JPH01239744A - 電子ビーム加工装置 - Google Patents
電子ビーム加工装置Info
- Publication number
- JPH01239744A JPH01239744A JP6645888A JP6645888A JPH01239744A JP H01239744 A JPH01239744 A JP H01239744A JP 6645888 A JP6645888 A JP 6645888A JP 6645888 A JP6645888 A JP 6645888A JP H01239744 A JPH01239744 A JP H01239744A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron
- filament
- grid
- electron beam
- beams
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子ビーム加工装置に関する。
従来、試料をアニールしたり、溶接したりする電子ビー
ム加工装置の構造は第４図に示すように、フィラメント
１から出射された電子ビーム８はグリッド９とアノード
３によって形成される電界によって集束されクロスオー
バをつくり、その接法がった電子ビームをレンズ４によ
って試料６上に集束し、偏向器５によって電子ビームを
走査しながら試料を加工しな。
ム加工装置の構造は第４図に示すように、フィラメント
１から出射された電子ビーム８はグリッド９とアノード
３によって形成される電界によって集束されクロスオー
バをつくり、その接法がった電子ビームをレンズ４によ
って試料６上に集束し、偏向器５によって電子ビームを
走査しながら試料を加工しな。
しかしながら、加工条件によってはタンデムビーム等の
ように複数本のビームを使って試料を溶接あるいはアニ
ールすることが必要な場合がある。このような場合、従
来装置では電子銃を複数個設けて電子ビームを複数本作
ったり、ビームを高速で移動させて擬似的に複数本にし
たりしておこなってきたが、いずれも装置が複雑化、大
形化、してしまうという問題があった。
ように複数本のビームを使って試料を溶接あるいはアニ
ールすることが必要な場合がある。このような場合、従
来装置では電子銃を複数個設けて電子ビームを複数本作
ったり、ビームを高速で移動させて擬似的に複数本にし
たりしておこなってきたが、いずれも装置が複雑化、大
形化、してしまうという問題があった。
本発明の目的は、１個の電子銃によって複数本の電子ビ
ームを取り出すことのできる電子ビーム加工装置を提供
することにある。
ームを取り出すことのできる電子ビーム加工装置を提供
することにある。
本発明は、電子ビーム加工装置に於て、電子放出面が平
らなフィラメントと電子通過穴がフィラメント幅より小
さなピッチ間で複数個あり、かつ、電子ビームの通過す
る近傍の電極が平面のグリッドと、電子ビームの通過す
る近傍の電極が平面のアノードを備えている。
らなフィラメントと電子通過穴がフィラメント幅より小
さなピッチ間で複数個あり、かつ、電子ビームの通過す
る近傍の電極が平面のグリッドと、電子ビームの通過す
る近傍の電極が平面のアノードを備えている。
本発明の電子ビーム加工装置によれば、フィラメント幅
より小さなピッチで複数個の電子通過穴を設け、フィラ
メント直前のフィラメントとグリッドとアノードによっ
て形成される電界がビームを引き出す強度になると、複
数本の電子ビームが出射される。これらの電子ビームは
グリッドのフィラメント突き出し穴を通過する際フィラ
メント突き出し穴の側壁とフィラメントの電位によって
形成される電界により集束作用を受けそれぞれ別々にク
ロスオーバをつくる。ビーム軸近傍の電界はグリッドと
アノードが平らなためほぼフラットな電界が形成され複
数のビームに対して大きな集束作用を及ぼさず、複数の
ビームはそれぞれ別の軌道をとる。ビームはクロスオー
バを形成した後発散レンズによって、試料上にクロスオ
ーバ像が投影されるため、最初に出射されたビームの数
だけ試料上に集束されたビームを照射できることになる
。
より小さなピッチで複数個の電子通過穴を設け、フィラ
メント直前のフィラメントとグリッドとアノードによっ
て形成される電界がビームを引き出す強度になると、複
数本の電子ビームが出射される。これらの電子ビームは
グリッドのフィラメント突き出し穴を通過する際フィラ
メント突き出し穴の側壁とフィラメントの電位によって
形成される電界により集束作用を受けそれぞれ別々にク
ロスオーバをつくる。ビーム軸近傍の電界はグリッドと
アノードが平らなためほぼフラットな電界が形成され複
数のビームに対して大きな集束作用を及ぼさず、複数の
ビームはそれぞれ別の軌道をとる。ビームはクロスオー
バを形成した後発散レンズによって、試料上にクロスオ
ーバ像が投影されるため、最初に出射されたビームの数
だけ試料上に集束されたビームを照射できることになる
。
フィラメントとグリッドの位置を相対的に移動させるこ
とができる機構にしておけば、それぞれの穴から出射さ
れる電子は電子を放出するフィラメントの有効面積が違
うため、２本のビームのクロスオーバ像の大きさの比率
を変えることができ、結果的に試料上に照射される２本
のビームの強度を変えることができる。同様にすれば、
グリッドの電子通過穴が３個以上の複数個の場合では両
端のビームの強度を変えることができる。
とができる機構にしておけば、それぞれの穴から出射さ
れる電子は電子を放出するフィラメントの有効面積が違
うため、２本のビームのクロスオーバ像の大きさの比率
を変えることができ、結果的に試料上に照射される２本
のビームの強度を変えることができる。同様にすれば、
グリッドの電子通過穴が３個以上の複数個の場合では両
