がハイレベ
ルにされ、MO3FETQ3がオン状態にされる。これ
によって、上記オン状態にされたエンハンスメント型M
O5FETQ3とデイプレフジョン型MO3FETQ4
を通して上記右側の直列記憶回路がデータ49 D O
に結合される。
A selection signal R for selecting the left and right series circuits and a selection signal US for the upper memory array UM are supplied to the inputs of the gate circuits Gl and G2. For example, signal US
When and L are at high level, the output signal of gate circuit G2 is set at high level, and MO3FET Q2 is turned on. As a result, the enhancement type MO5FETQ2 turned on and the depletion type MO
The left serial storage circuit is coupled to the data line DO through 3F ETQ l. Further, when the signals US and R are at a high level, the output signal of the gate circuit G1 is set at a high level, and the MO3FET Q3 is turned on. As a result, the enhancement type M that has been turned on is
O5FETQ3 and day reflex MO3FETQ4
Through the serial storage circuit on the right side, the data 49 D O
is combined with

このことは、下側のメモリアレイLMにおける上記デー
タ′fFFADoに対応した直列形態の記憶用MO3F
ETQmに対して設けられるM OS F E TQ5
とG6及びG7とG8においても同様である。
This means that the serial storage MO3F corresponding to the data 'fFFADo in the lower memory array LM is
M OS F E TQ5 provided for ETQm
The same applies to G6, G7, and G8.

ただし、上記MO3FETQ5とG6及びG7とG8の
ゲートに供給される選択信号を形成するアンドゲート回
路G3とG4の人力には、上記選択信号R及びLと下側
のメモリアレイLMの選択を指示する選択信号LSが供
給される。これにより、例えば、fK号LSとLがハイ
レベルのときには、ゲート回路G4の出力信号がハイレ
ベルにされ、MO3FETQ6がオン状態にされる。そ
れ故、上記オン状態にされたエンハンスメント型MO3
FETQ6とデイプレッション型MO3FETQ5を通
して左側の直列記憶回路がデータ線Doに結合される。
However, the AND gate circuits G3 and G4, which form the selection signals supplied to the gates of MO3FETQ5 and G6 and G7 and G8, are instructed to select the selection signals R and L and the lower memory array LM. A selection signal LS is supplied. As a result, for example, when fK signals LS and L are at a high level, the output signal of the gate circuit G4 is set at a high level, and the MO3FET Q6 is turned on. Therefore, the enhancement type MO3 turned on is
The left serial storage circuit is coupled to the data line Do through FETQ6 and depletion type MO3FETQ5.

また、信号LSとRがハイレベルのときには、ゲート回
路G3の出力信号がハイレベルにされ、MO3FETQ
7がオン状態にされる。
Furthermore, when the signals LS and R are at high level, the output signal of gate circuit G3 is set at high level, and MO3FETQ
7 is turned on.

これによって、上記オン状態にされたエンハンスメント
型MO3FETQ7とデイプレッション型MO3FET
Q8を通して上記右側の直列記憶回路がデータ線DOに
結合される。
As a result, the enhancement type MO3FET Q7 and the depletion type MO3FET that have been turned on are
The right serial storage circuit is coupled to the data line DO through Q8.

上記メモリアレイUMとLMの各直列形態の記憶用MO
3FETのうち、横方向に対応する記憶用MO3FET
Qmのゲートは、ワード線WOないしWSi2にそれぞ
れ共通に接続される。これらワード線WOないしWSi
2は、ロウデコーダXDCRの対応する各出力端子に接
続される。
Storage MO of each serial form of the above memory arrays UM and LM
Among the 3FETs, MO3FET for storage corresponds to the horizontal direction.
The gates of Qm are commonly connected to word lines WO to WSi2, respectively. These word lines WO to WSi
2 is connected to each corresponding output terminal of the row decoder XDCR.

この実施例では、高速読み出しを実現するために、上記
データ&%DO,DI等に読み出しアンプDAO1DA
I等の入力端子が接続される。すなわち、従来のように
、データ線をカラムスイ・ッチ回路を通して共通データ
線CDに接続させる構成に代えて、上記各データ線DO
,DIのそれぞれにサブセンスアンプ出しての読み出し
増幅回路DAOlDAl等が設けられる。そして、特に
制限されないが、上記増幅回路DAOlDAl等は、カ
ラム選択信号YO,Y1等により選択的に動作状態にさ
れる。
In this embodiment, in order to realize high-speed reading, a read amplifier DAO1DA is used for the above data &%DO, DI, etc.
Input terminals such as I are connected. That is, instead of the conventional configuration in which the data lines are connected to the common data line CD through a column switch circuit, each of the data lines DO
, DI are each provided with a read amplification circuit DAOlDAl etc. that outputs a sub-sense amplifier. Although not particularly limited, the amplifier circuits DAOlDAl and the like are selectively activated by the column selection signals YO, Y1, etc.

