JPH01243539A - Housing container - Google Patents

Housing container

Info

Publication number
JPH01243539A
JPH01243539A JP63069455A JP6945588A JPH01243539A JP H01243539 A JPH01243539 A JP H01243539A JP 63069455 A JP63069455 A JP 63069455A JP 6945588 A JP6945588 A JP 6945588A JP H01243539 A JPH01243539 A JP H01243539A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tank
main body
lid
wafer
storage container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63069455A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiiku Sano
佐野 喜育
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63069455A priority Critical patent/JPH01243539A/en
Publication of JPH01243539A publication Critical patent/JPH01243539A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent the damage due to a shock by a method wherein a body is formed to be a multiple structure and an inside tank is supported by an outside tank in a floating manner in order to stop that the shock during transport is propagated to an object to be housed. CONSTITUTION:A body 3 is constituted of a first tank 4 and a second tank 5 which have been formed individually to be a box shape whose shape is similar to each other. An elastic member 6 such as a rubber, a soft resin or the like is stretched and installed between the first tank 4 and the second tank 5 in such a way that a suitable air tank 7 can be partitioned and formed. The first tank 4 as an inside tank is supported by the second tank 5 as an outside tank in a floating manner by using the member 6 and the air tank 7. The first tank 4 and the second tank 5 are connected electrically by using a conductive member 8. By this setup, it is possible to stop that a shock during transport is propagated to an object 1 to be housed; it is possible to prevent the damage due to the shock.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、収納容器、特に、本体とこれに被せられる蓋
体とを備えている収納容器に関し、例えば、半導体装置
の製造工程において、ウェハを保持した治具を防塵状態
で保管するのに利用して有効なものに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a storage container, and particularly to a storage container that includes a main body and a lid that is placed over the main body. This invention relates to a tool that is useful for storing jigs holding objects in a dust-proof state.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体装置の製造工程において、工程間におけるウェハ
の運搬および工程仕掛品の保管は、ウェハを最大25枚
保持したウェハ治具を、箱形状に形成された本体と、こ
の本体の開口部に被せられて開口を閉塞する蓋体とから
なる収納容器に収納することにより、行われている。
In the semiconductor device manufacturing process, transporting wafers between processes and storing work-in-progress is carried out by placing a wafer jig holding up to 25 wafers into a box-shaped body and placing it over the opening of this body. This is done by storing the container in a storage container consisting of a lid and a lid that closes the opening.

なお、ウェハの収納技術を述べである例としては、特開
昭61−60481号公報がある。
An example of a wafer storage technique is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 61-60481.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかし、単に本体と、これを閉塞するための蓋体とから
なる収納容器においては、高集積化が進んだ最近、次の
ような問題点があることが、本発明者によって明らかに
された。
However, the present inventors have discovered that storage containers that simply consist of a main body and a lid for closing the main body have the following problems as storage containers have recently become highly integrated.

第1は運搬時の衝撃である。The first is the impact during transportation.

ウェハはシリコンが材料で、大きさは直径125mm−
150mm、厚さ0.7mm程度であり、材料的に固く
て、脆く、形状的にも周辺が欠は易くて、ミクロンオー
ダの欠片が生じ易い。一方、ウェハに対する加工工程数
は約250工程と非常に多く、しかも、各工程間は人手
および運搬車により行われている。このため、ウェハは
約250回近くのi!I!搬時に小さな衝撃および振動
を加えられることになり、ミクロンオーダの欠片を大量
に発生させる。そして、このようにして発生した欠片の
一部がウェハ表面に付着することにより、異物による外
観不良の原因となっている。
The wafer is made of silicon and has a diameter of 125 mm.
It is approximately 150 mm long and 0.7 mm thick, and is hard and brittle in terms of material, and is prone to chipping around the periphery due to its shape, with pieces on the order of microns easily occurring. On the other hand, the number of processing steps for a wafer is as large as approximately 250 steps, and each step is performed manually and by a transport vehicle. For this reason, the wafer is exposed to nearly 250 i! I! During transport, small shocks and vibrations are applied, which generates a large amount of micron-order fragments. Some of the fragments generated in this way adhere to the wafer surface, causing a defective appearance due to foreign matter.

