JPH01200224A - Position adjusting method for grating lens - Google Patents

Position adjusting method for grating lens

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JPH01200224A
JPH01200224A JP2289788A JP2289788A JPH01200224A JP H01200224 A JPH01200224 A JP H01200224A JP 2289788 A JP2289788 A JP 2289788A JP 2289788 A JP2289788 A JP 2289788A JP H01200224 A JPH01200224 A JP H01200224A
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JP
Japan
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grating
lens
lenses
aberration
point
Prior art date
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JP2289788A
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Japanese (ja)
Inventor
Naritake Iwata
岩田 成健
Tomoji Maeda
智司 前田
Fumio Yamagishi
文雄 山岸
Hiroyuki Ikeda
池田 弘之
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

PURPOSE:To accurately align plural grating lenses on the same optical axis at intervals of prescribed length by forming a dummy grating, which focuses light from one prescribed point on another prescribed point without aberration, on the surface opposite to the surface where the grating is formed of each grating lens. CONSTITUTION:A positioning grating 11' is formed on the rear face of a substrate of a grating lens G1. The grating 11' has the same axis as a grating 11 and has such optical characteristic that the light from a light source LD14 is focused on the just middle point Q between both grating lenses G1 and G2 without aberration. Similarly, the positioning grating 11' is formed on the rear face of the substrate of the second grating lens G2. The second grating lens G2 is placed on the first grating lens G1, and they are observed with a microscope 17 to adjust the position of the grating lens G2 so that a point image R on an image surface is free from aberration, thereby accurately aligning both grating lenses G1 and G2.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 複数枚のグレーティングレンズを、特にそのグレーティ
ングとは反対側の基板面どうしを向き合わせた状態で、
所定の間隔で正確に同一の光軸上に配置せしめるグレー
ティングレンズの位置調整方法に関し、 従来、顕微鏡を用いただけでは出来なかった複数枚のグ
レーティングレンズの間隔並びに光軸合わせに関する精
密な位置調整方法を実現することを目的とし、 基板の一面にグレーティングレンズ(11)を有する複
数枚のグレーティングレンズ(Gl、G2)を光学顕微
鏡(17)で観察しながら所定の間隔で軸合わせするに
際し、 上記グレーティングレンズのグレーティングとは反対側
の面に所定の一点からの光を所定の一点に無収差で合焦
せしめるダミーグレーティング(11’ )を形成す、
ることを含み構成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] A plurality of grating lenses, especially with their substrate surfaces opposite to the gratings facing each other,
Regarding the position adjustment method of grating lenses that are precisely arranged on the same optical axis at predetermined intervals, we have developed a precise position adjustment method for the spacing and optical axis alignment of multiple grating lenses, which was previously impossible to do only by using a microscope. For the purpose of realizing this, when aligning the axes of a plurality of grating lenses (Gl, G2) having a grating lens (11) on one surface of the substrate at a predetermined interval while observing with an optical microscope (17), A dummy grating (11') is formed on the surface opposite to the grating to focus light from a predetermined point on a predetermined point without aberration.
It consists of:

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明はグレーティングレンズの位置合わせ方法、特に
、複数枚の同心円状回折格子を、その基板面どうしを向
き合わせた状態で、所定の間隔で正確に同一の光軸上に
配置せしめる回折格子の位置調整方法に関する。
The present invention relates to a method for aligning a grating lens, and in particular, to positioning a diffraction grating in which a plurality of concentric diffraction gratings are arranged on the same optical axis at predetermined intervals with their substrate surfaces facing each other. Regarding the adjustment method.

平板状のグレーティングレンズは、それ自体の簡素、小
型、軽量性という利点からコヒーレント光源を用いた光
学系(例えば光ヘッド)への応用が積極的に試みられて
いる。
Flat grating lenses have the advantages of being simple, compact, and lightweight, and active attempts are being made to apply them to optical systems (eg, optical heads) that use coherent light sources.