特に制限されないが、カラムデコーダYDCRは、51
2木のデータ線DoないしD511の選択信号YO1Y
1・・・を形成する。それ故、メモリアレイIJ Mと
LMにより、512x512x4ビツト(?)I Mビ
ット)の記憶容量を持つようにされる。例えば、約4 
Mビットの記憶容量を持つ縦型ROMを構成する場合、
上記同様なメモリアレイUMとLMからなるメモリマン
トが4つ設けられろ。
Although not particularly limited, the column decoder YDCR may be 51
Selection signal YO1Y for two data lines Do to D511
1... is formed. Therefore, the memory arrays IJM and LM have a storage capacity of 512x512x4 bits (?) IM bits). For example, about 4
When configuring a vertical ROM with a storage capacity of M bits,
Four memory mantles consisting of memory arrays UM and LM similar to those described above are provided.

上記データ線DO〜D511に対応して設けられる各増
幅回路DAO〜DA511において、上記カラム選択信
号YO,’I’L等により動作状態にされた1つの増堵
凹花以りトのJiQ情回路は、非動作状態にされるとと
もに、その出力がハイインピーダンス状態にされる。こ
れにより、上記増幅回路DAOlDAl等の出力端子は
共通データ線CDに接続される。言いえるならば、各増
幅回路DAO〜DA511の出力は、共通データ線CD
によりワイヤードオア論理が採られる。
In each of the amplifier circuits DAO to DA511 provided corresponding to the data lines DO to D511, one JiQ information circuit is activated by the column selection signals YO, 'I'L, etc. is rendered inactive and its output is placed in a high impedance state. As a result, the output terminals of the amplifier circuit DAOlDAl and the like are connected to the common data line CD. In other words, the output of each amplifier circuit DAO to DA511 is connected to the common data line CD
Therefore, wired-or logic is adopted.

上記共通データ線CDは、センスアンプSAの入力端子
に接続される。センスアンプSAにより増幅された読み
出し信号は、データ出カバソファDOBを通して出力端
子Doutから外部へ送出される。
The common data line CD is connected to the input terminal of the sense amplifier SA. The read signal amplified by the sense amplifier SA is sent out from the output terminal Dout through the data output sofa DOB.

なお、特に制限されないが、上記センスアンプSAの基
Y$N圧として、上記メモリアレイ部と同様な記憶回路
からなるダミーアレイによりそれぞれ形成される基準電
圧Vrefを参照してそのセンス動作を行せる場合には
、ダミーアレイに対しても上記増幅回路DAが設けられ
る。すなわち、ダミーアレイは、記憶用MO3FETQ
mが全てエンハンメント型MO3FETにより構成され
、そのゲートには定常的に電#電圧Vccが供給される
ことによって定常的にオン状態にされるものである。
Note that, although not particularly limited, the sensing operation can be performed by referring to a reference voltage Vref formed by a dummy array formed of a memory circuit similar to the memory array section as the base Y$N voltage of the sense amplifier SA. In this case, the amplifying circuit DA is also provided for the dummy array. In other words, the dummy array is a memory MO3FETQ
The transistors m are all constituted by enhancement type MO3FETs, and are constantly turned on by constantly supplying the voltage Vcc to their gates.

この実施例における縮型ROMのアドレス選択動作を次
に説明する。
The address selection operation of the reduced ROM in this embodiment will now be described.

ロウデコーダXDCRは、ロウアドレス八ソファXAD
Bから供給される内部アドレス信号を解読して、IX択
レベルをロウレベルとし、非選択レベルをハイレベルと
するデコード出力を形成する。
Row decoder XDCR is row address eight sofa XAD
The internal address signal supplied from B is decoded to form a decoded output that sets the IX selection level to low level and the non-selection level to high level.

すなわち、512木のワード線に対して選択された1つ
のワード線をロウレベルに、他の511本のワード線を
ハイレベルにする。これによって、選択されたワード線
に結合される記憶MO3FETQmがデイプレッション
型なら直列回路に電流パスが形成され、エンハンスメン
ト型なら電流バスが形成されない。そして、上記4対の
直列回路のうち、1つがJXばれてデータ)10ないし
D512に結合される。カラムデコーダYDCRは、カ
ラムアドレスバッファYADBを通して供給される内部
アドレス信号を解読して、上記512本のデータ線DO
ないしD511のうち選択された1つのデータ線に対応
した選択信号をロウレベルの選択レベルに、他の511
木のデータ線に対応した選択信号をハイレベルの非選択
レベルにする。
That is, one selected word line among the 512 word lines is set to low level, and the other 511 word lines are set to high level. As a result, if the storage MO3FETQm coupled to the selected word line is of the depletion type, a current path is formed in the series circuit, and if the storage MO3FETQm is of the enhancement type, no current bus is formed. Then, one of the four pairs of series circuits is connected to JX and connected to data) 10 to D512. The column decoder YDCR decodes the internal address signal supplied through the column address buffer YADB and outputs the 512 data lines DO.
The selection signal corresponding to one data line selected among D511 to D511 is set to a low selection level, and the other 511 is set to a low selection level.
The selection signal corresponding to the wooden data line is set to a high non-selection level.

