JPH01231250A - Indirectly-heated linear filament type electron gun - Google Patents

Indirectly-heated linear filament type electron gun

Info

Publication number
JPH01231250A
JPH01231250A JP63054984A JP5498488A JPH01231250A JP H01231250 A JPH01231250 A JP H01231250A JP 63054984 A JP63054984 A JP 63054984A JP 5498488 A JP5498488 A JP 5498488A JP H01231250 A JPH01231250 A JP H01231250A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filament
electron beam
linear
linear filament
electron gun
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63054984A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takamasa Nakamura
中村 隆正
Kazuyuki Toki
土岐 和之
Shigeo Konno
今野 茂生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd, Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP63054984A priority Critical patent/JPH01231250A/en
Publication of JPH01231250A publication Critical patent/JPH01231250A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

PURPOSE:To lengthen the form of an electron beam so that a stable and uniform electron beam can be obtained by generating a thermion from a linear filament heated indirectly and drawing out said thermion by an acceleration voltage applied to an anode. CONSTITUTION:A lengthy linear filament 13, a lengthy bombardment filament 11 for heating the linear filament 13, and a support structure for supporting the linear filament 13 and the bombardment filament 11 are provided. A cooling chamber 50 for cooling the support structure, a lengthy anode 15 for drawing out the thermion generated from the linear filament 13 followed by acceleration, and a grid 14 for regulating the drawn amount of the thermion and converging said thermion are provided. Hence, an uniform and stable lengthy electron beam can be obtained without oscillating right and left.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は金属蒸気を発生させる熱源とじて用いられる傍
熱式リニアフィラメント型電子銃に関し、蒸着装置にも
応用可能なものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to an indirectly heated linear filament type electron gun used as a heat source for generating metal vapor, and is also applicable to vapor deposition equipment.

〈従来の技術〉 第2図(al (blに各々従来の傍熱型電子銃を示す
。まず、第2図(alに示す円板状フィラメントを用い
る例について説明する。同図に示すように、ボンパード
フィラメント1に電源7より直流又は交流電流を供給し
て加熱し、熱電子を発生させると共に円板状フィラメン
ト3とボンパードフィラメント1との間に加速電圧を印
加して、前記熱電子を円板状フィラメント3に衝撃させ
て、これを間接的に加熱する。加熱された円板状フィラ
メント3から熱電子が発生し、この熱電子はアノード5
の加速電圧により引き出され、加速され、ターゲットに
照射され、これを加熱することとなる。ここでグリッド
4はビーム電流や集光の制御、に用いられている。この
様な電子銃により得られる電子ビーム6の形状はスポッ
ト状であろため、ターゲット上の電子ビーム照射範囲2
cよ円形である。
<Prior art> Fig. 2(al) shows a conventional indirectly heated electron gun. First, an example using a disc-shaped filament shown in Fig. 2(al) will be explained. , the bombarded filament 1 is heated by supplying direct current or alternating current from the power supply 7 to generate thermoelectrons, and an accelerating voltage is applied between the disc-shaped filament 3 and the bombarded filament 1 to generate the thermoelectrons. is applied to the disc-shaped filament 3 to indirectly heat it.Thermal electrons are generated from the heated disc-shaped filament 3, and these thermoelectrons are sent to the anode 5.
It is pulled out by the accelerating voltage, accelerated, and irradiated onto the target, heating it. Here, the grid 4 is used to control beam current and light focusing. Since the shape of the electron beam 6 obtained by such an electron gun is likely to be spot-like, the electron beam irradiation range 2 on the target is
It is circular like c.

