JPH01229043A - Production of phenolic resin laminate - Google Patents

Production of phenolic resin laminate

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JPH01229043A
JPH01229043A JP5413888A JP5413888A JPH01229043A JP H01229043 A JPH01229043 A JP H01229043A JP 5413888 A JP5413888 A JP 5413888A JP 5413888 A JP5413888 A JP 5413888A JP H01229043 A JPH01229043 A JP H01229043A
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JP
Japan
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phenolic resin
formula
tables
formulas
chemical formulas
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JP5413888A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshitoshi Kumakura
俊寿 熊倉
Ken Nanaumi
憲 七海
Masahiro Nomoto
野本 雅弘
Atsushi Takahashi
敦之 高橋
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement

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  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the title resistance having excellent flame retardance and punchability by blending phenolic resin varnish with a compound obtained by reacting a diglycidyl ether such as a halogen-substituted bisphenol with a polybutadienedicarboxylic acid as a flame-retardant. CONSTITUTION:(A) Hydrogen of phenolic hydroxyl group of (i) a halogen- substituted bisphenol (e. g., tetrabromobisphenol A) or (ii) a halogen-substituted 1,4-dihydroxybenzene, etc., is replaced with glycidyl group to give a compound shown by formula I [ is halogen; Y is group shown by formula II (k and j are 0-4); l and m are 0-4] or formula III (X is halogen; n is 1A 4). 1mol of the compound is reacted with (B)0.1-1mol alpha,omega-polybutadienedicarboxylic acid shown by formula IV (Z is group shown by formula V;Q is group shown by formula VI; t and p are >=0 and t+p>=1) to give a flame-retardant. Phenolic resin varnish is blended with the flame-retardant to give the aimed laminate.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、フェノール樹脂積層板の製造法に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a method for manufacturing a phenolic resin laminate.

〔従来の技術] 最近、電気部品、電子部品の絶縁材料として使用されて
いる、セルロース系基材のフェノール樹脂積層板に対し
ては、安全性の点から難燃化の要求が、また寸法精度向
上や加工費の低減といった点から打抜加工性の向上が望
まれている。これまでフェノール樹脂の難燃化に関して
は、例えば特開昭60−192732号公報等に示され
ているように、ハロゲン化合物を用いる方法や、特開昭
5B−8749号公報等に示されているようにハロゲン
化合物とリン化合物を併用する方法などがある。また打
抜加工性の向上に関しては、植物油等でフェノール樹脂
を変性する方法や種々の可塑剤を用いる方法などがある
[Prior Art] Recently, there has been a demand for flame retardancy for cellulose-based phenolic resin laminates, which are used as insulating materials for electrical and electronic components, from the viewpoint of safety, and for dimensional accuracy. It is desired to improve punching workability from the viewpoint of improvement and reduction of processing costs. Until now, regarding flame retardation of phenolic resins, there have been methods using halogen compounds, as shown in JP-A No. 60-192732, etc., and methods using halogen compounds, as shown in JP-A No. 5B-8749, etc. There is a method of using a halogen compound and a phosphorus compound together. In order to improve the punching processability, there are methods such as modifying the phenolic resin with vegetable oil or the like and using various plasticizers.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、これらのハロゲン化合物、リン化合物の
ようなフェノール樹脂との反応性がない添加型難燃剤を
使用した場合、樹脂の耐熱性、耐溶剤性が劣るという問
題点があり、一方フエノール樹脂と反応性のあるハロゲ
ン化エポキシ樹脂等を使用した場合には、ワニスの保存
安定性に劣り、さらにこのワニスを積層板に使用した場
合には、積層板の打抜加工性、プリプレグの保存安定性
に劣るという問題があった。
However, when using additive flame retardants that do not react with phenolic resins, such as halogen compounds and phosphorus compounds, there is a problem that the heat resistance and solvent resistance of the resin are poor; If a halogenated epoxy resin or the like is used, the storage stability of the varnish will be poor, and if this varnish is used for a laminate, the punching processability of the laminate and the storage stability of the prepreg will be affected. The problem was that it was inferior.