これによって、選択された1つのデータ線に対応した1
つの読み出し増幅回1!3DAが動作状態にさね、る。
As a result, the 1 corresponding to the selected data line is
The two readout amplification circuits 1!3DA are in operation.

これによって、1つの記憶MO3FETの記憶情報の読
み出しが、上記サブセンスアンプとしての読み出し増幅
回路DAにより行われ、その増幅出力が共通データ線C
Dを通してセンスアンプSA及びデータ出カバソファD
OBを通して端子Doutから出力される。
As a result, the readout of the storage information of one storage MO3FET is performed by the readout amplifier circuit DA as the sub-sense amplifier, and its amplified output is sent to the common data line C.
Sense amplifier SA and data output cover sofa D through D
It is output from the terminal Dout through OB.

なお、同図では、上記アドレスバッファとデコーダを合
わせて1つの回路ブロックXADB −DCR,YAD
B −DCRのように表している。
In addition, in the same figure, the address buffer and decoder are combined into one circuit block XADB-DCR,YAD
It is expressed as B-DCR.

第2図には、上記読み出し増幅回路の一実施例の具体的
回路図が示されている。
FIG. 2 shows a specific circuit diagram of one embodiment of the read amplification circuit.

同図において、チャンネル(基板ゲート)部に矢印が付
加されのは、Pチャンネル部分 S F ETであり、
チャンネル部分に直線が付加されたのは、前記同様にデ
イプレフジョン型のNチャンネルMO3FETである。
In the same figure, the channel (substrate gate) part with an arrow added is the P channel part SFET,
The channel portion of the N-channel MO3FET with a straight line added thereto is similar to the one described above.

例示的に示された1つのデータ線DOと電?!!X電圧
Vccとの間には、読み出し電流を形成するMOSFE
TQ9が接続される。上記データVDOは、Nチャンネ
ル型のソース接地型の増幅MO3F巳TQIOのゲート
に接続される。この増幅MO3F ETQ 10のドレ
インには、負荷としてのデイプレッション型Mo5t”
已TQIIが設けられる。
One data line DO and one data line exemplarily shown? ! ! A MOSFE that forms a read current is connected to the X voltage Vcc.
TQ9 is connected. The data VDO is connected to the gate of an N-channel source-grounded amplifier MO3F-TQIO. The drain of this amplified MO3F ETQ 10 is equipped with a depletion type Mo5t” as a load.
A TQII is provided.

このデイプレッション型MO3FF’、TQ11は、そ
のゲートとソースが接続されることによって、定電流源
負荷として作用する。上記負荷MOSFE’rQIIと
電源電圧Vccとの間には、パワースイッチとしてのP
チャンネルMO3FETQ12か設けられる。上記読み
出し電流を形成するMOSFETQ9のゲートには、上
記増幅MO3FETQIOと負荷MO3FETQIIか
らなる反転増幅回路の出カイ言回が伊、給されろ。
This depletion type MO3FF', TQ11, has its gate and source connected, thereby acting as a constant current source load. Between the load MOSFE'rQII and the power supply voltage Vcc, there is a P as a power switch.
A channel MO3FETQ12 is provided. The output signal of the inverting amplifier circuit consisting of the amplifying MO3FET QIO and the load MO3FET QII is fed to the gate of the MOSFET Q9 which forms the read current.

上記増幅MO3FETQIOに(上、り」作詞?Tff
用のNチ+ンネルMO8FETQ13が並夕1農こ設け
られる。上記反転増幅回路の出力信号は、レベルシフト
回路としての増幅N10SF巳TQ15のゲートに供給
される。この星幅MO3FETQ1.5は、ソースフォ
ロワ増幅動作を行う。それ故、MOSFETQ15のソ
ースと回路の接地電位点との間には、負荷としてのデイ
プレッション型MO5FETQ16が設けられる。この
デイブレンジョン型MO3FETQI 6は、そのゲー
トとソースが共通接続されることによって、上記同様に
定電流源として動作する。
Lyrics for the above amplification MO3FETQIO (upper, ri)?Tff
An N-channel MO8FETQ13 was installed for the same purpose. The output signal of the inverting amplifier circuit is supplied to the gate of the amplifier N10SFM TQ15 as a level shift circuit. This star width MO3FETQ1.5 performs a source follower amplification operation. Therefore, a depletion type MO5FETQ16 as a load is provided between the source of the MOSFETQ15 and the ground potential point of the circuit. This daburension type MO3FET QI 6 operates as a constant current source in the same manner as described above by having its gate and source connected in common.