第2は、密閉度の問題である。The second problem is the degree of sealing.

ウエハノ加工処理はHEPA(H4gh  Effic
iency  Particulate  Airri
lLer)直下、すなわち、高清浄度の場所で行われて
いるが、各製造装置の群間は通路等があり、その通路等
は清浄度が1.2段低くなっている。各製造装置群間に
おけるウェハの運搬は、収納容器にウェハ治具ごと収納
して行うが、通路等清浄度の低い所を通過する時、収納
容器の本体と蓋体との隙間から清浄度の低い外気が侵入
し易く、ウェハ表面に外気中の塵埃が付着し不良となり
易い。
Wafer processing is done using HEPA (H4gh Effic
ency Particulate Airri
Although the process is carried out directly under the ILer, that is, in a place of high cleanliness, there are passages between each group of manufacturing equipment, and the cleanliness of these passages is 1.2 steps lower. Wafers are transported between each manufacturing equipment group by storing the wafer jigs together in a storage container, but when passing through areas with low cleanliness such as passageways, the cleanliness can be detected from the gap between the main body of the storage container and the lid. Low outside air tends to enter, and dust in the outside air tends to adhere to the wafer surface, resulting in defects.

第3は静電気の問題である。The third problem is static electricity.

ウェハは、通常弗素樹脂またはポリプロピレン系の樹脂
を材料としたウェハ治具に収納されている。このような
、材料は静電気が帯電し易く、当然、ウェハにも帯電し
、まわりの塵埃を静電気の力で吸引するため、ウェハに
付着し不良となる。
The wafer is usually housed in a wafer jig made of fluororesin or polypropylene resin. Such materials are easily charged with static electricity, and naturally the wafer is also charged, and the surrounding dust is attracted by the force of static electricity, which causes it to adhere to the wafer and become defective.

本発明の目的は、前記問題点を解決することができる収
納容器を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a storage container that can solve the above problems.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、次の通りである。
An overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、箱形状に形成されている本体と、本体の開口
部に被せられて開口を閉塞する蓋体とを備えており、前
記本体が多重槽構造に形成されているとともに、内側槽
が外側槽にフローティング支持され、かつ、内側槽と外
側槽とが電気的に接続されており、この本体と蓋体との
間に複数条の合わせ面部が互いに同心的に配されてそれ
ぞれ環状に形成されている。
That is, it includes a main body formed in a box shape and a lid that is placed over the opening of the main body to close the opening, and the main body is formed in a multi-tank structure, and the inner tank is connected to the outer tank. The inner tank and the outer tank are electrically connected to each other, and a plurality of mating surfaces are arranged concentrically between the main body and the lid, and are each formed in an annular shape. There is.

〔作用〕[Effect]

前記した手段によれば、本体が多重構造に構成されてい
るとともに、内側槽が外側槽にフローティング支持され
ているため、運搬時の衝撃が被収納物に伝播されるのを
遮断することができ、衝撃による損傷の発生を防止する
ことができる。
According to the above-mentioned means, since the main body has a multilayer structure and the inner tank is floatingly supported by the outer tank, it is possible to block the impact during transportation from being transmitted to the stored items. , it is possible to prevent damage caused by impact.

また、内側槽と外側槽とが電気的に接続されているため
、内側槽がフローティング支持されているにもかかわら
ず、被収納物につき静電気破壊が発生するのは回避され
ることになる。
Further, since the inner tank and the outer tank are electrically connected, electrostatic damage to the stored items can be avoided even though the inner tank is supported in a floating manner.

さらに、本体と蓋体との間に合わせ面部が複数条形成さ
れているため、塵埃の侵入に対する障壁が増加されるこ
とになり、防塵性を高めることができる。
Furthermore, since a plurality of mating surface portions are formed between the main body and the lid, the barrier against intrusion of dust is increased, and dustproofness can be improved.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の一実施例であるウェハ収納容器を示す
縦断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a wafer storage container according to an embodiment of the present invention.