また打抜加工性を向上させるために、さらに植物油等の
変性量や可塑剤の量を増やしたりすると、難燃性が低下
し、耐熱性、耐溶剤性が劣るという問題があった。
Further, when the amount of modification of vegetable oil or the like or the amount of plasticizer is further increased in order to improve the punching processability, there is a problem that flame retardancy decreases and heat resistance and solvent resistance are inferior.

本発明は、前記事情に基づいてなされたものであり、そ
の目的は難燃性及び打抜加工性共に優れたフェノール樹
脂積層板の製造法を提供するものである。
The present invention has been made based on the above circumstances, and its purpose is to provide a method for manufacturing a phenolic resin laminate having excellent flame retardancy and punching workability.

〔課題を解決するための手段] 本発明のフェノール樹脂積層板の製造法は、一般式(I
 a) 〔ただし、式中Xは、ハロゲン原子を表し、YはCK 
Hzに◆1 〜C− C,H,j◆1 (ここでk及びjはそれぞれO〜4整数を表し、C0は
水素を表し、かつに+j≧1である)、h (ただしWは0〜10の整数を表す)を表し、l及びm
はそれぞれ0〜4の整数を表し、Xoは水素を表し、か
つ1+m≧1である。なおXは互いに同一の種類であっ
ても異なった種類であってもよい。〕 又は一般式(I b) OX、    O 〔ただし式中Xは、ハロゲン原子を表し、nは1〜4の
整数を表す、なお、Xは互いに同一の種類であっても異
なった種類であってもよい、〕で表される1種又は2種
以上の化合物1モル当り一般式(II) HOOC−(Z)t−(Q)F −COOH(I[)〔
ただし式中、Zは次の繰り返し単位 −CHz−CH=C)l−C1lt−を表し、Qは次の
繰り返し単位−C)1.−CH− C41=CH1 を表し、L及びpは0以上の整数を表し、かつt+P≧
1であり、ZとQの配列はランダムであって、交互であ
ってもブロックであってもよい〕で表されるα、ω−ポ
リブタジェンジカルボン酸0゜1〜1モルを触媒の存在
下加熱反応させることによって得られる化合物を難燃剤
として配合したフェノール樹脂ワニスを基材に含浸付着
させた後、乾燥してプリプレグとし、次いでこれを複数
枚重ねて積層し、その上に銅箔を重ね、あるいは銅箔を
重ねないで、加熱成形することを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] The method for producing a phenolic resin laminate of the present invention is based on the general formula (I
a) [However, in the formula, X represents a halogen atom, and Y represents CK
Hz to ◆1 ~C- C, H, j◆1 (where k and j each represent an integer of 0 to 4, C0 represents hydrogen, and +j≧1), h (however, W is 0 represents an integer of ~10), l and m
each represents an integer from 0 to 4, Xo represents hydrogen, and 1+m≧1. Note that X may be of the same type or different types. ] Or general formula (Ib) OX, O [However, in the formula, per mole of one or more compounds represented by formula (II) HOOC-(Z)t-(Q)F-COOH(I[) [
However, in the formula, Z represents the following repeating unit -CHz-CH=C)l-C1lt-, and Q represents the following repeating unit -C)1. -CH- C41=CH1, L and p represent integers of 0 or more, and t+P≧
1, and the arrangement of Z and Q is random, and may be alternate or block. A base material is impregnated with a phenolic resin varnish containing a flame retardant compound obtained by a reaction under heating, and then dried to form a prepreg, which is then laminated in multiple layers, and copper foil is placed on top of it. It is characterized by heat forming without overlapping or overlapping copper foil.

なお、ここで積層板とは銅張積層板と銅箔を使用してい
ない積層板の両方を意味している。
Note that the laminate herein refers to both a copper-clad laminate and a laminate that does not use copper foil.

一般式(Ia)及び(Ib)中のハロゲン原子Xとして
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を
挙げることができる。これらの中でも、特に臭素原子が
好適である。
Examples of the halogen atom X in general formulas (Ia) and (Ib) include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among these, a bromine atom is particularly preferred.