上記増幅MOS F ET’Q 15のドレインと電源
電圧Vccとの間には、バヮースイ・7チとしてのPチ
ャンイルMOSFETQi4が設けられる。また、上記
レベルシフト動作を行う増幅MOSFETQ15のソー
ス出力は、ソースが接地された増幅MO3FETQ17
のデートに供給さ、?Lるゆこの増幅MO3FETQ1
7のドレ・インと共通データ線CDとの間には、出力制
御用のNチャンネル型のスイッチMOS F ETo、
 18が設けられる。
A P-channel MOSFET Qi4 as a bypass switch is provided between the drain of the amplification MOSFET'Q15 and the power supply voltage Vcc. Further, the source output of the amplifying MOSFET Q15 that performs the level shift operation is connected to the amplifying MO3FET Q17 whose source is grounded.
Supplied on a date,? L Ruyuko amplification MO3FETQ1
Between the drain and drain of 7 and the common data line CD, an N-channel type switch MOS F ETo for output control is connected.
18 are provided.

上記Nチャンネル型のMOSFETQI 3及びPチャ
ンネルMOSFETQI 2とQi4のゲートにはカラ
ム選択信号YOが供給される。また、NチャンネルMO
3FET018のゲートには、反転のカラム選択信号Y
Oが供給される。
A column selection signal YO is supplied to the gates of the N-channel MOSFET QI 3 and the P-channel MOSFETs QI 2 and Qi4. Also, N channel MO
An inverted column selection signal Y is applied to the gate of 3FET018.
O is supplied.

この実施例の読み出し増幅回路DAOの動作は以下の通
りである。
The operation of the read amplifier circuit DAO of this embodiment is as follows.

カラム選択信号YOがハイレベルの非ifレベルなら、
−上記PチャンネルMO3FETQI 2、Ql4及び
NチャンネルMO3FBTQ18がオフ状態に、Nチャ
ンネルMO3FETQ] 3がオン状態になる。−上記
MO3FETQ12とQl4のオフ状態により、上記反
転増幅回路(Qll。
If the column selection signal YO is at a high non-if level,
- The P-channel MO3FETQI2, Ql4 and N-channel MO3FBTQ18 are turned off, and the N-channel MO3FETQ]3 is turned on. - The inverting amplifier circuit (Qll) is turned off by the off state of the MO3FETs Q12 and Ql4.

Ql2)と、レベルシフト回路(Ql5.Ql6)は、
動作直流電流が流れなく電流を消費しない。また、MO
5FETQ18のオフ状態により、出力がハイインピー
ダンス状態になる。そして、MO3FETQI 3のオ
ン状態により読み出し電流をデータ線DOに流ずMO3
FETQ9をオフ状態にする。これにより、次に説明す
るような選択状態にされた増幅回路の出力が共通データ
線CDに出力される。
Ql2) and the level shift circuit (Ql5.Ql6) are
Operating direct current does not flow and no current is consumed. Also, M.O.
With the 5FET Q18 in the off state, the output becomes a high impedance state. Then, due to the ON state of MO3FETQI3, the read current does not flow to the data line DO and MO3FETQI3 is turned on.
Turn FETQ9 off. As a result, the output of the selected amplifier circuit as described below is output to the common data line CD.

カラム選択信号YOがロウレベルの選択レベルなら、上
記Pチ4・ンネルンyio S F ETQ 12.0
14及びNチャンネルMO3FETQI Lう;オン状
態に、Nテヤノ示ルMO5FETGλ13がオフ状態に
なる。上記MO3FETQ12とQl4のオン状態とM
O3FETQI 3オフ状態により、上記反転増幅回路
(Ql l、ul 2)と、し・\ルシフト回路(Ql
 5.Ql 6)の動作が有効にされる。すンよりち、
上記MO3FETQ12とQl4のオン状態により動作
電圧が供給される。反転増幅回路ば、」二足M OS 
F E T Q 9のコンダクタンスとデータ線DOに
結合される直列MO3FE′■゛回路の合成コンダクタ
ンスとの比に従った信号を増幅する。上記データ線DO
に電流が流れているなら、反転増幅回路(Q10とQl
l)の出力信号が比較的高い電位となり、MO5FET
Q9のケート電位を高くしてデータ、JDOの電位が低
くなりすきるのを抑える。逆に、データ!?fDOに電
流が流れないと、反転増幅回路の出力信号が比較的低い
電位となり、MO3FETQ9のゲート電位を低くして
データ線DOの電位が高くなりすぎるのを抑えるように
作用する。これにより、データ線DOの信号振幅が抑え
れらるので、データ110の読み出しハイレベルとロウ
レベルの変化が小さ(なり、データ線DOにおける寄生
容量の充放電に費やされる電流を小さ(できるので、高
速読み出しが可能になる。
If the column selection signal YO is at the low selection level, the above Pchi 4 yio SF ETQ 12.0
14 and N-channel MO3FET QIL are turned on, and N-channel MO5FETGλ13 is turned off. The ON state of MO3FETQ12 and Ql4 above and M
O3FETQI3 OFF state causes the above-mentioned inverting amplifier circuit (Ql l, ul 2) and shift circuit (Ql
5. Ql 6) operation is enabled. Dear Sun,
An operating voltage is supplied by the ON state of MO3FETQ12 and Ql4. Inverting amplifier circuit, two-legged MOS
A signal is amplified according to the ratio between the conductance of FETQ9 and the combined conductance of the series MO3FE'*' circuit coupled to the data line DO. The above data line DO
If current is flowing through the inverting amplifier circuit (Q10 and Ql
The output signal of l) becomes a relatively high potential, and the MO5FET
The gate potential of Q9 is raised to prevent the data and JDO potentials from becoming too low. On the contrary, data! ? When no current flows through fDO, the output signal of the inverting amplifier circuit has a relatively low potential, which lowers the gate potential of MO3FETQ9 to prevent the potential of data line DO from becoming too high. As a result, the signal amplitude of the data line DO is suppressed, so the change between the read high level and the low level of the data 110 is small, and the current consumed for charging and discharging the parasitic capacitance on the data line DO is small. High-speed reading becomes possible.

