JPH01274007A - Three-dimensional measuring device - Google Patents

Three-dimensional measuring device

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JPH01274007A
JPH01274007A JP10337588A JP10337588A JPH01274007A JP H01274007 A JPH01274007 A JP H01274007A JP 10337588 A JP10337588 A JP 10337588A JP 10337588 A JP10337588 A JP 10337588A JP H01274007 A JPH01274007 A JP H01274007A
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pattern
slit
image
slits
mask pattern
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Minoru Maruyama
稔 丸山
Shigeru Abe
茂 阿部
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PURPOSE:To enable measurement of a three-dimensional shape of the whole of an object by single reading of an image, by arranging a mask pattern to be made up of a number of slits cut at random to distinguish the slits. CONSTITUTION:A mask pattern 9 is provided for projecting slit patterns, a pattern projector 10 to project a pattern to an object, a TV camera 11 to read images and a memory 12 to store an image data. Moreover, an image of a slit pattern projected to the object is made to correspond to a pattern 9 and an arithmetic device 13 is provided to measure a three-dimensional distance to the object by trigonometrical survey. Then, a number of slits in the pattern 9 allows measurement of the whole of the object by one image photography and a cut pattern on the slits provides an indicator for to which slit a slit on the image taken corresponds. This enables three dimensional measurement of a distance of the whole of the object by single image photography.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

〔産業上の利用分野〕 この発明は、光パターン投影により、物体の形状を測定
する3次元計測装置に関するものである。 〔従来の技術〕 第9図は、手塚慶−1北橋忠宏、小川秀夫著「ディジタ
ル画像処理工学」日刊工業新聞社発行、1985、pp
190に示された3次元計測のためのスリット光投影法
と呼ばれる手法を示す図である。 第10図はその3次元計測装置の構成を示すブロック図
で、(1)は投影されるスリットパターン用のマスクパ
ターン、(2)はスリット位置を変化させるためのマス
クパターン駆動装置、(3)はスリットパターンを物体
に投影するパターン投影装置、(4)はスリットパター
ンを投影された計測の対象物の画像を読み込むためのブ
レビカメラ、(5)は画像データを記憶する記憶装置、
(6)は物体に投影されたスリットパターンと記憶装@
 (5)に記憶されたスリット像とから、物体のスリッ
トパターンがあたっている部分の3次元距離を計測する
演算装置である。 第11図は、第10図のスリットパターン用マスクパタ
ーン(1)を示すパターン図である。 次に動作について説明する。スリットパターン投影用マ
スクパターン(1)t”、マスクパターン1lEKid
装置(2)で適当な位置に動かし、パターン投影装置(
3)によジ、スリット状の光パターンを物体に当てる。 次いで、テレビカメラ(4)でこの画像を読み取り、画
像データ記憶装置(5)に記憶し、演算装置(6)に工
り光が当っている部分の像を検出する。検出されたスリ
ットパターンの像と、投影に用いたマスクパターン口)
との位置から、3角測量によって、物体上の光が当って
いる部分までの距離を測定する。上記動作を、マスクパ
ターン駆動装置
[Industrial Field of Application] The present invention relates to a three-dimensional measuring device that measures the shape of an object by projecting a light pattern. [Prior art] Figure 9 is from "Digital Image Processing Engineering" by Kei Tezuka-1 Tadahiro Kitahashi and Hideo Ogawa, published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1985, pp.
190 is a diagram showing a method called a slit light projection method for three-dimensional measurement shown in FIG. FIG. 10 is a block diagram showing the configuration of the three-dimensional measuring device, in which (1) is a mask pattern for the slit pattern to be projected, (2) is a mask pattern drive device for changing the slit position, and (3) is a mask pattern for the slit pattern to be projected. (4) is a pattern projection device that projects the slit pattern onto an object; (4) is a Brevi camera that reads the image of the measurement target onto which the slit pattern is projected; (5) is a storage device that stores image data;
(6) is the slit pattern projected onto the object and the memory device @
(5) This is an arithmetic device that measures the three-dimensional distance of the part of the object that is hit by the slit pattern from the slit image stored in step (5). FIG. 11 is a pattern diagram showing the slit pattern mask pattern (1) of FIG. 10. Next, the operation will be explained. Mask pattern for slit pattern projection (1) t'', mask pattern 1lEKid
Move the device (2) to an appropriate position, and then turn the pattern projection device (
3) Shine a slit-shaped light pattern onto an object. Next, this image is read by a television camera (4) and stored in an image data storage device (5), and an image of the portion illuminated by artificial light is detected by a calculation device (6). Image of detected slit pattern and mask pattern opening used for projection)
The distance from the position of the object to the part of the object that is illuminated by the light is measured by triangulation. The above operation is performed by a mask pattern driving device.

