JPH0120149B2 - - Google Patents

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JPH0120149B2
JPH0120149B2 JP55090479A JP9047980A JPH0120149B2 JP H0120149 B2 JPH0120149 B2 JP H0120149B2 JP 55090479 A JP55090479 A JP 55090479A JP 9047980 A JP9047980 A JP 9047980A JP H0120149 B2 JPH0120149 B2 JP H0120149B2
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JP
Japan
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alkyl
general formula
aryl
hydrogen
compound
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JP55090479A
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Japanese (ja)
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JPS5625155A (en
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Jon Butsusheru Buraian
Furederitsuku Kabara Jon
Jerarudo Shepaado Robin
Chatsupuman Howaito Aran
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John Wyeth and Brother Ltd
Original Assignee
John Wyeth and Brother Ltd
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Publication date
Application filed by John Wyeth and Brother Ltd filed Critical John Wyeth and Brother Ltd
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Publication of JPH0120149B2 publication Critical patent/JPH0120149B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D227/00Heterocyclic compounds containing rings having one nitrogen atom as the only ring hetero atom, according to more than one of groups C07D203/00 - C07D225/00
    • C07D227/02Heterocyclic compounds containing rings having one nitrogen atom as the only ring hetero atom, according to more than one of groups C07D203/00 - C07D225/00 with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D227/06Heterocyclic compounds containing rings having one nitrogen atom as the only ring hetero atom, according to more than one of groups C07D203/00 - C07D225/00 with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D227/08Oxygen atoms

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  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pyrrole Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

2-Oxo-hexahydroazepine, -piperidine or pyrrolidines of formula <IMAGE> wherein n is 2,3 or 4, R is hydrogen, lower alkyl, aryl(lower)alkyl, loweralkenylmethyl or cycloalkylmethyl, R1 is hydrogen or lower alkyl and R2 is hydrogen, lower alkyl or aryl(lower)alkyl are prepared by a novel process involving reaction of an anion of a lactam of formula <IMAGE> where R3 is lower alkyl, aryl(lower)alkyl, trialkyl-, triaryl- or triarylalkyl-silyl with a benzyne of formula <IMAGE> where R4 is lower alkyl, aryl(lower)alkyl or trialkyl-, triaryl- or triarylalkyl-silyl. The products are useful as intermediates for preparing pharmacologically active 2-unsubstituted -hexahydroazepine, -piperidine and pyrrolidine derivatives.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はヘキサヒドロアゼピン、ピペリジンお
よびピロリジン誘導体に関する。より詳細には本
発明は2−オキソ−ヘキサヒドロアゼピン、−ピ
ペリジンおよび−ピロリジン誘導体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to hexahydroazepine, piperidine and pyrrolidine derivatives. More particularly, the present invention relates to 2-oxo-hexahydroazepine, -piperidine and -pyrrolidine derivatives.

本発明の新規方法によつて製造される2−オキ
ソ−ヘキサヒドロアゼピン、−ピペリジンおよび
ピロリジン誘導体は一般式() を有し、式中のnは2、3又は4であり、Rは水
素、低級アルキル、アリール(低級)アルキル、
低級アルケニルメチル又はシクロアルキルメチル
であり、R1は水素又は低級アルキルであり、R2
は水素、低級アルキル又はアリール(低級)アル
キルである。
The 2-oxo-hexahydroazepine, -piperidine and pyrrolidine derivatives produced by the novel method of the present invention have the general formula () , where n is 2, 3 or 4, and R is hydrogen, lower alkyl, aryl (lower) alkyl,
lower alkenylmethyl or cycloalkylmethyl, R 1 is hydrogen or lower alkyl, R 2
is hydrogen, lower alkyl or aryl(lower) alkyl.

これらの誘導体を一般式() (式中n、RおよびR2は上記の定義と同じであ
り、R5は低級アルキルである) なる薬理学上活性な2−未置換−ヘキサヒドロア
ゼピン、−ピペリジンおよびピロリジン誘導体に
変換してもよい。R1が水素である一般式()
なる化合物をC−アルキル化(たとえば強塩基の
存在下にハロゲン化アルキルと反応させることに
より)してR1が低級アルキルである一般式()
なる化合物に変換してもよい。R1が低級アルキ
ルである一般式()なる化合物を還元(たとえ
ば水素化物転移剤たとえば水素化リチウムアルミ
ニウムで)して一般式なる化合物を得てもよ
い。R2が低級アルキル又はアリール(低級)ア
ルキルである一般式()なる化合物をエーテル
開裂(たとえば臭化水素又は三臭化ホウ素で)さ
せてR2が水素である化合物を得てもよい。式
()なる化合物の使用および式()なる化合
物からのそれらの製造はさらに、たとえば、ユ
ー・ケー・(U.K.)特許明細書第1285025号およ
びヨーロツパ特許出願公報第0003253号に例示さ
れている。本発明は一般式()なる中間体を製
造する新規方法を提供する。
These derivatives are expressed by the general formula () (wherein n, R and R 2 are as defined above and R 5 is lower alkyl) Good too. General formula where R 1 is hydrogen ()
C-alkylation (e.g. by reaction with an alkyl halide in the presence of a strong base) of a compound of the general formula () in which R 1 is lower alkyl
It may be converted into a compound. Compounds of general formula ( ) in which R 1 is lower alkyl may be reduced (eg, with a hydride transfer agent such as lithium aluminum hydride) to provide compounds of general formula. Compounds of general formula ( ) in which R 2 is lower alkyl or aryl(lower) alkyl may be subjected to ether cleavage (eg with hydrogen bromide or boron tribromide) to provide compounds in which R 2 is hydrogen. The use of compounds of formula () and their preparation from compounds of formula () are further illustrated, for example, in UK Patent Specification No. 1285025 and European Patent Application Publication No. 0003253. The present invention provides a new method for producing intermediates of general formula ().

