JPH01264144A - Flat plate type cathode-ray tube - Google Patents

Flat plate type cathode-ray tube

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JPH01264144A
JPH01264144A JP8905788A JP8905788A JPH01264144A JP H01264144 A JPH01264144 A JP H01264144A JP 8905788 A JP8905788 A JP 8905788A JP 8905788 A JP8905788 A JP 8905788A JP H01264144 A JPH01264144 A JP H01264144A
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JP
Japan
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voltage
electrode
electron beam
deflection
plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP8905788A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumio Noda
文雄 野田
Masakazu Fukushima
正和 福島
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP8905788A priority Critical patent/JPH01264144A/en
Publication of JPH01264144A publication Critical patent/JPH01264144A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an optimumly focused electron beam spot over the whole fluorescent screen by constituting multiple face-shaped electrodes and a plate- shaped electrode so as to pinch an electron beam and applying a fixed focusing action to the electron beam in the scanning direction at the time of scanning and deflecting in the emitting direction of the electron beam. CONSTITUTION:Multiple face-shaped electrodes 4 slenderly divided in the horizontal direction are vertically arranged at the preset interval in parallel with a fluorescent screen 2 in the back panel section 3 of a vacuum container. A plate- shaped electrode 5 is arranged in parallel with the fluorescent screen 2 between the fluorescent screen 2 and the face shaped electrodes 4, multiple vertically slender openings 50 are arranged at the preset interval in the horizontal direction on the plate-shaped electrode 5. An electron beam straightly proceeds in the region pinched by the face-shaped electrodes 4 and the plate-shaped electrode 5 and is deflected toward the fluorescent screen 2 at the position of the face-shaped electrodes 4 applied with the preset voltage. The deflecting voltage to scan the electron beam is applied to the face-shaped electrodes 4, and also the voltage of the plate-shaped electrode 5 is controlled. An optimumly focused electron beam spot can be obtained over the whole fluorescent screen.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、カラーテレビ受像機又は計算機の端末用デイ
スプレィ等に使用される陰ti、s管に係り。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to negative Ti and S tubes used in color television receivers, computer terminal displays, and the like.

特に平板形陰極線管に関する。In particular, it relates to flat cathode ray tubes.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の平板形陰極線管として、例えば、特開昭60−8
9041号公報に示されたものがある。以下、この従来
例について、第6図に示した断面図を用いて説明する。
As a conventional flat cathode ray tube, for example, JP-A-60-8
There is one shown in Publication No. 9041. This conventional example will be explained below using the cross-sectional view shown in FIG.

真空容器31の透明なフェース部1の内面に、螢光面2
が形成されている。螢光面2に対して平行に設けられて
いるバックパネル部3の内面には。
A fluorescent surface 2 is provided on the inner surface of the transparent face portion 1 of the vacuum container 31.
is formed. On the inner surface of the back panel section 3, which is provided parallel to the fluorescent surface 2.

一方向に細長い複数の偏向電極41がストライプ状に配
置されている。螢光面2と偏向電極41との間には、変
調電極群51が螢光面2に対して平行に配置されている
。また、偏向電極41と変調電極群51とで挾まれた偏
向領域の一端には、線状陰極7.ビーム引き出し電極8
1.背面電極9゜プリフォーカス電極82.フォーカス
電極83゜シールド電極84からなる電子銃が設けられ
ている。電子銃に最も近い偏向電極41aの電圧と変調
電極群51の偏向電極41側の電圧は、共に等しい一定
電圧に保たれ、電子銃から最も離れた偏向電極41nの
電圧は、上記一定電圧よりも低い電圧に固定されている
。残りの偏向電極41bから偏向電極41mまでの電圧
は、上記一定電圧と上記低い電圧との間で自由に値を変
えられるようになっている。
A plurality of deflection electrodes 41 elongated in one direction are arranged in stripes. Between the fluorescent surface 2 and the deflection electrode 41, a modulation electrode group 51 is arranged parallel to the fluorescent surface 2. Further, at one end of the deflection region sandwiched between the deflection electrode 41 and the modulation electrode group 51, a linear cathode 7. Beam extraction electrode 8
1. Back electrode 9° prefocus electrode 82. An electron gun consisting of a focus electrode 83 and a shield electrode 84 is provided. The voltage of the deflection electrode 41a closest to the electron gun and the voltage of the deflection electrode 41 side of the modulation electrode group 51 are both kept at the same constant voltage, and the voltage of the deflection electrode 41n farthest from the electron gun is lower than the above constant voltage. Fixed to low voltage. The voltage from the remaining deflection electrode 41b to the deflection electrode 41m can be freely changed between the constant voltage and the low voltage.

電子銃から発射された電子ビーム10は、始め螢光面2
に対して平行に偏向領域内を直進するが。
The electron beam 10 emitted from the electron gun initially hits the fluorescent surface 2.
It travels straight in the deflection area parallel to.