上記の反転増幅回路(QIO,Qll)の出力信号は、
MO3FETQ15とQl7からなるソースフォロワ回
路で、MO3FF、TQ15のしきい値電圧V thn
だけレベルシフトされ、MO3FETQ17のゲートに
伝えられる。これにより、MO3FETQ17をオン/
オフ状管にし、スイッチMO3FETQ18及び共通デ
ータ線CDを通してセンスアンプSAにより読み出され
る。
The output signal of the above inverting amplifier circuit (QIO, Qll) is
A source follower circuit consisting of MO3FETQ15 and Ql7, the threshold voltage V thn of MO3FF and TQ15
The level of the signal is shifted by 1, and is transmitted to the gate of MO3FETQ17. This turns MO3FETQ17 on/off.
The signal is turned off and read out by the sense amplifier SA through the switch MO3FET Q18 and the common data line CD.

センスアンプSAは、上記電流センス回路と類似の入力
回路と、その出力信号を受ける増幅回路OAとから構成
される。すなわち、センスアンプSAの電流センス部は
、MO3FETQ20〜Q24から構成され、制御信号
として内部チップイネーブル信号CF、が用いられる。
The sense amplifier SA is composed of an input circuit similar to the current sense circuit described above, and an amplifier circuit OA that receives an output signal from the input circuit. That is, the current sensing section of the sense amplifier SA is composed of MO3FETs Q20 to Q24, and uses an internal chip enable signal CF as a control signal.

すなわら、信号CEがロウレベルにされるROMが動作
状態のとき、動作状態にされ、上記共通データ線CDか
ら伝えるられる読み出し信号を上記同様に増幅するもの
である。この場合も、そのレベルリミッタ作用によって
、高速読み出しが可能となる。
That is, when the ROM to which the signal CE is set to low level is in the operating state, it is activated and the read signal transmitted from the common data line CD is amplified in the same manner as described above. In this case as well, high-speed reading becomes possible due to the level limiter action.

そして、サブセンスアンプとしての読み出しアンプDA
O等は、1つのデータ線Doにセンス電流を流すもので
あり、センスアンプSAは、共通データ線CDと選択さ
れた1つの増幅MO3FETQ17等にセンス電流を流
す。これにより、データ線と共通データ線の寄生容量が
分離され、それぞれの充放電電流を上記2つのアンプD
A、SAで行うため、その充放電を高速に行うことがで
きる。これにより、上記のように大記憶容量化を図った
ROMの高速読み出しが可能になる。
And the read amplifier DA as a sub-sense amplifier
O, etc. are used to cause a sense current to flow through one data line Do, and the sense amplifier SA causes a sense current to flow through the common data line CD and one selected amplification MO3FET Q17, etc. As a result, the parasitic capacitance of the data line and the common data line is separated, and the respective charging/discharging currents are transferred to the two amplifiers D.
Since it is performed in A and SA, the charging and discharging can be performed at high speed. This enables high-speed reading of a ROM with a large storage capacity as described above.

このことを定量的に説明するならば、下記の通りである
This can be explained quantitatively as follows.

データ線DOの電位v1は、次式+11により求められ
る。
The potential v1 of the data line DO is determined by the following equation +11.