次に、第2図(b)に示す他の電子銃について説明する
。同図に示すように棒状フィラメント3の外周にらせん
状のボンパードフィラメント1を設けて、棒状フィラメ
ント3を電源8により間接的に加熱するものであり、そ
の他の点については第2図(a’+に示すものと同様て
ある。乙の電子銃によって得られろ電子ヒ゛−ムロの形
状もスポット状であるため、ターゲット上の電子ビーム
照射範囲2は円形となっている。
Next, another electron gun shown in FIG. 2(b) will be explained. As shown in the figure, a spiral bombarded filament 1 is provided around the outer periphery of a rod-shaped filament 3, and the rod-shaped filament 3 is indirectly heated by a power source 8. The shape of the electron beam obtained by the electron gun B is also spot-like, so the electron beam irradiation range 2 on the target is circular.

〈発明が解決しようとする課題〉 従来の電子銃により得られろ電子ビーム6の形状(よい
ずれもスポット状であるため、クーゲット上の電子ビー
ム照射範囲2(よ円形である。つまり、従来の電子銃(
よ、その構成、上長尺状の電子ビーム発生は不可能であ
った0乙のため、円形状の金属蒸発を行う場合ζこは問
題はないが、長尺状に金属を蒸発させろ場合には、オシ
レーションする必要がある。
<Problems to be Solved by the Invention> Since the shape of the electron beam 6 obtained by a conventional electron gun (both are spot-like), the electron beam irradiation area 2 on the Kuget (which is circular; that is, the shape of the electron beam 6 obtained by the conventional electron gun is Electron gun (
Due to its configuration, it was impossible to generate an elongated electron beam, so there is no problem when evaporating metal in a circular shape, but when evaporating metal in a long shape, needs to be oscillated.

しかし、オシレーションすると安定した出力が得られな
いため、均一な蒸気密度を必要とする場合には適用でき
なかった。
However, since a stable output cannot be obtained when oscillating, it cannot be applied in cases where uniform vapor density is required.

本発明は、電子ビームの形状を長尺化し、広範囲にわた
って安定で均一な電子ビームを得ろことが可能な電子銃
を提供し、もって金属蒸発を効率的、均一的に行え、作
業時間の大幅短縮を可能とし、従来のスポット状ビーム
では不可能であった金属蒸発の分野への適用も可能とし
、電子銃の応用拡大を図ることを目的とするものである
The present invention provides an electron gun that can elongate the shape of the electron beam and obtain a stable and uniform electron beam over a wide range, thereby making it possible to perform metal evaporation efficiently and uniformly, significantly shortening the working time. The aim is to expand the application of electron guns by making it possible to apply them to the field of metal evaporation, which was not possible with conventional spot beams.

〈課題を解決するための手段〉 断かろ目的を達成する本発明の傍熱式リニアフィラメン
ト型電子銃に係ろ構成は金属蒸発装置に用いられる長尺
の直線状電子ビームを得る電子銃において、長尺のリニ
アフィラメントと、該リニアフィラメントを加熱する長
尺のボンパードフィラメントと、該リニアフィラメント
と該ボンパードフィラメントとを支持するための支持構
造体と、該支持構造体を冷却するための冷却室と、前記
リニアフィラメントから発生した熱電子を引き出して加
速する長尺のアノードと、該熱電子の引き出し量を調整
し、これを集光するためのグリッドとを備左ることを特
徴とする。
<Means for Solving the Problems> The indirectly heated linear filament type electron gun of the present invention achieves the above objects. A long linear filament, a long bombarded filament for heating the linear filament, a support structure for supporting the linear filament and the bombarded filament, and a cooling system for cooling the support structure. A chamber, a long anode for extracting and accelerating thermoelectrons generated from the linear filament, and a grid for adjusting the amount of extraction of the thermoelectrons and focusing them. .

く作   用〉 長尺のボンパードフィラメントに通電して加熱すること
により、熱電子を発生させ、これを長尺のリニアフィラ
メントに面突させ、リニアフィラメントを間接的に加熱
する。加熱されたリニアフィラメントから熱電子が発生
し、この熱電子はアノードに印加された加速電圧によっ
て引き出され、直線状の電子ビームとなって加速する。
Function: By applying electricity to the long bombarded filament and heating it, thermoelectrons are generated, which are brought into contact with the long linear filament to indirectly heat the linear filament. Thermionic electrons are generated from the heated linear filament, and these thermoelectrons are extracted by an accelerating voltage applied to the anode, and are accelerated into a linear electron beam.