本発明により、一般式() (式中nおよびR1は上記の定義と同じであり、
R3は低級アルキル、アリール(低級)アルキル、
トリアルキル−、トリアリール−もしくはトリア
リールアルキル−シリル、低級アルケニルメチル
又はシクロアルキルメチルである) なるラクタム誘導体のアニオンを、一般式() (式中R4は低級アルキル、アリール(低級)ア
ルキル又はトリアルキル−、トリアリール−もし
くはトリアリールアルキル−シリルである) なるベンザインと反応させてR1が低級アルキル
である一般式なる化合物のアニオン又はR1
水素である一般式なる化合物のジアニオンを得
(所望ならばR1が水素であるジアニオンを(低
級)アルキル化剤と反応させてR1が低級アルキ
ルである一般式なる化合物のアニオンを得)、
そして一般式なる化合物のアニオン又はジアニ
オンをプロトン化して一般式なる化合物を得る
ことからなる一般式()なる化合物の製造方法
を提供する。
According to the present invention, the general formula () (In the formula, n and R 1 are the same as defined above,
R 3 is lower alkyl, aryl (lower) alkyl,
trialkyl-, triaryl- or triarylalkyl-silyl, lower alkenylmethyl or cycloalkylmethyl), the anion of a lactam derivative of general formula () (wherein R 4 is lower alkyl, aryl(lower) alkyl or trialkyl-, triaryl- or triarylalkyl-silyl), the anion of the compound of general formula where R 1 is lower alkyl or to obtain a dianion of a compound of the general formula in which R 1 is hydrogen (if desired, the dianion in which R 1 is hydrogen is reacted with a (lower) alkylating agent to obtain an anion of a compound of the general formula in which R 1 is lower alkyl) ),
The present invention also provides a method for producing a compound represented by the general formula (), which comprises protonating an anion or dianion of the compound represented by the general formula to obtain a compound represented by the general formula.

ここで用いられる「低級」という用語は言及さ
れた基が1から6個までの炭素原子を含有するこ
とを意味する。その基は好ましくは1から4個ま
での炭素原子を含有する。たとえばRもしくは
R2が低級アルキルである場合、この基は、たと
えば、メチル、エチル、プロピル又はブチルであ
ればよい。同様にR1は、たとえば、メチル、エ
チル、プロピル又はブチルであつてもよい。R、
R2、R3又はR4がアリール(低級)アルキルであ
る場合、この基はフエニル(低級)アルキル基た
とえばフエネチル又はベンジルであるのが好まし
く、フエニル基は、たとえば、置換基たとえばア
ルキル又はアルコキシによつて置換されてもよ
い。R又はR3が低級アルケニルメチルである場
合、の基はアリルであるのが好ましい。R又は
R3がシクロアルキルメチルである場合、その基
はシクロプロピルメチル又はシクロブチルメチル
であるのが好ましい。
The term "lower" as used herein means that the referenced group contains from 1 to 6 carbon atoms. The group preferably contains 1 to 4 carbon atoms. For example, R or
When R 2 is lower alkyl, this group may be, for example, methyl, ethyl, propyl or butyl. Similarly R 1 may be, for example, methyl, ethyl, propyl or butyl. R,
When R 2 , R 3 or R 4 is aryl(lower)alkyl, this group is preferably a phenyl(lower)alkyl group, such as phenethyl or benzyl, and the phenyl group is, for example, substituted with a substituent such as alkyl or alkoxy. Therefore, it may be replaced. When R or R 3 is lower alkenylmethyl, the group is preferably allyl. R or
When R 3 is cycloalkylmethyl, the group is preferably cyclopropylmethyl or cyclobutylmethyl.