【2】ヲ用いて、マスクパターン【1)
全移動させて、繰り返し行うことにより、物体全体の距
離の計測を行う。 〔発明が解決しようとする課題〕 従来のスリットパターン投影による3次元計測装fは以
上のように構成式れているので、物体全体の形状を測定
するためには、順次スリットパターン投影用のマスクパ
ターンを移動させて画像を撮影し、距離全計測しなけれ
ばならず、多くの画像が必要で、また、計測に時間がか
かるなどの閉頭があった。 この発明は、上記のような21題を解決するためになさ
れたもので、−回のパターン投影、−口の画像撮影だけ
で、物体全体の形状の測定ができる3次元計測装置を得
ることを目的とする。 〔課題を解決するための手段〕 この発明に係る3次元計測装置tは、スリットノ(を用
いるようにしたものである。 〔作用〕 この発明におけるマスクパターンのうち、多数本のスリ
ットは、1回の画像撮影で対象物体全体の計測を行うこ
とを可能にし、各スリット上の切断パターンは撮影され
た画像上の各スリットがマスクパターン上でのどのスリ
ットに対応するかの示標を与え、−回の画像撮影だけで
の物体全体の3次元距離計測を実現する。 〔実施例〕 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明で用いられるスリットパターン投影用のマ
スクパターンの一例である。第1図において、(7)は
計測を行うためのスリットツクターンを生成する部分で
あり、(8)は各スリット(7)の上にランダムに配置
された切断パターンである。 第2図はこの実施例のブロック構成図であり、(9)は
第1図に示したマスクパターン、αqはパターンを物体
に投影するためのバター/投影器、αηは画像を読み込
むためのテレビカメラ、(6)は画像データを記憶する
ための記憶装置、(t3vi物体に投影されたスリット
パターンの像とマスクパターン(9)トの対応付けを行
ない、3角測徽によって、物体までの3次元距離を計測
する演算装置である。 この実施例の作用、動作について説明する。第3図に示
すフローチャートに2いて、ステップ(ロ)で、第1図
に示すようなパターンを物体に投影する。第1図に示す
ようなパターンを投影することにLす、物体上には多数
のスリットとその上のランダムな切断パターンから成る
像が生成される。 これをテレビカメラ(2)により記憶装fQ2に読み込
み、ステップ(至)において物体上のスリットパターン
の像を検出し、次いでステップαQにおいて物体上の切
断パターンの像を検出する。第1図に示すような多数の
スリットパターンを同時に投影して、1枚の画像だけを
用いて、3角測量によって物体全体の3次元距離の計測
を行う之めには、マスクパターン中の各スリットが、物
体に投影されたスリット像のうちのどれに相当するかを
求めなければならない。ステップりにおいては、この画
像上での各スリット像とマスク上でのスリットパターン
の対応付けを行なう。ステップ明ではステップC17)
で得られた対応関係から、物体までの3次元距離を計算
する。 次に、ステラプリにおけるスリット像とマスクパターン
の対応付けについて説明する。第4図はステップαηに
ひける対応付は処理を示すフローチャートである。第1
図に示すような本実施例におけるマスクパターンを用い
た場合、物体上には、ランダムに切断がはいったスリッ
ト像が生じる。 第5図はこれについて例をあげて説明する。第5図でA
は投影に用いたマスクパターンの一部を示す図であり、
形はl不のスリット上の切断パターンC,と切断パター
ンC8にばさまれる部分である。 W、5図でBはAに一部のみを示したマスクパターンを
投影したときに生じるスリット像の例である。 第4図に示すフローチャートにおいて、ステップα9で
、まずスリット像から切断パターンを両端に持つような
セグメント像を検出すると共に、その端点、すなわち切
断パターンを検出する。第5図のBの例では、−gl 
* 4 r JJmがセグメントであり、C:、 C;
が21の端点がある。次いで、ステップ■において、こ
のセグメントの対応を探索する。セグメントの対応はそ
の両端点の対応をとることによって行なわれる。第5図
に2いて、マスクパターンAの中のセグメント2の端点
C,,C,に対応する端点が存在する可能性のある箇所
を破線により示す。(このSは、エビポーラ線と呼ばれ
る)この例では、マスクA上のセグメント!は画像B上
のセグメント21と対応する。この発明に2いては、端
点を生じさせる切断パターンを27ダムに配置している
ので偽の対応が発生する可能性?低くすることができる
。ステップ囚に2いては、各セグメントの対応探索の結
果、両端点とも合致するセグメントが存在するかどうか
調べ、ステップ■において、そのような合致するセグメ
ントが、ただ1つであるか調べる。このような対応する
セグメントがただ1つの場合は、対応は確定し、ステッ
プのでこの対応関係を記憶し、終了する0このような対
応が1つ以上存在する場合は、ステップ(至)に訃いて
、その周辺のセグメントの対応関係を調べる。第6図に
これについて例全あげて説明するQ第6図Aはマスクパ
ターン上のスリットノくターン及び切断パターン、Bは
画像上のパターンである。 セグメント2と2′が対応するときは、その周辺のセグ
メントも対応しなければならない。すなわち、!と同一
のスリット上にあジ、詔と連続しているセグメントAa
、Abは、!と同一のスリット上にあり、!′と連続し
ている。a、 、 石2と対応し、ぷと隣接する一ec
 、 −gdは2′と隣接する−136 + −04と
対応する0!の周辺(−ga + −gb 、−13c
 p−8d)と!′の周辺(、!3.. 。 432 + IB + 4 )がこのような対応関係に
あるときは、Jとぷ′は対応するものとステップ(ハ)
で判定し、ステップムによりこの対応関係を記憶する。 周辺の対応がまだ未確定の場合は、ステップ圏に2いて
対応付けが進行するまで待つ。ステップ■で両端の対応
が得られなかったものについては、ステップ(至)で、
片側が対応しているものがあるかどうか調べ対応してい
るものがある場合は、ステップ(至)へ進み、周辺対応
関係を調べる。ステップの、(至)で両側とも対応する
ものがないときには、ステップ万で、全セグメントの対
応探索が終了しているかどうかみて、全セグメントにつ
いて探索が終了した後で、ステップ(至)で周辺の対応
関係から、対応するセグメントが存在するか調べる。 このようにして、スリット上に配置したランダムな切断
パターンの対応関係から多数本のスリット間の対応付け
を行うことにより、1枚のノくターン投影、画像撮影で
、物体全体の3次元距離計測が可能となる。 な2、上記実施例ではマスクパターン中のスリット上の
切断パターン(8)を用いるものを示したが、切断パタ
ーン(8)の代わりにスリット部分(7)とは異なる色
の切断パターン金量いてもよい。第7図に色付きの切断
パターンを用いた他の実施例を示す。 ■はスリット部分、(11)は切断パターン部分であり
、田と3υは異なる色から成る。また、上記実施例では
各スリットを区別するためのパターンとして、を用いて
もLい。 〔発明の効果〕 以上のように、この発明によれば投影するパターンを生
成するためのマスクパターンを、各スリットヲ区別する
ためのランダムな切断が入っているスリット多数本から
成るように構成したので、1回の画像読込みで、物体全
体の3次元形状測定を行うことができ、少ない画像で高
速に3次元計測を行える効果がある。