グリッドにはアノードと逆電位が印加され、電子ビーム
出力と集光性が調整されろ。
A potential opposite to that of the anode is applied to the grid, and the electron beam output and light focusing properties are adjusted.

く実 施 例〉 以下、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図及び第3図に本発明の一実施例に係る電子銃41
を示す。両図に示されるように箱状のケーシング35内
には側面から棚部35 a、 35 bが突設され、こ
れら棚部35a。
FIG. 1 and FIG. 3 show an electron gun 41 according to an embodiment of the present invention.
shows. As shown in both figures, shelf portions 35a and 35b are provided inside the box-shaped casing 35 and protrude from the sides thereof, and these shelf portions 35a.

35bに絶縁碍子板30がQ +Jソングを介して水平
に支持されている。絶縁碍子板30より下部は冷却油が
流入し、排出される冷却室50であるため、油が洩れな
いようOリング9でシールされている。ケーシング35
の底面をそれぞれ電流導入端子17が絶縁碍子40を介
して貫通しており、これら電流導入端子17はボンパー
ドフィラメント電源(交流でも直流でも良い)70が接
続されている。−方、絶縁碍子板30を2本の支持構造
材60が貫通しており、各支持構造材60は各々棒状を
なすと共に各々リード腺16を介して電流導入端子17
に接続している。各支持構造材60の上端にはボンパー
ドフィラメント固定部12がそれぞれ設けられると共に
これらボンパードフィラメント固定部12の間に長尺の
ボンパードフィラメント11が水平に支持されている。
An insulator plate 30 is horizontally supported on 35b via a Q+J song. The area below the insulator plate 30 is a cooling chamber 50 into which cooling oil flows and is discharged, and is therefore sealed with an O-ring 9 to prevent oil from leaking. casing 35
Current introduction terminals 17 penetrate through the bottom surfaces of the respective electric current introduction terminals 17 via insulators 40, and these current introduction terminals 17 are connected to a bombarded filament power source (which may be AC or DC) 70. On the other hand, two support structure members 60 penetrate through the insulator board 30, and each support structure member 60 is rod-shaped, and the current introduction terminal 17 is passed through the lead gland 16.
is connected to. A bombard filament fixing part 12 is provided at the upper end of each support structure member 60, and a long bombard filament 11 is horizontally supported between these bombard filament fixing parts 12.

このボンパードフィラメント11のIf上には、長尺の
リニアフィラメント13が水平に支持されている。ボン
パードフィラメント11.リニアフィラメント13はい
ずれも棒状をなすフィラメントである。リニアフィラメ
ント13は、ケーシング35の上蓋として設けられるグ
リッド14のスリット状の開口部において、絶縁碍子2
0.フィラメント固定部25を介して吊り下げられてい
る。リニアフィラメント13は、絶縁碍子板30を貫通
する導入端子21にリード線16を介して接続し、更に
ケーンング底面を絶縁碍子40を介して貫通する導入端
子22にリード線16を介して接続し、ボンバード電源
80とグリッド電源90との間に接続されて、グリッド
14.ボンパードフィラメント11よりも高電位となっ
ている。
A long linear filament 13 is supported horizontally on If of the bombarded filament 11. Bombard filament 11. All linear filaments 13 are rod-shaped filaments. The linear filament 13 is inserted into the insulator 2 at the slit-shaped opening of the grid 14 provided as the top cover of the casing 35.
0. It is suspended via a filament fixing part 25. The linear filament 13 is connected via a lead wire 16 to an introduction terminal 21 passing through an insulator plate 30, and further connected via a lead wire 16 to an introduction terminal 22 passing through the bottom of the caning via an insulator 40. connected between the bombarded power source 80 and the grid power source 90, the grid 14. It has a higher potential than the bombarded filament 11.