一般式()なるラクタムのアニオンは、ラク
タムをアルキルリチウム(たとえば第三ブチルリ
チウム)又は一般式MA(但しMはナトリウム、
カリウムもしくはリチウムであり、Aは第二アミ
ン基である)なる化合物と反応させることにより
その場で生成されてもよい。化合物MAは金属ア
ミドであり、それ自身金属化合物MR5(但しMは
ナトリウム、カリウム又はリチウムであり、R5
はアルキル、アリール又はアルアルキルである)
を第二アミンと反応させることによりその場合で
生成されるのが好ましい。第二アミンはジアルキ
ルアミン、たとえばジエチルアミン、ジ−イソプ
ロピルアミン、ジ−第三ブチルアミン、ジ−シク
ロヘキシルアミン、−ブチル−シクロヘキシル
アミン、N−−アミル−N−−ブチルアミ
ン、N−イソプロピル−N−シクロヘキシルアミ
ンもしくはN−(1′−エチルシクロヘキシル)−
1,1′,3,3−テトラメチルブチルアミン又は
環状化合物、たとえばピペリジンもしくは2,
2,6,6−テトラメチルピペリジンであつても
よい。好ましくはラクタムのアニオンはラクタム
をリチウム2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジド(本化合物は2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジンおよび、たとえば、ブチルリチウムか
らその場で製造されてもよい)と反応させること
によつて生成されるのがよい。
The anion of a lactam with the general formula (
potassium or lithium, and A is a secondary amine group). The compound MA is a metal amide and is itself a metal compound MR 5 (where M is sodium, potassium or lithium and R 5
is alkyl, aryl or aralkyl)
is preferably produced in that case by reacting with a secondary amine. Secondary amines are dialkylamines such as diethylamine, di-isopropylamine, di-tert-butylamine, di-cyclohexylamine, t -butyl-cyclohexylamine, Nt -amyl- Nt -butylamine, N-isopropyl-N -cyclohexylamine or N-(1'-ethylcyclohexyl)-
1,1',3,3-tetramethylbutylamine or cyclic compounds such as piperidine or 2,
It may also be 2,6,6-tetramethylpiperidine. Preferably, the lactam anion is the lactam anion, which is prepared in situ from lithium 2,2,6,6-tetramethylpiperidide (the compound is prepared in situ from 2,2,6,6-tetramethylpiperidine and, for example, butyllithium). It is preferable that it be produced by reacting with

一般式()なるベンザインは、たとえば、一
般式() 〔式中R4は上記の定義と同じであり、Halは塩
素、臭素又はヨウ素(好ましくは塩素)である〕
なる置換ハロベンゼンと強塩基、たとえば式
()なるラクタムのアニオン生成で上述した薬
剤、との反応によつてその場で生成される。好ま
しくは強塩基はリチウム2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジド(上記の如くその場で生成され
てもよい)がよい。
Benzyne with the general formula (), for example, has the general formula () [In the formula, R 4 is as defined above and Hal is chlorine, bromine or iodine (preferably chlorine)]
It is produced in situ by the reaction of a substituted halobenzene with a strong base, such as the agent mentioned above for the anion production of a lactam of formula (). Preferably the strong base is lithium 2,2,6,6-tetramethylpiperidide (which may be generated in situ as described above).

特に好ましい方法ではラクタム()のアニオ
ン生成とベンザインの生成を同じ反応容器内で行
つて化合物()なるアニオン又はジアニオンを
得る。たとえば、塩基たとえばリチウム2,2,
6,6−テトラメチルピペリジド(その場で生成
される)を式()なるラクタムと反応させてラ
クタムのアニオンを得てもよく、さらにリチウム
2,2,6,6−テトラメチルピペリジドをその
場で生成して(たとえばアルキルリチウムたとえ
ばブチルリチウムを添加することにより)、次い
で置換ハロベンゼン()を添加してもよい。必
要量に置換ハロベンゼン()の添加は、さらに
リチウム2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ドもしくは他の塩基の生成と共に、2回もしくは
それ以上に分けて添加した方がよい。
In a particularly preferred method, the anion production of lactam () and the production of benzyne are performed in the same reaction vessel to obtain the anion or dianion of compound (). For example, bases such as lithium 2,2,
6,6-tetramethylpiperidide (generated in situ) may be reacted with a lactam of formula ( The compound may be generated in situ (for example by adding an alkyllithium such as butyllithium) and then the substituted halobenzene ( ) may be added. It is preferable to add the substituted halobenzene (2) to the required amount in two or more portions together with the production of lithium 2,2,6,6-tetramethylpiperidide or other base.

化合物()のアニオン又はジアニオンは単離
されずにプロトン化されてもよい。たとえばそれ
は水もしくは希水性鉱酸(たとえば希塩酸)との
反応によつてプロトン化されてもよく、たとえば
過剰の水を反応容器に添加してもよく、又は反応
混合物を水へ添加してもよい。所望ならばR1
水素である化合物のジニアニオンを(低級)アル
キル化剤、たとえば低級ハロゲン化アルキル(好
ましくは低級ヨウ化アルキル)、と反応させてR1
が低級アルキルである式()なるアニオンを得
てもよい。次いでこのアニオンを、たとえば水と
の反応により、プロトン化すればよい。
The anion or dianion of compound () may be protonated without being isolated. For example, it may be protonated by reaction with water or a dilute aqueous mineral acid (e.g. dilute hydrochloric acid), e.g. excess water may be added to the reaction vessel, or the reaction mixture may be added to the water. . If desired, the dianion of a compound in which R 1 is hydrogen is reacted with a (lower) alkylating agent, such as a lower alkyl halide (preferably lower alkyl iodide), to form R 1
An anion of formula () may also be obtained, where is lower alkyl. This anion may then be protonated, for example, by reaction with water.