前記一般式(Ia)の化合物の中でも、咳式中の1及び
mが、l+m=2〜4、特にl =m= 1又は、l 
=m=2ものが好適に使用できる。
Among the compounds of the general formula (Ia), 1 and m in the cough formula are l + m = 2 to 4, especially l = m = 1 or l
=m=2 can be suitably used.

一般式(I a)で表される化合物の中で通常好適に使
用できる化合物の具体例としては、例えば、次に例示す
るベンゼン核にハロゲン原子が置換したビスフェノール
類のそれぞれのフェノール水H金物を挙げることができ
る。すなわち、該ハロゲン置換ビスフェノール類として
は、テトラブロモビスフェノールAなどのテトラ、ハロ
ビスフェノールA1テトラブロモビスフエノールAFな
どのテトラハロビスフェノールAF、テトラブロモビス
フェノールBなどのテトラハロビスフェノールB2テト
ラブロモビスフェノールEなどのテトラハロビスフェノ
ールE、テトラブロモビスフェノールFなどのテトラハ
ロビスフェノールF1テトラブロモビスフエノールSな
どのテトラハロビスフェノールS1ジブロモビスフエノ
ールAなどのジハロビスフェノールA1ジブロモビスフ
エノールAFなどのジハロビスフェノールAF、ジブロ
モビスフェノールBなどのジハロビスフェノールB1ジ
ブロモビスフェノールEなどのジハロビスフェノールE
、ジブロモビスフェノールFなどのジハロビスフェノー
ルF、ジブロモビスフェノールSなどのジハロビスフェ
ノールSなどを挙げることができ、これらの中でも、ブ
ロモ置換体が好ましく、特にテトラブロモビスフェノー
ルA等が好ましい。
Among the compounds represented by the general formula (I a), examples of compounds that can be normally used suitably include the following phenol water metal compounds of bisphenols in which the benzene nucleus is substituted with a halogen atom. can be mentioned. That is, the halogen-substituted bisphenols include tetra such as tetrabromobisphenol A, tetrahalobisphenol AF such as halobisphenol A1 tetrabromobisphenol AF, tetrahalobisphenol B such as tetrabromobisphenol B, tetrabromobisphenol E such as tetrabromobisphenol E, etc. Tetrahalobisphenol F such as halobisphenol E and tetrabromobisphenol F1 Tetrahalobisphenol S such as tetrabromobisphenol S1 Dihalobisphenol A such as dibromobisphenol A1 Dihalobisphenol such as dibromobisphenol AF, dibromobisphenol B, etc. Dihalobisphenol E such as dihalobisphenol B1 and dibromobisphenol E
, dihalobisphenol F such as dibromobisphenol F, and dihalobisphenol S such as dibromobisphenol S. Among these, bromo-substituted products are preferred, and tetrabromobisphenol A and the like are particularly preferred.

前記一般式(Ib)で表される化合物の中で、通常好適
に用いられるものの具体例としては、例えば、次に例示
するハロゲン置換1,4−ジヒドロキシベンゼン類のそ
れぞれのフェノール性水酸物を挙げることができる。す
なわち、該ハロゲン置換1.4−ジヒドロキシベンゼン
類としては、例えば、2.5−ジブロモ−1,4−ジヒ
ドロキシベンゼンなどの2.5−ジハロ−1,4−ジヒ
ドロキシベンゼン、2.3,5.6−テトラプロモー1
.4−ジヒドロキシベンゼン等の2.3゜5.6−テト
ラハロー1.4−ジヒドロキシベンゼン等を挙げること
ができ、これらの中でも、特にブロモ置換体が、好適で
ある。
Among the compounds represented by the general formula (Ib), specific examples of those usually suitably used include the following phenolic hydroxides of halogen-substituted 1,4-dihydroxybenzenes. can be mentioned. That is, the halogen-substituted 1,4-dihydroxybenzenes include, for example, 2,5-dihalo-1,4-dihydroxybenzene such as 2,5-dibromo-1,4-dihydroxybenzene, 2,3,5. 6-tetrapromo 1
.. Examples include 2.3°5.6-tetrahalo1,4-dihydroxybenzene such as 4-dihydroxybenzene, and among these, bromo-substituted products are particularly preferred.