V 1 = VthN+ (β。、/β。り ””  
l VLhNo l・ ・ ・ ・ ・ (11 ここで、βは、各MOS F ETのチャンヱル導電率
、v th、はNチャンネルMOS F ETのしきい
値電圧、V thNoはデイプレッション型MO3FE
Tのしきい値電圧である。
V 1 = VthN+ (β., /β.ri ””
l VLhNo l・ ・ ・ ・ ・ (11 Here, β is the channel conductivity of each MOS FET, v th is the threshold voltage of the N-channel MOS FET, and V thNo is the depletion type MO3FE
is the threshold voltage of T.

レベルシフト部の出力電圧V3は、次式(2)により求
められる。
The output voltage V3 of the level shift section is determined by the following equation (2).

V 3 =VthN+[(β。3./β。、、)I/Z
−(β。16/β。+s)”” )  l Vttro
 l十  (2i、/  β。、)  I/Z   ・
 ・  ・ (2)ここで、iHはデータ線のメモリセ
ルに流れる電流である。
V 3 =VthN+[(β.3./β.,,)I/Z
−(β.16/β.+s)””) l Vttro
l ten (2i, / β.,) I/Z ・
(2) Here, iH is the current flowing through the memory cell of the data line.

共通データ線CDの電位■4は、次式(3)により求め
られる。
The potential 4 of the common data line CD is determined by the following equation (3).

V4=Vth、+ (βazt/βoz+)””  l
 VthHo l・・・・・(3) センスアンプSAの電圧v5は、次式(4)により求め
られる。
V4=Vth, + (βazt/βoz+)”” l
VthHo l (3) The voltage v5 of the sense amplifier SA is determined by the following equation (4).

V5=2Vth、+ (β。、/β。1゜ν”  l 
VthNn l+(β。1./β。9)”” (V 3
− VthN)  ・・(4)ここで、(β。1./β
。、。)”” = (β。、6/β 、、)l/2とな
るように各MO3FETのサイズ(W/L)を設定する
と、上式(2)は、次式(5)のようになる。
V5=2Vth, + (β., /β.1゜ν" l
VthNn l+(β.1./β.9)”” (V 3
- VthN) ... (4) Here, (β.1./β
. ,. )"" = (β., 6/β,,)l/2, if the size (W/L) of each MO3FET is set, the above equation (2) becomes the following equation (5) .

V 3−V thN →−(2in/β。、) l/2
   ・・・(5)式(5)を式(4)に代入すると、
次式(6)が得られる。
V 3-V thN →-(2in/β.,) l/2
...(5) Substituting equation (5) into equation (4), we get
The following equation (6) is obtained.

V5=2Vthh + (β、l、/βQ1゜)”” 
 IVth、la l+(β、+7/β。、)”” (
2ix /β。、) l/Z・ ・ ・ ・ ・ ・(
6) これにより、信号量ΔV5は、(β。、7/β。、)l
/2(2iN/ β。、) l/2となり、MOSFE
TQ9とQ17のW/Lの比で信号量が増幅されること
になる。
V5=2Vthh + (β, l, /βQ1゜)""
IVth, la l+(β, +7/β.,)”” (
2ix/β. ,) l/Z・ ・ ・ ・ ・ ・(
6) As a result, the signal amount ΔV5 is (β., 7/β.,)l
/2 (2iN/ β.,) l/2, and MOSFE
The signal amount is amplified by the W/L ratio of TQ9 and Q17.

また、上記のように各データ線DO〜D511のそれぞ
れにサブセンスアンプとしての増幅回路を設けたにも係
わらず、Y系の選択信号により1つの増幅回路だけ動作
状態にするものであるため、低消費電力化を維持するこ
とができる。
Furthermore, even though each of the data lines DO to D511 is provided with an amplifier circuit as a sub-sense amplifier as described above, only one amplifier circuit is activated by the Y-system selection signal. Low power consumption can be maintained.

第3図には、上記読み出し増幅回路の他の一実施例の回
路図が示されている。
FIG. 3 shows a circuit diagram of another embodiment of the read amplification circuit.

この実施例では、前記同様な電流センス部(Q9〜QI
2)の出力信号を、MOSFETQ26とQ27からな
るレベルシフト回路に供給し、その出力信号をMOSF
ETQ30とQ29からなる反転増幅回路t+rI幅し
、ソース接地でドレイン出力のMO3FF、TQ32の
ゲートに伝える。そして、出力MO5FETOR2のゲ
ートと接地電位との悶にNチャンネル型のスイッチMO
3FBT Q S 1を設はプ1、τれに前記選FJ?
信号YOを供給するものである。また、十記しベルシフ
ト回路とその出力を受ける反転増幅回路にば、Pチャン
ネルMO3FETQ25とQ28からなるパワースイッ
チMO5FF、Tを介して動作電圧及び電流が供給され
ろ。
In this embodiment, a current sensing section similar to the above (Q9 to QI
The output signal of 2) is supplied to a level shift circuit consisting of MOSFETQ26 and Q27, and the output signal is transferred to the MOSFET Q26 and Q27.
The inverting amplifier circuit consisting of ETQ30 and Q29 has a width of t+rI, and the source is connected to the drain output MO3FF and the gate of TQ32. Then, between the gate of the output MO5FETOR2 and the ground potential, an N-channel switch MO
3FBT Q S 1 is set up, τ is the above selection FJ?
It supplies the signal YO. Further, the operating voltage and current are supplied to the bell shift circuit and the inverting amplifier circuit receiving its output through a power switch MO5FF, T consisting of P-channel MO3FETs Q25 and Q28.