R3および(又は)R4がトリアルキル−、トリ
アリール−又はトリアリールアルキル−シリルで
ある場合、生成物を加水分解するとRおよび(又
は)R2が水素である式なる化合物が得られる。
加水分解は化合物()なるアニオン又はジアニ
オンのプロトン化中に水との反応によつて行つて
もよい。
When R 3 and/or R 4 are trialkyl-, triaryl- or triarylalkyl-silyl, hydrolysis of the product gives compounds of formula where R and/or R 2 are hydrogen.
Hydrolysis may be carried out by reaction with water during protonation of the anion or dianion of the compound ().

一般式()なるラクタムは知られている化合
物であり、又は知られている方法によつて、たと
えばR3が水素である相当するラクタムの「N−
アルキル化」によつて、製造され得る。
The lactams of the general formula
can be produced by "alkylation".

例 1 3−エチルヘキサヒドロ−3−(3−メトキシ
フエニル)−1−メチル−2H−アゼピン−2−
オン ヘキサン(31.25ml)中のブチルリチウム
(0.05モル)の溶液を2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン(8.5ml)で、次に乾燥テトラヒ
ドロフラン(「THR」;100ml)で不活性雰囲気下
に0℃にて処理する。本混合物をTHF(20ml)中
のN−メチルカプロラクタム(6.25ml、50mM)
の溶液で処理し、かつ30分間撹拌する。ヘキサン
(31.25mM)中のブチルリチウム(0.05モル)の
溶液を添加し、この混合物を15分間撹拌する。
THF(20ml)中のO−クロルアニソール(6.2ml)
の溶液をゆつくりと添加し、この混合物を1.5時
間撹拌し、かつヨウ化エチル(5.15ml)で処理す
る。1時間後、本反応を水(100ml)で静止させ、
溶媒を減圧下に除去する。残留物を2NHCl(200
ml)とトルエン(250ml)間に分配する。有機層
をブラインで洗浄し、乾燥させ、かつ減圧下に溶
媒を除去して3−エチルヘキサヒドロ−3−(3
−メトキシフエニル)−1−メチル−2−アゼ
ピン−2−オン(5.5g)、沸点140゜/0.1mm、を得
る。ジイソプロピルエーテルから再結晶して精製
題記化合物(5.0g)、融点:68〜69℃(標準物質
と同一)、を得る。
Example 1 3-ethylhexahydro-3-(3-methoxyphenyl)-1-methyl-2H-azepine-2-
A solution of butyllithium (0.05 mol) in hexane (31.25 ml) was dissolved with 2,2,6,6-tetramethylpiperidine (8.5 ml) and then with dry tetrahydrofuran ("THR"; 100 ml) under an inert atmosphere. Process at 0°C. This mixture was combined with N-methylcaprolactam (6.25ml, 50mM) in THF (20ml).
solution and stir for 30 minutes. A solution of butyllithium (0.05 mol) in hexane (31.25 mM) is added and the mixture is stirred for 15 minutes.
O-chloranisole (6.2ml) in THF (20ml)
is added slowly, the mixture is stirred for 1.5 hours and treated with ethyl iodide (5.15 ml). After 1 hour, the reaction was quenched with water (100 ml),
The solvent is removed under reduced pressure. The residue was dissolved in 2NHCl (200
ml) and toluene (250 ml). The organic layer was washed with brine, dried and the solvent removed under reduced pressure to give 3-ethylhexahydro-3-(3
-methoxyphenyl)-1-methyl- 2H -azepin-2-one (5.5 g), boiling point 140°/0.1 mm, is obtained. Recrystallization from diisopropyl ether gives the purified title compound (5.0 g), melting point: 68-69°C (same as the standard).

例 2 ヘキサヒドロ−3−(3−メトキシフエニル)−
1−メチル−2H−アゼピン−2−オン ヘキサン(34.4ml)中のブチルリチウム(0.05
モル)の溶液を、2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン(9.3ml)で、次に乾燥THF(100ml)
で不活性雰囲気下に0℃にて処理する。本混合物
をN−メチルカプロラクタム(6.9ml、55mM)
で処理し、かつ30分間撹拌する。ヘキサン(34.4
ml)中のブチルリチウム(0.05モル)の溶液を添
加し、反応混合物を15分間撹拌し、次にO−クロ
ルアニソール(3.1ml)で処理する。30分後にヘ
キサン(31.25ml)中のブチルリチウム(0.05モ
ル)の溶液を添加し、この混合物を15分間撹拌
し、O−クロルアニソール(3.1ml)で処理する。
さらに30分後、本反応を水(100ml)で静止させ、
かつ溶媒を減圧下に除去する。残留物を5NHCl
(100ml)とトルエン(250ml)間に分配する。有
機層をブラインで洗浄し、乾燥させ、かつ溶媒を
減圧下に除去する。
Example 2 Hexahydro-3-(3-methoxyphenyl)-
1-Methyl-2H-azepin-2-one Butyllithium (0.05 ml) in hexane (34.4 ml)
A solution of mol) in 2,2,6,6-tetramethylpiperidine (9.3 ml) and then in dry THF (100 ml)
at 0° C. under an inert atmosphere. This mixture was added to N-methylcaprolactam (6.9ml, 55mM).
and stir for 30 minutes. Hexane (34.4
A solution of butyllithium (0.05 mol) in ml) is added and the reaction mixture is stirred for 15 minutes and then treated with O-chloroanisole (3.1 ml). After 30 minutes a solution of butyllithium (0.05 mol) in hexane (31.25 ml) is added and the mixture is stirred for 15 minutes and treated with O-chloroanisole (3.1 ml).
After another 30 minutes, the reaction was quenched with water (100 ml) and
and the solvent is removed under reduced pressure. 5NHCl the residue
(100ml) and toluene (250ml). The organic layer is washed with brine, dried and the solvent is removed under reduced pressure.