以上に例示の化合物の中でも、特に好ましいものとして
、例えば、テトラブロモビスフェノールへのジグリシジ
ルエーテルを挙げることができる。
Among the compounds exemplified above, particularly preferred ones include, for example, diglycidyl ether to tetrabromobisphenol.

なお前記成分としては、一般式(Ia)で表される化合
物及び一般式(Ib)で表される化合物の中から選ばれ
る1種の化合物を単独で用いてもよく、2種以上の化合
物を併用してもよい。
As the component, one type of compound selected from the compound represented by the general formula (Ia) and the compound represented by the general formula (Ib) may be used alone, or two or more types of compounds may be used. May be used together.

一般式(II)で、表されるα、ω−ポリブタジェンジ
カルボン酸は、数平均分子量が300〜2000程度の
ものが好適に使用できる。この数平均分子量が300未
満の場合は、得られた樹脂を、フェノール樹脂等の樹脂
に用いた際にその可撓化効果が十分に得られない場合が
あり、一方、2000より大きいと粘度が高くなり、使
用が困難になる場合がある。また、一般式(It)にお
ける繰り返し単位ZとQの割合、すなわちtとpの比と
しては特に限定するものではないが、通常、t:P=5
〜100:95〜0の範囲のものが好適に使用できる。
As the α,ω-polybutadiene dicarboxylic acid represented by the general formula (II), those having a number average molecular weight of about 300 to 2000 can be suitably used. If the number average molecular weight is less than 300, the resulting resin may not have a sufficient flexibility effect when used in resins such as phenolic resins, while if it is greater than 2000, the viscosity will be low. It may become expensive and difficult to use. In addition, the ratio of repeating units Z and Q in general formula (It), that is, the ratio of t and p, is not particularly limited, but is usually t:P=5.
-100:95-0 can be suitably used.

このtの割合が、小さすぎると、可撓化効果が十分に得
られない場合がある。一般に、tの割合が大きくなると
可撓化効果も大きくなり、一方、pの割合が大きくなる
と、側頚のビニル基による分子間の反応性が増加する。
If this ratio of t is too small, a sufficient flexibility effect may not be obtained. Generally, the greater the proportion of t, the greater the flexibility effect, while the greater the proportion of p, the greater the intermolecular reactivity due to the vinyl groups on the side necks.

(I a)又は(Ib)の成分1モル当り、(■)の成
分0.1〜1モルの割合で反応させたものを難燃剤とし
てフェノール樹脂に配合する。(■)の成分の割合は目
的とする特性が得られるのであれば任意で構わないが0
.1モル未満ではワニス、プリプレグの保存安定性に劣
り、また積層板にした時に、樹脂の可塑化効果が小さい
ために、打抜加工性が劣る。また(n)の成分が1モル
を超えると、未反応の(n)成分が多くなるので好まし
くない。
A reaction mixture of 0.1 to 1 mole of component (■) per mole of component (I a) or (Ib) is added to the phenol resin as a flame retardant. The ratio of the components in (■) can be arbitrary as long as the desired properties are obtained, but it is 0.
.. If the amount is less than 1 mol, the storage stability of varnishes and prepregs will be poor, and when formed into a laminate, the plasticizing effect of the resin will be small, resulting in poor punching workability. Moreover, if the amount of component (n) exceeds 1 mole, the amount of unreacted component (n) increases, which is not preferable.

難燃剤の配合量はフェノール樹脂100重量部に対して
5〜100重量部が好ましい。またこのとき、他の難燃
剤、例えばリン系、窒素系、無機系等の難燃剤を併用す
ることもできる。フェノール樹脂としては特に限定され
ないが、乾性植物油変性レゾール型フェノール樹脂が好
適に用いられる。
The blending amount of the flame retardant is preferably 5 to 100 parts by weight per 100 parts by weight of the phenol resin. Further, at this time, other flame retardants such as phosphorus-based, nitrogen-based, and inorganic flame retardants can also be used in combination. The phenol resin is not particularly limited, but a dry vegetable oil-modified resol type phenol resin is preferably used.