更に、グリッド14.リニアフィラメント13の直上に
はスリット状の開口部を有するアノード15が支持され
ている。アノード15は、加速電源100によりリニア
フィラメント13に比べて正電位が印加されている。グ
リッド14は、グリッド電源90によりリニアフィラメ
ント13に比べて負電位が印加されることになるから、
グリッド14はアノード15に比べて逆電位が印加され
ていることになる。アノード15は冷却水10を給排す
ることにより冷却されることになる。
Furthermore, grid 14. An anode 15 having a slit-shaped opening is supported directly above the linear filament 13 . A more positive potential than that of the linear filament 13 is applied to the anode 15 by the acceleration power supply 100 . Since a negative potential is applied to the grid 14 by the grid power supply 90 compared to the linear filament 13,
An opposite potential is applied to the grid 14 compared to the anode 15. The anode 15 is cooled by supplying and discharging the cooling water 10.

上記構成を有する本実施例の電子銃41は次の様に使用
される。
The electron gun 41 of this embodiment having the above configuration is used as follows.

まず、ボンパードフィラメント電源70から直流又は交
流電流を、電流導入端子17゜リード線16.支持構造
材60を介して長尺のボンパードフィラメント11へ供
給する。
First, direct current or alternating current is applied from the bombarded filament power supply 70 to the current introduction terminal 17° lead wire 16. It is supplied to the long bombarded filament 11 via the support structure material 60.

各電流導入端子12.フイラメント支持構造材60の間
には絶縁碍子40.絶縁碍子板30が介在するので短絡
することはない。電流の供給されるボンパードフィラメ
ント11は2700に程度まで抵抗加熱され、熱電子を
発生する。リニアフィラメント13はボンバード電源8
0により高電位が印加されるので、上記電子が衝突し、
このため加熱されろことになる。加熱されたリニアフィ
ラメント13は熱電子を発生することになる。これに伴
う発熱は、冷却室50に冷却油18を給排することによ
って奪われる。
Each current introduction terminal 12. An insulator 40 is placed between the filament support structural members 60. Since the insulator plate 30 is interposed, there will be no short circuit. The bombarded filament 11 to which the current is supplied is resistively heated to about 2,700 ℃ and generates thermoelectrons. Linear filament 13 is bombarded power supply 8
Since a high potential is applied due to 0, the above electrons collide,
Therefore, it will be heated. The heated linear filament 13 will generate thermoelectrons. The heat generated due to this is removed by supplying and discharging the cooling oil 18 to the cooling chamber 50.

一方、加速電源100によりアノード15に正電位を印
加すると、リニアフィラメント13から発生した熱電子
が引き出され、加速されることにより長尺状の電子ビー
ム6となる。このとき、グリッド電源90によりグリッ
ド14の電位を調整すれば、リニアフィラ くメント1
3から発生する熱電子の量を調整したり、集光性を制御
できることになる。又、アノード15の冷却は冷却水1
0の給排により行なわれろ。
On the other hand, when a positive potential is applied to the anode 15 by the accelerating power source 100, the thermoelectrons generated from the linear filament 13 are extracted and accelerated to become a long electron beam 6. At this time, if the potential of the grid 14 is adjusted by the grid power supply 90, the linear filament 1
3, it is possible to adjust the amount of thermoelectrons generated and control the light gathering ability. In addition, the anode 15 is cooled using cooling water 1.
This is done by supplying and discharging 0.