残留物を蒸留すると粗題記化合物(5.4g)、沸
点150゜/0.5mmが、得られる。ジイソプロピルエ
ーテルから再結晶して精製物質(4.2g)、融点74
〜75℃(標準物質と同一)、を得る。
Distillation of the residue gives the crude title compound (5.4 g), boiling point 150°/0.5 mm. Purified material (4.2 g) recrystallized from diisopropyl ether, mp 74
Obtain ~75 °C (same as standard).

例 3 ヘキサヒドロ−3−(3−メトキシフエニル)−
1−メチル−2H−アゼピン−2−オン ヘキサン(31.25ml)中ブチルリチウム(0.05
モル)の溶液を2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン(8.5ml)で、次にTHF(100ml)で不活
性雰囲気下に0℃にて処理する。THF(20ml)中
のN−メチルカプロラクタム(6.25ml、50mM)
の溶液を添加し、この混合物を30分間撹拌し、か
つヘキサン(31.25ml)中のブチルリチウム
(0.05モル)の溶液で処理する。15分後に、O−
クロルアニソール(6.2ml)を添加し、混合物を
15時間、環境温度で撹拌する。
Example 3 Hexahydro-3-(3-methoxyphenyl)-
1-Methyl-2H-azepin-2-one Butyllithium (0.05 ml) in hexane (31.25 ml)
A solution of mol) is treated with 2,2,6,6-tetramethylpiperidine (8.5 ml) and then with THF (100 ml) under an inert atmosphere at 0°C. N-Methylcaprolactam (6.25ml, 50mM) in THF (20ml)
The mixture is stirred for 30 minutes and treated with a solution of butyllithium (0.05 mol) in hexane (31.25 ml). After 15 minutes, O-
Add chloranisole (6.2ml) and stir the mixture.
Stir at ambient temperature for 15 hours.

反応を水(100ml)で静止させ、溶媒を減圧下
に除去し、残留物を5NHCl(100ml)とトルエン
(250ml)間に分配する。有機層をブラインで洗浄
し、乾燥させ、かつ溶媒を減圧下に除去する。残
留物を蒸留して粗題記化合物(40%)、沸点およ
そ140゜/0.05mm、を得る。イソプロピルエーテル
から再結晶して精製物質(31%)、融点74〜75℃
(標準物質と同一)、を得る。
The reaction is quenched with water (100ml), the solvent is removed under reduced pressure and the residue is partitioned between 5NHCl (100ml) and toluene (250ml). The organic layer is washed with brine, dried and the solvent is removed under reduced pressure. Distillation of the residue yields the crude title compound (40%), boiling point approximately 140°/0.05 mm. Purified material (31%) recrystallized from isopropyl ether, mp 74-75°C
(same as the standard material).

例 4 3−エチルヘキサヒドロ−3−(3−メトキシ
フエニル)−1−メチル−2H−アゼピン−2−
オン 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
(8.48g)を窒素下に冷却し、かつ撹拌しながら
ヘキサン(31.25ml)とテトラヒドロフラン(15
ml)中のブチルリチウム(0.05モル)の溶液へ滴
下添加する。乾燥テトラヒドロフラン(20ml)中
の3−エチル−ヘキサヒドロ−1−メチル−2H
−アゼピン−2−オン(7.75g)を添加する。こ
の添加が完了したらさらにヘキサン(37.5ml)中
のブチルリチウム(0.06モル)部を冷却しながら
添加する。10分後にO−クロルアニソール(8.54
g)をテトラヒドロフラン(20ml)中に滴下添加
する。次に反応物をおよそ20時間、環境温度で撹
拌する。反応混合物を水中に注ぎ、テトラヒドロ
フランを減圧下に除去する。5M塩酸で酸性にし
た後、本混合物をトルエンで抽出する。トルエン
抽出物を水洗し、乾燥(MgSO4)させ、溶媒を
除去後に生成物を蒸留すると2.37g、沸点0.6mm
で150〜170℃、が得られる。g.l.c分析により精製
補正すると題記化合物の収量は15.8%である。
Example 4 3-ethylhexahydro-3-(3-methoxyphenyl)-1-methyl-2H-azepine-2-
2,2,6,6-tetramethylpiperidine (8.48 g) was cooled under nitrogen and mixed with hexane (31.25 ml) and tetrahydrofuran (15 g) with stirring.
Add dropwise to a solution of butyllithium (0.05 mol) in ml). 3-Ethyl-hexahydro-1-methyl-2H in dry tetrahydrofuran (20ml)
-Add azepin-2-one (7.75g). Once this addition is complete, a further portion of butyllithium (0.06 mol) in hexane (37.5 ml) is added with cooling. After 10 minutes O-chloranisole (8.54
g) dropwise into tetrahydrofuran (20 ml). The reaction is then stirred for approximately 20 hours at ambient temperature. The reaction mixture is poured into water and the tetrahydrofuran is removed under reduced pressure. After acidifying with 5M hydrochloric acid, the mixture is extracted with toluene. The toluene extract was washed with water, dried (MgSO 4 ), and after removing the solvent, the product was distilled to yield 2.37 g, boiling point 0.6 mm.
A temperature of 150 to 170℃ is obtained. The yield of the title compound is 15.8% when corrected for purification by GLC analysis.