偏向電極41によって選択された位置で偏向して螢光面
2に達する。すなわち、偏向電極41bから偏向電極4
1iまでの電圧を上記一定電圧に、偏向電極41jから
偏向電極41mまでの電圧を上記低い電圧にすると、電
子ビーム10は偏向電極41i付近までは直進し、偏向
電極41jの位置で螢光面2へ向かって偏向する。この
偏向位置は、偏向電極41jの電圧を上記低い電圧から
上記一定電圧まで変えるにしたがって、隣接する偏向電
極41にの方へ移動する。同時に、螢光面2上の電子ビ
ームスポットの位置も移動し、偏向電極41の配列ピッ
チに等しい量の走査が行われる。
It is deflected at a position selected by the deflection electrode 41 and reaches the fluorescent surface 2. That is, from the deflection electrode 41b to the deflection electrode 4
1i to the above constant voltage and the voltage from the deflection electrode 41j to the deflection electrode 41m to the above-mentioned low voltage, the electron beam 10 travels straight to the vicinity of the deflection electrode 41i, and the fluorescent surface 2 at the position of the deflection electrode 41j. deflect towards. This deflection position moves toward the adjacent deflection electrode 41 as the voltage of the deflection electrode 41j is changed from the low voltage to the constant voltage. At the same time, the position of the electron beam spot on the fluorescent surface 2 also moves, and scanning is performed by an amount equal to the arrangement pitch of the deflection electrodes 41.

このように電子ビーム1oを走査するための偏向電圧を
、偏向電極41bから偏向電極41mまで隣接する電極
に逐次切り替えて加えることにより。
By sequentially switching and applying the deflection voltage for scanning the electron beam 1o to the adjacent electrodes from the deflection electrode 41b to the deflection electrode 41m in this manner.

全体の走査が行われる。A full scan is performed.

〔発明が解決しようとするaM〕[aM that the invention attempts to solve]

上述の従来例では、螢光面2の全域にわたって電子ビー
ムスポット径を一定に保つことが困難である。すなわち
、第6図において、偏向電極41に加える偏向電圧の大
きさを変えるにしたがって、電子ビーム10の集束状態
が変わり、電子ビームの到達位置とともに電子ビームス
ポットの走査方向の大きさも変化する。第3図は、この
ような電子ビーム径の変化の一例を示したものである。
In the conventional example described above, it is difficult to keep the electron beam spot diameter constant over the entire area of the fluorescent surface 2. That is, in FIG. 6, as the magnitude of the deflection voltage applied to the deflection electrode 41 is changed, the focusing state of the electron beam 10 changes, and the size of the electron beam spot in the scanning direction changes as well as the arrival position of the electron beam. FIG. 3 shows an example of such a change in the electron beam diameter.

偏向電圧の変化に伴って、ビーム径は最大で2倍以上に
もなり、螢光面2上の解像度が劣化する。これを解決す
る一つの方法として、偏向電極41の数を走査線の数と
等しくすることが考えられる。
As the deflection voltage changes, the beam diameter doubles or more at maximum, and the resolution on the fluorescent surface 2 deteriorates. One way to solve this problem is to make the number of deflection electrodes 41 equal to the number of scanning lines.

この方法によれば、1!子ビームの集束状態を変えるこ
となく、走査することができる。しかし、電極数が著し
く増加するので、製造や駆動が極めて困難になる。
According to this method, 1! Scanning can be performed without changing the focusing state of the child beam. However, since the number of electrodes increases significantly, manufacturing and driving become extremely difficult.

特に第6図に示した従来例では、両端の偏向電極41a
と偏向電極41nについて、配列方向の電極幅を他の偏
向電極41の幅より広くし、電圧を常に一定に保つこと
に特徴がある。これは、電子ビーム10の偏向位置を選
択する偏向電極41の違いによって、偏向作用の一様性
が悪化することを考慮したものである。けれども、電子
ビーム10は偏向しはじめてからある程度発射方向に進
んだ後に螢光面2に達するので、偏向電極41aの幅が
広くなるとそれだけ螢光面2に達するまでの距離も長く
なる。そのため、電子銃から螢光面2までの間で1画像
を表示することのできないデッドスペースが増えるとい
う問題も生じる。
In particular, in the conventional example shown in FIG.
The deflection electrode 41n is characterized in that the electrode width in the arrangement direction is wider than the width of the other deflection electrodes 41, and the voltage is always kept constant. This is done in consideration of the fact that the uniformity of the deflection effect deteriorates due to differences in the deflection electrodes 41 that select the deflection position of the electron beam 10. However, since the electron beam 10 reaches the fluorescent surface 2 after traveling in the emission direction to some extent after it begins to be deflected, the wider the deflection electrode 41a, the longer the distance it takes to reach the fluorescent surface 2. Therefore, a problem arises in that a dead space in which one image cannot be displayed increases between the electron gun and the fluorescent surface 2.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明では、上述の問題点を解決するために。 The present invention aims to solve the above-mentioned problems.

螢光面に対してほぼ平行に発射された電子ビームをその
発射方向に走査すると共に螢光面に向けて偏向するため
の偏向手段を、電子ビームの走査方向に隔てて分割され
た複数個の面状電極と、複数の電子ビーム通過口が設け
られた根状電極とで電子ビームを挾むように構成し、電
子ビームの走査及び偏向時に、その走査方向の集束作用
が一定となるような電圧を上記面状電極と上記板状電極
のそれぞれに印加する。
A deflecting means for scanning an electron beam emitted almost parallel to the fluorescent surface in the emission direction and deflecting it toward the fluorescent surface is provided with a plurality of deflecting means separated in the scanning direction of the electron beam. A planar electrode and a root-like electrode provided with a plurality of electron beam passage holes are configured to sandwich the electron beam, and a voltage is applied to the electrode so that the focusing effect in the scanning direction is constant during scanning and deflection of the electron beam. The voltage is applied to each of the above-mentioned planar electrode and the above-mentioned plate-like electrode.