本実施例において、本発明にかかる収納容器は、ウェハ
1を保持したキャリア治具2を防塵状態で収納しておく
ように構成されており、平面形状が略正方形の箱形状に
形成されている本体と、本体の開口部に被せられて開口
を閉塞する蓋体とを備えている。
In this embodiment, the storage container according to the present invention is configured to store the carrier jig 2 holding the wafer 1 in a dust-proof state, and is formed into a substantially square box shape in plan view. The device includes a main body and a lid that is placed over the opening of the main body to close the opening.

本体3は互いに相偵形状をなす箱形状にそれぞれ形成さ
れている第一槽4、および第二槽5から構成されており
、第一槽4は第二槽5の内側に適当な間隔をおいて同心
的に配設されている。第一槽4と第二槽5との間にはゴ
ムまたは軟質樹脂等のような弾性材料からなる弾性部材
6が、第一槽4と第二槽5との間に適当な空気層7を画
成するように張設されており、この弾性部材6および空
気層7により、内側槽としての第一槽4は外側槽として
の第二槽5にフローティング支持されるようになってい
る。
The main body 3 is composed of a first tank 4 and a second tank 5, each of which is formed into a box shape that mirrors the other. They are arranged concentrically. An elastic member 6 made of an elastic material such as rubber or soft resin is placed between the first tank 4 and the second tank 5, and an appropriate air layer 7 is provided between the first tank 4 and the second tank 5. The elastic member 6 and the air layer 7 allow the first tank 4 as an inner tank to be floatingly supported by the second tank 5 as an outer tank.

第一!i4および第二槽5はいずれも導電材料を混入さ
れた硬質樹脂を用いて一体成形されており、これにより
、導電性を備えるように構成されている。そして、第一
槽4と第二槽5との間には銅ワイヤ等からなる導電性部
材8が架橋されており、この導電部材8により第一槽4
と第二槽5とは電気的に接続されている。
first! Both i4 and the second tank 5 are integrally molded using a hard resin mixed with a conductive material, and are thus configured to have conductivity. A conductive member 8 made of copper wire or the like is bridged between the first tank 4 and the second tank 5.
and the second tank 5 are electrically connected.

本体3における第二槽5の開口部には本体側第1合わせ
面部9、および本体側第2合わせ面部10が内周側およ
び外周側にそれぞれ配されて、水平方向にそれぞれ突設
されており、これら合わせ面部9およびlOは略アング
ルレール形状にそれぞれ形成されて、第二槽5の開口部
に沿ってこれを取り囲むように環状に敷設されている。
At the opening of the second tank 5 in the main body 3, a main body side first mating surface part 9 and a main body side second mating surface part 10 are arranged on the inner circumferential side and the outer circumferential side, respectively, and protrude horizontally. , these mating surfaces 9 and 10 are each formed into a substantially angle rail shape, and are laid annularly along the opening of the second tank 5 so as to surround it.

他方、蓋体11は本体3の第二槽5と路間二の箱形状に
形成されており、この蓋体11も導電材料を混入された
硬質樹脂を用いて一体成形されている。蓋体11におけ
る開口部には、蓋体側第1合わせ面部12および蓋体側
第2合わせ面部13が内周側および外周側にそれぞれ配
されて、断面路コ字形状に形成され開口縁に沿うように
環状に敷設されている。
On the other hand, the lid 11 is formed in a box shape between the second tank 5 of the main body 3 and the lid 11 is also integrally molded using a hard resin mixed with a conductive material. In the opening of the lid 11, a first lid-side mating surface portion 12 and a second lid-side mating surface portion 13 are arranged on the inner circumferential side and the outer circumferential side, respectively, and the cross section is formed into a U-shape and extends along the opening edge. It is laid out in a ring.