例 5 ヘキサヒドロ−3−(3−メトキシフエニル)−
2H−アゼピン−2−オン 乾燥テトラヒドロフラン(20ml)中のヘキサヒ
ドロ−1−トリメチルシリル−2H−アゼピン−
2−オン(9.2g)を窒素雰囲下に冷却、撹拌し
ながら、リチウム−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジド〔2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン(8.48g)とヘキサン−テトラヒドロフ
ラン(38ml;10ml)中のブチルリチウム(0.06モ
ル)とから製造される〕の溶液へ滴下添加する。
さらにヘキサン(38ml)中のブチルリチウム
(0.06モル)部を次に添加し、続いてO−クロル
アニソール(8.54g)反応温度を−10゜と5℃と
の間に保ちながら添加する。室温まで温めた後、
本反応物を1.5時間撹拌し、次に水(100ml)を添
加して分解する。溶媒を減圧下に除去し、得られ
た生成物をトルエンと5M塩酸間に分配する。ト
ルエン抽出物を乾燥させ(MgSO4)、溶媒を除去
し、生成物を蒸留して2.7g、沸点0.1mmで160〜
170℃、を得る。酢酸エチルからの結晶題記化合
物の収量は2.6gである。
Example 5 Hexahydro-3-(3-methoxyphenyl)-
2H-azepin-2-one Hexahydro-1-trimethylsilyl-2H-azepine- in dry tetrahydrofuran (20 ml)
While cooling 2-one (9.2 g) under nitrogen atmosphere and stirring, lithium-2,2,6,6-tetramethylpiperidide [2,2,6,6-tetramethylpiperidine (8.48 g)] was added. and butyllithium (0.06 mol) in hexane-tetrahydrofuran (38 ml; 10 ml)].
A further portion of butyllithium (0.06 mol) in hexane (38 ml) is then added followed by O-chloroanisole (8.54 g) keeping the reaction temperature between -10° and 5°C. After warming to room temperature,
The reaction is stirred for 1.5 hours and then decomposed by the addition of water (100ml). The solvent is removed under reduced pressure and the resulting product is partitioned between toluene and 5M hydrochloric acid. The toluene extract was dried (MgSO 4 ), the solvent was removed and the product was distilled to 2.7 g, boiling point 0.1 mm ~ 160
Obtain 170℃. The yield of crystallized title compound from ethyl acetate is 2.6 g.

例 6 1−ベンジルヘキサヒドロ−3−(3−メトキ
シフエニル)2H−アゼピン−2−オン テトラヒドロフラン(100ml)中の1−ベンジ
ルヘキサヒドロ−2−アゼピン−2−オン
(10.2g)を、リチウム−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジド〔2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン(8.5g)をヘキサン(32ml)中
のブチルリチウム(0.05モル)へ添加することに
よつて製造される〕窒素下に撹拌、冷却された溶
液へ滴下添加する。この溶液を0℃まで冷却し、
かつO−クロルアニソール(6.2ml)を滴下添加
する。室温で4時間撹拌後、反応を水で分解し、
溶媒を減圧下に除去する。得られた油状物を5M
塩酸とトルエン間に分配する。乾燥(MgSO4
後トルエンを除去して油状物を得、これを蒸留し
て5.02g、沸点180〜220℃/0.2mm、を得る。油
状物をメタノールから再結晶させて3.15g、融点
120〜122℃、を得る。
Example 6 1-Benzylhexahydro-3-(3-methoxyphenyl)2H-azepin-2-one 1-Benzylhexahydro- 2H- azepin-2-one (10.2 g) in tetrahydrofuran (100 ml) was Lithium-2,2,6,6-tetramethylpiperidide [prepared by adding 2,2,6,6-tetramethylpiperidine (8.5 g) to butyllithium (0.05 mol) in hexane (32 ml). [prepared under nitrogen] and added dropwise to the stirred, cooled solution. Cool this solution to 0°C,
and O-chloranisole (6.2 ml) is added dropwise. After stirring for 4 hours at room temperature, the reaction was decomposed with water and
The solvent is removed under reduced pressure. 5M of the obtained oil
Partition between hydrochloric acid and toluene. Drying ( MgSO4 )
After removing the toluene, an oil was obtained which was distilled to obtain 5.02 g, boiling point 180-220°C/0.2 mm. 3.15 g of oil recrystallized from methanol, melting point
Obtain 120-122℃.

分析: 実測値 C;77.6;H 7.7;N 4.6%。analysis: Actual value C; 77.6; H 7.7; N 4.6%.