〔作用〕[Effect]

螢光面に対してほぼ平行に発射された電子ビームは、上
記面状電極と上記板状電極とで挟まれた領域内を直進し
、所定の電圧が加えられた面状電極の位置で螢光面に向
かって偏向する。このとき、電子ビームを走査するため
の偏向電圧を上記面状電極に加えると同時に、上記板状
電極の電圧を制御する。これによって、電子ビームは偏
向時に一定の集束作用を受けるようになるので、螢光面
金域で最適に集束された電子ビームスポットを得ること
ができる。
The electron beam emitted almost parallel to the fluorescent surface travels straight through the region sandwiched between the planar electrode and the plate electrode, and emits a fluorescent light at the location of the planar electrode to which a predetermined voltage is applied. Deflect towards the light plane. At this time, a deflection voltage for scanning the electron beam is applied to the planar electrode, and at the same time, the voltage of the plate electrode is controlled. As a result, the electron beam is subjected to a certain focusing effect upon deflection, so that an optimally focused electron beam spot can be obtained on the gold region of the fluorescent surface.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を図面により説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は、本発明の一実施例である平板形陰極線管の内
部構造の概略を示した一部破断斜視図である。真空容器
のフェース部1は1例えばガラスなどの透明な物質で構
成され、その内面に、3M色(赤緑青)の螢光体を垂直
方向にストライプ状に塗布した螢光面2が形成されてい
る。真空容器のバックパネル部3の内部には、水平方向
に細長く分割された複数の面状電極4が、螢光面2に対
して平行に垂直方向に所定の間隔で配置されている。こ
れらの面状電極4には、互いに独立に、−定の電圧Vn
e Vz、および周期的に変化する電圧Voをそれぞれ
逐次切り替えて加えられるようになっている。螢光面2
と面状電極4との間には、板状電極5が螢光面2に対し
て平行に配置されている。この板状電極5には、複数の
垂直方向に細長い開口50が水平方向に所定の間隔で設
けられている。さらに、螢光面2と板状電極5との間に
は、垂直方向に細長い複数の水平偏向電極6が、隣接す
る二つの細長い開口50の中間に位置するように互いに
平行に配置されている。これらの水平偏向電極6は一枚
おきに電気的に接続されていて、隣接する電極に交互に
異なる電圧を加えられるようになっている。また、面状
電極4と板状電極5とで挾まれた偏向領域の垂直方向の
一端には。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view schematically showing the internal structure of a flat cathode ray tube according to an embodiment of the present invention. The face part 1 of the vacuum container is made of a transparent material such as glass, and on its inner surface, a fluorescent surface 2 is formed by applying 3M color (red, green, and blue) phosphor in vertical stripes. There is. Inside the back panel portion 3 of the vacuum container, a plurality of horizontally divided planar electrodes 4 are arranged vertically parallel to the fluorescent surface 2 at predetermined intervals. A constant voltage Vn is applied to these planar electrodes 4 independently of each other.
e Vz and the periodically changing voltage Vo can be sequentially switched and applied. Fluorescent surface 2
A plate-shaped electrode 5 is arranged parallel to the fluorescent surface 2 between and the planar electrode 4 . This plate-shaped electrode 5 is provided with a plurality of vertically elongated openings 50 at predetermined intervals in the horizontal direction. Further, between the fluorescent surface 2 and the plate electrode 5, a plurality of vertically elongated horizontal deflection electrodes 6 are arranged parallel to each other so as to be located between two adjacent elongated openings 50. . These horizontal deflection electrodes 6 are electrically connected to each other so that different voltages can be applied alternately to adjacent electrodes. Further, at one end in the vertical direction of the deflection region sandwiched between the planar electrode 4 and the plate electrode 5.

水平方向に架張された線状M1極7.ビーム引き出し電
極8.背面電極9からなる電子銃が設けられている。
Linear M1 pole stretched in the horizontal direction7. Beam extraction electrode 8. An electron gun consisting of a back electrode 9 is provided.

なお、本実施例においては、螢光面2を真空容器のフェ
ース部1とは別の透明基板上に形成してもよく1面状電
極4をバックパネル部3とは独立に配置してもよい、ま
た、線状陰極7の代わりに、各々電子ビームを放出する
複数の陰極で電子銃を構成することも可能である。
In this embodiment, the fluorescent surface 2 may be formed on a transparent substrate separate from the face section 1 of the vacuum container, and the one-plane electrode 4 may be arranged independently from the back panel section 3. Furthermore, instead of the linear cathode 7, it is also possible to configure the electron gun with a plurality of cathodes, each of which emits an electron beam.