次に作用を説明する。Next, the effect will be explained.

ウェハ1がこの収納容器に収納される場合、蓋体11が
本体3から外されて本体3が開放される。
When the wafer 1 is stored in this storage container, the lid 11 is removed from the main body 3 and the main body 3 is opened.

ウェハ1は複数枚がキャリア治具2に整列保持された状
態で、キャリア治具2ごと本体3の第一槽4内における
底面上に’i31置される。続いて、蓋体11が本体3
に被せられて本体3が密閉される。
A plurality of wafers 1 are aligned and held on the carrier jig 2, and the carrier jig 2 and the wafers 1 are placed on the bottom surface of the first tank 4 of the main body 3. Subsequently, the lid body 11 is attached to the main body 3.
The main body 3 is sealed.

この状態において、蓋体11の第1および第2合わせ面
部12およびI3が本体3の第1および第2合わせ面部
9および10に、内外2箇所において開口を2重に取り
囲むようにそれぞれ合わさるため、容器内の防塵性は良
好に保たれる。すなわち、内外2箇所の合わせ面が塵埃
侵入に対する障壁となるため、塵埃が容器内に侵入する
可能性が低下される。
In this state, the first and second mating surfaces 12 and I3 of the lid body 11 are mated with the first and second mating surfaces 9 and 10 of the main body 3, respectively, so as to double surround the opening at two locations, inside and outside. The dust resistance inside the container is maintained well. That is, since the two mating surfaces, the inner and the outer, serve as a barrier to dust intrusion, the possibility that dust will infiltrate into the container is reduced.

ところで、ウェハが収納された状態で、収納容器が動か
されたり置かれたりした場合、収納容器に収納されたウ
ェハに衝撃が加わるため、ウェハの欠けや割れ等が発生
する危険がある。
By the way, if the storage container is moved or placed with wafers stored therein, a shock is applied to the wafers stored in the storage container, so there is a risk that the wafers may be chipped or cracked.

しかし、本実施例においては、本体3が2重槽構造に構
成されて内側槽としての第一槽4が外側槽としての第二
槽5にフローティング支持されており、この第一槽4に
キャリア治具2が載置されることにより、ウェハ1に衝
撃が加わるのは抑制されるため、ウェハの欠けや割れ等
が発生する危険性は抑制される。すなわち、万一、第二
槽5および蓋体11に衝撃が加えられたとしても、その
衝撃は空気層7によって吸収されることにより、ウェハ
lを支持している第一槽4には伝播されないため、ウェ
ハに衝撃が加わるのは抑制される。
However, in this embodiment, the main body 3 has a double tank structure, and the first tank 4 as an inner tank is floatingly supported by the second tank 5 as an outer tank, and the carrier is placed in the first tank 4. By placing the jig 2, the application of impact to the wafer 1 is suppressed, thereby suppressing the risk of chipping, cracking, etc. of the wafer. That is, even if an impact is applied to the second tank 5 and the lid 11, the impact will be absorbed by the air layer 7 and will not be transmitted to the first tank 4, which supports the wafers l. Therefore, impact on the wafer is suppressed.

また、空気層7を介してフローティング支持された第一
槽4にウェハ治具2が載置されていることにより、ウェ
ハ1において静電気破壊が発生する危険性がある。
Further, since the wafer jig 2 is placed in the first tank 4 which is floatingly supported via the air layer 7, there is a risk that electrostatic damage may occur in the wafer 1.

しかし、本実施例においては第一槽4および第二槽5が
いずれも導電性を有するように製作されているとともに
、第一槽4と第二槽5とが導電部材8により電気的に接
続されているため、静電気破壊による事故の発生は防止
される。
However, in this embodiment, both the first tank 4 and the second tank 5 are manufactured to have conductivity, and the first tank 4 and the second tank 5 are electrically connected by a conductive member 8. This prevents accidents caused by electrostatic damage.