[2] Use mask pattern [1]
By moving the entire object and repeating the process, the distance of the entire object is measured. [Problems to be Solved by the Invention] Since the conventional three-dimensional measuring device f using slit pattern projection is configured as described above, in order to measure the shape of the entire object, it is necessary to sequentially use a mask for projecting the slit pattern. The pattern had to be moved and images taken to measure the entire distance, which required a large number of images and caused problems such as the time it took to measure. This invention was made to solve the above-mentioned 21 problems, and aims to provide a three-dimensional measuring device that can measure the shape of an entire object by simply projecting a pattern twice and photographing an image of the mouth. purpose. [Means for Solving the Problems] The three-dimensional measuring device t according to the present invention uses slit holes. [Operation] Among the mask patterns in this invention, a large number of slits are The cutting pattern on each slit provides an indication of which slit on the mask pattern each slit on the captured image corresponds to, and - [Embodiment] An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
The figure shows an example of a mask pattern for slit pattern projection used in the present invention. In FIG. 1, (7) is a part that generates slit cuts for measurement, and (8) is a cutting pattern randomly placed on each slit (7). FIG. 2 is a block diagram of this embodiment, where (9) is the mask pattern shown in FIG. 1, αq is a butter/projector for projecting the pattern onto an object, and αη is a television for reading the image. A camera (6) is a storage device for storing image data, (t3vi) correlates the image of the slit pattern projected onto the object with the mask pattern (9), and uses triangulation to This is an arithmetic device that measures dimensional distance.The function and operation of this embodiment will be explained.In step 2 of the flowchart shown in Fig. 3, in step (b), a pattern as shown in Fig. 1 is projected onto an object. By projecting the pattern shown in Figure 1, an image consisting of a large number of slits and random cutting patterns on the object is generated. The image of the slit pattern on the object is detected in step αQ, and the image of the cutting pattern on the object is detected in step αQ. In order to measure the three-dimensional distance of the entire object by triangulation using only one image, it is necessary to determine which of the slit images projected onto the object each slit in the mask pattern corresponds to. It is necessary to find out whether they correspond.In the step step, each slit image on this image is correlated with the slit pattern on the mask.In the step step C17)
The three-dimensional distance to the object is calculated from the correspondence obtained in . Next, the correspondence between the slit image and the mask pattern in Stellar Print will be explained. FIG. 4 is a flowchart showing the mapping process in step αη. 1st
When the mask pattern of this embodiment as shown in the figure is used, a slit image with random cuts is generated on the object. FIG. 5 explains this by giving an example. A in Figure 5