しかしその一方で、複数枚のグレーティングレンズを用
いた光学装置の場合、その光軸調整は、従来の光学レン
ズより許容誤差マージンが小さいという難点がある。こ
れが回折型レンズ(グレーティングレンズ)が一般の屈
折型レンズに比べて劣る点である。一般に、高精度を要
する光学系においてはミクロン(廁)オーダーの精度で
光軸を調整する必要がある。また光軸方向のレンズ間隔
も同様にミクロン(I!rn)オーダーの精度を要求さ
れる場合がしばしばある。
On the other hand, however, in the case of an optical device using a plurality of grating lenses, the optical axis adjustment has a disadvantage in that the tolerance margin is smaller than that of a conventional optical lens. This is the point where a diffractive lens (grating lens) is inferior to a general refractive lens. Generally, in an optical system that requires high precision, it is necessary to adjust the optical axis with precision on the order of microns. Furthermore, precision on the order of microns (I!rn) is often required for the lens spacing in the optical axis direction as well.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第4図に示す如き同心円状回折格子を基板13上に有す
る2枚のグレーティングレンズG、、G2を第5図に示
す如く中心軸を光軸Oに合わせて所定の間隔dで配置す
る場合を想定する。
In this case, two grating lenses G, G2 having concentric diffraction gratings on a substrate 13 as shown in FIG. 4 are arranged at a predetermined interval d with their central axes aligned with the optical axis O as shown in FIG. Suppose.

まず、第6A図に示す如く、グレーティングレンズG、
、G、をその向きを同一にして、即ち、グレーティング
(回折格子)11が基板13に対して同一側(第6A図
においては上側)に位置するようにして固定する場合は
、従来から顕微鏡を用いることによって調整可能である
First, as shown in FIG. 6A, the grating lens G,
. It can be adjusted by using

つまり、第6B図に示す如く、まず1番目のグレーティ
ングレンズG、の中心を顕微鏡17で観察し、その中心
を視野の中心に設置し、視野内の位置を直交する十字印
21(接眼レンズに予じめ組み入れるのが一般的である
)等でマーキングする。尚、19は顕微鏡対物レンズで
ある。
That is, as shown in FIG. 6B, first observe the center of the first grating lens G with the microscope 17, set the center at the center of the field of view, and place the cross mark 21 (on the eyepiece) perpendicular to the position within the field of view. (It is common to incorporate it in advance). Note that 19 is a microscope objective lens.

第6D図に十字EI]21の中心に一致した状態での顕
微鏡視野像を示す。
FIG. 6D shows a microscope field image in a state where the cross EI]21 is aligned with the center.

視野像の中心位置合わせは顕微鏡筒あるいはグレーティ
ングレンズG、をステージ系S、により光軸方向に微少
変位させることにより行われるが、その微少変位ステー
ジ系の位置目盛を読んでおく。
The center positioning of the field image is performed by slightly displacing the microscope tube or grating lens G in the optical axis direction using a stage system S, and the position scale of the micro-displacement stage system is read in advance.

次にレンズG、あるいは顕微鏡筒をステージ系S1ある
いはS3により上記目盛を基準に所定距離dだけ光軸方
向に移動させる(第6C図)。その後、第2のグレーテ
ィングレンズG2を対物レンズ19とG、との間に挿入
し、G2の相対位置調整をG、と同様にステージ系S2
により行い、G2の中心を前記十字印21 (第6D図
)に合わせる。
Next, the lens G or the microscope tube is moved in the optical axis direction by a predetermined distance d based on the scale using the stage system S1 or S3 (FIG. 6C). After that, the second grating lens G2 is inserted between the objective lens 19 and G, and the relative position of G2 is adjusted in the same way as the stage system S2.
and align the center of G2 with the cross mark 21 (Fig. 6D).

なお、G、、G2の中心軸が直交する3軸(x。Note that the central axes of G, , and G2 are orthogonal to three axes (x.

y、z)に関して微動可能なステージ系の一移動方向く
例えばZ方向)に一致するようにあらかじめ調整される
It is adjusted in advance so as to coincide with one movement direction of the stage system that can be finely moved with respect to (y, z) (for example, the Z direction).

以上の如き公知方法により、Gtの焦点合わせが正確に
行われれば理論的にはG、とGtとが間隔dで同一光軸
O上に位置合わせされることになる。
If Gt is accurately focused using the known method described above, theoretically G and Gt will be aligned on the same optical axis O with an interval d.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかるに、上記の如き方法では、2枚のグレーティング
レンズGI 、Gzの距離、光軸のずれ、平行性はもっ
ばらステージ系の機械的精度に依存し、従ってその精度
に限界がある。またグレーティングレンズG、、G、を
第5図に示す如く互いにそのグレーティング11が基板
13に対して反対側に位置するように固定する場合には
上記の方法では次のような不都合が生じる。
However, in the above method, the distance between the two grating lenses GI and Gz, the deviation of the optical axes, and the parallelism depend entirely on the mechanical accuracy of the stage system, and therefore there is a limit to the accuracy. Furthermore, when the grating lenses G, , G are fixed so that their gratings 11 are located on opposite sides of the substrate 13 as shown in FIG. 5, the following disadvantages occur in the above method.