すなわち、第一槽4、キャリア治具2およびウェハ1に
帯電しようとする静電気は、第一槽4、導電部材8およ
び第二槽5を通じてアースされることにより、帯電する
間なく放電されるからである。
In other words, the static electricity that would otherwise be charged on the first tank 4, carrier jig 2, and wafer 1 is discharged without charging as it is grounded through the first tank 4, conductive member 8, and second tank 5. It is.

前記実施例によれば次の効果が得られる。According to the embodiment described above, the following effects can be obtained.

(1)本体を多重槽構造に構成し、内側槽を外側槽によ
ってフローティング支持することにより、運搬時等の衝
撃が内側槽に伝播されるのを防止することができるため
、内側槽に収納した物品の損傷発生を防止することがで
きる。
(1) By configuring the main body in a multi-tank structure and floatingly supporting the inner tank by the outer tank, it is possible to prevent shocks during transport from being transmitted to the inner tank. Damage to articles can be prevented.

(2)内外槽を導電部材によって電気的に接続すること
により、内側槽の内部に静電気が帯電するのを防止する
ことができるため、内側槽に収納した物品につき静電気
破壊の発生を防止することができる。
(2) By electrically connecting the inner and outer tanks with a conductive member, it is possible to prevent static electricity from building up inside the inner tank, thereby preventing the occurrence of static electricity damage to the items stored in the inner tank. Can be done.

(3)本体と蓋体との間に合わせ面部を複数条形成する
ことにより、塵埃の侵入に対する障壁を増加させること
ができるため、収納容器の防塵性を高めることができる
(3) By forming a plurality of mating surfaces between the main body and the lid, it is possible to increase the barrier against the intrusion of dust, so that the dustproofness of the storage container can be improved.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor.

例えば、本体は二重槽構造に構成するに限らず、三重槽
以上の多重槽構造に構成してもよい。多重槽構造の場合
、中間槽はその内側槽とその外側槽との相手に対応して
相対的に、外側槽または内側槽をそれぞれ構成すること
になる。
For example, the main body is not limited to a double tank structure, but may have a triple tank or more multiple tank structure. In the case of a multiple tank structure, the intermediate tank constitutes an outer tank or an inner tank, respectively, corresponding to its inner tank and its outer tank.

フローティング支持の手段としては、内側槽と外側槽と
の間に弾性部材により空気層を形成してなる構成を使用
するに限らず、内側層と外側層との間にスポンジ等のよ
うなりンション材を介設してなる構成等を使用してもよ
い。
The means for floating support is not limited to a structure in which an air layer is formed between the inner and outer tanks using an elastic member, but also a structure in which a cushioning material such as a sponge is used between the inner and outer layers. You may use the structure etc. which interpose.

本体と蓋体との合わせ面部は、開口部を二重に取り囲む
ように構成するに限らず、三重以上の多重構造に構成し
てもよい。
The mating surface portion between the main body and the lid body is not limited to be configured to double surround the opening, but may be configured to have a triple or more multiple structure.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるウェハの収納技術に
適用した場合について説明したが、それに限定されるも
のではなく、他の電子部品等を収納するための収納容器
全段に適用することができる。
The above explanation has mainly been about the application of the invention made by the present inventor to wafer storage technology, which is the background field of application, but the invention is not limited to this, and is not limited to this. Can be applied to all stages of storage containers.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

本体を多重槽構造た構成し、内側槽を外側槽によってフ
ローティング支持することにより、運搬時等の衝撃が内
側槽に伝播されるのを防止することができるため、内側
槽に収納した物品の損傷を防止することができる。
The main body has a multi-tank structure, and the inner tank is floatingly supported by the outer tank, which prevents shocks from being transmitted to the inner tank during transportation, thereby preventing damage to items stored in the inner tank. can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例である収納容器を示す縦断面
図である。 111.ウェハ(被収納物)、2・・・治具、3・・・
本体、4・・・第一槽(内側槽)、5・・・第二槽(外
側槽)、6・・・弾性部材、7・・・空気層、8・・・
導電部材、9、■0・・・本体側合わせ面部、11・・
・蓋体、12.13・・・蓋体側合わせ面部。 第1図
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a storage container that is an embodiment of the present invention. 111. Wafer (object to be stored), 2... jig, 3...
Main body, 4... First tank (inner tank), 5... Second tank (outer tank), 6... Elastic member, 7... Air layer, 8...
Conductive member, 9, ■0...Main body side mating surface part, 11...
- Lid body, 12.13... Lid body side mating surface part. Figure 1