is a diagram showing a part of the mask pattern used for projection,
The shape is the part sandwiched between the cutting pattern C on the slit and the cutting pattern C8. In Figure W and Figure 5, B is an example of a slit image produced when a mask pattern, only a portion of which is shown in A, is projected. In the flowchart shown in FIG. 4, in step α9, a segment image having a cutting pattern at both ends is first detected from the slit image, and its end points, that is, the cutting pattern are detected. In the example of B in Figure 5, -gl
*4 r JJm is a segment, C:, C;
There are 21 endpoints. Next, in step (2), correspondence of this segment is searched. Correspondence of segments is performed by taking correspondence between their end points. In FIG. 5, dashed lines indicate locations where end points corresponding to end points C, , C, of segment 2 in mask pattern A may exist. (This S is called an evipolar line) In this example, the segment on mask A! corresponds to segment 21 on image B. In this invention, since the cutting pattern that generates the end points is placed in 27 dams, is there a possibility that false correspondence will occur? It can be lowered. In step 2, it is checked whether there is a segment that matches both end points as a result of the correspondence search for each segment, and in step 2, it is checked whether there is only one such matching segment. If there is only one such corresponding segment, the correspondence is established, the step memorizes this correspondence, and exits 0. If there is one or more such correspondences, then the step ends , examine the correspondence of surrounding segments. This will be explained in full with examples in FIG. 6.A in FIG. 6 shows the slit turn and cutting pattern on the mask pattern, and B shows the pattern on the image. When segments 2 and 2' correspond, the surrounding segments must also correspond. In other words! Segment Aa that is continuous with Aji and Yari on the same slit as
, Ab is! It is on the same slit as! ’ is continuous. a, , corresponding to stone 2 and adjacent to ec
, -gd is 0 corresponding to -136 + -04 adjacent to 2'! Around (-ga + -gb, -13c
p-8d) and! When the surroundings of ' (,!3...432 + IB + 4) have such a correspondence relationship, J and p' are the corresponding ones and steps (c)
, and store this correspondence using stepum. If the peripheral correspondence is still undetermined, stay in the step area and wait until the correspondence progresses. For those for which correspondence at both ends could not be obtained in step ■, in step (to),
Check to see if there is something that corresponds to one side, and if there is something that corresponds, proceed to step (to) and check the peripheral correspondence. If there is no correspondence on both sides at step (to), check whether the correspondence search for all segments has been completed at step 10, and after completing the search for all segments, at step (to) Check whether a corresponding segment exists based on the correspondence relationship. In this way, by associating multiple slits from the correspondence of random cutting patterns placed on the slits, three-dimensional distance measurement of the entire object can be performed by projecting a single turn and taking an image. becomes possible. 