ビーム引き出し電極8には、板状電極5の細長い開口5
0に対応して、水平方向に所定の間隔で並んだ複数の開
口が設けられている。線状陰極7は、ビーム引き出し電
極8の開口の中心直下を通るように配置され、振動や熱
膨張による弛みを防止する支持体により、ビーム引き出
し電極8.背面電極9とそれぞれ所定の間隔を保って固
定されている。背面電極9は、ビーム引き出し電極8の
開口に対応して水平方向に電気的に分割され、線状陰極
7の対応する部分の電位よりもそれぞれO〜数十V低い
電圧が加えられる。背面電極9の電圧が十分低いときに
は、線状線#M7の対応する部分から熱電子が放出され
ず、カットオフ状態となる。背面電極9の電圧を高くす
ると熱電子が放出されるようになり、その電圧の大きさ
によって熱電子の放出量が制御される。放出された熱電
子は。
The beam extraction electrode 8 has an elongated opening 5 in the plate electrode 5.
0, a plurality of openings are provided that are lined up at predetermined intervals in the horizontal direction. The linear cathode 7 is disposed so as to pass directly below the center of the opening of the beam extraction electrode 8, and is supported by a support that prevents loosening due to vibration or thermal expansion. They are each fixed at a predetermined distance from the back electrode 9. The back electrode 9 is electrically divided in the horizontal direction corresponding to the aperture of the beam extraction electrode 8, and a voltage lower than the potential of the corresponding portion of the linear cathode 7 by 0 to several tens of V is applied to each portion. When the voltage of the back electrode 9 is sufficiently low, no thermoelectrons are emitted from the corresponding portion of the linear wire #M7, resulting in a cut-off state. When the voltage of the back electrode 9 is increased, thermoelectrons are emitted, and the amount of thermoelectrons emitted is controlled by the magnitude of the voltage. Thermionic electrons released.

ビーム引き出し電極8の開口から、それぞれ独立に変調
された電子ビームとして偏向領域内に引き出される。特
に本実施例においては、ビーム引き出し電極8に設けら
れた開口に突起部8oが設けられ、電子ビーム中心軸の
まわりの集束作用が非軸対称となるように構成されてい
る。これは、螢光面2上に作られる電子ビームスポット
の水平。
The electron beams are extracted from the opening of the beam extraction electrode 8 into the deflection region as independently modulated electron beams. In particular, in this embodiment, a protrusion 8o is provided in the opening provided in the beam extraction electrode 8, so that the focusing effect around the central axis of the electron beam is non-axially symmetrical. This is the horizontal position of the electron beam spot created on the fluorescent surface 2.

垂直方向のスポット径を容易にバランスさせるためであ
る。それゆえ、このような突起部80は無くてもよく、
単に円形の開口を設けるだけでも問題はない。
This is to easily balance the spot diameter in the vertical direction. Therefore, such a protrusion 80 may be omitted,
There is no problem simply providing a circular opening.

第2図は、第1図の実施例の面状電極4と板状電極5と
に挾まれた偏向領域の一部分の垂直断面図である1面状
電極4の電圧は、電子ビーム10の発射方向に並んだ順
に、面状電極41までは、電子ビーム10を直進させる
ための電圧■1に、一つ間をおいて面状電極4kから先
の電極は、電圧v工よりも低い所定の電圧Vzにそれぞ
れ保っておく0面状電極4jには、電圧v1から電圧v
2まで変化するような偏向電圧Vpを加える。また、板
状電極5には、電圧v1からそれよりも低い電圧Vδま
で変化するような電圧Vpを加えられるようにしておく
、今、電圧VDの大きさが■1であるときには、電子ビ
ーム10は面状電極4jまで直進し、その後、低い電圧
v2の影響を受けて、螢光面2へ向かって偏向する。こ
のとき、電子ビーム10が板状電極5の細長い開口を通
過する位置は、図の点Aである。次に、電圧Voの大き
さをVlからv2まで変化させると、偏向位置が面状電
極41の方へ移動して、電子ビーム1oが板状電極5の
細長い開口を通過する位置も、図の点Aから点Bへ移動
する。この移動量は、ちょうど面状電極4の配列ピッチ
に等しい、このような偏向電圧Voを逐次隣接する面状
電極4に切り替えて加えてゆけば、電子ビームの通過位
置が垂直方向全体にわたって移動し、螢光面2上の走査
を行うことができる。
FIG. 2 is a vertical sectional view of a part of the deflection region sandwiched between the planar electrode 4 and the plate electrode 5 in the embodiment shown in FIG. In the order in which they are lined up in the direction, up to the planar electrode 41, the voltage 1 for making the electron beam 10 go straight is applied, and the electrodes after the planar electrode 4k after one gap are applied with a predetermined voltage lower than the voltage v. The voltage v1 to the voltage v
A deflection voltage Vp varying up to 2 is applied. Further, a voltage Vp that changes from the voltage v1 to a lower voltage Vδ is applied to the plate electrode 5. When the voltage VD is currently 1, the electron beam 10 travels straight to the planar electrode 4j, and is then deflected toward the fluorescent surface 2 under the influence of the low voltage v2. At this time, the position where the electron beam 10 passes through the elongated opening of the plate-shaped electrode 5 is point A in the figure. Next, when the magnitude of the voltage Vo is changed from Vl to v2, the deflection position moves toward the planar electrode 41, and the position where the electron beam 1o passes through the elongated opening of the plate electrode 5 also changes as shown in the figure. Move from point A to point B. This amount of movement is exactly equal to the arrangement pitch of the planar electrodes 4. If such a deflection voltage Vo is sequentially switched and applied to the adjacent planar electrodes 4, the passing position of the electron beam will move throughout the vertical direction. , scanning on the fluorescent surface 2 can be performed.