C20H23NO2 計算値 C 77.6;H 7.5;N 4.5% 例 7 ヘキサヒドロ−3−(3−メトキシフエニル)−
1−メチル−2H−アゼピン−2−オン テトラヒドロフラン(150ml)中のジイソプロ
ピルアミン(152g)を30分間かけて、ヘキサン
(641g、1.50モル)中の15%ブチルリチウムへ窒
素下に20−25℃にて冷却しながら添加し、この混
合物を30分間室温で撹拌する。テトラヒドロフラ
ン(60ml)中のN−メチルカプロラクタム(63.6
g)を5分間で25℃以下にて冷却しながら添加
し、この混合物を1時間室温で撹拌し、次にO−
クロルアニソール(71.3g)を温度を30℃以下に
保ちながら20分間で添加する。反応混合物を2時
間撹拌し、水(1)を添加し、生成物を酢酸エ
チル(2×1)中に抽出させ、抽出物を合併
し、2N−塩酸(1)と水(500ml)で洗浄し、
かつ減圧下に蒸発させて27.1gの油状物を得る。
C 20 H 23 NO 2 Calculated value C 77.6; H 7.5; N 4.5% Example 7 Hexahydro-3-(3-methoxyphenyl)-
1-Methyl-2H-azepin-2-one Diisopropylamine (152 g) in tetrahydrofuran (150 ml) was added to 15% butyllithium in hexane (641 g, 1.50 mol) under nitrogen at 20-25°C over 30 minutes. and the mixture is stirred for 30 minutes at room temperature. N-Methylcaprolactam (63.6 ml) in tetrahydrofuran (60 ml)
g) was added over 5 minutes with cooling below 25°C, the mixture was stirred for 1 hour at room temperature and then O-
Chloranisole (71.3 g) is added over 20 minutes keeping the temperature below 30°C. The reaction mixture was stirred for 2 hours, water (1) was added, the product was extracted into ethyl acetate (2 x 1), the extracts were combined and washed with 2N hydrochloric acid (1) and water (500 ml). death,
and evaporation under reduced pressure to obtain 27.1 g of oil.

粗生成物をカラムクロマトグラフイーにより、
塩基性アルミナカラムでトルエンを用いて溶出
し、かつ分画を濃縮することによつて精製し、融
点74〜76℃の題記化合物8.7gを得る。
The crude product was purified by column chromatography.
Purification by eluting with toluene on a basic alumina column and concentrating the fractions gives 8.7 g of the title compound, melting point 74-76°C.

例 8 3−(3rヒドロキシフエル)−1−メチル−2−
ピロリドン 例3の工程に続いて、1−メチル−2−ピペリ
ジンのリチウムアニオンをm−ベンジルベンザイ
ン(リチウム2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジドとO−ベンジルオキシクロルベンゼンか
ら)と反応させ、続いて水性物との混和により3
−(3−メトキシフエニル)−1−メチル−2−ピ
ロリドンを得る。
Example 8 3-(3rhydroxyfer)-1-methyl-2-
Pyrrolidone Following the steps of Example 3, the lithium anion of 1-methyl-2-piperidine is reacted with m-benzylbenzyne (from lithium 2,2,6,6-tetramethylpiperidide and O-benzyloxychlorobenzene). 3 by subsequent mixing with an aqueous substance.
-(3-methoxyphenyl)-1-methyl-2-pyrrolidone is obtained.

ヨードトリメチルシランを用いて保護基を除去
し、題記混合物、融点113〜4℃(酢酸エチル−
ヘキサン)、を得る。
The protecting group was removed using iodotrimethylsilane to give the title mixture, mp 113-4°C (ethyl acetate-
hexane), is obtained.

例 9 3−(3−ヒドロキシフエニル)−1−メチル−
2−ピペリドン 例3の工程に続いて、1−メチル−2−ピペリ
ジンのリチウムアニオンをm−ベンジルオキシベ
ンザイン(リチウム2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジドとO−ベンジルオキシクロルベンゼ
ンから)と反応させ、次に水性物との混和により
3−(3−ベンジルオキシフエニル)−1−メチル
−2−ピペリドンを得る。パラジウム−炭素で水
素添加分解によつて保護基を除き題記化合物、1/
4水和物、融点111〜4℃(ヘキサン)、を得る。
Example 9 3-(3-hydroxyphenyl)-1-methyl-
2-Piperidone Following the steps in Example 3, the lithium anion of 1-methyl-2-piperidine was converted from m-benzyloxybenzyne (lithium 2,2,6,6-tetramethylpiperidide and O-benzyloxychlorobenzene). ) and then admixture with aqueous to give 3-(3-benzyloxyphenyl)-1-methyl-2-piperidone. The title compound, 1/
The tetrahydrate, melting point 111-4°C (hexane), is obtained.