前記難燃剤を配合したフェノール樹脂ワニスを所定量セ
ルロース系基材に含浸付着させ、乾燥してプリプレグと
なし、このプリプレグを所定枚数を必要に応じ銅箔を重
ねて積層し、加熱加圧成形することにより積層板を得る
。以上の方法により製造された積層板は、難燃性に硬れ
、されに打抜加工性にも優れたものであり、民生用電子
機器の回路基板として用いることができる。
A predetermined amount of phenolic resin varnish containing the flame retardant is impregnated onto a cellulose base material, dried to form a prepreg, a predetermined number of sheets of this prepreg are laminated with copper foil as needed, and molded under heat and pressure. A laminate is thereby obtained. The laminate produced by the above method is hard, flame retardant, and has excellent punchability, and can be used as a circuit board for consumer electronic equipment.

(実施例) 以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。
(Examples) Hereinafter, the present invention will be described in detail based on Examples, but the present invention is not limited thereto.

ベース樹脂1の合成 撹拌器、冷却器、温度計を備えた5!の→ラスコに桐油
1000g、m、p−クレゾール1500g、パラトル
エンスルホン酸1gを混合し、90°Cで1時間反応さ
せた。次いでこの反応液にフェノール500gを添加し
、80%パラホルムアルデヒド750g、25%アンモ
ニア水70gを加え、80°Cで4時間反応させた。縮
合水を留去し、反応物の160°Cの熱板上でのゲルタ
イムが3分30秒となった点を終点とし、ベース樹脂1
とした。
Synthesis of base resin 1 Equipped with stirrer, cooler and thermometer 5! 1,000 g of tung oil, 1,500 g of m, p-cresol, and 1 g of para-toluenesulfonic acid were mixed in a Lasco, and the mixture was reacted at 90°C for 1 hour. Next, 500 g of phenol was added to this reaction solution, followed by 750 g of 80% paraformaldehyde and 70 g of 25% aqueous ammonia, and the mixture was reacted at 80° C. for 4 hours. The condensation water was distilled off, and the end point was the gel time of 3 minutes and 30 seconds on a hot plate at 160°C.
And so.

ベース樹脂2の合成 撹拌器、冷却器、温度計を備えた51のフラスコに桐油
1500g、m、p−クレゾール1125g、パラトル
エンスルホン酸1gを混合し、90°Cで1時間反応さ
せた0次いでこの反応液にフェノール375gを添加し
、80%パラホルムアルデヒド675g、25%アンモ
ニア水70gを加え80°Cで3.5時間反応させた。
Synthesis of Base Resin 2 1500 g of tung oil, 1125 g of m, p-cresol, and 1 g of p-toluenesulfonic acid were mixed in a 51 flask equipped with a stirrer, a condenser, and a thermometer, and reacted at 90 °C for 1 hour. To this reaction solution, 375 g of phenol was added, followed by 675 g of 80% paraformaldehyde and 70 g of 25% aqueous ammonia, and the mixture was reacted at 80° C. for 3.5 hours.

縮合水を留去し、反応物の160°Cの熱板上でのゲル
タイムが3分20秒となった点を終点としベース樹脂2
とした。
The condensation water was distilled off, and the end point was the point at which the reaction product gelled on a hot plate at 160°C for 3 minutes 20 seconds, and the base resin 2
And so.

難燃剤Cの合成 テトラブロモビスフェノールAジグリシジルエーテルの
60%トルエン溶液550g、α−ω−ポリブタジェン
ジカルボン酸(数平均分子量1300.1.2−ポリブ
タジェン成分85%)390g、テトラメチルアンモニ
ウムクロライド0.5gを22の40フラスコに導入し
、110°Cで3時間反応させたのちを難燃剤Cとした
Synthesis of flame retardant C 550 g of 60% toluene solution of tetrabromobisphenol A diglycidyl ether, 390 g of α-ω-polybutadiene dicarboxylic acid (number average molecular weight 1300.1.2-polybutadiene component 85%), tetramethylammonium chloride 0 0.5 g was introduced into 22 40 flasks and reacted at 110°C for 3 hours, and then used as flame retardant C.