第3図は、第1図の実施例における偏向電圧Voと、板
状電極5を通過する電子ビームの垂直方向ビーム径との
関係を示した図である。第3図の横軸には、偏向電圧V
oの電圧Vzに対する比をとり、縦軸には、電子銃から
発射された直径1mの層流ビームが偏向されて、板状電
極5を通過するときの垂直方向ビーム径を示す、ここで
は、上記の低い電圧vltの値はOvに選んである。板
状電極5の電圧VFを一定に保つと、偏向電圧Voが変
化するにつれてビーム径も変化する。このようなビーム
径の変化が大きいと、螢光面2上で垂直方向の解像度が
劣化してしまう。ところが、偏向電圧VDを変化させる
とき、それに応じて板状電極5の電圧VFも変化させれ
ば、垂直方向の集束作用が一定になり、電子ビーム径を
一定の大きさに保ったまま走査することが可能になる。
FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the deflection voltage Vo and the vertical beam diameter of the electron beam passing through the plate electrode 5 in the embodiment shown in FIG. The horizontal axis in Fig. 3 shows the deflection voltage V
The vertical axis represents the beam diameter in the vertical direction when a laminar flow beam with a diameter of 1 m emitted from the electron gun is deflected and passes through the plate electrode 5. The value of the lower voltage vlt mentioned above is chosen to be Ov. When the voltage VF of the plate electrode 5 is kept constant, the beam diameter also changes as the deflection voltage Vo changes. If such a change in beam diameter is large, the resolution in the vertical direction on the fluorescent surface 2 will deteriorate. However, when changing the deflection voltage VD, if the voltage VF of the plate electrode 5 is also changed accordingly, the focusing effect in the vertical direction becomes constant, and scanning is performed while keeping the electron beam diameter constant. becomes possible.

すなわち、第3図に示すように、例えば図の点Cと点[
)とでは電圧Voと電圧VFの値の組み合わせが異なる
が、ビーム径は同じ大きさである。そこで、偏向電圧V
oを変化させるとき、ビーム径が一定となるように電圧
VFの値を適当に選んで変化させれば、螢光面2上の垂
直方向ビームスポット径を常に一定に保つことができる
That is, as shown in FIG. 3, for example, point C and point [
) have different combinations of voltage Vo and voltage VF, but have the same beam diameter. Therefore, the deflection voltage V
When changing o, the vertical beam spot diameter on the fluorescent surface 2 can always be kept constant by appropriately selecting and changing the value of the voltage VF so that the beam diameter remains constant.

第4図に、適当な偏向電圧Vo+電圧VFの組み合わせ
の一例を示す。第4図の横軸には、偏向電圧Voの電圧
■1に対する比をとる0図の下段は。
FIG. 4 shows an example of a suitable combination of deflection voltage Vo+voltage VF. On the horizontal axis of FIG. 4, the ratio of the deflection voltage Vo to the voltage 1 is plotted.

ビーム径が一定となる電圧Vpの値を、電圧Vzに対す
る比をとって示したものである。偏向電圧比が100%
変化する間に、板状電極電圧比は5%はど低い値まで変
化させればよい。実際の板状電極電圧VFの大きさは、
電子ビームを直進させるための電圧Vz を1kVにし
た場合でも50V程度でよく1回路的にも特に問題はな
い。一方、第4図の上段には、板状電極5を通過する電
子ビームの位置を、面状電極4の配列ピッチに対する比
で示したものである。電子ビームの通過位置は、偏向電
圧Vo=Oのときを基準にとり、垂直方向上向きを正に
とって表しである。例えば、この偏向電圧VDが、第2
図に示した面状電極4jに加えられているとすれば、第
2図の点A2点Bはそれぞれ第4図の点A2点Bに対応
する。偏向電圧Voに対する電子ビーム通過位置の変化
は直線的ではないが、電圧VDの変化量を時間的に調節
すれば、電子ビーム通過位置を一定の速さで移動させる
ことができる。
The value of voltage Vp at which the beam diameter becomes constant is expressed as a ratio to voltage Vz. Deflection voltage ratio is 100%
During the change, the plate electrode voltage ratio may be changed to a value as low as 5%. The actual magnitude of the plate electrode voltage VF is
Even when the voltage Vz for making the electron beam go straight is 1 kV, it is only about 50 V and there is no particular problem in terms of one circuit. On the other hand, in the upper part of FIG. 4, the position of the electron beam passing through the plate electrode 5 is shown as a ratio to the arrangement pitch of the planar electrode 4. The passing position of the electron beam is expressed based on the time when the deflection voltage Vo=O, and the upward direction in the vertical direction is positive. For example, if this deflection voltage VD is
If they are added to the planar electrode 4j shown in the figure, points A2 and B in FIG. 2 correspond to points A2 and B in FIG. 4, respectively. Although the change in the electron beam passing position with respect to the deflection voltage Vo is not linear, if the amount of change in the voltage VD is adjusted over time, the electron beam passing position can be moved at a constant speed.