端のビームの強度を変えることができる。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例の概略構成図である。
第１図に示すように、電子はグリッド２の電子通過穴に
対応したフィラメント１の電子放出面から、フィラメン
ト１の幅より小さなピッチ間で配列された有効な通過穴
の数に対応した電子ビーム８を出射する。出射された電
子ビーム８はフィラメント１、グリッド２、アノード３
で形成される電界によってクロスオーバを作り、その像
をレンズ４によって試料６上に結像する。さらに偏向器
５によって電子ビーム８を走査し広範囲に試料を加工で
きる。
対応したフィラメント１の電子放出面から、フィラメン
ト１の幅より小さなピッチ間で配列された有効な通過穴
の数に対応した電子ビーム８を出射する。出射された電
子ビーム８はフィラメント１、グリッド２、アノード３
で形成される電界によってクロスオーバを作り、その像
をレンズ４によって試料６上に結像する。さらに偏向器
５によって電子ビーム８を走査し広範囲に試料を加工で
きる。
第２図（ａ）、（ｂ）は本発明の一実施例の電子銃の部
分拡大断面図及びそのときの試料上でのビーム強度の特
性図、第３図（ａ）、（ｂ）は第２図（ａ）のフィラメ
ント位置をグリッドに対して相対的にずらせた部分拡大
断面図及びそのときの試料上でのビーム強度の特性図で
ある。
分拡大断面図及びそのときの試料上でのビーム強度の特
性図、第３図（ａ）、（ｂ）は第２図（ａ）のフィラメ
ント位置をグリッドに対して相対的にずらせた部分拡大
断面図及びそのときの試料上でのビーム強度の特性図で
ある。
第２図（ａ）、（ｂ）及び第３図（ａ）、（ｂ）に示す
ように、フィラメント位置をグリッドに対して相対的に
ずらすことにより２本のビーム強度が変化したのがわか
る。
ように、フィラメント位置をグリッドに対して相対的に
ずらすことにより２本のビーム強度が変化したのがわか
る。
以上述べたとおり本発明の装置によれば、１個の電子銃
から複数本の電子ビームを作ることができ、また、両端
のビームは他のビームに対して強度を変えることができ
るという効果がある。
から複数本の電子ビームを作ることができ、また、両端
のビームは他のビームに対して強度を変えることができ
るという効果がある。
第１図は本発明の一実施例の概略構成図、第２図（ａ）
、（ｂ）は本発明の一実施例の電子銃の部分拡大断面図
及びそのときの試料上でのビーム強度の特性図、第３図
（ａ）、（ｂ）は第２図（ｂ）のフィラメント位置をグ
リッドに対してずらせたときの電子銃の部分拡大断面図
及びそのときの試料上でのビーム強度の特性図、第４図
は従来の電子ビーム加工装置の一例の概略構成図である
。 １・・・フィラメント、２・・・グリッド、３・・・ア
ノード、４・・・レンズ、５・・・偏向器、６・・・試
料、７・・・真空容器、８・・・電子ビーム、９・・・
グリッド。
、（ｂ）は本発明の一実施例の電子銃の部分拡大断面図
及びそのときの試料上でのビーム強度の特性図、第３図
（ａ）、（ｂ）は第２図（ｂ）のフィラメント位置をグ
リッドに対してずらせたときの電子銃の部分拡大断面図
及びそのときの試料上でのビーム強度の特性図、第４図
は従来の電子ビーム加工装置の一例の概略構成図である
。 １・・・フィラメント、２・・・グリッド、３・・・ア
ノード、４・・・レンズ、５・・・偏向器、６・・・試
料、７・・・真空容器、８・・・電子ビーム、９・・・
グリッド。
Claims (1)
- 電子ビーム加工装置に於て、電子放出面が平らなフィラ
メントと電子通過穴がフィラメント幅より小さなピッチ
間で複数個あり、かつ、電子ビームの通過する近傍の電
極が平面のグリッドと、電子ビームの通過する近傍の電
極が平面のアノードを備えたことを特徴とする電子ビー
ム加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6645888A JPH01239744A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 電子ビーム加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6645888A JPH01239744A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 電子ビーム加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01239744A true JPH01239744A (ja) | 1989-09-25 |
Family
ID=13316348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6645888A Pending JPH01239744A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 電子ビーム加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01239744A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100389476C (zh) * | 2006-03-17 | 2008-05-21 | 上海市七宝中学 | 一种扫描式离子枪 |
-
1988
- 1988-03-18 JP JP6645888A patent/JPH01239744A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100389476C (zh) * | 2006-03-17 | 2008-05-21 | 上海市七宝中学 | 一种扫描式离子枪 |
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