実施例 上記配合で合成したベース樹脂1 800g(樹脂固形
分70重量%)に難燃剤Cを300g添加し、ワニスA
とした。
Example 300g of flame retardant C was added to 800g of base resin 1 (resin solid content 70% by weight) synthesized with the above formulation, and varnish A was prepared.
And so.

比較例1 上記配合で合成したベース樹脂1 800gに難燃剤と
してテトラブロモビスフェノールAジグリシジルエーテ
ル200g添加しワニスBとした。
Comparative Example 1 Varnish B was prepared by adding 200 g of tetrabromobisphenol A diglycidyl ether as a flame retardant to 800 g of Base Resin 1 synthesized with the above formulation.

比較例2 上記配合で合成したベース樹脂1 800gに難燃剤と
してテトラブロモビスフェノールAジグリシジルエーテ
ル150g、)リフェニルフオスフェート75g添加し
、ワニスCとした。
Comparative Example 2 Varnish C was prepared by adding 150 g of tetrabromobisphenol A diglycidyl ether and 75 g of liphenyl phosphate as flame retardants to 800 g of base resin 1 synthesized with the above formulation.

比較例3 上記配合で合成したベース樹脂2 800g(樹脂固形
分67重量%)にテトラブロモビスフェノールAジグリ
シジルエーテル285gを添加しワニスDとした。
Comparative Example 3 Varnish D was prepared by adding 285 g of tetrabromobisphenol A diglycidyl ether to 800 g of base resin 2 (resin solid content: 67% by weight) synthesized with the above formulation.

上記実施例、比較例1.2.3で調整したワニスに難燃
助剤として三酸化アンチモンsb、o、をそれぞれ15
g添加し、さらにトルエン−メタノール(1: 1)の
混合溶媒を添加し、系の樹脂分が60重量%になるよう
にした。次いでこれらのワニスをコツトンリンター祇に
、付着樹脂分が55重量%になるように含浸させ、乾燥
してプリプレグを作製した。該プリプレグを所定枚数重
ねて、120 kg/crAの圧力下、170°Cで1
00分間加熱成形し、積層板を得た。積層板はJIS−
C−6481、UL−94記載の測定法に準じて特性を
測定した。
15% each of antimony trioxide sb and o as flame retardant additives were added to the varnishes prepared in the above examples and comparative examples 1.2.3.
g was added, and a mixed solvent of toluene-methanol (1:1) was further added so that the resin content of the system was 60% by weight. Next, a cotton linter was impregnated with these varnishes so that the adhesion resin content was 55% by weight, and dried to produce a prepreg. A predetermined number of sheets of the prepreg were stacked and heated at 170°C under a pressure of 120 kg/crA.
Heat molding was performed for 00 minutes to obtain a laminate. The laminate is JIS-
The characteristics were measured according to the measurement method described in C-6481 and UL-94.

その結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

第1表の結果から明らかなように、本発明のフェノール
樹脂積層板は、樹脂の諸特性を低下させることなく、難
燃性に優れ、かつ打抜加工性にも優れている。比較例2
.3に示した従来からの打抜加工性の改良方法では、耐
溶剤性又は耐熱性が低下が著しい。
As is clear from the results in Table 1, the phenolic resin laminate of the present invention has excellent flame retardancy and punching workability without degrading various properties of the resin. Comparative example 2
.. In the conventional method for improving punching workability shown in No. 3, the solvent resistance or heat resistance deteriorates significantly.