このように、本発明によれば、電子ビームの垂直走査時
に、走査方向の集束作用を一定に保つことができるので
、従来のような垂直方向解像度の劣化が解消する。さら
に、偏向電圧VDを加える面状電極が電子銃に最も近い
場合であっても、電子ビーム集束の一様性が保たれるよ
うに板状電極電圧VFを制御することが可能である。そ
れゆえ。
As described above, according to the present invention, when the electron beam is vertically scanned, the focusing effect in the scanning direction can be kept constant, thereby eliminating the conventional deterioration in vertical resolution. Furthermore, even if the planar electrode to which the deflection voltage VD is applied is closest to the electron gun, it is possible to control the plate electrode voltage VF so that uniformity of electron beam focusing is maintained. therefore.

本発明によれば、電子銃に最も近い面状電極も他の電極
とほぼ同様な構成・駆動でよいので、従来例のようにデ
ッドスペースが増すこともない。
According to the present invention, the planar electrode closest to the electron gun can be configured and driven in substantially the same way as the other electrodes, so there is no increase in dead space as in the conventional example.

なお、本実施例においては、電子ビームを直進させるた
めの電圧Vzからそ才しよりも低い電圧v2に変化する
偏向電圧Voを、垂直方向に並んだ分割された面状電極
に、上から下へ向かって逐次切り替えて加える方式を示
した。これとは逆に、電子ビームを直進させるための電
圧v1より低い電圧v2から電圧Vzに変化する偏向電
圧Voを、隣接する面状電極に、下から上へ向かって逐
次切り替えて加える方式も可能である。ただし、この場
合には、1N!子ビームは螢光面上で下から上へ向かっ
て走査される。
In this example, a deflection voltage Vo, which changes from the voltage Vz for making the electron beam go straight to a voltage v2 lower than normal, is applied to the divided planar electrodes arranged in the vertical direction from top to bottom. We have shown a method of sequentially switching and adding in the direction of . On the contrary, it is also possible to apply a deflection voltage Vo that changes from voltage v2 to voltage Vz, which is lower than the voltage v1 for making the electron beam go straight, to the adjacent planar electrodes by sequentially switching from bottom to top. It is. However, in this case, 1N! The daughter beams are scanned from bottom to top over the fluorescent surface.

板状電極5の細長い開口50を通過した電子ビームは、
引き続き水平偏向電極6によって水平方向に偏向されて
螢光面2に達する。第1図の実施例において、水平偏向
電極6には、電子ビームを直進させるための電圧Vzに
、周期的に正負に振動する水平偏向電圧VHをそれぞれ
符号を変えて重畳した電圧が一つおきに印加されている
。一つの水平偏向電極6がそれぞれ2本の電子ビームの
偏向に寄与しているので、隣接する電子ビームは互いに
水平方向逆向きに走査される。この方式でテレビ画像を
表示するためには、少なくとも水平走査線1本分のメモ
リが必要であるが、回路的には特に支障はない。また、
電圧Vz と水平偏向電圧VHは、螢光面2の電圧の数
%の大きさなので、螢光面2と水平偏向電極6の間には
水平方向に電子ビームを集束させるレンズができる。こ
のレンズ作用と電子銃における水平方向集束作用とをバ
ランスさせれば、螢光面2上で最適に集束された電子ビ
ームスポットを得ることができる。なお。
The electron beam that passed through the elongated aperture 50 of the plate-shaped electrode 5 is
Subsequently, it is deflected in the horizontal direction by the horizontal deflection electrode 6 and reaches the fluorescent surface 2. In the embodiment shown in FIG. 1, the horizontal deflection electrode 6 is provided with a voltage that is obtained by superimposing a voltage Vz for making the electron beam to travel straight and a horizontal deflection voltage VH that periodically oscillates in positive and negative directions with different signs, and every other voltage is applied to the horizontal deflection electrode 6. is applied to. Since each horizontal deflection electrode 6 contributes to the deflection of two electron beams, adjacent electron beams are scanned in opposite directions in the horizontal direction. In order to display television images using this method, a memory for at least one horizontal scanning line is required, but there is no particular problem in terms of circuitry. Also,
Since the voltage Vz and the horizontal deflection voltage VH are several percent of the voltage of the fluorescent surface 2, a lens is formed between the fluorescent surface 2 and the horizontal deflection electrode 6 to focus the electron beam in the horizontal direction. By balancing this lens action and the horizontal focusing action in the electron gun, an optimally focused electron beam spot can be obtained on the fluorescent surface 2. In addition.

水平偏向電圧Voに加えてパラボラ状の補正電圧をそれ
ぞれの電極に加えることにより、偏向量に応じて集束作
用が補正され、大角偏向時でもスポット径一定のままの
走査が可能になる。
By applying a parabolic correction voltage to each electrode in addition to the horizontal deflection voltage Vo, the focusing effect is corrected according to the amount of deflection, making it possible to perform scanning with a constant spot diameter even during large-angle deflection.

本実施例においては、水平方向に走査・集束させる手段
として、各々1枚ずつ独立した水平偏向電極6を配置し
である。そして、1枚の偏向電極がそれぞれ2本の電子
ビームの偏向に寄与している。しかしながら、2枚の偏
向電極を絶縁板を介して張り合わせ、各々独立した電圧
を加えるようにした構造物を配置してもよい、この場合
には。
In this embodiment, one independent horizontal deflection electrode 6 is arranged as means for scanning and focusing in the horizontal direction. Each deflection electrode contributes to the deflection of two electron beams. However, in this case, a structure may be arranged in which two deflection electrodes are pasted together with an insulating plate interposed therebetween and independent voltages are applied to each.