即ち、第7図に示す如く、基板13側からグレーティン
グ11を観察すると、球面収差が発生し、Gr  、G
t間の距離を正確に設定することが困難となる。この収
差は周知の如くG、(またはG2)の基板の板厚が増す
程顕著となる。
That is, as shown in FIG. 7, when the grating 11 is observed from the substrate 13 side, spherical aberration occurs and Gr, G
It becomes difficult to accurately set the distance between t. As is well known, this aberration becomes more pronounced as the thickness of the G (or G2) substrate increases.

本発明の目的は複数枚のグレーティングレンズをその向
きには関係なく正確かつ簡単に位置合わせができる方法
を実現することにある。
An object of the present invention is to realize a method that can accurately and easily align a plurality of grating lenses regardless of their orientation.

特に、本発明は複数枚の同心円状グレーティングレンズ
を所定の′間隔で同一光軸上に正確に軸合わせする方法
を提供することを目的とする。
In particular, it is an object of the present invention to provide a method for accurately aligning a plurality of concentric grating lenses on the same optical axis at predetermined intervals.

上述の如く、従来方法ではグレーティングレンズのグレ
ーティングが互いに基板に対して反対方向に向いている
場合における正確な軸合わせはできなかったので、本発
明は特にそのような場合に適用するのが有利であるが、
何らそれに限定されるものではない。
As mentioned above, the conventional method cannot accurately align the axis when the gratings of the grating lens are oriented in opposite directions with respect to the substrate, so the present invention is particularly advantageous to apply in such a case. Yes, but
It is not limited to this in any way.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成するために、本発明によれば、基板の一
面にグレーティングを有する複数枚のグレーティングレ
ンズ(G+1、G2)を光学顕微鏡で観察しながら所定
の間隔で軸合わせするに際し、上記グレーティングレン
ズのグレーティングとは反対側の面に所定の一点からの
光を所定の一点に無収差で合焦せしめるダミーグレーテ
ィングを形成することを構成上の特徴とする。
In order to achieve the above object, according to the present invention, when a plurality of grating lenses (G+1, G2) having gratings on one surface of a substrate are aligned at predetermined intervals while being observed with an optical microscope, the grating lenses are aligned at predetermined intervals. The structure is characterized in that a dummy grating is formed on the surface opposite to the grating to focus light from a predetermined point on a predetermined point without aberration.

〔作 用〕[For production]

ダミーグレーティングは予め所定の一点からの光を所定
の一点に無収差で集束せしめるように基板の反対面に形
成されるのでグレーティングレンズのいずれの側から光
を照射しても各グレーティングレンズ内で収差は完全に
相殺され、従って、第1グレーテイングレンズによる結
像点の第2グレーテイングレンズによる結像点を顕微鏡
で観察することにより両グレーティングレンズの正確カ
位置合わせが出来る。
The dummy grating is formed in advance on the opposite surface of the substrate so that the light from one predetermined point is focused on one predetermined point without aberration, so no matter which side of the grating lens the light is irradiated from, there will be aberrations within each grating lens. are completely canceled out, and therefore, by observing with a microscope the image point of the first grating lens and the image point of the second grating lens, it is possible to accurately align the two grating lenses.

ダミーグレーティングは位置合わせ完了後には不要であ
るので溶剤等により除去される。
Since the dummy grating is unnecessary after the alignment is completed, it is removed using a solvent or the like.

〔実施例〕〔Example〕

第1図に本発明において用いられる光学系の一実施例を
示す。
FIG. 1 shows an embodiment of the optical system used in the present invention.

基本的には2枚のグレーティングレンズG、。Basically, two grating lenses G.

G2は光源14(半導体レーザLD等)と光学顕微鏡1
7とから成る光学系内に配置される。本発明によればG
、、G2の位置合わせに際して、G11G2の夫々の基
板裏面(グレーティング11と反対側の面)に位置合わ
せ用のダミーグレーティング11’が形成されることを
最大の特徴とする。
G2 is a light source 14 (semiconductor laser LD, etc.) and an optical microscope 1
7 is placed in an optical system consisting of 7. According to the invention, G
,,The most distinctive feature is that a dummy grating 11' for alignment is formed on the back surface of each substrate of G11G2 (the surface opposite to the grating 11) when aligning G2.