この構成では、選択信号YOがハイレベルの非選)パ伏
態のとき、上記各回路が非動作状態になるとともに、M
OSFETQ31のオン状態により出力MO3FETQ
32をオフ状態にできる。これにより、非・liI+作
での出力ハイインピーダンス状態を作り出すことかでき
る。この構成では、出力MO3FETQ32のドレイン
が直接に共通データ線CDに結合されるため、前記のよ
うなスイッチMO3FETQI 8によるオン抵抗がな
く、いっそうの高速読み出しが可能になる。
In this configuration, when the selection signal YO is at a high level (non-selected), the above-mentioned circuits become inactive, and the M
Output MO3FETQ due to ON state of OSFETQ31
32 can be turned off. This makes it possible to create an output high impedance state in non-liI+ operation. In this configuration, since the drain of the output MO3FET Q32 is directly coupled to the common data line CD, there is no on-resistance caused by the switch MO3FET QI8 as described above, and higher speed reading is possible.

上記の実施例から得られる作用効果は、下記の通りであ
る。すなわち、 (1)メモリセルが結合されるデータ線に、YiJ択信
分信号り動作状態にされる読み出しアンプ(サブセンス
アンプ)を設けることにより、データ線と共通データ線
の寄生容量が分離されるから、読み出しアンプ及び共通
データ線に設けられるセンスアンプの負荷が軽減される
こと、及び共通データ線には上記読み出しアンプにより
増幅された信号が伝えらることによって読み出しの高速
化を図ることができるという効果が得られろ。
The effects obtained from the above examples are as follows. That is, (1) By providing a read amplifier (sub-sense amplifier) that is activated by the YiJ selective signal on the data line to which the memory cells are coupled, the parasitic capacitance between the data line and the common data line is separated. Therefore, the load on the read amplifier and the sense amplifier provided on the common data line is reduced, and the read speed can be increased by transmitting the signal amplified by the read amplifier to the common data line. Get the effect that you can.

(2)データ線に設けられる読み出しアンプをY選択信
号により1つだけ動作状態にすることにより、低消費電
力化を図ることができるという効果が得られる。
(2) By activating only one of the read amplifiers provided on the data line by the Y selection signal, it is possible to achieve the effect of reducing power consumption.

・(3)1つのデータ線に対して左右に一対の直列MO
3FETを配置するととともに、メモリアレイを上下に
構成した局舎、上ドのメモリアレイを接続ずろためのデ
ータ線を一対の直列M OS FE Tを構成する拡散
層の間に配置することができる。これによ−て、デー・
′7緑と十・E 41−η二(反。社の−ごこは、比較
的厚い′:′7さの、1間絶縁肋支びフィールド絶縁腰
が設けられろことζこなるから、その寄俸−容量を戎ら
すことができ2.。これによって、上記(1)の効果と
相俟っていっそうの高理化を口ろことができるという効
果が::A、 、:、メZる。
・(3) A pair of series MOs on the left and right for one data line
In addition to arranging the 3FETs, a data line for connecting and displacing the upper and lower memory arrays can be arranged between the diffusion layers forming a pair of series MOS FETs. With this, the day
'7 Green and 10 E 41-η2 (Anti-sha's - is relatively thick': '7 Green, 1 space insulating rib support and field insulating waist should be provided. 2. As a result, in combination with the effect of (1) above, it is possible to further improve efficiency. Zru.