個々の偏向電極を交互に電気的に接続して偏向電圧を加
える。したがって、電子ビームは水平方向に常に同一の
向きに走査されることになる。
The individual deflection electrodes are alternately electrically connected to apply a deflection voltage. Therefore, the electron beam is always scanned horizontally in the same direction.

次に1本発明の他の実施例について、第5図に示した一
部破断斜視図を用いて説明する。
Next, another embodiment of the present invention will be described using a partially cutaway perspective view shown in FIG.

フェース部1.バックパネル部3を含む真空容器の内部
に、螢光面29面状電極4.板状電極5が配置されてい
る。また、面状電極4と板状電極5とで挾まれた偏向領
域の垂直方向の一端には、水平方向に架張された線状陰
極7.ビーム引き出し電極81.背面電極9からなる電
子銃が設けられている。さらに、螢光面2と板状電極5
との間には、複数の電極からなる変調電極群51が螢光
面2と平行に配置されている6本実施例においては、第
1図の実施例で設けた水平偏向電極6の代わりに、変調
電極群51が電子ビームを水平方向に集束させる機能を
果たす、そのため:電子ビーム引き出し電極81も簡単
な構成でよく、単に円形のビーム引き出し開口を設けた
電極で構成されている。このような変調電極群51を設
けたことにより、電子ビームを走査・偏向するときに板
状電極5に加える電圧VFの影響を少なくできるという
利点がある。すなわち、第1図の実施例においては、板
状電極5.水平偏向電極6.螢光面2の電圧関係によっ
て、電子ビームの水平方向集束作用が左右されるため、
板状電極5の電圧変化が水平方向の電子ビームスポット
径に若干の影響を及ぼす。これに対して本実施例におい
ては、板状電極5の電圧変化は変調電極群51によって
完全に遮蔽されるので、その影響はほとんどない。
Face part 1. Inside the vacuum container including the back panel part 3, a fluorescent surface 29 and a planar electrode 4. A plate-shaped electrode 5 is arranged. Further, at one end in the vertical direction of the deflection region sandwiched between the planar electrode 4 and the plate electrode 5, a linear cathode 7. Beam extraction electrode 81. An electron gun consisting of a back electrode 9 is provided. Furthermore, a fluorescent surface 2 and a plate-shaped electrode 5
In this embodiment, a modulation electrode group 51 consisting of a plurality of electrodes is arranged parallel to the fluorescent surface 2. In this embodiment, instead of the horizontal deflection electrode 6 provided in the embodiment of FIG. Therefore, the modulation electrode group 51 functions to focus the electron beam in the horizontal direction. Therefore, the electron beam extraction electrode 81 may also have a simple configuration, and is simply composed of an electrode provided with a circular beam extraction aperture. Providing such a modulation electrode group 51 has the advantage that the influence of the voltage VF applied to the plate electrode 5 when scanning and deflecting the electron beam can be reduced. That is, in the embodiment shown in FIG. 1, the plate electrode 5. Horizontal deflection electrode 6. Since the horizontal focusing effect of the electron beam is influenced by the voltage relationship of the fluorescent surface 2,
Voltage changes on the plate electrode 5 have a slight effect on the electron beam spot diameter in the horizontal direction. In contrast, in this embodiment, the voltage change of the plate-like electrode 5 is completely shielded by the modulation electrode group 51, so that it has almost no effect.