即ち、まず第2A図に示す如く、グレーティングレンズ
G1の基板裏面に、位置あわせ用グレーティング11′
を作成する。グレーティング11′がグレーティング1
1と同軸であり、光源LD14とグレーティング11が
所定の位置関係にあるとき点P(LD14)からの光が
任意の1点Qに無収差で結像するような光学特性(レン
ズ特性)をもだせる。
That is, first, as shown in FIG. 2A, a positioning grating 11' is placed on the back surface of the substrate of the grating lens G1.
Create. Grating 11' is grating 1
1, and has optical characteristics (lens characteristics) such that when the light source LD 14 and the grating 11 are in a predetermined positional relationship, the light from the point P (LD 14) is imaged on any one point Q without aberration. I can give it.

尚、点Qは第1図に示す両グレーティングレンズG+ 
 、Gz間の距離の半分(−一)に等しい位置である。
Note that point Q is located between both grating lenses G+ shown in FIG.
, Gz is a position equal to half (-1) of the distance between them.

尚、LD14は温度調整などにより、発振波長の安定化
を行っておくのが好ましい。斯して、光源LD14とグ
レーティングレンズG1 との位置は顕微鏡17により
、点像Qを観測し、無収差の像を得るように位置を調整
することにより行うことが出来る。
Note that it is preferable to stabilize the oscillation wavelength of the LD 14 by adjusting the temperature or the like. In this way, the positions of the light source LD 14 and the grating lens G1 can be determined by observing the point image Q using the microscope 17 and adjusting the positions so as to obtain an aberration-free image.

この調整は第3図に示す如く、公知のステージ系50A
(光源用)または50B (Gl用)により行うことが
できる。同様に第2のグレーティングレンズG、の裏面
(グレーティング11と反対側の面)に位置あわせ用の
ダミーグレーティング11′を作成する。このダミーグ
レーティング11′は第2B図に示す如く、グレーティ
ング11と同軸であり、光源(前述の点Qに相当)から
の光が所定の一点Rに無収差で合焦するようなレンズ特
性を有する。
This adjustment is performed using a known stage system 50A as shown in FIG.
(for light source) or 50B (for Gl). Similarly, a dummy grating 11' for positioning is created on the back surface of the second grating lens G (the surface opposite to the grating 11). As shown in FIG. 2B, this dummy grating 11' is coaxial with the grating 11, and has lens characteristics such that light from a light source (corresponding to the above-mentioned point Q) is focused on a predetermined point R without aberration. .

従って第2グレーテイングレンズG2を第1図に示す如
く第1グレーテイングレンズG1に概略dの間隔で並置
した後(あるいは初めは重ねておいてもよい)、顕微鏡
17で観察しながら、結像面I (第1図)の点像Rを
無収差になるようグレーティングレンズG2の位置をス
テージ系50Cにより調整すれば、グレーティングレン
ズG+、Gz及びLD14は所定の位置に正しく配置さ
れたことになる。
Therefore, as shown in FIG. 1, after the second grating lens G2 is juxtaposed to the first grating lens G1 at an interval of approximately d (or may be placed overlapping each other initially), the image is formed while observing with the microscope 17. If the position of the grating lens G2 is adjusted by the stage system 50C so that the point image R of the surface I (Fig. 1) has no aberration, the grating lenses G+, Gz, and LD14 are correctly placed at the predetermined positions. .

つまり、点像Rが顕微鏡視野内の十字印21と重なるよ
うにステージ系50CによりG2の位置調整を行えばよ
い。′顕微鏡17による観察像は必要ならばTVカメラ
53によりモニタ55上に写し出される。
In other words, the position of G2 may be adjusted using the stage system 50C so that the point image R overlaps the cross mark 21 within the field of view of the microscope. 'An image observed by the microscope 17 is displayed on a monitor 55 by a TV camera 53, if necessary.

ステージ系としてはピエゾ素子を用いたものあるいは送
りねし機構等を用いたものが一般に用いられている。
As a stage system, one using a piezo element or one using a feed mechanism or the like is generally used.

ダミーグレーティング11’の作成はホログラフィック
的(コヒーレント光の干渉露光)に、あるいは電子ビー
ム描画により行うことができる。
The dummy grating 11' can be created holographically (coherent light interference exposure) or by electron beam drawing.

尚、基板両面のグレーティング11 、11 ’の位置
あわせを簡単に行い得るようにするために基板上に位置
あわせ用マーク (図示せず)を設けることが好ましい
。位置合わせ完了後、ダミーグレーティングはアセトン
等の洗浄剤でふきとることにより簡単に消去することが
できる。
Incidentally, in order to easily align the gratings 11 and 11' on both sides of the substrate, it is preferable to provide alignment marks (not shown) on the substrate. After the alignment is completed, the dummy grating can be easily erased by wiping it with a cleaning agent such as acetone.