例 10 ヘキサヒドロ−3−(3−ヒドロキシフエニル)
−1−メチル−2H−アゼピン−2−オン 例3の工程に続いて、N−メチルカプロラクタ
ムのリチウムアニオンをm−トリフエニルシリル
オキシベンザイン(O−クロルトリフエニルシリ
ルオキシベンゼンとリチウムテトラメチルピペリ
ジドから)と反応させ、続いて水性酸と混和して
題記化合物、融点192〜3℃(酢酸エチル)、を得
る。
Example 10 Hexahydro-3-(3-hydroxyphenyl)
-1-Methyl-2H-azepin-2-one Following the steps of Example 3, the lithium anion of N-methylcaprolactam was added to m-triphenylsilyloxybenzyne (O-chlorotriphenylsilyloxybenzene and lithium tetramethylpiperidide). (from ethyl acetate) followed by admixture with aqueous acid to give the title compound, mp 192-3°C (ethyl acetate).

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式() (式中nは2、3又は4であり、Rは水素、低級
アルキル、アリール(低級)アルキル、低級アル
ケニルメチル又はシクロアルキルメチルであり、
R1は水素又は低級アルキルであり、そしてR2
水素、低級アルキル又はアリール(低級)アルキ
ルである) なる2−オキソ−ヘキサヒドロアゼピン、2−オ
キソ−ピペリジン又は2−オキソ−ピロリジンの
製造において、一般式() (式中nおよびR1は上記の定義と同じであり、
R3は低級アルキル、アリール(低級)アルキル、
トリアルキル−、トリアリール−もしくはトリア
リールアルキル−シリル、低級アルケニルメチル
又はシクロアルキルメチルである) なるラクタム誘導体のアニオンを、一般式() (式中R4は低級アルキル、アリール(低級)ア
ルキル又はトリアルキル−、トリアリール−もし
くはトリアリールアルキル−シリルである) なるベンザインと反応させてR1が低級アルキル
である一般式なる化合物のアニオン又はR1
水素である一般式なる化合物のジアニオンを生
成させ、そして一般式なる化合物のアニオンも
しくはジアニオンをプロトン化して一般式なる
化合物を得ることからなるその製造方法。 2 一般式() (式中nは2、3又は4であり、Rは水素、低級
アルキル、アリール(低級)アルキル、低級アル
ケニルメチル又はシクロアルキルメチルであり、
R1は低級アルキルであり、そしてR2は水素、低
級アルキル又はアリール(低級)アルキルであ
る) なる2−オキソ−ヘキサヒドロアゼピン、2−オ
キソ−ピペリジン又は2−オキソ−ピロリジンの
製造において、一般式() (式中nは上記の定義と同じであり、R1は水素
であり、そしてR3は低級アルキル、アリール
(低級)アルキル、トリアルキル−、トリアリー
ル−もしくはトリアリールアルキル−シリル、低
級アルケニルメチル又はシクロアルキルメチルで
ある。 なるラクタム誘導体のアニオンを、一般式() (式中R4は低級アルキル、アリール(低級)ア
ルキル又はトリアルキル−、トリアリール−もし
くはトリアリールアルキル−シリルである) なるベンザインと反応させてR1が水素である一
般式なる化合物のジアニオンを生成させ、この
ジアニオンを(低級)アルキル化剤と反応させ
て、R1が低級アルキルである一般式なる化合
物のアニオンを生成させ、そして一般式なる化
合物のジアニオンをプロトン化して一般式なる
化合物を得ることからなるその製造方法。
[Claims] 1 General formula () (wherein n is 2, 3 or 4, R is hydrogen, lower alkyl, aryl (lower) alkyl, lower alkenylmethyl or cycloalkylmethyl,
R 1 is hydrogen or lower alkyl and R 2 is hydrogen, lower alkyl or aryl (lower) alkyl). , general expression () (In the formula, n and R 1 are the same as defined above,
R 3 is lower alkyl, aryl (lower) alkyl,
trialkyl-, triaryl- or triarylalkyl-silyl, lower alkenylmethyl or cycloalkylmethyl), the anion of a lactam derivative of general formula () (wherein R 4 is lower alkyl, aryl(lower) alkyl or trialkyl-, triaryl- or triarylalkyl-silyl), the anion of the compound of general formula where R 1 is lower alkyl Or a method for producing the same, which comprises producing a dianion of a compound of the general formula in which R 1 is hydrogen, and protonating the anion or dianion of the compound of the general formula to obtain a compound of the general formula. 2 General formula () (wherein n is 2, 3 or 4, R is hydrogen, lower alkyl, aryl (lower) alkyl, lower alkenylmethyl or cycloalkylmethyl,
R 1 is lower alkyl and R 2 is hydrogen, lower alkyl or aryl (lower) alkyl). formula() (where n is as defined above, R 1 is hydrogen, and R 3 is lower alkyl, aryl(lower) alkyl, trialkyl-, triaryl- or triarylalkyl-silyl, lower alkenylmethyl or cycloalkylmethyl.The anion of a lactam derivative with the general formula () (wherein R 4 is lower alkyl, aryl (lower) alkyl, or trialkyl-, triaryl- or triarylalkyl-silyl) to form a dianion of a compound of the general formula in which R 1 is hydrogen. the dianion is reacted with a (lower) alkylating agent to form an anion of a compound of general formula in which R 1 is lower alkyl, and the dianion of a compound of general formula is protonated to form a compound of general formula. Its manufacturing method consists of obtaining.
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