以上本発明者によ7.てなされた発明を実5.7例に基
づき具体的に説明したが、4、発明は上記実施例に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々
変更可能であることはいうまでもない。例えば′、1つ
のデータ線にtF−的に接続されるべき直列で世の記憶
甲M○5FETば、種々の変形例を採ることができるう
11J[えば、データ線に一対一対応して設けられるサ
ブセンスアンプや共通データ線に設けられるセンスアン
プの具体的構成は、種々の実施形態を採ることができる
。また、第1図に示したE側のメモリアレイUMにおい
て、1つのデータ線に対して合計4列からなる直列MO
3FETを配置して、その中から1つをカラムスイッチ
回路によって択一的に接続させるようにするもの、ある
いは、メモリアレイを上、中、及び下のように三段に縦
積構成に配置〃するもの等種々の実施例形態を採ること
ができる。このようなROMは、1つの記憶装置を構成
するものの他、マイクロコンピュータのようなディジタ
ル隼積回路に内蔵されるものであってもよい。
7. According to the inventor of the present invention. Although the invention has been specifically explained based on 5.7 examples, it goes without saying that the invention is not limited to the above-mentioned examples and can be modified in various ways without departing from the gist of the invention. Nor. For example, if 5 FETs are connected in series to one data line in a tF- manner, various modifications can be made. The specific configurations of the sub-sense amplifiers provided and the sense amplifiers provided on the common data line can take various embodiments. In addition, in the memory array UM on the E side shown in FIG.
One in which 3 FETs are arranged and one of them is selectively connected by a column switch circuit, or the memory array is arranged in a vertically stacked configuration in three stages such as upper, middle, and lower. Various embodiments may be adopted, such as those in which: Such a ROM may constitute one storage device or may be built into a digital integrated circuit such as a microcomputer.

以上本発明をその背景となった縦型ROMについて説明
したが、本発明は縦型ROMの他、横型ROMのような
マスク型ROM及びE P ROM及びEEPROMの
ように消去可能にされろとともに、電気的に書き込みが
可能なプログラマブルROM等のように、データ線に多
数のメモリセルが結合されることによって比較的大きな
寄生容量を持つ半導体記憶装置に広く利用できる。
The present invention has been described above with respect to a vertical ROM, which is the background thereof, but the present invention is also applicable to not only a vertical ROM, but also a mask type ROM such as a horizontal ROM, and an erasable ROM such as an EP ROM and an EEPROM. It can be widely used in semiconductor memory devices that have a relatively large parasitic capacitance by connecting a large number of memory cells to a data line, such as electrically writable programmable ROMs.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、メモリセルが結合されるデータ線に、Y選
択信号により動作状態にされる読み出しアンプ(サブセ
ンスアンプ)を設けることにより、データ線と共通デー
タ線の寄生容量が分離されるから、読み出しアンプ及び
共通データ線に設けられるセンスアンプの負荷が軽減さ
れること、及び共通データ線には上記読み出しアンプに
より増幅された信号が伝えらることによって読み出しの
高速化を図ることができる。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows. In other words, by providing a read amplifier (sub-sense amplifier) that is activated by the Y selection signal on the data line to which the memory cell is coupled, the parasitic capacitance between the data line and the common data line is separated. The load on the sense amplifier provided on the common data line is reduced, and the signal amplified by the read amplifier is transmitted to the common data line, thereby increasing the speed of reading.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明が適用された縦型ROMのの一実施
例を示す回路図、 第2図は、その読み出し増幅回路及びセンスアンプの一
実施例を示す回路図、 第3図は、上記読み出し増幅回路の他の一実施例を回路
図である。 DAO〜DA511・・読み出し増幅回路(サブセンス
アンプ) 、UM・・上側メモリアレイ、LM・・下側
メモリアレイ、YADB −DCR・・カラムアドレス
バッファ・デコーダ、XADB・DCR・・ロウアドレ
スバッファ・デコーダ、SA・・センスアンプ、DOB
・・データ出力バッファ、G1−G4・・アンドゲート
回路、OA・・増幅回路、
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a vertical ROM to which the present invention is applied, FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of the read amplifier circuit and sense amplifier, and FIG. FIG. 7 is a circuit diagram of another embodiment of the readout amplifier circuit. DAO to DA511...Read amplifier circuit (sub-sense amplifier), UM...Upper memory array, LM...Lower memory array, YADB-DCR...Column address buffer/decoder, XADB/DCR...Row address buffer/decoder , SA... sense amplifier, DOB
・・Data output buffer, G1-G4・・AND gate circuit, OA・・amplifier circuit,

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、メモリセルが結合されるデータ線に、Y選択信号に
より選択的に出力信号を共通データ線に伝える読み出し
アンプを設けたことを特徴とする半導体記憶装置。 2、上記メモリセルは、電源電圧の遮断に対して記憶情
報が不揮発性とされるものであることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。 3、上記読み出しアンプは、選択されたメモリセルの電
流センス部とそのセンス出力を増幅するレベルシフト部
からなり、上記Y選択信号により動作状態にされるもの
であることを特徴とする特許請求の範囲第1又は第2項
記載の半導体記憶装置。
Claims: 1. A semiconductor memory device characterized in that a data line to which memory cells are coupled is provided with a read amplifier that selectively transmits an output signal to a common data line by a Y selection signal. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the memory cell has stored information that is nonvolatile when the power supply voltage is interrupted. 3. The read amplifier comprises a current sensing section of a selected memory cell and a level shift section for amplifying the sense output, and is activated by the Y selection signal. A semiconductor memory device according to scope 1 or 2.
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JPS57186293A (en) * 1981-05-12 1982-11-16 Fujitsu Ltd Semiconductor storing unit

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