G、、Gtのグレーティング11は必ずしも同一でなく
、従ってダミーグレーティング11’も必ずしも同一で
はない。
The gratings 11 of G, , Gt are not necessarily the same, and therefore the dummy gratings 11' are not necessarily the same.

本発明の方法によれば各グレーティングレンズG、、G
2内で収差は吸収される構造となっているので、換言す
れば例えばG、において基板の裏側(11′側)から光
を照射したときに点Qに無収差で合焦するようにダミー
グレーティング11′が形成されているので収差の問題
は全く発生しない。従って、従来法の問題点であった特
にグレーテイング面を内側に向けあった2枚のグレーテ
ィングレンズ系の無収差での位置合わせが可能になる。
According to the method of the invention, each grating lens G, , G
2 has a structure in which aberrations are absorbed.In other words, the dummy grating is designed so that, for example, when light is irradiated from the back side (11' side) of the substrate at G, it will be focused on point Q without aberration. 11', no aberration problem occurs at all. Therefore, it is possible to align the two grating lens systems without aberration, which was a problem with the conventional method, especially with the grating surfaces facing inward.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の如く本発明によれば同心円状回折格子の精密位置
調整が簡単かつ確実に行える。特に、同心円状回折格子
の基板面どうしを向かい合わせた場合の精密位置(レン
ズ間隔及びレンズ中心軸合わせ)調整は従来の顕微鏡を
用いただけでは収差が発生してしまいできなかったが、
本発明によれば無収差で行うことができる。
As described above, according to the present invention, precise position adjustment of concentric circular diffraction gratings can be easily and reliably performed. In particular, when the substrate surfaces of concentric diffraction gratings face each other, precise position adjustment (lens spacing and lens center axis alignment) cannot be performed using only conventional microscopes due to aberrations.
According to the present invention, it can be performed without aberration.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係る位置調整方法を説明する図、第2
A図は本発明における第1グレーテイングレンズの図解
図、第2B図は本発明における第2グレーテイングレン
ズの図解図、第3図は本発明において用いられる調整系
の一例を示す図解図、第4図は同心円状回折格子を示す
図、第5図は2枚の同心円状回折格子の中心軸合わせ方
法を示す図、第6A図、第6B図、第6C図、第6D図
は従来の同心円状回折格子の中心軸合わせ方法を示す図
、第7図は従来の欠点(収差発生)を示す図。 11・・・グレーティング、 11′・・・ダミーグレーティング、 13・・・基板、 17・・・顕微鏡、Gl、G2・・
・グレーティングレンズ。
FIG. 1 is a diagram explaining the position adjustment method according to the present invention, and FIG.
Figure A is an illustrative diagram of the first grating lens in the present invention, Figure 2B is an illustrative diagram of the second grating lens in the present invention, and Figure 3 is an illustrative diagram showing an example of the adjustment system used in the present invention. Figure 4 shows a concentric diffraction grating, Figure 5 shows how to align the center axes of two concentric diffraction gratings, and Figures 6A, 6B, 6C, and 6D show conventional concentric diffraction gratings. FIG. 7 is a diagram showing a method for aligning the center axis of a shaped diffraction grating, and FIG. 7 is a diagram showing a conventional drawback (occurrence of aberration). 11... Grating, 11'... Dummy grating, 13... Substrate, 17... Microscope, Gl, G2...
・Grating lens.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  基板の一面にグレーティング(11)を有する複数枚
のグレーティングレンズ(G_1、G_2)を光学顕微
鏡(17)で観察しながら所定の間隔で軸合わせするに
際し、 上記グレーティングレンズのグレーティングとは反対側
の面に所定の一点からの光を所定の一点に無収差で合焦
せしめるダミーグレーティング(11′)を形成するこ
とを特徴とするグレーティングレンズの位置調整方法。
[Claims] When a plurality of grating lenses (G_1, G_2) having a grating (11) on one surface of the substrate are aligned at predetermined intervals while being observed with an optical microscope (17), the gratings of the grating lenses are aligned at predetermined intervals. A method for adjusting the position of a grating lens, characterized in that a dummy grating (11') is formed on a surface opposite to the dummy grating (11') for focusing light from a predetermined point on a predetermined point without aberration.
JP2289788A 1988-02-04 1988-02-04 Position adjusting method for grating lens Pending JPH01200224A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108152991A (en) * 2018-01-02 2018-06-12 北京全欧光学检测仪器有限公司 The assembly method and device of a kind of optical lens

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CN108152991A (en) * 2018-01-02 2018-06-12 北京全欧光学检测仪器有限公司 The assembly method and device of a kind of optical lens

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