2. In the above embodiment, the cutting pattern (8) on the slit in the mask pattern is used, but instead of the cutting pattern (8), a cutting pattern gold amount of a different color from the slit portion (7) is used. Good too. FIG. 7 shows another embodiment using colored cutting patterns. (2) is the slit part, (11) is the cutting pattern part, and the fields and 3υ are made of different colors. Further, in the embodiment described above, it is also possible to use the pattern for distinguishing each slit. [Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the mask pattern for generating the pattern to be projected is configured to consist of a large number of slits with random cuts to distinguish each slit. , it is possible to measure the three-dimensional shape of the entire object by reading the image once, and there is an effect that three-dimensional measurement can be performed at high speed with a small number of images.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明で用いられるスリットパターン投影用
マスクパターンの一例を示す図、第2図はこの発明の一
実施例による3次元計測装置を示すブロック図、第3図
、第4図はこの発明の−実よる3次元計測装置の動作を
示す説明図、第7図第8図はそれぞれこの発明の他の実
2I1例及び更に他の実施例におけるスリットパターン
を示す説明図、第9図は従来の3次元計測装置の動作を
示す説明図、第10図は従来の3次元計測装置を示すブ
ロック図、第11図は従来のスリットパターン投影用の
マスクパターンを示す説明図である。 図に2いて、(7) &iミスリット(8)は切断点、
(9)はマスクパターン、QCIはパターン投影器、(
6)は撮像器(テレビカメラ)、(至)は演算装置であ
る。 な2、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
FIG. 1 is a diagram showing an example of a mask pattern for slit pattern projection used in the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a three-dimensional measuring device according to an embodiment of the present invention, and FIGS. FIGS. 7 and 8 are explanatory diagrams showing the operation of the three-dimensional measuring device according to the present invention, respectively, and FIG. FIG. 10 is a block diagram showing the conventional three-dimensional measuring device, and FIG. 11 is an explanatory drawing showing the conventional mask pattern for projecting a slit pattern. In figure 2, (7) &i mislit (8) are the cutting points,
(9) is a mask pattern, QCI is a pattern projector, (
6) is an imager (television camera), and (to) is an arithmetic device. 2. In the figures, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)それぞれランダムに配置された切断点でセグメン
トスリットに切断された複数本のスリットパターンを有
するマスクパターンの光像を被計測物体上に投影するパ
ターン投影器、 上記投影された光像を撮像する撮像器、及び、上記撮像
して得た像における各上記セグメントスリットについて
、その両端の切断点の位置を用いて上記マスクパターン
における各上記セグメントスリットとの対応を求め、上
記マスクパターンと上記投影光像との3次元距離を計算
する演算装置を備えた3次元計測装置。
(1) A pattern projector that projects an optical image of a mask pattern having a plurality of slit patterns cut into segment slits at randomly arranged cutting points onto an object to be measured, and images the projected optical image. With respect to each of the segment slits in the image obtained by capturing the image, the correspondence with each of the segment slits in the mask pattern is determined using the positions of the cutting points at both ends, and the correspondence between the mask pattern and the projection is calculated. A three-dimensional measurement device equipped with an arithmetic device that calculates the three-dimensional distance to an optical image.
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