以上、本発明の詳細な説明においては1分割された面状
電極によって垂直走査を行う構成を示したが、真空容器
内の構造物を螢光面に垂直な軸のまわりに90′回転さ
せて、これらの面状電極によって水平走査を行うように
動作させることも可能である。また、本発明の実施例に
おいては、いずれも、3色の螢光体ストライプに当たる
電子ビームを偏向により時間的に切り替えて色選択を行
う方式を示したが、従来のシャドウマスクと組°み合わ
せることも可能である。さらに、本発明においては、複
数の面状電極により電子ビームを走査する方法について
説明したが、単一の面状電極を用いて走査を行う方法に
おいても、同様にして容易に適用できる。
In the above detailed explanation of the present invention, a configuration in which vertical scanning is performed using a one-divided planar electrode has been shown. It is also possible to operate these planar electrodes to perform horizontal scanning. Furthermore, in all of the embodiments of the present invention, a method is shown in which color selection is performed by temporally switching the electron beam that hits three color phosphor stripes by deflection, but it is possible to It is also possible. Further, in the present invention, a method of scanning an electron beam using a plurality of planar electrodes has been described, but the present invention can also be easily applied to a method of scanning using a single planar electrode.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、電子ビームの発射方向の走査及び偏向
時に、走査方向に一定の集束作用を電子ビームに与える
ことができるので、螢光面金域にわたって最適に集束さ
れた電子ビームスポットを得ることができる。また、従
来例に比べて少数の面状電極を用いて構成することがで
きるので、複数の電子ビームの均一な制御や製造上の点
からも有利であり、デッドスペースの少ないコンパクト
な平板形陰極線管を提供できる。
According to the present invention, when scanning and deflecting the emission direction of the electron beam, a certain focusing effect can be given to the electron beam in the scanning direction, so that an optimally focused electron beam spot can be obtained over the gold area of the fluorescent surface. be able to. In addition, since it can be constructed using a smaller number of planar electrodes than conventional examples, it is advantageous in terms of uniform control of multiple electron beams and in terms of manufacturing. Can provide tube.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例の一部破断斜視図。 第2図は第1図の実施例の一部分の垂直断面図、第3図
は第1図の実施例における電子ビーム径の変化を示した
図、第4図は第1図の実施例において電子ビームスポッ
ト径が一定になる偏向電圧の関係を示した図、第5図は
本発明の他の実施例を示した一部破断斜視図、第6図は
従来の平板形陰極線管の断面図である。 1・・・フェース部、2・・・螢光面、3バックパネル
部。 4・・・面状電極、5・・・板状電極、6・・・水平偏
向電極、7・・・線状陰極、8.81・・・ビーム引き
出し電極、9・・・背面電極、10・・・電子ビーム、
31・・・真空容器、41・・・偏向電極、51・・・
変調電極群、82・・・ブリフォーカス電極、83・・
・フォーカス電極、第 1 図 5枚1入電憔 第 2 図 gj−3図 偏量を五毘 Th/v、  (り) 第 6 図 千 4 区
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of an embodiment of the present invention. 2 is a vertical sectional view of a part of the embodiment of FIG. 1, FIG. 3 is a diagram showing changes in the electron beam diameter in the embodiment of FIG. FIG. 5 is a partially cutaway perspective view showing another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a cross-sectional view of a conventional flat cathode ray tube. be. 1... Face part, 2... Fluorescent surface, 3 Back panel part. 4... Planar electrode, 5... Plate electrode, 6... Horizontal deflection electrode, 7... Linear cathode, 8.81... Beam extraction electrode, 9... Back electrode, 10 ...electron beam,
31... Vacuum container, 41... Deflection electrode, 51...
Modulation electrode group, 82... pre-focus electrode, 83...
・Focus electrode, Fig. 1, 5 sheets, 1 input voltage, Fig. 2, gj-3, deviation amount, Th/v, (ri), Fig. 6, 1,4 ward.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、螢光面と、この螢光面に対してほぼ平行に複数の電
子ビームを発射する手段と、上記電子ビームをその発射
方向に走査すると共に上記螢光面に向けて偏向するため
の偏向手段とを少なくとも備え、上記偏向手段は、上記
電子ビームを上記螢光面との間に挾むように設けられ、
上記走査方向に隔てて分割された複数個の面状電極と、
上記電子ビームを上記面状電極との間に挾むように設け
られ、上記電子ビームが通過する複数の開口が設けられ
た板状電極とからなり、上記電子ビームを走査及び偏向
するための電圧が上記面状電極の少なくとも一つに印加
されると同時に、上記走査方向の集束作用が一定となる
ような電圧が上記板状電極に印加されることを特徴とす
る平板形陰極線管。 2、上記面状電極の少なくとも一つに、上記電子ビーム
を直進させるための電圧V_1から上記電圧V_1より
低い電圧V_2まで変化するような電圧が印加されると
同時に、上記板状電極に、上記電圧V_1から上記電圧
V_1より低い電圧V_3まで一旦下がり、再び上記電
圧V_1まで変化するような電圧が印加されることを特
徴とする請求項1記載の平板形陰極線管。 3、上記面状電極の少なくとも一つに、上記電子ビーム
を直進させるための電圧V_1より低い電圧V_2から
上記電圧V_1まで変化するような電圧が印加されると
同時に、上記板状電極に、上記電圧V_1から上記電圧
V_1より低い電圧V_3まで一旦下がり、再び上記電
圧V_1まで変化するような電圧が印加されることを特
徴とする請求項1記載の平板形陰極線管。
[Claims] 1. A fluorescent surface, a means for emitting a plurality of electron beams substantially parallel to the fluorescent surface, and a means for scanning the electron beams in the emitting direction and directing the electron beams toward the fluorescent surface. at least a deflection means for deflecting the electron beam, the deflection means being provided to sandwich the electron beam between the electron beam and the fluorescent surface,
a plurality of planar electrodes divided in the scanning direction;
a plate-like electrode provided with a plurality of apertures through which the electron beam passes, the electrode being arranged to sandwich the electron beam between the electrode and the planar electrode; A flat cathode ray tube characterized in that a voltage is applied to at least one of the planar electrodes and at the same time a voltage is applied to the plate electrodes so that the focusing effect in the scanning direction becomes constant. 2. At the same time, a voltage that changes from voltage V_1 for making the electron beam go straight to voltage V_2 lower than the voltage V_1 is applied to at least one of the planar electrodes, and at the same time, the 2. The flat cathode ray tube according to claim 1, wherein a voltage is applied such that the voltage decreases once from voltage V_1 to voltage V_3 lower than said voltage V_1, and then changes again to said voltage V_1. 3. At least one of the planar electrodes is applied with a voltage that changes from voltage V_2, which is lower than the voltage V_1 for making the electron beam go straight, to voltage V_1, and at the same time, the plate-shaped electrode is applied with the voltage V_1. 2. The flat cathode ray tube according to claim 1, wherein a voltage is applied such that the voltage decreases once from voltage V_1 to voltage V_3 lower than said voltage V_1, and then changes again to said voltage V_1.
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