この様に本実施例の電子銃41は長尺状の電子ビーム6
を発生できるので、この電子ビーム6の照射される範囲
は円形状でな(細長い長尺状となる。従って、本発明の
電子銃を用いれば、従来不可能であった長尺の金属蒸気
の発生が可能となると共に安定な蒸気密度を得ることが
できる。例えば、その具体的適用例を第4図に示すよう
に電子銃41から出射した電子ビーム6を偏向磁場発生
装置44による磁場451cより90度曲げてるっぽ4
2内のターゲット43に照射して、金属蒸気46を発生
させろようにしても良い。このようにすると、電子ビー
ム6は偏光により集束作用を受けてターゲット42上で
集束されるため、効率良く金属蒸気を発生させることが
できる。
In this way, the electron gun 41 of this embodiment has a long electron beam 6.
Therefore, the range irradiated with the electron beam 6 is not circular (it is elongated). Therefore, if the electron gun of the present invention is used, it is possible to emit long metal vapor, which was previously impossible. For example, as shown in FIG. 4, the electron beam 6 emitted from the electron gun 41 is deflected by the magnetic field 451c generated by the magnetic field generator 44. 90 degree bend po4
The metal vapor 46 may be generated by irradiating the target 43 inside the metal vapor 2 . In this way, the electron beam 6 is focused on the target 42 by the focusing effect of the polarized light, so that metal vapor can be generated efficiently.

:発明の効果〉 以上、実施例に基づいて具体的に説明したように、本発
明の電子銃はスポット状でなく長尺状の電子ビームを発
生することができる。
:Effects of the Invention> As described above in detail based on the embodiments, the electron gun of the present invention can generate an elongated electron beam rather than a spot-like electron beam.

このため、電子ビームを左右にオシレートさせずに均一
な安定した長尺状電子ビームにより金属蒸発を効率的、
均一的に行うことができることとなり、このため作業時
間の大幅短幅短縮が可能となる。つまり、長尺状の電子
ビーム照射を必要とする金属蒸発等の分野への応用が可
能になる。
For this reason, metal evaporation can be carried out efficiently using a uniform and stable elongated electron beam without oscillating the electron beam from side to side.
This allows the process to be carried out uniformly, thus making it possible to significantly shorten the working time. In other words, it becomes possible to apply the present invention to fields such as metal evaporation that require elongated electron beam irradiation.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例に係る傍熱式リニアフィラメ
ント型電子銃の構成図、第2図は従来の電子銃の構成図
、第3図は本発明の一実施例に係る傍熱式リニアフィラ
メント型電子銃の作動原理図、第4図は本発明の電子銃
の具体的適用例を示す説明図である。 図 面 中、 1はボンパードフィラメント、 2は電子ビームの照射範囲 3はフィラメント、 4(よグリッド、 5はアノード、 6は電子ビーム、 7はボンパードフィラメント電源、 8はボンバード電源、 9は0リング、 10は冷却水、 11はボンパードフィラメント、 12は固定部、 13はリニアフィラメント1 14はグリノ ド、 15はアノード、 16はリード線、 17は電流導入端子、 18は冷却油、 20は絶縁碍子、 21.22は導入端子、 25はフィラメント固定部、 30は絶!!碍子板、 35はケーシング、 40は絶縁碍子、 41は電子銃、 42はろつぼ、 43(よターゲラ ト、 44は偏向磁場発生装置、 45は磁場、 46は金属蒸気、 50は冷却室、 60は支持構造材、 70はボンパードフィラメント電源、 80はボンバード電源、 90はグリノ ド電源、 100ば加速電源である。 特  許  出  願  人 三菱重工業株式会社 日本電子株式会社 代     理     人
Fig. 1 is a block diagram of an indirectly heated linear filament type electron gun according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a block diagram of a conventional electron gun, and Fig. 3 is a block diagram of an indirectly heated linear filament type electron gun according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is an explanatory diagram showing a specific application example of the electron gun of the present invention. In the drawing, 1 is the bombard filament, 2 is the electron beam irradiation range, 3 is the filament, 4 is the grid, 5 is the anode, 6 is the electron beam, 7 is the bombard filament power supply, 8 is the bombard power supply, 9 is 0 Ring, 10 is cooling water, 11 is bombard filament, 12 is fixed part, 13 is linear filament 1, 14 is green node, 15 is an anode, 16 is lead wire, 17 is current introduction terminal, 18 is cooling oil, 20 is Insulator, 21, 22 is the introduction terminal, 25 is the filament fixing part, 30 is the insulator board, 35 is the casing, 40 is the insulator, 41 is the electron gun, 42 is the crucible, 43 (Yotagerato, 44 is A deflection magnetic field generator, 45 a magnetic field, 46 a metal vapor, 50 a cooling chamber, 60 a support structure, 70 a bombarded filament power source, 80 a bombarded power source, 90 a grid power source, and 100 an acceleration power source. Patent applicant Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. JEOL Ltd. Agent