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、箱形状に形成されている本体と、本体の開口部に被
せられて開口を閉塞する蓋体とを備えており、前記本体
が多重槽構造に形成されているとともに、内側槽が外側
槽にフローティング支持され、かつ、内側槽と外側槽と
が電気的に接続されており、この本体と蓋体との間に複
数条の合わせ面部が互いに同心的に配されてそれぞれ環
状に形成されていることを特徴とする収納容器。 2、内側槽が外側槽に、弾性部材によって画成されてい
る空気層により、フローティング支持されていることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の収納容器。 3、本体側の合わせ面部が最外槽に形成されており、こ
の合わせ面部に蓋体側の合わせ面部が合わせられること
により蓋体が最外槽によって支持されるように構成され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の収
納容器。
[Claims] 1. The main body is formed into a box shape, and the lid body is placed over the opening of the main body to close the opening, and the main body is formed in a multi-tank structure. , the inner tank is floatingly supported on the outer tank, the inner tank and the outer tank are electrically connected, and a plurality of mating surfaces are arranged concentrically between the main body and the lid body. A storage container characterized in that each container is formed in an annular shape. 2. The storage container according to claim 1, wherein the inner tank is floatingly supported by the outer tank by an air layer defined by an elastic member. 3. The mating surface part on the main body side is formed in the outermost tank, and the lid body is configured to be supported by the outermost tank by matching the mating surface part on the lid body side to this mating surface part. A storage container according to claim 1.
JP63069455A 1988-03-25 1988-03-25 Housing container Pending JPH01243539A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63069455A JPH01243539A (en) 1988-03-25 1988-03-25 Housing container

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63069455A JPH01243539A (en) 1988-03-25 1988-03-25 Housing container

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01243539A true JPH01243539A (en) 1989-09-28

Family

ID=13403137

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63069455A Pending JPH01243539A (en) 1988-03-25 1988-03-25 Housing container

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01243539A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1865096B (en) Substrate storage container and method for manufacturing the same
TWI391304B (en) Reticle pod
KR100428827B1 (en) 300mm MICROENVIRONMENT POD WITH DOOR ON SIDE
US20080185315A9 (en) Integrated circuit wafer packaging system and method
US20130134624A1 (en) Composite substrate carrier
CA2075654A1 (en) Wafer suspension box
FR2779131A1 (en) SUPPORT FOR TABLETS AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
KR20170095325A (en) Wafer container with shock condition protection
US6467626B1 (en) Wafer storing method and storing container therefor and wafer transferring method for transferring wafer to the storing container
US20210249283A1 (en) Reticle Transportation Container
US11387124B2 (en) Wafer container and method for holding wafer
TW201432839A (en) Transportng apparatus and processing apparatus
JPH01243539A (en) Housing container
JP3938233B2 (en) Sealed container
JP2005191419A (en) Housing of semiconductor wafer
WO2013081159A1 (en) Substrate housing container
US5577616A (en) Cushioning package for transporting or storing semiconductor wafers
KR20060099438A (en) Packing material for wafer
KR100360404B1 (en) Method for packing wafers preventing surface degradation on wafer
KR20070041889A (en) Frame sawing and semiconductor package sorting apparatus using turn table
JP2000208593A (en) Carrier and grinder and carrying method employing it
JP4524971B2 (en) Semiconductor substrate storage box, semiconductor substrate manufacturing method
US11787621B2 (en) Reticle pod and wear parts thereof
TWI329604B (en) Substrate carrier
JP2001092114A (en) Housing case of substrate such as photomask