(発明の効果) 本発明のフェノール樹脂積層板は、樹脂の諸特性を低下
させることなく、難燃性に優れ、かつ打抜加工性にも優
れたのもであり、その工業的価値は極めて大である。
(Effects of the Invention) The phenolic resin laminate of the present invention has excellent flame retardancy and punching workability without deteriorating the various properties of the resin, and its industrial value is extremely large. be.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一般式( I a) ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) 〔ただし、式中Xはハロゲン原子を表し、Yは▲数式、
化学式、表等があります▼ (ここでk及びjはそれぞれ0〜4の整数を表し、C_
0は水素を表し、かつk+j≧1である)、 ▲数式、化学式、表等があります▼、−SO_2−、−
S−、−O−、▲数式、化学式、表等があります▼又は
▲数式、化学式、表等があります▼(ただしwは0〜1
0の整数を表す)を表し、l及びmはそれぞれ0〜4の
整数を表し、、X_0は水素を表し、かつl+m≧1で
ある。 なおXは互いに同一の種類であっても異なった種類であ
ってもよい。〕 又は一般式( I b) ▲数式、化学式、表等があります▼( I b) 〔ただし式中Xは、ハロゲン原子を表し、nは1〜4の
整数を表す。なお、Xは互いに同一の種類であっても異
なった種類であってもよい。〕で表される1種又は2種
以上の化合物1モルあたり一般式(II) HOOC−(Z)_t−(O)_p−COOH(II)〔
ただし式中、Zは次の繰り返し単位 −CH_2−CH=CH−CH_2−を表し、Qは次の
繰り返し単位▲数式、化学式、表等があります▼ を表し、t及びpは0以上の整数を表し、かつt+p≧
1であり、ZとQの配列はランダムであって、交互であ
ってもブロックであってもよい〕 で表されるα,ω−ポリブタジエンジカルボン酸0.1
〜1モルを触媒の存在下加熱反応させることによって得
られる化合物を難燃剤として配合したフェノール樹脂ワ
ニスを基材に含浸付着させた後、乾燥してプリプレグと
し、次いでこれを複数枚重ねて積層し、その上に鋼箔を
重ね、或いは銅箔を重ねないで加熱成形することを特徴
とするフェノール樹脂積層板の製造法。 2、フェノール樹脂が乾性植物油変性レゾール型フェノ
ール樹脂である請求項1記載のフェノール樹脂積層板の
製造法。 3、( I a)成分として用いる化合物が、テトラブロ
モビスフェノールAのジグリシジルエーテルである請求
項1又は請求項2記載のフェノール樹脂積層板の製造法
。 4、一般式(II)で表される化合物の数平均分子量が、
300〜2000の範囲内であり、かつ繰り返し単位Z
とQの割合が、t:p=5〜100:95〜0である請
求項1、請求項2又は請求項3記載のフェノール樹脂積
層板の製造法。
[Claims] 1. General formula (Ia) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(Ia) [However, in the formula, X represents a halogen atom, and Y represents ▲mathematical formula,
There are chemical formulas, tables, etc.▼ (Here, k and j each represent an integer from 0 to 4, and C_
0 represents hydrogen and k+j≧1), ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, -SO_2-, -
S-, -O-, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (However, w is 0 to 1
represents an integer of 0), l and m each represent an integer of 0 to 4, , X_0 represents hydrogen, and l+m≧1. Note that X may be of the same type or different types. ] Or general formula (I b) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (I b) [However, in the formula, X represents a halogen atom, and n represents an integer from 1 to 4. Note that X may be of the same type or of different types. ] General formula (II) HOOC-(Z)_t-(O)_p-COOH(II) [
However, in the formula, Z represents the next repeating unit -CH_2-CH=CH-CH_2-, Q represents the next repeating unit ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, and t and p are integers of 0 or more. represents, and t+p≧
1, and the arrangement of Z and Q is random, and may be alternate or block.] α,ω-Polybutadiene dicarboxylic acid 0.1
A base material is impregnated with a phenolic resin varnish containing a flame retardant compound obtained by heat-reacting ~1 mole in the presence of a catalyst, and then dried to form a prepreg, which is then laminated in multiple layers. A method for producing a phenolic resin laminate, which is characterized by heating and forming the phenolic resin laminate with a steel foil layered thereon or without a copper foil layered thereon. 2. The method for producing a phenolic resin laminate according to claim 1, wherein the phenolic resin is a resol type phenolic resin modified with dry vegetable oil. 3. The method for producing a phenolic resin laminate according to claim 1 or 2, wherein the compound used as component (Ia) is diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A. 4. The number average molecular weight of the compound represented by general formula (II) is
within the range of 300 to 2000, and repeating unit Z
The method for producing a phenolic resin laminate according to claim 1, claim 2, or claim 3, wherein the ratio of t:p = 5 to 100:95 to 0.
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