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 金属蒸発装置に用いられる長尺の直線状電子ビームを得
る電子銃において、長尺のリニアフィラメントと、該リ
ニアフィラメントを加熱する長尺のボンパードフィラメ
ントと、該リニアフィラメントと該ボンパードフィラメ
ントとを支持するための支持構造体と、該支持構造体を
冷却するための冷却室と、前記リニアフィラメントから
発生した熱電子を引き出して加速する長尺のアノードと
、該熱電子の引き出し量を調整し、これを集光するため
のグリッドとを備えることを特徴とする傍熱式リニアフ
ィラメント型電子銃。
An electron gun for obtaining a long linear electron beam used in a metal evaporation device includes a long linear filament, a long bombarded filament that heats the linear filament, and a long linear filament and a long bombarded filament. A support structure for supporting, a cooling chamber for cooling the support structure, a long anode for extracting and accelerating thermoelectrons generated from the linear filament, and adjusting the amount of extraction of the thermoelectrons. , and a grid for focusing the light.
JP63054984A 1988-03-10 1988-03-10 Indirectly-heated linear filament type electron gun Pending JPH01231250A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63054984A JPH01231250A (en) 1988-03-10 1988-03-10 Indirectly-heated linear filament type electron gun

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63054984A JPH01231250A (en) 1988-03-10 1988-03-10 Indirectly-heated linear filament type electron gun

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01231250A true JPH01231250A (en) 1989-09-14

Family

ID=12985914

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63054984A Pending JPH01231250A (en) 1988-03-10 1988-03-10 Indirectly-heated linear filament type electron gun

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01231250A (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5214582A (en) * 1975-07-24 1977-02-03 Hitachi Zosen Corp Reactor having a fixed layer of catalyst
JPS6199255A (en) * 1984-10-19 1986-05-17 Jeol Ltd Line-form electron beam generator

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5214582A (en) * 1975-07-24 1977-02-03 Hitachi Zosen Corp Reactor having a fixed layer of catalyst
JPS6199255A (en) * 1984-10-19 1986-05-17 Jeol Ltd Line-form electron beam generator

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3562141A (en) Vacuum vapor deposition utilizing low voltage electron beam
JP2002117780A (en) Ion source for ion implantation device and repeller for it
JP2664094B2 (en) Metal ion source and metal ion generation method
JPS61107643A (en) Ion source with evaporator furnace
US4506160A (en) Ion source apparatus
US5852345A (en) Ion source generator auxiliary device for phosphorus and arsenic beams
US3517240A (en) Method and apparatus for forming a focused monoenergetic ion beam
JPH01231250A (en) Indirectly-heated linear filament type electron gun
US3634645A (en) Work treating with electron beam
JP3454389B2 (en) Plasma heating method for ion beam generator
JPH01204340A (en) Directly heated linear filament type electron gun
JP2000030642A (en) X-ray tube device
RU2151438C1 (en) Ribbon-beam ion plasma source (design versions)
US3748365A (en) Electron beam heating system
JPH051895Y2 (en)
JPH0676775A (en) Ion implantation method
JPH02278639A (en) Electron gun device
JP3498405B2 (en) Ion source
US3340425A (en) Ion generator having beam stabilization accelrating electrodes
JPS62229643A (en) Electron ray generating device
JPS6193534A (en) Ion source
US4171462A (en) Linear electron beam gun evaporator having uniform electron emission
US3084032A (en) Method of melting materials
JPH02121232A (en) Ion source
JPH0411975B2 (en)